KR20100125648A - 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치 - Google Patents

진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 진공 공정에서 발생한 입자 및 부산물을 모니터링하기 위해 사용하는 각종센서에 부착된 윈도우 표면의 오염을 방지하고 또한, 본 기술을 활용하여 진공공정 장비에 사용되는 배관 오염을 방지하는 기술에 관한 것이다.
음파발생기, 윈도우, 표면, 오염방지, 압전소자, 웨지부

Description

진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치{An apparatus to prevent the contamination of the surface from particles and by-products generating in the vacuum process}
본 발명은 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 진공상태에서 입자 및 부산물에 빔을 입사하고 출사되는 출사빔을 측정함으로써 입자 및 부산물의 정량 및 정성분석을 할 수 있도록 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치에 관한 것이다.
진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물을 측정하기 위해서는 진공으로 된 공정 챔버로부터 배기관을 통해 배기되는 입자 및 부산물에 빔을 주사시켜 빔을 검출함으로써 입자 및 부산물의 성분을 정량 및 정성분석하게 된다.
빔이 입사되는 입사창과 빔이 출사되는 출사창에 입자 및 부산물이 흡착 및 증착되어 빔이 제대로 전달되지 못하게 되며 배기관 또한 입자 및 부산물이 흡착되어 장비의 공정효율이 저하되는 문제점이 있었다.
이와 같이 진공 공정 중 발생된 입자 및 부산물에 의해 공정 상태를 측정하 는 센서에 부착된 윈도우가 오염되면 측정효율이 급격히 감소하여 장비효용성을 극감시킬 수 있다. 또한 입자 및 부산물이 배기관에 축적되어 공정 효율을 감소시키는 빈도수가 높다.
이러한 입자 및 부산물이 입사창과 출사창 및 배기관에 흡착 및 증착되는 경우 이를 분해하여 세척하는 유지보수를 하게 되는데 이러한 유지보수 주기가 짧게 되며 실시간 측정이 어렵게 되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 진공공정에서 발생한 입자 및 부산물이 센서 윈도우 및 배관에 흡착되는 것을 방지하여 장비 및 센서 효용성을 극대화 할 수 있도록 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치를 제공하는데 있다.
이에 따라 정확한 분광분석이 가능하도록 하며, 흡착 및 증착에 의해 오염도를 줄임으로써 유지 보수 주기를 연장할 수 있도록 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치를 제공하는데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치는 내부가 진공상태로 된 공정 챔버(10) 내부에서 발생된 입자 및 부산물을 배기하는 배기관(20)에 설치되며 상기 배기관(20)으로 배기되는 입자 및 부산물을 통한 공정진단이 가능하도록 상기 배기관(20) 내부로 빔이 입사되도록 하는 입사창(30)과, 상기 배기관(20)에 설치되며 상기 입사창(30)으로 입사된 빔이 입자 및 부산물에 의해 굴절 및 산란되어 굴절 및 산란된 빔이 출사되도록 하는 출사창(40)과, 상기 입사창(30)에 빔을 입사되도록 하는 광학센서(50)와 상기 출사창(40)으로 출사되는 빔을 검출하는 검출기(60)로 이루어져 진공공정에서 발생하는 입자 및 부산물을 분석하는 분석장치에서, 상기 입사창(30) 및 상기 출사창(40)의 외부 또는 내부에 각각 설치되되 상기 입사창(30)의 빔이 입 사되는 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 빔이 출사되는 출사영역(41) 외곽에 설치되는 음파 발생기(70); 하면이 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽과 각각 접하며, 상면에 상기 음파 발생기(70)를 경사지게 지지하는 경사면(81)이 구비되어 발생된 음파를 상기 입사창(30) 및 출사창(40)과 각각 일정각도를 이루어 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 외곽 및 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽 내부로 전달되도록 하여 전달된 음파로 인해 상기 입사창(30) 및 출사창(40)을 진동시켜 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내측에 입자 및 부산물이 흡착되는 것을 방지하도록 하는 웨지부(80); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 음파 발생기(70)는 가진기, 압전 초음파 소자, 자기 변형 트랜스듀서, 음성코일 구동기(voice cole actuator) 로부터 선택되는 어느 하나로 된 것을 특징으로 한다.
또, 상기 음파 발생기(70) 및 웨지부(80)는 다수개로 되어 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 외곽 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽에 일렬 또는 방사형으로 설치되는 것을 특징으로 한다.
아울러, 상기 음파 발생기(70)로부터 발생된 음파가 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내부 전체 또는 내부 표면 부위로 전달되는 것을 특징으로 한다.
또, 상기 공정 챔버(10) 내부의 압력은 수 mTorr ~ 10 atm 인 것을 특징으로 한다.
아울러, 상기 음파 발생기(70)로부터 발생되는 음파의 주파수는 10kHz ~ 1 MHz 인 것을 특징으로 한다.
본 발명은 입사창, 출사창 및 배관에 흡착 및 증착되는 입자 및 부산물에 의한 오염을 방지할 수 있고, 빔의 굴절 및 산란에 의한 빔강도를 정확하게 측정함으로써 입자 및 부산물의 성분 분석이 용이하여 장비나 측정 센서의 효율과 신뢰성을 높일 수 있다. 또한, 이러한 흡착 및 증착에 의해 오염도를 줄임으로써 유지 보수 주기를 연장할 수 있는 장점이 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치를 상세히 설명하기로 한다.
진공공정에서 발생하는 입자 및 부산물을 분석하는 분석장치는 내부가 진공상태로 된 공정 챔버(10) 내부에서 발생된 입자 및 부산물을 배기하는 배기관(20)에 설치되며 상기 배기관(20)으로 배기되는 입자 및 부산물을 통한 공정진단이 가능하도록 상기 배기관(20) 내부로 빔이 입사되도록 하는 입사창(30)과, 상기 배기관(20)에 설치되며 상기 입사창(30)으로 입사된 빔이 입자 및 부산물에 의해 굴절 및 산란되어 굴절 및 산란된 빔이 출사되도록 하는 출사창(40)과, 상기 입사창(30)에 빔을 입사되도록 하는 광학센서(50)와, 상기 출사창(40)으로 출사되는 빔을 검출하는 검출기(60)로 이루어진다.
상기 공정 챔버(10)로부터 배기되는 배기관(20)에는 입사창(30)과, 출사 창(40)이 구비된다.
상기 입사창(30)은 상기 배기관(20)에 설치되며 배기되는 입자 및 부산물 측정을 위하여 광학센서(50)로부터 빔이 입사되게 된다.
상기 출사창(40)은 상기 배기관(20) 내로 입사된 빔이 입자 및 부산물을 통과 후 출사되게 된다.
상기 검출기(60)는 상기 배기관(20)으로부터 출사된 빔의 굴절 및 산란을 검출하는 역할을 한다. 상기 검출기(60)는 공지된 것으로 MCT 같은 IR detector를 사용한다.
이때, 입사된 빔은 입자 및 부산물과 굴절 및 산란을 일으키게 되는데 이렇게 굴절 및 산란된 빔의 세기를 상기 검출기(60)를 통해 검출되도록 함으로써 시료의 정성 및 정량을 분석할 수 있게 된다.
본 발명의 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치는 상기 입사창(30) 및 상기 출사창(40)의 외부에 각각 설치되는 음파 발생기(70); 및 발생된 음파를 상기 입사창(30) 및 출사창(40)과 전달되도록 하여 입자 및 부산물이 흡착되는 것을 방지하도록 하는 웨지부(80); 를 포함하여 이루어진다.
상기 음파 발생기(70)는 상기 입사창(30) 및 상기 출사창(40)의 외부에 각각 설치되되 상기 입사창(30)의 빔이 입사되는 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 빔이 출사되는 출사영역(41) 외곽에 설치된다.
또한, 상기 음파 발생기(70)는 음파를 발생할 수 있는 장치이면 가능하며, 바람직하게는 가진기, 압전 초음파 소자, 자기 변형 트랜스듀서, 음성 코일 구동기(voice cole actuator)로부터 선택되는 어느 하나로 될 수 있다.
상기 웨지부(80)는 하면이 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽과 각각 접하며, 상면에 상기 음파 발생기(70)를 경사지게 지지하는 경사면(81)이 구비된다. 이에 따라 상기 음파 발생기(70)로부터 발생된 음파를 상기 입사창(30) 및 출사창(40)과 각각 일정각도를 이루어 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 및 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽 내부로 전달되도록 하여 전달된 음파로 인해 상기 입사창(30) 및 출사창(40)을 진동시켜 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내측에 입자 및 부산물이 흡착되는 것을 방지하게 된다.
상기 음파 발생기(70)로부터 발생된 음파는 상기 입사창(30) 및 출사창(40)으로 전달되어 내측에 입자 및 부산물이 흡착되는 것을 방지할 뿐만 아니라, 배기관(20)으로도 영향을 미치게 되므로 배기관(20)에 입자 및 부산물이 흡착되는 것을 방지하게 된다.
이와 같이 상기 입사창(30) 및 출사창(40)에 입자 및 부산물이 흡착되는 것을 방지할 수 있게 됨으로써 빔의 굴절 및 산란에 의한 빔강도를 정확하게 측정하여 입자 및 부산물의 성분 분석이 용이하게 되고, 배기관(20)에 입자 및 부산물이 흡착되는 것도 방지하게 되므로, 장비나 측정 센서의 효율과 신뢰성을 높일 수 있게 된다.
도 1은 배기구 장착된 센서의 윈도우에 압전 소자(예: PZT)를 장착하고 소자로부터 나오는 음파를 이용해 입사창 및 출사창에 진동을 발생시킨다. 이로 인해 표면에 입자 및 부산물이 흡착되는 것을 방지하게 된다.
실제 예로 TiN 증착 공정 챔버 배기구 장착된 센서 윈도우 즉, 입사창(30) 및 출사창(40)에 구비되는 웨지부(80)에 압전소자를 장착하여 음파를 발생시켜 본 결과 센서 윈도우 오염이 90% (5시간 공정 진단)이상 감소된 것을 알 수 있었다. 오염도는 센서 윈도우 투과율을 분석하여 측정하였다.
도 1에서는 상기 음파 발생기(70) 및 웨지부(80)는 각각 하나로 되어 상기 입사창(30) 및 출사창(40)으로 음파를 전달되도록 하여 입자 및 부산물의 흡착을 방지하는 것을 나타낸다.
도 2는 도 1에서와 같이 하나의 음파 발생기(70)를 이용해 음파를 한쪽에서만 발생시키는 것이 아니라 다방면 (최소 2개 이상)에서 발생시켜 그 방지능력을 증대시키기 위한 방법이다. 도시된 바와 같이 입자 및 부산물의 흡착 방지 효율을 높이기 위하여 상기 음파 발생기(70) 및 웨지부(80)는 다수개로 되어, 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 외곽 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽에 방사형으로 설치되도록 할 수 있다. 또한 그 효율성을 증대시키기 위해 음파 발생기의 모양을 다양하게 제작할 수도 있다.
아울러, 도 1 및 도 2에서는 상기 음파 발생기(70)로부터 발생된 음파가 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내부에 전달되도록 할 때 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내부 전체로 전달되도록 하는 것을 나타낸다.
도 3에서는 상기 음파 발생기(70)로부터 발생된 음파가 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내부에 전달되도록 할 때 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내부 표면 부 위로 전달되도록 하는 것을 나타낸다. 음파를 윈도우 벌크까지 전달시켜 전체를 진동시킬 필요가 없거나 그 방법보다는 표면에서의 진동이 오염방지를 더욱 효과적으로 작용할 수 있는 공정에서는 발생된 대부분의 음파를 윈도우 표면의 표면파로 만들어 (주입각도, 파워, 주파수 등 조절) 윈도우 오염방지 기능을 극대화 할 수 있다. 이 또한 하나의 음파 발생기를 이용할 수도 있고, 다양한 방향에서 음파를 발생시키기 위해 2개 이상의 음파 발생기를 사용할 수 있다.
이 경우에는 상기 음파 발생기(70)가 상기 입사창(30) 및 상기 출사창(40)의 내부에 설치되어 발생된 음파를 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내부 표면 부위로 전달되도록 하는 것이 바람직하다.
또, 상기 공정 챔버(10) 내부의 압력은 수 mTorr ~ 10 atm 인 것이 바람직하다.
아울러, 상기 음파 발생기(70)로부터 발생되는 음파의 주파수는 10kHz ~ 1 MHz 인 것이 바람직하다. 음파의 주파수가 너무 크면 장비에 영향을 주게 되며, 너무 작으면 입자 및 부산물의 흡착을 방지할 수 없게 되므로 적당한 주파수를 갖는 것이 바람직하다.
도 4는 한 개 이상의 음파 발생기를 윈도우에 밀착 후 음파를 발생시켜 표면에 전달하는 기술을 설명하는 것으로 평면에 일렬로 음파 발생기가 부착된 것을 나타낸다. 이 경우 많은 압전소자를 사용하여 효율을 쉽게 증가시킬 수 있는 장점을 가지고 있다.
도 5는 압전소자를 배기관 외부에 일정 간격을 가지고 부착하고 내부 표면에 그 진동을 극대화 할 수 있도록 음파를 주사하여 배기관을 통과하는 입자 및 부산물이 흡착하지 않도록 하는 기술을 보여준다. 상기 음파 발생기(70)를 상기 입사창(30)의 빔이 입사되는 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 빔이 출사되는 출사영역(41) 외곽 주위로 회전시키는 회전수단이 더 구비된 것이 바람직하다.
또한, 하나의 음파발생기를 이용하고도 회전수단(미도시됨)에 의한 회전을 통해 다중 음파발생기를 사용한 것과 같은 오염방지 효과를 볼 수도 있다. 오염을 방지하고 싶은 곳을 압전소자로 둘러싸고 음파를 주사해 내부 표면의 오염이 방지되는 기술적용은 어느 구조나 가능하다. 압전소자의 가로/세로/길이는 오염방지를 원하는 곳의 규격에 따라 변형 가능하다.
도 1은 본 발명에 의한 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치의 구조를 나타낸 도면.
도 2는 본 발명에 의한 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치의 다른 구조를 나타낸 도면.
도 3은 본 발명에 의한 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치의 표면부위에 음파가 전달되는 상태를 나타낸 도면.
도 4는 본 발명에 의한 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치의 또 다른 구조를 나타낸 도면.
**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**
10: 공정 챔버 20: 배기관
30: 입사창 31: 입사영역
40: 출사창 41: 출사영역
50: 광학센서 60: 검출기
70: 음파 발생기 80: 웨지부
81: 경사면

Claims (8)

  1. 내부가 진공상태로 된 공정 챔버(10) 내부에서 발생된 입자 및 부산물을 배기하는 배기관(20)에 설치되며 상기 배기관(20)으로 배기되는 입자 및 부산물을 통한 공정진단이 가능하도록 상기 배기관(20) 내부로 빔이 입사되도록 하는 입사창(30)과, 상기 배기관(20)에 설치되며 상기 입사창(30)으로 입사된 빔이 입자 및 부산물에 의해 굴절 및 산란되어 굴절 및 산란된 빔이 출사되도록 하는 출사창(40)과, 상기 입사창(30)에 빔을 입사되도록 하는 광학센서(50)와 상기 출사창(40)으로 출사되는 빔을 검출하는 검출기(60)로 이루어져 진공공정에서 발생하는 입자 및 부산물을 분석하는 분석장치에서,
    상기 입사창(30) 및 상기 출사창(40)의 내부 또는 외부에 각각 설치되되 상기 입사창(30)의 빔이 입사되는 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 빔이 출사되는 출사영역(41) 외곽에 설치되는 음파 발생기(70);
    하면이 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽과 각각 접하며, 상면에 상기 음파 발생기(70)를 경사지게 지지하는 경사면(81)이 구비되어 발생된 음파를 상기 입사창(30) 및 출사창(40)과 각각 일정각도를 이루어 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 및 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽 내부로 전달되도록 하여 전달된 음파로 인해 상기 입사창(30) 및 출사창(40)을 진동시켜 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내측에 입자 및 부산물이 흡착되는 것을 방지하도록 하는 웨지부(80);
    를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 음파 발생기(70) 및 웨지부(80)는 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽 일측에 구비되거나, 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽에 환형으로 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 음파 발생기(70)를 상기 입사창(30)의 빔이 입사되는 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 빔이 출사되는 출사영역(41) 외곽 주위로 회전시키는 회전수단이 더 구비된 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 음파 발생기(70)는 가진기, 압전 초음파 소자, 자기 변형 트랜스듀서, 음성 코일 구동기(voice cole actuator)로부터 선택되는 어느 하나로 된 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 음파 발생기(70) 및 웨지부(80)는 다수개로 되어 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 외곽 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽 일측에 일렬 또는 방사형으로 설치되는 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 음파 발생기(70)로부터 발생된 음파가 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내부 전체 또는 내부 표면 부위로 전달되는 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 공정 챔버(10) 내부의 압력은 수 mTorr ~ 10 atm 인 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 음파 발생기(70)로부터 발생되는 음파의 주파수는 10kHz ~ 1 MHz 인 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101286100B1 (ko) * 2011-11-23 2013-07-23 한국표준과학연구원 배플을 포함하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물 분석장치
KR101488718B1 (ko) * 2013-04-19 2015-02-04 (주)새한이엔씨 탁도측정장치의 부유물 부착 방지구조
KR20180103760A (ko) * 2017-03-10 2018-09-19 로베르트 보쉬 게엠베하 침착물 센서를 구비한 광 센서

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101284360B1 (ko) * 2011-11-10 2013-07-08 한국표준과학연구원 표면오염방지부를 포함하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물 분석장치
KR20240039331A (ko) 2022-09-19 2024-03-26 한국표준과학연구원 광학 윈도우 오염 방지 장치

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3977365B2 (ja) * 2004-09-21 2007-09-19 アンリツ産機システム株式会社 異物検出装置
KR100870116B1 (ko) * 2008-04-21 2008-11-25 (주)그린텍시스템 유리세척 기능을 갖는 ｃｃｔｖ 카메라 하우징

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101286100B1 (ko) * 2011-11-23 2013-07-23 한국표준과학연구원 배플을 포함하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물 분석장치
KR101488718B1 (ko) * 2013-04-19 2015-02-04 (주)새한이엔씨 탁도측정장치의 부유물 부착 방지구조
KR20180103760A (ko) * 2017-03-10 2018-09-19 로베르트 보쉬 게엠베하 침착물 센서를 구비한 광 센서

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