KR20110001343U - 임플란트 픽스쳐 - Google Patents

Abstract

본 고안은 임플란트 픽스쳐에 관한 것으로, 해결하고자 하는 기술적 과제는 임플란트의 식립 초기에 치조골에 스트레스를 적게 주고 식립 후에는 치조골과의 접촉면적이 넓어서 견고하게 치조골에 고정되는 임플란트 픽스쳐를 제공하는데 있다.

이를 위해 본 고안에 따른 임플란트 픽스쳐는 상부는 직선형 원통형상으로 이루어지고 중부 및 하부는 하부로 갈수록 테이퍼진 원통형상으로 이루어지되 중심부에 연결나사(7)와 나사결합되는 체결공(6)이 구비되는 몸체(3)와, 상기 몸체(3)의 상부 외주면에 구비되며 후술할 대나사부(4)의 나사보다 피치가 작고 나사산의 높이가 작은 미세 나사가 형성된 소나사부(2)와, 상기 소나사부(2)의 하부에 위치하고 상기 몸체(3)의 중부 및 하부 외주면에 구비되며 상기 소나사부(2)의 미세 나사보다 피치가 크고 상기 몸체(3)의 하부로 갈수록 나사골의 깊이(D)가 깊어져 나사산의 높이(H)가 커지는 나사가 형성된 대나사부(4) 및 상기 몸체(3)의 하부에 부분적으로 절개되어 형성되는 절삭면(5)을 포함하는 것을 특징으로 한다.

임플란트, 픽스쳐, 대나사산, 소나사산, 절삭면

Description

임플란트 픽스쳐{IMPLANT FIXTURE}

본 고안은 임플란트 픽스쳐에 관한 것으로서 치조골에 식립되는 임플란트 픽스쳐에 관한 것이다.

인공치아에 있어 가장 중요시되는 부분은 인공치아와 턱뼈 사이에 형성되는 골 유착면적과 상대 치아와의 사이에서 발생하는 응력의 분산이다. 따라서 인공치아의 응력집중과 효율적인 응력분산을 위해서는 골 유착을 돕는 초기 고정력이 좋은 치근형(Tapered) 형태가 세계적인 대세이다. 그리고 치근형(Tapered) 임플란트를 부드럽게 식립할 수 있는 연구도 진행중에 있다.

또, 인공치아는 단일 나사 산 보다 이중 나사 산으로 형성되어야 턱뼈와 인공치아 간에 인골접촉면적이 30% 이상 높은 것으로 실험결과가 나타나고 있으며 이러한 실험결과는 국내 및 외국 문헌에 발표되고 있다.

참고로, 치근형 임플란트란, 치조골에 나사모양의 티타늄으로 된 인공치근, 즉 픽스츄어를 심은 후 매식된 픽스츄어의 주위에 뼈가 융합되어 단단해지면 그 위에 어버트먼트를 결합하고, 여기에 인공치아인 보철물을 만들어 주입하게 된다.

종래의 보편적인 치아수복방법은 브릿지와 비교할 때 인접치아나 주위의 연조직 또는 골조직을 손상시키지 않고 오로지 손상된 부분에만 시술된다. 골조직에 의해 유지되고 지지받게 되므로 골조직에 힘이 가해지게 된다. 이에 따라 음식을 씹는 저작력도 자연치아와 동등수준으로 회복된다.

물론, 심미적으로도 자연 치아처럼 회복될 수 있어 최근에는 임플란트가 치아 수복에 있어 세계적인 추세가 되고 있는 상황이다.

도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 인공치아는 인공치근(103), 지대주(105) 및 가공치아(107)의 세 부분으로 이루어져 있다.

상기 인공치근(103)은 자연치아의 치근과 같이 결손된 치아부위의 치조골(109) 속에 심어져 가공치아(107)를 지지하도록 되어 있는 고정체이다. 그리고, 지대주(105)는 지대치(abutment)라고도 하며, 잇몸(111)에 심어져 인공치근(103)과 가공치아(107)를 연결하도록 되어 있다. 또한, 가공치아(107)는 지대주(105)에 의해 구강 내에 고정되어 자연치아와 동일한 형태와 기능을 재현하도록 되어 있다.

이러한 인공치아(101)를 이용하여 상실된 치아를 회복하고자 할 때의 이식과정을 설명하면 다음과 같다.

이식과정은 크게 외과적 술식, 즉, 수술방식과 보철적 수복으로 구분된다.

수술에 앞서 적합성 여부를 검사하고, 이를 위해 혈액 검사 등의 기본적인 검사를 시행하며, 이식할 부위를 선정한다. 이식 부위 골조직의 질과 양을 평가하기 위해 구강검사, 방사선 사진검사 등을 선행한다.

이러한 일련의 검사가 완료되면 외과적 술식에 들어간다.

먼저, 국소마취 하에 치근에 해당하는 인공치근(103)을 치조골(109) 내에 이식하기 위한 1차 수술을 진행한다. 이때, 잇몸(111)을 절개하고 치조골(109) 조직을 노출시킨 다음 인공치근(103)을 삽입한 후 잇몸(111)을 일단 봉합한다.

그리고 나서, 골질에 따라 3 내지 6 개월이 경과한 뒤 2차 수술을 시행한다.

이때에는 봉합했던 잇몸(111)을 재차 절개하고, 이미 치조골(109) 내에 이식된 인공치근(103)의 상면에 지대주(105)를 얹어 놓는다. 그런 다음, 지대주(105)의 중심에 형성된 삽입공(113)을 통해 연결나사(115)를 삽입한다.

연결나사(115)를 인공치근(103)의 중심부에 삽입공(113)과 동심으로 형성되어 있는 체결공(117)과 나사 결합시킴으로써 잇몸(111) 내에서 지대주(105)를 인공치근(103) 상단에 고정시킨다. 이와 같이 잇몸(111)을 통해 구강 내로 지대주(105)를 돌출시킴으로써 2차 수술이 완료된다.

이후, 보철치료를 시행한다.

먼저, 지대주(105)의 상면에 골드 실린더(121)를 동축상으로 얹어 놓는다. 이때, 연결나사(115)의 상단 돌출부(119)는 골드 실린더(121)의 원뿔대 모양의 하부 관통공(123)에 삽입된다. 그리고 나서, 통상적인 방법에 따라 골드 실린더(121) 상단에서 가공치아(107)를 제작한다. 가공치아(107)의 중심선을 따라 관통 형성되어 있는 치아공(127)을 통해 골드 스크류(129)를 삽입한다. 골드 스크류(129)를 연결나사(115)의 돌출부(119) 상면에 관통된 체결공(125)에 나사 결합시킴으로써 인공치아(101)의 이식은 완결된다.

상술한 바와 같이, 치과에서 인공치아를 이식하기 위해 시술되고 있는 임플란트 픽스츄어는 피치가 작은 나사산이 상단에 형성된 미세나사부와, 피치가 큰 나사산이 하단에 형성된 굵은 나사부로 구성되어 치조골에 쉽게 매식시킬 수 있는 구조다.

이러한 임플란트용 픽스츄어는, 그 자체로 임플란트라고도 불리워지는 가장 중요한 부재로서, 치조골과의 융합성 향상을 위해 티타늄으로 제작된다. 상기 픽스츄어는 상단부에서부터 하단부까지 나사가 형성되어 치조골에 박힌 후에는 그 재질적인 특성상 접촉되는 뼈와 융합되어 단단하게 고정될 수 있는 특징이 있다. 그러나 이 경우 환자의 치조골이 단단한 경우에는 하자가 없으나 치조골이 단단하지 못한 경우에는 매우 조심스럽게 박아야 한다.

그리고 이중 나사산을 갖는 픽스츄어는 식립되는 과정에서 토크가 발생되므로 무리한 힘을 가하면 치조골이 파손되는 문제점이 있다. 또 픽스츄어는 나사산에 대한 접촉 면적이 적으면 식립후 흔들리게 되는 문제점이 있다.

또, 인공치아를 이식한 환자가 인공치아를 장기간 사용하거나 또는 픽스츄어 가 흔들리는 경우, 이는 치조골과 골 유착력이 약해진 것으로 재 시술이 요구되는 문제점이 있다.

상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 기존 제안되고 있는 임플란트 픽스츄어에는 원주방향을 따라 나사산의 표면에 일정간격을 두고 복수 개의 홈이 일정 간격을 두고 배치되고, 각 홈은 길이 방향을 따라 길게 형성된 임플란트 픽스츄어가 알려져 있으나 치골에 매식된 임플란트 픽스츄어가 완전한 골유착 상태를 유지하지 못하고 치골로부터 분리될 우려가 있었다.

그리고 임플란트에서는 치조골 내부에 이식되어 치근 역활을 하는 임플란트 픽스츄어의 시술시 이미 성립된 치조골의 굵은 나사산이 미세 나사산으로 재성립될 때 나사산의 피치 변화로 치조골에 많은 스트레스를 주는 문제점이 있었다.

따라서 임플란트 픽스츄어의 식립시 초기 고정실패 (임플란트 픽스츄어가 치조골에서 골 융합을 못하고 골 흡수되어 빠지는 현상)가 일어나 시술실패가 일어나는 어려움이 있었다.

본 고안은 상기한 바와 같은 과제를 해결하기 위해 안출된 것으로, 임플란트의 식립 초기에 치조골에 스트레스를 적게 주고 식립 후에는 치조골과의 접촉면적이 넓어서 견고하게 치조골에 고정되는 임플란트 픽스쳐를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위해 본 고안에 따른 임플란트 픽스쳐는 상부는 직선형 원통형상으로 이루어지고 중부 및 하부는 하부로 갈수록 테이퍼진 원통형상으로 이루어지되 중심부에 연결나사와 나사결합되는 체결공(6)이 구비되는 몸체(3)와, 상기 몸체(3)의 상부 외주면에 구비되며 후술할 대나사부(4)의 나사보다 피치가 작고 나사산의 높이가 작은 미세 나사가 형성된 소나사부(2)와, 상기 소나사부(2)의 하부에 위치하고 상기 몸체(3)의 중부 및 하부 외주면에 구비되며 상기 소나사부(2)의 미세 나사보다 피치가 크고 상기 몸체(3)의 하부로 갈수록 나사골의 깊이(D)가 깊어져 나사산의 높이(H)가 커지는 나사가 형성된 대나사부(4) 및 상기 몸체(3)의 하부에 부분적으로 절개되어 형성되는 절삭면(5)을 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 소나사부(2)는 그 단면이 삼각 또는 원형 형상으로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 소나사부(2)에 형성된 미세 나사는 1줄 나사로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 미세 나사는 피치 간격이 0.2 mm 내지 0.5 mm 로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 소나사부(2)에 형성된 미세 나사는 2줄 나사로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 미세 나사는 피치 간격이 0.5 mm 내지 1 mm 로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 대나사부(4)는 상기 몸체(3)의 하부로 갈수록 나사산의 마루(W)가 좁아져 그 단면이 사다리꼴 형상에서 삼각 형상으로 변화될 수 있다.

또한, 상기 대나사부(4)에 형성된 나사는 1줄 나사로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 나사는 피치 간격이 0.5 mm 내지 1.5 mm 로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 대나사부(4)에 형성된 나사는 2줄 나사로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 나사는 피치 간격이 1.5 mm 내지 2.5 mm 로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 대나사부(4)에 형성된 나사는 3줄 나사로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 나사는 피치 간격이 2.5 mm 내지 3.5 mm 로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 체결공은 상부가 테이퍼진 형태로 이루어지고, 하부가 직선형으로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 체결공은 삼각, 사각, 육각, 팔각, 십이각 등 다양한 형상으로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 몸체(3)는 티타늄계열의 금속일 수 있다.

또한, 상기 절삭면(5)은 상기 몸체(3)와 상기 대나사부(4)의 일부 절단면이며 하측 끝단이 날카로운 형상일 수 있다.

또한, 상기 임플란트 픽스쳐는 블라스팅, 에칭, 아노다이징 또는 알비엠(RBM:Resorbable blasting media)으로 표면 처리될 수 있다.

상기한 바와 같이 본 고안에 따른 임플란트 픽스쳐에 의하면 임플란트의 하부로 갈수록 나사골의 깊이가 깊어져 나사산의 높이가 커지며, 나사산 마루가 좁아져 날카로워지므로 임플란트 픽스쳐를 치조골에 식립하는 초기에 치조골에 스트레스를 적게 주게 되며, 임플란트 픽스쳐의 식립 초기에 치조골과의 마찰력이 적어서 시술자는 손쉽게 식립각도를 결정하여 식립할 수 있는 효과가 있다.

또한, 본 고안에 따른 임플란트 픽스쳐에 의하면 나사산이 사다리꼴로 구비되는 바 임플란트 픽스쳐가 식립된 후 치조골이 임플란트 픽스쳐에 유착될 때 나사산과 치조골의 접촉면적이 커서 견고하게 고정되는 효과가 있다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 실시예를 상세히 설명한다. 우선, 도면들 중 동일한 구성요소 또는 부품들은 가능한 한 동일한 참조부호를 나타내고 있음에 유의해야 한다. 본 고안을 설명함에 있어서 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 본 고안의 요지를 모호하게 하지 않기 위해 생략한다.

도 1a는 본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 사시도이고, 도 1b는 투과 사시도이다. 또한, 도 2는 본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 정면도이고, 도 3은 평면도이며, 도 4는 저면도이다. 더불어, 도 5a는 본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 단면도이고, 도 5b는 연결나사가 결합된 본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 투과 단면도이며, 도 6은 도 5a의 A의 확대도이다.

본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐는 도 1a 내지 도 5b에 도시된 바와 같이, 몸체(3)와, 상기 몸체(3)의 상부 외주면에 구비되는 소나사부(2)와, 상기 몸체(3)의 중부 및 하부 외주면에 구비되는 대나사부(4) 및 상기 몸체(3)의 하부에 부분적으로 절개되어 형성되는 절삭면(5)을 포함한다.

상기 임플란트 픽스쳐(1)는 블라스팅, 에칭, 아노디이징 또는 알비엠(RBM:Resorbable blasting media)으로 표면 처리될 수 있다.

상기 블라스팅 중 샌드 블라스팅 방법은 상기 임플란트 픽스쳐(1)의 표면을 거칠게 하기 위하여 규사 등 모래를 강한 압력으로 분사시켜 나사의 표면을 거칠게 개질시키는 표면처리방법이다.

또한, 상기 블라스팅 중 그리트 블라스팅 방법은 모래 대신 주철의 구를 파쇄하여 만든 예리한 날을 가진 소립(그리트:Grit)을 사용하여 상기 임플란트 픽스 쳐(1)의 표면에 블라스팅의 효과를 증대시키는 표면처리방법이다.

더불어, 상기 에칭은 화학 약품으로 나사의 표면을 부식시켜 높낮이 차이가 나게 하여 나사의 표면을 거칠게 하는 표면처리방법이다.

상기와 같이, 거칠기 방법의 재료를 선택하여 나사의 표면을 ㎛ 단위, 구체적으로 약 1 ㎛ 내지 2 ㎛ 정도의 평균 표면 거칠기를 갖도록 표면 처리할 수 있다.

한편, 상기 아노다이징은 알루미늄 합금, 마그네슘 합금 및 티타늄 합금의 표면을 산화피막처리하는 방법이다.

예를 들면, 전해액 중에 양극으로 처리할 금속을 걸고, 음극으로 불활성 금속을 사용한다. 이들 전극에 전류를 흘려서, 알루미늄, 마그네슘 및 티타늄 표면에 산화물계 피막을 형성시킨다. 이로써, 금속 내부로 더 이상 산화가 진행되지 않아 내식성을 증가시킬 수 있다.

상기 몸체(3)는 임플란트 픽스쳐(1)의 몸통부분을 이루는 부분으로 티타늄계열의 금속소재로 이루어질 수 있고, 상부가 직선형 원통형상으로 이루어지되, 중부 및 하부는 중부에서 하부로 갈수록 좁아지는 테이퍼진 원통형상으로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 몸체(3)는 중심부에 연결나사(7)와 나사결합되는 체결공(6)이 구비될 수 있다.

상기 체결공(6)은 도 1b, 도 3 및 도 5b에 도시된 바와 같이, 상부가 테이퍼진 형태로 이루어지고, 하부가 직선형으로 이루어질 수 있으며, 다양한 형상을 가지는 연결나사(7)와 결합하기 위해 삼각, 사각, 육각, 팔각, 십이각 등 다양한 형상으로 이루어질 수 있다.

상기 소나사부(2)는 상기 임플란트 픽스쳐(1)의 상부, 구체적으로 상기 몸체(3)의 직선형 원통형상의 외주면에 구비된다.

상기 소나사부(2)에 조밀하게 형성된 미세 나사는 상기 대나사부(4)에 형성된 나사보다 피치가 작고 나사산의 높이가 작으며, 상기 몸체(3)의 원통형상 외주면에 걸쳐 상방으로 일정각도 경사진 직선형으로 형성될 수 있다.

도 7 및 도 8은 본 고안에 따른 나사 시작점을 나타내는 실시도이다.

상기 소나사부(2)에 형성된 미세 나사는 1줄 나사로 이루어질 수 있고, 이때, 상기 미세 나사의 피치 간격은 0.2 mm 내지 0.5 mm 로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 소나사부(2)에 형성된 미세 나사는 도 7에 도시된 바와 같이, 1번째 나사시작점(a)과 2번째 나사시작점(b)이 180°이격된 2줄 나사로 이루어질 수 있고, 이때, 상기 미세 나사의 피치 간격은 0.5 mm 내지 1 mm 로 이루어질 수 있다.

한편, 상기 소나사부(2)는 그 단면이 삼각 또는 원형 형상으로 이루어질 수 있고, 티타늄계열의 금속소재로 이루어질 수 있다.

상기 소나사부(2)는 치조골의 상부에 있는 치밀골과의 결착력을 강화시킬 수 있는 동시에 상기 임플란트 픽스쳐(1)의 사용 도중에 발생하는 응력을 분산시킬 수 있다.

상기 대나사부(4)는 상기 소나사부(2)의 하부인 상기 임플란트 픽스쳐(1)의 중부 및 하부, 구체적으로 상기 몸체(3)의 테이퍼진 원통형상의 외주면에 구비되며, 티타늄계열의 금속소재로 이루어지는 것이 바람직하나 반드시 이에 한정되지는 않는다.

상기 대나사부(4)에 형성된 나사는 상기 소나사부(2)에 형성된 미세 나사보다 피치가 크고, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 몸체(3)의 하부로 갈수록 나사골의 깊이(D)가 깊어져 나사산의 높이(H)가 커지며, 나사산의 마루(W)가 좁아져 그 단면이 사다리꼴에서 삼각 형상으로 변화되어 날카로워질 수 있다.

이때, 상기 대나사부(4)에 형성된 나사는 상기 몸체(3)의 원통형상 외주면에 걸쳐 상방으로 일정각도 경사진 직선형으로 형성될 수 있다.

한편, 상기 대나사부(4)에 형성된 나사는 1줄 나사로 이루어질 수 있고, 이때, 상기 나사의 피치 간격은 0.5 mm 내지 1.5 mm 로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 대나사부(4)에 형성된 나사는 도 7에 도시된 바와 같이, 1번째 나사시작점(a)과 2번째 나사시작점(b)이 180°이격된 2줄 나사로 이루어질 수 있고, 이때, 상기 나사의 피치 간격은 1.5 mm 내지 2.5 mm 로 이루어질 수 있다.

도 9a는 본 고안에 따른 대나사부에 2줄 나사가 형성된 임플란트 픽스쳐의 일 정면도이고, 도 9b는 일 배면도이며, 도 10은 본 고안에 따른 원형의 미세나사가 형성된 소나사부와 2줄 나사가 형성된 대나사부를 포함하는 임플란트 픽스쳐를 나타내는 도이다.

상기 임플란트 픽스쳐(1)는 도 9a 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 대나사부(4)에 2줄 나사가 형성될 수 있고, 도 10에 도시된 바와 같이, 소나사부(2)에 원형의 미세나사가 형성될 수 있다.

더불어, 상기 대나사부(4)에 형성된 나사는 도 8에 도시된 바와 같이, 1번째 나사시작점(a)과 2번째 나사시작점(b) 및 3번째 나사시작점(c)이 각각 120°이격된 3줄 나사로 이루어질 수 있고, 이때, 상기 나사의 피치 간격은 2.5 mm 내지 3.5 mm 로 이루어질 수 있다.

상기 대나사부(4)는 치조골 중 치밀골의 하부에 있는 조직이 느슨한 해면골에 접하여 상기 임플란트 픽스쳐(1)를 치조골에 고정시키는 기능을 하며, 식립초기 에는 치조골에 스트레스를 적게주게 되고 식립후에는 치조골과 접하는 면적이 넓어서 견고하게 고정시킬 수 있다.

상기 절삭면(5)은 상기 임플란트 픽스쳐(1)의 하부에 구비되어 상기 임플란트 픽스쳐(1)를 치조골에 식립할 때 절삭면으로 기능하는 부분이다.

상기 절삭면(5)은 상기 임플란트 픽스쳐(1) 하부의 원주면 중 일부가 절단되어 구비되며 하부 끝단이 날카롭게 구비되는 것이 바람직하다. 이때, 상기 절삭면(5)은 상기 임플란트 픽스쳐(1)의 하단이 절단되어 구비되는 바, 상기 대나사부(4)와 몸체(1)의 일부 절단면일 수 있다.

상기 절삭면(5)은 상기 임플란트 픽스쳐(1)의 삽입에 따라 상기 대나사부(4)의 주변을 더욱 압축할 수 있게 되므로 상기 대나사부(4) 주변의 골밀도를 크게 증가시킬 수 있고, 동시에, 골조직이 상기 임플란트 픽스쳐(1)에 유착되는 시간을 현저히 단축시킬 수 있으며, 치조골에 상기 임플란트 픽스쳐(1)를 식립시, 상기 절삭면(5)에 의해 부하를 작게 하여 쉽게 식립할 수 있다.

본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 사용방법은 다음과 같다.

본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐(1)를 치조골에 식립할 때 절삭면(5)에 의해서 치조골이 절삭되면서 대나사부(4)가 치조골에 삽입되게 된다.

이때, 상기 대나사부(4)는 테이퍼진 원통형상의 몸체(3) 외주면에 형성되되 상기 몸체(3)의 하부로 갈수록 나사골의 깊이(D)가 깊어지고 나사산의 높이(H)가 커지며 나사산의 마루(W)가 좁게 형성되므로 치조골에 스트레스를 적게 주게 되며, 초기 삽입시 마찰력이 적어서 시술자는 손쉽게 식립각도를 결정하여 식립할 수 있다.

상기 대나사부(4)의 삽입 후 소나사부(2)가 치조골에 삽입되며, 이때, 상기 대나사부(4)는 치조골 중 해면골과 접하게 되고, 상기 소나사부(2)는 치조골 중 치밀골과 접하게 되면서 상기 임플란트 픽스쳐(1)가 치조골에 고정된다.

이상과 같이 본 고안에 따른 임플란트 픽스쳐를 예시한 도면을 참조로 하여 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 고안이 한정되는 것은 아니며, 본 고안의 기술사상 범위내에서 당업자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 물론이다.

도 1a는 본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 사시도.

도 1b는 본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 투과 사시도.

도 2는 본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 정면도.

도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 평면도.

도 4는 본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 저면도.

도 5a는 본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 단면도.

도 5b는 연결나사가 결합된 본 고안의 일 실시예에 따른 임플란트 픽스쳐의 투과 단면도.

도 6은 도 5a의 A의 확대도.

도 7은 본 고안에 따른 나사 시작점을 나타내는 일 실시도.

도 8은 본 고안에 따른 나사 시작점을 나타내는 다른 실시도.

도 9a는 본 고안에 따른 대나사부에 2줄 나사가 형성된 임플란트 픽스쳐의 일 정면도.

도 9b는 본 고안에 따른 대나사부에 2줄 나사가 형성된 임플란트 픽스쳐의 일 배면도.

도 10은 본 고안에 따른 원형의 미세나사가 형성된 소나사부와 2줄 나사가 형성된 대나사부를 포함하는 임플란트 픽스쳐를 나타내는 도.

도 11은 종래의 일반형 인공치아의 구조 및 이식상태를 나타낸 사시도.

도 12는 도 11의 분해 사시도.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >

1: 임플란트 픽스쳐 2: 소나사부

3: 몸체 4: 대나사부

5: 절삭면 6:체결공

7:연결나사 a:1번째 나사시작점

b:2번째 나사시작점 c:3번째 나사시작점

D:나사골의 깊이 H:나사산의 높이

W:나사산의 마루

Claims (8)

1. 상부는 직선형 원통형상으로 이루어지고, 중부 및 하부는 하부로 갈수록 테이퍼진 원통형상으로 이루어지되, 중심부에 연결나사(7)와 나사결합되는 체결공(6)이 구비되는 몸체(3);

   상기 몸체(3)의 상부 외주면에 구비되며 후술할 대나사부(4)의 나사보다 피치가 작고 나사산의 높이가 작은 미세 나사가 형성된 소나사부(2);

   상기 소나사부(2)의 하부에 위치하고 상기 몸체(3)의 중부 및 하부 외주면에 구비되며 상기 소나사부(2)의 미세 나사보다 피치가 크고 상기 몸체(3)의 하부로 갈수록 나사골의 깊이(D)가 깊어져 나사산의 높이(H)가 커지는 나사가 형성된 대나사부(4); 및

   상기 몸체(3)의 하부에 부분적으로 절개되어 형성되는 절삭면(5)을 포함하는 것을 특징으로 하는 임플란트 픽스쳐.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 소나사부(2)는 그 단면이 삼각 또는 원형 형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 임플란트 픽스쳐.
3. 제 1항에 있어서,

   상기 대나사부(4)는 상기 몸체(3)의 하부로 갈수록 나사산의 마루(W)가 좁아져 그 단면이 사다리꼴 형상에서 삼각 형상으로 변화되는 것을 특징으로 하는 임플란트 픽스쳐.
4. 제 1항에 있어서,

   상기 체결공은 상부가 테이퍼진 형태로 이루어지고, 하부가 직선형으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 임플란트 픽스쳐.
5. 제 1항에 있어서,

   상기 체결공은 삼각, 사각, 육각, 팔각, 십이각 등 다양한 형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 임플란트 픽스쳐.
6. 제 1항에 있어서,

   상기 몸체(3)는 티타늄계열의 금속인 것을 특징으로 하는 임플란트 픽스쳐.
7. 제 1항에 있어서,

   상기 절삭면(5)은 상기 몸체(3)와 상기 대나사부(4)의 일부 절단면이며 하측 끝단이 날카로운 형상인 것을 특징으로 하는 임플란트 픽스쳐.
8. 제 1항에 있어서,

   상기 임플란트 픽스쳐는 블라스팅, 에칭, 아노다이징 또는 알비엠(RBM)으로 표면 처리되는 것을 특징으로 하는 임플란트 픽스쳐.

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