KR20110058286A - Unit for cleaning a slit nozzle and apparatus for coating photoresist on a substrate having the unit - Google Patents

Unit for cleaning a slit nozzle and apparatus for coating photoresist on a substrate having the unit Download PDF

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Abstract

PURPOSE: A slit nozzle cleaning unit and a photoresist coater including the same are provided to prevent a photoresist coating fail due to the photoresist which is highly enriched since the cleaning effect of outlet can be improved, and to improve the reliability of the photoresist coater. CONSTITUTION: The slit nozzle cleaning unit(100) includes; a body(110) having the accommodating groove accepting the slit nozzle(10) for spreading photoresist to rotate in the accommodating groove; and a roller(120) washing the outlet of the slit nozzle by contacting with the outlet(12) of the slit nozzle. The rotary shaft of roller is arranged as the longitudinal direction and the perpendicular direction of the slit nozzle. The slit nozzle cleaning unit is arranged in the inner wall of the body with a washing solution spray nozzle(130) dying of resentment the washing solution to the outlet of the slit nozzle and includes a gas blowing nozzle(140) dying of resentment drying gas to the outlet of the slit nozzle.

Description

슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치{Unit for cleaning a slit nozzle and apparatus for coating photoresist on a substrate having the unit}Unit for cleaning a slit nozzle and apparatus for coating photoresist on a substrate having the unit

본 발명은 슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 대기 상태의 슬릿 노즐 토출구에 잔류하는 포토레지스트를 세정하기 위한 슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a slit nozzle cleaning unit and a photoresist coating apparatus having the same, and more particularly, to a slit nozzle cleaning unit and a photoresist coating apparatus having the same for cleaning the photoresist remaining in the slit nozzle discharge port in the air state. will be.

일반적으로, 반도체 장치의 제조 또는 디스플레이 장치의 제조는 기판 상에 박막의 형성하고, 상기 박막을 일부 제거하여 패턴을 형성하는 반복된 과정을 포함한다.In general, the manufacture of a semiconductor device or the manufacture of a display device involves the repeated process of forming a thin film on a substrate and removing a portion of the thin film to form a pattern.

상기 박막의 일부를 제거하여 패턴을 형성하는 방법으로, 포토레지스트를 식각 마스크로 이용한다. 상기 디스플레이 장치의 제조에 사용되는 대면적의 기판에 상기 포토레지스트를 도포하기 위해서는 슬릿 노즐을 이용한다. 상기 대면적 기판을 지지대에 로딩한 상태에서 상기 슬릿 노즐이 상기 대면적 기판과 일정 간격 이격되어 균일한 속도로 이동하면서 상기 포토레지스트를 토출하여 상기 포토레지스 트 도포 공정이 이루어진다.A photoresist is used as an etching mask by removing a portion of the thin film to form a pattern. A slit nozzle is used to apply the photoresist to a large area substrate used for manufacturing the display device. The photoresist coating process is performed by discharging the photoresist while moving the slit nozzle at a uniform speed while being spaced apart from the large area substrate in a state where the large area substrate is loaded on the support.

상기 포토레지스트 도포가 완료된 기판은 지지대에서 언로딩되며, 새로운 대면적 기판이 지지대에 로딩된다. 상기와 같이 대면적 기판이 로딩될 때까지 상기 슬릿 노즐은 대기상태로 있으며, 상기 대기 시간 동안 공기와의 접촉에 의해 상기 슬릿 노즐의 토출구에 잔류하는 포토레지스트의 농도가 상승한다. 상기와 같은 상태의 슬릿 노즐로 도포 공정을 진행하는 경우, 고농도화된 포토레지스트에 의해 상기 기판에 세로줄 형태의 도포 얼룩이 발생하거나, 상기 포토레지스트가 불연속적으로 도포하는 현상이 발생한다.The substrate on which the photoresist application is completed is unloaded from the support, and a new large area substrate is loaded into the support. As described above, the slit nozzle remains in the standby state until the large-area substrate is loaded, and the concentration of the photoresist remaining in the discharge port of the slit nozzle increases by contact with air during the waiting time. When the application process is performed with the slit nozzle in the above state, vertical uneven coating occurs on the substrate by the highly concentrated photoresist, or the photoresist is discontinuously applied.

본 발명은 포토레지스트의 도포 공정이 수행되기 전에 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 슬릿 노즐 세정 유닛을 제공한다. The present invention provides a slit nozzle cleaning unit for cleaning the discharge port of the slit nozzle before the application process of the photoresist is performed.

본 발명은 상기 슬릿 노즐 세정 유닛을 포함하는 포토레지스트 도포 장치를 제공한다.The present invention provides a photoresist coating apparatus comprising the slit nozzle cleaning unit.

본 발명에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛은 포토레지스트를 도포하기 위한 슬릿 노즐을 수용하는 수용홈을 갖는 몸체 및 상기 수용홈에 회전가능하도록 구비되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 롤러를 포함한다. The slit nozzle cleaning unit according to the present invention is provided to be rotatable in the receiving groove and the body having a receiving groove for receiving a slit nozzle for applying the photoresist, the discharge opening of the slit nozzle in contact with the discharge opening of the slit nozzle And a roller for cleaning.

본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 롤러의 회전축은 상기 슬릿 노즐의 길이 방향과 수직한 방향으로 배치될 수 있다.According to one embodiment of the invention, the rotation axis of the roller may be disposed in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the slit nozzle.

본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛은 상기 몸체의 내측벽에 배치되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 세정액을 분사하는 세정액 분사 노즐 및 상기 몸체의 내측벽에 배치되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 건조 가스를 분사하는 가스 분사 노즐을 더 포함할 수 있다. According to one embodiment of the invention, the slit nozzle cleaning unit is disposed on the inner wall of the body, the cleaning liquid injection nozzle for injecting the cleaning liquid toward the discharge port of the slit nozzle and the inner wall of the body, It may further include a gas injection nozzle for injecting a dry gas toward the discharge port of the slit nozzle.

본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 세정액 분사 노즐과 상기 가스 분사 노즐은 상기 토출구와 상기 롤러의 접촉면과 대응하는 높이에 배치될 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the cleaning liquid injection nozzle and the gas injection nozzle may be disposed at a height corresponding to the contact surface of the discharge port and the roller.

본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 세정액 분사 노즐과 상기 가스 분사 노즐은 교대로 배치될 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the cleaning liquid injection nozzle and the gas injection nozzle may be arranged alternately.

본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛은 상기 몸체를 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 따라 수평 이동시키는 이송부를 더 포함할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the slit nozzle cleaning unit may further include a transfer unit for horizontally moving the body in the longitudinal direction of the slit nozzle.

본 발명에 따른 포토레지스트 도포 장치는 기판을 지지하는 지지대와, 상기 지지대 상에 배치되며, 상기 기판으로 포토레지스트를 도포하기 위한 슬릿 노즐과, 상기 슬릿 노즐을 상기 지지대 상에 놓여진 기판의 상면과 평행하게 이송하기 위한 이송 유닛 및 상기 지지대의 일측에 배치되며, 상기 슬릿 노즐이 상기 기판으로 포토레지스트를 도포하기 전에 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 슬릿 노즐 세정 유닛을 포함하고, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛은 상기 슬릿 노즐을 수용하는 수용홈을 갖는 몸체 및 상기 수용홈에 회전가능하도록 구비되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 롤러를 포함할 수 있다. The photoresist coating apparatus according to the present invention includes a support for supporting a substrate, a slit nozzle disposed on the support, for applying the photoresist to the substrate, and the slit nozzle parallel to an upper surface of the substrate placed on the support. A slit nozzle cleaning unit disposed on one side of the support and the support unit for transferring the slit nozzle, the slit nozzle cleaning unit cleaning the discharge port of the slit nozzle before the slit nozzle is applied to the substrate; It may include a body having a receiving groove for receiving the slit nozzle and rotatably provided in the receiving groove, the roller in contact with the discharge port of the slit nozzle to clean the discharge port of the slit nozzle.

본 발명에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛은 슬릿 노즐의 토출구를 향해 세정액을 분사하면서 롤러를 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 회전시키므로, 상기 토출구의 세정 효과를 향상시킬 수 있다. 따라서, 고농도화된 포토레지스트로 인한 포토레지스트 도포 불량을 방지할 수 있고, 상기 세정 유닛을 포함하는 포토레지스트 도포 장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.The slit nozzle cleaning unit according to the present invention rotates the roller in contact with the discharge port of the slit nozzle while spraying the cleaning liquid toward the discharge port of the slit nozzle, thereby improving the cleaning effect of the discharge port. Therefore, poor photoresist coating due to the highly concentrated photoresist can be prevented, and the reliability of the photoresist coating apparatus including the cleaning unit can be improved.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양 한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. Hereinafter, a slit nozzle cleaning unit and a photoresist coating apparatus having the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings. As the invention allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown in an enlarged scale than actual for clarity of the invention.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprises", "having", and the like are used to specify that a feature, a number, a step, an operation, an element, a part or a combination thereof is described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛을 설명하기 위한 단면도이고, 도 2는 도 1의 A-A' 선을 기준으로 절단한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a slit nozzle cleaning unit according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(100)은 몸체(110), 롤러(120), 세정액 분사 노즐(130), 가스 분사 노즐(140), 이송부(150) 및 회수부(160)를 포함한다.1 and 2, the slit nozzle cleaning unit 100 includes a body 110, a roller 120, a cleaning liquid injection nozzle 130, a gas injection nozzle 140, a transfer unit 150, and a recovery unit ( 160).

상기 몸체(110)는 포토레지스트를 분사하기 위한 슬릿 노즐(10)을 수용하기 위한 수용홈(112)을 갖는다. 상기 몸체(110)는 상기 슬릿 노즐(10)보다 작은 길이를 갖는다. The body 110 has an accommodating groove 112 for accommodating the slit nozzle 10 for ejecting the photoresist. The body 110 has a length smaller than that of the slit nozzle 10.

바(bar) 형태를 갖는 상기 슬릿 노즐(10)을 수용하기 위해 상기 수용홈(110)은 상기 몸체(110)의 상면에 상기 슬릿 노즐(10)의 길이 방향을 따라 연장한다. 또한, 상기 수용홈(110)은 저면으로 갈수록 폭이 좁아지는 형태를 갖는다. In order to accommodate the slit nozzle 10 having a bar shape, the receiving groove 110 extends along the longitudinal direction of the slit nozzle 10 on the upper surface of the body 110. In addition, the receiving groove 110 has a form that narrows toward the bottom.

상기 롤러(120)는 상기 수용홈(110)에 회전 가능하도록 구비되며, 상기 슬릿 노즐(10)의 토출구(12)와 접촉한다. 상기 롤러(120)의 회전축(122)은 상기 슬릿 노즐(10)의 길이 방향과 수직하는 방향, 즉 폭 방향을 따라 배치된다. 다시 말하면, 상기 회전축(122)의 양단은 상기 몸체(110)의 양측벽에 각각 고정된다. 따라서, 상 기 롤러(120)는 상기 슬릿 노즐(10)의 길이 방향을 따라 회전한다. The roller 120 is provided to be rotatable in the receiving groove 110 and is in contact with the discharge port 12 of the slit nozzle 10. The rotating shaft 122 of the roller 120 is disposed along a direction perpendicular to the longitudinal direction of the slit nozzle 10, that is, along the width direction. In other words, both ends of the rotation shaft 122 are fixed to both side walls of the body 110, respectively. Therefore, the roller 120 rotates along the length direction of the slit nozzle 10.

일 예로, 상기 롤러(120)는 하나가 구비될 수도 있다. 다른 예로, 상기 롤러(120)는 다수개가 일정 간격 이격되어 배치될 수 있다. For example, one roller 120 may be provided. As another example, the plurality of rollers 120 may be arranged spaced apart a predetermined interval.

한편, 상기 롤러(120)는 친수성, 흡수성 및 탄성이 우수하고, 내구성 및 내약품성이 우수한 재질로 만들어진다. 일 예로, 상기 롤러(120)는 폴리우레탄(poly urethane), 고무, 테프론 등의 재질로 이루어질 수 있다.On the other hand, the roller 120 is made of a material excellent in hydrophilicity, absorbency and elasticity, excellent durability and chemical resistance. For example, the roller 120 may be made of a material such as polyurethane (polyurethane), rubber, Teflon.

상기 세정액 분사 노즐(130)은 상기 몸체(110)의 양측벽에 일정한 간격으로 배치된다. 이때, 상기 세정액 분사 노즐(130)은 상기 토출구(12)와 상기 롤러(120)의 접촉면과 동일한 높이에 배치된다. 상기 세정액 분사 노즐(130)은 상기 토출구(12)와 상기 롤러(120)의 접촉면을 향해 세정액을 분사한다. 상기 세정액의 예로는 시너(thinner), 아세톤 등을 들 수 있다.The cleaning liquid spray nozzles 130 are disposed at regular intervals on both side walls of the body 110. At this time, the cleaning liquid injection nozzle 130 is disposed at the same height as the contact surface of the discharge port 12 and the roller 120. The cleaning liquid spray nozzle 130 sprays the cleaning liquid toward the contact surface between the discharge port 12 and the roller 120. Examples of the cleaning solution include thinner, acetone, and the like.

상기 세정액 분사 노즐(130)에서 분사된 세정액은 상기 토출구(12)의 포토레지스트를 세정한다. 또한, 상기 롤러(120)는 상기 토출구(12)와 접촉하여 회전하므로, 상기 토출구(12)에 잔류하는 포토레지스트의 세정 효율을 향상시킬 수 있다. The cleaning liquid sprayed from the cleaning liquid spray nozzle 130 cleans the photoresist of the discharge port 12. In addition, since the roller 120 rotates in contact with the discharge hole 12, the cleaning efficiency of the photoresist remaining in the discharge hole 12 may be improved.

상기 가스 분사 노즐(140)은 상기 몸체(110)의 양측벽에 일정한 간격으로 배치된다. 이때, 상기 가스 분사 노즐(140)은 상기 토출구(12)와 상기 롤러(120)의 접촉면과 동일한 높이에 배치된다. 상기 세정액 분사 노즐(130)과 상기 가스 분사 노즐(140)은 교대로 배치될 수 있다. 상기 가스 분사 노즐(140)은 상기 토출구(12)와 상기 롤러(120)의 접촉면을 향해 가스를 분사한다. 상기 가스의 예로는 질소 가스와 같은 불활성 기체 또는 깨끗한 건조 공기 등을 들 수 있다. 상기 가스 분사 노즐(140)은 가스를 분사하여 상기 토출구(12)에 잔류하는 세정액을 건조한다. The gas injection nozzles 140 are disposed at regular intervals on both side walls of the body 110. In this case, the gas injection nozzle 140 is disposed at the same height as the contact surface between the discharge port 12 and the roller 120. The cleaning liquid injection nozzle 130 and the gas injection nozzle 140 may be alternately arranged. The gas injection nozzle 140 injects gas toward a contact surface of the discharge port 12 and the roller 120. Examples of the gas include an inert gas such as nitrogen gas or clean dry air. The gas injection nozzle 140 injects a gas to dry the cleaning liquid remaining in the discharge port 12.

한편, 상기 세정액 분사 노즐(130)과 상기 가스 분사 노즐(140)은 교대로 배치되므로, 상기 토출구(12)에 대한 세정 공정과 건조 공정이 반복적으로 수행될 수 있다. 따라서, 상기 토출구(12)에 대한 세정 공정이 과도하게 수행되는 것을 방지할 수 있다.Meanwhile, since the cleaning liquid injection nozzle 130 and the gas injection nozzle 140 are alternately disposed, the cleaning process and the drying process for the discharge port 12 may be repeatedly performed. Therefore, it is possible to prevent the cleaning process for the discharge port 12 from being excessively performed.

상기 이송부(150)는 상기 몸체(110)와 연결되며, 상기 몸체(110)를 상기 슬릿 노즐(10)의 길이 방향을 따라 수평 이동시킨다. 상기 몸체(110)의 길이가 상기 슬릿 노즐(10)의 길이보다 짧으므로, 상기 이송부(150)가 상기 몸체(110)를 상기 길이 방향으로 수평 이동시켜 상기 슬릿 노즐(10)의 토출구(12) 전체를 세정할 수 있다. The transfer part 150 is connected to the body 110 and horizontally moves the body 110 along the length direction of the slit nozzle 10. Since the length of the body 110 is shorter than the length of the slit nozzle 10, the transfer part 150 horizontally moves the body 110 in the length direction so as to discharge the opening 12 of the slit nozzle 10. The whole can be washed.

상기 이송부(150)의 예로는 직선 왕복 운동 수단이면 어느 것이나 무방하다. 상기 직선 왕복 운동 수단의 예로는 실린더, 리니어 모터, 볼 스크류 등을 들 수 있다. Examples of the transfer unit 150 may be any linear reciprocating means. Examples of the linear reciprocating means include a cylinder, a linear motor, a ball screw and the like.

상기 회수부(160)는 상기 몸체(110)의 하부에 배치되며, 상부가 개방된 용기 형태를 갖는다. 상기 회수부(160)는 상기 토출구(12)를 향해 분사된 세정액 및 상기 세정액에 의해 제거된 포토레지스트를 회수한다. The recovery part 160 is disposed below the body 110 and has a container shape with an open top. The recovery unit 160 recovers the cleaning liquid sprayed toward the discharge port 12 and the photoresist removed by the cleaning liquid.

상기 회수부(160)의 폭은 상기 몸체(110)의 폭보다 크다. 따라서, 상기 회수부(160)는 상기 몸체(110)를 수용할 수 있다. 또한, 상기 회수부(160)의 길이는 상기 슬릿 노즐(10)의 길이보다 길다. 따라서, 상기 몸체(110)가 상기 슬릿 노즐(10)의 길이 방향을 따라 이동하더라도 상기 회수부(160)는 상기 몸체(110)를 수용한 상태를 유지할 수 있다. 그러므로, 상기 회수부(160)는 상기 세정액 및 상기 세정액에 의해 제거된 포토레지스트를 손실없이 회수할 수 있다. The width of the recovery unit 160 is larger than the width of the body 110. Thus, the recovery unit 160 may accommodate the body 110. In addition, the length of the recovery unit 160 is longer than the length of the slit nozzle 10. Therefore, even if the body 110 moves along the longitudinal direction of the slit nozzle 10, the recovery unit 160 may maintain a state in which the body 110 is accommodated. Therefore, the recovery unit 160 may recover the cleaning liquid and the photoresist removed by the cleaning liquid without loss.

한편, 상기 회수부(160)는 배출구(미도시)를 가지며, 상기 배출구를 통해 상기 세정액 및 상기 세정액에 의해 제거된 포토레지스트를 외부로 배출한다. On the other hand, the recovery unit 160 has a discharge port (not shown), and discharges the cleaning liquid and the photoresist removed by the cleaning liquid through the discharge port to the outside.

상기 슬릿 노즐 세정 유닛(100)은 세정액을 이용한 습식 세정과 상기 롤러(120)를 이용한 접촉 세정을 병행하여 상기 토출구(12)의 포토레지스트를 세정한다. 따라서, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(100)의 세정 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(100)은 상기 세정액 분사 노즐(130)과 상기 가스 분사 노즐(140)을 교대로 배치하여 상기 토출구(12)의 포토레지스트에 대한 습식 세정과 건조를 반복적으로 수행한다. 따라서, 상기 포토레지스트에 대한 습식 세정이 과도하게 수행되는 것을 방지할 수 있다. The slit nozzle cleaning unit 100 cleans the photoresist of the discharge port 12 by performing wet cleaning using a cleaning liquid and contact cleaning using the roller 120. Therefore, the cleaning efficiency of the slit nozzle cleaning unit 100 can be improved. In addition, the slit nozzle cleaning unit 100 alternately arranges the cleaning liquid injection nozzle 130 and the gas injection nozzle 140 to repeatedly perform wet cleaning and drying of the photoresist of the discharge port 12. . Therefore, it is possible to prevent the wet cleaning of the photoresist from being excessively performed.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 도포 장치를 설명하기 위한 사시도이다. 3 is a perspective view for explaining a photoresist coating apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 상기 포토레지스트 도포 장치(200)는 기판(20) 상에 포토레지스트를 도포하기 위한 것으로, 지지대(210), 슬릿 노즐(220), 이송 유닛(230) 및 슬릿 노즐 세정 유닛(240)을 포함한다. Referring to FIG. 3, the photoresist coating apparatus 200 is for applying photoresist onto a substrate 20, and includes a support 210, a slit nozzle 220, a transfer unit 230, and a slit nozzle cleaning unit. 240.

상기 지지대(210)는 평판 형태를 가지며, 상기 기판(20)에 대한 포토레지스트 도포 공정이 진행되는 동안 상기 기판(20)을 지지한다.The support 210 has a flat plate shape and supports the substrate 20 during the photoresist coating process on the substrate 20.

상기 슬릿 노즐(220)은 상기 기판(20)이 놓여진 지지대(210) 상에 상기 기 판(20)의 폭 방향으로 연장하도록 배치되고, 상기 기판(20)으로 포토레지스트를 도포한다. 상기 슬릿 노즐(220)의 길이는 상기 기판(20)의 폭과 같거나 클 수 있다. 따라서, 상기 슬릿 노즐(220)은 상기 기판(20)의 폭만큼 포토레지스트를 도포할 수 있다.The slit nozzle 220 is disposed to extend in the width direction of the substrate 20 on the support 210 on which the substrate 20 is placed, and applies a photoresist to the substrate 20. The length of the slit nozzle 220 may be equal to or greater than the width of the substrate 20. Accordingly, the slit nozzle 220 may apply the photoresist by the width of the substrate 20.

상기 이송 유닛(230)은 상기 슬릿 노즐(220)과 연결되며, 상기 슬릿 노즐(220)을 상기 지지대(210) 상의 기판(20)의 상면과 평행하도록 이송한다. 예를 들면, 상기 이송 유닛(230)은 상기 지지대(210)의 폭 방향 양단에 배치된다. 이때, 상기 지지대(210)의 폭 방향은 상기 기판(20)의 폭 방향과 동일한 방향이다. 상기 이송 유닛(230)은 상기 슬릿 노즐(220)의 양단을 고정하여 상기 슬릿 노즐(220)을 이송한다. 이때, 상기 슬릿 노즐(220)의 이송 방향은 상기 기판(20)의 폭 방향과 수직하는 길이 방향일 수 있다. 상기 슬릿 노즐(220)이 상기 기판(20)의 폭과 같거나 큰 폭을 가지며 상기 기판(20)의 길이 방향으로 가능하므로, 상기 슬릿 노즐(220)은 상기 기판(20)의 상면 전체에 포토레지스트를 균일하게 도포할 수 있다.The transfer unit 230 is connected to the slit nozzle 220, and transfers the slit nozzle 220 to be parallel to the upper surface of the substrate 20 on the support 210. For example, the transfer unit 230 is disposed at both ends in the width direction of the support 210. In this case, the width direction of the support 210 is the same direction as the width direction of the substrate 20. The transfer unit 230 fixes the both ends of the slit nozzle 220 to transfer the slit nozzle 220. In this case, the conveying direction of the slit nozzle 220 may be a longitudinal direction perpendicular to the width direction of the substrate 20. Since the slit nozzle 220 has a width equal to or greater than the width of the substrate 20 and is possible in the longitudinal direction of the substrate 20, the slit nozzle 220 is formed on the entire upper surface of the substrate 20. The resist can be applied uniformly.

상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 지지대(210)의 길이 방향 일단에 배치되며, 상기 폭 방향을 따라 연장한다. 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 슬릿 노즐(220)이 상기 포토레지스트 도포 공정을 수행하지 않고 대기하는 동안 상기 슬릿 노즐(220)을 수용하며, 상기 토출구에 잔류하는 포토레지스트를 세정한다.The slit nozzle cleaning unit 240 is disposed at one end in the longitudinal direction of the support 210 and extends along the width direction. The slit nozzle cleaning unit 240 accommodates the slit nozzle 220 while the slit nozzle 220 does not perform the photoresist coating process and cleans the photoresist remaining in the discharge port.

상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 슬릿 노즐(220)을 수용하는 몸체, 상기 슬릿 노즐(220)의 토출구와 접촉하여 상기 포토레지스트를 세정하는 롤러, 상기 토출구를 향해 세정액을 분사하여 상기 포토레지스트를 세정하는 세정액 분사 노 즐, 상기 토출구를 향해 가스를 분사하여 상기 토출구를 건조시키는 가스 분사 노즐, 상기 몸체를 상기 슬릿 노즐(220)의 길이 방향을 따라 이동시키는 이송부 및 상기 세정액과 상기 세정액에 의해 제거된 포토레지스트를 회수하는 회수부를 포함한다. The slit nozzle cleaning unit 240 contacts the body accommodating the slit nozzle 220, a roller for cleaning the photoresist in contact with a discharge port of the slit nozzle 220, and sprays a cleaning liquid toward the discharge port to discharge the photoresist. A cleaning liquid injection nozzle for cleaning the gas, a gas injection nozzle for drying the discharge port by injecting gas toward the discharge port, a transfer unit for moving the body along the longitudinal direction of the slit nozzle 220, and the cleaning liquid and the cleaning liquid. And a recovery section for recovering the removed photoresist.

상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)에 대한 구체적인 설명은 도 1 및 도2를 참조한 슬릿 노즐 세정 유닛(100)과 실질적으로 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.Since the detailed description of the slit nozzle cleaning unit 240 is substantially the same as the slit nozzle cleaning unit 100 with reference to FIGS. 1 and 2, a detailed description thereof will be omitted.

상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 토출구의 포토레지스트를 상기 롤러와 세정액으로 세정한다. 공기와의 접촉에 의해 고농도화된 포토레지스트에 의해 상기 기판(20)에 세로줄 형태의 도포 얼룩이 발생하거나, 상기 포토레지스트가 불연속적으로 도포하는 현상을 방지할 수 있으므로, 상기 포토레지스트 도포 장치(200)의 도포 불량을 방지하고 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)이 상기 슬릿 노즐(220)의 토출구의 포토레지스트에 대한 습식 세정과 건조를 반복적으로 수행하므로, 상기 포토레지스트 도포 장치(200)는 상기 포토레지스트에 대한 습식 세정이 과도하게 수행되는 것을 방지할 수 있다. The slit nozzle cleaning unit 240 cleans the photoresist of the discharge port with the roller and the cleaning liquid. The photoresist coating apparatus 200 may be prevented from occurring in the form of vertical streaks or discontinuous application of the photoresist to the substrate 20 by the photoresist that is highly concentrated by contact with air. ) Can prevent coating failure and improve reliability. In addition, since the slit nozzle cleaning unit 240 repeatedly performs wet cleaning and drying of the photoresist at the discharge port of the slit nozzle 220, the photoresist coating apparatus 200 is wet cleaning the photoresist. This can be prevented from being excessively performed.

이하에서는 상기 포토레지스트 도포 장치(200)의 동작에 대해 간단히 설명한다. Hereinafter, the operation of the photoresist coating apparatus 200 will be briefly described.

우선 지지대(210) 상에 기판(20)이 로딩된다. 이때, 슬릿 노즐(220)은 대기 위치인 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)에 수용된다. 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 슬릿 노즐(220)의 토출구에 잔류하는 포토레지스트를 세정하고 상 기 슬릿 노즐(220)을 건조한다.First, the substrate 20 is loaded on the support 210. At this time, the slit nozzle 220 is accommodated in the slit nozzle cleaning unit 240 in the standby position. The slit nozzle cleaning unit 240 cleans the photoresist remaining in the discharge port of the slit nozzle 220 and dries the slit nozzle 220.

상기 기판(20)의 로딩이 완료되면, 상기 이송 유닛(230)은 상기 슬릿 노즐(220)을 상기 기판(20)의 길이 방향을 따라 일정한 속도로 이송한다. 상기 슬릿 노즐(220)은 일정한 속도로 이동하면서 상기 기판(20)으로 포토레지스트를 도포한다. 상기 슬릿 노즐(220)의 포토레지스트를 세정하므로, 공기와의 접촉에 의해 고농도화된 포토레지스트의 발생을 방지한다. 즉, 상기 고농도화된 포토레지스트로 인해 상기 기판(20)에 세로줄 형태의 도포 얼룩이 발생하거나, 상기 포토레지스트가 불연속적으로 도포하는 현상을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 기판(20) 상에 일정한 두께의 포토레지스트 막을 형성한다. When the loading of the substrate 20 is completed, the transfer unit 230 transfers the slit nozzle 220 at a constant speed along the longitudinal direction of the substrate 20. The slit nozzle 220 applies a photoresist to the substrate 20 while moving at a constant speed. Since the photoresist of the slit nozzle 220 is cleaned, generation of a highly concentrated photoresist is prevented by contact with air. That is, due to the high concentration of the photoresist, it is possible to prevent the coating unevenness in the form of a vertical line on the substrate 20, or discontinuous application of the photoresist. Thus, a photoresist film having a predetermined thickness is formed on the substrate 20.

상기 포토레지스트 도포가 완료되면, 상기 슬릿 노즐(220)은 상기 포토레지스트의 도포를 중단하고, 상기 이송 유닛(230)은 상기 슬릿 노즐(220)은 반송하여 상기 대기 위치인 슬릿 노즐 세정 유닛(240)에 수용시킨다. When the photoresist application is completed, the slit nozzle 220 stops the application of the photoresist, and the transfer unit 230 conveys the slit nozzle 220 to the slit nozzle cleaning unit 240 at the standby position. ) To accommodate.

이후, 상기 포토레지스트 막이 형성된 기판(20)을 상기 지지대(210)로부터 언로딩하고, 새로운 기판(20)을 로딩한다. Thereafter, the substrate 20 on which the photoresist film is formed is unloaded from the support 210, and a new substrate 20 is loaded.

상기 기판(20)이 교체되는 동안 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 슬릿 노즐(220)의 토출구에 잔류하는 포토레지스트를 세정하여 상기 포토레지스트가 공기와의 접촉에 의해 고농도화되는 것을 방지한다. While the substrate 20 is being replaced, the slit nozzle cleaning unit 240 cleans the photoresist remaining at the discharge port of the slit nozzle 220 to prevent the photoresist from being highly concentrated by contact with air. .

이후 상기 과정을 반복하여 상기 기판(20)에 대한 포토레지스트 도포 공정을 수행한다. Thereafter, the process is repeated to perform a photoresist coating process on the substrate 20.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛은 세정액을 분사하면서 롤러를 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 회전시키므로, 상기 토출구의 포토레지스트를 효과적으로 세정할 수 있다. 따라서, 고농도화된 포토레지스트로 인한 포토레지스트 도포 불량을 방지할 수 있고, 상기 세정 유닛을 포함하는 포토레지스트 도포 장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.As described above, the slit nozzle cleaning unit according to the present invention rotates the roller in contact with the discharge port of the slit nozzle while spraying the cleaning liquid, thereby effectively cleaning the photoresist of the discharge port. Therefore, poor photoresist coating due to the highly concentrated photoresist can be prevented, and the reliability of the photoresist coating apparatus including the cleaning unit can be improved.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the foregoing has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. It will be appreciated.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a slit nozzle cleaning unit according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 A-A' 선을 기준으로 절단한 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 1.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 도포 장치를 설명하기 위한 사시도이다. 3 is a perspective view for explaining a photoresist coating apparatus according to an embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 슬릿 노즐 세정 유닛 110 : 몸체100: slit nozzle cleaning unit 110: body

112 : 수용홈 120 : 롤러112: receiving groove 120: roller

122 : 회전축 130 : 세정액 분사 노즐122: rotating shaft 130: cleaning liquid injection nozzle

140 : 가스 분사 노즐 150 : 이송부140: gas injection nozzle 150: transfer unit

160 : 회수부 10 : 슬릿 노즐160: recovery part 10: slit nozzle

Claims (7)

포토레지스트를 도포하기 위한 슬릿 노즐을 수용하는 수용홈을 갖는 몸체; 및A body having a receiving groove for receiving a slit nozzle for applying the photoresist; And 상기 수용홈에 회전가능하도록 구비되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐 세정 유닛.And a roller provided in the receiving groove so as to be rotatable and in contact with the discharge port of the slit nozzle to clean the discharge port of the slit nozzle. 제1항에 있어서, 상기 롤러의 회전축은 상기 슬릿 노즐의 길이 방향과 수직한 방향으로 배치되는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐 세정 유닛.The slit nozzle cleaning unit according to claim 1, wherein the rotation axis of the roller is disposed in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the slit nozzle. 제1항에 있어서, 상기 몸체의 내측벽에 배치되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 세정액을 분사하는 세정액 분사 노즐; 및The cleaning apparatus of claim 1, further comprising: a cleaning liquid spray nozzle disposed on an inner wall of the body and configured to spray a cleaning liquid toward a discharge port of the slit nozzle; And 상기 몸체의 내측벽에 배치되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 건조 가스를 분사하는 가스 분사 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐 세정 유닛.Slit nozzle cleaning unit is disposed on the inner wall of the body, comprising a gas injection nozzle for injecting dry gas toward the discharge port of the slit nozzle. 제3항에 있어서, 상기 세정액 분사 노즐과 상기 가스 분사 노즐은 상기 토출구와 상기 롤러의 접촉면과 대응하는 높이에 배치되는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐 세정 유닛.4. The slit nozzle cleaning unit according to claim 3, wherein the cleaning liquid injection nozzle and the gas injection nozzle are disposed at a height corresponding to the contact surface of the discharge port and the roller. 제3항에 있어서, 상기 세정액 분사 노즐과 상기 가스 분사 노즐은 교대로 배치되는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐 세정 유닛.The slit nozzle cleaning unit according to claim 3, wherein the cleaning liquid injection nozzle and the gas injection nozzle are alternately arranged. 제1항에 있어서, 상기 몸체를 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 따라 수평 이동시키는 이송부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐 세정 유닛.The slit nozzle cleaning unit according to claim 1, further comprising a conveying unit which horizontally moves the body along the longitudinal direction of the slit nozzle. 기판을 지지하는 지지대;A support for supporting a substrate; 상기 지지대 상에 배치되며, 상기 기판으로 포토레지스트를 도포하기 위한 슬릿 노즐;A slit nozzle disposed on the support, for applying a photoresist to the substrate; 상기 슬릿 노즐을 상기 지지대 상에 놓여진 기판의 상면과 평행하게 이송하기 위한 이송 유닛; 및A transfer unit for transferring the slit nozzle in parallel with an upper surface of the substrate placed on the support; And 상기 지지대의 일측에 배치되며, 상기 슬릿 노즐이 상기 기판으로 포토레지스트를 도포하기 전에 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 슬릿 노즐 세정 유닛을 포함하고, Is disposed on one side of the support, and includes a slit nozzle cleaning unit for cleaning the discharge port of the slit nozzle before the slit nozzle to apply the photoresist to the substrate, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛은 The slit nozzle cleaning unit 상기 슬릿 노즐을 수용하는 수용홈을 갖는 몸체; 및A body having a receiving groove for receiving the slit nozzle; And 상기 수용홈에 회전가능하도록 구비되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치.And a roller which is rotatably provided in the receiving groove and contacts the discharge port of the slit nozzle to clean the discharge port of the slit nozzle.
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