JP2007034281A - Anti-reflection film and image display apparatus - Google Patents

Anti-reflection film and image display apparatus Download PDF

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Takuya Kumagai
拓也 熊谷
Minoru Yoshida
実 吉田
Kiyoshige Maeda
清成 前田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low-cost anti-reflection film which has high antistatic characteristics and high light transmissivity, is superior in surface abrasion resistance and is neutral in color, has proper surface appearance, and to provide an image display apparatus that has the anti-reflection film incorporated therein. <P>SOLUTION: The anti-reflection film comprises at lest two layers composed of an A layer which consists essentially of an acrylic system resin and conductive metal oxide particulates, and has a film thickness ≥0.3μm and a B layer which consists essentially of a siloxane polymer homogenized with silica series particulates, on at lest one surface of a base material film so that the A layer is located nearer to the base material film than the B layer is, and the B layer is laminated on the A layer. A condensate compound, consisting of a siloxane compound (1): R<SP>1</SP><SB>2</SB>SiR<SP>2</SP><SB>2</SB>and a siloxane compound (2): R<SP>3</SP>SiR<SP>4</SP><SB>3</SB>, is contained in the A layer by 0.001 to 20 mass% of the A layer. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、高い帯電防止性および光線透過性を有し、表面の耐擦傷性に優れ、色目がニュートラルで低コストな反射防止フィルムおよびそれを用いてなる画像表示装置に関する。さらに詳しくは、ディスプレイ表示面、その偏向板などの表面に用いられる反射防止フィルムに関するものである。また、反射防止フィルムを組み込んだ画像表示装置に関するものである。   The present invention relates to an antireflection film having high antistatic properties and light transmittance, excellent surface scratch resistance, neutral color and low cost, and an image display device using the same. More specifically, the present invention relates to an antireflection film used on the display display surface, the surface of the deflecting plate, and the like. The present invention also relates to an image display device incorporating an antireflection film.

テレビ、パソコンモニター等のディスプレーの表示装置では、太陽光や蛍光灯等の外光が表面に反射ならびに映り込むため、表示画像が見にくくなる問題がある。この問題を解決するために、表面に凹凸を設け外光を乱反射させたり、高屈折率と低屈折率の薄膜を交互に積層して光の反射を防止する方法が行われている。   In display devices such as televisions and personal computer monitors, external light such as sunlight and fluorescent lamps is reflected and reflected on the surface, which makes it difficult to see the displayed image. In order to solve this problem, a method has been employed in which irregularities are provided on the surface to diffuse externally reflected light, or thin films having a high refractive index and a low refractive index are alternately laminated to prevent light reflection.

しかしながら外光を乱反射させる方法では、ディスプレイ上の画像がぼやけて見えるため画像の視認性向上の点で不十分であった。   However, the method of irregularly reflecting external light is insufficient in terms of improving the visibility of the image because the image on the display looks blurred.

これを改良する方法として、有機フィルムの表面に、下層側からハードコート層と、高屈折率層と、低屈折率層とを設ける方法(特許文献1)が提案されている。   As a method for improving this, there has been proposed a method (Patent Document 1) in which a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are provided on the surface of an organic film from the lower layer side.

しかしながらこの方法では、高屈折率層に含まれる導電性金属酸化物微粒子が多くかつ、膜厚が薄いために反射防止フィルムとしてのヘイズが上昇して画像のクリア性を落とすと共に、表面に凹凸が生じて表面硬度、耐薬品性が低下するという問題が生じる上、積層数が多いことにより高コストとなる。また高屈折率層と低屈折率層の屈折率差が大きいと可視光域の低波長領域もしくは高波長領域で反射率が最低反射率付近よりも相対的に高くなり、反射光が青色や赤色を帯び、色調の純度の点で問題がある。   However, in this method, since the conductive metal oxide fine particles contained in the high refractive index layer are many and the film thickness is thin, the haze as an antireflection film is increased to lower the clearness of the image, and the surface is uneven. As a result, there arises a problem that the surface hardness and chemical resistance are lowered, and the cost is increased due to the large number of laminated layers. In addition, if the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer is large, the reflectance is relatively higher in the low wavelength region of the visible light region or in the high wavelength region than near the lowest reflectance, and the reflected light is blue or red. There is a problem in terms of purity of color tone.

また、アンチグレアハードコート層上に、多孔性シリカとポリシロキサン系ポリマーを順次積層する方法(特許文献2)が提案されている。   In addition, a method of sequentially laminating porous silica and a polysiloxane polymer on the antiglare hard coat layer has been proposed (Patent Document 2).

しかしながらこの方法では、アンチグレアハードコート層によりヘイズが高いものとなり、画像表示装置用反射防止フィルムとして用いたときに画像のクリアさが損なわれるという問題がある。また、導電性酸化物微粒子のみでアンチグレアを実現する場合、層中の導電性酸化物微粒子を多量に含有させることが必要であり、非常に高コストな物となる。さらに、導電性酸化物微粒子とより大径な他の粒子によってアンチグレアを実現する場合においても、帯電防止性を付与するための導電ネットワークを構築するにはノングレアタイプよりも多くの導電性酸化物微粒子を必要とし高コストになる上、樹脂部分と大径粒子の結合性いかんでは硬度が低いものとなり、実用に適さないものとなる恐れがある。   However, this method has a problem that the antiglare hard coat layer has a high haze, and the clearness of the image is impaired when used as an antireflection film for an image display device. Further, when anti-glare is realized only with the conductive oxide fine particles, it is necessary to contain a large amount of the conductive oxide fine particles in the layer, which is very expensive. Furthermore, even when anti-glare is realized with conductive oxide fine particles and other particles having a larger diameter, more conductive oxide fine particles than non-glare type are required to construct a conductive network for imparting antistatic properties. And the cost is high, and the bondability between the resin portion and the large-diameter particles may result in low hardness and may be unsuitable for practical use.

アンチグレアハードコート層に変えてクリアタイプのハードコート層を用いた場合、ヘイズに関して良好な結果が期待できるが、ハードコート層を有機系樹脂とした場合にはポリシロキサン系ポリマーを積層した場合にハードコート層とポリシロキサン系ポリマー界面での密着性が不良となり、表面の耐擦傷性が著しく低下する恐れがある。一方、ハードコート層をポリシロキサン系ポリマーなどの無機系樹脂とした場合、密着性に関して向上することが期待できるが、硬化に要する時間が増大して生産性が低下する可能性がある上、樹脂そのものが高コストとなることが懸念される。   When a clear hard coat layer is used instead of the antiglare hard coat layer, good results can be expected with respect to haze. However, when the hard coat layer is an organic resin, a hard layer is formed when a polysiloxane polymer is laminated. Adhesion at the interface between the coat layer and the polysiloxane polymer may be poor, and the surface scratch resistance may be significantly reduced. On the other hand, when the hard coat layer is an inorganic resin such as a polysiloxane polymer, it can be expected to improve the adhesion, but the time required for curing may increase and the productivity may decrease. There is concern about the high cost itself.

また、クリアタイプのハードコート層に公知のシランカップリング剤などを添加してポリシロキサン系ポリマーとの密着性を向上させる方法が考えられるが、通常のシランカップリング剤の場合、ポリシロキサン系ポリマーとハードコート層の界面密着性向上効果を得るためには多量添加する必要があり、ハードコート層の硬度そのものを低下させる恐れがある上、導電ネットワーク形成を阻害することが懸念される。さらに、ハードコート層の表面外観に関して表面荒れ、膜厚むらなどの欠点が発生しやすくなる恐れがある。
特開2001−350001号公報 特開2003−139908号公報
In addition, a method of improving the adhesion with a polysiloxane polymer by adding a known silane coupling agent or the like to the clear type hard coat layer can be considered, but in the case of a normal silane coupling agent, a polysiloxane polymer In order to obtain the effect of improving the interfacial adhesion between the hard coat layer and the hard coat layer, it is necessary to add a large amount, which may reduce the hardness of the hard coat layer itself and may hinder the formation of a conductive network. Furthermore, there is a risk that defects such as surface roughness and film thickness unevenness are likely to occur with respect to the surface appearance of the hard coat layer.
JP 2001-350001 A JP 2003-139908 A

本発明は、かかる背景技術に鑑み、高い帯電防止性および光線透過率を有し、表面の耐擦傷性に優れ、色目がニュートラル、表面外観が良好で低コストな反射防止フィルム、およびそれを組み込んだ画像表示装置を提供せんとするものである。   In view of the background art, the present invention has a high antistatic property and light transmittance, an excellent anti-scratch property on the surface, a neutral color, a good surface appearance, and a low-cost anti-reflection film, and its incorporation It is intended to provide an image display device.

本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、本発明の反射防止フィルムは、基材フィルムの少なくとも片面に、アクリル系樹脂および導電性金属酸化物微粒子を主成分とする、0.3μm以上の膜厚を有するA層および、シリカ系微粒子と均質化しているシロキサンポリマーを主成分とするB層の少なくとも2層が、該B層より該A層の方が該基材フィルムに近い位置にあり、かつ、該A層上に該B層が積層されている反射防止フィルムであって、下記シロキサン化合物(1)と下記シロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が、該A層中に、該A層に対して0.001〜20質量%含まれていることを特徴とするものである。   The present invention employs the following means in order to solve such problems. That is, the antireflection film of the present invention comprises an A layer having a film thickness of 0.3 μm or more and a silica-based fine particle, the main component of which is an acrylic resin and conductive metal oxide fine particles, on at least one side of the base film And at least two of the B layers mainly composed of a siloxane polymer, the A layer is closer to the base film than the B layer, and the B layer is on the A layer. In which the condensate compound composed of the following siloxane compound (1) and the following siloxane compound (2) is 0.001 to 20 mass with respect to the A layer in the A layer. % Is included.

SiR (1)
(ただし、Rはフッ素が3から17のフルオロアルキル基、メチル基、エチル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基を表し、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Rは、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基を表し、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。)
SiR (2)
(ただし、Rはビニル基、(メタ)アクリル基およびそれらの置換体を表す。Rはメチル基、エチル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基を表し、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。)
また、本発明の画像表示装置は、かかる反射防止フィルムを、画像表示面または前面板の表面に貼着して、構成されていることを特徴とするものである。
R 1 2 SiR 2 2 (1)
(Wherein, R 1 represents fluoroalkyl group having fluorine 3 17, a methyl group, an ethyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, respectively, same with or may be different .R 2 is a hydroxyl group Represents a methoxy group or an ethoxy group, which may be the same or different.
R 3 SiR 4 3 (2)
(However, R 3 represents a vinyl group, a (meth) acryl group and a substituted product thereof. R 4 represents a methyl group, an ethyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, and an ethoxy group, which are the same or different. Is also good.)
The image display device of the present invention is characterized in that the antireflection film is adhered to the image display surface or the surface of the front plate.

本発明によれば、良好な帯電防止性、光線透過率、表面耐擦傷性を有し、色目がニュートラルでかつ表面外観が良好な反射防止フィルムを安価に提供することができるため、例えば、プラズマディスプレイのような大画面の平面テレビ前面、液晶テレビ前面などに適用される反射防止フィルムとして好適に使用されるものである。   According to the present invention, an antireflection film having good antistatic properties, light transmittance, and surface scratch resistance, neutral color and good surface appearance can be provided at low cost. It is suitably used as an antireflection film applied to the front surface of a large flat screen television such as a display or the front surface of a liquid crystal television.

本発明は、前記課題、つまり良好な帯電防止性、光線透過率、表面耐擦傷性を有し、色目がニュートラルで表面外観が良好な反射防止フィルムについて、鋭意検討し、アクリル系樹脂および導電性酸化物微粒子を主成分とし、特定のシロキサン化合物群からなる縮合体化合物を含有するA層、シリカ系微粒子と均質化しているシロキサンポリマーを主成分とするB層の少なくとも2層を、B層よりA層の方が基材フィルムに近い位置にあり、かつA層上にB層を積層して構成し、かつ、これらのA層、B層によって、該反射防止フィルムの最低反射率および最高反射率を特定な条件を満たす構成にしてみたところ、かかる課題を一挙に解決することを究明したものである。   The present invention has intensively studied the above-mentioned problems, that is, an antireflection film having a good antistatic property, light transmittance, and surface scratch resistance, a neutral color and a good surface appearance, and an acrylic resin and a conductive material. From the B layer, at least two layers of the A layer containing the condensate compound composed mainly of the oxide fine particles and the specific siloxane compound group and the B layer containing the siloxane polymer homogenized with the silica-based fine particles from the B layer The layer A is closer to the base film, and the layer B is laminated on the layer A. The layer A and layer B are used to form the minimum reflectance and the maximum reflection of the antireflection film. When the rate is configured to satisfy a specific condition, it has been found that this problem can be solved at once.

本発明のA層は、反射防止フィルムに硬度、耐久性および帯電防止性を付与するためにアクリル系樹脂と導電性金属酸化物微粒子を主成分とする必要がある。ここでいう主成分とは、アクリル樹脂および導電性金属酸化物微粒子のA層中に占める重量分率が50%以上であることを示す。   The layer A of the present invention needs to contain acrylic resin and conductive metal oxide fine particles as main components in order to impart hardness, durability and antistatic properties to the antireflection film. The main component here means that the weight fraction of the acrylic resin and the conductive metal oxide fine particles in the A layer is 50% or more.

本発明のA層は、硬化性、可撓性および生産性に優れ、かつ低コストで硬度、耐久性を与えるために、アクリル系樹脂を主成分としてA層中に含有することが必要であり、活性線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好適に用いられるが、好ましくは、かかるアクリル系樹脂の中でも、(メタ)アクリレート系樹脂が、活性光線照射によりラジカル重合し易くて、形成される膜の耐溶剤性や硬度を向上させる効果を奏するのでよい。さらに好ましくは、(メタ)アクリロイル基が分子内に2個以上の多官能(メタ)アクリレート化合物からなる(メタ)アクリレート系樹脂は、耐溶剤性等が向上するのでよい。例えば、かかる(メタ)アクリレート系樹脂としてはペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートや、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス−(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸エステルトリ(メタ)アクリレート等の3官能(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の4官能以上の(メタ)アクリレート等が用いられる。なお、本発明において「・・・(メタ)アクリ・・・」とは、「・・・アクリ・・・または・・・メタアクリ・・・」を略して表示したものである。   The layer A of the present invention is required to contain an acrylic resin as a main component in the layer A in order to provide excellent curability, flexibility and productivity, and to provide hardness and durability at low cost. An actinic radiation curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin is preferably used. Among such acrylic resins, a (meth) acrylate resin is preferably radically polymerized by irradiation with actinic rays. It is easy to achieve the effect of improving the solvent resistance and hardness of the formed film. More preferably, a (meth) acrylate resin having a (meth) acryloyl group composed of two or more polyfunctional (meth) acrylate compounds in the molecule may improve solvent resistance. For example, as such (meth) acrylate resin, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, ethylene-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris- ( 2-hydroxyethyl) -isocyanuric acid ester tri (meth) acrylate such as tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. A tetrafunctional or higher functional (meth) acrylate or the like is used. In the present invention, “... (Meta) acrylic ...” is an abbreviation of “... acrylic ... or meta acrylic ...”.

かかるA層のアクリル樹脂には、粒子の分散性を向上させるため、カルボキシル基や、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する(メタ)アクリレート化合物(モノマー)を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェート、ジフェニル−2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸(メタ)アクリル酸エステル、2−スルホエステル(メタ)アクリレート等が用いられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する(メタ)アクリレート化合物を使用することができる。さらに、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー等の、ウレタン結合を有している樹脂であれば、極性も高く粒子の分散性がよくなるので特に好ましい。   In order to improve the dispersibility of the particles, a (meth) acrylate compound (monomer) having an acidic functional group such as a carboxyl group, a phosphate group, or a sulfonate group can be used for the acrylic resin of the A layer. . Specifically, as the acidic functional group-containing monomer, unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, Phosphoric acid (meth) acrylic acid esters such as mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) acid phosphate and diphenyl-2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, 2-sulfoester (meth) acrylate, and the like are used. In addition, a (meth) acrylate compound having a polar bond such as an amide bond, a urethane bond, or an ether bond can be used. Furthermore, a resin having a urethane bond, such as a urethane (meth) acrylate oligomer, is particularly preferable because of its high polarity and good particle dispersibility.

本発明でA層を形成する際に、硬化を進めるために開始剤を使用してもよい。該開始剤としては、塗布したアクリル樹脂を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および/または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知の各種光重合開始剤が使用可能である。かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、p−ジメチルアミノ安息香酸メチル、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、D−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、p−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、9−フェニルアクリジン、9−p−メトキシフェニルアクリジン、9−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、9,10−ジメチルベンズフェナジン、9−メチルベンズフェナジン、10−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、6,4’,4”−トリメトキシ−2、3−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、2,4,5−トリフェニルイミダゾイル二量体、2−ニトロフルオレン、2,4,6−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、3,3’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等を使用することができる。   In forming the A layer in the present invention, an initiator may be used to advance curing. As the initiator, the applied acrylic resin starts or accelerates polymerization and / or crosslinking reaction by radical reaction, anion reaction, cation reaction, etc., and various conventionally known photopolymerization initiators can be used. is there. Specific examples of such photopolymerization initiators include sulfides such as sodium methyldithiocarbamate sulfide, diphenyl monosulfide, dibenzothiazoyl monosulfide and disulfide, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, Thioxanthone derivatives such as 2,4-diethylthioxanthone, azo compounds such as hydrazone and azobisisobutyronitrile, diazo compounds such as benzenediazonium salt, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzophenone, dimethylaminobenzophenone Michler's ketone, benzylanthraquinone, t-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, Aromatic carbonyl compounds such as -chloroanthraquinone, dialkylaminobenzoic acid esters such as methyl p-dimethylaminobenzoate, ethyl p-dimethylaminobenzoate, butyl D-dimethylaminobenzoate, isopropyl p-diethylaminobenzoate, Peroxides such as benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, cumene hydroperoxide, 9-phenylacridine, 9-p-methoxyphenylacridine, 9-acetylaminoacridine, benzacridine, etc. Acridine derivatives, phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine, 9-methylbenzphenazine, 10-methoxybenzphenazine, and 6,4 ′, 4 ″ -trimethoxy-2,3-diphenylquinoxaline Quinoxaline derivatives, 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer, 2-nitrofluorene, 2,4,6-triphenylpyrylium tetrafluoride boron salt, 2,4,6-tris (trichloromethyl) ) -1,3,5-triazine, 3,3′-carbonylbiscoumarin, thiomichler ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- ( 4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, and the like can be used.

光重合開始剤の量は、アクリル樹脂100質量部に対して、好ましくは0.1〜20質量部、より好ましくは1.0〜15.0質量部の範囲で添加される。0.1質量部未満では、光重合が遅くなり、硬度及び耐擦過性を満足させるために長時間の光照射を必要とする傾向にあり、時には未硬化となり易い。一方、20質量部を超えて添加すると、塗膜の帯電防止性、耐摩耗性、耐候性等の機能が低下し易い。   The amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 1.0 to 15.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin. If it is less than 0.1 parts by mass, photopolymerization is slow, and it tends to require long-time light irradiation in order to satisfy hardness and scratch resistance, and sometimes tends to be uncured. On the other hand, when it exceeds 20 mass parts, functions, such as antistatic property of a coating film, abrasion resistance, and a weather resistance, will fall easily.

また、本発明でA層を形成する際に、上記開始剤の、酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が適切である。   Moreover, when forming A layer by this invention, in order to prevent the fall of the sensitivity of the said initiator by oxygen inhibition, you may coexist an amine compound with a photoinitiator. Such an amine compound is not particularly limited as long as it is a non-volatile compound such as an aliphatic amine compound or an aromatic amine compound. For example, triethanolamine, methyldiethanolamine and the like are suitable.

本発明のA層は、帯電防止性の付与を図る上で、湿度依存性および加工条件による変動が少なく、透明性が高いという利点を有するため、導電性金属酸化物微粒子を主成分として含有することが必要である。   The layer A of the present invention has the advantages that it is less dependent on humidity and processing conditions and has high transparency in providing antistatic properties, and therefore contains conductive metal oxide fine particles as a main component. It is necessary.

導電性金属酸化物微粒子としては、錫含有酸化アンチモン粒子(ATO)、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子(ITO)、酸化亜鉛/酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が好ましく、より好ましくは錫含有酸化インジウム粒子(ITO)、錫含有酸化アンチモン粒子(ATO)が使用される。   As the conductive metal oxide fine particles, tin-containing antimony oxide particles (ATO), zinc-containing antimony oxide particles, tin-containing indium oxide particles (ITO), zinc oxide / aluminum oxide particles, antimony oxide particles, and the like are preferable, and more preferably. Tin-containing indium oxide particles (ITO) and tin-containing antimony oxide particles (ATO) are used.

かかる導電性を構成する粒子は、平均粒子径(JIS R1626に示されるBET法により測定される球相当径(JIS Z8819−1にて定義される))が、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは、0.001〜0.3μm、特に好ましくは0.005〜0.2μmの粒子径の粒子が好適に使用される。該平均粒子径が、この範囲を超えると生成される被膜(A層)の透明性を低下させ、この範囲未満では、該粒子が凝集し易く、生成被膜(A層)のヘイズ値が増大し、いずれの場合も、所望のヘイズ値を得ることが困難になる。   The particles constituting the conductivity preferably have an average particle size (sphere equivalent diameter (defined by JIS Z8819-1) measured by the BET method shown in JIS R1626) of 0.5 μm or less, more preferably Are preferably particles having a particle diameter of 0.001 to 0.3 μm, particularly preferably 0.005 to 0.2 μm. If the average particle diameter exceeds this range, the transparency of the coating film (A layer) is reduced. If the average particle diameter is less than this range, the particles tend to aggregate and the haze value of the generated coating film (A layer) increases. In either case, it becomes difficult to obtain a desired haze value.

かかる導電性金属酸化物微粒子のアクリル樹脂に対する質量割合は、好ましくは40質量%以下、さらに好ましくは30質量%以下であることが、得られる膜の各種物理的、化学的強度が良好でかつ、ヘイズが低く抑えられ、高い透明性を維持できる上、低コストとなるためによい。   The mass ratio of the conductive metal oxide fine particles to the acrylic resin is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, and various physical and chemical strengths of the obtained film are good and This is because haze can be kept low, high transparency can be maintained, and cost can be reduced.

本発明のA層は、次式で示されるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が含まれていることが、A層の上にB層を積層する際の密着性発現、表面の耐擦傷性向上、表面外観向上などのために必要である。   The layer A of the present invention contains a condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) represented by the following formula, and thus adheres when the B layer is laminated on the A layer. Necessary for expression, surface scratch resistance improvement, surface appearance improvement and the like.

SiR (1)
(ただし、Rはフッ素が3から17のフルオロアルキル基、メチル基、エチル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基を表し、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Rは、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基を表し、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。)
SiR (2)
(ただし、Rはビニル基、(メタ)アクリル基およびそれらの置換体を表す。Rはメチル基、エチル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基を表し、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。)
式(1)のようなシロキサン化合物としては例えば、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシランや、これらの加水分解物などが好適に用いられ、特に好ましくはトリフルオロメチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシランやこれらの加水分解物であるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
R 1 2 SiR 2 2 (1)
(Wherein, R 1 represents fluoroalkyl group having fluorine 3 17, a methyl group, an ethyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, respectively, same with or may be different .R 2 is a hydroxyl group Represents a methoxy group or an ethoxy group, which may be the same or different.
R 3 SiR 4 3 (2)
(However, R 3 represents a vinyl group, a (meth) acryl group and a substituted product thereof. R 4 represents a methyl group, an ethyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, and an ethoxy group, which are the same or different. Is also good.)
Examples of the siloxane compound represented by the formula (1) include trifluoromethyltrimethoxysilane, trifluoromethyltriethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, Decafluorooctyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyl Dimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, and their hydrolysates are preferably used. Are, but not necessarily limited to these particularly preferably a trifluoromethyl trimethoxy silane, methyl trimethoxy silane, dimethyl dimethoxy silane or hydrolyzate thereof.

式(2)のようなシロキサン化合物としては例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランや、これらの加水分解物などが好適に用いられ、特に好ましくは3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランやこれらの加水分解物であるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。   Examples of the siloxane compound represented by the formula (2) include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane. , 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and their hydrolysates are preferably used, particularly preferably 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. Although it is a methoxysilane and these hydrolysates, it is not necessarily limited to these.

上記式(1)、(2)からなる縮合体化合物は、シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)のモル比が(1):(2)=0.1:1から20:1の範囲になることが、A層中に占める縮合体化合物含有量あたりの密着性向上効果が高くなり、表面外観改良効果が高くなるため好ましく、より好ましくは1:1から15:1であり、さらに好ましくは2:1から15:1であり、特に好ましくは3:1から15:1である。また、表面抵抗率低下のためには2:1から15:1が好ましく、より好ましくは3:1から15:1である。   In the condensate compound composed of the above formulas (1) and (2), the molar ratio of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) is in the range of (1) :( 2) = 0.1: 1 to 20: 1. It is preferable because the effect of improving the adhesion per condensate compound content in the layer A is increased and the effect of improving the surface appearance is increased, more preferably 1: 1 to 15: 1, and still more preferably. Is from 2: 1 to 15: 1, particularly preferably from 3: 1 to 15: 1. In order to reduce the surface resistivity, the ratio is preferably 2: 1 to 15: 1, more preferably 3: 1 to 15: 1.

また、該縮合体化合物は、JIS K2283に基づいて25℃で測定された動粘度が好ましくは40mm/s以上であることが、A層中に占める縮合体化合物含有量あたりの密着性向上効果が高くなり、表面外観改良効果が高くなるのでよい。 In addition, the condensate compound has a kinematic viscosity measured at 25 ° C. based on JIS K2283, preferably 40 mm 2 / s or more, and the effect of improving adhesion per condensate compound content in the layer A And the surface appearance improving effect is improved.

該縮合体化合物のA層中に占める含有量としては、0.001質量%から20質量%であることが、表面抵抗率の上昇を抑えて帯電防止性能を向上させ、表面硬度の低下を防ぐ上で必要であり、好ましくは10質量%以下である。   The content of the condensate compound in the layer A is 0.001% by mass to 20% by mass, suppressing an increase in surface resistivity, improving antistatic performance, and preventing a decrease in surface hardness. It is necessary above, and is preferably 10% by mass or less.

本発明のA層の構成成分は、以上説明したアクリル樹脂成分、導電性金属酸化物微粒子、シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物、光重合開始剤を必須構成成分とし、更に必要に応じて、例えば、重合禁止剤や、硬化触媒、酸化防止剤、分散剤等の各種添加剤を含有してもよい。   The constituent components of the A layer of the present invention include the above-described acrylic resin component, conductive metal oxide fine particles, a condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2), and a photopolymerization initiator as essential constituent components. Furthermore, if necessary, for example, various additives such as a polymerization inhibitor, a curing catalyst, an antioxidant and a dispersant may be contained.

本発明では、このA層の構成成分に、導電性の付与を目的としてポリピロールおよびポリアニリン、ポリチオフェン等の導電性ポリマー、金属アルコレートおよびキレート化合物などの有機金属化合物を、さらに含有させることができる。また、このA層の構成成分に、表面硬度の向上を目的として、コロイダルシリカ、乾式シリカ、湿式シリカ、酸化チタン等の無機粒子、コロイド状に分散したシリカ微粒子等を、さらに含有させることもできる。   In the present invention, the constituents of the A layer can further contain an organic metal compound such as a conductive polymer such as polypyrrole, polyaniline and polythiophene, a metal alcoholate and a chelate compound for the purpose of imparting conductivity. In addition, for the purpose of improving the surface hardness, the component of the A layer can further contain colloidal silica, dry silica, wet silica, inorganic particles such as titanium oxide, and colloidally dispersed silica fine particles. .

本発明のA層は0.3μm以上の膜厚を有することが必要である。A層の膜厚が0.3μmを下回ると、帯電防止性および表面の耐擦傷性が著しく低下する上、400〜700nm域での最高反射率と最低反射率の差が大きくなり、ニュートラルな色調を得ることが難しくなるため不適であり、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上である。また、反射防止フィルムとしてのカールを抑えるためにはA層膜厚が20μm以下であることが好ましく、より好ましくは15μm以下である。   The A layer of the present invention needs to have a film thickness of 0.3 μm or more. When the thickness of the A layer is less than 0.3 μm, the antistatic property and the scratch resistance of the surface are remarkably lowered, and the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance in the 400 to 700 nm region becomes large, and the neutral color tone. Is difficult to obtain, and is preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more. In order to suppress curling as an antireflection film, the A layer thickness is preferably 20 μm or less, and more preferably 15 μm or less.

本発明のA層は、屈折率が1.48以上、1.62以下であることが、最高反射率を3.5%以下に抑え、最低反射率の上昇を抑えてニュートラルな色調を実現するために好ましい。また、このA層の屈折率はB層の屈折率より高いことが、反射防止層の層数を低減できることから好ましい。   The layer A of the present invention has a refractive index of 1.48 or more and 1.62 or less, and suppresses the maximum reflectance to 3.5% or less and suppresses an increase in the minimum reflectance to realize a neutral color tone. Therefore, it is preferable. Further, it is preferable that the refractive index of the A layer is higher than that of the B layer because the number of antireflection layers can be reduced.

本発明において、B層は、シリカ系微粒子と均質化しているシロキサンポリマーを主成分とすることが、表面の耐擦傷性、低屈折率化を両立するために必要である。   In the present invention, the B layer is mainly composed of a silica-based fine particle and a siloxane polymer that is homogenized in order to achieve both surface scratch resistance and a low refractive index.

なお、ここで言う「均質化している」とは、シリカ微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。その状態は、透過型電子顕微鏡(以下、TEMと)でシリカ微粒子とシロキサンポリマーの境界部分を観察することによって知ることができる。均質な状態の例を図2に、均質でない状態の例を図3および図4に示す。図2、3および4は全て、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ微粒子を含有するB層の断面TEM写真である。図2のB層11において、白い円状に見えているのは、シリカ微粒子の内部の空洞7である。白い円の外側は、シリカ微粒子の外殻およびシロキサン化合物である。図に示されるように両者は均質化していて、シリカ微粒子とシロキサン化合物の境界部分が観察されない。図3および図4においても、白い円状に見えているのは、シリカ微粒子の内部の空洞7である。図2の場合と異なって、図3および図4においては、白い円の外側に、それを覆うように、濃色の薄い層が存在し、さらにその外側に淡色のマトリックスが存在する。濃色の薄い層はシリカ微粒子の外殻8であり、淡色のマトリックスはシロキサン化合物9である。すなわち、両者が均質化していないため、図に示されるように、シリカ微粒子とシロキサン化合物の境界部分10が明確に観察される。つまり、均質な状態では、図2に示されるように、シリカ微粒子とシロキサン化合物の境界部分が観察されないのに対し、均質でない場合は、図3および図4に示されるように、シリカ微粒子とシロキサンポリマーの境界部分が明確に観察できる。   Here, “homogenized” means a state where the silica component of the silica fine particles and the siloxane polymer of the matrix are reacted and homogenized. This state can be known by observing the boundary between the silica fine particles and the siloxane polymer with a transmission electron microscope (hereinafter referred to as TEM). An example of a homogeneous state is shown in FIG. 2, and examples of a non-uniform state are shown in FIGS. 2, 3 and 4 are all cross-sectional TEM photographs of layer B containing silica fine particles having cavities surrounded by an outer shell. In the B layer 11 of FIG. 2, the white circular shape is the cavity 7 inside the silica fine particles. The outer side of the white circle is a shell of silica fine particles and a siloxane compound. As shown in the figure, both are homogenized, and the boundary between the silica fine particles and the siloxane compound is not observed. In FIGS. 3 and 4, the white cavities are the cavities 7 inside the silica fine particles. Unlike FIG. 2, in FIGS. 3 and 4, a dark thin layer exists outside the white circle so as to cover it, and a light color matrix exists outside the white circle. The dark-colored thin layer is the outer shell 8 of silica fine particles, and the light-colored matrix is the siloxane compound 9. That is, since both are not homogenized, the boundary portion 10 between the silica fine particles and the siloxane compound is clearly observed as shown in the figure. That is, in the homogeneous state, as shown in FIG. 2, the boundary between the silica fine particles and the siloxane compound is not observed, whereas in the case of non-homogeneous, the silica fine particles and the siloxane are shown in FIG. 3 and FIG. The polymer boundary can be clearly observed.

このような均質化している状態となるのは、シリカ微粒子とシロキサンポリマーが結合しているためと考えられる。これにより、シロキサン系塗料中でのシリカ微粒子の分散安定性が向上し、2次凝集を抑制できる。また、被膜を形成した場合、マトリックス材料であるシロキサンポリマーとシリカ微粒子が強固に結合しているため、被膜の表面硬度が向上する。   Such a homogenized state is considered to be because the silica fine particles and the siloxane polymer are bonded. Thereby, the dispersion stability of the silica fine particles in the siloxane-based paint is improved, and secondary aggregation can be suppressed. Further, when a coating is formed, the surface hardness of the coating is improved because the siloxane polymer, which is a matrix material, and the silica fine particles are firmly bonded.

このようなシロキサン系塗料は、シリカ微粒子の存在下、シラン化合物を溶媒中、酸触媒により、加水分解することによって、シラノール化合物を形成した後、該シラノール化合物を縮合反応させることによって得ることができる。   Such a siloxane-based paint can be obtained by hydrolyzing a silane compound in a solvent with an acid catalyst in the presence of silica fine particles to form a silanol compound and then subjecting the silanol compound to a condensation reaction. .

かかるシラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、たとえばトリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの3官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの2官能性フッ素含有シラン化合物などが好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましく用いられる。   As such a silane compound, a polyfunctional fluorine-containing silane compound is preferably used from the viewpoint of low refractive index and antifouling property. For example, trifluoromethyltrimethoxysilane, trifluoromethyltriethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxy Trifunctional fluorine-containing silane compounds such as silane, trifluoropropyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, Bifunctional fluorine-containing silane compounds such as heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane are preferably used. From the viewpoint of surface hardness, trifluoromethylmethoxysilane, trifluoromethyl ethoxide, etc. Shishiran, trifluoropropyl trimethoxysilane, trifluoropropyl triethoxysilane, more preferably used.

かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−(N,N−ジグリシジル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの3官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの2官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの4官能性シラン化合物などが用いられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。   Examples of such polyfunctional fluorine-free silane compounds include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, and methyltriethoxy. Silane, hexyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxy Trifunctional silanes such as silane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3- (N, N-diglycidyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxysipropyltrimethoxysilane Compound, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-amino Propylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldiethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyldimethoxy Bifunctional silane compounds such as silane and octadecylmethyldimethoxysilane, tetrafunctional silane compounds such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane, etc. Any of these are preferably used. From the viewpoint of surface hardness, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and phenyltriethoxysilane are used. More preferable.

また、上述のシリカ微粒子としては、平均粒子径1nm〜200nmのシリカ系微粒子であることが、マトリックス材料と十分に結合して良好な硬度が得られる上、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙が多く発生し、低屈折率化を実現できることから好ましく、特に好ましくは、平均粒子径1nm〜70nmである。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。   Moreover, as the above-mentioned silica fine particles, silica-based fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 200 nm are sufficiently bonded to the matrix material to obtain good hardness, and between the particles generated by introducing many particles. It is preferable because many voids are generated and low refractive index can be realized, and the average particle diameter is particularly preferably 1 nm to 70 nm. Further, among the silica-based fine particles, those having a structure having a cavity inside are particularly preferably used in order to lower the refractive index.

かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が用いられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第3272111号公報に開示されている方法によって製造できる。また、該微粒子自体の屈折率は、1.20〜1.40であるのが好ましく、1.20〜1.35であるのがより好ましい。かかる屈折率の測定方法は、後述しているが、特開2001−233611公報に開示されている方法によっても測定することができる。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開2001−233611号公報に開示されているものや、特許第3272111号公報等の一般に市販されているものを用いることができる。   Examples of the silica-based fine particles having cavities therein include silica-based fine particles having cavities surrounded by an outer shell, porous silica-based fine particles having a large number of cavities, and the like. As such an example, it can manufacture by the method currently disclosed by patent 3272111, for example. Further, the refractive index of the fine particles themselves is preferably 1.20 to 1.40, more preferably 1.20 to 1.35. Although a method of measuring the refractive index is described later, it can also be measured by a method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-233611. As such silica-based fine particles, for example, those disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611 and those generally marketed such as Japanese Patent No. 3272111 can be used.

加水分解反応に利用される酸触媒としては、蟻酸、蓚酸、塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、リン酸、ポリリン酸、多価カルボン酸あるいはその無水物、イオン交換樹脂などの酸触媒が用いられる。   Acid catalysts used for the hydrolysis reaction include acid catalysts such as formic acid, succinic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid, polyvalent carboxylic acid or anhydrides thereof, and ion exchange resins. It is done.

特に、透明被膜の硬度を向上する観点から、蟻酸、酢酸を触媒とすることが好ましい。   In particular, formic acid and acetic acid are preferably used as catalysts from the viewpoint of improving the hardness of the transparent coating.

好ましい添加量としては、のシロキサンポリマー合成時に使用される全シラン化合物含量に対して、好ましくは、0.05質量%〜10質量%、より好ましくは、0.1質量%〜5質量%である。酸触媒の量が、0.05質量%を下回ると、加水分解反応が十分進行しないことがあり。また、10質量%を越えると、加水分解反応が暴走する恐れがある。   A preferable addition amount is preferably 0.05% by mass to 10% by mass, and more preferably 0.1% by mass to 5% by mass with respect to the total silane compound content used in the synthesis of the siloxane polymer. . If the amount of the acid catalyst is less than 0.05% by mass, the hydrolysis reaction may not proceed sufficiently. Moreover, when it exceeds 10 mass%, there exists a possibility that a hydrolysis reaction may run away.

加水分解反応において、溶剤中で反応を行うことが反応の制御が容易になることから好ましく、使用する溶剤としては、有機溶剤が好ましい。例えば、エタノール、プロパノール、ブタノール、3―メチル―3―メトキシ―1―ブタノールなどのアルコール類;エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチルエーテルなどのエーテル類;メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類;エチルアセテート、エチルセロソルブアセテート、3―メチル―3―メトキシ―1―ブタノールアセテートなどのアセテート類;トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの芳香族あるいは脂肪族炭化水素のほか、γ―ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシドなどを用いることができる。溶剤の量は、のシロキサンポリマー合成時使用される全シラン化合物含量に対して、50質量%〜500質量%の範囲で添加することが好ましく、より好ましくは、80質量%〜200質量%の範囲である。50質量%を下回ると、反応が暴走し、ゲル化する場合がある。一方、500質量%を越えると、加水分解が進行しない場合がある。   In the hydrolysis reaction, it is preferable to perform the reaction in a solvent because the control of the reaction is easy, and the solvent used is preferably an organic solvent. For example, alcohols such as ethanol, propanol, butanol, 3-methyl-3-methoxy-1-butanol; glycols such as ethylene glycol, propylene glycol; ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethyl Ethers such as ether; ketones such as methyl isobutyl ketone and diisobutyl ketone; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; acetates such as ethyl acetate, ethyl cellosolve acetate, 3-methyl-3-methoxy-1-butanol acetate ; In addition to aromatic or aliphatic hydrocarbons such as toluene, xylene, hexane, cyclohexane, γ-butyrolactone, N-methyl 2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide can be used. The amount of the solvent is preferably added in the range of 50% by mass to 500% by mass, more preferably in the range of 80% by mass to 200% by mass with respect to the total silane compound content used in the synthesis of the siloxane polymer. It is. If it is less than 50% by mass, the reaction may run away and gel. On the other hand, if it exceeds 500 mass%, hydrolysis may not proceed.

また、加水分解に用いられる水としては、イオン交換水が好ましい。水の量は任意に選択可能であるが、シラン1モルに対して、1.0〜4.0モルの範囲で用いるのが好ましい。   Moreover, as water used for a hydrolysis, ion-exchange water is preferable. The amount of water can be arbitrarily selected, but it is preferably used in the range of 1.0 to 4.0 mol with respect to 1 mol of silane.

加水分解反応は、前記のシラン化合物を、溶剤中、酸触媒及び、水を添加して、室温〜55℃で行うことが好ましい。   The hydrolysis reaction is preferably performed at room temperature to 55 ° C by adding the acid catalyst and water in the solvent to the silane compound.

本発明のシロキサンポリマーを得るための縮合反応の条件としては、加水分解し、シラノール化合物を得た後、そのまま、反応液を、還流下で1〜100時間行うのが好ましい。そのほかシロキサンポリマーの重合度を上げるために、再加熱もしくは塩基触媒の添加を行うことも可能である。   As a condition for the condensation reaction for obtaining the siloxane polymer of the present invention, it is preferable to carry out the reaction solution under reflux for 1 to 100 hours after hydrolysis to obtain a silanol compound. In addition, in order to increase the degree of polymerization of the siloxane polymer, it is possible to reheat or add a base catalyst.

本発明の反射防止フィルムは、上記A層と上記B層の少なくとも2層を基材フィルムの少なくとも片面に積層することが必要であり、かつ、B層よりA層の方が基材フィルムに近い位置にあり、かつA層上にB層が積層されている必要がある。積層の順序が異なると、反射防止フィルムとして機能するには、B層より屈折率が低い層をB層上にさらに形成する必要があり高コストとなるほか、帯電防止性、表面耐擦傷性が低下する。   In the antireflection film of the present invention, it is necessary to laminate at least two layers of the A layer and the B layer on at least one surface of the base film, and the A layer is closer to the base film than the B layer. And the B layer needs to be laminated on the A layer. If the order of lamination is different, in order to function as an antireflection film, it is necessary to further form a layer having a lower refractive index than the B layer on the B layer, resulting in high cost, antistatic properties, and surface scratch resistance. descend.

また、A層と基材フィルムの間には、反射防止機能を阻害しない範囲で他の層が設けられても良いが、反射色の色調やコストを含めた生産性の点から、基材フィルム上にA層を設け、その上にB層を設ける構成とすることが好ましい。なお、ここでいう屈折率の測定方法については、後述で定義したとおりである。   In addition, another layer may be provided between the A layer and the base film as long as the antireflection function is not hindered. From the viewpoint of productivity including the color tone and cost of the reflective color, the base film It is preferable to provide a configuration in which an A layer is provided on top and a B layer is provided thereon. The refractive index measurement method here is as defined later.

本発明の反射防止フィルムに所望水準の帯電防止性が付与されるためには、反射防止フィルム表面の、JIS K6911に示される方法で測定される表面抵抗率が1×1011Ω/□以下であることが好ましく、更に好ましくは5×1010Ω/□以下である。 In order to impart a desired level of antistatic properties to the antireflection film of the present invention, the surface resistivity of the antireflection film surface measured by the method shown in JIS K6911 is 1 × 10 11 Ω / □ or less. It is preferable that it is 5 × 10 10 Ω / □ or less.

本発明の反射防止フィルムは、全光線透過率が85%以上、ヘイズが1.5%以下であることが画像表示装置とした時の画像のクリア性に優れるため好ましく、より好ましくは全光線透過率が87%以上、ヘイズが1.2%以下である。   The antireflection film of the present invention preferably has a total light transmittance of 85% or more and a haze of 1.5% or less because of excellent image clearness when used as an image display device, and more preferably a total light transmission. The rate is 87% or more, and the haze is 1.2% or less.

本発明の反射防止フィルムにおける最低反射率および最高反射率は、波長400〜700nmにおける表面反射スペクトルが、(1)最低反射率が0.6%以上、2.0%以下であり、(2)最高反射率が3.5%以下であり、(3)最高反射率と最低反射率の差が2.5%以下であるという3つの条件を同時に満たすことが好ましい。すなわち、可視光域で有効な反射防止効果を得るために、波長400〜700nmに置ける表面反射スペクトルの最高反射率が3.5%以下であることが好ましい。また、反射色が特定の色調を帯びることを防止するために、最低反射率が0.6%以上、2.0%以下で、かつ、最高反射率と最低反射率との差が2.5%以下にすることが好ましい。より好ましくは波長500〜700nmに置ける表面反射スペクトルの(1)の条件を満たした上に、さらに(2)最高反射率が2.2%以下、(3)最高反射率と最低反射率との差が1.5%以下という条件を満たすことである。なお、ここでいう反射率の測定方法については、後述で定義したとおりである。   The minimum reflectance and the maximum reflectance in the antireflection film of the present invention are as follows: (1) The minimum reflectance is 0.6% or more and 2.0% or less in the surface reflection spectrum at a wavelength of 400 to 700 nm, (2) It is preferable to simultaneously satisfy the three conditions that the maximum reflectance is 3.5% or less and (3) the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is 2.5% or less. That is, in order to obtain an antireflection effect effective in the visible light region, it is preferable that the maximum reflectance of the surface reflection spectrum at a wavelength of 400 to 700 nm is 3.5% or less. In order to prevent the reflected color from having a specific color tone, the minimum reflectance is 0.6% or more and 2.0% or less, and the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is 2.5. % Or less is preferable. More preferably, in addition to satisfying the condition (1) of the surface reflection spectrum that can be placed at a wavelength of 500 to 700 nm, (2) the maximum reflectance is 2.2% or less, and (3) the maximum reflectance and the minimum reflectance The condition is that the difference is 1.5% or less. The reflectance measuring method here is as defined later.

本発明の反射防止フィルムは、前記のごとくA層の屈折率、厚さがそれぞれ1.62以下、0.3μm以上の条件下で、B層の屈折率と厚さの積が、対象光線(通常可視光線)の波長の1/4となるようにすることが好ましい。したがって、B層において、各層の厚さdと屈折率nの積の4倍が波長400〜700nmの範囲にあることが好ましく、B層における屈折率nと厚さdの関係は、B層の屈折率が1.42以下で下記式(1)を満足する範囲内の厚さであることが、波長400〜700nmにおける表面反射スペクトルの最低反射率が0.6%以上2.0%以下、かつ、最高反射率が3.5%以下、かつ、最高反射率と最低反射率の差が2.5%以下とするために好ましい。   As described above, the antireflection film of the present invention has a refractive index and thickness of the A layer of 1.62 or less and 0.3 μm or more, respectively. It is preferable that the wavelength is 1/4 of the wavelength of normal visible light. Accordingly, in the B layer, it is preferable that four times the product of the thickness d and the refractive index n of each layer be in the wavelength range of 400 to 700 nm. The relationship between the refractive index n and the thickness d in the B layer is The minimum reflectance of the surface reflection spectrum at a wavelength of 400 to 700 nm is 0.6% or more and 2.0% or less, that the refractive index is 1.42 or less and the thickness satisfies the following formula (1). Moreover, it is preferable for the maximum reflectance to be 3.5% or less and the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance to be 2.5% or less.

n・d=λ/4 ・・・式(1)
(ここで、λは可視光線の波長範囲で、通常380nm≦λ≦780nmの範囲となる。)。
n · d = λ / 4 Formula (1)
(Here, λ is the wavelength range of visible light and is usually in the range of 380 nm ≦ λ ≦ 780 nm).

本発明における基材フィルムとしては、溶融製膜もしくは溶液製膜可能なフィルムが好適に用いられる。その具体例としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、アセテート、ポリカーボネート、アクリル系樹脂などからなるフィルムを用いることができる。これらの内、特に透明性、機械的強度、寸法安定性などに優れた熱可塑性樹脂からなるフィルムが好ましい。画像表示装置用途に用いるためには、光線透過率が高く、ヘイズ値が低いことが好ましいため、ポリエステル、アセテートおよびアクリル系樹脂より選ばれた少なくとも1種からなるフィルムが好ましい。透明性、ヘイズ値、機械特性の点から、特にポリエステルからなるフィルムが好ましく用いられる。   As the base film in the present invention, a film that can be formed by melt film formation or solution film formation is preferably used. Specific examples thereof include films made of polyester, polyolefin, polyamide, polyphenylene sulfide, acetate, polycarbonate, acrylic resin, and the like. Among these, a film made of a thermoplastic resin excellent in transparency, mechanical strength, dimensional stability and the like is particularly preferable. In order to use it for image display device applications, it is preferable that the film has at least one selected from polyester, acetate and acrylic resin because it has high light transmittance and low haze value. In view of transparency, haze value, and mechanical properties, a film made of polyester is particularly preferably used.

例えば、基材フィルムのJIS K7361−1で示される全光線透過率は好ましくは40%以上、より好ましくは60%以上である。また、基材フィルムのヘイズ値は、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下である。これら条件の両方を満たすと、画像表示装置用部材として用いたときに、鮮明性の点でさらに好ましい。また、光線透過率の上限値は99.5%程度まで、またヘイズ値の下限値は0.1%程度までが実用的な範囲である。   For example, the total light transmittance indicated by JIS K7361-1 of the base film is preferably 40% or more, more preferably 60% or more. The haze value of the substrate film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less. Satisfying both of these conditions is more preferable in terms of sharpness when used as a member for an image display device. Further, the upper limit of the light transmittance is about 99.5%, and the lower limit of the haze value is about 0.1%.

本発明で好ましく用いられるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレンナフタレートなどが用いられる。これらの2種以上が混合されたものであってもよい。また、これらと他のジカルボン酸成分やジオール成分が共重合されたポリエステルであってもよいが、その共重合割合は、結晶配向が完了したフィルムにおいて、その結晶化度が好ましくは25%以上、より好ましくは30%以上、さらに好ましくは35%以上となる範囲のものが好ましい。結晶化度が25%未満の場合には、寸法安定性や機械的強度が不十分となりやすい。結晶化度は、株式会社アイピーシー発行「実用分光法シリーズ(3)ラマン分光法」に記載されている方法により測定することができる。   Examples of the polyester preferably used in the present invention include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polypropylene naphthalate. Two or more of these may be mixed. In addition, these may be a polyester copolymerized with other dicarboxylic acid components and diol components, but the copolymerization ratio is preferably 25% or more in the degree of crystallinity in a film in which crystal orientation is completed. More preferred is 30% or more, and still more preferred is 35% or more. When the crystallinity is less than 25%, dimensional stability and mechanical strength tend to be insufficient. The crystallinity can be measured by a method described in “Practical Spectroscopy Series (3) Raman Spectroscopy” issued by IPC Corporation.

上述したポリエステルを使用する場合には、その極限粘度(JIS K7367に従い、25℃のo−クロロフェノール中で測定したもの)は、0.4〜1.2dl/gが好ましく、より好ましくは0.5〜0.8dl/gである。極限粘度が0.4dl/gより小さいと、機械強度が不足して好ましくない。また、極限粘度がこの好適範囲を超えて大きくなっても過剰品質となるばかりか、かえってフィルム製造時の操業性を悪化させ、経済的に好ましくない場合がある。   When the above-described polyester is used, its intrinsic viscosity (measured in o-chlorophenol at 25 ° C. according to JIS K7367) is preferably 0.4 to 1.2 dl / g, more preferably 0.00. 5 to 0.8 dl / g. When the intrinsic viscosity is less than 0.4 dl / g, the mechanical strength is insufficient, which is not preferable. Further, even if the intrinsic viscosity exceeds this preferable range, not only is the quality excessive, but also the operability during film production is deteriorated, which is economically undesirable.

アセテートとしては、トリアセチルセルロース等が、アクリル系樹脂としてはポリメチルメタクリレート等が用いられる。   Triacetyl cellulose or the like is used as the acetate, and polymethyl methacrylate or the like is used as the acrylic resin.

また、本発明で用いられる基材フィルムは、2層以上の積層構造の複合体フィルムであっても良い。複合体フィルムとしては、例えば、内層部に実質的に粒子を含有せず、表層部に粒子を含有させた層を設けた複合体フィルム、内層部に粗大粒子を有し、表層部に微細粒子を含有させた複合体フィルム、および内層部が微細な気泡を含有した層を有する複合体フィルムなどが用いられる。また、上記複合体フィルムは、内層部と表層部を構成するポリマーが、化学的に異種のポリマーであっても同種のポリマーであっても良い。   The base film used in the present invention may be a composite film having a laminated structure of two or more layers. As the composite film, for example, a composite film that is substantially free of particles in the inner layer portion and provided with a layer containing particles in the surface layer portion, has coarse particles in the inner layer portion, and fine particles in the surface layer portion. And a composite film having a layer in which the inner layer portion contains fine bubbles are used. In the composite film, the polymer constituting the inner layer portion and the surface layer portion may be a chemically different polymer or the same kind of polymer.

本発明における基材フィルムは、フィルムの熱安定性、特に寸法安定性や機械的強度を十分なものとし、平面性を良好にする観点から、ハードコート層が設けられた状態では二軸延伸により結晶配向されたフィルムであることが好ましい。二軸延伸により結晶配向しているとは、未延伸すなわち結晶配向が完了する前の熱可塑性樹脂フィルムを長手方向および幅方向にそれぞれ好適には2.5〜5倍程度延伸し、その後、熱処理により結晶配向を完了させたものであり、広角X線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。   The base film in the present invention has sufficient thermal stability of the film, particularly dimensional stability and mechanical strength, and from the viewpoint of improving the flatness, in the state where the hard coat layer is provided, biaxial stretching is performed. A crystal-oriented film is preferred. The crystal orientation by biaxial stretching means that the thermoplastic film before unstretched, that is, before the crystal orientation is completed, is preferably stretched about 2.5 to 5 times in the longitudinal direction and the width direction, respectively, and then heat-treated. The crystal orientation is completed by the above, and it indicates a biaxial orientation pattern by wide-angle X-ray diffraction.

本発明で用いられる基材フィルムの厚みは、本発明のハードコートフィルムが使用される用途に応じて適宜選択されるが、機械的強度やハンドリング性などの点から、好ましくは10〜500μm、より好ましくは20〜300μmである。   The thickness of the base film used in the present invention is appropriately selected according to the use for which the hard coat film of the present invention is used. From the viewpoint of mechanical strength and handling properties, it is preferably 10 to 500 μm, more Preferably it is 20-300 micrometers.

本発明の基材フィルム中には、本発明の効果を阻害しない範囲内で各種の添加剤や樹脂組成物、架橋剤などを含有しても良い。例えば酸化防止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、有機、無機の粒子、顔料、染料、帯電防止剤、核剤、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系樹脂、ワックス組成物、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、メチロール化、アルキロール化された尿素系架橋剤、アクリルアミド、ポリアミド、エポキシ樹脂、イソシアネート化合物、アジリジン化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などを用いることができる。   The base film of the present invention may contain various additives, resin compositions, cross-linking agents and the like within a range that does not impair the effects of the present invention. For example, antioxidants, heat stabilizers, UV absorbers, organic and inorganic particles, pigments, dyes, antistatic agents, nucleating agents, acrylic resins, polyester resins, urethane resins, polyolefin resins, polycarbonate resins, alkyd resins, epoxy resins , Urea resin, phenol resin, silicone resin, rubber resin, wax composition, melamine crosslinking agent, oxazoline crosslinking agent, methylolated, alkylolized urea crosslinking agent, acrylamide, polyamide, epoxy resin, isocyanate compound Aziridine compounds, various silane coupling agents, various titanate coupling agents, and the like can be used.

これらの中でも無機の粒子、例えばシリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、カーボンブラック、ゼオライト、酸化チタン、金属微粉末などを添加した場合には、易滑性、耐傷性などが向上するので特に好ましい。無機粒子の平均粒子径は、0.005〜5μmが好ましく、より好ましくは0.05〜1μm程度である。ここで言う粒子径とは、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定して得られた値である。また、平均粒子径は、50%分布粒子径とする。なお、50%分布粒子径とは粒度分布が50%のところの粒子径を指す。また、無機粒子の添加量は、基材フィルム100質量部中に、好ましくは0.05〜20質量部、より好ましくは0.1〜10質量部であるのがよい。   Among these, when inorganic particles such as silica, colloidal silica, alumina, alumina sol, kaolin, talc, mica, calcium carbonate, barium sulfate, carbon black, zeolite, titanium oxide, metal fine powder, etc. are added, it is easy to slip. This is particularly preferable since the property and scratch resistance are improved. The average particle size of the inorganic particles is preferably 0.005 to 5 μm, more preferably about 0.05 to 1 μm. The particle diameter here is a value obtained by measurement using a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus. The average particle size is 50% distributed particle size. The 50% distribution particle size refers to the particle size where the particle size distribution is 50%. Moreover, the addition amount of the inorganic particles is preferably 0.05 to 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass in 100 parts by mass of the base film.

本発明の基材フィルムは、密着性を向上させる目的で少なくとも片面に易接着層を設けた構成であることが、易接着層上に積層された層との密着性を向上させるために好ましい。かかる易接着層は、1.52〜1.66の屈折率を有するものであることが好ましく、さらには(易接着層の屈折率)={(基材フィルムの屈折率)×(易接着層上に積層された層の屈折率)}1/2±0.02を満たすものであることが、易接着層上に積層した際に発生する干渉縞を低減させることができるので好ましい。かかる易接着層は、易接着層上に積層された層との密着性に優れ、上記屈折率を有するものであれば特に限定されるものではないが、水分散性ポリエステル系樹脂、水分散性ポリウレタン系樹脂が好ましく用いられる。また、かかる易接着層は製膜工程の途中で塗工され、製膜と同時に形成する方法が好ましく用いられ、その厚みは、好ましくは0.08〜0.20μmである。 The base film of the present invention preferably has a configuration in which an easy-adhesion layer is provided on at least one surface for the purpose of improving the adhesion, in order to improve the adhesion with a layer laminated on the easy-adhesion layer. Such an easy-adhesion layer preferably has a refractive index of 1.52 to 1.66, and moreover, (refractive index of the easy-adhesion layer) = {(refractive index of the base film) × (easy-adhesion layer) It is preferable that the refractive index of the layer laminated on the upper layer}} 1/2 ± 0.02 is satisfied because interference fringes generated when laminated on the easy-adhesion layer can be reduced. Such an easy-adhesion layer is not particularly limited as long as it has excellent adhesion to the layer laminated on the easy-adhesion layer and has the above-mentioned refractive index, but is water-dispersible polyester resin, water-dispersibility A polyurethane resin is preferably used. Moreover, this easy-adhesion layer is applied in the middle of a film forming process, and the method of forming simultaneously with film forming is used preferably, The thickness becomes like this. Preferably it is 0.08-0.20 micrometers.

本発明の、下記で定義する反射防止フィルムの表面の耐擦傷性は、好ましくは3級以上、より好ましくは4級以上であるのがよい。すなわち、かかる耐擦傷性を満足することにより、画像表示装置とした場合および工程中において、該フィルム表面に傷が入りにくくしたり、フィルム表面に付着した粉塵などを布で拭き取ったりした際に傷がつきにくくすることができ、画像の鮮明性を維持することができる効果を奏する。ここで、3級以上とは、3級、4級、5級のいずれかであることを意味し、4級以上とは、4級又は5級であることを意味する。   The scratch resistance of the surface of the antireflection film defined below according to the present invention is preferably at least third grade, more preferably at least fourth grade. That is, by satisfying such scratch resistance, when the image display device is used and during the process, the film surface is less likely to be scratched or the dust adhered to the film surface is wiped off with a cloth. It is possible to make it difficult for the image to become sticky, and it is possible to maintain the sharpness of the image. Here, the grade 3 or higher means any of grade 3, grade 4, and grade 5, and the grade 4 or higher means grade 4 or grade 5.

かかる耐擦傷性は、反射防止フィルムの反射防止層側表面を#0000のスチールウールに250gの荷重をかけて、ストローク幅10cm、速度30mm/secで10往復摩擦した後、表面を目視で観察し、傷の付き方を次の5段階で評価したものである。
5級:傷が全く付かない。
4級:傷が1本以上5本以下。
3級:傷が6本以上10本以下。
2級:傷が11本以上。
1級:全面に無数の傷。
The scratch resistance is such that the antireflection film side surface of the antireflection film is subjected to 10 reciprocal frictions at a stroke width of 10 cm and a speed of 30 mm / sec by applying a load of 250 g to # 0000 steel wool, and then the surface is visually observed. The method of scratching is evaluated in the following five stages.
5th grade: No scratches.
Fourth grade: 1 to 5 scratches.
3rd grade: 6 to 10 scratches.
Second grade: 11 or more scratches.
First grade: Countless scratches on the entire surface.

次に、本発明の反射防止フィルムの製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the antireflection film of this invention is demonstrated.

図1は、本発明の反射防止フィルムの好ましい態様の一例を示す模式断面図である。基材フィルム3の上に、A層2とB層1からなる反射防止層6が積層され、さらに基材フィルム3の反射防止層6と反対側の面には近赤外吸収層4、粘着層5が積層されている。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a preferred embodiment of the antireflection film of the present invention. An antireflection layer 6 composed of an A layer 2 and a B layer 1 is laminated on the base film 3, and a near-infrared absorbing layer 4 and an adhesive are provided on the surface of the base film 3 opposite to the antireflection layer 6. Layer 5 is laminated.

A層2、B層1を設ける方法としては、コーティングにより基材フィルム上に直接積層する方法、他の基材に形成した層を転写により基材フィルム上へ積層する方法など、いずれの方法でも差し支えないが、適性膜厚での生産安定性、コストの点からコーティングにより基材フィルム上に直接積層する方法を採用するのが好ましい。   As a method of providing A layer 2 and B layer 1, any method such as a method of directly laminating on a base film by coating, a method of laminating a layer formed on another base material on a base film by transfer, etc. However, from the viewpoint of production stability at an appropriate film thickness and cost, it is preferable to employ a method of directly laminating on a base film by coating.

コーティング方法としては、各種の塗布方法、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法、スプレーコート法などが用いられ、いずれも好適に用いることができるが、B層の形成においては塗工精度の点からリバースコート法、特に小径グラビアロールを用いたリバースコートが好ましい。   As the coating method, various coating methods such as reverse coating method, gravure coating method, rod coating method, bar coating method, die coating method, spray coating method and the like can be used, and any of these can be suitably used. In forming the layer, a reverse coating method, particularly a reverse coating using a small-diameter gravure roll is preferable from the viewpoint of coating accuracy.

また、A層2、B層1を塗布する際、前記成分を溶媒で分散させた塗布液を調整して塗布、乾燥・硬化させることが好ましく、このような溶媒は塗布または印刷作業性を改善するために配合するものであり、樹脂成分を溶解するものであれば、従来から公知の各種有機溶媒を使用することができる。特に、本発明においては、組成物の粘度の安定性、乾燥性の観点から沸点が60〜180℃の有機溶媒が好ましい。かかる有機溶媒としては、具体的には、例えば、メタノールや、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、tert―ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、イソプロピルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセチルアセトン、アセチルアセトン等が好適に用いられる。これらは単一で使用してもよく、2種類以上を混合して用いてもよい。   In addition, when applying the A layer 2 and the B layer 1, it is preferable to prepare a coating solution in which the above components are dispersed in a solvent, and apply, dry and cure. Such a solvent improves coating or printing workability. For this purpose, various known organic solvents can be used as long as they dissolve the resin component. In particular, in the present invention, an organic solvent having a boiling point of 60 to 180 ° C. is preferable from the viewpoints of viscosity stability and drying property of the composition. Specific examples of such organic solvents include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, tert-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono Ethyl ether, cyclohexanone, butyl acetate, isopropyl acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetyl acetone, acetyl acetone and the like are preferably used. These may be used alone or in combination of two or more.

A層2形成に用いられる塗布液を調製する際、有機溶媒の量は、塗布手段や、印刷手段に応じ作業性のよい状態の粘度に組成物がなるように任意の量配合すればよいが、通常組成物の固形分濃度が60質量%以下、好ましくは、50質量%以下になる程度が適当である。本発明の光硬化性膜形成用組成物の調製としては、任意の方法が採用可能であるが、通常樹脂成分を有機溶媒で溶解させた溶液中に導電性粒子を添加し、ペイントシェーカーや、ボールミル、サンドミル、三本ロール、アトライター、ホモミキサー等の分散機により分散させ、しかる後、光重合開始剤を添加し、均一に溶解させる方法が適当である。さらに、前記シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物などの添加剤を加える場合、塗布直前に加えることが好ましい。   When preparing the coating solution used for forming the A layer 2, the amount of the organic solvent may be blended in an arbitrary amount so that the composition has a viscosity with good workability according to the coating means and the printing means. In general, it is appropriate that the solid content concentration of the composition is 60% by mass or less, preferably 50% by mass or less. As the preparation of the composition for forming a photocurable film of the present invention, any method can be adopted, but conductive particles are usually added to a solution in which a resin component is dissolved in an organic solvent, a paint shaker, A method of dispersing by a dispersing machine such as a ball mill, sand mill, three rolls, attritor, homomixer, etc., and then adding a photopolymerization initiator and dissolving it uniformly is suitable. Further, when an additive such as a condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) is added, it is preferably added immediately before coating.

本発明におけるA層2の主成分として活性線硬化型のアクリル系樹脂を用いた場合、その活性線としては、紫外線、電子線および放射線(α線、β線、γ線など)などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が用いられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。   When an active ray curable acrylic resin is used as the main component of the A layer 2 in the present invention, the active ray is an acrylic ray such as ultraviolet ray, electron beam and radiation (α ray, β ray, γ ray, etc.). An electromagnetic wave for polymerizing vinyl groups is used, and practically, ultraviolet rays are simple and preferable. As the ultraviolet ray source, an ultraviolet fluorescent lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used. Moreover, when irradiating actinic radiation, if it irradiates under a low oxygen concentration, it can harden | cure efficiently.

本発明のB層1形成に用いられる塗布液は、前記シロキサンポリマーを主成分とし、硬化剤などを加えて溶媒で希釈することが好ましく、溶剤の含有量はシロキサンポリマー合成時使用される全シラン化合物含量に対して、1300質量%〜9900質量%の範囲で添加することが好ましく、特に好ましくは、1500質量%〜6000質量%の範囲である。1300質量%を下回る及び、9900質量%を越えると、所定の膜厚の透明被膜を形成することが困難となる。   The coating solution used for forming the B layer 1 of the present invention is preferably composed mainly of the siloxane polymer, diluted with a solvent by adding a curing agent or the like, and the content of the solvent is the total silane used during the synthesis of the siloxane polymer. It is preferable to add in the range of 1300 mass% to 9900 mass% with respect to the compound content, and particularly preferably in the range of 1500 mass% to 6000 mass%. If the amount is less than 1300% by mass and exceeds 9900% by mass, it becomes difficult to form a transparent film having a predetermined film thickness.

硬化剤としては、チタニウム系、ジルコニウム系、アルミニウム系および、マグネシウム系が用いられる。これらの中、低屈屈折率化の目的には、屈折率の低いアルミニウム系および、マグネシウム系の硬化剤が好ましい。これらの硬化剤は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン;アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。   As the curing agent, titanium, zirconium, aluminum and magnesium are used. Among these, for the purpose of lowering the refractive index, aluminum-based and magnesium-based curing agents having a low refractive index are preferable. These curing agents can be easily obtained by reacting a metal alkoxide with a chelating agent. Examples of chelating agents include β-diketones such as acetylacetone, benzoylacetone, and dibenzoylmethane; β-keto acid esters such as ethyl acetoacetate and ethyl benzoylacetate.

金属基キレート化合物の好ましい具体的な例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノソプロピレート、マグネシウムビス(アセチルアセトネート)等のマグネシウムキレート化合物が用いられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、マグネシウムビス(アセチルアセトネート)、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)であり、保存安定性、入手容易さを考慮すると、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)が、特に好ましい。添加される金属キレート化合物の導入量は、のシロキサンポリマー合成時使用される全シラン化合物含量に対して、好ましくは0.1質量%〜10質量%であり、特に好ましくは、1質量%〜6質量%である。導入量が、0.1質量%を下回ると、硬化が不十分となり、透明被膜とした場合、硬度が低下する。一方、10質量%を越えると、硬化が十分となり、透明被膜の硬度は向上するが、屈折率の向上も見られ、好ましくない。   Preferable specific examples of the metal group chelate compound include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetylacetate bis (ethyl acetoacetate), aluminum tris Aluminum chelate compounds such as (acetylacetonate), magnesium chelate compounds such as ethylacetoacetate magnesium monoisopropylate, magnesium bis (ethylacetoacetate), alkylacetoacetate magnesium monosopropylate, magnesium bis (acetylacetonate) It is done. Of these, aluminum tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethyl acetoacetate), magnesium bis (acetylacetonate), and magnesium bis (ethyl acetoacetate) are preferable, considering storage stability and availability. Then, aluminum tris (acetylacetonate) and aluminum tris (ethylacetoacetate) are particularly preferable. The amount of the metal chelate compound to be added is preferably 0.1% by mass to 10% by mass, particularly preferably 1% by mass to 6% by mass with respect to the total silane compound content used in the synthesis of the siloxane polymer. % By mass. When the amount introduced is less than 0.1% by mass, curing becomes insufficient, and when a transparent film is formed, the hardness decreases. On the other hand, when it exceeds 10% by mass, the curing becomes sufficient and the hardness of the transparent film is improved, but the refractive index is also improved, which is not preferable.

本発明の反射防止フィルムには、基材フィルムの反射防止層6を有する面の反対面に近赤外線吸収層4を設けることができる。近赤外線吸収層としては、近赤外線吸収色素を高分子樹脂中に分散させたもの、近赤外線吸収色素を単独で設けたものなど特に限定されず使用することが出来る。   The near-infrared absorption layer 4 can be provided in the antireflection film of this invention on the surface opposite to the surface which has the antireflection layer 6 of a base film. The near-infrared absorbing layer can be used without any particular limitation, such as those obtained by dispersing a near-infrared absorbing dye in a polymer resin, or provided with a near-infrared absorbing dye alone.

近赤外線吸収色素としては、例えば、ジイモニウム塩系化合物、含フッ素フタロシアニン系化合物、チオニッケル錯体系化合物、アミニウム系化合物、シアニン系化合物、アゾ系化合物、ポリメチン系化合物、キノン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリフェニルメタン系化合物、メルカプトナフトール系化合物などが用いられ、単独または混合系のいずれも好適に使用できる。   As the near infrared absorbing dye, for example, a diimonium salt compound, a fluorine-containing phthalocyanine compound, a thionickel complex compound, an aminium compound, a cyanine compound, an azo compound, a polymethine compound, a quinone compound, a diphenylmethane compound, A triphenylmethane compound, a mercaptonaphthol compound, or the like is used, and either a single compound system or a mixed system can be suitably used.

近赤外線吸収色素を高分子樹脂中に分散させた場合、高分子樹脂としては、例えば、ポリエステル系、アクリル系、セルロース系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリカーボネート、フェノール系、ウレタン系樹脂などが用いられ、いずれも好適に使用でき、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系などの紫外線吸収剤を含有することが、近赤外線吸収色素の耐光性劣化を抑制するために好ましい。また、高分子樹脂100質量部に対し、1〜10質量部の近赤外線吸収色素を分散させることが好ましい。   When the near-infrared absorbing dye is dispersed in a polymer resin, examples of the polymer resin include polyester-based, acrylic-based, cellulose-based, polyethylene-based, polypropylene-based, polyolefin-based, polyvinyl chloride-based, polycarbonate, and phenol-based resins. Urethane resins and the like are used, and any of them can be suitably used, and it is preferable to contain an ultraviolet absorber such as benzophenone or benzotriazole in order to suppress the deterioration of light resistance of the near infrared absorbing dye. Moreover, it is preferable to disperse | distribute 1-10 mass parts near-infrared absorption pigment | dye with respect to 100 mass parts of polymeric resins.

本発明の反射防止フィルムには、基材フィルムの反射防止層6を有する面の反対面に粘着層5を設けることができる。粘着層5としては、2つの物体をその粘着作用により接着させるものであれば特に限定されない。粘着層5を形成する粘着剤としては、ゴム系、ビニル重合系、縮合重合系、熱硬化性樹脂系、シリコーン系などを用いることができる。この中で、ゴム系の粘着剤としては、ブタジエン−スチレン共重合体系(SBR)、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体系(NBR)、クロロプレン重合体系、イソブチレン−イソプレン共重合体系(ブチルゴム)などを用いることができる。ビニル重合系の粘着剤としては、アクリル樹脂系、スチレン樹脂系、酢酸ビニル−エチレン共重合体系、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系などを用いることができる。縮合重合系の粘着剤としては、ポリエステル樹脂系を用いることができる。熱硬化樹脂系の粘着剤としては、エポキシ樹脂系、ウレタン樹脂系、ホルマリン樹脂系などを用いることができる。これらの樹脂は単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用しても良い。   In the antireflection film of the present invention, an adhesive layer 5 can be provided on the opposite surface of the base film having the antireflection layer 6. The pressure-sensitive adhesive layer 5 is not particularly limited as long as two objects are bonded by their pressure-sensitive adhesive action. As the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer 5, rubber-based, vinyl polymerization-based, condensation polymerization-based, thermosetting resin-based, silicone-based, and the like can be used. Among these, as the rubber-based adhesive, a butadiene-styrene copolymer system (SBR), a butadiene-acrylonitrile copolymer system (NBR), a chloroprene polymer system, an isobutylene-isoprene copolymer system (butyl rubber), or the like may be used. it can. As the vinyl polymerization adhesive, acrylic resin, styrene resin, vinyl acetate-ethylene copolymer system, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer system, and the like can be used. As the condensation polymerization pressure-sensitive adhesive, a polyester resin system can be used. As the thermosetting resin-based pressure-sensitive adhesive, an epoxy resin system, a urethane resin system, a formalin resin system, or the like can be used. These resins may be used alone or in combination of two or more.

さらに、粘着剤は、溶剤型粘着剤と無溶剤型粘着剤のいずれでも使用することができる。粘着層5の形成は、上記のような粘着剤を用いて、塗布等通常行なわれている技術を用いて実施される。さらに、粘着層5に着色剤を含有させても良い。これは、粘着剤に、例えば、顔料や染料などの着色剤を混合して用いることによって容易に達成される。着色剤を含有している場合、積層フィルムとして550nmでの光線透過率が40〜80%の範囲内であることが望ましい。   Furthermore, as the pressure-sensitive adhesive, either a solvent-type pressure-sensitive adhesive or a solventless pressure-sensitive adhesive can be used. The pressure-sensitive adhesive layer 5 is formed using a conventional technique such as coating using the pressure-sensitive adhesive as described above. Furthermore, you may make the adhesion layer 5 contain a coloring agent. This is easily achieved by mixing and using a colorant such as a pigment or dye in the adhesive. When it contains a colorant, it is desirable that the light transmittance at 550 nm is in the range of 40 to 80% as a laminated film.

本発明の反射防止フィルムは、表面硬度が高く、耐擦過性を有しているため、広範な用途に使用することができる。例えば、メンブレンスイッチ、カーブミラー、バックミラー、ゴーグル、窓ガラス、ポスター、広告塔、銘板や計器のカバー、その他種々の商業ディスプレイ等の表面に適用することもできる。特に、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極線管表示装置(CRT)、ポータブルデジタルアシスタント(PDA)などの画像表示部材について、粘着層または接着剤層を介して、画像表示面および/またはその前面板の表面に貼着して画像表示装置とすることができる。   Since the antireflection film of the present invention has high surface hardness and scratch resistance, it can be used in a wide range of applications. For example, it can be applied to the surface of membrane switches, curved mirrors, rearview mirrors, goggles, window glass, posters, advertising towers, nameplates and instrument covers, and other various commercial displays. Especially for image display members such as liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), electroluminescence display (ELD), cathode ray tube display (CRT), portable digital assistant (PDA), adhesive layer or adhesive layer The image display device can be attached to the surface of the image display surface and / or the front plate thereof via the.

[特性の測定方法および効果の評価方法]
本発明における特性の測定方法および効果の評価方法は、次のとおり定義する。
[Characteristic measurement method and effect evaluation method]
The characteristic measurement method and effect evaluation method in the present invention are defined as follows.

(1)耐擦傷性;スチールウール硬度評価
耐擦傷性は、反射防止フィルムの反射防止面を#0000のスチールウールに250gの荷重をかけて、ストローク幅10cm、速度30mm/secで10往復摩擦した後、表面を目視で観察し、傷の付き方を次の5段階で評価した。
5級:傷が全く付かない
4級:傷が1本以上5本以下
3級:傷が6本以上10本以下
2級:傷が11本以上
1級:全面に無数の傷
画像表示装置用として使用する場合、3級、4級、5級のいずれかであれば合格レベルである。
(1) Scratch resistance: Steel wool hardness evaluation Scratch resistance was rubbed 10 times at a stroke width of 10 cm and a speed of 30 mm / sec by applying a load of 250 g to # 0000 steel wool on the antireflection surface of the antireflection film. Then, the surface was observed visually and how to get a damage | wound was evaluated in the following five steps.
5th grade: No scratches 4th grade: 1 to 5 scratches 3rd grade: 6 to 10 scratches 2nd grade: 11 to 11 scratches 1st grade: Countless scratches on the entire surface For image display devices If it is used as a grade 3, grade 4, grade 5, or grade 5 is acceptable.

(2)全光線透過率およびヘイズ測定
JIS K 7105に基づき、日本電色工業(株)製濁度計NDH 2000を用いて測定を行った。全光線透過率は85%以上、ヘイズ値は1.5%以下であることが望ましい。
(2) Total light transmittance and haze measurement Based on JISK7105, it measured using Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. turbidimeter NDH2000. It is desirable that the total light transmittance is 85% or more and the haze value is 1.5% or less.

(3)表面抵抗率(帯電防止性)評価
反射防止フィルムを100mm×100mmの正方形にサンプリングし、JIS K6911に示される方法で前処理し、三菱油化(株)製のHIRESTA UP(MCP−HT450:JIS K6911準拠)を用いて表面抵抗率の測定を行なった。
画像表示装置用として使用する場合、十分な帯電防止性を示すには1×1011Ω/□以下が合格レベルである。
(3) Evaluation of surface resistivity (antistatic property) The antireflection film was sampled into a square of 100 mm × 100 mm, pretreated by the method shown in JIS K6911, and HIRESTA UP (MCP-HT450) manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd. : According to JIS K6911), the surface resistivity was measured.
When used for an image display device, 1 × 10 11 Ω / □ or less is a pass level to show sufficient antistatic properties.

(4)反射率測定
測定面(反射防止層を設けた側の面)の反対側表面を60℃光沢度(JIS Z 8741)が10以下になるように320〜400番の耐水サンドペーパーで均一に粗面化した後、可視光線透過率が5%以下となるように黒色塗料を塗布して着色した。測定面を島津製作所製の分光光度計(UV−3150)にて、測定面から5度の入射角で、波長領域380nm〜800nmにおける絶対反射スペクトルを測定し、波長400nmおよび700nmでの反射率および400nm〜700nmの領域での最低の反射率を求めた。なお、測定した反射スペクトルにうねりのある場合は、うねりの山(極大点)と谷(極小点)の中間地点を結んでいった曲線からそれぞれの反射率を求めた。最小反射率は値が低いほど反射防止機能が高く良好であり、1.1%以下が好ましい。最大反射率(通常、最低波長での反射率が最大反射率となることが多い)と最小反射率の差が小さいほど反射色が特定の色調を帯びることなくニュートラルな色目となり良好であり、反射率差が1.6%以下であることが好ましい。
(4) Reflectance measurement The surface opposite to the measurement surface (the surface on which the antireflection layer is provided) is uniform with 320-400 water-resistant sandpaper so that the 60 ° C. gloss (JIS Z 8741) is 10 or less. After roughening, the black paint was applied and colored so that the visible light transmittance was 5% or less. Using a spectrophotometer (UV-3150) manufactured by Shimadzu Corporation, the absolute reflection spectrum in the wavelength region of 380 nm to 800 nm was measured at an incident angle of 5 degrees from the measurement surface, and the reflectance at wavelengths of 400 nm and 700 nm The minimum reflectance in the region of 400 nm to 700 nm was determined. When the measured reflection spectrum has undulations, the respective reflectances were obtained from curves connecting intermediate points between undulation peaks (maximum points) and valleys (minimum points). The lower the minimum reflectance, the higher the antireflection function and the better, and 1.1% or less is preferable. The smaller the difference between the maximum reflectivity (usually the reflectivity at the minimum wavelength is often the maximum reflectivity) and the minimum reflectivity, the reflected color will be neutral without any specific color tone, and the better the reflection. The rate difference is preferably 1.6% or less.

(5)屈折率測定
シリコンウエハー上にスピンコーターにて形成された塗膜について、25℃の温度条件下で位相差測定装置(ニコン(株)製:NPDM−1000)で633nmの屈折率を測定した。
(5) Refractive index measurement About the coating film formed with the spin coater on the silicon wafer, the refractive index of 633 nm was measured with the phase difference measuring apparatus (Nikon Corporation make: NPDM-1000) on 25 degreeC temperature conditions. did.

次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。   Next, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not necessarily limited to these.

(B層塗料−1の調製)
一次粒子径50nmの外殻を有する多孔質シリカ粒子144質量部、イソプロピルアルコール560質量部からなるシリカスラリーを準備し、メチルトリメトキシシラン219質量部、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン158質量部、上述シリカスラリー704質量部、ポリプロピレングリコールモノエチルエーテル713質量部を攪拌混合し、燐酸1質量部と水130質量部を配合して、30℃±10℃で攪拌しながら60分加水分解し、さらに温度を80℃±5℃に上げて60分攪拌しながら重合し、シリカ粒子含有ポリマーを得た。
(Preparation of layer B paint-1)
A silica slurry comprising 144 parts by mass of porous silica particles having an outer shell with a primary particle diameter of 50 nm and 560 parts by mass of isopropyl alcohol was prepared, 219 parts by mass of methyltrimethoxysilane, and 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane 158 parts by mass, 704 parts by mass of the above silica slurry, and 713 parts by mass of polypropylene glycol monoethyl ether are mixed and mixed with 1 part by mass of phosphoric acid and 130 parts by mass of water. The polymer was decomposed and polymerized while stirring at 60 ° C. ± 5 ° C. for 60 minutes to obtain a silica particle-containing polymer.

次に、このシリカ粒子含有ポリマー1200質量部、イソプロピルアルコール5244質量部を攪拌混合した後、硬化触媒としてアセトキシアルミニウムを15質量部添加して再度攪拌混合し、屈折率1.35の塗料を調整した。   Next, 1200 parts by mass of this silica particle-containing polymer and 5244 parts by mass of isopropyl alcohol were stirred and mixed, then 15 parts by mass of acetoxyaluminum as a curing catalyst was added and stirred again to prepare a paint having a refractive index of 1.35. .

(B層塗料−2の調製)
イソプロピルアルコールに分散された粒子径12nmの内部に空洞を有しないシリカ系微粒子のゾル(商品名 IPA−ST、日産化学工業(株)製、固形分濃度30質量%)483質量部を、一次粒子径50nmの外殻を有する多孔質シリカ粒子144質量部、イソプロピルアルコール560質量部からなるシリカスラリーに変えて使用する事以外は、前記B層塗料−1の調製と同様の方法でシリカ粒子含有ポリマーを得た。
(Preparation of layer B paint-2)
483 parts by mass of a sol of silica-based fine particles dispersed in isopropyl alcohol having a particle diameter of 12 nm and having no voids (trade name: IPA-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content concentration: 30% by mass) A silica particle-containing polymer is prepared in the same manner as in the preparation of the layer B paint-1, except that the silica slurry is composed of 144 parts by mass of porous silica particles having an outer shell with a diameter of 50 nm and 560 parts by mass of isopropyl alcohol. Got.

次に、このシリカ粒子含有ポリマー1200質量部、イソプロピルアルコール5466質量部を攪拌混合した後、硬化触媒としてアセトキシアルミニウムを15質量部添加して再度攪拌混合し、屈折率1.38の塗料を調整した。   Next, after 1200 parts by mass of this silica particle-containing polymer and 5466 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed with stirring, 15 parts by mass of acetoxyaluminum was added as a curing catalyst and mixed again with stirring to prepare a paint having a refractive index of 1.38. .

(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)
シロキサン化合物(1)としてメチルトリメトキシシラン326.9g、シロキサン化合物(2)として3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン93.7g(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)のモル比=6:1)、メタノール179.4gを攪拌混合し、0℃±5℃で蟻酸と水の混合物(蟻酸3.35gと水100.9g:配合済み)を15分かけて滴下し、さらに30分間0℃±5℃で攪拌して加水分解した後、熱媒温度を90℃±5℃に上げて(溶媒還流状態)180分攪拌しながら重合した。さらに40℃まで冷却後、40℃で溶媒・水を減圧状態で留去(3時間)して重合度を上げ、動粘度が150mm/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of Condensate Compound-1 Consisting of Siloxane Compound (1) and Siloxane Compound (2))
326.9 g of methyltrimethoxysilane as the siloxane compound (1) and 93.7 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane as the siloxane compound (2) (molar ratio of siloxane compound (1) to siloxane compound (2) = 6: 1 ), 179.4 g of methanol were mixed with stirring, and a mixture of formic acid and water (3.35 g of formic acid and 100.9 g of water: blended) was added dropwise over 15 minutes at 0 ° C. ± 5 ° C., and further at 0 ° C. ± 30 minutes. After hydrolysis by stirring at 5 ° C., the temperature of the heating medium was raised to 90 ° C. ± 5 ° C. (solvent reflux state), and polymerization was carried out with stirring for 180 minutes. Further, after cooling to 40 ° C., the solvent / water was distilled off at 40 ° C. under reduced pressure (3 hours) to increase the degree of polymerization to obtain a condensate compound having a kinematic viscosity of 150 mm 2 / s (25 ° C.).

(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−2の調製)
シロキサン化合物(1)としてトリフルオロメチルトリメトキシシラン456.5gを用いること(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)のモル比=6:1)以外は、上記の(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)と同様の方法で合成し、動粘度が110mm/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of condensate compound-2 comprising siloxane compound (1) and siloxane compound (2))
Except for using 456.5 g of trifluoromethyltrimethoxysilane as the siloxane compound (1) (the molar ratio of the siloxane compound (1) to the siloxane compound (2) = 6: 1), the above (siloxane compound (1) and Preparation of condensate compound-1 comprising siloxane compound (2)) was performed in the same manner as above to obtain a condensate compound having a kinematic viscosity of 110 mm 2 / s (25 ° C.).

(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−3の調製)
シロキサン化合物(1)としてメチルトリメトキシシラン163.5gとジメチルジメトキシシラン144.3gを用いること(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)のモル比=6:1)以外は、上記の(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)と同様の方法で合成し、動粘度が120mm/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of condensate compound-3 comprising siloxane compound (1) and siloxane compound (2))
Except for using 163.5 g of methyltrimethoxysilane and 144.3 g of dimethyldimethoxysilane as the siloxane compound (1) (molar ratio of siloxane compound (1) to siloxane compound (2) = 6: 1), the above (siloxane Preparation of condensate compound-1 comprising compound (1) and siloxane compound (2)) was carried out in the same manner as above to obtain a condensate compound having a kinematic viscosity of 120 mm 2 / s (25 ° C.).

(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−4の調製)
シロキサン化合物(2)として3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを99.4gを用いること(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)のモル比=6:1)以外は、上記の(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)と同様の方法で合成し、動粘度が145mm/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of Condensate Compound-4 Consisting of Siloxane Compound (1) and Siloxane Compound (2))
Except for using 99.4 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane as the siloxane compound (2) (molar ratio of siloxane compound (1) to siloxane compound (2) = 6: 1), the above (siloxane compound ( 1) and a condensate compound having a kinematic viscosity of 145 mm 2 / s (25 ° C.) was synthesized in the same manner as in Preparation of condensate compound-1 comprising siloxane compound (2).

(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−5の調製)
シロキサン化合物(1)としてメチルトリメトキシシラン163.5g、シロキサン化合物(2)として3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン93.7g(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)のモル比=3:1)、メタノール102.5g、蟻酸1.91gと水57.7gを用いる以外は上記の(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)と同様の方法で合成し、動粘度が135m/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of Condensate Compound-5 Consisting of Siloxane Compound (1) and Siloxane Compound (2))
163.5 g of methyltrimethoxysilane as siloxane compound (1), 93.7 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane as siloxane compound (2) (molar ratio of siloxane compound (1) to siloxane compound (2) = 3: 1 ), Synthesized in the same manner as (Preparation of condensate compound-1 consisting of siloxane compound (1) and siloxane compound (2)) except that 102.5 g of methanol, 1.91 g of formic acid and 57.7 g of water were used. Thus, a condensate compound having a kinematic viscosity of 135 m 2 / s (25 ° C.) was obtained.

(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−6の調製)
シロキサン化合物(1)としてメチルトリメトキシシラン653.9g、シロキサン化合物(2)として3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン93.7g(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)のモル比=12:1)、メタノール333.2g、蟻酸6.22gと水187.4gを用いる以外は上記の(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)と同様の方法で合成し、動粘度が160m/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of Condensate Compound-6 Composed of Siloxane Compound (1) and Siloxane Compound (2))
653.9 g of methyltrimethoxysilane as siloxane compound (1), 93.7 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane as siloxane compound (2) (molar ratio of siloxane compound (1) and siloxane compound (2) = 12: 1 ), Methanol (333.2 g), formic acid (6.22 g) and water (187.4 g), except that synthesis is carried out in the same manner as above (preparation of condensate compound-1 consisting of siloxane compound (1) and siloxane compound (2)) and a kinematic viscosity was obtained condensate compound of 160m 2 / s (25 ℃) .

(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−7の調製)
シロキサン化合物(1)としてメチルトリメトキシシラン326.9g、シロキサン化合物(2)として3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン93.7g(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)のモル比=6:1)、イソプロパノール168.3gを攪拌混合し、0℃±5℃で蟻酸と水の混合物(蟻酸3.35gと水100.9g:配合済み)を15分かけて滴下し、さらに30分間0℃±5℃で攪拌して加水分解した後、熱媒温度を100℃±5℃に上げて(溶媒還流状態)90分攪拌しながら重合した。さらに30℃まで冷却後、30℃で溶媒・水を減圧状態で留去(20分間)した。動粘度が35mm/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of Condensate Compound-7 Consisting of Siloxane Compound (1) and Siloxane Compound (2))
326.9 g of methyltrimethoxysilane as the siloxane compound (1) and 93.7 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane as the siloxane compound (2) (molar ratio of siloxane compound (1) to siloxane compound (2) = 6: 1 ), 168.3 g of isopropanol were mixed with stirring, and a mixture of formic acid and water (3.35 g of formic acid and 100.9 g of water: blended) was added dropwise over 15 minutes at 0 ° C. ± 5 ° C., and further at 0 ° C. ± 30 minutes. After hydrolysis by stirring at 5 ° C., the temperature of the heating medium was raised to 100 ° C. ± 5 ° C. (solvent reflux state), and polymerization was performed with stirring for 90 minutes. After further cooling to 30 ° C., the solvent and water were distilled off at 30 ° C. under reduced pressure (20 minutes). A condensate compound having a kinematic viscosity of 35 mm 2 / s (25 ° C.) was obtained.

(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−8の調製)
シロキサン化合物(1)としてメチルトリメトキシシラン54.5g、シロキサン化合物(2)として3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン93.7g(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)のモル比=1:1)、メタノール51.3g、蟻酸0.96g、水28.8gを用いる以外は上記の(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)と同様の方法で合成し、動粘度が45m/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of Condensate Compound-8 Consisting of Siloxane Compound (1) and Siloxane Compound (2))
54.5 g of methyltrimethoxysilane as the siloxane compound (1) and 93.7 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane as the siloxane compound (2) (molar ratio of siloxane compound (1) to siloxane compound (2) = 1: 1) ), Methanol 51.3 g, formic acid 0.96 g, and water 28.8 g were used and synthesized in the same manner as described above (Preparation of condensate compound-1 consisting of siloxane compound (1) and siloxane compound (2)). Thus, a condensate compound having a kinematic viscosity of 45 m 2 / s (25 ° C.) was obtained.

(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−9の調製)
シロキサン化合物(1)としてメチルトリメトキシシラン54.5g、シロキサン化合物(2)として3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン93.7g(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)のモル比=1:1)、メタノール51.3g、蟻酸0.96g、水28.8gを用い、熱媒温度90℃±5℃(溶媒還流状態)での攪拌時間を300分とすること以外は上記の(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)と同様の方法で合成し、動粘度が110m/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of Condensate Compound-9 Composed of Siloxane Compound (1) and Siloxane Compound (2))
54.5 g of methyltrimethoxysilane as the siloxane compound (1) and 93.7 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane as the siloxane compound (2) (molar ratio of siloxane compound (1) to siloxane compound (2) = 1: 1) ), Methanol (51.3 g), formic acid (0.96 g), and water (28.8 g), except that the stirring time at a heating medium temperature of 90 ° C. ± 5 ° C. (solvent reflux state) is 300 minutes. 1) and a condensate compound having a kinematic viscosity of 110 m 2 / s (25 ° C.) was synthesized in the same manner as in Preparation of condensate compound-1 comprising siloxane compound (2).

(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−10の調製)
シロキサン化合物(1)としてメチルトリメトキシシラン27.2g、シロキサン化合物(2)として3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン93.7g(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)のモル比=0.5:1)、メタノール51.3g、蟻酸0.96g、水28.8gを用いる以外は上記の(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)と同様の方法で合成し、動粘度が40m/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of Condensate Compound-10 Consisting of Siloxane Compound (1) and Siloxane Compound (2))
27.2 g of methyltrimethoxysilane as the siloxane compound (1) and 93.7 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane as the siloxane compound (2) (molar ratio of siloxane compound (1) to siloxane compound (2) = 0.5 1), the same method as the above (preparation of condensate compound-1 comprising siloxane compound (1) and siloxane compound (2)) except that 51.3 g of methanol, 0.96 g of formic acid and 28.8 g of water are used. And a condensate compound having a kinematic viscosity of 40 m 2 / s (25 ° C.) was obtained.

(他のシロキサン化合物からなる縮合体化合物−1の調製)
シロキサン化合物(2)の代わりに他のシロキサン化合物である3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン94.5g(シロキサン化合物(1)と3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのモル比=6:1)、を用いる以外は上記の(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)と同様の方法で合成し、動粘度が140m/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of Condensate Compound-1 Consisting of Other Siloxane Compound)
94.5 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane which is another siloxane compound instead of the siloxane compound (2) (molar ratio of siloxane compound (1) and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane = 6: 1) Is synthesized in the same manner as in the above (Preparation of condensate compound-1 comprising siloxane compound (1) and siloxane compound (2)), and the kinematic viscosity is 140 m 2 / s (25 ° C.). Body compound was obtained.

(他のシロキサン化合物からなる縮合体化合物−2の調製)
シロキサン化合物(1)を用いず、シロキサン化合物(2)として3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン656.1g、メタノール179.4g、蟻酸3.35g、水100.9gを使用すること以外は上記の(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)と同様の方法で合成し、動粘度が90mm/s(25℃)の縮合体化合物を得た。
(Preparation of condensate compound-2 comprising other siloxane compounds)
Other than using siloxane compound (1) without using siloxane compound (2), 656.1 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 179.4 g of methanol, 3.35 g of formic acid, and 100.9 g of water ( Preparation of condensate compound-1 comprising siloxane compound (1) and siloxane compound (2)) was carried out in the same manner as above to obtain a condensate compound having a kinematic viscosity of 90 mm 2 / s (25 ° C.).

(実施例1)
市販の光学用易接着ポリエステルフィルム(東レ製 ルミラー(登録商標)QT63、厚み100μm)の易接着面に、平均粒径約10nmのアンチモン含有酸化錫微粒子25質量%および多官能アクリレートを含む塗料(大日精化(株)製 セイカビーム PET―HC15NS(AS−41):屈折率1.53、固形分濃度30質量%)と前記(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)で得られた縮合体化合物を質量比163.4:1で混合(A層に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が2質量%)し、攪拌した塗布液を小径グラビアコーターで塗工し、90℃で乾燥後、紫外線400mJ/cmを照射して硬化させ、厚み約3μmのA層を設けた。次に、このA層上に、前記(B層塗料−1の調整)で調整した塗料を小径グラビアコーターで塗工し、130℃で乾燥、硬化して、厚さ約0.1μmのB層を設けて反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
Example 1
A paint containing 25% by mass of antimony-containing tin oxide fine particles having an average particle diameter of about 10 nm and a polyfunctional acrylate on the easy-adhesion surface of a commercially available optically-adhesive polyester film (Lumirror (registered trademark) QT63, manufactured by Toray Industries, Inc., 100 μm thick) (large Seika Beam PET-HC15NS (AS-41) manufactured by Nissei Kasei Co., Ltd .: Condensate compound-1 consisting of a refractive index of 1.53 and a solid content concentration of 30% by mass and the above (siloxane compound (1) and siloxane compound (2)) The condensate compound obtained in (Preparation) was mixed at a mass ratio of 163.4: 1 (condensate compound consisting of siloxane compound (1) and siloxane compound (2) contained in layer A was 2% by mass) and stirred. and coating the coating liquid in a small-diameter gravure coater was, after drying at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays 400 mJ / cm 2, provided the a layer having a thickness of about 3μm . Next, on this A layer, the paint prepared in the above (adjustment of B layer paint-1) is applied with a small-diameter gravure coater, dried and cured at 130 ° C., and a B layer having a thickness of about 0.1 μm. An antireflection film was produced. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、表面抵抗率、耐擦傷性、ヘイズ、波長400〜700nmにおける最低反射率、反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示し、干渉ムラなども非常に少なく表面外観上も非常に良好であった上、反射色の色調もニュートラルなものが得られた。   As is apparent from Table 2, the surface resistivity, scratch resistance, haze, minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm, reflectance difference, and total light transmittance are very good values, and interference unevenness is also very high. The surface appearance was very good with little, and the color of the reflected color was neutral.

(実施例2)
A層に関して、A層中に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が、(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−2の調製)で得られたものを使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 2)
Regarding the A layer, the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) contained in the A layer is (preparation of condensate compound-2 composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2)). An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the product obtained in 1 was used. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、表面抵抗率、ヘイズ、波長400〜700nmにおける最低反射率、反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示し、耐擦傷性も合格レベルに達した。反射色の色調もニュートラルな上、干渉ムラなどが極めて少なく表面外観上も極めて良好であった。   As is apparent from Table 2, the surface resistivity, haze, minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm, difference in reflectance, and total light transmittance all showed very good values, and the scratch resistance also reached a pass level. The color of the reflected color was neutral, and the surface appearance was very good with very little interference unevenness.

(実施例3)
A層に関して、A層中に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が、(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−3の調製)で得られたものを使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 3)
Regarding the A layer, the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) contained in the A layer is (preparation of condensate compound-3 composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2)). An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the product obtained in 1 was used. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、表面抵抗率、ヘイズ、波長400〜700nmにおける最低反射率、反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示し、耐擦傷性も合格レベルに達した。反射色の色調もニュートラルな上、干渉ムラなどが非常に少なく表面外観上も非常に良好であった。   As is apparent from Table 2, the surface resistivity, haze, minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm, difference in reflectance, and total light transmittance all showed very good values, and the scratch resistance also reached a pass level. The color of the reflected color was neutral, and the surface appearance was very good with very little interference unevenness.

(実施例4)
A層に関して、A層中に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が、(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−4の調製)で得られたものを使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
Example 4
Regarding the A layer, the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) contained in the A layer is (preparation of condensate compound-4 composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2)). An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the product obtained in 1 was used. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、表面抵抗率、ヘイズ、波長400〜700nmにおける最低反射率、反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示し、耐擦傷性も合格レベルに達した。反射色の色調もニュートラルな上、干渉ムラなどが非常に少なく表面外観上も非常に良好であった。   As is apparent from Table 2, the surface resistivity, haze, minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm, difference in reflectance, and total light transmittance all showed very good values, and the scratch resistance also reached a pass level. The color of the reflected color was neutral, and the surface appearance was very good with very little interference unevenness.

(実施例5)
A層に関して、A層中に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が、(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−5の調製)で得られたものを使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 5)
Regarding the A layer, the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) contained in the A layer is (preparation of condensate compound-5 composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2)). An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the product obtained in 1 was used. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、ヘイズ、波長400〜700nmにおける最低反射率、反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示し、表面抵抗率もかなり良好な水準に達し、耐擦傷性も合格レベルに達した。反射色の色調もニュートラルな上、干渉ムラなどが少なく表面外観上も良好であった。   As is apparent from Table 2, haze, minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm, difference in reflectance, and total light transmittance are very good values, the surface resistivity reaches a fairly good level, and scratch resistance Also reached a passing level. The reflected color was neutral, and there was little interference unevenness and the surface appearance was good.

(実施例6)
A層に関して、A層中に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が、(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−6の調製)で得られたものを使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 6)
Regarding the A layer, the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) contained in the A layer is (preparation of condensate compound-6 composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2)). An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the product obtained in 1 was used. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、表面抵抗率、ヘイズ、波長400〜700nmにおける最低反射率、反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示し、耐擦傷性も合格レベルに達した。反射色の色調もニュートラルな上、干渉ムラなどが非常に少なく表面外観上も非常に良好であった。   As is apparent from Table 2, the surface resistivity, haze, minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm, difference in reflectance, and total light transmittance all showed very good values, and the scratch resistance also reached a pass level. The color of the reflected color was neutral, and the surface appearance was very good with very little interference unevenness.

(実施例7)
A層に関して、A層中に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が、(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−7の調製)で得られたものを使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 7)
Regarding the A layer, the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) contained in the A layer is (preparation of condensate compound-7 composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2)). An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the product obtained in 1 was used. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、表面抵抗率、ヘイズ、波長400〜700nmにおける最低反射率、反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示し、耐擦傷性も合格レベルに達した。反射色の色調もニュートラルな上、干渉ムラなどが少なく表面外観上も良好であった。   As is apparent from Table 2, the surface resistivity, haze, minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm, difference in reflectance, and total light transmittance all showed very good values, and the scratch resistance also reached a pass level. The reflected color was neutral, and there was little interference unevenness and the surface appearance was good.

(実施例8)
A層に関して、平均粒径約10nmのアンチモン含有酸化錫微粒子25質量%および多官能アクリレートを含む塗料(大日精化(株)製 セイカビーム PET―HC15NS(AS−41):屈折率1.53、固形分濃度30質量%)と前記(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)で得られた縮合体化合物を質量比30:1で混合(A層に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が10質量%)して使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 8)
For layer A, paint containing 25% by mass of antimony-containing tin oxide fine particles having an average particle diameter of about 10 nm and polyfunctional acrylate (Seika Beam PET-HC15NS (AS-41) manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.): refractive index 1.53, solid (Concentration of 30% by mass) and the condensate compound obtained in the above (preparation of condensate compound-1 consisting of siloxane compound (1) and siloxane compound (2)) at a mass ratio of 30: 1 (included in layer A) An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) was used in an amount of 10% by mass). The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、耐擦傷性、ヘイズ、波長400〜700nmにおける最低反射率、反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示し、表面抵抗率も合格レベルに達した。反射色の色調もニュートラルな上、干渉ムラなどが非常に少なく表面外観上も非常に良好であった。   As is apparent from Table 2, the scratch resistance, haze, minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm, difference in reflectance, and total light transmittance all showed very good values, and the surface resistivity also reached an acceptable level. The color of the reflected color was neutral, and the surface appearance was very good with very little interference unevenness.

(実施例9)
A層に関して、平均粒径約10nmのアンチモン含有酸化錫微粒子50質量%および多官能アクリレートを含む塗料(大日精化(株)製 セイカビーム PET―HC15NS(AS−21):屈折率1.59、固形分濃度30質量%)と前記(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)で得られた縮合体化合物を質量比163.4:1で混合(A層に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が2質量%)して使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
Example 9
Regarding layer A, paint containing 50% by mass of antimony-containing tin oxide fine particles having an average particle diameter of about 10 nm and polyfunctional acrylate (Seika Beam PET-HC15NS (AS-21) manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.): refractive index 1.59, solid (Concentration concentration 30 mass%) and the condensate compound obtained in the above (preparation of condensate compound-1 comprising siloxane compound (1) and siloxane compound (2)) at a mass ratio of 163.4: 1 (layer A) An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the condensate compound consisting of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) contained in 2% by mass was used. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、耐擦傷性が非常に良好、かつ表面抵抗率が極めて良好な値を示した。ヘイズ、全光線透過率は実使用上問題ないレベルに達している。波長400〜700nmにおける最低反射率は極めて良好であり、反射率差も許容範囲内である。反射色の色調はやや青みがかっているが実使用上問題なく、干渉ムラなども非常に少なくて表面外観上も非常に良好であった。   As is apparent from Table 2, the scratch resistance was very good and the surface resistivity was extremely good. The haze and total light transmittance have reached a level where there is no problem in practical use. The minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm is very good, and the difference in reflectance is within an allowable range. The color of the reflected color was slightly bluish, but there was no problem in actual use, the interference unevenness was very small, and the surface appearance was very good.

(実施例10)
B層に関して、(B層塗料−2の調製)で調整した塗料を使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 10)
Regarding the B layer, an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the paint prepared in (Preparation of B layer paint-2) was used. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、表面抵抗率、耐擦傷性、ヘイズ、波長400〜700nmにおける反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示した。最低反射率も良好なレベルである。干渉ムラも非常に少なく表面外観上も非常に良好であった上、反射色の色調もニュートラルなものが得られた。   As is apparent from Table 2, the surface resistivity, scratch resistance, haze, reflectance difference at a wavelength of 400 to 700 nm, and total light transmittance showed very good values. The minimum reflectance is also a good level. There was very little interference unevenness, the surface appearance was very good, and the color of the reflected color was neutral.

(実施例11)
A層に関して、A層中に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が、(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−8の調製)で得られたものを使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 11)
Regarding the A layer, the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) contained in the A layer is (preparation of condensate compound-8 composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2)). An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the product obtained in 1 was used. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、ヘイズ、波長400〜700nmにおける最低反射率、反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示した。表面抵抗率、耐擦傷性も合格レベルである。干渉ムラは許容範囲内であり表面外観上も実使用上問題ないレベルである。反射色の色調はニュートラルなものが得られた。   As is clear from Table 2, the haze, the minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm, the reflectance difference, and the total light transmittance showed very good values. Surface resistivity and scratch resistance are also acceptable levels. Interference unevenness is within an allowable range, and the surface appearance is at a level that causes no problem in actual use. The neutral color of the reflected color was obtained.

(実施例12)
A層に関して、A層中に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が、(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−9の調製)で得られたものを使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 12)
Regarding the A layer, the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) contained in the A layer is (preparation of condensate compound-9 composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2)). An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the product obtained in 1 was used. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、ヘイズ、波長400〜700nmにおける最低反射率、反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示し、表面抵抗率もかなり良好な水準に達し、耐擦傷性も合格レベルに達した。反射色の色調もニュートラルな上、干渉ムラなどが少なく表面外観上も良好であった。   As is apparent from Table 2, haze, minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm, difference in reflectance, and total light transmittance are very good values, the surface resistivity reaches a fairly good level, and scratch resistance Also reached a passing level. The reflected color was neutral, and there was little interference unevenness and the surface appearance was good.

(実施例13)
A層に関して、A層中に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が、(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−10の調製)で得られたものを使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 13)
Regarding the A layer, the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) contained in the A layer is (preparation of condensate compound-10 composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2)). An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the product obtained in 1 was used. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、ヘイズ、波長400〜700nmにおける最低反射率、反射率差、全光線透過率とも非常に良好な値を示した。耐擦傷性も合格レベルである。表面抵抗率は一応、使用にはできるレベルである。干渉ムラは許容範囲内であり表面外観上も実使用上問題ないレベルである。反射色の色調はニュートラルなものが得られた。   As is clear from Table 2, the haze, the minimum reflectance at a wavelength of 400 to 700 nm, the reflectance difference, and the total light transmittance showed very good values. Scratch resistance is also acceptable. The surface resistivity is at a level that can be used. Interference unevenness is within an allowable range, and the surface appearance is at a level that causes no problem in actual use. The neutral color of the reflected color was obtained.

(比較例1)
A層に関して、A層中に含まれるシロキサン化合物からなる縮合体化合物が、(他のシロキサン化合物からなる縮合体化合物−1の調製)で得られたものを使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Comparative Example 1)
With respect to the A layer, Example 1 except that the condensate compound composed of the siloxane compound contained in the A layer was obtained from (Preparation of condensate compound-1 composed of another siloxane compound). An antireflection film was produced in the same manner. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、耐擦傷性など合格レベルに達しており、他にも良好な値を示す特性が一部あるものの、表面抵抗率が極めて悪く帯電防止性能が全く望めないため、使用に適さないものとなった。表面外観に関しても、ハジキのような欠点が散見され不良である。   As can be seen from Table 2, it has reached acceptable levels such as scratch resistance and has some other characteristics that show good values, but its surface resistivity is extremely poor and antistatic performance cannot be expected at all. It became unsuitable for. As for the surface appearance, defects such as repelling are often found to be defective.

(比較例2)
A層に関して、A層中に含まれるシロキサン化合物からなる縮合体化合物が、(他のシロキサン化合物からなる縮合体化合物−2の調製)で得られたものを使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Comparative Example 2)
With respect to the A layer, Example 1 except that the condensate compound composed of the siloxane compound contained in the A layer was obtained from (Preparation of condensate compound-2 composed of another siloxane compound). An antireflection film was produced in the same manner. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、光学特性は総じて良好であるが、耐擦傷性、表面抵抗率が合格レベルに達せず、使用には問題があるものとなった。   As is apparent from Table 2, the optical properties were generally good, but the scratch resistance and surface resistivity did not reach acceptable levels, and there were problems in use.

(比較例3)
A層に関して、平均粒径約10nmのアンチモン含有酸化錫微粒子25質量%および多官能アクリレートを含む塗料(大日精化(株)製 セイカビーム PET―HC15NS(AS−41):屈折率1.53、固形分濃度30質量%)と前記(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)で得られた縮合体化合物を質量比7.75:1で混合(A層に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が30質量%)して使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Comparative Example 3)
For layer A, paint containing 25% by mass of antimony-containing tin oxide fine particles having an average particle diameter of about 10 nm and polyfunctional acrylate (Seika Beam PET-HC15NS (AS-41) manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.): refractive index 1.53, solid (Concentration concentration 30 mass%) and the condensate compound obtained in the above (preparation of condensate compound-1 consisting of siloxane compound (1) and siloxane compound (2)) at a mass ratio of 7.75: 1 (layer A) An antireflective film was produced in the same manner as in Example 1 except that the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) contained in was used in an amount of 30% by mass. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、耐擦傷性が合格レベルに達しない他、表面抵抗率が極めて悪く帯電防止性能が全く望めないため、使用に適さないものとなった。最低反射率もやや高めである。   As is apparent from Table 2, the scratch resistance did not reach an acceptable level, and the surface resistivity was extremely poor and antistatic performance could not be expected at all. The minimum reflectivity is slightly higher.

(比較例4)
A層に関して、シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物を加えないこと以外は実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Comparative Example 4)
Regarding layer A, an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the condensate compound composed of siloxane compound (1) and siloxane compound (2) was not added. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、耐擦傷性以外は良好な水準に達しているが、耐擦傷性が全く実用にならないレベルであり、使用に適さないものとなった。   As is apparent from Table 2, although it has reached a good level except for the scratch resistance, the scratch resistance is at a level that is not practical at all, and is not suitable for use.

(比較例5)
A層に関して、導電性金属酸化物微粒子を含まない塗料(多官能アクリレートを含む塗料、JSR(株)製 デソライトZ7528:屈折率1.50、固形分濃度50質量%)と前記(シロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物−1の調製)で得られた縮合体化合物を質量比98:1で混合(A層に含まれるシロキサン化合物(1)とシロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が2質量%)して使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Comparative Example 5)
Regarding the A layer, a paint containing no conductive metal oxide fine particles (a paint containing a polyfunctional acrylate, Desolite Z7528 manufactured by JSR Corporation: refractive index 1.50, solid content concentration 50% by mass) and the above (siloxane compound (1 ) And siloxane compound (2) to prepare condensate compound-1) in a mass ratio of 98: 1 (from siloxane compound (1) and siloxane compound (2) contained in layer A) An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the condensate compound to be used was 2% by mass). The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、耐擦傷性など非常に良好な特性もあるものの、表面抵抗率が極めて悪く帯電防止性能が全く望めないため、使用に適さないものとなった。最低反射率もやや高めである。   As is apparent from Table 2, although there are very good characteristics such as scratch resistance, the surface resistivity is very poor and antistatic performance cannot be expected at all, so that it is not suitable for use. The minimum reflectivity is slightly higher.

(比較例6)
B層に関して、含フッ素系共重合体(フルオロオレフィン/ビニルエーテル共重合体)を含む塗料(JSR(株)製、JN−7215:屈折率1.42)を使用し、150℃で乾燥、硬化させること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Comparative Example 6)
For layer B, a paint containing a fluorine-containing copolymer (fluoroolefin / vinyl ether copolymer) (manufactured by JSR Corporation, JN-7215: refractive index 1.42) is used and dried and cured at 150 ° C. Except for this, an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、良好な値を示す特性も一部にあるものの、耐擦傷性が全く実用にならないレベルであり、最低反射率も高く使用に適さないものとなった。   As is apparent from Table 2, although some of the properties exhibiting good values are present, the scratch resistance is at a level where it is not practical and the minimum reflectance is high, making it unsuitable for use.

(比較例7)
A層に関して、膜厚を0.1μmとする事以外は、実施例1と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表2に示す。
(Comparative Example 7)
Regarding the A layer, an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1, except that the film thickness was 0.1 μm. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 2.

表2から明らかなように、非常に良好な値を示す特性も一部にあるものの、耐擦傷性および表面抵抗率が全く実用にならないレベルであり、使用に適さないものとなった。   As is apparent from Table 2, although some characteristics exhibiting very good values are present, the scratch resistance and surface resistivity are at levels that are not practical at all, and are not suitable for use.

(実施例14)
実施例1で得られた反射防止フィルムの、反射防止層6を設けていない面に、2種の近赤外線吸収色素(ジイモニウム塩系:日本化薬(株)製IRG−022、フタロシアニン系:(株)日本触媒製イーエクスカラー810K)それぞれ1.9質量%、1.0質量%と、アクリル樹脂(三菱レイヨン(株)製ダイヤナールBR−80)97.1質量%を混合したものを用いて近赤外線吸収層を設けた。さらに、この近赤外線吸収層上に、波長595nmに吸収極大を有する色素と白色光の色度を補正する色素を粘着剤AGR−100(日本化薬(株)製)に混合して粘着層を設け、ガラスと貼り合わせた後に1000mJ/cmの紫外線照射量で硬化させ、プラズマディスプレイ用前面保護板を得た。
(Example 14)
On the surface of the antireflection film obtained in Example 1, on which the antireflection layer 6 is not provided, two kinds of near infrared absorbing dyes (diimonium salt type: IRG-022 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., phthalocyanine type: ( EEX Color 810K manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 1.9 mass% and 1.0 mass%, respectively, and acrylic resin (Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Dianar BR-80) 97.1 mass% mixed were used. And provided a near-infrared absorbing layer. Furthermore, on this near-infrared absorbing layer, a dye having an absorption maximum at a wavelength of 595 nm and a dye for correcting the chromaticity of white light are mixed with an adhesive AGR-100 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) to form an adhesive layer. After being provided and bonded to glass, it was cured with an ultraviolet irradiation amount of 1000 mJ / cm 2 to obtain a front protective plate for plasma display.

(実施例15)
プラズマディスプレイパネルの前面に、実施例12のプラズマディスプレイパネル用前面保護板をセットした。反射が少なく、かつ反射色がニュートラルな色調のプラズマディスプレイが得られた。
(Example 15)
The front protective plate for the plasma display panel of Example 12 was set on the front surface of the plasma display panel. A plasma display with less reflection and neutral reflection color was obtained.

本発明によれば、また、本発明の反射防止フィルムは、表面の反射率が低く、色目がニュートラルなため、例えば、プラズマディスプレイのような大画面の平面テレビ前面、液晶テレビ前面などに適用される反射防止フィルムとして好適である。   According to the present invention, since the antireflection film of the present invention has a low surface reflectance and a neutral color, it is applied to, for example, the front surface of a large flat screen television such as a plasma display, the front surface of a liquid crystal television, and the like. It is suitable as an antireflection film.

本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面を模式的に表した断面図である。It is sectional drawing which represented typically the cross section which shows an example of the antireflection film of this invention. 本発明の反射防止フィルムのB層を倍率20万倍に拡大したTEM写真である。It is the TEM photograph which expanded B layer of the antireflection film of the present invention at a magnification of 200,000 times. シリカ系微粒子と均質化していないシロキサンポリマーーを主成分とするB層を倍率20万倍に拡大したTEM写真である。It is the TEM photograph which expanded the B layer which has a silica type fine particle and the siloxane polymer which is not homogenized as a main component by 200,000 times magnification. シリカ系微粒子と均質化していないシロキサンポリマーーを主成分とするB層の別の例を示す、倍率20万倍に拡大したTEM写真である。It is the TEM photograph expanded to 200,000 times which shows another example of B layer which has a silica type microparticle and the siloxane polymer which is not homogenized as a main component.

符号の説明Explanation of symbols

1:B層
2:A層
3:基材フィルム
4:近赤外線吸収層
5:粘着層
6:反射防止層
7:シリカ系微粒子の内部の空洞
8:シリカ系微粒子の外殻
9:シロキサンポリマー
10:境界
11:B層
1: B layer 2: A layer 3: Base film 4: Near-infrared absorbing layer 5: Adhesive layer 6: Antireflection layer 7: Internal cavity of silica-based fine particles 8: Outer shell of silica-based fine particles 9: Siloxane polymer 10 : Boundary 11: B layer

Claims (14)

基材フィルムの少なくとも片面に、アクリル系樹脂および導電性金属酸化物微粒子を主成分とする、0.3μm以上の膜厚を有するA層、およびシリカ系微粒子と均質化しているシロキサンポリマーを主成分とするB層の少なくとも2層が、該B層より該A層の方が該基材フィルムに近い位置にあり、かつ、該A層上に該B層が積層されている反射防止フィルムであって、下記シロキサン化合物(1)と下記シロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物が、該A層中に、該A層に対して0.001〜20質量%含まれている反射防止フィルム。
SiR (1)
(ただし、Rはフッ素が3から17のフルオロアルキル基、メチル基、エチル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基を表し、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Rは、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基を表し、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。)
SiR (2)
(ただし、Rはビニル基、(メタ)アクリル基およびそれらの置換体を表す。Rはメチル基、エチル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基を表し、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。)
At least one side of the base film is composed mainly of an acrylic resin and conductive metal oxide fine particles, a layer A having a film thickness of 0.3 μm or more, and a siloxane polymer homogenized with silica fine particles. At least two of the B layers are antireflection films in which the A layer is closer to the base film than the B layer, and the B layer is laminated on the A layer. An antireflection film in which a condensate compound composed of the following siloxane compound (1) and the following siloxane compound (2) is contained in the A layer in an amount of 0.001 to 20% by mass with respect to the A layer.
R 1 2 SiR 2 2 (1)
(However, R 1 represents a fluoroalkyl group having 3 to 17 fluorine atoms, a methyl group, an ethyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, or an ethoxy group, and may be the same or different. R 2 represents a hydroxyl group. Represents a methoxy group or an ethoxy group, which may be the same or different.
R 3 SiR 4 3 (2)
(However, R 3 represents a vinyl group, a (meth) acryl group and a substituted product thereof. R 4 represents a methyl group, an ethyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, and an ethoxy group, which are the same or different. Is also good.)
前記シロキサン化合物(1)と前記シロキサン化合物(2)のモル比(シロキサン化合物(1):シロキサン化合物(2))が0.1:1〜20:1である請求項1に記載の反射防止フィルム。   2. The antireflection film according to claim 1, wherein a molar ratio of the siloxane compound (1) to the siloxane compound (2) (siloxane compound (1): siloxane compound (2)) is 0.1: 1 to 20: 1. . 前記シロキサン化合物(1)と前記シロキサン化合物(2)からなる縮合体化合物の動粘度が40mm/s(25℃)以上である請求項1または2に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 1 or 2, wherein the condensate compound composed of the siloxane compound (1) and the siloxane compound (2) has a kinematic viscosity of 40 mm 2 / s (25 ° C) or more. 前記シリカ系微粒子が、内部に空洞を有するものである請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the silica-based fine particles have a cavity inside. 前記シロキサンポリマーが、多官能性フッ素含有シラン化合物を含む請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the siloxane polymer contains a polyfunctional fluorine-containing silane compound. 前記A層の屈折率が、1.48以上1.62以下である請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflective film according to claim 1, wherein the refractive index of the A layer is 1.48 or more and 1.62 or less. 前記導電性金属酸化物微粒子の含有量が、前記A層に対して40質量%以下である請求項1〜6のいずれかに記載の反射防止フィルム。   7. The antireflection film according to claim 1, wherein a content of the conductive metal oxide fine particles is 40% by mass or less with respect to the A layer. 表面抵抗率が、1×1011Ω/□以下である請求項1〜7のいずれかに記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 1, which has a surface resistivity of 1 × 10 11 Ω / □ or less. 本文で定義する表面の耐擦傷性が、3級以上である請求項1〜8のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to any one of claims 1 to 8, wherein the scratch resistance of the surface defined in the text is grade 3 or higher. ヘイズが、1.5%以下である請求項1〜9のいずれかに記載の反射防止フィルム。   Haze is 1.5% or less, The antireflection film in any one of Claims 1-9. 本文で定義する波長400〜700nmにおける表面反射スペクトルが、次の3条件を全て満たす請求項1〜10のいずれかに記載の反射防止フィルム。
(1)最低反射率が0.6%以上、2.0%以下であり、
(2)最高反射率が3.5%以下であり、
(3)最高反射率と最低反射率の差が2.5%以下である。
The antireflection film according to any one of claims 1 to 10, wherein a surface reflection spectrum at a wavelength of 400 to 700 nm defined in the text satisfies all of the following three conditions.
(1) The minimum reflectance is 0.6% or more and 2.0% or less,
(2) The maximum reflectance is 3.5% or less,
(3) The difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is 2.5% or less.
全光線透過率が、85%以上である請求項1〜11のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the total light transmittance is 85% or more. 前記基材フィルムが、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂およびアクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種からなるものである請求項1〜12のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the base film is made of at least one selected from the group consisting of a polyester resin, an acetate resin, and an acrylic resin. 請求項1〜13のいずれかに記載の反射防止フィルムが、画像表示面または前面板の表面に貼着されて構成されている画像表示装置。   An image display device comprising the antireflection film according to claim 1 attached to an image display surface or a surface of a front plate.
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