KR101098370B1 - Head cleaning unit, and chemical liquid discharging apparatus using the same - Google Patents

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KR101098370B1 KR1020090120082A KR20090120082A KR101098370B1 KR 101098370 B1 KR101098370 B1 KR 101098370B1 KR 1020090120082 A KR1020090120082 A KR 1020090120082A KR 20090120082 A KR20090120082 A KR 20090120082A KR 101098370 B1 KR101098370 B1 KR 101098370B1
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Abstract

본 발명은 헤드 세정 유닛과 이를 구비한 처리액 토출 장치를 개시한 것으로서, 블로팅 공정을 진행하는 다공성 흡수 부재는 외주면 하단부가 배스의 세정 유체에 잠기도록 배치되고, 다공성 흡수 부재의 아래에는 다공성 흡수 부재의 하단부를 가압하는 가압 부재가 배치된다.The present invention discloses a head cleaning unit and a treatment liquid discharge device including the same, wherein a porous absorbent member for performing a blotting process is disposed such that a lower end portion of the outer peripheral surface is immersed in the cleaning fluid of the bath, and a porous absorbent member is disposed below the porous absorbent member. A pressing member for urging the lower end of the member is disposed.

이러한 특징에 의하면, 헤드 세정에 사용되는 와이퍼(Wiper)와 같은 소모품을 제거하여 비용을 절감하고, 다공성 흡수 부재를 세정하여 헤드 노즐면의 세정도를 향상시킬 수 있다.According to this feature, it is possible to reduce the cost by removing consumables such as a wiper used for head cleaning, and to improve the degree of cleaning of the head nozzle surface by cleaning the porous absorbing member.

잉크젯 헤드, 블로팅, 다공성 흡수 부재, 가압 부재, 솔벤트 Inkjet Head, Blotting, Porous Absorbing Member, Pressurizing Member, Solvent

Description

헤드 세정 유닛과, 이를 구비한 처리액 토출 장치{HEAD CLEANING UNIT, AND CHEMICAL LIQUID DISCHARGING APPARATUS USING THE SAME}HEAD CLEANING UNIT, AND CHEMICAL LIQUID DISCHARGING APPARATUS USING THE SAME}

본 발명은 헤드 세정 유닛과 이를 구비한 처리액 토출 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 액적을 토출하는 잉크젯 방식에 의해 처리액을 토출하는 헤드를 세정하는 헤드 세정 유닛과, 이를 구비한 처리액 토출 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a head cleaning unit and a processing liquid discharge device having the same, and more particularly, a head cleaning unit for cleaning a head for discharging the processing liquid by an inkjet method for discharging droplets, and a processing liquid discharge having the same. Relates to a device.

최근에, 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 장치, 전계 발광 장치 등으로 불리는 전기 광학 장치인 표시 장치가 널리 이용되고 있으며, 표시 장치에 의해서 풀 컬러를 표시하는 일이 많아지고 있다.In recent years, display devices which are electro-optical devices called liquid crystal devices, electroluminescent devices, and the like have been widely used in the display portions of electronic devices such as mobile phones and portable computers, and display of full colors has been increasing by display devices. .

액정 장치에 의한 풀 컬러 표시는, 예를 들어, 액정 층에 의해서 변조되는 광을 컬러 필터에 통과시킴으로써 표시된다. 그리고 컬러 필터는, 예를 들어, 유리 등에 의해 형성된 기판의 표면에 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 도트상의 각색의 필터 요소를 소위 스트라이프 배열, 델타 배열 또는 모자이크 배열 등이라 불리는 소정의 배열로 나란히 함에 의해서 형성된다.Full color display by a liquid crystal device is displayed by, for example, passing light modulated by the liquid crystal layer through a color filter. The color filter is, for example, a filter element of red (R), green (G), and blue (B) dots on the surface of a substrate formed of glass or the like as a so-called stripe arrangement, delta arrangement, or mosaic arrangement. Formed by side by side in a predetermined arrangement.

종래, 컬러 필터의 R, G, B 등의 각색의 필터 요소를 패터닝하는 경우, 포토리소그래피법을 사용함이 알려져 있다. 그러나, 포토리소그래피법을 사용하는 경우 에는 공정이 복잡하거나, 각색의 재료 혹은 포토레지스트 등을 다량으로 소비하므로, 코스트가 높게 되는 등의 문제가 있다.It is known that the photolithographic method is conventionally used when patterning various filter elements, such as R, G, and B of a color filter. However, in the case of using the photolithography method, the process is complicated, or a large amount of various materials, photoresist, and the like are consumed, and thus there is a problem of high cost.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 액적을 토출하는 잉크젯 방식에 의해서 필터 요소의 재료(잉크)를 도트상으로 토출함으로써, 도트상 배열의 필터 요소를 형성하는 방법이 제안되어 있다.In order to solve such a problem, the method of forming the filter element of a dot arrangement by the discharge of the material (ink) of a filter element in a dot form by the inkjet system which discharges a droplet is proposed.

본 발명은 헤드 세정 공정(블로팅 공정, Blotting)의 효율 및 생산성을 향상시킬 수 있는 헤드 세정 유닛과 이를 구비한 처리액 토출 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a head cleaning unit capable of improving the efficiency and productivity of a head cleaning process (blotting process, blotting) and a treatment liquid discharge device having the same.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited thereto, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시 예에 따른 헤드 세정 유닛은, 잉크젯 헤드의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛에 있어서, 배스(Bath); 상기 배스 내에 회전 가능하게 제공되며, 상기 노즐면과 접촉하는 원통 형상의 다공성 흡수 부재; 및 상기 다공성 흡수 부재에 흡수된 액체가 방출되도록 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 가압 부재를 포함한다.In order to achieve the above object, a head cleaning unit according to an embodiment of the present invention, the head cleaning unit for cleaning the nozzle surface of the inkjet head, Bath (Bath); A cylindrical porous absorbing member rotatably provided in the bath and in contact with the nozzle face; And a pressurizing member that pressurizes the porous absorbent member to release the liquid absorbed by the porous absorbent member.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 부재는, 상기 다공성 흡수 부재와 접촉하도록 평행하게 배치되며, 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 다수의 돌출부 가 형성된 가압 롤러를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the pressing member may be disposed in parallel to contact the porous absorbing member, and may include a pressing roller having a plurality of protrusions for pressing the porous absorbing member.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 롤러는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 접촉하도록 배치될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the pressure roller may be disposed to contact the lower end of the porous absorbing member.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 배스 내에는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 상기 가압 롤러가 잠기도록 세정 유체가 채워질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a cleaning fluid may be filled in the bath so that the lower end of the porous absorbing member and the pressure roller are locked.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 롤러는, 상기 다공성 흡수 부재의 중심을 기준으로 어느 일측의 하단부와 접촉하는 제 1 가압 롤러; 및 상기 다공성 흡수 부재의 중심을 기준으로 타측의 하단부와 접촉하는 제 2 가압 롤러를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the pressure roller, the first pressure roller in contact with the lower end of any one with respect to the center of the porous absorbing member; And a second pressing roller contacting the lower end of the other side with respect to the center of the porous absorbing member.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 부재는, 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 다수의 돌출부가 형성된 가압 플레이트를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present disclosure, the pressing member may include a pressing plate having a plurality of protrusions for pressing the porous absorbing member.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 다수의 돌출부는 상기 다공성 흡수 부재의 길이 방향에 평행하게 길게 연장되고 서로 간에 이격되도록 상기 가압 플레이트에 형성될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the plurality of protrusions may be formed on the pressing plate so as to extend in parallel to the longitudinal direction of the porous absorbing member and spaced apart from each other.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 돌출부의 단면은 기어 치형 모양일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the cross section of the protrusion may have a gear tooth shape.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 플레이트는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부를 가압하도록 상기 다공성 흡수 부재의 아래에 수평 방향으로 배치될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the pressing plate may be disposed in the horizontal direction under the porous absorbing member to press the lower end of the porous absorbing member.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 플레이트를 수평 방향으로 직선 이 동시키는 제 1 구동부를 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the pressing plate may further include a first driving unit for linearly moving in the horizontal direction.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 다공성 흡수 부재를 상하 방향으로 직선 이동시키는 제 2 구동부를 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the porous absorbing member may further include a second driving unit for linearly moving in the vertical direction.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 배스 내에는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 상기 가압 플레이트가 잠기도록 세정 유체가 채워질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a cleaning fluid may be filled in the bath so that the lower end of the porous absorbing member and the pressure plate are locked.

상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시 예에 따른 처리액 토출 장치는, 기판이 놓이며 제 1 방향으로 직선 이동 가능한 기판 지지 유닛; 상기 기판 지지 유닛의 이동 경로 상부에 이동 가능하게 제공되며, 상기 기판상에 처리액을 토출하는 복수 개의 잉크젯 헤드들; 및 상기 기판 지지 유닛의 일 측에 제공되며, 상기 잉크젯 헤드들의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛을 포함하되, 상기 헤드 세정 유닛은, 배스(Bath); 상기 배스 내에 회전 가능하게 제공되며, 상기 노즐면과 접촉하는 원통 형상의 다공성 흡수 부재; 상기 다공성 흡수 부재에 흡수된 액체가 방출되도록 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 가압 부재를 포함한다.In order to achieve the above object, a processing liquid discharge device according to an embodiment of the present invention, the substrate support unit is placed on the substrate linearly movable in the first direction; A plurality of inkjet heads movably provided on a movement path of the substrate support unit and discharging a processing liquid onto the substrate; And a head cleaning unit provided on one side of the substrate support unit, the head cleaning unit cleaning the nozzle surfaces of the inkjet heads, wherein the head cleaning unit comprises: a bath; A cylindrical porous absorbing member rotatably provided in the bath and in contact with the nozzle face; It includes a pressing member for pressing the porous absorbing member so that the liquid absorbed in the porous absorbing member is discharged.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 부재는, 상기 다공성 흡수 부재와 접촉하도록 평행하게 배치되며, 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 다수의 돌출부가 형성된 가압 롤러를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present disclosure, the pressing member may be disposed in parallel to contact the porous absorbing member, and may include a pressing roller having a plurality of protrusions for pressing the porous absorbing member.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 롤러는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 접촉하도록 배치되며, 상기 배스 내에는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 상기 가압 롤러가 잠기도록 세정 유체가 채워질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the pressure roller is disposed to contact the lower end of the porous absorbing member, the cleaning fluid may be filled in the bath so that the lower end of the porous absorbing member and the pressure roller is locked.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 롤러는, 상기 다공성 흡수 부재의 중심을 기준으로 어느 일측의 하단부와 접촉하는 제 1 가압 롤러; 및 상기 다공성 흡수 부재의 중심을 기준으로 타측의 하단부와 접촉하는 제 2 가압 롤러를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the pressure roller, the first pressure roller in contact with the lower end of any one with respect to the center of the porous absorbing member; And a second pressing roller contacting the lower end of the other side with respect to the center of the porous absorbing member.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 부재는, 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 다수의 돌출부가 형성된 가압 플레이트를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present disclosure, the pressing member may include a pressing plate having a plurality of protrusions for pressing the porous absorbing member.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 플레이트는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부를 가압하도록 수평 방향으로 배치되며, 상기 배스 내에는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 상기 가압 플레이트가 잠기도록 세정 유체가 채워질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the pressure plate is disposed in the horizontal direction to press the lower end of the porous absorbing member, the cleaning fluid may be filled in the bath so that the lower end of the porous absorbing member and the pressure plate is submerged. .

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 가압 플레이트를 수평 방향으로 직선 이동시키는 제 1 구동부를 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the pressing plate may further include a first driving unit which linearly moves in the horizontal direction.

본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 다공성 흡수 부재를 상하 방향으로 직선 이동시키는 제 2 구동부를 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the porous absorbing member may further include a second driving unit for linearly moving in the vertical direction.

본 발명에 의하면, 헤드 세정에 사용되는 일회성 소모 부품인 와이퍼(Wiper)를 반복 사용이 가능한 다공성 흡수 부재로 대체하여, 비용을 절감하고 이를 통해 생산성을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, by replacing the wiper, which is a one-time consumable part used for head cleaning, with a porous absorbent member that can be used repeatedly, the cost can be reduced and productivity can be improved.

그리고, 본 발명에 의하면, 다공성 흡수 부재를 세정할 수 있다.And according to this invention, a porous absorbent member can be wash | cleaned.

또한, 본 발명에 의하면, 헤드 노즐면의 세정도를 향상시킬 수 있다.Moreover, according to this invention, the washing degree of a head nozzle surface can be improved.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 헤드 세정 유닛과 이를 구비한 처리액 토출 장치를 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a head cleaning unit and a treatment liquid discharge device including the same according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are assigned to the same components as much as possible, even if shown on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

( 실시 예 )(Example)

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 처리액 도포 설비의 구성을 보여주는 도면이다. 도 1의 처리액 도포 설비(1)는 대상물에 잉크젯 방식으로 처리액을 도포한다. 예를 들어, 대상물은 액정 디스플레이 패널의 컬러 필터 기판일 수 있으며, 처리액은 용매에 안료 입자가 혼합된 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 잉크일 수 있다. 잉크는 컬러 필터 기판상에 격자 모양의 패턴으로 배열된 블랙매트릭스의 내부 영역에 도포될 수 있다.1 is a view showing the configuration of a treatment liquid application facility according to an embodiment of the present invention. The treatment liquid applying equipment 1 of FIG. 1 applies a treatment liquid to an object by an inkjet method. For example, the object may be a color filter substrate of a liquid crystal display panel, and the treatment liquid may be red (R), green (G), or blue (B) ink in which pigment particles are mixed in a solvent. The ink may be applied to the interior regions of the black matrix arranged in a grid pattern on the color filter substrate.

도 1을 참조하면, 처리액 도포 설비(1)는 처리액 토출부(10), 기판 이송부(20), 베이크부(30), 로딩부(40), 언로딩부(50), 처리액 공급부(60), 그리고 제어부(70)를 포함한다. 처리액 토출부(10)와 기판 이송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 처리액 토출부(10)를 중심 으로 기판 이송부(20)와 마주하는 위치에 처리액 공급부(60)와 제어부(70)가 배치되며, 처리액 공급부(60)와 제어부(70)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 이송부(20)를 중심으로 처리액 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(40)와 언로딩부(50)가 배치되며, 로딩부(40)와 언로딩부(50)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 그리고 베이크부(30)는 기판 이송부(20)의 일측에 인접하게 배치될 수 있다.Referring to FIG. 1, the treatment liquid applying apparatus 1 may include a treatment liquid discharge part 10, a substrate transfer part 20, a baking part 30, a loading part 40, an unloading part 50, and a treatment liquid supply part. 60, and a control unit 70. The processing liquid discharge part 10 and the substrate transfer part 20 may be arranged in a line in the first direction I and may be adjacent to each other. The processing liquid supply unit 60 and the control unit 70 are disposed at positions facing the substrate transfer unit 20 with respect to the processing liquid discharge unit 10, and the processing liquid supply unit 60 and the control unit 70 are in the second direction. It can be arranged in line with (II). The loading part 40 and the unloading part 50 are disposed at a position facing the processing liquid discharge part 10 with respect to the substrate transfer part 20, and the loading part 40 and the unloading part 50 are formed of a substrate. It can be arranged in two directions (II). The bake unit 30 may be disposed adjacent to one side of the substrate transfer unit 20.

여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 처리액 토출부(10)와 기판 이송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.Here, the first direction (I) is an arrangement direction of the processing liquid discharge unit 10 and the substrate transfer unit 20, the second direction (II) is a direction perpendicular to the first direction (I) on a horizontal plane, and the third direction The direction III is a direction perpendicular to the first direction I and the second direction II.

처리액(잉크)이 도포될 기판은 로딩부(40)로 반입된다. 기판 이송부(40)는 로딩부(40)에 반입된 기판을 처리액 토출부(10)로 이송한다. 처리액 토출부(10)는 처리액 공급부(60)로부터 처리액을 공급받고, 잉크젯 방식으로 기판상에 처리액을 토출한다. 기판 이송부(20)는 처리액 토출부(10)로부터 베이크부(30)로 기판을 이송한다. 베이크부(30)는 기판을 가열하여 기판에 토출된 처리액(잉크)의 고형 성분을 제외한 나머지 액상 물질(용매)을 증발시킨다. 기판 이송부(20)는 베이크부(30)로부터 언로딩부(50)로 기판을 이송한다. 처리액이 도포된 기판은 언로딩부(50)로부터 반출된다. 그리고, 제어부(70)는 처리액 토출부(10), 기판 이송부(20), 베이크부(30), 로딩부(40), 언로딩부(50), 그리고 처리액 공급부(60)의 전반적인 동작을 제어한다.The substrate to which the treatment liquid (ink) is to be applied is loaded into the loading part 40. The substrate transfer part 40 transfers the substrate carried in the loading part 40 to the processing liquid discharge part 10. The processing liquid discharge unit 10 receives the processing liquid from the processing liquid supply unit 60 and discharges the processing liquid onto the substrate by an inkjet method. The substrate transfer unit 20 transfers the substrate from the processing liquid discharge unit 10 to the bake unit 30. The baking unit 30 heats the substrate to evaporate the remaining liquid substance (solvent) except for the solid component of the processing liquid (ink) discharged on the substrate. The substrate transfer unit 20 transfers the substrate from the bake unit 30 to the unloading unit 50. The substrate to which the treatment liquid is applied is carried out from the unloading part 50. In addition, the control unit 70 performs overall operations of the processing liquid discharge unit 10, the substrate transfer unit 20, the baking unit 30, the loading unit 40, the unloading unit 50, and the processing liquid supply unit 60. To control.

도 2는 도 1의 처리액 토출부의 사시도이고, 도 3은 도 2의 처리액 토출부의 평면도이다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 처리액 토출부(10)는 기판 지지 유닛(100), 헤드 유닛(200), 이동 유닛(300,400), 제 1 헤드 세정 유닛(500), 그리고 제 2 헤드 세정 유닛(600)을 포함한다.FIG. 2 is a perspective view of the processing liquid discharge part of FIG. 1, and FIG. 3 is a plan view of the processing liquid discharge part of FIG. 2. 2 and 3, the processing liquid discharge part 10 may include a substrate support unit 100, a head unit 200, a moving unit 300 and 400, a first head cleaning unit 500, and a second head cleaning. Unit 600.

기판 지지 유닛(100)은 기판이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 모터(120)의 회전 축이 연결된다. 회전 구동 모터(120)는 지지판(110)에 놓인 기판이 기설정된 위치에 정렬되도록 지지판(110)을 회전시킨다. The substrate support unit 100 has a support plate 110 on which a substrate is placed. The support plate 110 may be a rectangular plate. The lower surface of the support plate 110 is connected to the rotation axis of the rotation drive motor 120. The rotation drive motor 120 rotates the support plate 110 so that the substrate placed on the support plate 110 is aligned at a predetermined position.

지지판(110)과 회전 구동 모터(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 모터(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중앙부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장되며, 슬라이더(132)는 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다.The support plate 110 and the rotation drive motor 120 are linearly moved in the first direction I by the linear drive member 130. The linear drive member 130 includes a slider 132 and a guide member 134. The rotation drive motor 120 is installed on the upper surface of the slider 132. The guide member 134 extends in the first direction (I) at the central portion of the upper surface of the base (B). A linear motor (not shown) is built in the slider 132, and the slider 132 linearly moves in the first direction I along the guide member 134.

헤드 유닛(200)은 기판에 처리액을 토출한다. 헤드 유닛(200)은 잉크젯 헤드들(210a, 210b)과, 잉크젯 헤드들(210a, 210b)이 결합되는 브라켓(220)을 포함한다. 잉크젯 헤드들(210a, 210b) 중 하나의 잉크젯 헤드(210a)는 브라켓(220)의 제 1 방향(Ⅰ)을 향하는 일 측면에 결합되고, 다른 하나의 잉크젯 헤드(210b)는 브라켓(220)의 제 1 방향(Ⅰ)을 향하는 다른 일 측면에 결합될 수 있다.The head unit 200 discharges the processing liquid onto the substrate. The head unit 200 includes inkjet heads 210a and 210b and a bracket 220 to which the inkjet heads 210a and 210b are coupled. One inkjet head 210a of the inkjet heads 210a and 210b is coupled to one side facing the first direction I of the bracket 220, and the other inkjet head 210b is connected to the bracket 220. It may be coupled to the other side facing the first direction (I).

잉크젯 헤드들(210a, 210b) 각각은 적색(R) 헤드(212), 녹색(G) 헤드(214) 및 청색(B) 헤드(216)를 포함한다. 적색(R) 헤드(212)는 기판상의 적색 화소 형성을 위해 적색 잉크를 토출하고, 녹색(G) 헤드(214)는 녹색 화소의 형성을 위해 녹색 잉크를 토출하며, 청색(B) 헤드(216)는 청색 화소의 형성을 위해 청색 잉크를 토출할 수 있다. 적색(R) 헤드(212), 녹색(G) 헤드(214) 및 청색(B) 헤드(216)는 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 일렬로 배열될 수 있으며, 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 지지판(110)에 놓인 기판(S)에 처리액을 토출한다.Each of the inkjet heads 210a and 210b includes a red (R) head 212, a green (G) head 214, and a blue (B) head 216. The red (R) head 212 discharges red ink to form red pixels on the substrate, and the green (G) head 214 discharges green ink to form green pixels, and the blue (B) head 216 ) May eject blue ink to form a blue pixel. The red (R) head 212, the green (G) head 214, and the blue (B) head 216 may be arranged in a line along the second direction (II), and the support plate may be an inkjet method for ejecting droplets. The processing liquid is discharged to the substrate S placed on the 110.

이동 유닛(300,400)들은 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에서 헤드 유닛(200)을 이동시킬 수 있다. 제 1 이동 유닛(300)은 헤드 유닛(200)을 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키고, 제 2 이동 유닛(400)은 헤드 유닛(200)을 제 2 방향(Ⅱ)과 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시킬 수 있다.The moving units 300 and 400 may move the head unit 200 in the upper portion of the path in which the support plate 110 is moved. The first moving unit 300 linearly moves the head unit 200 in the first direction (I), and the second moving unit 400 moves the head unit 200 in the second direction (II) and the third direction ( Can be moved linearly.

제 2 이동 유닛(400)은 수평 지지대(410)와 슬라이더(420)를 포함한다. 수평 지지대(410)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 베이스(B)의 상부에 위치한다. 수평 지지대(410)에는 가이드 레일(412)이 제공된다. 가이드 레일(412)은 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 길게 연장된다. 슬라이더(420)는 가이드 레일(412)을 따라 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동한다. 슬라이더(420)에는 직선 구동력을 제공하는 리니어 모터(미도시)가 내장된다. 헤드 유닛(200)의 브라켓(220)이 슬라이더(420)에 결합되고, 슬라이더(420)의 직선 이동에 의해 브라켓(220)에 설치된 잉크젯 헤드들(210a,210b)이 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동한다. 한편, 슬라이 더(420)에는 헤드 유닛(200)의 브라켓(220)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시키는 구동 부재(미도시)가 제공된다.The second moving unit 400 includes a horizontal support 410 and a slider 420. The horizontal support 410 is positioned above the base B such that the longitudinal direction thereof faces the second direction II. The horizontal support 410 is provided with a guide rail 412. The guide rail 412 extends long so that a longitudinal direction may face a 2nd direction II. The slider 420 moves linearly in the second direction II along the guide rail 412. The slider 420 includes a linear motor (not shown) that provides a linear driving force. The bracket 220 of the head unit 200 is coupled to the slider 420, and the inkjet heads 210a and 210b installed in the bracket 220 are moved in the second direction II by the linear movement of the slider 420. Go straight. On the other hand, the slider 420 is provided with a driving member (not shown) for linearly moving the bracket 220 of the head unit 200 in the third direction (III).

제 1 이동 유닛(300)은 가이드 레일들(310)과 슬라이더들(320)을 포함한다. 가이드 레일(310)들은 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 길게 연장되고, 기판 지지 유닛(100)의 가이드 부재(134)를 중심으로 베이스(B) 상면의 양측 가장자리부에 각각 배치된다. 슬라이더들(320) 각각은 각각의 가이드 레일(310)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동되도록 가이드 레일(310)에 결합된다. 슬라이더들(320)에는 직선 구동력을 제공하는 리니어 모터(미도시)를 내장된다. 제 2 이동 유닛(400)의 수평 지지대(410)의 양단이 슬라이더들(320)에 각각 연결된다. 슬라이더들(320)이 리니어 모터(미도시)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동되면, 수평 지지대(410) 및 이에 결합된 브라켓(220)과 잉크젯 헤드들(210a,210b)이 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.The first moving unit 300 includes guide rails 310 and sliders 320. The guide rails 310 are elongated so that the longitudinal direction thereof faces the first direction I, and are disposed at both edge portions of the upper surface of the base B around the guide member 134 of the substrate support unit 100. . Each of the sliders 320 is coupled to the guide rail 310 so as to linearly move in the first direction I along the respective guide rail 310. The sliders 320 include a linear motor (not shown) that provides a linear driving force. Both ends of the horizontal support 410 of the second moving unit 400 are connected to the sliders 320, respectively. When the sliders 320 are linearly moved in the first direction (I) by a linear motor (not shown), the horizontal support 410 and the bracket 220 and the inkjet heads 210a and 210b coupled thereto are the first. It is linearly moved in the direction (I).

헤드 유닛(200)은 제 1 이동 유닛(300)과 제 2 이동 유닛(400)에 의해 제 1 방향(Ⅰ), 제 2 방향(Ⅱ), 그리고 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있고, 기판이 놓이는 지지판(110)은 슬라이더(132) 및 가이드 부재(134)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 기판상에 처리액 토출시, 헤드 유닛(200)은 기설정된 위치에 고정되고, 기판이 놓이는 지지판(110)이 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동될 수 있다. 이와 달리, 기판이 놓이는 지지판(110)이 기설정된 위치에 고정되고, 헤드 유닛(200)이 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동될 수 있다.The head unit 200 may be linearly moved in the first direction (I), the second direction (II), and the third direction (III) by the first moving unit 300 and the second moving unit 400. The support plate 110 on which the substrate is placed may be linearly moved in the first direction I by the slider 132 and the guide member 134. When discharging the processing liquid onto the substrate, the head unit 200 may be fixed at a predetermined position, and the supporting plate 110 on which the substrate is placed may move in the first direction (I). Alternatively, the support plate 110 on which the substrate is placed may be fixed at a predetermined position, and the head unit 200 may be moved in the first direction (I).

제 1 헤드 세정 유닛(500)과, 제 2 헤드 세정 유닛(600)은 잉크젯 헤드들(210a,210b)의 노즐 면, 즉 처리액을 토출하는 노즐들이 형성된 면을 주기적으로 세정한다. 통상적으로, 1 매의 기판에 대한 처리액 토출 공정이 진행된 후, 잉크젯 헤드들(210a,210b)의 처리액 토출면의 세정이 진행될 수 있다.The first head cleaning unit 500 and the second head cleaning unit 600 periodically clean nozzle surfaces of the inkjet heads 210a and 210b, that is, surfaces on which nozzles for discharging the processing liquid are formed. Typically, after the process liquid ejecting process is performed on one substrate, cleaning of the process liquid ejecting surfaces of the inkjet heads 210a and 210b may proceed.

제 1 헤드 세정 유닛(500)과 제 2 헤드 세정 유닛(600)은 베이스(B) 상면의 기판 지지 유닛(100)의 일측에 제공될 수 있으며, 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치될 수 있다. 잉크젯 헤드들(210a,210b)은 제 1 이동 유닛(300)과 제 2 이동 유닛(400)에 의해 제 1 헤드 세정 유닛(500)과 제 2 헤드 세정 유닛(600)의 상부로 이동되고, 세정 공정의 진행 중 제 1 헤드 세정 유닛(500)과 제 2 헤드 세정 유닛(500,600)의 상부에서 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동될 수 있다.The first head cleaning unit 500 and the second head cleaning unit 600 may be provided on one side of the substrate support unit 100 on the upper surface of the base B, and may be arranged in a line in the first direction (I). have. The inkjet heads 210a and 210b are moved to the top of the first head cleaning unit 500 and the second head cleaning unit 600 by the first moving unit 300 and the second moving unit 400 and are cleaned. During the process, the first head cleaning unit 500 and the second head cleaning unit (500, 600) may be moved in the first direction (I).

제 1 헤드 세정 유닛(500)은 퍼징(Purging) 공정과 블레이딩(Blading) 공정을 진행하고, 제 2 헤드 세정 유닛(600)은 블로팅(Blotting) 공정을 진행한다. 퍼징(Purging) 공정, 블레이딩(Blading) 공정, 그리고 블로팅(Blotting) 공정은 순차적으로 진행된다. 퍼징(Purging) 공정은 잉크젯 헤드들(210a,210b)의 내부에 수용된 처리액의 일부를 고압으로 분사하는 공정이다. 블레이딩(Blading) 공정은, 퍼징(Purging) 공정 후, 잉크젯 헤드들(210a,210b)의 처리액 토출면에 잔류하는 처리액을 비접촉 방식으로 제거하는 공정이다. 블로팅(Blotting) 공정은, 블레이딩(Blading) 공정 후, 잉크젯 헤드들(210a,210b)의 처리액 토출면에 잔류하는 처리액을 접촉 방식으로 제거하는 공정이다.The first head cleaning unit 500 performs a purging process and a blading process, and the second head cleaning unit 600 performs a blotting process. The purging process, the blading process, and the blotting process are performed sequentially. The purging process is a process of spraying a portion of the processing liquid contained in the inkjet heads 210a and 210b at a high pressure. The blading process is a process of removing the process liquid remaining on the process liquid discharge surfaces of the inkjet heads 210a and 210b in a non-contact manner after a purging process. The blotting process is a process of removing the treatment liquid remaining on the treatment liquid discharge surfaces of the inkjet heads 210a and 210b by a contact method after the blading process.

제 1 헤드 세정 유닛(500)은 퍼징(Purging) 공정과 블레이딩(Blading) 공정을 진행한다. 잉크젯 헤드들(212,214,216)은, 기판에 대한 처리액 토출 공정의 진행 후, 제 1 및 제 2 이동 유닛(300,400)에 의해 제 1 헤드 세정 유닛(500)의 상부로 이동된다. 잉크젯 헤드들(212,214,216)은 압력 조절 부재(도 4의 도면 번호 213)가 제공하는 양압에 의해 제 1 헤드 세정 유닛(500)의 배스(미도시)로 처리액을 토출한다.(퍼징 공정)The first head cleaning unit 500 performs a purging process and a blading process. The inkjet heads 212, 214, 216 are moved to the top of the first head cleaning unit 500 by the first and second moving units 300, 400 after the process of discharging the processing liquid to the substrate. The inkjet heads 212, 214, and 216 discharge the processing liquid to the bath (not shown) of the first head cleaning unit 500 by the positive pressure provided by the pressure regulating member (reference numeral 213 of FIG. 4).

이후, 잉크젯 헤드들(212,214,216)은 노즐면에 잔류한 처리액이 블레이드(미도시)에 접촉되도록 아래로 이동한다. 블레이드들은 잉크젯 헤드들(212,214,216)의 노즐면에 잔류하는 처리액과 접촉하여 노즐면으로부터 처리액을 제거한다. 이때, 잉크젯 헤드들(212,214,216)의 노즐면과 블레이드는 비접촉 상태를 유지하면서 블레이드가 노즐면의 처리액을 제거한다.(블레이딩 공정) Thereafter, the inkjet heads 212, 214, and 216 move downward so that the treatment liquid remaining on the nozzle surface contacts the blade (not shown). The blades contact the treatment liquid remaining on the nozzle face of the inkjet heads 212, 214, 216 to remove the treatment liquid from the nozzle face. At this time, the nozzle surface of the inkjet heads 212, 214, 216 is in contact with the blade while the blade removes the treatment liquid from the nozzle surface.

제 2 헤드 세정 유닛(600)은 블로팅(Blotting) 공정을 진행한다. 블로팅(Blotting) 공정은, 블레이딩(Blading) 공정 후, 잉크젯 헤드(212)의 처리액 토출면에 잔류하는 처리액을 접촉 방식으로 제거하는 공정이다.The second head cleaning unit 600 undergoes a blotting process. A blotting process is a process of removing the process liquid remaining on the process liquid discharge surface of the inkjet head 212 by a contact method after the blading process.

도 4는 도 2 및 도 3의 제 2 헤드 세정 유닛의 측단면도이고, 도 5는 도 4의 제 2 헤드 세정 유닛을 다른 측면에서 바라본 측단면도이다. 도 4 및 도 5를 참조하면, 제 2 헤드 세정 유닛(600)은, 배스(Bath, 610), 다공성 흡수 부재(620), 회전 구동 부재(630), 그리고 가압 부재(640)를 포함한다.4 is a side cross-sectional view of the second head cleaning unit of FIGS. 2 and 3, and FIG. 5 is a side cross-sectional view of the second head cleaning unit of FIG. 4 viewed from another side. 4 and 5, the second head cleaning unit 600 includes a bath 610, a porous absorbing member 620, a rotation driving member 630, and a pressing member 640.

배스(610)는 상부가 개방된 통 형상을 가진다. 배스(610)의 내측 하부에는 세정 유체가 담긴다. 세정 유체로는 솔벤트(Solvent)가 사용될 수 있다.The bath 610 has a cylindrical shape with an open top. The cleaning fluid is contained in the inner lower portion of the bath 610. Solvent may be used as the cleaning fluid.

다공성 흡수 부재(610)는 잉크젯 헤드(212)의 노즐면과 접촉하여, 노즐면에 잔류하는 처리액을 제거한다. 처리액의 흡수에 의해 노즐면의 잔류 처리액이 제거된다. 다공성 흡수 부재(620)는 원통 형상을 가진다. 다공성 흡수 부재(620)는 길이 방향이 잉크젯 헤드(212)의 노즐면에 제공된 복수 개의 노즐들(219)의 배열 방향을 향하도록 제공된다. 다공성 흡수 부재(620)는 외주면 하단부가 세정 유체에 잠기도록 배스(610) 내에 수평하게 배치된다. 다공성 흡수 부재(610)는 합성 수지 재질의 스펀지(Sponge)일 수 있으며, 구체적으로 폴리올레핀(Polyolefin) 재질의 스펀지일 수 있다. The porous absorbing member 610 contacts the nozzle face of the inkjet head 212 to remove the treatment liquid remaining on the nozzle face. By the absorption of the treatment liquid, the residual treatment liquid on the nozzle surface is removed. The porous absorbing member 620 has a cylindrical shape. The porous absorbing member 620 is provided so that the longitudinal direction is directed toward the arrangement direction of the plurality of nozzles 219 provided on the nozzle face of the inkjet head 212. The porous absorbent member 620 is disposed horizontally in the bath 610 such that the lower end of the outer peripheral surface is immersed in the cleaning fluid. The porous absorbing member 610 may be a sponge made of synthetic resin, and specifically, may be a sponge made of polyolefin.

종래에는 접촉 방식으로 노즐면의 잔류 처리액을 제거하기 위한 수단으로 와이퍼(Wiper)가 사용되었으나, 와이퍼의 극세사가 노즐면의 노즐에 삽입되어 노즐이 막히는 문제점이 있었다. 그러나, 본 발명은 다공성 흡수 부재(610), 즉 합성 수지 재질의 스펀지를 사용하여 노즐면의 잔류 처리액을 제거하기 때문에, 노즐(219)에 이물질이 삽입되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 일회성 소모품으로 사용되는 와이퍼(Wiper)를 반복 사용이 가능한 다공성 흡수 부재(610)로 대체하므로, 이에 따른 비용 절감을 통해 생산성을 향상시킬 수 있다.Conventionally, a wiper has been used as a means for removing the residual treatment liquid on the nozzle surface by a contact method, but the microfiber of the wiper has been inserted into the nozzle on the nozzle surface to block the nozzle. However, since the present invention removes the residual treatment liquid on the nozzle surface by using the porous absorbing member 610, that is, a synthetic resin sponge, it is possible to prevent foreign substances from being inserted into the nozzle 219. In addition, since the wiper used as a one-time consumable is replaced with the porous absorbing member 610 that can be used repeatedly, productivity can be improved through cost reduction.

다공성 흡수 부재(620)의 양단에는 회전 축(622)이 각각 연결된다. 회전 축들(622)은 베어링 부재(624)에 의해 회전 가능하게 지지된다. 베어링 부재들(624)은 배스(610)의 측벽에 결합된다. 회전축들 중 어느 하나의 회전 축(622)에는 회전 구동 부재(630)가 연결된다. 회전 구동 부재(630)는 구동 모터(632)와, 구동 모 터(632)에 연결된 구동 축(634)을 포함한다. 구동 축(634)은 커플링 부재 등에 의해 회전 축(622)에 연결되며, 구동 모터(63)의 회전력을 회전축(622)에 전달한다.Rotating shafts 622 are connected to both ends of the porous absorbing member 620, respectively. The rotation axes 622 are rotatably supported by the bearing member 624. Bearing members 624 are coupled to sidewalls of bath 610. The rotation drive member 630 is connected to any one of the rotation shafts 622. The rotary drive member 630 includes a drive motor 632 and a drive shaft 634 connected to the drive motor 632. The drive shaft 634 is connected to the rotation shaft 622 by a coupling member or the like, and transmits the rotational force of the drive motor 63 to the rotation shaft 622.

가압 부재(640)는 다공성 흡수 부재(620)에 흡수된 노즐면의 처리액과 세정 유체가 방출되도록 다공성 흡수 부재(620)를 가압한다. 가압 부재(640)는 제 1 가압 롤러(640a)와 제 2 가압 롤러(640b)를 포함한다. 제 1 및 제 2 가압 롤러(640a,640b)는 원통 형상을 가지며, 원주면에는 다공성 흡수 부재(620)를 가압하는 다수의 돌출부들(642a,642b)이 형성된다.The pressing member 640 pressurizes the porous absorbing member 620 to discharge the treatment liquid and the cleaning fluid of the nozzle surface absorbed by the porous absorbing member 620. The pressing member 640 includes a first pressing roller 640a and a second pressing roller 640b. The first and second pressure rollers 640a and 640b have a cylindrical shape, and a plurality of protrusions 642a and 642b are formed on the circumferential surface to press the porous absorbing member 620.

제 1 및 제 2 가압 롤러(640a,640b)는 배스(610)에 담긴 세정 유체에 잠기고, 다공성 흡수 부재(620)와 접촉하도록 다공성 흡수 부재(620)에 평행하게 배치된다. 예를 들어, 제 1 가압 롤러(640a)는 다공성 흡수 부재(620)의 중심을 기준으로 어느 일측의 하단부와 접촉하도록 배치되고, 제 2 가압 롤러(640b)는 다공성 흡수 부재(620)의 중심을 기준으로 타측의 하단부와 접촉하도록 배치될 수 있다. 제 1 가압 롤러(640a)와 제 2 가압 롤러(640b)는 다공성 흡수 부재(620)의 중심을 기준으로 대칭을 이루도록 배치될 수 있다. The first and second pressure rollers 640a and 640b are immersed in the cleaning fluid contained in the bath 610 and are disposed parallel to the porous absorbing member 620 to contact the porous absorbing member 620. For example, the first pressure roller 640a is disposed to contact the lower end of any one side with respect to the center of the porous absorbent member 620, and the second pressure roller 640b is disposed at the center of the porous absorbent member 620. It may be arranged to contact the lower end of the other side as a reference. The first pressure roller 640a and the second pressure roller 640b may be arranged to be symmetrical with respect to the center of the porous absorbing member 620.

제 1 가압 롤러(640a)의 양단에는 회전 축(644a)이 각각 연결된다. 회전 축들(644a)은 베어링 부재(646a)에 의해 회전 가능하게 지지되며, 베어링 부재들(646a)은 배스(610)의 측벽에 결합된다. 제 2 가압 롤러(640b의 양단에는 회전 축(644b)이 각각 연결된다. 회전 축들(644b)은 베어링 부재(646b)에 의해 회전 가능하게 지지되며, 베어링 부재들(646b)은 배스(610)의 측벽에 결합된다.Rotating shafts 644a are connected to both ends of the first pressing roller 640a, respectively. The rotation axes 644a are rotatably supported by the bearing member 646a, and the bearing members 646a are coupled to the sidewall of the bath 610. Rotating shafts 644b are connected to both ends of the second pressure roller 640b, respectively, and the rotating shafts 644b are rotatably supported by the bearing member 646b, and the bearing members 646b of the bath 610 are rotated. Is coupled to the side wall.

잉크젯 헤드(212)는, 제 1 헤드 세정 유닛(도 2의 도면 번호 500)에서의 퍼 징 공정과 블레이딩 공정 후, 제 1 및 제 2 이동 유닛(도 2의 도면 번호 300,400)에 의해 제 2 헤드 세정 유닛(600)의 다공성 흡수 부재(620) 상부로 이동된다. 이후, 잉크젯 헤드(212)는 다공성 흡수 부재(620)와 접촉하도록 제 2 이동 유닛(400)에 의해 하강된다. 다공성 흡수 부재(620)는 잉크젯 헤드(212)의 노즐면과 접촉한 상태에서 회전하면서, 노즐면에 잔류된 처리액을 흡수한다. 다공성 흡수 부재(620)는 회전하므로, 잉크젯 헤드(212)와 접촉하는 다공성 흡수 부재(620)의 부분은 원주 방향을 따라 지속적으로 변화된다.The inkjet head 212 is secondly formed by the first and second moving units (No. 300,400 in Fig. 2) after the purging step and the blading step in the first head cleaning unit (No. 500 in Fig. 2). The porous absorbing member 620 of the head cleaning unit 600 is moved above. Thereafter, the inkjet head 212 is lowered by the second moving unit 400 to contact the porous absorbing member 620. The porous absorbing member 620 rotates while in contact with the nozzle face of the inkjet head 212, and absorbs the treatment liquid remaining on the nozzle face. Since the porous absorbent member 620 rotates, the portion of the porous absorbent member 620 that contacts the inkjet head 212 is continuously changed along the circumferential direction.

노즐면의 잔류 처리액을 흡수한 다공성 흡수 부재(620)의 부분은 다공성 흡수 부재(620)의 회전에 의해 세정 유체에 잠기고, 또한 제 1 및 제 2 가압 롤러(640a,640b)의 돌출부들(642a,642b)에 의해 가압된다. 다공성 흡수 부재(620)는 스펀지 재질로 구비되므로, 돌출부들(642a,642b)의 가압력이 다공성 흡수 부재(620)에 가해지면, 다공성 흡수 부재(620)에 흡수된 세정 유체와 처리액은 방출된다. 이러한 과정을 통해, 노즐면의 잔류 처리액을 흡수한 다공성 흡수 부재(620)의 부분이 세정된다. 세정된 다공성 흡수 부재(620)의 부분은 다공성 흡수 부재(620)의 회전에 의해 다시 잉크젯 헤드(212)의 노즐면에 접촉된다. 이때, 다공성 흡수 부재(620)는 세정된 상태이므로, 잉크젯 헤드(212) 노즐면의 세정도를 높일 수 있을 뿐만 아니라, 다공성 흡수 부재(620)에 의한 잉크젯 헤드(212) 노즐면의 역오염을 방지할 수 있다.The portion of the porous absorbent member 620 that has absorbed the residual treatment liquid on the nozzle face is immersed in the cleaning fluid by the rotation of the porous absorbent member 620, and the protrusions of the first and second pressure rollers 640a and 640b ( 642a, 642b). Since the porous absorbent member 620 is formed of a sponge material, when the pressing force of the protrusions 642a and 642b is applied to the porous absorbent member 620, the cleaning fluid and the processing liquid absorbed by the porous absorbent member 620 are released. . Through this process, the portion of the porous absorbing member 620 that absorbs the residual treatment liquid on the nozzle surface is cleaned. The portion of the cleaned porous absorbent member 620 is in contact with the nozzle face of the inkjet head 212 again by the rotation of the porous absorbent member 620. At this time, since the porous absorbing member 620 is cleaned, not only the cleaning degree of the nozzle surface of the inkjet head 212 can be improved, but also the reverse contamination of the nozzle surface of the inkjet head 212 by the porous absorbing member 620 is prevented. It can prevent.

도 6은 제 2 헤드 세정 유닛의 다른 실시 예를 보여주는 측단면도이고, 도 7 은 도 6의 다공성 흡수 부재와 가압 플레이트의 평면도이다.6 is a side cross-sectional view showing another embodiment of the second head cleaning unit, and FIG. 7 is a plan view of the porous absorbent member and the pressure plate of FIG. 6.

도 6 및 도 7을 참조하면, 제 2 헤드 세정 유닛(600')은, 배스(Bath, 610'), 다공성 흡수 부재(620'), 회전 구동 부재(미도시), 그리고 가압 부재(640')를 포함한다. 도 6의 실시 예는 가압 부재(640')를 제외하고 도 4의 실시 예와 동일하므로, 동일한 구성 요소들에 대한 설명은 생략한다.6 and 7, the second head cleaning unit 600 ′ may include a bath 610 ′, a porous absorbing member 620 ′, a rotation drive member (not shown), and a pressing member 640 ′. ). Since the embodiment of FIG. 6 is the same as the embodiment of FIG. 4 except for the pressing member 640 ', the description of the same elements will be omitted.

가압 부재(640')는 가압 플레이트(642'), 그리고 제 1 및 제 2 구동부(646',648')을 포함한다. 가압 플레이트(642')는 평판 형상으로 제공될 수 있으며, 세정 유체에 잠기도록 다공성 흡수 부재(620')의 아래에 수평하게 배치된다. 가압 플레이트(642')의 상면에는 다공성 흡수 부재(620')의 하단부를 가압하는 다수의 돌출부들(644')이 돌출 형성된다. 돌출부들(644')은 다공성 흡수 부재(620')의 길이 방향에 평행하게 길게 연장되고, 서로 간에 이격되도록 가압 플레이트(642')의 상면에 돌출 형성된다. 돌출부들(644')의 단면은 기어 치형 모양일 수 있다.The pressing member 640 'includes a pressing plate 642' and first and second drivers 646 'and 648'. The pressure plate 642 ′ may be provided in a flat plate shape and disposed horizontally under the porous absorbing member 620 ′ so as to be immersed in the cleaning fluid. A plurality of protrusions 644 'for pressing the lower end of the porous absorbing member 620' is formed on the upper surface of the pressing plate 642 '. The protrusions 644 ′ extend in parallel to the longitudinal direction of the porous absorbing member 620 ′ and protrude on the upper surface of the pressure plate 642 ′ so as to be spaced apart from each other. The cross sections of the protrusions 644 ′ may be gear tooth shaped.

잉크젯 헤드(212)의 노즐면 세정시, 노즐면의 잔류 처리액을 흡수한 다공성 흡수 부재(620')의 부분은 다공성 흡수 부재(620')의 회전에 의해 세정 유체에 잠기고, 또한 가압 플레이트(642')의 돌출부들(644')에 의해 가압된다. 다공성 흡수 부재(620')는 스펀지 재질로 구비되므로, 돌출부들(644')의 가압력이 다공성 흡수 부재(620')에 가해지면, 다공성 흡수 부재(620')에 흡수된 세정 유체와 처리액은 방출된다. 이러한 과정을 통해, 노즐면의 잔류 처리액을 흡수한 다공성 흡수 부재(620')의 부분이 세정된다. 세정된 다공성 흡수 부재(620')의 부분은 다공성 흡 수 부재(620')의 회전에 의해 다시 잉크젯 헤드(212)의 노즐면에 접촉된다. 이때, 다공성 흡수 부재(620')는 세정된 상태이므로, 잉크젯 헤드(212) 노즐면의 세정도를 높일 수 있을 뿐만 아니라, 다공성 흡수 부재(620')에 의한 잉크젯 헤드(212) 노즐면의 역오염을 방지할 수 있다.When cleaning the nozzle face of the inkjet head 212, the portion of the porous absorbent member 620 'that absorbs the residual treatment liquid on the nozzle face is immersed in the cleaning fluid by the rotation of the porous absorbent member 620', and the press plate ( 642 ') is pressed by protrusions 644'. Since the porous absorbent member 620 'is formed of a sponge material, when the pressing force of the protrusions 644' is applied to the porous absorbent member 620 ', the cleaning fluid and the treatment liquid absorbed by the porous absorbent member 620' Is released. Through this process, the portion of the porous absorbing member 620 'that absorbs the residual treatment liquid on the nozzle surface is cleaned. The portion of the cleaned porous absorbent member 620 'is in contact with the nozzle face of the inkjet head 212 again by the rotation of the porous absorbent member 620'. At this time, since the porous absorbing member 620 'is cleaned, not only the cleaning degree of the nozzle surface of the inkjet head 212 can be increased, but also the inverse of the nozzle surface of the inkjet head 212 by the porous absorbing member 620'. Contamination can be prevented.

제 1 구동부(646')는 가압 플레이트(642')를 수평 방향으로 직선 이동시킨다. 가압 플레이트(642')가 수평 방향으로 이동되면, 가압 플레이트(642')의 돌출부들(644')이 다공성 흡수 부재(620')에 가하는 가압력이 커지기 때문에, 다공성 흡수 부재(620')의 세정 효율을 향상시킬 수 있다.The first drive part 646 'linearly moves the pressure plate 642' in the horizontal direction. When the pressure plate 642 'is moved in the horizontal direction, the pressing force applied by the protrusions 644' of the pressure plate 642 'to the porous absorbent member 620' becomes large, thereby cleaning the porous absorbent member 620 '. The efficiency can be improved.

제 2 구동부(648')는 다공성 흡수 부재(620')를 상하 방향으로 직선 이동시킨다. 다공성 흡수 부재(620')가 상하 방향으로 이동되면, 가압 플레이트(642')의 돌출부들(644')이 다공성 흡수 부재(620')에 작용하는 가압력이 조절될 수 있다. 이와 달리, 제 2 구동부(648')는 가압 플레이트(642')를 상하 방향으로 이동시키도록 제공될 수도 있다.The second driver 648 ′ linearly moves the porous absorbing member 620 ′ in the vertical direction. When the porous absorbent member 620 'is moved in the vertical direction, the pressing force that the protrusions 644' of the pressure plate 642 'act on the porous absorbent member 620' may be adjusted. Alternatively, the second driver 648 ′ may be provided to move the pressure plate 642 ′ in the vertical direction.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해 석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

이하에 설명된 도면들은 단지 예시의 목적을 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.The drawings described below are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 처리액 도포 설비의 구성을 보여주는 도면이다.1 is a view showing the configuration of a treatment liquid application facility according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 처리액 토출부의 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view of the processing liquid discharge part of FIG. 1. FIG.

도 3은 도 2의 처리액 토출부의 평면도이다.3 is a plan view of the processing liquid discharge part of FIG. 2.

도 4는 도 2 및 도 3의 제 2 헤드 세정 유닛의 측단면도이다.4 is a side cross-sectional view of the second head cleaning unit of FIGS. 2 and 3.

도 5는 도 4의 제 2 헤드 세정 유닛을 다른 측면에서 바라본 측단면도이다.FIG. 5 is a side sectional view of the second head cleaning unit of FIG. 4 seen from another side. FIG.

도 6은 제 2 헤드 세정 유닛의 다른 실시 예를 보여주는 측단면도이다.6 is a side cross-sectional view showing another embodiment of the second head cleaning unit.

도 7은 도 6의 다공성 흡수 부재와 가압 플레이트의 평면도이다.7 is a plan view of the porous absorbent member and the pressure plate of FIG.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

100: 기판 지지 유닛 200: 헤드 유닛100: substrate support unit 200: head unit

300: 제 1 이동 유닛 400: 제 2 이동 유닛300: first moving unit 400: second moving unit

500: 제 1 헤드 세정 유닛 600,600': 제 2 헤드 세정 유닛500: first head cleaning unit 600,600 ': second head cleaning unit

610,610': 배스 620,620': 다공성 흡수 부재610,610 ': Bath 620,620': Porous absorbent member

640,640': 가압 부재640,640 ': pressing member

Claims (20)

잉크젯 헤드의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛에 있어서,In the head cleaning unit for cleaning the nozzle surface of the inkjet head, 배스(Bath);Bath; 상기 배스 내에 회전 가능하게 제공되며, 상기 노즐면과 접촉하는 원통 형상의 다공성 흡수 부재; 및A cylindrical porous absorbing member rotatably provided in the bath and in contact with the nozzle face; And 상기 다공성 흡수 부재에 흡수된 액체가 방출되도록 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 가압 부재를 포함하는 헤드 세정 유닛.And a pressing member for urging the porous absorbing member to release the liquid absorbed by the porous absorbing member. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가압 부재는,The pressing member, 상기 다공성 흡수 부재와 접촉하도록 평행하게 배치되며, 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 다수의 돌출부가 형성된 가압 롤러를 포함하는 헤드 세정 유닛.And a pressure roller disposed in parallel with the porous absorbent member and formed with a plurality of protrusions for pressing the porous absorbent member. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 가압 롤러는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 접촉하도록 배치되는 헤드 세정 유닛.And the pressure roller is arranged to contact the lower end of the porous absorbing member. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 배스 내에는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 상기 가압 롤러가 잠기 도록 세정 유체가 채워지는 헤드 세정 유닛.And a cleaning fluid is filled in the bath such that the lower end of the porous absorbing member and the pressure roller are locked. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 가압 롤러는,The pressure roller, 상기 다공성 흡수 부재의 중심을 기준으로 어느 일측의 하단부와 접촉하는 제 1 가압 롤러; 및A first pressure roller contacting the lower end of any one side with respect to the center of the porous absorbing member; And 상기 다공성 흡수 부재의 중심을 기준으로 타측의 하단부와 접촉하는 제 2 가압 롤러를 포함하는 헤드 세정 유닛.And a second pressing roller contacting the lower end of the other side with respect to the center of the porous absorbing member. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가압 부재는,The pressing member, 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 다수의 돌출부가 형성된 가압 플레이트를 포함하는 헤드 세정 유닛.Head cleaning unit comprising a pressure plate formed with a plurality of protrusions for pressing the porous absorbing member. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 다수의 돌출부는 상기 다공성 흡수 부재의 길이 방향에 평행하게 길게 연장되고 서로 간에 이격되도록 상기 가압 플레이트에 형성되는 헤드 세정 유닛.And the plurality of protrusions are formed in the pressing plate so as to extend in parallel with the longitudinal direction of the porous absorbing member and to be spaced apart from each other. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 돌출부의 단면은 기어 치형 모양인 헤드 세정 유닛.The cross section of the protrusion is a head cleaning unit having a gear tooth shape. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 가압 플레이트는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부를 가압하도록 상기 다공성 흡수 부재의 아래에 수평 방향으로 배치되는 헤드 세정 유닛.And the pressure plate is disposed in a horizontal direction under the porous absorbent member to press the lower end of the porous absorbent member. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 가압 플레이트를 수평 방향으로 직선 이동시키는 제 1 구동부를 더 포함하는 헤드 세정 유닛.And a first driving part for linearly moving the pressing plate in a horizontal direction. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 다공성 흡수 부재를 상하 방향으로 직선 이동시키는 제 2 구동부를 더 포함하는 헤드 세정 유닛.And a second driving part which linearly moves the porous absorbing member in the vertical direction. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,The method of claim 10 or 11, 상기 배스 내에는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 상기 가압 플레이트가 잠기도록 세정 유체가 채워지는 헤드 세정 유닛.And a cleaning fluid is filled in the bath such that the lower end of the porous absorbing member and the pressure plate are locked. 기판이 놓이며 제 1 방향으로 직선 이동 가능한 기판 지지 유닛;A substrate support unit on which the substrate is placed and which is linearly movable in the first direction; 상기 기판 지지 유닛의 이동 경로 상부에 이동 가능하게 제공되며, 상기 기판상에 처리액을 토출하는 복수 개의 잉크젯 헤드들; 및A plurality of inkjet heads movably provided on a movement path of the substrate support unit and discharging a processing liquid onto the substrate; And 상기 기판 지지 유닛의 일 측에 제공되며, 상기 잉크젯 헤드들의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛을 포함하되,A head cleaning unit provided on one side of the substrate support unit, the head cleaning unit cleaning the nozzle surfaces of the inkjet heads, 상기 헤드 세정 유닛은,The head cleaning unit, 배스(Bath);Bath; 상기 배스 내에 회전 가능하게 제공되며, 상기 노즐면과 접촉하는 원통 형상의 다공성 흡수 부재;A cylindrical porous absorbing member rotatably provided in the bath and in contact with the nozzle face; 상기 다공성 흡수 부재에 흡수된 액체가 방출되도록 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 가압 부재를 포함하는 처리액 토출 장치.And a pressurizing member that pressurizes the porous absorbing member so that the liquid absorbed by the porous absorbing member is discharged. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 가압 부재는,The pressing member, 상기 다공성 흡수 부재와 접촉하도록 평행하게 배치되며, 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 다수의 돌출부가 형성된 가압 롤러를 포함하는 처리액 토출 장치.And a pressure roller disposed in parallel to contact the porous absorbent member and having a plurality of protrusions for pressing the porous absorbent member. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 가압 롤러는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 접촉하도록 배치되며,The pressure roller is disposed in contact with the lower end of the porous absorbing member, 상기 배스 내에는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 상기 가압 롤러가 잠기도록 세정 유체가 채워지는 처리액 토출 장치.And a cleaning fluid is filled in the bath such that the lower end of the porous absorbing member and the pressure roller are locked. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 가압 롤러는,The pressure roller, 상기 다공성 흡수 부재의 중심을 기준으로 어느 일측의 하단부와 접촉하는 제 1 가압 롤러; 및A first pressure roller contacting the lower end of any one side with respect to the center of the porous absorbing member; And 상기 다공성 흡수 부재의 중심을 기준으로 타측의 하단부와 접촉하는 제 2 가압 롤러를 포함하는 처리액 토출 장치.And a second pressing roller contacting the lower end of the other side with respect to the center of the porous absorbing member. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 가압 부재는,The pressing member, 상기 다공성 흡수 부재를 가압하는 다수의 돌출부가 형성된 가압 플레이트를 포함하는 처리액 토출 장치.And a pressure plate having a plurality of protrusions for pressing the porous absorbing member. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 상기 가압 플레이트는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부를 가압하도록 수평 방향으로 배치되며,The pressing plate is disposed in the horizontal direction to press the lower end of the porous absorbing member, 상기 배스 내에는 상기 다공성 흡수 부재의 하단부와 상기 가압 플레이트가 잠기도록 세정 유체가 채워지는 처리액 토출 장치.And a cleaning fluid is filled in the bath such that the lower end of the porous absorbing member and the pressure plate are locked. 제 18항에 있어서,The method of claim 18, 상기 가압 플레이트를 수평 방향으로 직선 이동시키는 제 1 구동부를 더 포함하는 처리액 토출 장치.And a first driving part for linearly moving the pressing plate in a horizontal direction. 제 19 항에 있어서,The method of claim 19, 상기 다공성 흡수 부재를 상하 방향으로 직선 이동시키는 제 2 구동부를 더 포함하는 처리액 토출 장치.And a second driving part for linearly moving the porous absorbing member in the vertical direction.
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