KR20110058567A - Treating fluid dispensing method - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A treatment solution discharge method is provided to form a filter component of a dot image arrangement by discharging ink of a filter element in an inkjet method. CONSTITUTION: A length direction of a pixel is formed in a substrate in an inkjet method. It is determined whether to match a longitudinal direction with a process direction of a discharging process. The process liquid is discharged to the substrate according to the rotation of the substrate.

Description

처리액 토출 방법{TREATING FLUID DISPENSING METHOD}Treatment solution discharging method {TREATING FLUID DISPENSING METHOD}

본 발명은 처리액 토출 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 잉크젯 방식으로 처리액의 액적을 토출하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a process liquid ejecting method, and more particularly, to a method of ejecting droplets of a process liquid by an inkjet method.

최근에, 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 장치, 전계 발광 장치 등으로 불리는 전기 광학 장치인 표시 장치가 널리 이용되고 있으며, 표시 장치에 의해서 풀 컬러를 표시하는 일이 많아지고 있다.In recent years, display devices which are electro-optical devices called liquid crystal devices, electroluminescent devices, and the like have been widely used in the display portions of electronic devices such as mobile phones and portable computers, and display of full colors has been increasing by display devices. .

액정 장치에 의한 풀 컬러 표시는, 예를 들어, 액정 층에 의해서 변조되는 광을 컬러 필터에 통과시킴으로써 표시된다. 그리고 컬러 필터는, 예를 들어, 유리 등에 의해 형성된 기판의 표면에 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 도트상의 각색의 필터 요소를 소위 스트라이프 배열, 델타 배열 또는 모자이크 배열 등이라 불리는 소정의 배열로 나란히 함에 의해서 형성된다.Full color display by a liquid crystal device is displayed by, for example, passing light modulated by the liquid crystal layer through a color filter. The color filter is, for example, a filter element of red (R), green (G), and blue (B) dots on the surface of a substrate formed of glass or the like as a so-called stripe arrangement, delta arrangement, or mosaic arrangement. Formed by side by side in a predetermined arrangement.

종래, 컬러 필터의 R, G, B 등의 각색의 필터 요소를 패터닝하는 경우, 포토리소그래피법을 사용함이 알려져 있다. 그러나, 포토리소그래피법을 사용하는 경우에는 공정이 복잡하거나, 각색의 재료 혹은 포토레지스트 등을 다량으로 소비하므로, 코스트가 높게 되는 등의 문제가 있다.It is known that the photolithographic method is conventionally used when patterning various filter elements, such as R, G, and B of a color filter. However, in the case of using the photolithography method, the process is complicated, or a large amount of various materials, photoresist, and the like are consumed, so that there is a problem such as high cost.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 액적을 토출하는 잉크젯 방식에 의해서 필터 요소의 재료(잉크)를 도트상으로 토출함으로써, 도트상 배열의 필터 요소를 형성하는 방법이 제안되어 있다.In order to solve such a problem, the method of forming the filter element of a dot arrangement by the discharge of the material (ink) of a filter element in a dot form by the inkjet system which discharges a droplet is proposed.

본 발명은 처리액 토출 공정의 신뢰도를 향상시킬 수 있는 처리액 토출 방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a processing liquid discharge method that can improve the reliability of the processing liquid discharge step.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited thereto, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시 예에 따른 처리액 토출 방법은, 잉크젯 방식으로 기판에 처리액을 토출하는 방법에 있어서, 기판에 형성된 픽셀의 길이 방향을 확인하는 것; 처리액 토출 공정의 진행 방향과 상기 픽셀의 길이 방향의 일치 여부에 따라 상기 기판의 회전 여부를 판단하는 것; 및 상기 회전 여부의 판단에 따라 위치가 정렬된 상기 기판에 상기 처리액을 토출하는 것을 포함한다.In order to achieve the above object, the processing liquid discharge method according to an embodiment of the present invention, the method for discharging the processing liquid to the substrate by the inkjet method, comprising: checking the longitudinal direction of the pixel formed on the substrate; Determining whether the substrate is rotated according to whether the advancing direction of the processing liquid discharge process coincides with the longitudinal direction of the pixel; And discharging the processing liquid to the substrate whose positions are aligned according to the determination of the rotation.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 처리액 토출 공정의 진행 방향과 상기 픽셀의 길이 방향이 상이한 경우, 상기 픽셀의 길이 방향이 상기 처리액 토출 공정의 진행 방향에 정렬되도록 상기 기판을 회전시키는 것을 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present disclosure, when the advancing direction of the processing liquid discharge process and the longitudinal direction of the pixel are different, rotating the substrate so that the longitudinal direction of the pixel is aligned with the advancing direction of the processing liquid discharge process. It may include.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 픽셀의 피치를 확인하는 것; 및 헤드에 제공된 노즐들의 처리액 토출 피치가 상기 픽셀의 피치와 일치하도록 상기 헤드를 회전시키는 것을 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, checking the pitch of the pixel; And rotating the head so that the treatment liquid discharge pitch of the nozzles provided in the head matches the pitch of the pixel.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 기판은 엘씨디(LCD)용 컬러 필터(CF) 기 판이며, 상기 처리액은 적색 잉크, 녹색 잉크, 청색 잉크 및 이들의 조합 중 어느 하나일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the substrate is a color filter (CF) substrate for an LCD (LCD), and the treatment liquid may be any one of red ink, green ink, blue ink, and a combination thereof.

본 발명에 의하면, 픽셀의 길이 방향을 처리액 토출 공정의 진행 방향에 정렬시킴으로써, 처리액 토출 공정 조건의 변화를 최소화할 수 있다.According to the present invention, by changing the longitudinal direction of the pixel in the advancing direction of the processing liquid discharge step, it is possible to minimize the change in the processing liquid discharge step conditions.

그리고 본 발명에 의하면, 처리액 토출 공정의 품질 저하를 방지할 수 있다.And according to this invention, the quality deterioration of a process liquid discharge process can be prevented.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 처리액 토출 방법을 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a processing liquid discharge method according to a preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings will be described in detail. First, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are assigned to the same components as much as possible, even if shown on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

( 실시 예 )(Example)

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 처리액 토출 방법이 사용되는 처리액 도포 설비의 구성을 보여주는 도면이다. 도 1의 처리액 도포 설비(1)는 대상물에 잉크젯 방식으로 처리액을 도포한다. 예를 들어, 대상물은 액정 디스플레이 패널의 컬러 필터 기판일 수 있으며, 처리액은 용매에 안료 입자가 혼합된 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 잉크일 수 있다. 잉크는 컬러 필터 기판상에 격자 모양의 패턴으로 배열 된 블랙매트릭스의 내부 영역에 도포될 수 있다.1 is a view showing the configuration of a treatment liquid application facility in which a treatment liquid discharge method according to an embodiment of the present invention is used. The treatment liquid applying equipment 1 of FIG. 1 applies a treatment liquid to an object by an inkjet method. For example, the object may be a color filter substrate of a liquid crystal display panel, and the treatment liquid may be red (R), green (G), or blue (B) ink in which pigment particles are mixed in a solvent. The ink may be applied to the interior regions of the black matrix arranged in a grid pattern on the color filter substrate.

도 1을 참조하면, 처리액 도포 설비(1)는 처리액 토출부(10), 기판 이송부(20), 베이크부(30), 로딩부(40), 언로딩부(50), 처리액 공급부(60), 그리고 제어부(70)를 포함한다. 처리액 토출부(10)와 기판 이송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 처리액 토출부(10)를 중심으로 기판 이송부(20)와 마주하는 위치에 처리액 공급부(60)와 제어부(70)가 배치되며, 처리액 공급부(60)와 제어부(70)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 이송부(20)를 중심으로 처리액 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(40)와 언로딩부(50)가 배치되며, 로딩부(40)와 언로딩부(50)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 그리고 베이크부(30)는 기판 이송부(20)의 일측에 인접하게 배치될 수 있다.Referring to FIG. 1, the treatment liquid applying apparatus 1 may include a treatment liquid discharge part 10, a substrate transfer part 20, a baking part 30, a loading part 40, an unloading part 50, and a treatment liquid supply part. 60, and a control unit 70. The processing liquid discharge part 10 and the substrate transfer part 20 may be arranged in a line in the first direction I and may be adjacent to each other. The processing liquid supply unit 60 and the control unit 70 are disposed at positions facing the substrate transfer unit 20 around the processing liquid discharge unit 10, and the processing liquid supply unit 60 and the control unit 70 are in the second direction. It can be arranged in line with (II). The loading part 40 and the unloading part 50 are disposed at a position facing the processing liquid discharge part 10 with respect to the substrate transfer part 20, and the loading part 40 and the unloading part 50 are formed of a substrate. It can be arranged in two directions (II). The bake unit 30 may be disposed adjacent to one side of the substrate transfer unit 20.

여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 처리액 토출부(10)와 기판 이송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.Here, the first direction (I) is an arrangement direction of the processing liquid discharge unit 10 and the substrate transfer unit 20, the second direction (II) is a direction perpendicular to the first direction (I) on a horizontal plane, and the third direction The direction III is a direction perpendicular to the first direction I and the second direction II.

처리액(잉크)이 도포될 기판은 로딩부(40)로 반입된다. 기판 이송부(40)는 로딩부(40)에 반입된 기판을 처리액 토출부(10)로 이송한다. 처리액 토출부(10)는 처리액 공급부(60)로부터 처리액을 공급받고, 잉크젯 방식으로 기판상에 처리액을 토출한다. 기판 이송부(20)는 처리액 토출부(10)로부터 베이크부(30)로 기판을 이송한다. 베이크부(30)는 기판을 가열하여 기판에 토출된 처리액(잉크)의 고형 성분 을 제외한 나머지 액상 물질(용매)을 증발시킨다. 기판 이송부(20)는 베이크부(30)로부터 언로딩부(50)로 기판을 이송한다. 처리액이 도포된 기판은 언로딩부(50)로부터 반출된다. 그리고, 제어부(70)는 처리액 토출부(10), 기판 이송부(20), 베이크부(30), 로딩부(40), 언로딩부(50), 그리고 처리액 공급부(60)의 전반적인 동작을 제어한다.The substrate to which the treatment liquid (ink) is to be applied is loaded into the loading part 40. The substrate transfer part 40 transfers the substrate carried in the loading part 40 to the processing liquid discharge part 10. The processing liquid discharge unit 10 receives the processing liquid from the processing liquid supply unit 60 and discharges the processing liquid onto the substrate by an inkjet method. The substrate transfer unit 20 transfers the substrate from the processing liquid discharge unit 10 to the bake unit 30. The baking unit 30 heats the substrate to evaporate the remaining liquid substance (solvent) except for the solid component of the processing liquid (ink) discharged on the substrate. The substrate transfer unit 20 transfers the substrate from the bake unit 30 to the unloading unit 50. The substrate to which the treatment liquid is applied is carried out from the unloading part 50. In addition, the control unit 70 performs overall operations of the processing liquid discharge unit 10, the substrate transfer unit 20, the baking unit 30, the loading unit 40, the unloading unit 50, and the processing liquid supply unit 60. To control.

도 2는 도 1의 처리액 토출부의 사시도이고, 도 3은 도 2의 처리액 토출부의 평면도이다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 처리액 토출부(10)는 기판 지지 유닛(100), 헤드 유닛(200), 이동 유닛(300,400), 제 1 헤드 세정 유닛(500), 그리고 제 2 헤드 세정 유닛(600)을 포함한다.FIG. 2 is a perspective view of the processing liquid discharge part of FIG. 1, and FIG. 3 is a plan view of the processing liquid discharge part of FIG. 2. 2 and 3, the processing liquid discharge part 10 may include a substrate support unit 100, a head unit 200, a moving unit 300 and 400, a first head cleaning unit 500, and a second head cleaning. Unit 600.

기판 지지 유닛(100)은 기판이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 모터(120)의 회전 축이 연결된다. 회전 구동 모터(120)는 지지판(110)에 놓인 기판이 기설정된 위치에 정렬되도록 지지판(110)을 회전시킨다. The substrate support unit 100 has a support plate 110 on which a substrate is placed. The support plate 110 may be a rectangular plate. The lower surface of the support plate 110 is connected to the rotation axis of the rotation drive motor 120. The rotation drive motor 120 rotates the support plate 110 so that the substrate placed on the support plate 110 is aligned at a predetermined position.

지지판(110)과 회전 구동 모터(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 모터(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중앙부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장되며, 슬라이더(132)는 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다.The support plate 110 and the rotation drive motor 120 are linearly moved in the first direction I by the linear drive member 130. The linear drive member 130 includes a slider 132 and a guide member 134. The rotation drive motor 120 is installed on the upper surface of the slider 132. The guide member 134 extends in the first direction (I) at the central portion of the upper surface of the base (B). A linear motor (not shown) is built in the slider 132, and the slider 132 linearly moves in the first direction I along the guide member 134.

헤드 유닛(200)은 기판에 처리액을 토출한다. 헤드 유닛(200)은 잉크젯 헤드들(210a, 210b)과 브라켓(220)을 포함한다. 잉크젯 헤드들(210a, 210b) 중 하나의 잉크젯 헤드(210a)는 브라켓(220)의 제 1 방향(Ⅰ)을 향하는 일 측면에 설치되고, 다른 하나의 잉크젯 헤드(210b)는 브라켓(220)의 제 1 방향(Ⅰ)을 향하는 다른 일 측면에 설치될 수 있다.The head unit 200 discharges the processing liquid onto the substrate. The head unit 200 includes inkjet heads 210a and 210b and a bracket 220. One inkjet head 210a of the inkjet heads 210a and 210b is installed at one side facing the first direction I of the bracket 220, and the other inkjet head 210b is disposed at the bracket 220. It may be installed on the other side facing in the first direction (I).

각각의 잉크젯 헤드들(210a, 210b)은 적색(R) 헤드(212), 녹색(G) 헤드(214) 및 청색(B) 헤드(216)를 가진다. 적색(R) 헤드(212), 녹색(G) 헤드(214) 및 청색(B) 헤드(216)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 배열되며, 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 지지판(110)에 놓인 기판(S)에 처리액을 토출한다.Each of the inkjet heads 210a and 210b has a red (R) head 212, a green (G) head 214 and a blue (B) head 216. The red (R) head 212, the green (G) head 214, and the blue (B) head 216 are arranged in a line in the second direction (II), and the support plate 110 by an inkjet method of ejecting droplets. The processing liquid is discharged to the substrate S placed on the substrate.

이동 유닛(300,400)들은 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에서 헤드 유닛(200)을 이동시킬 수 있다. 제 1 이동 유닛(300)은 헤드 유닛(200)을 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키고, 제 2 이동 유닛(400)은 헤드 유닛(200)을 제 2 방향(Ⅱ)과 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시킬 수 있다.The moving units 300 and 400 may move the head unit 200 in the upper portion of the path in which the support plate 110 is moved. The first moving unit 300 linearly moves the head unit 200 in the first direction (I), and the second moving unit 400 moves the head unit 200 in the second direction (II) and the third direction ( Can be moved linearly.

제 2 이동 유닛(400)은 수평 지지대(410)와 슬라이더(420)를 포함한다. 수평 지지대(410)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 베이스(B)의 상부에 위치한다. 수평 지지대(410)에는 길이 방향을 따라 가이드 레일(412)이 제공된다. 슬라이더(420)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있으며, 슬라이더(420)는 가이드 레일(412)을 따라 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동한다. 헤드 유닛(200)의 브라켓(220)이 슬라이더(420)에 연결되고, 슬라이더(420)의 직선 이동에 의해 브라켓(220)에 설치된 잉크젯 헤드들(210a,210b)이 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동한다. 한편, 슬라 이더(420)에는 헤드 유닛(200)의 브라켓(220)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시키는 구동 부재(미도시)가 설치될 수 있다.The second moving unit 400 includes a horizontal support 410 and a slider 420. The horizontal support 410 is positioned above the base B such that the longitudinal direction thereof faces the second direction II. The horizontal support 410 is provided with a guide rail 412 along the longitudinal direction. A linear motor (not shown) may be built in the slider 420, and the slider 420 moves linearly in the second direction II along the guide rail 412. The bracket 220 of the head unit 200 is connected to the slider 420, and the inkjet heads 210a and 210b installed on the bracket 220 are moved in the second direction II by the linear movement of the slider 420. Go straight. On the other hand, the slider 420 may be provided with a driving member (not shown) for linearly moving the bracket 220 of the head unit 200 in the third direction (III).

제 1 이동 유닛(300)은 가이드 레일(310)과 슬라이더(320)를 포함한다. 가이드 레일(310)은 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하고, 기판 지지 유닛(100)의 가이드 부재(134)를 중심으로 베이스(B) 상면의 양측 가장자리부에 각각 배치된다. 슬라이더(320)는 리니어 모터(미도시)를 내장하고, 가이드 레일(310)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다. 제 2 이동 유닛(400)의 수평 지지대(410)의 양단이 슬라이더(320)에 각각 연결된다. 슬라이더(320)의 직선 이동에 의해 수평 지지대(410)를 포함하는 제 2 이동 유닛(400)이 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동되고, 제 2 이동 유닛(400)의 이동에 의해 제 2 이동 유닛(400)에 연결된 헤드 유닛(200)이 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동된다.The first moving unit 300 includes a guide rail 310 and a slider 320. The guide rail 310 has a longitudinal direction toward the first direction (I), and is disposed on both side edge portions of the upper surface of the base B with respect to the guide member 134 of the substrate support unit 100. The slider 320 includes a linear motor (not shown) and linearly moves in the first direction I along the guide rail 310. Both ends of the horizontal support 410 of the second moving unit 400 are connected to the slider 320, respectively. The second moving unit 400 including the horizontal support 410 is moved in the first direction I by the linear movement of the slider 320, and the second moving unit is moved by the movement of the second moving unit 400. The head unit 200 connected to 400 is linearly moved in the second direction (II).

헤드 유닛(200)은 제 1 이동 유닛(300)과 제 2 이동 유닛(400)에 의해 제 1 방향(Ⅰ), 제 2 방향(Ⅱ), 그리고 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동할 수 있고, 기판이 놓이는 지지판(110)은 슬라이더(132) 및 가이드 부재(134)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동할 수 있다. 기판상에 처리액 토출시, 헤드 유닛(200)은 기설정된 위치에 고정되고, 기판이 놓이는 지지판(110)이 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동될 수 있다. 이와 달리, 기판이 놓이는 지지판(110)이 기설정된 위치에 고정되고, 헤드 유닛(200)이 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동될 수 있다.The head unit 200 may linearly move in the first direction (I), the second direction (II), and the third direction (III) by the first moving unit 300 and the second moving unit 400, The support plate 110 on which the substrate is placed may linearly move in the first direction I by the slider 132 and the guide member 134. When discharging the processing liquid onto the substrate, the head unit 200 may be fixed at a predetermined position, and the supporting plate 110 on which the substrate is placed may move in the first direction (I). Alternatively, the support plate 110 on which the substrate is placed may be fixed at a predetermined position, and the head unit 200 may be moved in the first direction (I).

제 1 및 제 2 헤드 세정 유닛(500,600)은 잉크젯 헤드들(210a,210b)의 처리액 토출면, 즉 처리액을 토출하는 노즐들이 형성된 면을 주기적으로 세정한다. 통상적으로, 1 매의 기판에 대한 처리액 토출 공정이 진행된 후, 잉크젯 헤드들(210a,210b)의 처리액 토출면의 세정이 진행될 수 있다.The first and second head cleaning units 500 and 600 periodically clean the processing liquid discharge surfaces of the inkjet heads 210a and 210b, that is, the surfaces on which nozzles for discharging the processing liquid are formed. Typically, after the process liquid ejecting process is performed on one substrate, cleaning of the process liquid ejecting surfaces of the inkjet heads 210a and 210b may proceed.

제 1 헤드 세정 유닛(500)과 제 2 헤드 세정 유닛(600)은 베이스(B) 상면의 기판 지지 유닛(100)의 일측에 제공될 수 있으며, 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치될 수 있다. 잉크젯 헤드들(210a,210b)은 제 1 이동 유닛(300)과 제 2 이동 유닛(400)에 의해 제 1 및 제 2 헤드 세정 유닛(500,600)의 상부로 이동되고, 세정 공정의 진행 중 제 1 및 제 2 헤드 세정 유닛(500,600)의 상부에서 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동될 수 있다.The first head cleaning unit 500 and the second head cleaning unit 600 may be provided on one side of the substrate support unit 100 on the upper surface of the base B, and may be arranged in a line in the first direction (I). have. The inkjet heads 210a and 210b are moved to the top of the first and second head cleaning units 500 and 600 by the first moving unit 300 and the second moving unit 400, and the first during the cleaning process. And in the first direction I from the second head cleaning unit 500, 600.

제 1 헤드 세정 유닛(500)은 퍼징(Purging) 공정과 블레이딩(Blading) 공정을 진행하고, 제 2 헤드 세정 유닛(600)은 블로팅(Blotting) 공정을 진행한다. 퍼징(Purging) 공정, 블레이딩(Blading) 공정, 그리고 블로팅(Blotting) 공정은 순차적으로 진행된다. 퍼징(Purging) 공정은 잉크젯 헤드들(210a,210b)의 내부에 수용된 처리액의 일부를 고압으로 분사하는 공정이다. 블레이딩(Blading) 공정은, 퍼징(Purging) 공정 후, 잉크젯 헤드들(210a,210b)의 처리액 토출면에 잔류하는 처리액을 비접촉 방식으로 제거하는 공정이다. 블로팅(Blotting) 공정은, 블레이딩(Blading) 공정 후, 잉크젯 헤드들(210a,210b)의 처리액 토출면에 잔류하는 처리액을 접촉 방식으로 제거하는 공정이다.The first head cleaning unit 500 performs a purging process and a blading process, and the second head cleaning unit 600 performs a blotting process. The purging process, the blading process, and the blotting process are performed sequentially. The purging process is a process of spraying a portion of the processing liquid contained in the inkjet heads 210a and 210b at a high pressure. The blading process is a process of removing the process liquid remaining on the process liquid discharge surfaces of the inkjet heads 210a and 210b in a non-contact manner after a purging process. The blotting process is a process of removing the treatment liquid remaining on the treatment liquid discharge surfaces of the inkjet heads 210a and 210b by a contact method after the blading process.

상기와 같은 구성을 가지는 처리액 토출부(10)를 이용하여 기판에 처리액을 토출하는 과정을 설명하면 다음과 같다.Referring to the process of discharging the processing liquid to the substrate using the processing liquid discharge unit 10 having the above configuration as follows.

도 4는 처리액 토출 공정의 진행 흐름을 보여주는 순서도이다. 도 5는 지지판에 로딩된 기판을 보여주는 도면이고, 도 6은 지지판의 회전에 의해 기판이 회전된 예를 보여주는 도면이다.4 is a flowchart showing a flow of a process liquid discharge process. 5 is a view showing a substrate loaded on the support plate, Figure 6 is a view showing an example in which the substrate is rotated by the rotation of the support plate.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 먼저 지지판(110)에 기판(S)이 로딩된다. 로딩되는 기판(S)의 픽셀(Pi)에 관한 정보는, 기판에 표시된 정보로부터 판독되거나, 처리액 토출부(10)의 동작을 제어하는 메인 제어부(70)로 입력될 수 있다. 기판의 픽셀 정보로부터 픽셀의 길이 방향을 확인한다. 도 5에 도시된 기판(S)의 경우, 픽셀(Pi)의 길이 방향은 처리액 토출 공정의 진행 방향인 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 제 2 방향(Ⅱ)을 향하고 있다.4 to 6, the substrate S is first loaded on the support plate 110. Information about the pixel Pi of the loaded substrate S may be read from information displayed on the substrate or input to the main controller 70 that controls the operation of the processing liquid discharge unit 10. The longitudinal direction of the pixel is confirmed from the pixel information of the substrate. In the case of the substrate S shown in FIG. 5, the longitudinal direction of the pixel Pi is directed in the second direction II perpendicular to the first direction I, which is a progressing direction of the processing liquid discharge process.

픽셀의 길이 방향을 확인한 후, 픽셀의 길이 방향과 처리액 토출 공정의 진행 방향(프린팅 방향이라고도 함.)의 일치 여부를 판단한다. 판단 결과, 두 방향이 일치하는 경우 기판의 픽셀 정보로부터 픽셀 피치를 확인한다. 이와 달리, 두 방향이 일치하지 않는 경우, 도 6에 도시된 바와 같이, 기판을 회전시켜 픽셀의 길이 방향을 처리액 토출 공정의 진행 방향에 정렬시키고, 이후 기판의 픽셀 정보로부터 픽셀 피치를 확인한다.After confirming the longitudinal direction of the pixel, it is determined whether or not the longitudinal direction of the pixel coincides with the advancing direction (also referred to as printing direction) of the processing liquid discharge process. As a result, when the two directions coincide, the pixel pitch is checked from the pixel information of the substrate. In contrast, when the two directions do not coincide with each other, as shown in FIG. 6, the substrate is rotated to align the longitudinal direction of the pixel with the advancing direction of the processing liquid discharge process, and then the pixel pitch is confirmed from the pixel information of the substrate. .

픽셀 피치를 확인한 후, 제 2 방향(Ⅱ)으로 정렬된 헤드의 노즐들의 피치와 픽셀 피치의 일치 여부를 판단한다. 판단 결과, 피치가 일치하는 경우, 헤드 및/또는 기판을 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동시키면서 기판에 대한 처리액 토출 공정을 진행 한다. 이와 달리, 피치가 일치하지 않는 경우, 노즐들의 처리액 토출 피치가 픽셀 피치와 일치되도록 헤드를 수평면 상에서 회전시킨다. 이후, 헤드 및/또는 기판을 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동시키면서 기판에 대한 처리액 토출 공정을 진행한다. 처리액 토출 공정이 완료된 후, 처리된 기판을 언로딩한다.After checking the pixel pitch, it is determined whether or not the pitch of the nozzles of the head aligned in the second direction (II) coincides with the pixel pitch. As a result of the determination, when the pitches match, the process liquid ejecting process for the substrate is performed while moving the head and / or the substrate in the first direction (I). Alternatively, if the pitch does not match, the head is rotated on the horizontal plane so that the treatment liquid ejection pitch of the nozzles coincides with the pixel pitch. Subsequently, the process liquid discharge process to the substrate is performed while moving the head and / or the substrate in the first direction (I). After the process liquid discharge step is completed, the processed substrate is unloaded.

픽셀의 길이 방향을 처리액 토출 공정의 진행 방향에 정렬시킨 상태에서 처리액 토출 공정을 진행하면, 노즐의 온/오프 회수 등의 처리액 토출 공정 조건이 변화되는 것을 최소화할 수 있으며, 이를 통해 처리액 토출 공정의 품질 저하를 방지할 수 있다.When the processing liquid ejecting process is performed while the longitudinal direction of the pixels is aligned with the advancing direction of the processing liquid discharging process, the processing liquid discharging process conditions such as the on / off number of nozzles can be minimized. The quality deterioration of a liquid discharge process can be prevented.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

이하에 설명된 도면들은 단지 예시의 목적을 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.The drawings described below are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 처리액 토출 방법이 사용되는 처리액 도포 설비의 구성을 보여주는 도면이다.1 is a view showing the configuration of a treatment liquid application facility in which a treatment liquid discharge method according to an embodiment of the present invention is used.

도 2는 도 1의 처리액 토출부의 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view of the processing liquid discharge part of FIG. 1. FIG.

도 3은 도 2의 처리액 토출부의 평면도이다.3 is a plan view of the processing liquid discharge part of FIG. 2.

도 4는 처리액 토출 공정의 진행 흐름을 보여주는 순서도이다.4 is a flowchart showing a flow of a process liquid discharge process.

도 5는 지지판에 로딩된 기판을 보여주는 도면이다.5 shows a substrate loaded on a support plate.

도 6은 지지판의 회전에 의해 기판이 회전된 예를 보여주는 도면이다.6 is a view showing an example in which the substrate is rotated by the rotation of the support plate.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

S: 기판 Pi: 픽셀S: Substrate Pi: Pixel

100: 기판 지지 유닛 110: 지지판100: substrate support unit 110: support plate

200: 헤드 유닛 300: 제 1 이동 유닛200: head unit 300: first moving unit

400: 제 2 이동 유닛 500: 제 1 헤드 세정 유닛400: second moving unit 500: first head cleaning unit

600: 제 2 헤드 세정 유닛 600: second head cleaning unit

Claims (4)

잉크젯 방식으로 기판에 처리액을 토출하는 방법에 있어서,In the method of discharging a processing liquid to a substrate by an inkjet method, 기판에 형성된 픽셀의 길이 방향을 확인하는 것;Identifying the longitudinal direction of the pixels formed on the substrate; 처리액 토출 공정의 진행 방향과 상기 픽셀의 길이 방향의 일치 여부에 따라 상기 기판의 회전 여부를 판단하는 것; 및Determining whether the substrate is rotated according to whether the advancing direction of the processing liquid discharge process coincides with the longitudinal direction of the pixel; And 상기 회전 여부의 판단에 따라 위치가 정렬된 상기 기판에 상기 처리액을 토출하는 것을 포함하는 처리액 토출 방법.And discharging the processing liquid to the substrate whose positions are aligned according to the determination of the rotation. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 처리액 토출 공정의 진행 방향과 상기 픽셀의 길이 방향이 상이한 경우, 상기 픽셀의 길이 방향이 상기 처리액 토출 공정의 진행 방향에 정렬되도록 상기 기판을 회전시키는 것을 더 포함하는 처리액 토출 방법.And rotating the substrate so that the longitudinal direction of the pixel is aligned with the advancing direction of the processing liquid discharging process when the advancing direction of the processing liquid discharging process is different from the longitudinal direction of the pixel. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 픽셀의 피치를 확인하는 것; 및Checking the pitch of the pixel; And 헤드에 제공된 노즐들의 처리액 토출 피치가 상기 픽셀의 피치와 일치하도록 상기 헤드를 회전시키는 것을 더 포함하는 처리액 토출 방법.And rotating the head so that the processing liquid discharge pitch of the nozzles provided in the head coincides with the pitch of the pixel. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 기판은 엘씨디(LCD)용 컬러 필터(CF) 기판이며,The substrate is a color filter (CF) substrate for LCD (LCD), 상기 처리액은 적색 잉크, 녹색 잉크, 청색 잉크 및 이들의 조합 중 어느 하나인 처리액 토출 방법.And the treatment liquid is any one of red ink, green ink, blue ink, and a combination thereof.
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