KR20100112511A - 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법 - Google Patents

노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20100112511A
KR20100112511A KR1020090103633A KR20090103633A KR20100112511A KR 20100112511 A KR20100112511 A KR 20100112511A KR 1020090103633 A KR1020090103633 A KR 1020090103633A KR 20090103633 A KR20090103633 A KR 20090103633A KR 20100112511 A KR20100112511 A KR 20100112511A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light source
light
cassette
exposure
frame
Prior art date
Application number
KR1020090103633A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101138681B1 (ko
Inventor
도모노리 하라다
신이치로우 나가이
슈사쿠 가루이시
Original Assignee
닛본 세이고 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2009180643A external-priority patent/JP5598789B2/ja
Application filed by 닛본 세이고 가부시끼가이샤 filed Critical 닛본 세이고 가부시끼가이샤
Publication of KR20100112511A publication Critical patent/KR20100112511A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101138681B1 publication Critical patent/KR101138681B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70833Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/702Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70233Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70975Assembly, maintenance, transport or storage of apparatus

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(과제)
광원부의 교환 시간 및 장치의 다운 타임을 단축할 수 있는 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법을 제공한다.
(해결 수단)
광조사 장치 (80) 는, 램프 (71) 와 램프 (71) 로부터 발생된 광에 지향성을 갖게 하여 사출하는 반사경 (72) 을 각각 포함하는 복수의 광원부 (73) 와, 소정 수의 광원부 (73) 를 각각 장착할 수 있는 복수의 카세트 (81) 와, 복수의 카세트 (81) 를 장착할 수 있는 프레임 (82) 을 구비한다.
노광 장치, 광조사 장치, 조명 광학계

Description

노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법{LIGHT IRRADIATION APPARATUS FOR EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD}
본 발명은, 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 액정 디스플레이나 플라즈마 디스플레이 등의 대형 플랫 패널 디스플레이의 기판 상에 마스크의 마스크 패턴을 노광 전사하는 노광 장치에 적용할 수 있는 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법에 관한 것이다.
종래, 플랫 패널 디스플레이 장치의 컬러 필터 등의 패널을 제조하는 장치로서, 근접 노광 장치, 스캔 노광 장치, 투영 노광 장치, 미러 프로젝션, 밀착식 노광 장치 등의 여러 가지 노광 장치가 고안되어 있다. 예를 들어, 분할 축차 근접 노광 장치에서는, 기판보다 작은 마스크를 마스크 스테이지로 유지함과 함께 기판을 워크 스테이지로 유지하여 양자를 근접시켜 대향 배치한 후, 워크 스테이지를 마스크에 대해 스텝 이동시켜 각 스텝마다 마스크측으로부터 기판에 패턴 노광용 광을 조사함으로써, 마스크에 그려진 복수의 패턴을 기판 상에 노광 전사하여, 1 장의 기판에 복수의 패널을 제조한다. 또, 스캔 노광 장치에서는, 일정 속도로 반송되고 있는 기판에 대해, 노광용 광을 마스크를 통해 조사하여, 기판 상에 마스 크의 패턴을 노광 전사한다.
최근, 디스플레이 장치는 점점 대형화되고 있고, 예를 들어 분할 축차 노광에 있어서, 제 8 세대 (2200 ㎜ × 2500 ㎜) 의 패널을 4 회의 노광 쇼트로 제조하는 경우, 1 회의 노광 영역은 1300 ㎜ × 1120 ㎜ 가 되고, 6 회의 노광 쇼트로 제조하는 경우, 1 회의 노광 영역은 1100 ㎜ × 750 ㎜ 가 된다. 따라서, 노광 장치에 있어서도 노광 영역의 확대가 요구되고 있어, 사용되는 광원의 출력도 높일 필요가 있다. 이 때문에, 조명 광학계로서 복수의 광원을 이용하여 광원 전체의 출력을 높이도록 한 것이 알려져 있다 (예를 들어, 특허 문헌 1 및 2 참조). 예를 들어, 특허 문헌 2 에 기재된 광조사 장치에서는, 램프의 점등 중에, 광원 유닛을 이면측으로부터 떼어내고, 새로운 광원 유닛을 장착하여, 제조 라인을 멈추지 않고 램프를 교환하고, 또 광원 유닛을 지지체에 장착할 때에는 광원 유닛의 위치 결정부를 지지체의 위치 결정 모서리부에 가압하여 광축 방향의 위치 결정을 실시하는 것이 기재되어 있다.
[특허 문헌 1] 일본 공개특허공보 2004-361746호
[특허 문헌 2] 일본 공개특허공보 2006-278907호
그런데, 특허 문헌 1 에서는, 램프를 교환할 때에는, 램프를 1 개씩 교환할 필요가 있어, 램프 교환에 시간이 걸려 장치를 정지시키는 시간 (다운 타임) 이 길어진다. 다운 타임을 없애는 것을 목적으로 한 기술로서, 특허 문헌 2 와 같은 노광 운전 중에 램프를 교환할 수 있는 구성이 공개되어 있지만, 작업자의 교환 시간 자체는 개별 교환이기 때문에 긴 것에 변함은 없다. 또, 특허 문헌 1 및 2 에서는, 램프를 지지하는 지지체의 광 출사측의 면이 구면 (球面) 을 따라 형성되어 있기 때문에, 램프의 수를 증가시킨 경우에는, 그 구면의 표면적이 증대되어 정밀도가 양호한 곡면 가공이 곤란하다는 문제가 있다.
본 발명은, 전술한 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은, 광원부의 교환 시간 및 장치의 다운 타임을 단축할 수 있는 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 상기 목적은, 하기의 구성에 의해 달성된다.
(1) 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 갖게 하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와,
소정 수의 상기 광원부를 각각 장착할 수 있는 복수의 카세트와,
그 복수의 카세트를 장착할 수 있는 프레임을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
(2) 상기 카세트는, 상기 소정 수의 광원부가 지지되는 광원 지지부를 가지며,
상기 광원 지지부는, 상기 소정 수의 광원부의 광이 조사되는 각 조사면으로부터, 상기 소정 수의 광원부의 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈의 입사면까지의 각 광축의 거리가 대략 일정해지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 (1) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.
(3) 상기 프레임은, 상기 복수의 카세트가 각각 장착되는 복수의 카세트 장착부를 가지며,
상기 복수의 카세트 장착부는, 상기 모든 광원부의 광이 조사되는 각 조사면으로부터, 상기 모든 광원부의 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈의 입사면까지의 각 광축의 거리가 대략 일정해지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 (2) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.
(4) 상기 복수의 카세트 장착부는, 상기 카세트의 광원 지지부가 면하는 개구부와, 그 광원 지지부의 주위에 형성된 평면부와 맞닿는 평면을 각각 구비하고,
소정의 방향으로 늘어선 상기 복수의 카세트 장착부의 각 평면은, 소정의 각도로 교차되어 있는 것을 특징으로 하는 (3) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.
(5) 상기 프레임의 카세트 장착부는, 상기 평면을 저면으로 한 오목부에 형성되고,
상기 카세트는, 상기 카세트 장착부의 오목부에 끼워 맞춰지는 것을 특징으로 하는 (4) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.
(6) 상기 카세트는, 상기 소정 수의 광원부가 지지되는 광원 지지부를 가지며,
상기 광원 지지부에 지지된 최외주에 위치하는 상기 광원부의 중심을 4 변으로 연결한 선이 직사각형 형상을 이루는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.
(7) 상기 프레임은, 상기 복수의 카세트가 각각 장착되는 복수의 카세트 장착부를 가지며,
상기 복수의 카세트 장착부는, 서로 직교하는 방향에 배치되는 상기 카세트의 각 개수를 일치시켜 직사각형 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 (6) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.
(8) 상기 카세트는, 상기 광원 지지부에 지지된 상기 소정 수의 광원부를 둘러싼 상태로, 상기 광원 지지부에 장착되는 커버 부재를 가지며,
상기 광원 지지부와 상기 커버 부재 사이의 수납 공간 내에 있어서, 인접하는 상기 광원부의 반사 광학계의 배면은 직접 대향되어 있는 것을 특징으로 하는 (2) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.
(9) 상기 커버 부재에는, 상기 수납 공간과 그 커버 부재의 외부를 연통하는 연통 구멍과 연통 홈 중 적어도 하나가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 (8) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.
(10) 상기 프레임에는, 상기 각 광원부를 냉각시키기 위해, 냉각수가 순환하는 냉각용 배관이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.
(11) 상기 각 광원부의 광이 조사되는 각 조사면에 대해 후방 및 측방 중 적어도 일방으로부터 상기 프레임 내의 에어를 강제 배기하는 강제 배기 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.
(12) 피노광재로서의 기판을 유지하는 기판 유지부와,
상기 기판과 대향하도록 마스크를 유지하는 마스크 유지부와,
(1)∼(11) 중 어느 하나에 기재된 상기 광조사 장치와, 그 광조사 장치의 복수의 광원부로부터 출사된 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈를 갖는 조명 광학계를 구비하고, 상기 기판에 대해 상기 조명 광학계로부터의 광을 상기 마스크를 통해 조사하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
본 발명의 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법에 의하면, 소정 수의 광원부를 1 개의 카세트에 장착하고 유닛화하여 관리함으로써, 램프 교환 시간 및 장치의 다운 타임을 단축할 수 있다.
또, 카세트를 사용함으로써, 프레임에 큰 곡면 가공을 실시하지 않고, 모든 광원을 단일한 곡면 상에 배치할 수 있다.
이하, 본 발명의 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법에 관련된 각 실시형태를 도면에 기초하여 상세하게 설명한다.
(제 1 실시형태)
도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 제 1 실시형태의 분할 축차 근접 노광 장치 (PE) 는, 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 스테이지 (10) 와, 유리 기판 (피노광재) (W) 을 유지하는 기판 스테이지 (20) 와, 패턴 노광용 광을 조사하는 조명 광학계 (70) 를 구비하고 있다.
또한, 유리 기판 (W) (이하, 간단히 「기판 (W)」 이라고 한다) 은, 마스크 (M) 에 대향 배치되어 있고, 이 마스크 (M) 에 그려진 패턴을 노광 전사하기 위해 표면 (마스크 (M) 의 대향면측) 에 감광제가 도포되어 있다.
마스크 스테이지 (10) 는, 중앙부에 직사각형 형상의 개구 (11a) 가 형성되는 마스크 스테이지 베이스 (11) 와, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 개구 (11a) 에 X 축, Y 축, θ 방향으로 이동할 수 있게 장착되는 마스크 유지부인 마스크 유지 프레임 (12) 과, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 상면에 형성되고, 마스크 유지 프레임 (12) 을 X 축, Y 축, θ 방향으로 이동시켜, 마스크 (M) 의 위치를 조정하는 마스크 구동 기구 (16) 를 구비한다.
마스크 스테이지 베이스 (11) 는, 장치 베이스 (50) 상에 세워 설치되는 지주 (51), 및 지주 (51) 의 상단부에 설치되는 Z 축 이동 장치 (52) 에 의해 Z 축 방향으로 이동할 수 있게 지지되고 (도 2 참조), 기판 스테이지 (20) 의 상방에 배치된다.
도 3 에 나타내는 바와 같이, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 개구 (11a) 주연부 (周緣部) 의 상면에는, 평면 베어링 (13) 이 복수 지점 배치되어 있고, 마 스크 유지 프레임 (12) 은, 그 상단 외주연부에 형성되는 플랜지 (12a) 를 평면 베어링 (13) 에 탑재하고 있다. 이로써, 마스크 유지 프레임 (12) 은, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 개구 (11a) 에 소정의 틈을 개재하여 삽입되므로, 이 틈의 분량만큼 X 축, Y 축, θ 방향으로 이동할 수 있게 된다.
또, 마스크 유지 프레임 (12) 의 하면에는, 마스크 (M) 를 유지하는 척부 (14) 가 간좌 (間座) (15) 를 개재하여 고정되어 있다. 이 척부 (14) 에는, 마스크 (M) 의 마스크 패턴이 그려져 있지 않은 주연부를 흡착하기 위한 복수의 흡인 노즐 (14a) 이 개설되어 있고, 마스크 (M) 는, 흡인 노즐 (14a) 을 개재하여 도시되지 않은 진공식 흡착 장치에 의해 척부 (14) 에 자유롭게 착탈될 수 있게 유지된다. 또, 척부 (14) 는, 마스크 유지 프레임 (12) 과 함께 마스크 스테이지 베이스 (11) 에 대해 X 축, Y 축, θ 방향으로 이동할 수 있다.
마스크 구동 기구 (16) 는, 마스크 유지 프레임 (12) 의 X 축 방향을 따르는 1 변에 장착되는 2 대의 Y 축 방향 구동 장치 (16y) 와, 마스크 유지 프레임 (12) 의 Y 축 방향을 따라는 1 변에 장착되는 1 대의 X 축 방향 구동 장치 (16x) 를 구비한다.
Y 축 방향 구동 장치 (16y) 는, 마스크 스테이지 베이스 (11) 상에 설치되고, Y 축 방향으로 신축되는 로드 (16b) 를 갖는 구동용 액추에이터 (예를 들어, 전동 액추에이터 등) (16a) 와, 로드 (16b) 의 선단에 핀 지지 기구 (16c) 를 개재하여 연결되는 슬라이더 (16d) 와, 마스크 유지 프레임 (12) 의 X 축 방향을 따르는 변부 (邊部) 에 장착되고, 슬라이더 (16d) 를 이동할 수 있게 장착하는 안내 레 일 (16e) 을 구비한다. 또한, X 축 방향 구동 장치 (16x) 도, Y 축 방향 구동 장치 (16y) 와 동일한 구성을 갖는다.
그리고, 마스크 구동 기구 (16) 에서는, 1 대의 X 축 방향 구동 장치 (16x) 를 구동시킴으로써 마스크 유지 프레임 (12) 을 X 축 방향으로 이동시키고, 2 대의 Y 축 방향 구동 장치 (16y) 를 동등하게 구동시킴으로써 마스크 유지 프레임 (12) 을 Y 축 방향으로 이동시킨다. 또, 2 대의 Y 축 방향 구동 장치 (16y) 중 어느 일방을 구동함으로써 마스크 유지 프레임 (12) 을 θ 방향으로 이동 (Z 축 둘레의 회전) 시킨다.
또한, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 상면에는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 마스크 (M) 와 기판 (W) 의 대향면 사이의 갭을 측정하는 갭 센서 (17) 와, 척부 (14) 에 유지되는 마스크 (M) 의 장착 위치를 확인하기 위한 얼라이먼트 카메라 (18) 가 형성된다. 이들 갭 센서 (17) 및 얼라이먼트 카메라 (18) 는, 이동 기구 (19) 를 통해 X 축, Y 축 방향으로 이동할 수 있게 유지되고, 마스크 유지 프레임 (12) 내에 배치된다.
또, 마스크 유지 프레임 (12) 상에는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 개구 (11a) 의 X 축 방향의 양단부에, 마스크 (M) 의 양단부를 필요에 따라 차폐하는 어퍼처 블레이드 (38) 가 형성된다. 이 어퍼처 블레이드 (38) 는, 모터, 볼 나사, 및 리니어 가이드 등으로 이루어지는 어퍼처 블레이드 구동 기구 (39) 에 의해 X 축 방향으로 이동할 수 있게 되고, 마스크 (M) 의 양단부의 차폐 면적을 조정한다. 또한, 어퍼처 블레이드 (38) 는, 개구 (11a) 의 X 축 방향의 양단부뿐만 아니라, 개구 (11a) 의 Y 축 방향의 양단부에 동일하게 형성되어 있다.
기판 스테이지 (20) 는, 도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 기판 (W) 을 유지하는 기판 유지부 (21) 와, 기판 유지부 (21) 를 장치 베이스 (50) 에 대해 X 축, Y 축, Z 축 방향으로 이동하는 기판 구동 기구 (22) 를 구비한다. 기판 유지부 (21) 는, 도시되지 않은 진공 흡착 기구에 의해 기판 (W) 을 자유롭게 착탈할 수 있게 유지한다. 기판 구동 기구 (22) 는, 기판 유지부 (21) 의 하방에, Y 축 테이블 (23), Y 축 이송 기구 (24), X 축 테이블 (25), X 축 이송 기구 (26), 및 Z-틸트 조정 기구 (27) 를 구비한다.
Y 축 이송 기구 (24) 는, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 리니어 가이드 (28) 와 이송 구동 기구 (29) 를 구비하여 구성되고, Y 축 테이블 (23) 의 이면에 장착된 슬라이더 (30) 가, 장치 베이스 (50) 상에 연장되는 2 개의 안내 레일 (31) 에 전동체 (도시 생략) 를 개재하여 걸쳐짐과 함께, 모터 (32) 와 볼 나사 장치 (33) 에 의해 Y 축 테이블 (23) 을 안내 레일 (31) 을 따라 구동한다.
또한, X 축 이송 기구 (26) 도 Y 축 이송 기구 (24) 와 동일한 구성을 가지며, X 축 테이블 (25) 을 Y 축 테이블 (23) 에 대해 X 방향으로 구동한다. 또, Z-틸트 조정 기구 (27) 는, 쐐기 형상의 이동체 (34, 35) 와 이송 구동 기구 (36) 를 조합하여 이루어지는 가동 쐐기 기구를 X 방향의 일단측에 1 대, 타단측에 2 대 배치함으로써 구성된다. 또한, 이송 구동 기구 (29, 36) 는, 모터와 볼 나사 장치를 조합한 구성이어도 되고, 고정자와 가동자를 갖는 리니어 모터여도 된다. 또, Z-틸트 조정 기구 (27) 의 설치 수는 임의이다.
이로써, 기판 구동 기구 (22) 는, 기판 유지부 (21) 를 X 방향 및 Y 방향으로 이송 구동함과 함께, 마스크 (M) 와 기판 (W) 의 대향면 사이의 갭을 미(微)조정하도록, 기판 유지부 (21) 를 Z 축 방향으로 미동 (微動) 또한 틸트 조정한다.
기판 유지부 (21) 의 X 방향 측부와 Y 방향 측부에는 각각 바 미러 (61, 62) 가 장착되고, 또 장치 베이스 (50) 의 Y 방향 단부 (端部) 와 X 방향 단부에는, 합계 3 대의 레이저 간섭계 (63, 64, 65) 가 형성되어 있다. 이로써, 레이저 간섭계 (63, 64, 65) 로부터 레이저광을 바 미러 (61, 62) 에 조사하고, 바 미러 (61, 62) 에 의해 반사된 레이저광을 수광하여, 레이저광과 바 미러 (61, 62) 에 의해 반사된 레이저광의 간섭을 측정하여 기판 스테이지 (20) 의 위치를 검출한다.
도 2 및 도 4 에 나타내는 바와 같이, 조명 광학계 (70) 는, 복수의 광원부 (73) 를 구비한 광조사 장치 (80) 와, 복수의 광원부 (73) 로부터 사출된 광속이 입사되는 인터그레이터 렌즈 (74) 와, 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 의 점등과 소등의 전환을 포함하는 전압 제어 가능한 광학 제어부 (76) 와, 인터그레이터 렌즈 (74) 의 출사면으로부터 출사된 광로의 방향을 바꾸는 오목면경 (77) 과, 복수의 광원부 (73) 와 인터그레이터 렌즈 (74) 사이에 배치되어 조사된 광을 투과·차단하도록 개폐 제어하는 노광 제어용 셔터 (78) 를 구비한다. 또한, 인터그레이터 렌즈 (74) 와 노광면 사이에는, DUV 컷 필터, 편광 필터, 밴드 패스 필터가 배치되어도 되고, 또 오목면경 (77) 에는, 미러의 곡률을 수동 또는 자동으로 변경할 수 있는 디클리네이션각 보정 수단이 형성되어도 된다.
도 4∼도 6 에 나타내는 바와 같이, 광조사 장치 (80) 는, 발광부로서의 초고압 수은 램프 (71) 와, 이 램프 (71) 로부터 발생된 광에 지향성을 갖게 하여 사출되는 반사 광학계로서의 반사경 (72) 을 각각 포함하는 복수의 광원부 (73) 와, 복수의 광원부 (73) 중, 소정 수의 광원부 (73) 를 각각 장착할 수 있는 복수의 카세트 (81) 와, 복수의 카세트 (81) 를 장착할 수 있는 프레임 (82) 을 구비한다. 발광부로는, 초고압 수은 램프 (71) 대신에 LED 가 적용되어도 된다.
또한, 조명 광학계 (70) 에 있어서, 160 W 의 초고압 수은 램프 (71) 를 사용한 경우, 제 6 세대의 플랫 패널을 제조하는 노광 장치에서는 374 개의 광원부, 제 7 세대의 플랫 패널을 제조하는 노광 장치에서는 572 개의 광원부, 제 8 세대의 플랫 패널을 제조하는 노광 장치에서는, 774 개의 광원부가 필요하게 된다. 단, 본 실시형태에서는, 설명을 간략화하기 위해, 도 4 에 나타내는 바와 같이,
Figure 112009066556360-PAT00001
방향으로 3 단, β 방향으로 2 열의 합계 6 개의 광원부 (73) 가 장착된 카세트 (81) 를 3 단 × 3 열의 합계 9 개 배치한, 54 개의 광원부 (73) 를 갖는 것으로 하여 설명한다. 또한, 카세트 (81) 나 프레임 (82) 은, 광원부 (73) 의 배치를
Figure 112009066556360-PAT00002
, β 방향으로 동일한 수로 한 정사각형 형상도 생각할 수 있지만,
Figure 112009066556360-PAT00003
, β 방향으로 상이한 수로 한 직사각형 형상이 적용된다. 또, 본 실시형태의 광원부 (73) 에서는, 반사부 (72) 의 개구부 (72b) 가 대략 정사각형 형상으로 형성되어 있고, 4 변이
Figure 112009066556360-PAT00004
, β 방향을 따르도록 배치되어 있다.
각 카세트 (81) 는, 소정 수의 광원부 (73) 를 지지하는 광원 지지부 (83) 와, 광원 지지부 (83) 에 지지된 광원부 (73) 를 가압하고, 그 광원 지지부 (83) 에 장착되는 오목 형상의 램프 가압 커버 (커버 부재) (84) 를 구비한 대략 직육면체 형상으로 형성되어 있고, 각각 동일한 구성을 갖는다.
광원 지지부 (83) 에는, 광원부 (73) 의 수에 대응하여 형성되고, 광원부 (73) 로부터의 광을 발광하는 복수의 창부 (83a) 와, 그 창부 (83a) 의 커버측에 형성되고, 반사경 (72) 의 개구부 (72a) (또는, 반사경 (72) 이 장착되는 반사경 장착부의 개구부) 를 둘러싸는 램프용 오목부 (83b) 가 형성된다. 또, 그 창부 (83a) 의 반커버측에는, 복수의 커버 유리 (85) 가 각각 장착되어 있다. 또한, 커버 유리 (85) 의 장착은 임의이며, 형성되지 않아도 된다.
각 램프용 오목부 (83b) 의 저면은, 광원부 (73) 의 광을 조사하는 조사면 (여기서는, 반사경 (72) 의 개구면 (72b)) 과, 광원부 (73) 의 광축 (L) 의 교점 (p) 이, 각
Figure 112009066556360-PAT00005
, β 방향에 있어서 단일한 곡면, 예를 들어 구면 (r) 상에 위치하도록, 평면 또는 곡면 (본 실시형태에서는 평면) 에 형성된다.
램프 가압 커버 (84) 의 저면에는, 광원부 (73) 의 후부 (後部) 에 맞닿는 맞닿음부 (86) 가 형성되어 있고, 각 맞닿음부 (86) 에는, 모터나 실린더와 같은 액추에이터, 스프링 가압, 나사 고정 등에 의해 구성되는 램프 가압 기구 (87) 가 형성되어 있다. 이로써, 각 광원부 (73) 는, 반사경 (72) 의 개구부 (72a) 를 광원 지지부 (83) 의 램프용 오목부 (83b) 에 끼워 맞춰 램프 가압 커버 (84) 를 광원 지지부 (83) 에 장착하고, 램프 가압 기구 (87) 에 의해 광원부 (73) 의 후부를 가압함으로써, 카세트 (81) 에 위치 결정된다. 따라서, 도 5(c) 에 나타내 는 바와 같이, 카세트 (81) 에 위치 결정된 소정 수의 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면으로부터, 소정 수의 광원부 (73) 의 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해진다. 또, 광원 지지부 (83) 와 램프 가압 커버 (84) 사이의 수납 공간 내에서는, 인접하는 광원부 (73) 의 반사경 (72) 의 배면 (72c) 은 직접 대향되어 있고, 광원부 (73), 램프 가압 기구 (87) 등 이외에는 그 수납 공간 내의 공기의 흐름을 차단하는 것이 없어, 양호한 공기의 유동성이 부여된다.
또한, 램프 가압 기구 (87) 는, 맞닿음부 (86) 마다 형성되어도 되는데, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 램프 가압 커버 (84) 의 측벽에 형성되어도 된다. 이 경우에도, 맞닿음부 (86) 는, 각 광원부 (73) 에 각각 형성되어도 되는데, 2 개 이상의 광원부 (73) 의 후부에 맞닿도록 해도 된다.
또, 프레임 (82) 은, 복수의 카세트 (81) 를 장착하는 복수의 카세트 장착부 (90) 를 갖는 프레임 본체 (91) 와, 그 프레임 본체 (91) 에 장착되고, 각 카세트 (81) 의 후부를 덮는 프레임 커버 (92) 를 갖는다.
도 8 에 나타내는 바와 같이, 각 카세트 장착부 (90) 에는, 광원 지지부 (83) 가 면하는 개구부 (90a) 가 형성되고, 그 개구부 (90a) 의 주위에는, 광원 지지부 (83) 주위의 직사각형 평면이 대향하는 평면 (90b) 을 저면으로 한 카세트용 오목부 (90c) 가 형성된다. 또, 프레임 본체 (91) 의 카세트용 오목부 (90c) 의 주위에는, 카세트 (81) 를 고정시키기 위한 카세트 고정 수단 (93) 이 형성되어 있고, 본 실시형태에서는, 카세트 (81) 에 형성된 오목부 (81a) 에 걸어 맞춰 카세 트 (81) 를 고정시킨다.
Figure 112009066556360-PAT00006
방향 혹은 β 방향으로 늘어선 카세트용 오목부 (90c) 의 각 평면 (90b) 은, 각 카세트 (81) 의 모든 광원부 (73) 의 광을 조사하는 조사면과, 광원부 (73) 의 광축 (L) 의 교점 (p) 이, 각
Figure 112009066556360-PAT00007
, β 방향에 있어서 단일한 곡면, 예를 들어 구면 (r) 상에 위치하도록 (도 9 참조), 소정의 각도 (γ) 로 교차하도록 형성된다.
따라서, 각 카세트 (81) 는, 이들 광원 지지부 (83) 를 각 카세트 장착부 (90) 의 카세트용 오목부 (90c) 에 끼워 맞춰 위치 결정한 상태에서, 카세트 고정 수단 (93) 을 카세트 (81) 의 오목부 (81a) 에 걸어 맞춤으로써, 프레임 (82) 에 각각 고정된다. 그리고, 이들 각 카세트 (81) 가 프레임 본체 (91) 에 장착된 상태에서, 그 프레임 본체 (91) 에 프레임 커버 (92) 가 장착된다. 따라서, 도 9 에 나타내는 바와 같이, 각 카세트 (81) 에 위치 결정된 모든 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과, 소정 수의 광원부 (73) 의 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리도 대략 일정하게 된다.
또, 도 10 에 나타내는 바와 같이, 각 카세트 (81) 의 광원부 (73) 에는, 램프 (71) 에 전력을 공급하는 점등 전원 (95) 및 제어 회로 (96) 가 각각 접속되어 있고, 각 광원부 (73) 로부터 후방으로 연장되는 각 배선 (97) 은, 각 카세트 (81) 에 형성된 적어도 하나의 커넥터 (98) 에 접속되어 합쳐져 있다. 그리고, 각 카세트 (81) 의 커넥터 (98) 와, 프레임 (82) 의 외측에 형성된 광학 제어부 (76) 사이는, 다른 배선 (99) 에 의해 각각 접속된다. 이로써, 광학 제어부 (76) 는, 각 램프 (71) 의 제어 회로 (96) 에 제어 신호를 송신하고, 각 램프 (71) 에 대해 점등과 소등을 포함하여 전압을 조정하는 전압 제어를 실시한다.
또한, 각 광원부 (73) 의 점등 전원 (95) 및 제어 회로 (96) 는, 카세트 (81) 에 집약하여 형성되어도 되고, 카세트의 외부에 형성되어도 된다. 또, 램프 가압 커버 (84) 의 맞닿음부 (86) 는, 각 광원부 (73) 로부터의 각 배선 (97) 과 간섭하지 않도록 형성되어 있다.
또한, 도 11 에 나타내는 바와 같이, 램프 (71) 마다 퓨즈 (94a) 를 포함하는 수명 시간 검출 수단 (94) 을 형성하고, 타이머 (96a) 에 의해 점등 시간을 카운트하고, 정격 수명 시간이 온 단계에서 퓨즈 (94a) 에 전류를 흐르게 하여 퓨즈 (94a) 를 절단한다. 따라서, 퓨즈 (94a) 의 절단 유무를 확인함으로써, 램프 (71) 를 정격 수명 시간 사용하고 있는지를 검출할 수 있다. 또한, 수명 시간 검출 수단 (94) 은, 퓨즈 (94a) 를 포함하는 것에 한정되지 않고, 램프 교환의 메인터넌스시에 램프 (71) 의 정격 수명 시간을 한눈에 알 수 있는 것이면 된다. 예를 들어, 램프 (71) 마다 IC 태그를 배치하여, IC 태그에 의해 램프 (71) 를 정격 수명 시간 사용했는지를 확인할 수 있는 것, 혹은 램프 (71) 의 사용 시간을 확인할 수 있도록 해도 된다.
또, 도 10 에서는, 점등 전원 (95) 및 제어 회로 (96) 는, 각 광원부 (73) 마다 형성되어 있는데, 복수의 광원부 (73) 마다 1 개 형성하도록 하고, 카세트 (81) 내의 광원부 (73) 를 소정 수씩 모아서 관리하도록 해도 된다. 예를 들어, 도 12 에 나타내는 카세트 (81) 내에 24 개의 광원부 (73) 를 갖는 경우, 4 개의 광원부 (73) 마다 점등 전원 (95) 및 제어 회로 (96) 를 형성하고, 4 개의 광원 부 (73) 를 동기하여 제어하도록 해도 된다.
또, 광조사 장치 (80) 의 각 광원부 (73), 각 카세트 (81), 및 프레임 (82) 에는, 각 램프 (71) 를 냉각시키기 위한 냉각 구조가 형성되어 있다. 구체적으로, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 와 반사경 (72) 이 장착되는 베이스부 (75) 에는, 냉각로 (75a) 가 형성되어 있고, 카세트 (81) 의 각 커버 유리 (85) 에는, 1 개 또는 복수의 관통공 (85a) 이 형성되어 있다. 또, 카세트 (81) 의 카세트 가압 커버 (84) 의 저면에는, 복수의 배기 구멍 (연통 구멍) (84a) 이 형성되고 (도 5(c) 참조), 프레임 (82) 의 프레임 커버 (92) 에도, 복수의 배기 구멍 (92a) 이 형성되어 있다 (도 4(c) 참조). 또, 각 배기 구멍 (92a) 에는, 프레임 (82) 의 외부에 형성된 블로어 유닛 (강제 배기 수단) (79) 이 배기관 (79a) 을 통해 접속되어 있다. 따라서, 블로어 유닛 (79) 에 의해 프레임 (82) 내의 에어를 빼서 배기시킴으로써, 커버 유리 (85) 의 관통공 (85a) 으로부터 흡인된 외부의 에어가, 화살표로 나타낸 방향으로 램프 (71) 와 반사경 (72) 사이의 틈 (s) 을 통과하고, 광원부 (73) 의 베이스부 (75) 에 형성된 냉각로 (75a) 에 안내되어, 에어에 의해 각 광원부 (73) 의 냉각을 실시하고 있다.
또한, 강제 배기 수단으로는, 블로어 유닛 (79) 에 한정되지 않고, 팬, 인버터, 진공 펌프 등, 프레임 (82) 내의 에어를 빼는 것이면 된다. 또, 블로어 유닛 (79) 에 의한 에어의 배기는, 후방으로부터에 한정되지 않고, 상방, 하방, 좌방, 우방 중 어느 측방으로부터여도 된다. 예를 들어, 도 13 에 나타내는 바와 같이, 프레임의 측방에 접속된 복수의 배기관 (79a) 을 댐퍼 (79b) 를 통해 블로어 유닛 (79) 에 각각 접속하도록 해도 된다.
또, 카세트 가압 커버 (84) 에 형성되는 배기 구멍 (84a) 은, 도 5(c) 에 나타내는 바와 같이 저면에 복수 형성되어도 되고, 도 14(a) 에 나타내는 바와 같이 저면의 중앙에 형성되어도 되고, 도 14(b), 도 14(c) 에 나타내는 바와 같이 긴 변 방향, 짧은 변 방향의 측면에 형성되어도 된다. 또, 배기 구멍 (84a) 외에, 카세트 가압 커버 (84) 의 개구 가장자리로부터 노치된 연통 홈을 형성함으로써, 광원 지지부 (83) 와 카세트 가압 커버 (84) 사이의 수납 공간과 외부를 연통해도 된다.
또한, 카세트 가압 커버 (84) 는, 복수의 프레임에 의해 구성되는 골조 구조로 하고, 그 프레임에 연통 구멍이나 연통 홈이 형성된 커버판을 별도 장착함으로써, 연통 구멍이나 연통 홈을 구성하도록 해도 된다.
또한, 프레임 본체 (91) 의 주연에는, 수냉관 (냉각용 배관) (91a) 이 형성되어 있고, 물펌프 (69) 에 의해 수냉관 (91a) 내에 냉각수를 순환시키는 것으로도, 각 광원부 (73) 를 냉각시키고 있다. 또한, 수냉관 (91a) 은, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 프레임 본체 (91) 내에 형성되어도 되고, 프레임 본체 (91) 의 표면에 장착되어도 된다. 또, 상기 배기식 냉각 구조와 수냉식 냉각 구조는, 어느 하나만 형성되어도 된다. 또, 수냉관 (91a) 은, 도 4 에 나타내는 배치에 한정되지 않고, 도 15(a) 및 도 15(b) 에 나타내는 바와 같이 수냉관 (91a) 을 모든 카세트 (81) 의 주위를 지나도록 배치, 또는 모든 카세트 (81) 의 주위의 일부를 지나도록 지그재그로 배치하여 냉각수를 순환시켜도 된다.
이와 같이 구성된 노광 장치 (PE) 에서는, 조명 광학계 (40) 에 있어서, 노광시에 노광 제어용 셔터 (44) 가 개방 제어되면, 초고압 수은 램프 (71) 로부터 조사된 광이 인터그레이터 렌즈 (74) 의 입사면에 입사된다. 그리고, 인터그레이터 렌즈 (74) 의 출사면으로부터 발생된 광은, 오목면경 (30) 에 의해 그 진행 방향이 바뀜과 함께 평행광으로 변환된다. 그리고, 이 평행광은, 마스크 스테이지 (10) 에 유지되는 마스크 (M), 나아가서는 기판 스테이지 (20) 에 유지되는 기판 (W) 의 표면에 대해 대략 수직으로 패턴 노광용 광으로서 조사되고, 마스크 (M) 의 패턴 (P) 이 기판 (W) 상에 노광 전사된다.
여기서, 광원부 (73) 를 교환할 때에는, 카세트 (81) 마다 교환된다. 각 카세트 (81) 에서는, 소정 수의 광원부 (73) 가 미리 위치 결정되고, 또한 각 광원부 (73) 로부터의 배선 (97) 이 커넥터 (98) 에 접속되어 있다. 이 때문에, 교환이 필요한 카세트 (81) 를 프레임 (82) 의 광이 출사되는 방향과는 역방향으로부터 떼어내고, 새로운 카세트 (81) 를 프레임 (82) 의 카세트용 오목부 (90b) 에 끼워 맞춰 프레임 (82) 에 장착함으로써, 카세트 (81) 내의 광원부 (73) 의 얼라이먼트를 완료한다. 또, 커넥터 (98) 에 다른 배선 (99) 을 접속함으로써, 배선 작업도 완료되므로, 광원부 (73) 의 교환 작업을 용이하게 실시할 수 있다. 또, 카세트 교환시에는 장치를 멈출 필요가 있다. 이유로는, 카세트 (81) 에는 복수의 램프 (9 개 이상) 가 배치되어 있고, 카세트 하나 하나가 노광면에서의 조도 분포에 크게 기여하기 때문이다. 그러나, 전술한 바와 같이 복수의 카세트 (81) 를 교환하는 경우에도 작업이 용이하고 또한 교환 시간 자체도 짧게 할 수 있 기 때문에 유용한 방법이다.
또, 카세트 (81) 의 광원 지지부 (83) 가, 소정 수의 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과, 소정 수의 광원부의 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해지도록 형성되고, 프레임 (82) 의 복수의 카세트 장착부 (90) 는, 모든 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과, 모든 광원부 (73) 의 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해지도록 형성되어 있다. 이 때문에, 카세트 (81) 를 사용함으로써, 프레임 (82) 에 큰 곡면 가공을 실시하지 않고, 모든 광원부 (73) 의 조사면을 단일한 곡면 상에 배치할 수 있다.
구체적으로, 프레임 (82) 의 복수의 카세트 장착부 (90) 는, 카세트 (81) 의 광원 지지부 (83) 가 면하는 개구부 (90a) 와, 광원 지지부 (83) 의 주위에 형성된 평면부와 맞닿는 평면 (90b) 을 각각 구비하고, 소정의 방향으로 늘어선 복수의 카세트 장착부 (90) 의 각 평면 (90b) 은, 소정의 각도로 교차되어 있기 때문에, 카세트 장착부 (90) 가 간단한 가공으로, 소정 수의 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과, 인터그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해지도록 형성할 수 있다.
또, 프레임 (82) 의 카세트 장착부 (90) 는, 평면 (90b) 을 저면으로 한 오목부 (90c) 에 형성되고, 카세트 (81) 는, 카세트 장착부 (90) 의 오목부 (90c) 에 끼워 맞춰지므로, 카세트 (81) 를 프레임 (82) 에 덜컹거림 없이 고정시킬 수 있다.
또한, 카세트 (81) 는, 광원 지지부 (83) 에 지지된 소정 수의 광원부 (73) 를 둘러싼 상태에서, 광원 지지부 (83) 에 장착되는 카세트 가압 커버 (84) 를 가지며, 광원 지지부 (83) 와 카세트 가압 커버 (84) 사이의 수납 공간 내에 있어서, 인접하는 광원부 (73) 의 반사경 (72) 의 배면 (72c) 은 직접 대향되어 있기 때문에, 수납 공간 내에 있어서 양호한 공기의 유동성이 부여되고, 각 광원부 (73) 를 냉각시킬 때, 수납 공간 내의 에어를 효율적으로 배기시킬 수 있다.
또, 카세트 가압 커버 (84) 에는, 수납 공간과 카세트 가압 커버 (84) 의 외부를 연통하는 연통 구멍 (84a) 이 형성되어 있기 때문에, 간단한 구성으로 카세트 (81) 의 외부에 에어를 배기시킬 수 있다.
또한, 프레임 (82) 에는, 각 광원부 (73) 를 냉각시키기 위해, 냉각수가 순환하는 수냉관 (91a) 이 형성되어 있기 때문에, 냉각수에 의해 각 광원부 (73) 를 효율적으로 냉각시킬 수 있다.
또, 각 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면에 대해 후방 및 측방 중 적어도 일방으로부터 프레임 (80) 내의 에어를 강제 배기시키는 블로어 유닛 (79) 을 가지므로, 프레임 (80) 내의 에어를 순환시킬 수 있어, 각 광원부 (73) 를 효율적으로 냉각시킬 수 있다.
또한, 상기 실시형태에서는, 설명을 간략화하기 위해,
Figure 112009066556360-PAT00008
방향으로 3 단, β 방향으로 2 열의 합계 6 개의 광원부 (73) 가 장착된 카세트 (81) 를 예로 들었지만, 실제로는 카세트 (81) 에 배치되는 광원부 (73) 는 8 개 이상이고, 도 16(a) 및 도 16(b) 에 나타내는 배치로 점 대칭 또는 선 대칭으로 카세트 (81) 에 장착된 다. 즉, 광원부 (73) 를
Figure 112009066556360-PAT00009
방향, β 방향에서 상이한 수로 배치하고, 카세트 (81) 의 광원 지지부 (83) 에 장착된 최외주에 위치하는 광원부 (73) 의 중심을 4 변으로 연결한 선이 직사각형 형상을 이룬다. 또, 각 카세트 (81) 가 장착되는 프레임 (82) 의 카세트 장착부 (90) 는, 도 17 에 나타내는 바와 같이 서로 직교하는
Figure 112009066556360-PAT00010
, β 방향으로 배치되는 각 개수 n (n : 2 이상의 양의 정수) 을 일치시켜 직사각형 형상으로 형성되어 있다. 여기서, 이 직사각형 형상은 후술하는 인터그레이터 엘리먼트의 각 렌즈 엘리먼트의 종횡마다의 입사 개구각비에 대응시키고, 카세트의 행수, 열수를 동일한 수로 한 경우가 가장 효율이 좋은데 상이한 수여도 된다.
여기서, 인터그레이터 렌즈 (74) 의 각 렌즈 엘리먼트의 애스펙트비 (종/횡비) 는, 노광 영역의 에어리어의 애스펙트비에 대응하여 결정되어 있다. 또, 인터그레이터 렌즈의 각각의 렌즈 엘리먼트는, 그 입사 개구각 이상의 각도로부터 입사되는 광을 받아들일 수 없는 구조로 되어 있다. 즉, 렌즈 엘리먼트는 장변측에 대해 단변측의 입사 개구각이 작아진다. 이 때문에, 프레임 (82) 에 배치된 광원부 (73) 전체의 애스펙트비 (종/횡비) 를, 인터그레이터 렌즈 (74) 의 입사면의 애스펙트비에 대응한 직사각형 형상의 배치로 함으로써, 광의 사용 효율이 양호해진다.
(제 2 실시형태)
다음으로, 본 발명의 제 2 실시형태로서, 제 1 실시형태의 분할 축차 근접 노광 장치 (PE) 를 사용한 노광 방법에 대해 설명한다.
상기 실시형태의 분할 축차 근접 노광 장치 (PE) 는, 광조사 장치 (80) 의 조도를 변화시킴으로써 다양한 레지스트의 감도 특성에 대응할 수 있다. 노광량은, 조도와 시간의 곱에 의해 산출되기 때문에, 조도 또는 시간을 변경함으로써 적절한 노광량을 얻을 수 있는데, 택트 타임 단축을 위해 시간은 짧게 설정되어 있고, 추가적인 시간에 의한 변경은 어렵다. 이 때문에, 조도를 변경하여 적절한 노광량을 얻기 위해, 통상 감광 (ND) 필터 등을 이용하여 저조도를 실현하고 있다. 이 경우, 쓸데없는 소비 전력이 발생되고, 또 ND 필터 등의 광학 부품이 필요하게 되었다.
그래서, 본 실시형태에서는, 필요한 조도에 따라, 광학 제어부 (76) 에 의해 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 를 개별적으로 점등, 소등, 또는 전압 제어함으로써 조도를 변화시킨다. 예를 들어, 각 램프 (71) 의 전압을 정격 이하로 전압 제어함으로써, 조도를 변화시켜도 되고, 램프 (71) 의 일부를 소등함으로써 조도를 변화시켜도 된다. 또, 램프 (71) 를 점등 또는 소등에 의해 조도를 제어하는 경우에는, 배치되어 있는 램프 (71) 를 선 대칭 혹은 점 대칭으로 점등시킴으로써, 노광면의 조도 분포를 변화시키지 않고 조도를 변화시킬 수 있다.
구체적으로는, 도 18(a) 및 도 18(b) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 내의 램프 (71) 마다 선 A 에 대해 선 대칭으로 램프 (71) 를 점등 또는 소등시키도록 해도 되고, 도 19(a) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 내의 램프 (71) 를 모두 점등 또는 소등하도록 선 A 에 대해 선 대칭으로 카세트마다 램프 (71) 를 점등 또는 소등시키도록 해도 된다. 또한, 도 19(b) 에 나타내는 바와 같이, 카 세트 (81) 마다 선 B 에 대해 램프 (71) 를 선 대칭 또는 점 Q 에 대해 램프 (71) 를 점 대칭으로 점등 또는 소등하도록 해도 된다. 또,
Figure 112009066556360-PAT00011
, β 방향으로 배치되는 카세트 (81) 의 개수가 짝수인 경우에는, 도 20(a) 및 도 20(b) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 마다 점 Q 에 대해 램프 (71) 를 점 대칭으로 점등 또는 소등하도록 해도 된다. 또한, 도 18∼도 20 중, 광원부 (73) 에 사선을 넣은 것은 소등한 램프 (71) 를 나타내고 있다.
따라서, 본 실시형태에 의하면, 필요한 조도에 따라, 필요 최저한의 램프 (71) 를 점등함으로써, 소비 전력을 억제하고, 또 ND 필터 등의 광학 부품이 불필요하게 되어 비용 다운을 도모할 수 있음과 함께, 선 대칭 또는 점 대칭으로 램프 (71) 를 점등 또는 소등함으로써, 노광면의 조도 분포 저하를 방지할 수 있다.
또한, 램프 (71) 의 점등 또는 소등하는 제어로는, 도시되지 않은 조도계로 측정된 실조도와 미리 설정된 적정 조도를 비교함으로써 실조도의 과부족을 판정함과 함께, 실조도의 과부족을 해소하도록 램프 (71) 를 점등하고, 혹은 소등하도록, 제어 회로 (96) 또는 광학 제어부 (76) 를 제어해도 된다. 또한, 노광 시간을 카운트하고, 미리 설정된 적정 조도를 유지하도록, 노광 타이밍에 따라 각 램프 (71) 를 점등 또는 소등하도록 제어해도 된다.
또, 본 실시형태에서는, 필요 최저한의 램프 (71) 를 점등하여 필터 등의 광학 부품을 불필요하게 할 수 있는데, 필터를 사용하는 경우에는, 필터에 의해 저하되는 조도 분포를 개선하도록 램프 (71) 를 점등하면 된다.
또, 노광하는 품종 (착색층, BM, 포토 스페이서, 광 배향막, TFT 층 등), 또 는 같은 품종에서의 레지스트의 종류에 따라서는 필요한 노광량이 상이하므로, 도 21 에 나타내는 바와 같이, 프레임 (82) 의 복수의 카세트 장착부 (90) 에 카세트 (81) 를 모두 장착할 필요가 없는 경우가 있다. 이 경우에는, 카세트 (81) 가 배치되지 않은 카세트 장착부 (90) 에는, 덮개 부재 (89) 가 장착되고, 덮개 부재 (89) 에는, 커버 유리 (85) 의 관통공 (85a) 과 동일한 직경으로, 동일한 개수의 관통공 (89a) 이 형성된다. 이로써, 외부의 에어가, 커버 유리 (85) 의 관통공 (85a) 에 더하여, 덮개 부재 (89) 의 관통공 (89a) 으로부터도 흡인된다. 따라서, 카세트 (81) 가 모든 카세트 장착부 (90) 에 장착되지 않는 경우라도, 덮개 부재 (89) 를 배치함으로써 카세트 (81) 가 모든 카세트 장착부 (90) 에 배치된 경우와 동일한 공기의 유동성이 부여되어 광원부 (73) 의 냉각이 실시된다.
또한, 각 광원부 (73) 를 확실하게 냉각시키기 위해, 모든 카세트 장착부 (90) 에 카세트 (81) 또는 덮개 부재 (89) 가 장착되어 있지 않은 상태에서는, 광조사 장치 (80) 를 운전할 수 없게 로크해도 된다.
(제 3 실시형태)
다음으로, 본 발명의 제 3 실시형태로서, 광조사 장치 (80) 의 램프 (71) 의 점등 또는 소등하는 제어 방법의 일례에 대해 도 22 를 참조하여 설명한다.
본 실시형태에서는, 도 22 에 나타내는 바와 같이, 동기하여 점등/소등할 수 있는 램프 (71) 에 있어서, 점등하는 램프 (71) 의 영역을 시간으로 관리하고, 노광 동작 중, 또는 비노광 동작 중 (예를 들어, 기판 로딩 중이나 쇼트 사이) 에 소정의 타이밍으로 그 영역을 순차 변화시킨다. 또, 이 경우에도, 제 2 실시형태 와 동일하게, 노광면의 조도 분포가 변화되지 않도록, 카세트 (81) 내의 램프 (71) 마다 점 Q 에 대해 램프 (71) 를 점 대칭으로 점등 또는 소등한다. 이로써, 균일한 조도를 유지하면서, 램프 (71) 의 사용 빈도가 치우치지 않고 점등·소등을 용이하게 관리할 수 있다. 또, 상기 소정의 타이밍은, 셔터가 닫혀 있는 타이밍이 바람직하고, 그 영역은 선 대칭이어도 된다.
또한, 각 초고압 수은등인 램프 (71) 는, 통전되면 서서히 조도를 높여 점등 상태, 또는 통전을 차단하면 서서히 조도를 낮춰 소등 상태가 된다. 이 때문에, 예를 들어 도 22(a) 에서 도 22(b) 상태로 이행할 때, 점등 제어된 램프 (71) 와 소등 제어된 램프 (71) 가 함께 점등되어 있는 타이밍이 실제로 존재한다. 따라서, 이와 같은 이행 과정의 조도를 고려하여 점등·소등 타이밍을 제어해도 되고, 혹은 도시되지 않은 셔터를 이용하여 램프 (71) 의 점등·소등을 전환해도 된다.
(제 4 실시형태)
다음으로, 본 발명의 제 4 실시형태에 관련된 근접 스캔 노광 장치에 대해, 도 23∼도 28 을 참조하여 설명한다.
근접 스캔 노광 장치 (101) 는, 도 26 에 나타내는 바와 같이, 마스크 (M) 에 근접하면서 소정 방향으로 반송되는 대략 직사각형 형상의 기판 (W) 에 대해, 패턴 (P) 을 형성한 복수의 마스크 (M) 를 통해 노광용 광 (L) 을 조사하고, 기판 (W) 에 패턴 (P) 을 노광 전사한다. 즉, 그 노광 장치 (101) 는, 기판 (W) 을 복수의 마스크 (M) 에 대해 상대 이동하면서 노광 전사가 실시되는 스캔 노광 방식 을 채용하고 있다. 또한, 본 실시형태에서 사용되는 마스크의 사이즈는, 350 ㎜ × 250 ㎜ 로 설정되어 있고, 패턴 (P) 의 X 방향 길이는, 유효 노광 영역의 X 방향 길이에 대응한다.
근접 스캔 노광 장치 (101) 는, 도 23 및 도 24 에 나타내는 바와 같이, 기판 (W) 을 부상시켜 지지함과 함께, 기판 (W) 을 소정 방향 (도면에 있어서 X 방향) 으로 반송하는 기판 반송 기구 (120) 와, 복수의 마스크 (M) 를 각각 유지하고, 소정 방향과 교차하는 방향 (도면에 있어서 Y 방향) 을 따라 지그재그 형상으로 2 열 배치되는 복수의 마스크 유지부 (171) 를 갖는 마스크 유지 기구 (170) 와, 복수의 마스크 유지부 (171) 의 상부에 각각 배치되고, 노광용 광 (L) 을 조사하는 조명 광학계로서의 복수의 조사부 (180) 와, 복수의 조사부 (180) 와 복수의 마스크 유지부 (171) 사이에 각각 배치되고, 조사부 (180) 로부터 출사된 노광용 광 (L) 을 차광하는 복수의 차광 장치 (190) 를 구비한다.
이들 기판 반송 기구 (120), 마스크 유지 기구 (170), 복수의 조사부 (180), 및 차광 장치 (190) 는, 레벨 블록 (도시 생략) 을 개재하여 지면에 설치되는 장치 베이스 (102) 상에 배치되어 있다. 여기서, 도 24 에 나타내는 바와 같이, 기판 반송 기구 (120) 가 기판 (W) 을 반송하는 영역 중, 상방에 마스크 유지 기구 (170) 가 배치되는 영역을 마스크 배치 영역 (EA), 마스크 배치 영역 (EA) 에 대해 상류측의 영역을 기판 반입측 영역 (IA), 마스크 배치 영역 (EA) 에 대해 하류측의 영역을 기판 반출측 영역 (OA) 으로 칭한다.
기판 반송 기구 (120) 는, 장치 베이스 (102) 상에 다른 레벨 블록 (도시 생 략) 을 개재하여 설치된 반입 프레임 (105), 정밀 프레임 (106), 반출 프레임 (107) 상에 배치되고, 에어로 기판 (W) 을 부상시켜 지지하는 기판 유지부로서의 부상 유닛 (121) 과, 부상 유닛 (121) 의 Y 방향 측방에서, 장치 베이스 (102) 상에 또 다른 레벨 블록 (108) 을 개재하여 설치된 프레임 (109) 상에 배치되고, 기판 (W) 을 파지함과 함께, 기판 (W) 을 X 방향으로 반송하는 기판 구동 유닛 (140) 을 구비한다.
부상 유닛 (121) 은, 도 25 에 나타내는 바와 같이, 반입출 및 정밀 프레임 (105, 106, 107) 의 상면으로부터 상방으로 연장되는 복수의 연결봉 (122) 이 하면에 각각 장착되는 장척 형상의 복수의 배기 에어 패드 (123 (도 24 참조), 124) 및 장척 형상의 복수의 흡배기 에어 패드 (125a, 125b) 와, 각 에어 패드 (123, 124, 125a, 125b) 에 형성된 복수의 배기 구멍 (126) 으로부터 에어를 배출하는 에어 배출계 (130) 및 에어 배출용 펌프 (131) 와, 흡배기 에어 패드 (125a, 125b) 에 형성된 흡기 구멍 (127) 으로부터 에어를 흡인하기 위한 에어 흡인계 (132) 및 에어 흡인용 펌프 (133) 를 구비한다.
또, 흡배기 에어 패드 (125a, 125b) 는, 복수의 배기 구멍 (126) 및 복수의 흡기 구멍 (127) 을 갖고 있고, 에어 패드 (125a, 125b) 의 지지면 (134) 과 기판 (W) 사이의 에어압을 밸런스 조정하고, 소정의 부상량으로 고정밀도로 설정할 수 있고, 안정된 높이에서 수평 지지할 수 있다.
기판 구동 유닛 (140) 은, 도 24 에 나타내는 바와 같이, 진공 흡착에 의해 기판 (W) 을 파지하는 파지 부재 (141) 와, 파지 부재 (141) 를 X 방향을 따라 안 내하는 리니어 가이드 (142) 와, 파지 부재 (141) 를 X 방향을 따라 구동하는 구동 모터 (143) 및 볼 나사 기구 (144) 와, 프레임 (109) 의 상면으로부터 돌출하도록, 기판 반입측 영역 (IA) 에 있어서의 프레임 (109) 의 측방에 Z 방향으로 이동 가능하고 또한 자유롭게 회전할 수 있도록 장착되고, 마스크 유지 기구 (170) 로의 반송을 기다리는 기판 (W) 의 하면을 지지하는 복수의 워크 충돌 방지 롤러 (145) 를 구비한다.
또, 기판 반송 기구 (120) 는, 기판 반입측 영역 (IA) 에 형성되고, 이 기판 반입측 영역 (IA) 에서 대기되는 기판 (W) 의 프리얼라이먼트를 실시하는 기판 프리얼라이먼트 기구 (150) 와, 기판 (W) 의 얼라이먼트를 실시하는 기판 얼라이먼트 기구 (160) 를 갖고 있다.
마스크 유지 기구 (170) 는, 도 24 및 도 25 에 나타내는 바와 같이, 상기 서술한 복수의 마스크 유지부 (171) 와, 마스크 유지부 (171) 마다 형성되고, 마스크 유지부 (171) 를 X, Y, Z, θ 방향, 즉, 소정 방향, 교차 방향, 소정 방향 및 교차 방향과의 수평면에 대한 연직 방향, 및 그 수평면의 법선 둘레에 구동하는 복수의 마스크 구동부 (172) 를 갖는다.
Y 방향을 따라 지그재그 형상으로 2 열 배치되는 복수의 마스크 유지부 (171) 는, 상류측에 배치되는 복수의 상류측 마스크 유지부 (171a) (본 실시형태에서는 6 개) 와, 하류측에 배치되는 복수의 하류측 마스크 유지부 (171b) (본 실시형태에서는 6 개) 로 구성되고, 장치 베이스 (102) 의 Y 방향 양측에 세워 설치한 기둥부 (112) (도 23 참조) 사이에서 상류측과 하류측에 2 개씩 가설된 메인 프레 임 (113) 에 마스크 구동부 (172) 를 개재하여 각각 지지되어 있다. 각 마스크 유지부 (171) 는, Z 방향으로 관통하는 개구 (177) 를 가짐과 함께, 그 주연부 하면에 마스크 (M) 가 진공 흡착되어 있다.
마스크 구동부 (172) 는, 메인 프레임 (113) 에 장착되고, X 방향을 따라 이동하는 X 방향 구동부 (173) 와, X 방향 구동부 (173) 의 선단에 장착되고, Z 방향으로 구동하는 Z 방향 구동부 (174) 와, Z 방향 구동부 (174) 에 장착되고, Y 방향으로 구동하는 Y 방향 구동부 (175) 와, Y 방향 구동부 (175) 에 장착되고, θ 방향으로 구동하는 θ 방향 구동부 (176) 를 가지며, θ 방향 구동부 (176) 의 선단에 마스크 유지부 (171) 가 장착되어 있다.
복수의 조사부 (180) 는, 도 27 및 도 28 에 나타내는 바와 같이, 케이스 (181) 내에, 제 1 실시형태와 동일하게 구성되는 광조사 장치 (80A), 인터그레이터 렌즈 (74), 광학 제어부 (76), 오목면경 (77), 및 노광 제어용 셔터 (78) 를 구비함과 함께, 광원부 (73A) 와 노광 제어용 셔터 (78) 사이, 및 인터그레이터 렌즈 (74) 와 오목면경 (77) 사이에 배치되는 평면 미러 (280, 281, 282) 를 구비한다. 또한, 오목면경 (77) 또는 되접어 꺾는 미러로서의 평면 미러 (282) 에는, 미러의 곡률을 수동 또는 자동으로 변경할 수 있는 디클리네이션각 보정 수단이 형성되어도 된다.
광조사 장치 (80A) 는, 초고압 수은 램프 (71) 와 반사경 (72) 을 각각 포함하는, 예를 들어 4 단 2 열의 8 개의 광원부 (73) 를 포함하는 카세트 (81A) 를 직선 형상으로 3 개 늘어놓은 프레임 (82A) 을 갖고 있다. 제 1 실시형태와 동일 하게, 카세트 (81A) 에서는, 8 개의 광원부 (73) 가 지지된 광원 지지부 (83) 에 카세트 가압 커버 (84) 를 장착함으로써, 8 개의 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과, 8 개의 광원부 (73) 의 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해지도록 광원부 (73) 가 위치 결정된다. 또, 도 22 에 나타내는 바와 같이, 프레임 (82A) 의 복수의 카세트 장착부 (90) 에 각 카세트 (81A) 가 장착됨으로써, 모든 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과, 그 광원부 (73) 의 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해지도록, 각 카세트 (81A) 가 위치 결정된다. 또한, 각 광원부 (73) 로부터의 배선의 처리나, 프레임 내의 냉각 구조는, 제 1 실시형태와 동일하게 구성되어 있다.
복수의 차광 장치 (190) 는, 도 25 에 나타내는 바와 같이, 경사 각도를 변경하는 1 쌍의 판 형상의 블라인드 부재 (208, 209) 를 가지며, 블라인드 구동 유닛 (192) 에 의해 1 쌍의 블라인드 부재 (208, 209) 의 경사 각도를 변경한다. 이로써, 마스크 유지부 (171) 에 유지된 마스크 (M) 의 근방에서, 조사부 (180) 로부터 출사된 노광용 광 (L) 을 차광함과 함께, 노광용 광 (L) 을 차광하는 소정 방향에 있어서의 차광 폭, 즉, Z 방향으로부터 본 투영 면적을 가변으로 할 수 있다.
또한, 근접 스캔 노광 장치 (101) 에는, 마스크 (M) 를 유지하는 1 쌍의 마스크 트레이부 (221) 를 Y 방향으로 구동함으로써, 상류측 및 하류측 마스크 유지부 (171a, 171b) 에 유지된 마스크 (M) 를 교환하는 마스크 체인저 (220) 가 형성됨과 함께, 마스크 교환 전에, 마스크 트레이부 (121) 에 대해 부상 지지되는 마스 크 (M) 를 가압하면서, 위치 결정 핀 (도시 생략) 을 마스크 (M) 에 맞닿게 함으로써 프리얼라이먼트를 실시하는 마스크 프리얼라이먼트 기구 (240) 가 형성되어 있다.
또한, 도 12 에 나타내는 바와 같이, 근접 스캔 노광 장치 (101) 에는, 레이저 변위계 (260), 마스크 얼라이먼트용 카메라 (도시 생략), 추종용 카메라 (도시 생략), 추종용 조명 (273) 등의 각종 검출 수단이 배치되어 있다.
다음으로, 이상과 같이 구성되는 근접 스캔 노광 장치 (101) 를 이용하여, 기판 (W) 의 노광 전사에 대해 설명한다. 또한, 본 실시형태에서는, 하지 패턴 (예를 들어, 블랙 매트릭스) 이 묘화된 컬러 필터 기판 (W) 에 대해, R (적색), G (녹색), B (청색) 중 어느 패턴을 묘화하는 경우에 대해 설명한다.
근접 스캔 노광 장치 (101) 는, 도시되지 않은 로더 등에 의해, 기판 반입측 영역 (IA) 에 반송된 기판 (W) 을 배기 에어 패드 (123) 로부터의 에어에 의해 부상시켜 지지하고, 기판 (W) 의 프리얼라이먼트 작업, 얼라이먼트 작업을 실시한 후, 기판 구동 유닛 (140) 의 파지 부재 (141) 로 척된 기판 (W) 을 마스크 배치 영역 (EA) 에 반송한다.
그 후, 기판 (W) 은, 기판 구동 유닛 (140) 의 구동 모터 (143) 를 구동시킴으로써, 리니어 가이드 (142) 을 따라 X 방향으로 이동한다. 그리고, 기판 (W) 이 마스크 배치 영역 (EA) 에 형성된 배기 에어 패드 (124) 및 흡배기 에어 패드 (125a, 125b) 상에 이동시키고, 진동을 최대한 배제한 상태에서 부상시켜 지지된다. 그리고, 조사부 (180) 내의 광원으로부터 노광용 광 (L) 을 출사하면, 이 러한 노광용 광 (L) 은, 마스크 유지부 (171) 에 유지된 마스크 (M) 를 통과하고, 패턴을 기판 (W) 에 노광 전사한다.
또, 당해 노광 장치 (101) 는 추종용 카메라 (도시 생략) 나 레이저 변위계 (260) 를 갖고 있으므로, 노광 동작 중, 마스크 (M) 와 기판 (W) 의 상대 위치 어긋남을 검출하고, 검출된 상대 위치 어긋남에 기초하여 마스크 구동부 (172) 를 구동시키고, 마스크 (M) 의 위치를 기판 (W) 에 실시간으로 추종시킨다. 동시에, 마스크 (M) 와 기판 (W) 의 갭을 검출하고, 검출된 갭에 기초하여 마스크 구동부 (172) 를 구동시키고, 마스크 (M) 와 기판 (W) 의 갭을 실시간으로 보정한다.
이상, 동일하게 하여 연속 노광함으로써, 기판 (W) 전체에 패턴의 노광을 실시할 수 있다. 마스크 유지부 (171) 에 유지된 마스크 (M) 는, 지그재그 형상으로 배치되어 있으므로, 상류측 혹은 하류측의 마스크 유지부 (171a, 171b) 에 유지되는 마스크 (M) 가 이간되어 늘어서 있어도, 기판 (W) 에 빈틈 없이 패턴을 형성할 수 있다.
또, 기판 (W) 으로부터 복수의 패널을 잘라 내는 경우에는, 인접하는 패널끼리의 사이에 대응하는 영역에 노광용 광 (L) 을 조사하지 않는 비노광 영역을 형성한다. 이 때문에, 노광 동작 중, 1 쌍의 블라인드 부재 (208, 209) 를 개폐하여, 비노광 영역에 블라인드 부재 (208, 209) 가 위치하도록, 기판 (W) 의 이송 속도에 맞춰 기판 (W) 의 이송 방향과 동일한 방향으로 블라인드 부재 (208, 209) 를 이동시킨다.
따라서, 본 실시형태와 같은 근접 스캔 노광 장치에 있어서도, 광원부 (73) 를 교환할 때에는 카세트 (81) 마다 교환된다. 각 카세트 (81) 에서는, 소정 수의 광원부 (73) 가 미리 위치 결정되고, 또한 각 광원부 (73) 로부터의 배선 (97) 이 커넥터 (98) 에 접속되어 있다. 이 때문에, 교환이 필요한 카세트 (81A) 를 프레임 (82A) 의 카세트용 오목부 (90b) 에 끼워 맞춰 프레임 (82) 에 장착함으로써, 카세트 (81) 내의 광원부 (73) 의 얼라이먼트를 완료한다. 또, 커넥터 (98) 에 다른 배선 (99) 을 접속함으로써 배선 작업도 완료되므로, 광원부 (73) 의 교환 작업을 용이하게 실시할 수 있다.
또한, 본 발명은, 전술한 실시형태에 한정되는 것이 아니고, 적절히 변형, 개량 등이 가능하다.
예를 들어, 본 실시형태의 램프 가압 커버 (84) 는, 오목 형상의 박스 형상으로 했지만, 이것에 한정되지 않고, 맞닿음부에 의해 광원부를 위치 결정하여 고정시킬 수 있는 것이면, 예를 들어 메시 형상이어도 된다. 또, 각 광원부 (73) 를 광원 지지부 (83) 에 끼워 맞춰 더욱 고정시키도록 한 경우에는, 램프 가압 커버 (84) 를 형성하지 않고 구성하는 것도 가능하다. 또, 프레임 커버 (92) 의 형상도 조명 광학계 (70) 의 배치에 따라 임의로 설계할 수 있다.
또, 카세트 (81) 에 배치되는 광원부 (73) 를 8 개 이상으로 하고, 프레임 (82) 에 배치되는 전체 광원부는 8 개∼약 800 개로 한다. 800 개 정도이면, 실용성 및 효율이 양호해진다. 또한, 프레임 (82) 에 장착되는 카세트 (81) 의 수는 전체의 광원부 (73) 의 수의 4 % 이하로 하는 것이 바람직하고, 이 경우에는, 1 개의 카세트 (81) 에 배치되는 광원부 (73) 의 수가 4 % 이상이 된다.
또한, 예를 들어 상기 실시형태에서는, 노광 장치로서 분할 축차 근접 노광 장치와 주사식 근접 노광 장치를 설명했지만, 이것에 한정되지 않고, 본 발명은, 미러 프로젝션식 노광 장치, 렌즈 투영식 노광 장치, 밀착식 노광 장치에도 적용할 수 있다. 또, 본 발명은, 일괄식, 축차식, 주사식 등의 어느 노광 방법에도 적용할 수 있다.
도 1 은 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 분할 축차 근접 노광 장치를 설명하기 위한 일부 분해 사시도.
도 2 는 도 1 에 나타내는 분할 축차 근접 노광 장치의 정면도.
도 3 은 마스크 스테이지의 단면도.
도 4(a) 는 조명 광학계의 광조사 장치를 나타내는 정면도이고, 도 4(b) 는 도 4(a) 의 Ⅳ-Ⅳ 선을 따른 단면도이고, 도 4(c) 는 도 4(a) 의 Ⅳ'-Ⅳ' 선을 따른 단면도.
도 5(a) 는 카세트를 나타내는 정면도이고, 도 5(b) 는 도 5(a) 의 Ⅴ 방향으로부터 본 단면도이고, 도 5(c) 는 도 5(a) 의 Ⅴ' 방향으로부터 본 카세트의 단면도를 인터그레이터 렌즈와 함께 나타내는 도면.
도 6 은 카세트에 장착된 광원부 근방의 확대 단면도.
도 7 은 램프 가압 기구의 변형예를 나타내는 카세트의 단면도.
도 8 은 카세트가 프레임에 장착된 상태를 나타내는 요부 확대도.
도 9 는 각 광원부의 출사면으로부터 인터그레이터 렌즈의 입사면까지의 거리를 나타내는 개략도.
도 10 은 각 광원부의 제어 구성을 나타내기 위한 도면.
도 11 은 수명 시간 검출 수단을 설명하기 위한 도면.
도 12 는 카세트 내의 광원부를 정리하여 관리하는 경우를 설명하기 위한 도면.
도 13 은 에어에 의해 각 광원부를 냉각시키는 구조의 일례를 나타내는 도면.
도 14(a)∼도 14(c) 는 카세트 가압 커버에 형성된 배기 구멍의 예를 나타내는 도면.
도 15(a), 도 15(b) 는 냉매에 의해 각 광원부를 냉각시키는 냉각로의 설계예를 나타내는 도면.
도 16(a), 도 16(b) 는 카세트에 장착되는 광원부의 배치를 나타내는 도면.
도 17 은 도 16(a) 의 카세트가 장착된 프레임을 나타내는 도면.
도 18(a), 도 18(b) 는 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 각 광원부의 점등 제어 방법의 일례를 나타내는 도면.
도 19(a), 도 19(b) 는 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 각 광원부의 점등 제어 방법의 일례를 나타내는 도면.
도 20(a), 도 20(b) 는 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 각 광원부의 점등 제어 방법의 일례를 나타내는 도면.
도 21 은 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 카세트 장착부에 카세트와 덮개 부재를 배치한 일례를 나타내는 도면.
도 22(a)∼도 22(d) 는 본 발명의 제 3 실시형태에 관련된 각 광원부의 점등 제어 방법의 일례를 나타내는 도면.
도 23 은 본 발명의 제 4 실시형태에 관련된 근접 스캔 노광 장치의 전체 사시도.
도 24 는 근접 스캔 노광 장치를, 조사부 등의 상부 구성을 제거한 상태로 나타내는 상면도.
도 25 는 근접 스캔 노광 장치의 마스크 배치 영역에 있어서의 노광 상태를 나타내는 측면도.
도 26(a) 는 마스크와 에어 패드의 위치 관계를 설명하기 위한 요부 상면도이고, 도 26(b) 는 그 단면도.
도 27 은 근접 스캔 노광 장치의 조사부를 설명하기 위한 도면.
도 28(a) 는 도 27 의 광조사 장치를 나타내는 정면도이고, 도 28(b) 는 도 28(a) 의 ⅩⅩⅧ-ⅩⅩⅧ 선을 따른 단면도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10 : 마스크 스테이지
18 : 얼라이먼트 카메라
20 : 기판 스테이지
70 : 조명 광학계
71 : 램프
72 : 반사경
73 : 광원부
74 : 인터그레이터 렌즈
80, 80A : 광조사 장치
81, 81A : 카세트
82, 82A : 프레임
83 : 광원 지지부
84 : 램프 가압 커버
87 : 램프 가압 기구
90 : 카세트 장착부
91 : 프레임 본체
92 : 프레임 커버
101 : 근접 스캔 노광 장치 (노광 장치)
120 : 기판 반송 기구
121 : 부상 유닛
140 : 기판 구동 유닛
150 : 기판 프리얼라이먼트 기구
160 : 기판 얼라이먼트 기구
170 : 마스크 유지 기구
171 : 마스크 유지부
172 : 마스크 구동부
180 : 조사부
190 : 차광 장치
M : 마스크
P : 패턴
PE : 축차 근접 노광 장치 (노광 장치)
W : 유리 기판 (피노광재, 기판)

Claims (12)

  1. 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 갖게 하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와,
    소정 수의 상기 광원부를 각각 장착할 수 있는 복수의 카세트와,
    그 복수의 카세트를 장착할 수 있는 프레임을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 카세트는, 상기 소정 수의 광원부가 지지되는 광원 지지부를 가지며,
    상기 광원 지지부는, 상기 소정 수의 광원부의 광이 조사되는 각 조사면으로부터, 상기 소정 수의 광원부의 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈의 입사면까지의 각 광축의 거리가 대략 일정해지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 프레임은, 상기 복수의 카세트가 각각 장착되는 복수의 카세트 장착부를 가지며,
    상기 복수의 카세트 장착부는, 상기 모든 광원부의 광이 조사되는 각 조사면으로부터, 상기 모든 광원부의 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈의 입사면까지의 각 광축의 거리가 대략 일정해지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 복수의 카세트 장착부는, 상기 카세트의 광원 지지부가 면하는 개구부와, 그 광원 지지부의 주위에 형성된 평면부와 맞닿는 평면을 각각 구비하고,
    소정의 방향으로 늘어선 상기 복수의 카세트 장착부의 각 평면은, 소정의 각도로 교차하고 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 프레임의 카세트 장착부는, 상기 평면을 저면으로 한 오목부에 형성되고,
    상기 카세트는, 상기 카세트 장착부의 오목부에 끼워 맞춰지는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 카세트는, 상기 소정 수의 광원부가 지지되는 광원 지지부를 가지며,
    상기 광원 지지부에 지지된 최외주에 위치하는 상기 광원부의 중심을 4 변으로 연결한 선이 직사각형 형상을 이루는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 프레임은, 상기 복수의 카세트가 각각 장착되는 복수의 카세트 장착부를 가지며,
    상기 복수의 카세트 장착부는, 서로 직교하는 방향에 배치되는 상기 카세트의 각 개수를 일치시켜 직사각형 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
  8. 제 2 항에 있어서,
    상기 카세트는, 상기 광원 지지부에 지지된 상기 소정 수의 광원부를 둘러싼 상태로, 상기 광원 지지부에 장착되는 커버 부재를 가지며,
    상기 광원 지지부와 상기 커버 부재 사이의 수납 공간 내에 있어서, 인접하는 상기 광원부의 반사 광학계의 배면은 직접 대향하고 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 커버 부재에는, 상기 수납 공간과 그 커버 부재의 외부를 연통하는 연통 구멍과 연통 홈 중 적어도 하나가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 프레임에는, 상기 각 광원부를 냉각시키기 위해, 냉각수가 순환하는 냉각용 배관이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 각 광원부의 광이 조사되는 각 조사면에 대해 후방 및 측방 중 적어도 일방으로부터 상기 프레임 내의 에어를 강제 배기하는 강제 배기 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.
  12. 피노광재로서의 기판을 유지하는 기판 유지부와,
    상기 기판과 대향하도록 마스크를 유지하는 마스크 유지부와,
    제 1 항에 기재된 상기 광조사 장치와, 그 광조사 장치의 복수의 광원부로부터 출사된 광이 입사되는 인터그레이터 렌즈를 갖는 조명 광학계를 구비하고, 상기 기판에 대해 상기 조명 광학계로부터의 광을 상기 마스크를 통해 조사하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
KR1020090103633A 2009-04-09 2009-10-29 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법 KR101138681B1 (ko)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2009-094966 2009-04-09
JP2009094966 2009-04-09
JP2009157718 2009-07-02
JPJP-P-2009-157718 2009-07-02
JP2009180643A JP5598789B2 (ja) 2009-04-09 2009-08-03 露光装置用光照射装置及び露光装置
JPJP-P-2009-180643 2009-08-03

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110082872A Division KR101169240B1 (ko) 2009-04-09 2011-08-19 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100112511A true KR20100112511A (ko) 2010-10-19
KR101138681B1 KR101138681B1 (ko) 2012-04-24

Family

ID=42945046

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090103633A KR101138681B1 (ko) 2009-04-09 2009-10-29 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR101138681B1 (ko)
CN (1) CN101859069B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN118699517A (zh) * 2024-08-30 2024-09-27 中铁贵州工程有限公司 一种桥梁施工用火焰切割器

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2012067246A1 (ja) * 2010-11-19 2014-05-19 Nskテクノロジー株式会社 近接露光装置及び近接露光方法
CN102121660A (zh) * 2010-12-31 2011-07-13 扬州市朝阳铁路信号设备有限公司 大功率led节能灯模框

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4577064B2 (ja) * 2005-03-30 2010-11-10 ウシオ電機株式会社 光照射装置および光照射装置における光源ユニットの交換方法
JP4961685B2 (ja) 2005-05-18 2012-06-27 ウシオ電機株式会社 光照射装置
JP2007012777A (ja) 2005-06-29 2007-01-18 Ushio Inc 光照射装置
JP2008191252A (ja) * 2007-02-01 2008-08-21 Phoenix Denki Kk 露光用光源ならびにこれを用いた露光装置
JP5218994B2 (ja) * 2007-02-20 2013-06-26 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 複数の1次光源を有する光学要素

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN118699517A (zh) * 2024-08-30 2024-09-27 中铁贵州工程有限公司 一种桥梁施工用火焰切割器

Also Published As

Publication number Publication date
CN101859069A (zh) 2010-10-13
KR101138681B1 (ko) 2012-04-24
CN101859069B (zh) 2012-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101409670B1 (ko) 노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치, 노광 방법 및 기판
KR101437210B1 (ko) 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치, 노광 방법, 기판의 제조 방법, 마스크, 및 피노광 기판
KR101169240B1 (ko) 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법
KR20100085901A (ko) 마스크 케이스, 반송 장치, 노광 장치, 마스크 반송 방법 및 디바이스 제조 방법
KR20110091013A (ko) 노광 장치 및 노광 방법
CN107615170B (zh) 曝光用照明装置、曝光装置和曝光方法
JP5799306B2 (ja) 露光装置用光照射装置の制御方法、及び露光方法
JP5057382B2 (ja) 露光装置及び基板の製造方法
KR101443431B1 (ko) 노광 장치용 광조사 장치, 광조사 장치의 제어 방법, 노광 장치 및 노광 방법
KR101138681B1 (ko) 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법
KR101725542B1 (ko) 노광 장치용 광 조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치 및 기판
JP5935294B2 (ja) 近接露光装置及び近接露光方法
JP5825546B2 (ja) 露光装置用光照射装置
TW201107891A (en) Light irradiation apparatus for exposure apparatus, exposure apparatus, and exposure method
WO2012011497A1 (ja) 露光装置用光照射装置、光照射装置の制御方法、露光装置及び露光方法
JP2008191404A (ja) 基板搬送装置、ステージ装置、及びパターン形成装置
JP2012113268A (ja) 露光装置用光照射装置及び露光装置
KR20140098011A (ko) 근접 노광 장치, 근접 노광 방법 및 조명 광학계

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
A107 Divisional application of patent
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160318

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170317

Year of fee payment: 6