KR20100108289A - Tool cleaning equipment - Google Patents

Tool cleaning equipment Download PDF

Info

Publication number
KR20100108289A
KR20100108289A KR1020100027352A KR20100027352A KR20100108289A KR 20100108289 A KR20100108289 A KR 20100108289A KR 1020100027352 A KR1020100027352 A KR 1020100027352A KR 20100027352 A KR20100027352 A KR 20100027352A KR 20100108289 A KR20100108289 A KR 20100108289A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning liquid
valve
cleaning
tool
liquid
Prior art date
Application number
KR1020100027352A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101161947B1 (en
Inventor
유우 구리바야시
히로유끼 다나까
Original Assignee
브라더 고오교오 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 브라더 고오교오 가부시키가이샤 filed Critical 브라더 고오교오 가부시키가이샤
Publication of KR20100108289A publication Critical patent/KR20100108289A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101161947B1 publication Critical patent/KR101161947B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q11/00Accessories fitted to machine tools for keeping tools or parts of the machine in good working condition or for cooling work; Safety devices specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools
    • B23Q11/0042Devices for removing chips
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q11/00Accessories fitted to machine tools for keeping tools or parts of the machine in good working condition or for cooling work; Safety devices specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools
    • B23Q11/02Devices for removing scrap from the cutting teeth of circular or non-circular cutters

Abstract

PURPOSE: A tool cleaning device for preventing the installation inferiority of a tool holder and a tool is provided to efficiently wash a tool in a short time by stably emitting a huge amount of cleaning fluid. CONSTITUTION: A tool cleaning device comprises a washing solution storage tank, a washing liquid nozzle(30) and a cleaning solution path. The washing liquid nozzle emits washing solution. The cleaning solution path connects the washing liquid nozzle and the tank. The cleaning solution path supplies washing solution to the washing liquid nozzle from the tank. A storing part(50) is formed in the cleaning solution path and stores washing solution flowing in the cleaning solution path.

Description

공구 세정 장치{TOOL CLEANING EQUIPMENT}Tool cleaning device {TOOL CLEANING EQUIPMENT}

본 발명은 공작 기계의 주축에 설치하는 공구 및 공구 홀더를 세정하는 공구 세정 장치에 관한 것이다. 공구 세정 장치는 공구 및 공구 홀더 표면의 부착물(절삭칩 등)을 씻어낸다.The present invention relates to a tool cleaning device for cleaning a tool and a tool holder installed on a main shaft of a machine tool. The tool cleaning device washes off attachments (cutting chips, etc.) on the tool and tool holder surface.

공작 기계는 프라이즈 가공, 드릴링 가공, 탭핑 가공 등의 다종류의 가공을, 공구를 자동 교환함으로써 실행한다. 공작 기계는 공구 수납부와 공구 교환 장치를 구비하고 있다. 공구 수납부는 복수 종류의 공구를 공구 홀더에 보유 지지한 상태로 수납하고 있다. 공구 수납부는 필요한 공구를 교환 위치로 송출한다. 공구 교환 장치는 교환 위치에서 공구를 수취한다. 공구 교환 장치는 수취한 공구를 반송하여 공작 기계의 주축에 설치한다. 동시에 공구 교환 장치는 사용을 종료한 공구를 주축으로부터 제거한다. 공구 교환 장치는 제거한 공구를 교환 위치로 반송하여 공구 수납부로 복귀시킨다.The machine tool performs various kinds of processing, such as priming, drilling, and tapping, by automatically replacing the tools. The machine tool is equipped with a tool accommodating part and a tool changer. The tool accommodating portion accommodates a plurality of kinds of tools in a state held in the tool holder. The tool compartment delivers the necessary tool to the exchange position. The tool changer receives the tool at the change position. The tool changer conveys the received tool and installs it on the main shaft of the machine tool. At the same time, the tool changer removes the tool after use from the spindle. The tool changer conveys the removed tool to the exchange position and returns it to the tool storage portion.

공구 홀더는 주축 장착부와 공구 보유 지지부를 구비하고 있다. 주축 장착부는 대략 원추 형상을 갖고 있다. 공구 보유 지지부는 드릴, 탭 등의 공구를 보유 지지한다. 주축은 공구 설치 구멍을 구비하고 있다. 공구 설치 구멍은 주축 장착부에 대응하는 원추형의 구멍이다. 주축은 공구 설치 구멍의 안측에 드로우 바(Draw-bar)를 구비하고 있다.The tool holder has a spindle mounting portion and a tool holding portion. The spindle mounting portion has a substantially conical shape. The tool holding portion holds a tool such as a drill, a tab, and the like. The main shaft has a tool installation hole. The tool mounting hole is a conical hole corresponding to the spindle mounting portion. The main shaft is provided with a draw-bar in the inner side of the tool installation hole.

공구 교환 장치는 공구 홀더의 주축 장착부를 공구 설치 구멍에 끼워 넣는다. 드로우 바는 주축 장착부의 단부를 파지하여 끌어 올려, 주축에 공구 홀더를 고정한다. 주축 장착부의 외주면은 공구 설치 구멍에 밀착함으로써 주축과 공구를 동심 상에 위치 결정한다.The tool changer inserts the spindle mount of the tool holder into the tool installation hole. The draw bar grips and pulls up the end of the spindle mounting portion to secure the tool holder to the spindle. The outer circumferential surface of the spindle mounting portion is in close contact with the tool mounting hole to position the spindle and the tool concentrically.

주축은 가공실의 내부에 위치하고 있다. 가공실의 내부에는 가공에 의해 발생한 절삭칩이 존재한다. 절삭칩은 주축에 설치하기 전의 공구 홀더에 부착된다. 일부의 절삭칩은 주축 장착부의 외주면과 공구 설치 구멍 사이로 들어가는 경우가 있다.The main shaft is located inside the processing chamber. Inside the processing chamber, there are cutting chips generated by processing. The cutting chip is attached to the tool holder before installation on the spindle. Some cutting chips may enter between the outer peripheral surface of the spindle mounting portion and the tool installation hole.

공구는 주축 장착부에 부착된 절삭칩의 영향으로 주축에 대해 정확하게 위치 결정할 수 없다. 그로 인해, 공구는 편심된 상태로 회전하여, 가공 정밀도가 저하된다고 하는 문제가 있다. 부착된 절삭칩량이 많은 경우, 공구는 주축에 설치할 수 없다. 작업자는 가공을 정지하고, 공구 홀더 및 주축에 부착된 절삭칩을 제거할 필요가 있다.The tool cannot be accurately positioned with respect to the spindle due to the cutting chips attached to the spindle mounting. Therefore, there exists a problem that a tool rotates in the eccentric state and processing precision falls. If the amount of cutting chips attached is large, the tool cannot be installed on the spindle. The operator needs to stop the machining and remove the cutting chips attached to the tool holder and the spindle.

일본 공개 특허 공보, 2002년 273640호에 기재된 공작 기계는 공구 세정 장치를 구비한다. 공구 세정 장치는 주축에 설치하기 전의 공구를 세정한다. 공구 세정 장치는 주축의 선단부에 세정액을 분출하는 세정액 노즐을 구비하고 있다. 세정액 노즐은 세정액 공급원과 공기원(Compressor)에 접속되어 있다.The machine tool described in Japanese Laid-Open Patent Publication, 2002 273640 is provided with a tool cleaning device. The tool cleaning device cleans the tool before installation on the spindle. The tool cleaning device is provided with a cleaning liquid nozzle for ejecting the cleaning liquid at the tip end of the main shaft. The cleaning liquid nozzle is connected to the cleaning liquid supply source and the air source (Compressor).

세정액은 가공 중에 공구와 가공물을 냉각하는 냉각액(Coolant)을 겸용하고 있다. 세정액 공급원은 세정액(냉각액)을 수납하는 탱크와, 세정액(냉각액)을 송출하는 펌프를 구비한다. 펌프는 탱크 내의 세정액을 세정액 노즐의 분출구까지 보낸다. 펌프는 냉각액의 공급을 주목적으로 하고 있다. 펌프의 토출압은 0.03㎫ 정도이다. 펌프의 토출압은 세정액 노즐로부터 냉각액을 분출하는 압력으로서는 충분하지 않다.The cleaning liquid also serves as a coolant for cooling the tool and the workpiece during processing. The cleaning liquid supply source includes a tank for storing the cleaning liquid (cooling liquid) and a pump for delivering the cleaning liquid (cooling liquid). The pump directs the cleaning liquid in the tank to the outlet of the cleaning liquid nozzle. The pump mainly aims at supplying a cooling liquid. The discharge pressure of the pump is about 0.03 MPa. The discharge pressure of the pump is not sufficient as the pressure for ejecting the cooling liquid from the cleaning liquid nozzle.

공기원은 세정액의 분출을 보조하는 공기를 세정액 노즐에 공급한다. 세정액은 상기 공기의 작용으로 세정액 노즐로부터 고속도로 분출한다. 세정액은 공구 및 공구 홀더에 부딪쳐, 상기 공구 및 공구 홀더에 부착된 절삭칩을 씻어낸다.The air source supplies air to the cleaning liquid nozzle to assist the ejection of the cleaning liquid. The washing liquid is ejected from the washing liquid nozzle on the highway by the action of the air. The cleaning liquid impinges on the tool and the tool holder to wash off the cutting chips attached to the tool and the tool holder.

종래의 공구 세정 장치에 있어서, 세정액 노즐은 세정액 및 공기의 혼합물을 분출한다. 상기 세정액 및 공기의 혼합물은 세정액 노즐로부터 강하게 분출되지만, 세정액은 공기에 의해 분산되는 경우가 있다. 그로 인해, 종래의 공구 세정 장치는 절삭칩을 양호하게 제거하기 위해 긴 세정 시간을 필요로 한다. 종래의 공구 세정 장치를 구비하는 공작 기계는 공구 세정을 포함하는 공구 교환의 소요 시간이 길어, 가공 시간이 길어진다고 하는 문제가 있다.In a conventional tool cleaning apparatus, the cleaning liquid nozzle ejects a mixture of the cleaning liquid and air. The mixture of the cleaning liquid and air is strongly ejected from the cleaning liquid nozzle, but the cleaning liquid may be dispersed by air. Therefore, the conventional tool cleaning apparatus requires a long cleaning time in order to remove the cutting chips well. The machine tool provided with the conventional tool cleaning apparatus has a problem that the time required for tool replacement including tool cleaning is long, and the machining time is long.

종래의 공구 세정 장치에 있어서, 세정액 공급부(탱크 및 펌프)는 세정액 노즐로부터 먼 위치에 배치되어 있다. 세정액은 긴 세정액 통로를 거쳐서 세정액 노즐에 도달한다. 세정액 노즐이 분출하는 액량은 통로 저항, 펌프의 맥동 등의 영향으로 변동되어 불안정해진다. 종래의 공구 세정 장치는 원하는 세정 효과가 얻어지지 않는 경우가 있다.In the conventional tool cleaning apparatus, the cleaning liquid supply part (tank and pump) is disposed at a position far from the cleaning liquid nozzle. The cleaning liquid reaches the cleaning liquid nozzle via the long cleaning liquid passage. The amount of liquid ejected by the cleaning liquid nozzle is unstable due to fluctuation due to passage resistance, pulsation of the pump and the like. In the conventional tool cleaning device, a desired cleaning effect may not be obtained.

본 발명의 목적은 많은 세정액을 안정적으로 분출할 수 있어, 단시간에 공구를 양호하게 세정할 수 있는 공구 세정 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a tool cleaning apparatus capable of stably ejecting a large number of cleaning liquids, and capable of satisfactorily cleaning a tool in a short time.

청구항 1의 공구 세정 장치는, 세정액을 저류하는 탱크와, 세정액을 분출 가능한 세정액 노즐과, 상기 세정액 노즐과 상기 탱크를 접속하고 있고, 상기 탱크 내의 세정액을 상기 세정액 노즐에 공급하는 세정액 통로를 구비하고, 공작 기계의 주축에 장착하기 전의 공구를, 상기 세정액 통로를 거쳐서 상기 세정액 노즐로부터 분출하는 세정액으로 세정하는 공구 세정 장치에 있어서, 상기 세정액 통로 상에 상기 세정액 통로 내를 흐르는 상기 세정액을 일단 저류하는 저류부를 구비하고 있다.The tool cleaning device of claim 1 includes a tank for storing a cleaning liquid, a cleaning liquid nozzle capable of ejecting the cleaning liquid, a cleaning liquid passage connecting the cleaning liquid nozzle and the tank, and a cleaning liquid passage for supplying the cleaning liquid in the tank to the cleaning liquid nozzle. A tool cleaning device for cleaning a tool before mounting on a main shaft of a machine tool with a cleaning liquid sprayed from the cleaning liquid nozzle through the cleaning liquid passage, wherein the cleaning liquid flowing in the cleaning liquid passage on the cleaning liquid passage is stored once. It has a storage part.

세정액 노즐은 저류부 내에 저류한 세정액을 분출한다. 저류부는 세정액 노즐의 근처에 위치한다. 저류부 내의 세정액은 짧은 통로를 거쳐서 세정액 노즐에 도달한다. 세정액 노즐은 통로 저항, 펌프의 맥동 등의 영향을 받지 않고 세정액을 안정적으로 분출한다.The cleaning liquid nozzle ejects the cleaning liquid stored in the storage portion. The reservoir is located near the cleaning liquid nozzle. The cleaning liquid in the reservoir reaches the cleaning liquid nozzle via a short passage. The cleaning liquid nozzle stably ejects the cleaning liquid without being affected by passage resistance, pulsation of the pump, and the like.

청구항 2의 공구 세정 장치는, 상기 저류부와 상기 세정액 노즐 사이의 상기 세정액 통로 상에 상기 세정액 통로를 개폐하는 액 공급 밸브를 구비하고 있다.The tool cleaning device of claim 2 includes a liquid supply valve that opens and closes the cleaning liquid passage on the cleaning liquid passage between the reservoir and the cleaning liquid nozzle.

세정액 노즐은 액 공급 밸브를 열림으로 함으로써 세정액을 분출한다. 저류부는 액 공급 밸브를 닫힘으로 하고 있는 동안에 세정액을 저류한다. 공구 세정 장치는 액 공급 밸브를 개폐하는 것만으로 세정 동작을 실시할 수 있다.The cleaning liquid nozzle ejects the cleaning liquid by opening the liquid supply valve. The storage part stores the cleaning liquid while the liquid supply valve is closed. The tool cleaning device can perform the cleaning operation only by opening and closing the liquid supply valve.

청구항 3의 공구 세정 장치는, 상기 저류부에 접속한 가압 통로 및 감압 통로와, 상기 가압 통로를 개폐하는 가압 밸브와, 상기 감압 통로를 개폐하는 감압 밸브를 구비하고 있다.The tool cleaning device of claim 3 includes a pressure passage and a pressure reduction passage connected to the reservoir, a pressure valve for opening and closing the pressure passage, and a pressure reduction valve for opening and closing the pressure reduction passage.

가압 통로는 가압 밸브를 열림으로 함으로써 저류부 내를 가압한다. 저류부 내의 세정액은 가압 상태에서 세정액 노즐로부터 분출한다. 세정액은 강하게 분출되어, 공구 및 공구 홀더를 확실하게 세정한다. 감압 통로는 감압 밸브를 열림으로 함으로써 저류부 내를 감압한다. 저류부는 세정액을 저항 없이 저류할 수 있다.The pressurizing passage pressurizes the inside of the reservoir by opening the pressurizing valve. The cleaning liquid in the reservoir is ejected from the cleaning liquid nozzle in a pressurized state. The cleaning liquid is strongly ejected to reliably clean the tool and the tool holder. The decompression passage depressurizes the inside of the reservoir by opening the decompression valve. The storage portion can store the cleaning liquid without resistance.

청구항 4의 공구 세정 장치는, 상기 액 공급 밸브, 가압 밸브 및 감압 밸브를 개폐 제어하는 제어 장치를 구비하고, 상기 제어 장치는 상기 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 열림으로 하고, 또한 상기 감압 밸브를 닫힘으로 하여 상기 세정액 노즐에 세정액을 공급하는 세정 동작과, 상기 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 닫힘으로 하고, 또한 상기 감압 밸브를 열림으로 하여 상기 저류부에 세정액을 저류하는 저류 동작과, 상기 액 공급 밸브, 가압 밸브 및 감압 밸브를 닫힘으로 하여 대기하는 대기 동작을 실행한다.The tool cleaning device of claim 4 includes a control device for opening and closing the liquid supply valve, the pressure valve, and the pressure reducing valve, and the control device opens the liquid supply valve and the pressure valve, and closes the pressure reducing valve. The cleaning operation for supplying the cleaning liquid to the cleaning liquid nozzle, the storage operation for storing the cleaning liquid in the storage part by closing the liquid supply valve and the pressurizing valve and opening the pressure reducing valve, and the liquid supply valve. The standby operation is performed by closing the pressure valve and the pressure reducing valve.

제어 장치는 세정 시에, 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 열림으로 하고, 또한 감압 밸브를 닫힘으로 한다. 저류부 내의 세정액은 가압 상태에서 세정액 노즐로부터 강하게 분출된다. 제어 장치는 세정 종료 후에, 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 닫힘으로 하고, 또한 감압 밸브를 열림으로 한다. 저류부는 세정액을 저항 없이 저류한다. 제어 장치는 저류 완료 후에, 액 공급 밸브, 가압 밸브 및 감압 밸브를 닫힘으로 한다. 저류부는 세정액을 저류한 상태를 유지한다. 세정액 노즐은 다음의 분출까지 대기한다. 제어 장치는 액 공급 밸브, 가압 밸브 및 감압 밸브의 개폐를 제어함으로써, 세정액의 분출 및 저류를 실행할 수 있다.At the time of washing | cleaning, a control apparatus opens a liquid supply valve and a pressurization valve, and closes a pressure reducing valve. The cleaning liquid in the reservoir is strongly ejected from the cleaning liquid nozzle in a pressurized state. The control apparatus closes a liquid supply valve and a pressurization valve after completion | finish of washing | cleaning, and makes a pressure reduction valve open. The reservoir stores the cleaning liquid without resistance. After completion of the storage, the control device closes the liquid supply valve, the pressure valve, and the pressure reducing valve. The storage portion maintains the state in which the cleaning liquid is stored. The cleaning liquid nozzle waits until the next jet. The control device can eject and store the cleaning liquid by controlling the opening and closing of the liquid supply valve, the pressure valve, and the pressure reducing valve.

청구항 5의 공구 세정 장치는, 상기 액 공급 밸브, 가압 밸브 및 감압 밸브를 개폐 제어하는 제어 장치를 구비하고, 상기 제어 장치는 상기 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 열림으로 하고, 또한 상기 감압 밸브를 닫힘으로 하여 상기 세정액 노즐에 세정액을 공급하는 세정 동작과, 상기 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 닫힘으로 하고, 또한 상기 감압 밸브를 열림으로 하여 상기 저류부에 세정액을 저류하는 저류 동작과, 상기 액 공급 밸브 및 감압 밸브를 닫힘으로 하고, 또한 상기 가압 밸브를 열림으로 하여 대기하는 대기 동작을 실행한다.The tool cleaning device of claim 5 includes a control device for opening and closing the liquid supply valve, the pressure valve, and the pressure reducing valve, and the control device opens the liquid supply valve and the pressure valve, and closes the pressure reducing valve. The cleaning operation for supplying the cleaning liquid to the cleaning liquid nozzle, the storage operation for storing the cleaning liquid in the storage part by closing the liquid supply valve and the pressurizing valve and opening the pressure reducing valve, and the liquid supply valve. And a standby operation in which the pressure reducing valve is closed and the pressure valve is opened to wait.

제어 장치는 세정 시에, 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 열림으로 하고, 또한 감압 밸브를 닫힘으로 한다. 저류부 내의 세정액은 가압 상태에서 세정액 노즐로부터 강하게 분출된다. 제어 장치는 세정 종료 후에, 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 닫힘으로 하고, 또한 감압 밸브를 열림으로 한다. 저류부는 세정액을 저항 없이 저류한다. 제어 장치는 저류 완료 후에, 액 공급 밸브 및 감압 밸브를 닫힘으로 하고, 또한 가압 밸브를 열림으로 하여 대기한다. 저류부는 저류한 세정액을 가압한 상태로 대기한다. 세정액 노즐은 다음의 분출 시에 가압 상태에 있는 세정액을 분출한다. 세정액은 분출 개시 직후로부터 강하게 분출되어, 공구 및 공구 홀더를 확실하게 세정한다.At the time of washing | cleaning, a control apparatus opens a liquid supply valve and a pressurization valve, and closes a pressure reducing valve. The cleaning liquid in the reservoir is strongly ejected from the cleaning liquid nozzle in a pressurized state. The control apparatus closes a liquid supply valve and a pressurization valve after completion | finish of washing | cleaning, and makes a pressure reduction valve open. The reservoir stores the cleaning liquid without resistance. After completion of the storage, the control device closes the liquid supply valve and the pressure reducing valve, and waits with the pressure valve open. A storage part waits in the state which pressed the stored washing | cleaning liquid. The cleaning liquid nozzle ejects the cleaning liquid in a pressurized state during the next ejection. The cleaning liquid is ejected strongly from immediately after the start of ejection, to reliably clean the tool and the tool holder.

청구항 6의 공구 세정 장치는, 상기 저류부 내의 액량을 검출하는 액량 검출기를 더 구비하고 있고, 상기 제어 장치는 상기 액량 검출기의 검출액량이 소정량에 도달할 때까지 상기 저류 동작을 실행한다.The tool cleaning device of claim 6 further includes a liquid level detector for detecting the liquid level in the storage unit, and the control device executes the storage operation until the detection liquid amount of the liquid level detector reaches a predetermined amount.

저류부는 소정량의 세정액을 저류할 수 있다. 세정액 노즐은 저류부의 저류액을 분출한다. 세정액 노즐은 소정량의 세정액을 부족함 없이 분출하여, 공구 및 공구 홀더를 확실하게 세정할 수 있다.The storage portion can store a predetermined amount of the cleaning liquid. The cleaning liquid nozzle ejects the storage liquid of the storage portion. The cleaning liquid nozzle can eject a predetermined amount of the cleaning liquid without shortage, thereby reliably cleaning the tool and the tool holder.

청구항 7의 공구 세정 장치는, 상기 탱크와 상기 저류부 사이의 상기 세정액 통로 상에 배치되어 있고, 상기 저류부로부터 상기 탱크를 향하는 세정액의 흐름을 멈추게 하는 역지 밸브를 더 구비하고 있다.The tool cleaning device of claim 7 is further disposed on the cleaning liquid passage between the tank and the reservoir, and further includes a check valve that stops the flow of the cleaning liquid from the reservoir to the tank.

역지 밸브는 저류부 내에 저류한 세정액이 역류하는 것을 방지한다. 세정액 노즐은 저류부 내의 세정액의 전량을 분출할 수 있다.The check valve prevents the washing liquid stored in the reservoir from flowing back. The cleaning liquid nozzle can eject the entire amount of the cleaning liquid in the reservoir.

청구항 8의 공구 세정 장치는, 상기 탱크와 상기 저류부 사이의 상기 세정액 통로 상에 배치되어 있고, 상기 세정액 통로를 개폐하는 개폐 밸브를 더 구비하고 있다.The tool cleaning device of claim 8 is disposed on the cleaning liquid passage between the tank and the storage portion, and further includes an on / off valve for opening and closing the cleaning liquid passage.

개폐 밸브는 세정 중에 닫힘으로 함으로써, 저류부 내에 저류한 세정액이 역류하는 것을 방지한다. 세정액 노즐은 저류부 내의 세정액의 전량을 분출할 수 있다.The on-off valve is closed during washing, thereby preventing the washing liquid stored in the reservoir from flowing back. The cleaning liquid nozzle can eject the entire amount of the cleaning liquid in the reservoir.

청구항 9의 공구 세정 장치는, 상기 개폐 밸브는 세정액을 배출하는 절환 위치를 갖고, 상기 개폐 밸브와 상기 저류부 사이의 상기 세정액 통로 상에 배치한 필터를 구비하고, 상기 대기 동작 중에 상기 제어 장치는 상기 개폐 밸브를 상기 절환 위치로 하고, 상기 저류부 내의 세정액을 상기 필터에 역방향으로 흘려, 상기 필터를 세정하는 필터 세정 동작을 실행한다.The tool cleaning device of claim 9, wherein the opening and closing valve has a switching position for discharging the cleaning liquid, and includes a filter disposed on the cleaning liquid passage between the opening and closing valve and the storage portion, wherein the control device With the switching valve set to the switching position, the cleaning liquid in the reservoir flows in the reverse direction to the filter to perform a filter cleaning operation for cleaning the filter.

제어 장치는 세정 동작 후의 개폐 밸브를 배출 가능한 절환 위치로 절환한다. 저류부 내의 세정액은 필터 내를 역방향으로 흘러, 상기 필터가 제거한 이물질을 씻어낸다. 세정 후의 필터는 청정한 상태로 유지할 수 있다. 청구항 9의 공구 세정 장치는 필터의 막힘을 방지하여, 장기간에 걸쳐서 양호한 세정 동작을 실행할 수 있다.The control device switches the on / off valve after the cleaning operation to the switchable position at which it can be discharged. The washing liquid in the reservoir flows in the filter in the reverse direction to wash away the foreign matter removed by the filter. The filter after washing can be kept in a clean state. The tool cleaning device of claim 9 can prevent clogging of the filter and can perform a good cleaning operation for a long time.

청구항 10의 공구 세정 장치에 있어서, 상기 저류부는 병렬로 배치한 제1 저류부 및 제2 저류부를 구비하고 있고, 상기 세정액 노즐에 세정액을 공급 중인 상기 제1 저류부 또는 제2 저류부 내의 세정액량이 소정량 이하일 때, 상기 세정액 노즐로의 유로를 세정액 공급 대기 중인 상기 제2 저류부 또는 제1 저류부로 절환 가능하게 되어 있다.The tool cleaning device of claim 10, wherein the storage portion includes a first storage portion and a second storage portion arranged in parallel, and the amount of cleaning liquid in the first storage portion or the second storage portion that is supplying the cleaning liquid to the cleaning liquid nozzle. When less than a predetermined amount, the flow path to the cleaning liquid nozzle can be switched to the second storage portion or the first storage portion that is waiting to be supplied with the cleaning liquid.

세정액 노즐은 제1 저류부 및 제2 저류부 중 어느 하나가 저류하는 세정액을 분출한다. 제1 저류부는 통상 시에 사용한다. 제2 저류부는 제1 저류부 내의 세정액량이 부족한 경우에 절환하여 사용한다. 세정액 노즐은 제2 저류부의 저류액을 분출한다. 제1 저류부는 제2 저류부의 사용 중에 세정액을 저류한다. 제2 저류부는 제1 저류부의 사용 중에 세정액을 저류한다. 제1 저류부 및 제2 저류부는, 어느 한쪽의 저류부는 저류 상태에 있으므로 세정액 노즐은 항상 충분한 양의 세정액을 분출할 수 있다. 청구항 10의 공구 세정 장치는 단시간에 세정을 반복하는 용도로 대응할 수 있다.The cleaning liquid nozzle ejects the cleaning liquid which any one of the first storage portion and the second storage portion stores. The first storage part is usually used. The second reservoir is switched when the amount of the washing liquid in the first reservoir is insufficient. The cleaning liquid nozzle ejects the storage liquid of the second storage portion. The first reservoir stores the cleaning liquid during use of the second reservoir. The second reservoir stores the cleaning liquid during use of the first reservoir. Since either storage part is in a storage state, a 1st storage part and a 2nd storage part are in a storage state, and a cleaning liquid nozzle can always eject a sufficient amount of cleaning liquid. The tool cleaning device of claim 10 can cope with the purpose of repeating cleaning in a short time.

청구항 11의 공구 세정 장치에 있어서, 상기 세정액 노즐은 상기 주축을 지지하는 주축 헤드의 선단부에 배치되어 있다.In the tool cleaning device of claim 11, the cleaning liquid nozzle is disposed at the tip end of the spindle head that supports the spindle.

세정액 노즐은 주축 헤드의 선단부에서 세정액을 분출한다. 세정액은 주축에 설치하기 전의 공구 및 공구 홀더에 부딪친다. 공구 및 공구 홀더는 확실하게 세정된다. 공구 및 공구 홀더의 설치 불량은 양호하게 방지할 수 있다.The cleaning liquid nozzle ejects the cleaning liquid at the distal end of the spindle head. The cleaning liquid impinges on the tool and the tool holder before installation on the spindle. The tool and tool holder are reliably cleaned. Poor installation of the tool and the tool holder can be prevented well.

본 발명에 따르면, 많은 세정액을 안정적으로 분출할 수 있어, 단시간에 공구를 양호하게 세정할 수 있는 공구 세정 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a tool cleaning apparatus capable of stably ejecting a large number of cleaning liquids and allowing the tool to be washed well in a short time.

도 1은 제1 실시 형태의 공구 세정 장치를 구비하는 공작 기계의 사시도.
도 2는 도 1의 공작 기계의 측면도.
도 3은 주축 및 주축 헤드 부분의 정면도.
도 4는 주축 및 주축 헤드 부분의 측면도.
도 5는 주축 및 주축 헤드 부분의 하방으로부터 본 평면도.
도 6은 주축 및 주축 헤드의 주요부 단면도.
도 7은 제1 실시 형태의 공구 세정 장치의 액압 회로도.
도 8은 제1 실시 형태의 공구 세정 장치의 제어계의 블록도.
도 9는 제1 실시 형태의 세정 제어를 도시하는 흐름도.
도 10은 제2 실시 형태의 공구 세정 장치의 액압 회로도.
도 11은 제2 실시 형태의 세정 제어를 도시하는 흐름도.
도 12는 제3 실시 형태의 공구 세정 장치의 액압 회로도.
도 13은 제3 실시 형태의 기동 시 제어를 도시하는 흐름도.
도 14는 제3 실시 형태의 세정 제어를 도시하는 흐름도.
도 15는 제4 실시 형태의 공구 세정 장치의 액압 회로도.
도 16은 제4 실시 형태의 역세정 제어를 도시하는 흐름도.
도 17은 제5 실시 형태의 세정 장치의 액압 회로도.
도 18은 제1 변경 형태의 가압 장치를 도시하는 도면.
도 19는 제2 변경 형태의 가압 장치를 도시하는 도면.
도 20은 제3 변경 형태의 가압 장치를 도시하는 도면.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The perspective view of the machine tool provided with the tool cleaning device of 1st Embodiment.
2 is a side view of the machine tool of FIG. 1;
3 is a front view of the spindle and the spindle head portion;
4 is a side view of the spindle and the spindle head portion;
5 is a plan view seen from below of the main shaft and the main shaft head portion;
6 is a sectional view of principal parts of the spindle and the spindle head.
7 is a hydraulic circuit diagram of a tool cleaning device of a first embodiment.
8 is a block diagram of a control system of the tool cleaning device of the first embodiment.
9 is a flowchart illustrating cleaning control of the first embodiment.
10 is a hydraulic circuit diagram of a tool cleaning device of a second embodiment.
11 is a flowchart showing cleaning control of the second embodiment.
12 is a hydraulic circuit diagram of a tool cleaning device of a third embodiment.
Fig. 13 is a flowchart showing control at startup of the third embodiment.
14 is a flowchart showing cleaning control of the third embodiment.
15 is a hydraulic circuit diagram of a tool cleaning device of a fourth embodiment.
Fig. 16 is a flowchart showing backwash control in the fourth embodiment.
17 is a hydraulic circuit diagram of a cleaning device of a fifth embodiment.
18 shows a pressurization device in a first modified form;
19 shows a pressurization device in a second modified form;
20 shows a pressurization device in a third modified form;

이하 본 발명을, 바람직한 실시 형태를 도시하는 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail with reference to drawings which show preferable embodiment.

(제1 실시 형태)(1st embodiment)

도 1, 도 2에 도시한 바와 같이, 공작 기계(1)는 주철제의 베이스(2)에 의해 바닥면 상에 지지되어 있다. 공작 기계(1)는 제어 상자(3) 및 컬럼(4)을 구비하고 있다. 컬럼(4)은 베이스(2) 중앙부에 수직으로 솟아오른 지주이다. 공작 기계(1)는 컬럼(4)의 전방측(도 1, 도 2의 좌측)에 설치한 가공실의 내부에서 가공을 실시한다.As shown in FIG. 1, FIG. 2, the machine tool 1 is supported on the bottom surface by the base 2 made of cast iron. The machine tool 1 has a control box 3 and a column 4. The column 4 is a strut rising vertically in the center of the base 2. The machine tool 1 processes inside the processing chamber installed in the front side (left side of FIG. 1, FIG. 2) of the column 4. As shown in FIG.

제어 상자(3)는 컬럼(4)의 후방측(도 1, 도 2의 우측)에 설치되어 있다. 제어 상자(3)는 그 내부에 제어부(9)(도 8 참조)를 수용하고 있다. 컬럼(4)은 그 전방부에 주축 헤드(5)(도 3 참조)를 지지하고 있다. 주축 헤드(5)는 컬럼(4)을 따라서 가공실의 내부에서 상승 및 하강할 수 있다.The control box 3 is provided in the rear side (right side of FIG. 1, FIG. 2) of the column 4. As shown in FIG. The control box 3 houses the control unit 9 (see FIG. 8) therein. The column 4 supports the spindle head 5 (see FIG. 3) at its front part. The spindle head 5 can be raised and lowered inside the processing chamber along the column 4.

도 3에 도시한 바와 같이, 주축 헤드(5)는 그 하부에 주축(6)을 구비하고 있다. 주축 헤드(5)는 그 상부에 구동 기구(7)를 구비하고 있다. 주축 헤드(5)는 구동 기구(7)의 구동으로 상승 및 하강한다. 주축(6)은 상하 방향의 축을 중심으로 하여 회전한다.As shown in FIG. 3, the main shaft head 5 has a main shaft 6 below. The spindle head 5 has a drive mechanism 7 thereon. The spindle head 5 is raised and lowered by the drive of the drive mechanism 7. The main shaft 6 rotates about the axis of the up-down direction.

공작 기계(1)는 ATC(자동 공구 교환 장치)(8)와, 공구 세정 장치를 더 구비하고 있다. 도 3, 도 4에 도시한 바와 같이, ATC(8)는 공구 수납부(17)와 공구 교환 기구(18)를 구비하고 있다. 공구 수납부(17)는 주축 헤드(5)의 우측에 배치되어 있다. 공구 교환 기구(18)는 주축 헤드(5)와 공구 수납부(17) 사이에 배치되어 있다.The machine tool 1 further includes an ATC (automatic tool changer) 8 and a tool cleaning device. As shown in FIG. 3, FIG. 4, the ATC 8 is equipped with the tool accommodating part 17 and the tool change mechanism 18. As shown in FIG. The tool accommodating part 17 is arrange | positioned at the right side of the spindle head 5. The tool change mechanism 18 is arrange | positioned between the spindle head 5 and the tool accommodating part 17. FIG.

도 4에 도시한 바와 같이, 공구 수납부(17)는 체인(16)에 설치한 복수의 공구 포드(15)를 구비한다. 공구 포드(15)는 공구(20)를 설치한 공구 홀더(21)(도 6 참조)를 보유 지지한다. 공구 포드(15)는 체인(16)이 순환함으로써 이동하여, 공구(20) 및 공구 홀더(21)를 교환 위치(도 4의 하부 위치)로 반송한다. 교환 위치에서 공구 포드(15)는 공구(20) 및 공구 홀더(21)를 공구 수납부(17) 밖으로 송출한다.As shown in FIG. 4, the tool accommodating part 17 is equipped with the some tool pod 15 provided in the chain 16. As shown in FIG. The tool pod 15 holds a tool holder 21 (see FIG. 6) in which the tool 20 is installed. The tool pod 15 moves by circulating the chain 16, and conveys the tool 20 and the tool holder 21 to the exchange position (lower position in FIG. 4). In the exchange position, tool pod 15 feeds tool 20 and tool holder 21 out of tool receptacle 17.

도 5에 도시한 바와 같이, 공구 교환 기구(18)는 교환 아암(18a)을 구비하고 있다. 교환 아암(18a)은 주축(6)과 평행한 축을 중심으로 하여 선회하고, 또한 상승 및 하강한다. 교환 아암(18a)은 그 양단부에 파지부(18b)를 갖는다. 파지부(18b)는 교환 아암(18a)이 선회함으로써, 공구 수납부(17)의 교환 위치와 주축(6)의 하부 위치로 이동한다. 한쪽의 파지부(18b)는 교환 위치에서 공구 홀더(21)를 파지한다. 다른 쪽의 파지부(18b)는 주축(6)의 하부 위치에서 공구 홀더(21)를 파지한다.As shown in FIG. 5, the tool change mechanism 18 is provided with the exchange arm 18a. The exchange arm 18a pivots about the axis parallel to the main axis 6, and also rises and falls. The exchange arm 18a has gripping portions 18b at both ends thereof. The holding arm 18b moves to the exchange position of the tool accommodating part 17 and the lower position of the main shaft 6 by turning the exchange arm 18a. One gripping portion 18b grips the tool holder 21 at the exchange position. The other gripping portion 18b grips the tool holder 21 at the lower position of the main shaft 6.

교환 아암(18a)은 공구 홀더(21)를 파지한 상태로 하강한다. 공구(20) 및 공구 홀더(21)는 공구 포드(15) 및 주축(6)으로부터 벗어난다. 교환 아암(18a)은 하강 후에 180° 선회한다. 공구(20) 및 공구 홀더(21)는 교환 위치로부터 주축(6)의 하부 위치로, 또는 주축(6)의 하부 위치로부터 교환 위치로 이동한다. 교환 아암(18a)은 선회 후에 상승하여, 공구(20) 및 공구 홀더(21)를 주축(6) 또는 공구 포드(15)에 끼워 넣는다.The exchange arm 18a descends while holding the tool holder 21. The tool 20 and the tool holder 21 deviate from the tool pod 15 and the spindle 6. The exchange arm 18a pivots 180 ° after lowering. The tool 20 and the tool holder 21 move from the exchange position to the lower position of the spindle 6 or from the lower position of the spindle 6 to the exchange position. The exchange arm 18a rises after turning, and fits the tool 20 and the tool holder 21 into the spindle 6 or the tool pod 15.

도 6에 도시한 바와 같이, 공구 홀더(21)는 주축 장착부(21a) 및 공구 보유 지지부(21b)를 구비한다. 공구 보유 지지부(21b)는 직경이 다른 2개의 원기둥부로 구성하고 있다. 하방의 원기둥부는 공구(20)를 파지한다. 상방의 원기둥부의 직경은 하방의 원기둥부의 직경보다도 크다. 주축 장착부(21a)는 원기둥부의 상면에 연속되는 대략 원추 형상 부분이다.As shown in FIG. 6, the tool holder 21 is equipped with the spindle mounting part 21a and the tool holding part 21b. The tool holding part 21b is comprised from two cylinder parts from which a diameter differs. The lower cylindrical part grasps the tool 20. The diameter of the upper cylindrical part is larger than the diameter of the lower cylindrical part. The main shaft mounting portion 21a is a substantially conical portion continuous to the upper surface of the cylinder portion.

주축(6)은 그 하면에 개구하는 공구 설치 구멍(19)을 구비하고 있다. 공구 설치 구멍(19)은 주축 장착부(21a)와 대응하는 원추 형상을 갖는다. 공구 홀더(21)는 공구 설치 구멍(19)에 주축 장착부(21a)를 끼워 넣음으로써 주축(6)에 설치한다. 공구 홀더(21) 및 공구(20)는 주축 장착부(21a)를 공구 설치 구멍(19)에 밀착하고, 또한 공구 보유 지지부(21b) 상방의 원기둥부 상단면(21c)을 주축(6) 하면에 밀착함으로써 위치 결정한다.The main shaft 6 is provided with the tool installation hole 19 opening to the lower surface. The tool mounting hole 19 has a conical shape corresponding to the spindle mounting portion 21a. The tool holder 21 is attached to the spindle 6 by inserting the spindle mounting portion 21a into the tool mounting hole 19. The tool holder 21 and the tool 20 adhere the spindle mounting portion 21a to the tool installation hole 19 and the cylindrical upper end surface 21c above the tool holding portion 21b to the lower surface of the spindle 6. Positioning is performed by being in close contact.

주축 헤드(5)는 주축(6)을 회전 가능하게 지지한다. 주축 헤드(5)는 그 하단부에 환형상의 주축 캡(22)을 구비하고 있다. 주축 캡(22)은 주축 헤드(5) 하면에 복수의 볼트(23)로 고정되어 있다. 주축(6) 하면은 주축 캡(22)의 중심 구멍으로부터 노출된다. 주축(6) 하면과 주축 캡(22) 사이는 환형상의 단면(端面) 커버(24)로 막혀 있다. 단면 커버(24)는 주축(6) 하면에 고정하여, 주축 캡(22)의 하면에 접촉되어 있다.The spindle head 5 rotatably supports the spindle 6. The spindle head 5 has an annular spindle cap 22 at its lower end. The spindle cap 22 is fixed to the lower surface of the spindle head 5 with a plurality of bolts 23. The lower surface of the main shaft 6 is exposed from the center hole of the main spindle cap 22. Between the lower surface of the main shaft 6 and the main shaft cap 22 is closed by an annular end face cover 24. The end face cover 24 is fixed to the lower surface of the main shaft 6 and is in contact with the lower surface of the main shaft cap 22.

주축(6)에 설치한 공구(20)는 상기 주축(6)과 함께 회전한다. 공구(20)는 주축 헤드(5)가 상승 및 하강함으로써 상하 방향으로 이동한다. 공구(20)는 가공실 내에서 가공물을 가공한다. 가공물은 가공실 내의 가공 테이블과 함께 수평 방향으로 이동한다.The tool 20 installed on the main shaft 6 rotates together with the main shaft 6. The tool 20 moves in the vertical direction by the spindle head 5 ascending and descending. The tool 20 processes the workpiece in the processing chamber. The workpiece moves horizontally with the machining table in the machining chamber.

공작 기계(1)는 공구 세정 장치를 구비하고 있다. 공구 세정 장치는 공구(20) 및 공구 홀더(21)를 주축(6)에 설치하기 전에 세정한다. 주축 캡(22)은 그 하면에 액 홈(25)을 갖고 있다. 액 홈(25)은 주축 캡(22) 하면에 형성한 환형상 홈이다. 액 홈(25)은 단면 커버(24)의 외주보다도 외측에 형성되어 있다. 액 홈(25)은 주축 캡(23) 하면에 설치한 환형상의 세정액 노즐 형성 부재(26)로 막혀 있다. 세정액 노즐 형성 부재(26)는 그 하면에 개구하는 환형상의 세정액 노즐 구멍(29)을 갖고 있다. 세정액 노즐 형성 부재(26)는 주축(6) 하단면과 대략 동일한 높이의 하면을 갖는다. 세정액 노즐 구멍(29)은 주축 헤드(5) 및 주축(6)의 중심을 향해 비스듬히 형성되어 있다.The machine tool 1 is equipped with a tool cleaning device. The tool cleaning device cleans the tool 20 and the tool holder 21 before installing them on the spindle 6. The spindle cap 22 has a liquid groove 25 on its lower surface. The liquid groove 25 is an annular groove formed on the lower surface of the spindle cap 22. The liquid groove 25 is formed outside the outer circumference of the end face cover 24. The liquid groove 25 is blocked by an annular cleaning liquid nozzle forming member 26 provided on the lower surface of the spindle cap 23. The cleaning liquid nozzle forming member 26 has an annular cleaning liquid nozzle hole 29 that opens in the lower surface thereof. The cleaning liquid nozzle forming member 26 has a lower surface of approximately the same height as the lower surface of the main shaft 6. The cleaning liquid nozzle hole 29 is formed obliquely toward the center of the main shaft head 5 and the main shaft 6.

액 홈(25)은 주축 캡(22)에 형성한 액 공급 구멍(27)으로 연결된다. 액 공급 구멍(27)은 주축 캡(22) 외주에 개구하고 있다. 액 공급 구멍(27)은 세정액 호스(28)에 접속되어 있다. 세정액 호스(28)는 세정액을 공급한다. 세정액은 액 공급 구멍(27)을 거쳐서 액 홈(25) 내로 들어가고, 세정액 노즐 구멍(29)로부터 분출된다. 도 6에 도시한 바와 같이, 세정액(A)은 세정액 노즐 구멍(29)의 방향으로 분출되어, 주축(6)의 아래에 위치하는 공구 홀더(21) 및 공구(20)를 세정한다. 세정액 노즐 형성 부재(26) 및 세정액 노즐 구멍(29)은 세정액 노즐(30)을 구성한다. 액 홈(25), 액 공급 구멍(27) 및 세정액 호스(28)는 세정액 공급로의 일부를 구성한다.The liquid groove 25 is connected to the liquid supply hole 27 formed in the spindle cap 22. The liquid supply hole 27 is opened in the outer circumference of the spindle cap 22. The liquid supply hole 27 is connected to the cleaning liquid hose 28. The cleaning liquid hose 28 supplies the cleaning liquid. The cleaning liquid enters into the liquid groove 25 via the liquid supply hole 27 and is ejected from the cleaning liquid nozzle hole 29. As shown in FIG. 6, the cleaning liquid A is ejected in the direction of the cleaning liquid nozzle hole 29 to clean the tool holder 21 and the tool 20 positioned below the main shaft 6. The cleaning liquid nozzle forming member 26 and the cleaning liquid nozzle hole 29 constitute the cleaning liquid nozzle 30. The liquid groove 25, the liquid supply hole 27, and the cleaning liquid hose 28 constitute a part of the cleaning liquid supply passage.

도 1에 도시한 바와 같이, 공작 기계(1)는 냉각액 유닛(10)을 구비하고 있다. 냉각액 유닛(10)은 저류조(11), 회수조(12), 제1 펌프(13) 및 제2 펌프(14)를 구비하고 있다. 저류조(11)는 가공실 내에 공급하는 냉각액(세정액)을 저류하고 있다. 도 1에 도시한 바와 같이, 저류조(11)는 상자형의 용기이다. 회수조(12), 제1 펌프(13) 및 제2 펌프(14)는 저류조(11) 상면에 설치되어 있다.As shown in FIG. 1, the machine tool 1 includes a coolant unit 10. The coolant unit 10 includes a storage tank 11, a recovery tank 12, a first pump 13, and a second pump 14. The storage tank 11 stores the coolant (cleaning liquid) supplied into the processing chamber. As shown in FIG. 1, the storage tank 11 is a box-shaped container. The recovery tank 12, the first pump 13, and the second pump 14 are provided on the upper surface of the storage tank 11.

도 1, 도 2에 도시한 바와 같이, 냉각액 유닛(10)은 베이스(2)의 후방측에 착탈 가능하다. 회수조(12)는 베이스(2)의 배출부(2a)에 접속 가능하다. 회수조(12)는 가공실 내에서 배출부(2a)에 모이는 사용이 끝난 냉각액(세정액)을 회수한다. 회수조(12)는 저류조(11)에 연속되어 있다. 회수조(12) 내의 냉각액(세정액)은 여과 장치(도시를 생략함)를 통해 저류조(11) 내로 복귀된다.As shown to FIG. 1, FIG. 2, the coolant unit 10 is attachable to and detachable from the back side of the base 2. As shown in FIG. The recovery tank 12 can be connected to the discharge part 2a of the base 2. The recovery tank 12 collects the used coolant (cleaning liquid) collected in the discharge section 2a in the processing chamber. The recovery tank 12 is continuous with the storage tank 11. The cooling liquid (washing liquid) in the recovery tank 12 is returned into the storage tank 11 through a filtration device (not shown).

제1 펌프(13) 및 제2 펌프(14)는 저류조(11) 내의 냉각액(세정액)을 빨아 올려 가공실 내로 송출한다. 제1 펌프(13)는 냉각액 및 세정액 겸용의 펌프이다. 도 7에 도시한 바와 같이, 제1 펌프(13)의 토출측은 제1 냉각액관(31)에 접속되어 있다. 제1 냉각액관(31)은 가공실 내부로 연장되어 있다. 냉각액은 제1 냉각액관(31)의 선단에 설치한 냉각액 세정액 노즐(도시를 생략함)로부터 가공실 내로 분출된다. 냉각액은 가공 중인 공구 및 가공물을 냉각한다.The 1st pump 13 and the 2nd pump 14 suck up the cooling liquid (cleaning liquid) in the storage tank 11, and send it out to a process chamber. The first pump 13 is a pump for both a cooling liquid and a cleaning liquid. As shown in FIG. 7, the discharge side of the first pump 13 is connected to the first cooling liquid pipe 31. The first coolant pipe 31 extends into the processing chamber. The coolant is ejected into the processing chamber from a coolant cleaning liquid nozzle (not shown) provided at the tip of the first coolant tube 31. The coolant cools the tool and the workpiece under processing.

제2 펌프(14)는 냉각액 전용의 펌프이다. 제2 펌프(14)의 토출측은 제2 냉각액관(도시를 생략함)에 접속되어 있다. 제2 냉각액관은 가공실 내부로 연장되어 있다. 냉각액은 제2 냉각액관 선단에 설치한 냉각액 세정액 노즐(도시를 생략함)로부터 가공실 내로 분출된다. 제1 펌프(13)의 토출 압력은 0.030 내지 0.045㎫이다. 제2 펌프(14)의 토출 압력은 제1 펌프(13)의 토출 압력보다도 크다. 제2 펌프(14)가 송출하는 냉각액은 가공 중인 공구 및 가공물을 냉각하고, 또한 가공부에서 발생하는 절삭칩을 씻어낸다.The second pump 14 is a pump dedicated to the cooling liquid. The discharge side of the second pump 14 is connected to a second cooling liquid pipe (not shown). The second coolant tube extends into the processing chamber. The coolant is ejected into the processing chamber from a coolant cleaning liquid nozzle (not shown) provided at the tip of the second coolant tube. The discharge pressure of the first pump 13 is 0.030 to 0.045 MPa. The discharge pressure of the second pump 14 is greater than the discharge pressure of the first pump 13. The cooling liquid sent out by the second pump 14 cools the tool and the workpiece under processing, and washes off the cutting chips generated in the processing section.

제1 냉각액관(31)은 그 도중에서 세정액관(32)으로 분기한다. 세정액관(32)은 세정액 호스(28)를 통해 세정액 노즐(30)에 접속되어 있다. 세정액은 제1 펌프(13)가 송출하는 냉각액의 일부이다. 세정액은 세정액관(32) 및 세정액 호스(28) 내를 흐른다. 전술한 바와 같이, 세정액 호스(28)를 흐르는 세정액은 액공급 구멍(27) 및 액 홈(25)을 거쳐서 세정액 노즐 구멍(29)로부터 분출된다. 세정액 노즐(30)로부터 분출되는 세정액은 공구 홀더(21) 및 공구(20)를 세정한다. 세정을 종료한 세정액은, 전술한 바와 같이 베이스(2) 상의 배출부(2a)에 낙하하여, 회수조(12)를 거쳐서 저류조(11) 내로 복귀된다.The 1st cooling liquid pipe | tube 31 branches to the washing | cleaning liquid pipe | tube 32 in the middle. The cleaning liquid pipe 32 is connected to the cleaning liquid nozzle 30 through the cleaning liquid hose 28. The cleaning liquid is a part of the cooling liquid sent by the first pump 13. The cleaning liquid flows through the cleaning liquid tube 32 and the cleaning liquid hose 28. As described above, the cleaning liquid flowing through the cleaning liquid hose 28 is ejected from the cleaning liquid nozzle hole 29 via the liquid supply hole 27 and the liquid groove 25. The cleaning liquid sprayed from the cleaning liquid nozzle 30 cleans the tool holder 21 and the tool 20. The cleaning liquid after the cleaning is dropped to the discharge portion 2a on the base 2 as described above, and returned to the storage tank 11 via the recovery tank 12.

공구 세정 장치의 세정액 공급로는 제1 냉각액관(31)의 일부, 세정액관(32) 및 세정액 호스(28)와, 액 공급 구멍(27) 및 액 홈(25)으로 구성되어 있다. 도 7에 도시한 바와 같이, 세정액관(32)은 그 도중에 필터(33), 역지 밸브(34) 및 액 공급 밸브(35)를 구비하고 있다. 필터(33)는 세정액 중의 이물질을 제거한다. 역지 밸브(34)는 필터(33)의 하류측에 배치되어 있다. 역지 밸브(34)는 세정액관(32) 내를, 세정액 노즐(30)을 향하는 흐름을 통과시키고, 또한 제1 냉각액관(31)을 향하는 역류를 멈추게 한다.The cleaning liquid supply path of the tool cleaning device includes a part of the first cooling liquid pipe 31, the cleaning liquid pipe 32, and the cleaning liquid hose 28, the liquid supply hole 27, and the liquid groove 25. As shown in FIG. 7, the washing | cleaning liquid pipe 32 is equipped with the filter 33, the check valve 34, and the liquid supply valve 35 in the middle. The filter 33 removes foreign substances in the cleaning liquid. The check valve 34 is disposed downstream of the filter 33. The check valve 34 passes the flow toward the cleaning liquid nozzle 30 through the inside of the cleaning liquid tube 32 and stops the backflow toward the first cooling liquid tube 31.

액 공급 밸브(35)는 역지 밸브(34)의 하류측에 배치되어 있다. 도 7에 도시한 바와 같이, 액 공급 밸브(35)는, 통상 시에는 폐쇄 위치에 있다. 액 공급 밸브(35)는 공기 유로(40)를 통해 공기압원(39)에 접속되어 있다. 액 공급 밸브(35)는 공기 유로(40)가 공급하는 공기압의 작용으로 개방 위치로 절환된다. 세정액 노즐(30)은 액 공급 밸브(35)가 열림으로 되어 있는 동안에 세정액을 분출한다.The liquid supply valve 35 is disposed downstream of the check valve 34. As shown in FIG. 7, the liquid supply valve 35 is normally in a closed position. The liquid supply valve 35 is connected to the air pressure source 39 via the air flow passage 40. The liquid supply valve 35 is switched to the open position by the action of the air pressure supplied by the air flow path 40. The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid while the liquid supply valve 35 is opened.

공기 유로(40)는 그 도중에 제1 전자 밸브(43)를 구비하고 있다. 도 7에 도시한 바와 같이, 제1 전자 밸브(43)는, 통상 시에는 폐쇄 위치에 있다. 공기 유로(40) 내에 남은 공기는 소음부(43a)에서 음을 제거하여 방출한다. 제1 전자 밸브(43)는 제어부(9)(제어 장치에 상당함)가 부여하는 개방 지령에 따라서 개방 위치로 절환된다. 공기압원(39)은 제1 전자 밸브(43)가 열림으로 됨으로써, 공기 유로(40)를 거쳐서 액 공급 밸브(35)로 공기압을 공급한다. 세정액 노즐(30)은 제1 전자 밸브(43)를 열림으로 함으로써 세정액을 분출한다. 공기압원(39)은 공작 기계(1)를 설치하는 공장 내의 장비품을 이용할 수 있다. 공기압원(39)을 확보할 수 없는 경우, 액 공급 밸브(35)는 제어부(9)의 동작 지령으로 개폐하는 전자 밸브로 하면 된다.The air flow path 40 is equipped with the 1st solenoid valve 43 in the middle. As shown in FIG. 7, the 1st solenoid valve 43 is normally in a closed position. Air remaining in the air passage 40 removes sound from the silencer 43a and is discharged. The first solenoid valve 43 is switched to the open position in accordance with an open command given by the control unit 9 (corresponding to the control device). The air pressure source 39 supplies the air pressure to the liquid supply valve 35 via the air flow path 40 by opening the first solenoid valve 43. The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid by opening the first solenoid valve 43. The air pressure source 39 can use the equipment in the factory in which the machine tool 1 is installed. When the air pressure source 39 cannot be secured, the liquid supply valve 35 may be a solenoid valve that opens and closes with an operation command of the control unit 9.

세정액관(32)은 그 도중에 저류부(50)를 더 구비하고 있다. 저류부(50)는 그 내부에 소정량의 세정액의 저류가 가능한 용기이다. 저류부(50)는 역지 밸브(34)와 액 공급 밸브(35) 사이에 배치되어 있다. 세정액관(32) 내의 세정액은 액 공급 밸브(35)가 닫힘으로 되어 있는 동안에 저류부(50)로 유입된다. 저류부(50)는 세정액관(32)으로부터 유입되는 세정액을 일단 저류한다. 도 1, 도 2에 도시한 바와 같이 저류부(50)는 컬럼(4)의 후방면에, 제어 상자(3)와 나란히 설치되어 있다.The washing | cleaning liquid pipe 32 further has the storage part 50 in the middle. The storage part 50 is a container in which a predetermined amount of washing liquid can be stored. The reservoir 50 is disposed between the check valve 34 and the liquid supply valve 35. The cleaning liquid in the cleaning liquid pipe 32 flows into the reservoir 50 while the liquid supply valve 35 is closed. The storage part 50 stores the washing | cleaning liquid which flows in from the washing | cleaning liquid pipe 32 once. As shown in FIG. 1, FIG. 2, the storage part 50 is provided in the back surface of the column 4 side by side with the control box 3. As shown in FIG.

도 7에 도시한 바와 같이, 저류부(50)의 상부는 공기 유로(42)를 통해 공기압원(39)에 접속되어 있다. 공기 유로(42)는 그 도중에, 스로틀 밸브(48), 가압 밸브(45) 및 역지 밸브(49)를 구비하고 있다. 가압 밸브(45)는, 통상 시에는 폐쇄 위치에 있다. 가압 밸브(45)는 공기 유로(46)가 공급하는 공기압의 작용으로 개방 위치로 절환된다. 공기 유로(42) 내의 공기는 가압 밸브(45)가 열림으로 되어 있는 동안에 저류부(50) 내로 유입된다. 저류부(50) 내의 압력은 공기 유로(42)를 거쳐서 유입되는 공기압의 작용으로 상승한다. 공기 유로(46)는 공기 유로(40)의 도중에 분기한다. 가압 밸브(45)는 액 공급 밸브(35)와 동시에 개방 위치로 절환된다. 저류부(50) 내의 공기압은 상기 저류부(50) 내에 저류한 세정액을 세정액관(32) 내로 밀어낸다. 세정액은 액 공급 밸브(35)를 거쳐서 세정액 노즐(30)로부터 강하게 분출된다.As shown in FIG. 7, the upper part of the storage part 50 is connected to the pneumatic source 39 via the air flow path 42. As shown in FIG. The air flow path 42 is provided with the throttle valve 48, the pressurization valve 45, and the check valve 49 in the middle. The pressure valve 45 is normally in the closed position. The pressure valve 45 is switched to the open position by the action of the air pressure supplied from the air flow passage 46. Air in the air passage 42 flows into the reservoir 50 while the pressure valve 45 is opened. The pressure in the reservoir 50 rises under the action of the air pressure flowing through the air flow passage 42. The air flow passage 46 branches in the middle of the air flow passage 40. The pressure valve 45 is switched to the open position at the same time as the liquid supply valve 35. The air pressure in the reservoir 50 pushes the washing liquid stored in the reservoir 50 into the washing liquid tube 32. The cleaning liquid is strongly ejected from the cleaning liquid nozzle 30 via the liquid supply valve 35.

스로틀 밸브(48)는 가변 스로틀 밸브이다. 스로틀 밸브(48)는 공기압원(39)으로부터의 급기의 허가 또는 급기의 금지를 선택한다. 스로틀 밸브(48)는, 통상, 급기의 허가를 선택한다. 역지 밸브(49)는 저류부(50)로부터 공기의 역류를 멈추게 한다.The throttle valve 48 is a variable throttle valve. The throttle valve 48 selects the permission of the air supply from the air pressure source 39 or the prohibition of the air supply. The throttle valve 48 normally selects permission of air supply. The check valve 49 stops the back flow of air from the reservoir 50.

도 7에 도시한 바와 같이, 저류부(50)는 그 상부에 접속한 감압 통로(37)를 구비하고 있다. 감압 통로(37)는 그 도중에 감압 밸브(38)를 구비하고 있다. 감압 밸브(38)는, 통상 시에는 개방 위치에 있다. 감압 밸브(38)가 개방 위치에 있는 경우, 감압 통로(37)는 저류부(50) 내의 공기압을 감압 밸브(38)를 거쳐서 가공실로 배출한다.As shown in FIG. 7, the storage part 50 is equipped with the pressure reduction passage 37 connected to the upper part. The pressure reduction passage 37 includes a pressure reduction valve 38 in the middle thereof. The pressure reducing valve 38 is normally in an open position. When the pressure reducing valve 38 is in the open position, the pressure reducing passage 37 discharges the air pressure in the reservoir 50 through the pressure reducing valve 38 to the processing chamber.

감압 밸브(38)는 공기 유로(41)가 공급하는 공기압의 작용으로 폐쇄 위치로 절환된다. 공기 유로(41)는 그 도중에 제2 전자 밸브(44)를 구비하고 있다. 제2 전자 밸브(44)는, 통상 시에는 폐쇄 위치에 있다. 제2 전자 밸브(44)는 공기 유로(41) 내에 남은 공기를 소음부(44a)에서 음을 제거하여 방출한다. 제2 전자 밸브(44)는 제어부(9)가 부여하는 개방 지령에 따라서 개방 위치로 절환된다. 공기압원(39)은 제2 전자 밸브(44)가 열림으로 됨으로써, 공기 유로(41)를 거쳐서 감압 밸브(38)에 공기압을 공급한다. 감압 밸브(38)는 감압 통로(37)를 폐쇄하여 저류부(50)를 밀폐한다. 저류부(50) 내의 공기압은 제1, 제2 전자 밸브(43, 44)가 열림으로 됨(온으로 함)으로써 상승한다. 저류부(50) 내의 공기압은 제1, 제2 전자 밸브(43, 44)가 닫힘으로 됨(오프로 함)으로써 저하된다.The pressure reducing valve 38 is switched to the closed position by the action of the air pressure supplied from the air flow passage 41. The air flow path 41 is provided with the 2nd solenoid valve 44 in the middle. The second solenoid valve 44 is normally in the closed position. The second solenoid valve 44 removes the air remaining in the air flow passage 41 from the silencer 44a and discharges it. The second solenoid valve 44 is switched to the open position in accordance with an open command given by the control unit 9. The air pressure source 39 supplies the air pressure to the pressure reducing valve 38 via the air flow passage 41 by opening the second solenoid valve 44. The pressure reducing valve 38 closes the pressure reducing passage 37 to close the reservoir 50. The air pressure in the reservoir 50 rises when the first and second solenoid valves 43 and 44 are opened (turned on). The air pressure in the reservoir 50 decreases when the first and second solenoid valves 43 and 44 are closed (off).

저류부(50)는 액면 센서(36)를 구비하고 있다. 액면 센서(36)는 저류부(50)의 바닥으로부터 소정의 높이 위치에 설치되어 있다. 액면 센서(36)는 저류부(50) 내의 세정액의 액면이 액면 센서(36)의 설치 높이에 도달했을 때에 온으로 된다. 액면 센서(36)의 설치 위치는 저류부(50) 내의 저류액량이, 1회의 세정에서 세정액 노즐(30)이 분출하는 세정액의 양으로 되도록 정해져 있다. 세정액 노즐(30)은 1회의 세정에서, 예를 들어 5초간 세정액을 분출한다.The reservoir 50 has a liquid level sensor 36. The liquid level sensor 36 is provided at a predetermined height position from the bottom of the reservoir 50. The liquid level sensor 36 is turned on when the liquid level of the cleaning liquid in the reservoir 50 reaches the installation height of the liquid level sensor 36. The installation position of the liquid level sensor 36 is determined so that the amount of the storage liquid in the storage part 50 becomes the amount of the cleaning liquid which the cleaning liquid nozzle 30 ejects in one washing | cleaning. The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid for one second, for example, for five seconds.

도 8에 도시한 바와 같이, 제어부(9)는 CPU(9a), ROM(9b), RAM(9c), 입력 인터페이스(9d) 및 출력 인터페이스(9e)를, 버스(9f)로 접속하고 있는 컴퓨터이다. 제어부(9)는 ROM(9b)에 저장한 제어 프로그램에 따라서 CPU(9a)가 동작함으로써, 공작 기계(1)의 가공 동작 전반을 제어한다. 제어부(9)의 제어 범위는 공구(20)의 회전, 상승 및 하강 제어, 가공 테이블의 이동 제어, ATC(8)의 동작 제어, 공구 세정 장치의 제어를 포함하고 있다. 도 8은 공구 세정 장치의 제어에 관련되는 부분만을 도시하고 있다.As shown in Fig. 8, the control unit 9 is a computer that connects the CPU 9a, the ROM 9b, the RAM 9c, the input interface 9d, and the output interface 9e with the bus 9f. to be. The control unit 9 controls the overall machining operation of the machine tool 1 by operating the CPU 9a in accordance with the control program stored in the ROM 9b. The control range of the control unit 9 includes rotation, raising and lowering control of the tool 20, movement control of the machining table, operation control of the ATC 8, and control of the tool cleaning device. 8 shows only the parts related to the control of the tool cleaning device.

입력 인터페이스(9d)는 조작부(90), 액면 센서(36) 및 압력 센서(91)에 접속되어 있다. 조작부(90)는 가공에 필요한 정보를 작업자가 입력하기 위해 사용한다. 전술한 바와 같이, 액면 센서(36)는 저류부(50) 내의 저류액량을 검출한다. 압력 센서(91)는 공기 유로(40, 41, 42) 내의 압력을 검출한다. 입력 인터페이스(9d)는 조작부(90)의 입력 정보와, 액면 센서(36) 및 압력 센서(91)의 검출 결과를 CPU(9a)에 부여한다.The input interface 9d is connected to the operation unit 90, the liquid level sensor 36, and the pressure sensor 91. The operation unit 90 uses the operator to input information necessary for processing. As described above, the liquid level sensor 36 detects the amount of the storage liquid in the storage portion 50. The pressure sensor 91 detects the pressure in the air flow paths 40, 41, and 42. The input interface 9d provides the CPU 9a with input information of the operation unit 90 and detection results of the liquid level sensor 36 and the pressure sensor 91.

출력 인터페이스(9e)는 제1 펌프(13)의 구동 회로(82), 제1 전자 밸브(43)의 구동 회로(83) 및 제2 전자 밸브(44)의 구동 회로(84)에 접속되어 있다. CPU(9a)는 출력 인터페이스(9e)를 통해 구동 회로(82)에 동작 지령을 부여하여, 제1 펌프(13)를 구동한다. CPU(9a)는 출력 인터페이스(9e)를 통해 구동 회로(83)에 개방 지령을 부여하여, 제1 전자 밸브(43)를 열림(온)으로 한다. CPU(9a)는 출력 인터페이스(9e)를 통해 구동 회로(84)에 개방 지령을 부여하여, 제2 전자 밸브(44)를 열림(온)으로 한다.The output interface 9e is connected to the drive circuit 82 of the first pump 13, the drive circuit 83 of the first solenoid valve 43, and the drive circuit 84 of the second solenoid valve 44. . The CPU 9a issues an operation command to the drive circuit 82 through the output interface 9e to drive the first pump 13. The CPU 9a gives an open command to the drive circuit 83 via the output interface 9e, and turns the first solenoid valve 43 open (on). The CPU 9a gives an open command to the drive circuit 84 via the output interface 9e, and turns the second solenoid valve 44 open (on).

제1 전자 밸브(43)가 온으로 된 경우, 액 공급 밸브(35)는 공기압원(39)으로부터의 급기에 의해 열림으로 된다. 전술한 바와 같이, 세정액 노즐(30)은 액 공급 밸브(35)가 열림으로 됨으로써 세정액을 분출한다.When the first solenoid valve 43 is turned on, the liquid supply valve 35 is opened by the air supply from the air pressure source 39. As described above, the cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid by opening the liquid supply valve 35.

제1 전자 밸브(43)가 온으로 된 경우, 가압 밸브(45)는 공기압원(39)으로부터의 급기에 의해 열림으로 된다. 제2 전자 밸브(44)가 온으로 된 경우, 감압 밸브(38)는 공기압원(39)으로부터의 급기에 의해 닫힘으로 된다. 저류부(50) 내의 압력은 공기 유로(42)를 거쳐서 유입되는 공기압의 작용으로 상승하여, 저류부(50) 내의 저류액을 세정액관(32) 내로 밀어낸다. 세정액은 세정액 노즐(30)로부터 고속도로 분출하여, 공구(20) 및 공구 홀더(21)를 세정한다.When the first solenoid valve 43 is turned on, the pressure valve 45 is opened by the air supply from the air pressure source 39. When the second solenoid valve 44 is turned on, the pressure reducing valve 38 is closed by the air supply from the air pressure source 39. The pressure in the reservoir 50 rises under the action of the air pressure flowing through the air flow passage 42, and pushes the reservoir liquid in the reservoir 50 into the cleaning liquid tube 32. The cleaning liquid is ejected from the cleaning liquid nozzle 30 by the highway, and the tool 20 and the tool holder 21 are cleaned.

액 공급 밸브(35) 및 가압 밸브(45)는 제1 전자 밸브(43)가 오프됨으로써 닫힘으로 된다. 감압 밸브(38)는 제2 전자 밸브(44)가 오프됨으로써 열림으로 된다. 액 공급 밸브(35)는 세정액 노즐(30)로의 세정액의 송급을 차단한다. 저류부(50) 내의 압력은 가압 해제와 감압으로 저하된다. 세정액관(32) 내의 세정액은 저류부(50)로 유입되어, 상기 저류부(50) 내에 저류된다.The liquid supply valve 35 and the pressure valve 45 are closed by turning off the first solenoid valve 43. The pressure reducing valve 38 is opened by turning off the second solenoid valve 44. The liquid supply valve 35 cuts off the supply of the cleaning liquid to the cleaning liquid nozzle 30. The pressure in the reservoir 50 is lowered by depressurization and reduced pressure. The cleaning liquid in the cleaning liquid pipe 32 flows into the storage 50 and is stored in the storage 50.

제어 장치(9)의 CPU(9a)는 이하의 수순(도 9 참조)으로 세정 동작을 실행한다. CPU(9a)는 소정의 주기로 상기 수순을 실행한다. CPU(9a)는 각종 신호를 읽어들인다(S1). 각종 신호는 액면 센서(36)의 검출 신호, 압력 센서(91)의 검출 신호 등이다. CPU(9a)는 공기 유로(40, 41, 42) 내의 공기압이 정상인지 판정한다(S2). S2의 판정은 압력 센서(91)의 검출 신호에 기초하여 실시한다. 공기압이 정상이 아닌 경우(S2 : 아니오), CPU(9a)는 제1 전자 밸브(43) 및 제2 전자 밸브(44)를 오프로 하여(S15), 세정 동작을 실행하지 않는다.The CPU 9a of the control device 9 performs the cleaning operation in the following procedure (see FIG. 9). The CPU 9a executes the above procedure at predetermined intervals. The CPU 9a reads various signals (S1). The various signals are detection signals of the liquid level sensor 36, detection signals of the pressure sensor 91, and the like. The CPU 9a determines whether the air pressure in the air flow paths 40, 41, and 42 is normal (S2). The determination of S2 is performed based on the detection signal of the pressure sensor 91. When the air pressure is not normal (S2: NO), the CPU 9a turns off the first solenoid valve 43 and the second solenoid valve 44 (S15), and does not perform the cleaning operation.

공기압이 정상인 경우(S2 : 예), CPU(9a)는 제1 펌프(13)의 구동 상태를 판정한다(S3). 제1 펌프(13)가 비구동 상태인 경우(S3 : 아니오), CPU(9a)는 세정 동작을 실행하지 않는다.When the air pressure is normal (S2: YES), the CPU 9a determines the driving state of the first pump 13 (S3). When the first pump 13 is in the non-driven state (S3: No), the CPU 9a does not perform the cleaning operation.

제1 펌프(13)가 구동 상태인 경우(S3 : 예), CPU(9a)는 액면 센서(36)의 검출 신호를 조사한다(S4). 액면 센서(36)가 오프인 경우(S4 : 아니오), CPU(9a)는 저류부(50) 내의 세정액량이 부족하다고 판정하여(S14), 제1 전자 밸브(43) 및 제2 전자 밸브(44)를 오프로 한다(S9). 액면 센서(36)가 온인 경우(S4 : 예), CPU(9a)는 공구 교환 지령의 유무를 판정한다(S5). 공구 교환 지령이 없는 경우(S5 : 아니오), CPU(9a)는 세정 동작을 실행하지 않는다. CPU(9a)는 후술하는 가공 프로그램 처리 제어에 있어서, 가공 프로그램에 따라서 각 기구를 제어할 때, 공구 교환 지령을 실행하기 전에 RAM(9c)에 공구 교환 지령이 있었던 것을 기억한다. CPU(9a)는 공구 교환 지령이 있는지 여부에 대해 RAM(9c)을 참조하여 판정한다. CPU(9a)는 가공 프로그램 처리 제어를 소정의 주기로 실행한다. CPU(9a)는 가공 프로그램의 동작 블록을 1블록마다 해석하여 실행한다.When the first pump 13 is in a driving state (S3: YES), the CPU 9a checks the detection signal of the liquid level sensor 36 (S4). When the liquid level sensor 36 is off (S4: NO), the CPU 9a determines that the amount of the cleaning liquid in the reservoir 50 is insufficient (S14), and the first solenoid valve 43 and the second solenoid valve 44 ) Off (S9). When the liquid level sensor 36 is on (S4: YES), the CPU 9a determines the presence or absence of a tool change command (S5). If there is no tool change command (S5: No), the CPU 9a does not perform the cleaning operation. In the control program processing control described later, the CPU 9a stores a tool change command in the RAM 9c before executing the tool change command when controlling each mechanism in accordance with the process program. The CPU 9a determines with reference to the RAM 9c whether or not there is a tool change command. The CPU 9a executes the part program processing control at predetermined cycles. The CPU 9a analyzes and executes the operation block of the machining program for each block.

CPU(9a)는 공기 유로(40, 41, 42) 내의 공기압이 정상(S2 : 예)이고, 제1 펌프(31)가 구동 상태(S3 : 예)에 있고, 또한 저류부(50) 내의 저류액량이 충분한 경우에, 공구 교환 지령이 있는(S5 : 예) 것을 조건으로 하여 세정 동작을 실행한다.The CPU 9a has a normal air pressure in the air flow paths 40, 41, and 42 (S2: Yes), the first pump 31 is in a driving state (S3: Yes), and the storage in the storage unit 50. If the liquid amount is sufficient, the cleaning operation is executed on the condition that there is a tool change command (S5: YES).

CPU(9a)는 제1 전자 밸브(43) 및 제2 전자 밸브(44)를 온으로 한다(S6). 액 공급 밸브(35)는 열림으로 된다. 저류부(50)는 공기압의 작용으로 저류액을 밀어낸다. 세정액 노즐(30)은 세정액을 강하게 분출한다.The CPU 9a turns on the first solenoid valve 43 and the second solenoid valve 44 (S6). The liquid supply valve 35 is opened. The reservoir 50 pushes the reservoir out under the action of air pressure. The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid strongly.

CPU(9a)는 ATC(8)의 동작을 허가한다(S7). ATC(8)는 CPU(9a)가 동작을 허가함으로써, 도시하지 않은 공구 교환 처리에 있어서 공구 교환을 개시한다. 또한, 공구 교환 처리는 ROM(9b)에 저장한 프로그램이다. 공구 교환의 개시를 허가하면 CPU(9a)는 전술한 인터럽트 처리와는 별도의 인터럽트 처리로 공구 교환 처리를 실행한다.The CPU 9a permits the operation of the ATC 8 (S7). The ATC 8 starts the tool change in the tool change process (not shown) by allowing the CPU 9a to permit the operation. The tool change process is a program stored in the ROM 9b. If the start of the tool change is allowed, the CPU 9a executes the tool change process in an interrupt process separate from the above-described interrupt process.

CPU(9a)는 액면 센서(36)의 검출 신호를 조사한다(S8). 액면 센서(36)가 오프인 경우(S8 : 예), CPU(9a)는 제1 전자 밸브(43) 및 제2 전자 밸브(44)를 오프로 한다(S9). 세정액 노즐(30)은 세정액의 분출을 종료한다.The CPU 9a checks the detection signal of the liquid level sensor 36 (S8). When the liquid level sensor 36 is off (S8: YES), the CPU 9a turns off the first solenoid valve 43 and the second solenoid valve 44 (S9). The cleaning liquid nozzle 30 finishes ejecting the cleaning liquid.

액면 센서(36)가 오프가 아닌 경우(S8 : 아니오), CPU(9a)는 공구 교환이 완료되었는지 여부를 판정한다(S13). 공구 교환 중인 경우(S13 : 아니오), CPU(9a)는 S8 및 S13의 판정을 반복한다. 공구 교환이 완료된 경우(S13 : 예), CPU(9a)는 제1 전자 밸브(43) 및 제2 전자 밸브(44)를 오프로 한다(S9).When the liquid level sensor 36 is not off (S8: No), the CPU 9a determines whether or not the tool change is completed (S13). In the case of tool change (S13: No), the CPU 9a repeats the determination of S8 and S13. When the tool change is completed (S13: YES), the CPU 9a turns off the first solenoid valve 43 and the second solenoid valve 44 (S9).

공구 교환이 완료되었는지 여부는 주축 헤드(5)의 Z축 방향의 위치가 공구 교환 완료 위치에 도달하였는지 여부로 판정한다. 주축 헤드(5)의 Z축 방향의 위치는 인코더(도시를 생략함)로 검출한다.Whether the tool change is completed or not is determined by whether the position in the Z-axis direction of the spindle head 5 has reached the tool change complete position. The position of the main shaft head 5 in the Z-axis direction is detected by an encoder (not shown).

세정액 노즐(30)은 액 공급 밸브(35)가 닫힘으로 됨으로써 세정액의 분출을 종료한다. 저류부(50)의 내압은 가압 밸브(45)가 닫힘으로 되고, 또한 감압 밸브(38)가 열림으로 됨으로써 저하된다. 세정액관(32) 내를 흐르는 세정액은 저류부(50)로 유입되어, 상기 저류부(50) 내에 저류된다.The cleaning liquid nozzle 30 terminates the ejection of the cleaning liquid by closing the liquid supply valve 35. The internal pressure of the storage part 50 falls because the pressure valve 45 is closed and the pressure reducing valve 38 is opened. The cleaning liquid flowing in the cleaning liquid tube 32 flows into the storage 50 and is stored in the storage 50.

세정액 노즐(30)은 저류부(50) 내의 저류액이 적어질 때까지, 또는 공구 교환이 종료될 때까지 세정액을 분출한다. 저류부(50)는 그 내부에 저류된 세정액을 밀어낸다. 그로 인해, 세정액 노즐(30)은 강하게 세정액을 분출하여, 공구(20) 및 공구 홀더(21)를 양호하게 세정할 수 있다.The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid until the storage liquid in the storage portion 50 decreases or until the tool change is completed. The storage part 50 pushes out the washing | cleaning liquid stored in the inside. Therefore, the cleaning liquid nozzle 30 can eject the cleaning liquid strongly, and can wash the tool 20 and the tool holder 21 satisfactorily.

저류부(50)는 세정액 노즐(30)의 근처에 위치한다. 세정액은 짧은 거리를 흘러 세정액 노즐(30)로부터 분출된다. 저류부(50)와 세정액 노즐(30) 사이의 통로 저항은 작다. 세정액은 높은 응답성으로 안정적으로 분출할 수 있다.The reservoir 50 is located near the cleaning liquid nozzle 30. The cleaning liquid flows through the short distance and is ejected from the cleaning liquid nozzle 30. The passage resistance between the reservoir 50 and the cleaning liquid nozzle 30 is small. The cleaning liquid can be ejected stably with high responsiveness.

액 공급 밸브(35), 감압 밸브(38) 및 가압 밸브(45)는 공기압의 작용으로 열림으로 된다. 그로 인해, 감압 밸브(38) 및 가압 밸브(45)는 전기로 작용하는 전자 밸브와 비교하여 안전하다. 액 공급 밸브(35) 및 가압 밸브(45)는 제1 전자 밸브(43)를 온으로 함으로써 동시에 열림으로 된다. 그로 인해, 저류부(50) 내의 가압과 세정액 노즐(30)의 분출이 동기하여, 세정액 노즐(30)은 세정액을 확실하게 분출할 수 있다.The liquid supply valve 35, the pressure reducing valve 38, and the pressure valve 45 are opened by the action of air pressure. Therefore, the pressure reduction valve 38 and the pressurization valve 45 are safe compared with the solenoid valve acting as an electric. The liquid supply valve 35 and the pressure valve 45 are opened at the same time by turning on the first solenoid valve 43. Therefore, pressurization in the storage part 50 and ejection of the cleaning liquid nozzle 30 are synchronized, and the cleaning liquid nozzle 30 can reliably eject a cleaning liquid.

제1 전자 밸브(43) 및 제2 전자 밸브(44)를 오프로 한 후, CPU(9a)는 내장 타이머(T2)의 시간 측정을 개시한다(S10). CPU(9a)는 내장 타이머(T2)의 시간 측정이 소정 시간(예를 들어, 5초)에 도달하였는지 여부를 판정한다(S11). 내장 타이머(T2)의 시간 측정이 소정 시간에 도달한 경우(S11 : 예), CPU(9a)는 제2 전자 밸브(44)를 온으로 하여 세정 동작을 종료한다. 감압 밸브(38)는 닫힘으로 되어 저류부(50)를 밀폐한다. 세정액은 저류부(50)로 유입되지 않는다. 저류부(50)는 다음의 세정 동작까지 세정액의 저류 상태를 유지한다. CPU(9a)는 액면 센서(36)의 검출 결과에 기초하여 제2 전자 밸브(44)를 온으로 해도 좋다. 저류부(50)는 소정량의 세정액을 확실하게 저류할 수 있다.After turning off the 1st solenoid valve 43 and the 2nd solenoid valve 44, CPU9a starts time measurement of the built-in timer T2 (S10). The CPU 9a determines whether the time measurement of the built-in timer T2 has reached a predetermined time (for example, 5 seconds) (S11). When the time measurement of the built-in timer T2 reaches a predetermined time (S11: YES), the CPU 9a turns on the second solenoid valve 44 to end the cleaning operation. The pressure reducing valve 38 is closed to seal the reservoir 50. The cleaning liquid does not flow into the reservoir 50. The storage part 50 maintains the storage state of the cleaning liquid until the next cleaning operation. The CPU 9a may turn on the second solenoid valve 44 on the basis of the detection result of the liquid level sensor 36. The storage part 50 can reliably store a predetermined amount of washing liquid.

(제2 실시 형태)(2nd embodiment)

도 10, 도 11을 참조하여 제2 실시 형태의 공구 세정 장치에 대해 설명한다. 제2 실시 형태의 공구 세정 장치에 있어서, 저류부(50)는 세정액관(32) 도중에 개재 장착되어 있다. 세정액관(32)은 필터(33)와 저류부(50) 사이에 배치한 개폐 밸브(52)를 구비하고 있다. 개폐 밸브(52)는, 통상 시에는 폐쇄 위치에 있다. 폐쇄 위치에 있는 개폐 밸브(52)는, 세정액관(32) 내를 제1 냉각액관(31)을 향하는 세정액의 역류를 멈추게 한다.The tool cleaning apparatus of 2nd Embodiment is demonstrated with reference to FIG. 10, FIG. In the tool cleaning device of the second embodiment, the reservoir 50 is interposed in the middle of the cleaning liquid pipe 32. The washing | cleaning liquid pipe 32 is equipped with the opening-closing valve 52 arrange | positioned between the filter 33 and the storage part 50. As shown in FIG. The on-off valve 52 is normally in the closed position. The open / close valve 52 in the closed position stops the backflow of the cleaning liquid toward the first cooling liquid pipe 31 in the cleaning liquid pipe 32.

개폐 밸브(52)는 공기 유로(41)가 공급하는 공기압의 작용으로 개방 위치로 절환된다. 개방 위치로 된 개폐 밸브(52)는 저류부(50)를 향하는 세정액의 흐름을 허용한다. 공기 유로(41)는 그 도중에 제4 전자 밸브(57)를 구비하고 있다. 제4 전자 밸브(57)는, 통상 시에는 폐쇄 위치에 있다. 제4 전자 밸브(57)는 공기 유로(41) 내에 남은 공기를 소음부(57a)에서 음을 제거하여 방출한다. 제4 전자 밸브(57)는 제어부(9)가 부여하는 개방 지령에 따라서 개방 위치로 절환된다.The open / close valve 52 is switched to the open position by the action of the air pressure supplied from the air flow passage 41. The open / close valve 52 in the open position allows the flow of the cleaning liquid toward the reservoir 50. The air flow path 41 is provided with the 4th solenoid valve 57 in the middle. The fourth solenoid valve 57 is normally in the closed position. The fourth solenoid valve 57 removes sound remaining in the air flow passage 41 from the silencer 57a and discharges the sound. The fourth solenoid valve 57 is switched to the open position in accordance with the open command given by the control unit 9.

저류부(50)는 상부에 접속한 감압 통로(37)를 구비하고 있다. 감압 통로(37)는 가압 통로를 겸하고 있다. 감압 통로(37)는 그 도중의 제3 전자 밸브(55)를 갖고 있다. 제3 전자 밸브(55)는, 통상 시에는 감압 위치에 있다. 감압 통로(37)는 저류부(50) 내부의 압력을 가공실에 배출한다. 제3 전자 밸브(55)는 제어부(9)가 부여하는 동작 지령으로 가압 위치로 절환된다. 감압 통로(37)는 공기 유로(42)를 통해 공기압원(39)에 연결되는 가압 통로로 된다. 공기압원(39)으로부터 공급하는 공기는 저류부(50) 내를 가압한다.The storage part 50 is equipped with the pressure reduction passage 37 connected to the upper part. The decompression passage 37 also serves as a pressurization passage. The pressure reduction passage 37 has a third solenoid valve 55 in the middle thereof. The third solenoid valve 55 is normally in a reduced pressure position. The pressure reduction passage 37 discharges the pressure inside the reservoir 50 into the processing chamber. The 3rd solenoid valve 55 is switched to a pressurized position by the operation command which the control part 9 gives. The pressure reduction passage 37 is a pressure passage connected to the air pressure source 39 through the air flow passage 42. The air supplied from the air pressure source 39 pressurizes the inside of the reservoir 50.

저류부(50)는 플로트식 액면 센서(53)와 압력 스위치(54)를 구비하고 있다. 플로트식 액면 센서(53)는 센서 본체(53a)와 2개의 근접 스위치[제1 근접 스위치(53b) 및 제2 근접 스위치(53c)]를 갖고 있다. 센서 본체(53a)는 저류부(50) 내의 액면의 상승 및 하강에 따라서 상하 방향으로 이동한다. 근접 스위치(53b, 53c)는 센서 본체(53a)가 근접했을 때에 온으로 된다. 근접 스위치(53b, 53c)는 상하 방향으로 이격되어 배치되어 있다. 제어부(9)는 근접 스위치(53b)가 온으로 됨으로써 저류부(50) 내의 액면이 고위치에 있는 것을 인식한다. 제어부(9)는 근접 스위치(53c)가 온으로 됨으로써 저류부(50) 내의 액면이 저위치에 있는 것을 인식한다.The reservoir 50 has a float liquid level sensor 53 and a pressure switch 54. The float liquid level sensor 53 has a sensor main body 53a and two proximity switches (first proximity switch 53b and second proximity switch 53c). The sensor main body 53a moves up and down in accordance with the rise and fall of the liquid level in the reservoir 50. Proximity switches 53b and 53c are turned on when the sensor main body 53a is close. Proximity switches 53b and 53c are spaced apart in the up-down direction. The control part 9 recognizes that the liquid level in the storage part 50 is in a high position by turning on the proximity switch 53b. The control part 9 recognizes that the liquid level in the storage part 50 is in the low position by turning on the proximity switch 53c.

압력 스위치(54)는 저류부(50) 내의 압력이 소정압 이상일 때에 온 신호를 제어부(9)에 출력한다. 제어부(9)는 압력 스위치(54)가 온으로 됨으로써 저류부(50) 내가 가압 상태에 있는 것을 인식한다.The pressure switch 54 outputs an ON signal to the control part 9 when the pressure in the storage part 50 is more than predetermined pressure. The control part 9 recognizes that the inside of the storage part 50 is in a pressurized state by turning on the pressure switch 54. FIG.

제2 실시 형태의 공구 세정 장치는 이하의 수순(도 11 참조)으로 공구(20) 및 공구 홀더(21)의 세정을 실행한다. 도 11의 S21 내지 S23은 제1 실시 형태의 S1 내지 S3과 동일하다. 공기압이 정상이 아닌 경우(S22 : 아니오), CPU(9a)는 제1 전자 밸브(43), 제3 전자 밸브(55) 및 제4 전자 밸브(57)를 오프로 하여(S37), 세정 동작을 실행하지 않는다.In the tool cleaning device of the second embodiment, the tool 20 and the tool holder 21 are cleaned in the following procedure (see FIG. 11). S21 to S23 of FIG. 11 are the same as S1 to S3 of 1st Embodiment. When the air pressure is not normal (S22: No), the CPU 9a turns off the first solenoid valve 43, the third solenoid valve 55, and the fourth solenoid valve 57 (S37), and the cleaning operation is performed. Do not run.

공기압이 정상인 경우(S22 : 예), CPU(9a)는 제1 펌프(13)의 구동 상태를 판정한다(S23). 제1 펌프(13)가 비구동 상태인 경우(S23 : 아니오), CPU(9a)는 세정 동작을 실행하지 않는다.When the air pressure is normal (S22: YES), the CPU 9a determines the driving state of the first pump 13 (S23). When the first pump 13 is in the non-driven state (S23: No), the CPU 9a does not perform the cleaning operation.

제1 펌프(13)가 구동 상태인 경우(S23 : 예), CPU(9a)는 공구 교환 지령의 유무를 판정한다(S24). 공구 교환 지령이 없는 경우(S24 : 아니오), CPU(9a)는 세정 동작을 실행하지 않는다. 공구 교환 지령이 있는 경우(S24 : 예), CPU(9a)는 제1 전자 밸브(43) 및 제3 전자 밸브(55)를 온으로 하여 공구 교환 동작을 허가한다(S25). 제3 전자 밸브(55)는 가압 위치로 되어, 저류부(50) 내를 가압한다. 액 공급 밸브(35)는 동시에 열림으로 된다. 저류부(50) 내의 저류액은 액 공급 밸브(35)를 거쳐서 세정액 노즐(30)로부터 분출된다.When the first pump 13 is in a driving state (S23: YES), the CPU 9a determines the presence or absence of a tool change command (S24). If there is no tool change command (S24: No), the CPU 9a does not perform the cleaning operation. When there is a tool change command (S24: YES), the CPU 9a turns on the first solenoid valve 43 and the third solenoid valve 55 to permit a tool change operation (S25). The third solenoid valve 55 is in a pressurized position to pressurize the inside of the reservoir 50. The liquid supply valve 35 is opened at the same time. The storage liquid in the storage portion 50 is ejected from the cleaning liquid nozzle 30 via the liquid supply valve 35.

저류부(50) 내의 가압은 상기 저류부(50) 내의 저류액을 밀어낸다. 세정액은 세정액 노즐(30)로부터 강하게 분출된다. 세정액 노즐(30)은 저류부(50) 내의 저류액이 적어질 때까지, 또는 공구 교환이 완료될 때까지 세정액을 분출한다. 공구(20) 및 공구 홀더(21)는 세정액 노즐(30)로부터 강하게 분출되는 충분한 양의 세정액으로 양호하게 세정할 수 있다.Pressurization in the reservoir 50 pushes out the reservoir in the reservoir 50. The cleaning liquid is strongly ejected from the cleaning liquid nozzle 30. The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid until the storage liquid in the storage portion 50 decreases or until the tool change is completed. The tool 20 and the tool holder 21 can be cleaned well with a sufficient amount of the cleaning liquid that is strongly ejected from the cleaning liquid nozzle 30.

CPU(9a)는 압력 스위치(54)의 온, 오프를 판정한다(S26). 압력 스위치(54)가 온인 경우(S26 : 예), CPU(9a)는 제2 근접 스위치(53c)의 온, 오프를 판정한다(S27). 제2 근접 스위치(53c)가 오프인 경우(S27 : 아니오), CPU(9a)는 공구 교환이 완료되었는지 여부를 판정한다(S31). 공구 교환 중인 경우(S31 : 아니오), CPU(9a)는 처리를 S26으로 이행한다.The CPU 9a determines the on / off of the pressure switch 54 (S26). When the pressure switch 54 is on (S26: YES), the CPU 9a determines whether the second proximity switch 53c is on or off (S27). When the second proximity switch 53c is off (S27: No), the CPU 9a determines whether or not the tool change is completed (S31). In the case of tool change (S31: No), the CPU 9a shifts the processing to S26.

제2 근접 스위치(53c)가 온으로 된 경우(S27 : 예), 또는 공구 교환이 완료된 경우(S31 : 예), CPU(9a)는 제1 전자 밸브(43) 및 제3 전자 밸브(55)를 오프로 하고, 또한 제4 전자 밸브(57)를 온으로 한다(S28). 액 공급 밸브(35)는 닫힘으로 된다. 세정액 노즐(30)은 세정액의 분출을 정지한다. 공구(20) 및 공구 홀더(21)의 세정은 저류부(50) 내의 저류액량이 부족했거나, 또는 공구 교환이 완료된 것을 조건으로 하여 종료한다. 제3 전자 밸브(55)는 감압 위치로 되고, 또한 개폐 밸브(52)는 열림으로 된다. 저류부(50)는 세정액관(32) 내의 세정액을 저류한다. 저류부(50) 내의 저류액의 액면은 상승한다.When the second proximity switch 53c is turned on (S27: Yes), or when the tool change is completed (S31: Yes), the CPU 9a includes the first solenoid valve 43 and the third solenoid valve 55. Is turned off and the fourth solenoid valve 57 is turned on (S28). The liquid supply valve 35 is closed. The cleaning liquid nozzle 30 stops the ejection of the cleaning liquid. The cleaning of the tool 20 and the tool holder 21 ends on the condition that the amount of storage liquid in the reservoir 50 is insufficient or the tool change is completed. The third solenoid valve 55 is in the decompression position, and the on-off valve 52 is opened. The storage part 50 stores the cleaning liquid in the cleaning liquid pipe 32. The liquid level of the storage liquid in the storage part 50 rises.

CPU(9a)는 제1 근접 스위치(53b)의 온, 오프를 판정한다(S29). CPU(9a)는 제1 전자 밸브(43) 및 제3 전자 밸브(55)의 오프 및 제4 전자 밸브(57)의 온을, 제1 근접 스위치가 온으로 될(S29 : 예) 때까지 계속한다. 저류부(50)는 상기 저류부(50) 내의 액면이 고위치로 될 때까지 세정액을 저류한다. 저류부(50) 내의 액면이 고위치로 된 경우, CPU(9a)는 제3 전자 밸브(55)를 온으로 하고, 또한 제4 전자 밸브(57)를 오프로 한다(S30). 제3 전자 밸브(55)는 가압 위치로 된다. 액 공급 밸브(35) 및 개폐 밸브(52)는 닫힘으로 된다. 공기 유로(42) 내의 공기는 제3 전자 밸브(55)를 거쳐서 저류부(50) 내로 들어가, 상기 저류부(50) 내의 저류액을 가압한다.The CPU 9a determines whether the first proximity switch 53b is on or off (S29). The CPU 9a continues turning off the first solenoid valve 43 and the third solenoid valve 55 and turning on the fourth solenoid valve 57 until the first proximity switch is turned on (S29: YES). do. The reservoir 50 stores the cleaning liquid until the liquid level in the reservoir 50 reaches a high position. When the liquid level in the reservoir 50 reaches a high position, the CPU 9a turns on the third solenoid valve 55 and turns off the fourth solenoid valve 57 (S30). The third solenoid valve 55 is in a pressurized position. The liquid supply valve 35 and the opening / closing valve 52 are closed. Air in the air flow passage 42 enters the reservoir 50 through the third solenoid valve 55, and pressurizes the reservoir liquid in the reservoir 50.

CPU(9a)는 다음의 세정 동작 시까지 저류부(50) 내의 저류액을 가압한 상태로 대기한다. S25에서는, 저류부(50) 내는 가압 상태에 있다. 세정액 노즐(30)은 개시 직후로부터 강하게 세정액을 분출한다. 공구(20) 및 공구 홀더(21)는 높은 응답성으로 확실하게 세정할 수 있다.CPU 9a waits in the state which pressurized the storage liquid in the storage part 50 until the next washing | cleaning operation. In S25, the inside of the storage part 50 is in a pressurized state. The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid strongly from immediately after the start. The tool 20 and the tool holder 21 can be reliably cleaned with high responsiveness.

압력 스위치(54)가 오프인 경우(S26 : 아니오), CPU(9a)는 제1 전자 밸브(43) 및 제4 전자 밸브(57)를 오프로 하여(S32), 세정 동작을 실행하지 않는다. CPU(9a)는 처리를 S26으로 이행한다. 제3 전자 밸브(55)는 가압 위치를 계속하여 저류부(50) 내를 가압한다. 저류부(50)의 내압이 소정압에 도달한 경우, CPU(9a)는 S27로 처리를 이행한다.When the pressure switch 54 is off (S26: NO), the CPU 9a turns off the first solenoid valve 43 and the fourth solenoid valve 57 (S32), and does not perform the cleaning operation. The CPU 9a shifts the processing to S26. The third solenoid valve 55 continues to pressurize and pressurizes the inside of the storage part 50. When the internal pressure of the storage unit 50 reaches the predetermined pressure, the CPU 9a transfers the process to S27.

(제3 실시 형태)(Third embodiment)

도 12 내지 도 14를 참조하여 제3 실시 형태의 공구 세정 장치에 대해 설명한다. 도 12에 도시한 바와 같이, 제3 실시 형태의 공구 세정 장치는 2개의 저류부[제1 저류부(50a) 및 제2 저류부(50b)]를 구비하고 있다. 세정액관(32)은 2개의 분기관[제1 분기관(32a) 및 제2 분기관(32b)]으로 분기되어 있다. 제1 저류부(50a)는 제1 분기관(32a)에 접속되어 있다. 제2 저류부(50b)는 제2 분기관(32b)에 접속되어 있다.The tool cleaning apparatus of 3rd Embodiment is demonstrated with reference to FIGS. 12-14. As shown in FIG. 12, the tool cleaning apparatus of 3rd Embodiment is provided with two storage parts (1st storage part 50a and 2nd storage part 50b). The cleaning liquid pipe 32 branches into two branch pipes (the first branch pipe 32a and the second branch pipe 32b). The first reservoir 50a is connected to the first branch pipe 32a. The second reservoir 50b is connected to the second branch pipe 32b.

제1 분기관(32a)은 제1 저류부(50a)의 상류측에 제1 개폐 밸브(52)를 구비하고 있다. 제2 분기관(32b)은 제2 저류부(50b)의 상류측에 제2 개폐 밸브(62)를 구비하고 있다. 제1 개폐 밸브(52) 및 제2 개폐 밸브(62)는, 통상 시에는 폐쇄 위치에 있다. 폐쇄 위치에 있는 제1 개폐 밸브(52) 및 제2 개폐 밸브(62)는 제1 냉각액관(31)을 향하는 세정액의 역류를 멈추게 한다.The 1st branch pipe | tube 32a is equipped with the 1st opening / closing valve 52 in the upstream of the 1st storage part 50a. The 2nd branch pipe | tube 32b is equipped with the 2nd opening / closing valve 62 in the upstream of the 2nd storage part 50b. The 1st switching valve 52 and the 2nd switching valve 62 are normally in a closed position. The first opening / closing valve 52 and the second opening / closing valve 62 in the closed position stop the back flow of the cleaning liquid toward the first cooling liquid pipe 31.

제1 개폐 밸브(52) 및 제2 개폐 밸브(62)는 제어부(9)가 부여하는 개방 지령에 따라서 개방 위치로 절환된다. 개방 위치로 된 제1 개폐 밸브(52)는 제1 저류부(50a)를 향하는 세정액의 흐름을 허용한다. 개방 위치로 된 제2 개폐 밸브(62)는 제2 저류부(50b)를 향하는 세정액의 흐름을 허용한다.The first on-off valve 52 and the second on-off valve 62 are switched to the open position in accordance with an open command given by the control unit 9. The first open / close valve 52 in the open position allows the flow of the cleaning liquid toward the first reservoir 50a. The second open / close valve 62 in the open position allows the flow of the cleaning liquid toward the second reservoir 50b.

제1 저류부(50a)는 상부에 접속한 제1 감압 통로(37a)를 구비한다. 제2 저류부(50b)는 상부에 접속한 제2 감압 통로(37b)를 구비한다. 제1 감압 통로(37a) 및 제2 감압 통로(37b)는 가압 통로를 겸하고 있다.The 1st storage part 50a is equipped with the 1st pressure reduction passage 37a connected to the upper part. The 2nd storage part 50b is equipped with the 2nd pressure reduction passage 37b connected to the upper part. The first pressure reduction passage 37a and the second pressure reduction passage 37b also serve as pressurization passages.

제1 감압 통로(37a)는 그 도중에 제3 전자 밸브(55)를 갖고 있다. 제2 감압 통로(37b)는 그 도중에 제5 전자 밸브(66)를 갖고 있다. 제3 전자 밸브(55) 및 제5 전자 밸브(66)는, 통상 시에는 감압 위치에 있다. 제3 전자 밸브(55)가 감압 위치일 때, 제1 감압 통로(37a)는 제1 저류부(50a) 내부의 압력을 가공실에 배출한다. 제5 전자 밸브(66)가 감압 위치일 때, 제2 감압 통로(37b)는 제2 저류부(50b) 내부의 압력을 가공실에 배출한다.The 1st pressure reduction passage 37a has the 3rd solenoid valve 55 in the middle. The 2nd pressure reduction passage 37b has the 5th solenoid valve 66 in the middle. The third solenoid valve 55 and the fifth solenoid valve 66 are normally at a depressurized position. When the 3rd solenoid valve 55 is a pressure reduction position, the 1st pressure reduction passage 37a discharges the pressure inside the 1st storage part 50a to a process chamber. When the fifth solenoid valve 66 is in the decompression position, the second decompression passage 37b discharges the pressure inside the second reservoir 50b to the processing chamber.

제3 전자 밸브(55) 및 제5 전자 밸브(66)는 제어부(9)가 부여하는 절환 지령에 따라서 가압 위치로 절환된다. 이때, 제1 감압 통로(37a) 및 제2 감압 통로(37b)는 공기 유로(60)를 통해 공기압원(39)에 연결되는 가압 통로로 된다. 공기압원(39)의 공기압은 저류부(50) 내를 가압한다.The 3rd solenoid valve 55 and the 5th solenoid valve 66 are switched to a pressurized position according to the switching instruction which the control part 9 gives. At this time, the first pressure reduction passage 37a and the second pressure reduction passage 37b are pressurized passages connected to the air pressure source 39 through the air flow path 60. The air pressure of the air pressure source 39 pressurizes the inside of the reservoir 50.

제1 저류부(50a)는 제1 액면 센서(59)와 제1 압력 스위치(54a)를 구비하고 있다. 제2 저류부(50b)는 제2 액면 센서(65)와 제2 압력 스위치(54b)를 구비하고 있다. 제1 액면 센서(59) 및 제2 액면 센서(65)는 제2 실시 형태의 플로트식 액면 센서(53)와 동일하다. 제1 액면 센서(59)는 제1 저류부(50a) 내의 액면이 고위치 또는 저위치에 있는 것을 검출한다. 제2 액면 센서(65)는 제2 저류부(50b) 내의 액면이 고위치 또는 저위치에 있는 것을 검출한다. 제1 압력 스위치(54a)는 제1 저류부(50a)가 가압 상태에 있는 것을 검출한다. 제2 압력 스위치(54b)는 제2 저류부(50b)가 가압 상태에 있는 것을 검출한다.The 1st storage part 50a is equipped with the 1st liquid level sensor 59 and the 1st pressure switch 54a. The 2nd storage part 50b is equipped with the 2nd liquid level sensor 65 and the 2nd pressure switch 54b. The 1st liquid level sensor 59 and the 2nd liquid level sensor 65 are the same as the float type liquid level sensor 53 of 2nd Embodiment. The first liquid level sensor 59 detects that the liquid level in the first reservoir 50a is at a high position or a low position. The second liquid level sensor 65 detects that the liquid level in the second reservoir 50b is at the high position or the low position. The first pressure switch 54a detects that the first reservoir 50a is in a pressurized state. The second pressure switch 54b detects that the second reservoir 50b is in a pressurized state.

제1 저류부(50a)와 액 공급 밸브(35) 사이에는 제1 절환 밸브(58)가 배치되어 있다. 제2 저류부(50b)와 액 공급 밸브(35) 사이에는 제2 절환 밸브(64)가 배치되어 있다. 제1 절환 밸브(58) 및 제2 절환 밸브(64)는, 통상 시에는 폐쇄 위치에 있다. 폐쇄 위치에 있는 제1 절환 밸브(58)는 제1 저류부(50a)로부터의 세정액의 유출을 멈추게 한다. 폐쇄 위치에 있는 제2 절환 밸브(58)는 제2 저류부(50b)로부터의 세정액의 유출을 멈추게 한다.The first switching valve 58 is disposed between the first reservoir 50a and the liquid supply valve 35. The second switching valve 64 is disposed between the second reservoir 50b and the liquid supply valve 35. The 1st switching valve 58 and the 2nd switching valve 64 are normally in a closed position. The first switching valve 58 in the closed position stops the outflow of the cleaning liquid from the first reservoir 50a. The second switching valve 58 in the closed position stops the outflow of the cleaning liquid from the second reservoir 50b.

제1 절환 밸브(58) 및 제2 절환 밸브(64)는 제어부(9)의 개방 지령에 따라서 개방 위치로 절환된다. 개방 위치로 된 제1 절환 밸브(58)는 제1 저류부(50a) 내의 세정액을 액 공급 밸브(35)로 송출한다. 개방 위치로 된 제2 절환 밸브(64)는 제2 저류부(50b) 내의 세정액을 액 공급 밸브(35)로 송출한다. 세정액은 액 공급 밸브(35)가 열림으로 됨으로써 세정액 노즐(30)로부터 분출된다. 액 공급 밸브(35)는 제어부(9)의 개방 지령에 따라서 열림으로 된다.The first switching valve 58 and the second switching valve 64 are switched to the open position in accordance with the opening instruction of the control unit 9. The first switching valve 58 in the open position sends the cleaning liquid in the first reservoir 50a to the liquid supply valve 35. The second switching valve 64 in the open position delivers the cleaning liquid in the second reservoir 50b to the liquid supply valve 35. The cleaning liquid is ejected from the cleaning liquid nozzle 30 by opening the liquid supply valve 35. The liquid supply valve 35 is opened in accordance with the opening instruction of the control unit 9.

제3 실시 형태의 공구 세정 장치는 이하의 수순(도 13, 도 14에 도시함)으로 공구(20) 및 공구 홀더(21)의 세정을 실행한다. 도 13은 공작 기계(1)에 전원을 투입했을 때의 처리이다. 제어 장치(9)의 CPU(9a)는 각종 신호를 읽어들인다(S41). CPU(9a)는 공작 기계(1)가 기동할 때까지 대기한다(S42). 공작 기계(1)가 기동한 경우(S42 : 예), CPU(9a)는 제1 개폐 밸브(52) 및 제2 개폐 밸브(62)를 온으로 한다(S43). 제1 개폐 밸브(52) 및 제2 개폐 밸브(62)는 개방 위치로 된다.In the tool cleaning device of the third embodiment, the tool 20 and the tool holder 21 are cleaned in the following procedure (shown in FIGS. 13 and 14). 13 is a process when the power is supplied to the machine tool 1. The CPU 9a of the control device 9 reads various signals (S41). The CPU 9a waits until the machine tool 1 starts up (S42). When the machine tool 1 is started (S42: YES), the CPU 9a turns on the first on-off valve 52 and the second on-off valve 62 (S43). The first open / close valve 52 and the second open / close valve 62 are in an open position.

CPU(9a)는 제1 펌프(13)를 구동한다(S44). 세정액은 제1 저류부(50a) 및 제2 저류부(50b)로 유입된다. CPU(9a)는 제1 저류부(50a) 및 제2 저류부(50b) 내의 액면이 고위치에 있는지를 판정한다(S45). CPU(9a)는 액면이 고위치로 될(S45 : 예) 때까지, 제1 개폐 밸브(52) 및 제2 개폐 밸브(62)를 열림으로 한다. 세정액은 제1 개폐 밸브(52) 및 제2 개폐 밸브(62)를 거쳐서 제1 저류부(50a) 및 제2 저류부(50b)로 유입된다. 제1 저류부(50a) 및 제2 저류부(50b)는 세정액을 저류한다.The CPU 9a drives the first pump 13 (S44). The cleaning liquid flows into the first reservoir 50a and the second reservoir 50b. The CPU 9a determines whether the liquid level in the first storage part 50a and the second storage part 50b is at a high position (S45). The CPU 9a sets the first on-off valve 52 and the second on-off valve 62 to open until the liquid level is at a high position (S45: YES). The cleaning liquid flows into the first storage part 50a and the second storage part 50b via the first opening / closing valve 52 and the second opening / closing valve 62. The first reservoir 50a and the second reservoir 50b store the washing liquid.

제1 저류부(50a) 및 제2 저류부(50b) 내의 액면이 고위치로 된 경우(S45 : 예), CPU(9a)는 제1 개폐 밸브(52) 및 제2 개폐 밸브(62)를 오프로 하고, 또한 제3 전자 밸브(55) 및 제5 전자 밸브(66)를 온으로 한다(S46). 제1 개폐 밸브(52) 및 제2 개폐 밸브(62)는 폐쇄 위치로 된다. 제3 전자 밸브(55) 및 제5 전자 밸브(66)는 가압 위치로 된다. 공기압원(39)의 공기압은 저류부(50) 내의 저류액을 가압한다. CPU(9a)는 제1 압력 스위치(54a) 및 제2 압력 스위치(54b)의 온, 오프를 판정한다(S47). CPU(9a)는 제1 압력 스위치(54a) 및 제2 압력 스위치(54b)가 온으로 됨으로써 세정 준비를 완료한다. 제1 저류부(50a) 및 제2 저류부(50b)는 세정액을 고위치로 될 때까지 저류한다. 제1 저류부(50a) 및 제2 저류부(50b)는 저류액을 소정압으로 가압한다. 공작 기계(1)는 전원 투입 후, 제1 저류부(50a) 및 제2 저류부(50b) 내의 세정액이 고위치이고, 또한 소정압으로 가압한 상태(초기 상태)로 된다.When the liquid level in the 1st storage part 50a and the 2nd storage part 50b becomes high position (S45: Yes), CPU9a will open | release the 1st opening / closing valve 52 and the 2nd opening / closing valve 62. FIG. It turns off and turns on the 3rd solenoid valve 55 and the 5th solenoid valve 66 (S46). The first open / close valve 52 and the second open / close valve 62 are in the closed position. The third solenoid valve 55 and the fifth solenoid valve 66 are in a pressurized position. The air pressure of the air pressure source 39 pressurizes the storage liquid in the storage part 50. The CPU 9a determines whether the first pressure switch 54a and the second pressure switch 54b are turned on or off (S47). The CPU 9a completes the cleaning preparation by turning on the first pressure switch 54a and the second pressure switch 54b. The first reservoir 50a and the second reservoir 50b store the cleaning liquid until it reaches a high position. The first reservoir 50a and the second reservoir 50b pressurize the reservoir to a predetermined pressure. After the power supply is turned on, the machine tool 1 is in a state where the cleaning liquid in the first storage portion 50a and the second storage portion 50b is at a high position and pressurized to a predetermined pressure (initial state).

다음에, 도 14를 참조하여, 초기 상태 후의 수순에 대해 설명한다. CPU(9a)는 각종 신호를 읽어들인다(S51). CPU(9a)는 공기 유로(60) 내의 공기압이 정상인지 판정한다(S52). CPU(9a)는 제1 펌프(13)의 구동 상태를 판정한다(S53). 공기압이 정상이 아닌 경우(S52 : 아니오), CPU(9a)는 세정 동작을 실행하지 않는다. 제1 펌프(13)가 비구동 상태인 경우(S53 : 아니오), CPU(9a)는 세정 동작을 실행하지 않는다.Next, with reference to FIG. 14, the procedure after an initial state is demonstrated. The CPU 9a reads various signals (S51). The CPU 9a determines whether the air pressure in the air flow path 60 is normal (S52). The CPU 9a determines the driving state of the first pump 13 (S53). If the air pressure is not normal (S52: No), the CPU 9a does not perform the cleaning operation. When the first pump 13 is in the non-drive state (S53: No), the CPU 9a does not perform the cleaning operation.

공기압이 정상이고(S52 : 예), 또한 제1 펌프(13)가 구동 상태인 경우(S53 : 예), CPU(9a)는 공구 교환 지령의 유무를 판정한다(S54). 공구 교환 지령이 있던 경우(S54 : 예), CPU(9a)는 세정 동작을 개시한다.When the air pressure is normal (S52: Yes) and the first pump 13 is in the driving state (S53: Yes), the CPU 9a determines the presence or absence of a tool change command (S54). When there is a tool change command (S54: YES), the CPU 9a starts the cleaning operation.

CPU(9a)는 제1 액면 센서(59)가 저위치를 검출하고 있는지 여부를 판정한다(S55). 제1 액면 센서(59)가 저위치를 검출하고 있지 않은 경우(S55: 아니오), CPU(9a)는 제1 저류부(50a) 내의 세정액을 사용하여 세정을 실행한다.The CPU 9a determines whether the first liquid level sensor 59 has detected the low position (S55). When the first liquid level sensor 59 does not detect the low position (S55: No), the CPU 9a performs the cleaning using the cleaning liquid in the first storage part 50a.

CPU(9a)는 제1 절환 밸브(58)를 온으로 하고, 또한 제2 절환 밸브(64)를 오프로 하여 공구 교환 동작을 허가한다(S56). 제1 절환 밸브(58)는 개방 위치로 된다. 제2 절환 밸브(64)는 폐쇄 위치로 된다. CPU(9a)는 최초의 분출인지 여부를 판정한다(S57). 최초의 분출인 경우(S57 : 예), CPU(9a)는 분출 플래그를 온으로 한다(S66). CPU(9a)는 S60으로 처리를 이행하여, 액 공급 밸브(35)를 온으로 한다. 액 공급 밸브(35)는 개방 위치로 된다. 세정액 노즐(30)은 제1 저류부(50a) 내의 세정액을 분출한다. 제1 저류부(50a)는 가압 상태에 있다. 세정액 노즐(30)은 강하게 세정액을 분출한다.The CPU 9a turns on the first switching valve 58 and turns off the second switching valve 64 to permit the tool change operation (S56). The first switching valve 58 is in the open position. The second switching valve 64 is in the closed position. The CPU 9a determines whether or not it is the first jet (S57). In the case of the first jet (S57: Yes), the CPU 9a turns on the jet flag (S66). The CPU 9a shifts the process to S60 to turn on the liquid supply valve 35. The liquid supply valve 35 is in the open position. The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid in the first storage part 50a. The first reservoir 50a is in a pressurized state. The cleaning liquid nozzle 30 strongly ejects the cleaning liquid.

CPU(9a)는 분출 플래그의 온, 오프 상태에 기초하여 S57의 판정을 행한다. 최초의 분출이 아닌 경우(S57 : 아니오), CPU(9a)는 제3 전자 밸브(55)를 온으로 하고, 또한 제5 전자 밸브(66)를 오프로 한다(S58). 제3 전자 밸브(55)는 가압 위치로 된다. 제1 저류부(50a)는 그 내부를 소정압으로 가압한다. 제5 전자 밸브(66)는 감압 위치로 된다. 제2 저류부(50b)는 그 내부를 감압한다.The CPU 9a makes a determination of S57 based on the on and off states of the ejection flag. If it is not the first jet (S57: No), the CPU 9a turns on the third solenoid valve 55 and turns off the fifth solenoid valve 66 (S58). The third solenoid valve 55 is in a pressurized position. The first reservoir 50a pressurizes the inside to a predetermined pressure. The fifth solenoid valve 66 is in a depressurized position. The second reservoir 50b depressurizes the inside thereof.

CPU(9a)는 제1 개폐 밸브(52)를 오프로 하고, 또한 제2 개폐 밸브(62)를 온으로 한다(S59). 제1 개폐 밸브(52)는 폐쇄 위치로 된다. 제2 개폐 밸브(62)는 개방 위치로 된다. CPU(9a)는 액 공급 밸브(35)를 온으로 한다(S60). 액 공급 밸브(35)는 개방 위치로 된다. 세정액 노즐(30)은 제1 저류부(50a) 내의 세정액을 분출한다. 제1 저류부(50a)는 가압 상태에 있다. 세정액 노즐(30)은 강하게 세정액을 분출한다. 세정액은 공구(20) 및 공구 홀더(21)를 세정한다. 세정액관(32) 내의 세정액은 제2 분기관(32b)을 거쳐서 제2 저류부(50b)로 유입된다. 제2 저류부(50b)는 감압 상태에 있다. 제2 저류부(50b)는 유입되는 세정액을 저류한다.The CPU 9a turns off the first on-off valve 52 and turns on the second on-off valve 62 (S59). The first on-off valve 52 is in the closed position. The second open / close valve 62 is in the open position. The CPU 9a turns on the liquid supply valve 35 (S60). The liquid supply valve 35 is in the open position. The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid in the first storage part 50a. The first reservoir 50a is in a pressurized state. The cleaning liquid nozzle 30 strongly ejects the cleaning liquid. The cleaning liquid cleans the tool 20 and the tool holder 21. The cleaning liquid in the cleaning liquid pipe 32 flows into the second storage part 50b via the second branch pipe 32b. The second reservoir 50b is in a reduced pressure state. The second storage part 50b stores the cleaning liquid flowing in.

CPU(9a)는 공구 교환 완료를 판정한다(S61). 공구 교환 중인 경우(S61 : 아니오), CPU(9a)는 공구(20) 및 공구 홀더(21)의 세정을 계속한다. 공구 교환 완료인 경우(S61 : 예), CPU(9a)는 액 공급 밸브(35)를 오프로 한다. 액 공급 밸브(35)는 폐쇄 위치로 된다. 세정액 노즐(30)은 세정액의 분출을 정지한다.The CPU 9a determines tool replacement completion (S61). In the case of tool change (S61: NO), the CPU 9a continues the cleaning of the tool 20 and the tool holder 21. In the case of tool replacement completion (S61: YES), the CPU 9a turns off the liquid supply valve 35. The liquid supply valve 35 is in the closed position. The cleaning liquid nozzle 30 stops the ejection of the cleaning liquid.

CPU(9a)는 제2 액면 센서(65)가 고위치를 검출하고 있는지 여부를 판정한다(S63). CPU(9a)는 제2 액면 센서(65)가 고위치를 검출할 때까지 대기한다. 제2 액면 센서(65)가 고위치를 검출한 경우(S63 : 예), CPU(9a)는 제5 전자 밸브(66)를 온으로 하고, 또한 제2 개폐 밸브(62)를 오프로 한다(S64). 제5 전자 밸브(66)는 가압 위치로 된다. 제2 개폐 밸브(62)는 폐쇄 위치로 된다.The CPU 9a determines whether the second liquid level sensor 65 detects a high value (S63). The CPU 9a waits until the second liquid level sensor 65 detects the high value. When the second liquid level sensor 65 detects a high value (S63: YES), the CPU 9a turns on the fifth solenoid valve 66 and turns off the second on-off valve 62 ( S64). The fifth solenoid valve 66 is in a pressurized position. The second on-off valve 62 is in the closed position.

CPU(9a)는 제2 압력 스위치(54b)의 온, 오프를 판정한다(S65). CPU(9a)는 제2 압력 스위치(54b)가 온으로 됨(S65 : 예)으로써 세정 동작을 종료한다. 제2 저류부(50b)는 고위치로 될 때까지 세정액을 저류하고, 또한 상기 세정액을 소정압까지 가압한 상태로 된다.The CPU 9a determines whether the second pressure switch 54b is on or off (S65). The CPU 9a ends the cleaning operation by turning on the second pressure switch 54b (S65: YES). The second reservoir 50b stores the cleaning liquid until it reaches a high position, and the cleaning liquid is pressurized to a predetermined pressure.

제1 액면 센서(59)가 저위치를 검출하고 있는 경우(S55 : 예), CPU(9a)는 제2 저류부(50b) 내의 세정액을 사용하여 세정을 실행한다.When the first liquid level sensor 59 detects the low position (S55: YES), the CPU 9a performs cleaning using the cleaning liquid in the second storage part 50b.

CPU(9a)는 제1 절환 밸브(58)를 오프로 하고, 또한 제2 절환 밸브(64)를 온으로 하여 공구 교환 동작을 허가한다(S67). 제1 절환 밸브(58)는 폐쇄 위치로 된다. CPU(9a)는 제3 전자 밸브(55)를 오프로 하고, 또한 제5 전자 밸브(66)를 온으로 한다(S68). 제3 전자 밸브(55)는 감압 위치로 된다. 제1 저류부(50a)는 그 내부를 감압한다. 제5 전자 밸브(66)는 가압 위치로 된다. 제2 저류부(50b)는 그 내부를 가압한다.The CPU 9a turns off the first switching valve 58 and turns on the second switching valve 64 to permit the tool change operation (S67). The first switching valve 58 is in the closed position. The CPU 9a turns off the third solenoid valve 55 and turns on the fifth solenoid valve 66 (S68). The third solenoid valve 55 is in a depressurized position. The first reservoir 50a depressurizes the inside thereof. The fifth solenoid valve 66 is in a pressurized position. The second reservoir 50b presses the inside thereof.

CPU(9a)는 제1 개폐 밸브(52)를 온으로 하고, 또한 제2 개폐 밸브(62)를 오프로 한다(S69). 제1 개폐 밸브(52)는 개방 위치로 된다. 제2 개폐 밸브(62)는 폐쇄 위치로 된다. CPU(9a)는 액 공급 밸브(35)를 온으로 한다(S70). 액 공급 밸브(35)는 개방 위치로 된다. 세정액 노즐(30)은 제2 저류부(50b) 내의 세정액을 분출한다. 제2 저류부(50b)는 가압 상태에 있다. 세정액 노즐(30)은 강하게 세정액을 분출한다. 세정액은 공구(20) 및 공구 홀더(21)를 세정한다. 세정액관(32) 내의 세정액은 제1 분기관(32a)을 거쳐서 제1 저류부(50a)로 유입된다. 제1 저류부(50a)는 감압 상태에 있다. 제1 저류부(50a)는 유입되는 세정액을 저류한다.The CPU 9a turns on the first on-off valve 52 and turns off the second on-off valve 62 (S69). The first open / close valve 52 is in an open position. The second on-off valve 62 is in the closed position. The CPU 9a turns on the liquid supply valve 35 (S70). The liquid supply valve 35 is in the open position. The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid in the second storage part 50b. The second reservoir 50b is in a pressurized state. The cleaning liquid nozzle 30 strongly ejects the cleaning liquid. The cleaning liquid cleans the tool 20 and the tool holder 21. The cleaning liquid in the cleaning liquid pipe 32 flows into the first storage part 50a via the first branch pipe 32a. The first reservoir 50a is in a reduced pressure state. The first reservoir 50a stores the cleaning liquid flowing therein.

CPU(9a)는 공구 교환 완료를 판정한다(S71). 공구 교환 중인 경우(S71 : 아니오), CPU(9a)는 공구(20) 및 공구 홀더(21)의 세정을 계속한다. 공구 교환 완료인 경우(S71 : 예), CPU(9a)는 액 공급 밸브(35)를 오프로 한다. 액 공급 밸브(35)는 폐쇄 위치로 된다. 세정액 노즐(30)은 세정액의 분출을 정지한다.The CPU 9a determines tool replacement completion (S71). In the case of tool change (S71: NO), the CPU 9a continues the cleaning of the tool 20 and the tool holder 21. In the case of tool replacement completion (S71: YES), the CPU 9a turns off the liquid supply valve 35. The liquid supply valve 35 is in the closed position. The cleaning liquid nozzle 30 stops the ejection of the cleaning liquid.

CPU(9a)는 제1 액면 센서(59)가 고위치를 검출하고 있는지 여부를 판정한다(S73). CPU(9a)는 제1 액면 센서(59)가 고위치를 검출할 때까지 대기한다. 제1 액면 센서(59)가 고위치를 검출한 경우(S73 : 예), CPU(9a)는 제3 전자 밸브(55)를 온으로 하고, 또한 제1 개폐 밸브(52)를 오프로 한다(S74). 제3 전자 밸브(55)는 가압 위치로 된다. 제1 개폐 밸브(52)는 폐쇄 위치로 된다.The CPU 9a determines whether or not the first liquid level sensor 59 detects a high value (S73). The CPU 9a waits until the first liquid level sensor 59 detects a high value. When the first liquid level sensor 59 detects a high value (S73: YES), the CPU 9a turns on the third solenoid valve 55 and turns off the first on-off valve 52 ( S74). The third solenoid valve 55 is in a pressurized position. The first on-off valve 52 is in the closed position.

CPU(9a)는 제1 압력 스위치(54a)의 온, 오프를 판정한다(S75). CPU(9a)는 제1 압력 스위치(54a)가 온으로 됨(S75 : 예)으로써 세정 동작을 종료한다. 제1 저류부(50a)는 고위치로 될 때까지 세정액을 저류하고, 또한 상기 세정액을 소정압까지 가압한 상태로 된다.The CPU 9a determines whether the first pressure switch 54a is turned on or off (S75). The CPU 9a ends the cleaning operation by turning on the first pressure switch 54a (S75: YES). The first storage portion 50a stores the cleaning liquid until it reaches a high position, and the cleaning liquid is pressurized to a predetermined pressure.

제3 실시 형태의 공구 세정 장치는 제1 저류부(50a) 및 제2 저류부(50b)를 구비하고 있다. 세정액 노즐(30)은, 통상 시에는 제1 저류부(50a) 내의 세정액을 분출한다. 제1 저류부(50a) 내의 세정액이 부족한 경우, 세정액 노즐(30)은 세정액 공급 대기 중인 제2 저류부(50b) 내의 세정액을 분출한다. 제1 저류부(50a) 및 제2 저류부(50b)는 사용 시에 가압 상태에 있다. 세정액 노즐(30)은 세정액을 강하게 분출한다. 공구(20) 및 공구 홀더(21)는 높은 응답성으로 확실하게 세정할 수 있다.The tool cleaning device of the third embodiment includes a first storage portion 50a and a second storage portion 50b. The washing | cleaning liquid nozzle 30 blows off the washing | cleaning liquid in the 1st storage part 50a normally. When the cleaning liquid in the first storage part 50a is insufficient, the cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid in the second storage part 50b that is waiting to be supplied with the cleaning liquid. The first reservoir 50a and the second reservoir 50b are in a pressurized state at the time of use. The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid strongly. The tool 20 and the tool holder 21 can be reliably cleaned with high responsiveness.

제2 저류부(50b)는 제1 저류부(50a)의 사용 중에 세정액을 저류한다. 제1 저류부(50a)는 제2 저류부(50b)의 사용 중에 세정액을 저류하여 세정액 공급 대기 상태로 된다. 제3 실시 형태의 공구 세정 장치는 공구(20) 및 공구 홀더(21)의 세정을 단시간에 빈번하게 행하는 경우에도 대응할 수 있다.The second reservoir 50b stores the cleaning liquid during use of the first reservoir 50a. The 1st storage part 50a stores a washing | cleaning liquid during use of the 2nd storage part 50b, and becomes a washing | cleaning liquid supply standby state. The tool cleaning device of the third embodiment can cope with a case where the tool 20 and the tool holder 21 are frequently cleaned in a short time.

(제4 실시 형태)(4th embodiment)

도 15, 도 16을 참조하여 제4 실시 형태의 공구 세정 장치에 대해 설명한다. 제4 실시 형태의 공구 세정 장치는 제1 실시 형태의 공구 세정 장치와 유사하다. 이하의 설명은 제1 실시 형태와 동일한 부분을 생략하고 있다.The tool cleaning apparatus of 4th Embodiment is demonstrated with reference to FIG. 15, FIG. The tool cleaning device of the fourth embodiment is similar to the tool cleaning device of the first embodiment. In the following description, the same parts as in the first embodiment are omitted.

도 15에 도시한 바와 같이, 제4 실시 형태의 공구 세정 장치는 제6 전자 밸브(69)를 구비하고 있다. 가압 밸브(45)는 제6 전자 밸브(69)가 공급하는 공기압의 작용으로 가압 위치로 절환된다. 제6 전자 밸브(69)는 공기 유로(42)의 도중에 배치되어 있다. 제6 전자 밸브(69)는, 통상 시에는 폐쇄 위치에 있다. 제6 전자 밸브(69)는 제어부(9)가 부여하는 개방 지령에 따라서 개방 위치로 절환된다. 공기압원(39)은 제6 전자 밸브(69)가 열림으로 됨으로써, 공기 유로(42)를 거쳐서 가압 밸브(45)에 공기압을 공급한다.As shown in FIG. 15, the tool cleaning apparatus of 4th Embodiment is provided with the 6th solenoid valve 69. As shown in FIG. The pressure valve 45 is switched to the pressure position by the action of the air pressure supplied from the sixth solenoid valve 69. The sixth solenoid valve 69 is disposed in the middle of the air flow passage 42. The sixth solenoid valve 69 is normally in the closed position. The sixth solenoid valve 69 is switched to the open position in accordance with the open command given by the control unit 9. The air pressure source 39 supplies the air pressure to the pressure valve 45 via the air passage 42 by opening the sixth solenoid valve 69.

폐쇄 위치에 있는 제6 전자 밸브(69)는 상류측[가압 밸브(45)]의 공기 유로(42) 내에 남은 공기를 소음부(69a)에서 음을 제거하여 방출한다. 제1 전자 밸브(43)는 액 공급 밸브(35)만을 개폐한다.The sixth solenoid valve 69 in the closed position discharges air remaining in the air flow passage 42 on the upstream side (pressure valve 45) by removing sound from the silencer 69a. The first solenoid valve 43 opens and closes only the liquid supply valve 35.

제4 실시 형태의 공구 세정 장치는 세정액관(32)의 도중에 제3 절환 밸브(67)를 구비하고 있다. 역지 밸브(34)는 필터(33)의 상류측에 배치되어 있다. 제3 절환 밸브(67)는 역지 밸브(34)와 필터(33) 사이에 배치되어 있다.The tool cleaning device of the fourth embodiment includes a third switching valve 67 in the middle of the cleaning liquid pipe 32. The check valve 34 is arranged upstream of the filter 33. The third switching valve 67 is disposed between the check valve 34 and the filter 33.

제3 절환 밸브(67)는, 통상 시에는 제1 위치에 있다. 제1 위치에 있는 제3 절환 밸브(67)는 세정액관(32) 내의 유통을 차단하지 않는다. 세정액관(32) 내의 세정액은 제3 절환 밸브(67)를 통해 저류부(50) 내로 유입된다. 제3 절환 밸브(67)는 후술하는 공기 유로(71)와 접속되어 있다. 제3 절환 밸브(67)는 공기 유로(71)가 공급하는 공기압의 작용으로 제2 위치로 절환된다. 제2 위치에 있는 제3 절환 밸브(67)는 세정액관(32) 내의 유통을 차단한다. 세정액관(32)의 상류측[저류부(50)측]은 제3 절환 밸브(67)를 통해 회수조(12)에 연속한다.The third switching valve 67 is normally in the first position. The third switching valve 67 in the first position does not block the flow in the cleaning liquid pipe 32. The cleaning liquid in the cleaning liquid pipe 32 flows into the reservoir 50 through the third switching valve 67. The 3rd switching valve 67 is connected with the air flow path 71 mentioned later. The third switching valve 67 is switched to the second position by the action of the air pressure supplied from the air flow path 71. The third switching valve 67 in the second position blocks the flow in the cleaning liquid pipe 32. The upstream side (storage part 50 side) of the washing | cleaning liquid pipe 32 continues to the collection tank 12 via the 3rd switching valve 67. As shown in FIG.

공기 유로(71)는 공기 유로(42)의 도중에서 분기되어 있다. 공기 유로(71)는 제7 전자 밸브(72)에 접속되어 있다. 제7 전자 밸브(72)는, 통상 시에는 폐쇄 위치에 있다. 제7 전자 밸브(72)는 공기 유로(71) 내에 남은 공기를 소음부(72a)에서 음을 제거하여 방출한다. 제7 전자 밸브(72)는 제어부(9)가 부여하는 개방 지령에 따라서 개방 위치로 된다. 제7 전자 밸브(72)는 개방 위치로 됨으로써, 공기 유로(71)에 공기를 공급한다. 그로 인해, 제3 절환 밸브(67)는 제2 위치로 절환된다. 제3 절환 밸브(67)가 제2 위치로 절환됨으로써, 저류부(50) 내의 세정액은 세정액관(32) 내를 역류한다. 역류하는 세정액은 필터(33)를 통과하고, 제3 절환 밸브(67)를 거쳐서 회수조(12)로 복귀된다.The air flow path 71 is branched in the middle of the air flow path 42. The air flow path 71 is connected to the seventh solenoid valve 72. The seventh solenoid valve 72 is normally in the closed position. The seventh solenoid valve 72 removes the sound remaining in the air flow path 71 from the silencer 72a and discharges it. The seventh solenoid valve 72 is set to an open position in accordance with an open command given by the control unit 9. The seventh solenoid valve 72 is in an open position, thereby supplying air to the air flow path 71. Therefore, the third switching valve 67 is switched to the second position. As the third switching valve 67 is switched to the second position, the cleaning liquid in the reservoir 50 flows back into the cleaning liquid pipe 32. The washing liquid flowing back flows through the filter 33 and returns to the recovery tank 12 via the third switching valve 67.

제4 실시 형태의 공구 세정 장치에 있어서, 제어 장치(9)의 CPU(9a)는 이하의 수순(도 16 참조)으로 세정 동작을 실행한다. 도 16의 S81 내지 S83은 제1 실시 형태의 S1 내지 S3과 동일하다. 도 16의 S84는 제1 실시 형태의 S5와 동일하다.In the tool cleaning device of the fourth embodiment, the CPU 9a of the control device 9 performs the cleaning operation in the following procedure (see FIG. 16). S81 to S83 in FIG. 16 are the same as S1 to S3 in the first embodiment. S84 of FIG. 16 is the same as S5 of the first embodiment.

CPU(9a)는 공기압이 정상이고(S82 : 예), 제1 펌프(13)가 구동 상태에 있고(S83 : 예), 또한 공구 교환 지령이 있는(S84 : 예) 것을 조건으로 하여 세정 동작을 실행한다.The CPU 9a performs the cleaning operation on the condition that the air pressure is normal (S82: Yes), the first pump 13 is in a driving state (S83: Yes), and there is a tool change command (S84: Yes). Run

CPU(9a)는 제1 전자 밸브(43), 제2 전자 밸브(44) 및 제6 전자 밸브(69)를 온으로 하고, 또한 제7 전자 밸브(72)를 오프로 하여 공구 교환 동작을 허가한다(S85). 액 공급 밸브(35)는 열림으로 된다. 감압 밸브(38)는 닫힘으로 되고, 또한 가압 밸브(45)는 열림으로 된다. 저류부(50) 내는, 공기압의 공급으로 가압 상태로 된다. 저류부(50)는 공기압의 작용으로 저류액을 밀어낸다. 세정액은 액 공급 밸브(35)를 거쳐서 세정액 노즐(30)로부터 세정액을 분출한다. 세정액 노즐(30)은 세정액을 강하게 분출한다. 공구(20) 및 공구 홀더(21)를 양호하게 세정할 수 있다.The CPU 9a turns on the first solenoid valve 43, the second solenoid valve 44, and the sixth solenoid valve 69, and turns off the seventh solenoid valve 72 to permit tool change operation. (S85). The liquid supply valve 35 is opened. The pressure reducing valve 38 is closed and the pressure valve 45 is opened. The inside of the storage part 50 becomes a pressurized state by supply of air pressure. The reservoir 50 pushes the reservoir out under the action of air pressure. The cleaning liquid ejects the cleaning liquid from the cleaning liquid nozzle 30 via the liquid supply valve 35. The cleaning liquid nozzle 30 ejects the cleaning liquid strongly. The tool 20 and the tool holder 21 can be cleaned well.

CPU(9a)는 공구 교환 완료를 판정한다(S86). CPU(9a)는 공구 교환 중인 동안(S86: 아니오)은 대기한다. 공구 교환 완료인 경우(S86 : 예), CPU(9a)는 제1 전자 밸브(43)를 오프로 하고, 또한 제7 전자 밸브(72)를 온으로 한다(S87). 액 공급 밸브(35)는 닫힘으로 된다. 제3 절환 밸브(67)는 제2 위치로 절환된다. 저류부(50) 내의 세정액은 세정액관(32) 내를 역류하여, 제3 절환 밸브(67)를 거쳐서 회수조(12)로 복귀된다. 역류하는 세정액은 필터(33)를 통과한다. 세정액은 필터(33)가 제거한 이물질을 씻어내어 회수조(12)에 회수한다. 저류부(50) 내는 가압 상태에 있다. 세정액은 필터(33)를 강하게 통과하여 이물질을 확실하게 씻어낸다.The CPU 9a determines tool change completion (S86). The CPU 9a waits while the tool is being changed (S86: NO). When the tool change is completed (S86: YES), the CPU 9a turns off the first solenoid valve 43 and turns on the seventh solenoid valve 72 (S87). The liquid supply valve 35 is closed. The third switching valve 67 is switched to the second position. The washing liquid in the reservoir 50 flows back into the washing liquid tube 32 and returns to the recovery tank 12 via the third switching valve 67. The backwashing liquid passes through the filter 33. The cleaning liquid washes off the foreign matter removed by the filter 33 and recovers the recovered liquid 12. The inside of the reservoir 50 is in a pressurized state. The cleaning liquid passes strongly through the filter 33 to reliably wash away the foreign matter.

CPU(9a)는 내장 타이머(T3)의 시간 측정을 개시한다(S88). CPU(9a)는 내장 타이머(T3)의 시간 측정이 소정 시간(예를 들어, 1초)에 도달하였는지 여부를 판정한다(S89). 소정 시간에 도달한 경우(S89 : 예), CPU(9a)는 온 상태에 있는 전자 밸브[제6 전자 밸브(69), 제2 전자 밸브(44) 및 제7 전자 밸브(72)]를 오프로 한다(S90). 저류부(50) 내는 감압 상태로 된다. 제3 절환 밸브(67)는 제1 위치로 복귀된다. 세정액은 세정액관(32)을 거쳐서 저류부(50)로 유입된다. 저류부(50)는 세정액을 저류한다.The CPU 9a starts time measurement of the built-in timer T3 (S88). The CPU 9a determines whether the time measurement of the built-in timer T3 has reached a predetermined time (for example, 1 second) (S89). When the predetermined time is reached (S89: YES), the CPU 9a turns off the solenoid valves (sixth solenoid valve 69, second solenoid valve 44, and seventh solenoid valve 72) in the on state. (S90). The inside of the reservoir 50 is in a reduced pressure state. The third switching valve 67 is returned to the first position. The washing liquid flows into the reservoir 50 through the washing liquid pipe 32. The storage part 50 stores a washing | cleaning liquid.

CPU(9a)는 내장 타이머(T4)의 시간 측정을 개시한다(S91). CPU(9a)는 내장 타이머(T4)의 시간 측정이 소정 시간(예를 들어, 5초)에 도달하였는지 여부를 판정한다(S92). CPU(9a)는 제2 전자 밸브(44)를 온으로 하여 세정 동작을 종료한다(S93). 제2 전자 밸브(44)는 폐쇄 위치로 되어 저류부(50)를 밀폐한다. 저류부(50)는 5초간 유입되는 세정액을 저류한 후, 저류 상태를 유지한다.The CPU 9a starts time measurement of the built-in timer T4 (S91). The CPU 9a determines whether the time measurement of the built-in timer T4 has reached a predetermined time (for example, 5 seconds) (S92). The CPU 9a turns on the second solenoid valve 44 to end the cleaning operation (S93). The second solenoid valve 44 is in the closed position to seal the reservoir 50. The storage part 50 stores the washing | cleaning liquid which flows in for 5 second, and maintains a storage state.

(제5 실시 형태)(Fifth Embodiment)

도 17을 참조하여 제5 실시 형태의 공구 세정 장치에 대해 설명한다. 제5 실시 형태의 공구 세정 장치는 제4 실시 형태의 공구 세정 장치와 유사하다. 이하의 설명은 제4 실시 형태와 동일한 부분을 생략하고 있다.The tool cleaning apparatus of 5th Embodiment is demonstrated with reference to FIG. The tool cleaning device of the fifth embodiment is similar to the tool cleaning device of the fourth embodiment. In the following description, the same parts as in the fourth embodiment are omitted.

저류부(50)는 압력 스위치(54)를 구비하고 있다. 압력 스위치(54)는 저류부(50) 내가 소정 압력 이상일 때에 제어부(9)에 온 신호를 출력한다. 제어부(9)는 압력 스위치(54)가 온으로 됨으로써 저류부(50) 내가 가압 상태에 있는 것을 인식한다.The reservoir 50 has a pressure switch 54. The pressure switch 54 outputs an ON signal to the control part 9 when the inside of the storage part 50 is more than predetermined pressure. The control part 9 recognizes that the inside of the storage part 50 is in a pressurized state by turning on the pressure switch 54. FIG.

가압 밸브(45)는 제1 실시 형태와 마찬가지로, 공기 유로(46)가 공급하는 공기압의 작용으로 개방 위치로 절환된다. 공기 유로(42) 내의 공기는 가압 밸브(45)가 열림으로 되어 있는 동안에 저류부(50) 내로 유입된다. 저류부(50) 내의 압력은 공기 유로(42)를 거쳐서 유입되는 공기압의 작용으로 상승한다. 공기 유로(46)는 공기 유로(40)의 도중에서 분기되어 있다. 가압 밸브(45)는 액 공급 밸브(35)와 동시에 개방 위치로 절환된다.Like the first embodiment, the pressure valve 45 is switched to the open position by the action of the air pressure supplied by the air flow passage 46. Air in the air passage 42 flows into the reservoir 50 while the pressure valve 45 is opened. The pressure in the reservoir 50 rises under the action of the air pressure flowing through the air flow passage 42. The air flow passage 46 is branched in the middle of the air flow passage 40. The pressure valve 45 is switched to the open position at the same time as the liquid supply valve 35.

제5 실시 형태의 공구 세정 장치는 저류부(50) 내의 압력을 압력 스위치(54)로 감시한다. 제5 실시 형태의 공구 세정 장치는 세정액의 역류에 의한 필터(33)의 세정을, 저류부(50) 내의 압력에 기초하여 실시한다.The tool cleaning device of the fifth embodiment monitors the pressure in the reservoir 50 by the pressure switch 54. The tool cleaning device of the fifth embodiment performs the cleaning of the filter 33 due to the backflow of the cleaning liquid based on the pressure in the storage portion 50.

이상에 설명한 실시 형태를 부분적으로 변경한 변경 형태에 대해 설명한다.The changed form which partially changed embodiment described above is demonstrated.

(제1 변경 형태)(First change form)

도 18에 도시한 바와 같이, 저류부(50)는 그 내부에 피스톤(75)을 구비하고 있다. 피스톤(75)은 저류부(50) 내에서 저류액의 액면 상에 뜨고, 상기 액면과 함께 상승한다. 피스톤(75)은 그 외주에 실(seal)부(75a)를 구비하고 있다. 실부(75a)는 피스톤(75)의 상측과 하측을 액밀한 상태로 유지한다.As shown in FIG. 18, the storage part 50 is equipped with the piston 75 in its inside. The piston 75 floats on the liquid level of the storage liquid in the storage portion 50 and rises with the liquid surface. The piston 75 is provided with the seal part 75a in the outer periphery. The seal portion 75a keeps the upper side and the lower side of the piston 75 in a liquid tight state.

제3 전자 밸브(55)는 가압 위치로 됨으로써 저류부(50) 내에 공기압을 도입한다. 공기압은 피스톤(75)을 밀어 내려 저류액을 가압한다. 저류부(50) 내의 세정액은 공기와 접촉하지 않는다. 제1 변경 형태의 공구 세정 장치는 세정액에 공기가 혼입되는 것을 방지한다. 피스톤(75)은 기계적인 힘으로 밀어 내려도 좋다.The third solenoid valve 55 enters the pressurized position to introduce air pressure into the reservoir 50. The air pressure pushes the piston 75 down to pressurize the reservoir. The cleaning liquid in the reservoir 50 does not contact air. The tool cleaning device of the first modified form prevents air from entering the cleaning liquid. The piston 75 may be pushed down by mechanical force.

(제2 변경 형태)(Second modification form)

도 19에 도시한 바와 같이, 저류부(50)는 그 내부에 에어백(76)을 구비하고 있다. 에어백(76)은 탄성 변형 가능하다. 에어백(76)은 감압 통로(37)에 접속되어 있다. 감압 통로(37)는 제3 전자 밸브(55)가 가압 위치로 됨으로써 에어백(76) 내에 공기를 공급한다. 상기 에어백(76)은 저류부(50) 내에서 팽창하여, 저류액을 가압한다. 감압 통로(37)는 제3 전자 밸브(55)가 감압 위치로 됨으로써 에어백(76) 내를 감압한다. 상기 에어백(76)은 저류부(50) 내에서 축소한다. 저류부(50)는 세정액을 저류할 수 있다.As shown in FIG. 19, the storage part 50 is equipped with the airbag 76 inside. The airbag 76 is elastically deformable. The airbag 76 is connected to the decompression passage 37. The pressure reduction passage 37 supplies air into the airbag 76 by causing the third solenoid valve 55 to be in a pressurized position. The airbag 76 expands in the reservoir 50 to pressurize the reservoir. The decompression passage 37 depressurizes the inside of the airbag 76 by causing the third solenoid valve 55 to be in the decompression position. The airbag 76 shrinks in the reservoir 50. The storage part 50 can store a washing | cleaning liquid.

공기압은 에어백(76) 내에 공급한다. 저류부(50) 내의 세정액은 공기와 접촉하지 않는다. 제2 변경 형태의 공구 세정 장치는 세정액에 공기가 혼입되는 것을 방지한다. 에어백(76) 내에는 공기 이외의 기체를 공급해도 좋다. 에어 백(76) 내에는 액체를 공급해도 좋다.Air pressure is supplied into the airbag 76. The cleaning liquid in the reservoir 50 does not contact air. The tool cleaning device of the second modified form prevents air from entering the cleaning liquid. The airbag 76 may be supplied with gas other than air. Liquid may be supplied into the air bag 76.

(제3 변경 형태)(Third change form)

도 20에 도시한 바와 같이, 저류부(50)는 그 내부에 다이어프램(78)을 구비하고 있다. 다이어프램(78)은 저류부(50)를 상하 방향으로 분할한다. 다이어프램(78)은 탄성 변형 가능하다. 저류부(50)의 상부는 감압 통로(37)에 접속되어 있다. 감압 통로(37)는 제3 전자 밸브(55)가 가압 위치로 됨으로써 저류부(50) 내에 공기압을 도입한다. 공기압은 다이어프램(78) 상에 작용한다. 도 20에 실선으로 나타낸 바와 같이, 다이어프램(78)은 공기압의 작용으로 하향으로 팽창되어, 저류부(50) 내의 저류액을 가압한다. 감압 통로(37)는 제3 전자 밸브(55)가 감압 위치로 됨으로써 저류부(50) 내를 감압한다. 도 20에 2점 쇄선으로 나타낸 바와 같이, 다이어프램(78)은 저류부(50) 내에서 상향으로 팽창한다. 저류부(50)는 세정액을 저류할 수 있다.As shown in FIG. 20, the reservoir 50 has a diaphragm 78 therein. The diaphragm 78 divides the reservoir 50 in the vertical direction. The diaphragm 78 is elastically deformable. The upper portion of the reservoir 50 is connected to the decompression passage 37. The decompression passage 37 introduces air pressure into the reservoir 50 by bringing the third solenoid valve 55 into the pressurized position. Air pressure acts on the diaphragm 78. As shown by the solid line in FIG. 20, the diaphragm 78 expands downward by the action of air pressure, and pressurizes the storage liquid in the storage part 50. As shown in FIG. The decompression passage 37 depressurizes the inside of the storage part 50 by making the 3rd solenoid valve 55 into a decompression position. As indicated by the dashed-dotted line in FIG. 20, the diaphragm 78 expands upward in the reservoir 50. The storage part 50 can store a washing | cleaning liquid.

다이어프램(78)은 저류부(50) 내를 상하로 분할한다. 공기압은 다이어프램(78) 상에 작용한다. 저류부(50) 내의 세정액은 공기와 접촉하지 않는다. 제3 변경 형태의 공구 세정 장치는 세정액에 공기가 혼입되는 것을 방지한다. 저류부(50)의 상부에는 공기 이외의 기체를 공급해도 좋다. 저류부(50)의 상부에는 액체를 공급해도 좋다.The diaphragm 78 divides the inside of the reservoir 50 up and down. Air pressure acts on the diaphragm 78. The cleaning liquid in the reservoir 50 does not contact air. The tool cleaning device of the third modification prevents air from entering the cleaning liquid. Gas other than air may be supplied to the upper portion of the reservoir 50. Liquid may be supplied to the upper portion of the reservoir 50.

이상의 상세한 설명에 명백한 바와 같이 본 발명의 공구 세정 장치는, 세정액 탱크와 세정액 노즐을 연결하는 세정액 통로의 도중에 저류부를 구비한다. 저류부는 세정액 통로 내의 세정액을 일단 저류한다. 세정액 노즐은 저류부의 저류액을 분출한다. 저류부는 세정액 노즐이 분출을 중지하고 있는 동안에 세정액을 저류한다. 세정액 노즐은 저류부 내에 저류한 많은 세정액을 안정적으로 분출한다. 본 발명의 공구 세정 장치는 공구 및 공구 홀더를, 단시간에 확실하게 세정한다. 본 발명의 공구 세정 장치를 구비하는 공작 기계는 공구의 설치 불량이 발생하지 않는다.As apparent from the above detailed description, the tool cleaning device of the present invention includes a storage portion in the middle of a cleaning liquid passage connecting the cleaning liquid tank and the cleaning liquid nozzle. The storage part stores the cleaning liquid in the cleaning liquid passage once. The cleaning liquid nozzle ejects the storage liquid of the storage portion. The storage part stores the cleaning liquid while the cleaning liquid nozzle stops ejecting. The washing liquid nozzle stably ejects a large amount of washing liquid stored in the reservoir. The tool cleaning device of the present invention reliably cleans the tool and the tool holder in a short time. The machine tool provided with the tool cleaning device of the present invention does not cause a poor installation of the tool.

Claims (11)

세정액을 저류하는 탱크와, 세정액을 분출 가능한 세정액 노즐과, 상기 세정액 노즐과 상기 탱크를 접속하고 있고, 상기 탱크 내의 세정액을 상기 세정액 노즐에 공급하는 세정액 통로를 구비하고, 공작 기계의 주축에 장착하기 전의 공구를, 상기 세정액 통로를 거쳐서 상기 세정액 노즐로부터 분출되는 세정액으로 세정하는 공구 세정 장치에 있어서,
상기 세정액 통로 상에, 상기 세정액 통로 내를 흐르는 상기 세정액을 일단 저류하는 저류부를 구비하는 것을 특징으로 하는, 공구 세정 장치.
A tank for storing the cleaning liquid, a cleaning liquid nozzle capable of ejecting the cleaning liquid, a cleaning liquid passage connecting the cleaning liquid nozzle and the tank, and having a cleaning liquid passage for supplying the cleaning liquid in the tank to the cleaning liquid nozzle, are mounted on the main shaft of the machine tool. A tool cleaning apparatus for cleaning a previous tool with a cleaning liquid sprayed from the cleaning liquid nozzle via the cleaning liquid passage,
And a storage portion for storing the cleaning liquid flowing in the cleaning liquid passage once on the cleaning liquid passage.
제1항에 있어서, 상기 저류부와 상기 세정액 노즐 사이의 상기 세정액 통로 상에 상기 세정액 통로를 개폐하는 액 공급 밸브를 구비하는 것을 특징으로 하는, 공구 세정 장치.The tool cleaning device according to claim 1, further comprising a liquid supply valve for opening and closing the cleaning liquid passage on the cleaning liquid passage between the reservoir and the cleaning liquid nozzle. 제2항에 있어서, 상기 저류부에 접속한 가압 통로 및 감압 통로와, 상기 가압 통로를 개폐하는 가압 밸브와, 상기 감압 통로를 개폐하는 감압 밸브를 구비하는 것을 특징으로 하는, 공구 세정 장치.The tool cleaning device according to claim 2, further comprising: a pressure passage and a pressure reduction passage connected to the reservoir, a pressure valve for opening and closing the pressure passage, and a pressure reduction valve for opening and closing the pressure reduction passage. 제3항에 있어서, 상기 액 공급 밸브, 가압 밸브 및 감압 밸브를 개폐 제어하는 제어 장치를 구비하고, 상기 제어 장치는 상기 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 열림으로 하고, 또한 상기 감압 밸브를 닫힘으로 하여 상기 세정액 노즐에 세정액을 공급하는 세정 동작과, 상기 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 닫힘으로 하고, 또한 상기 감압 밸브를 열림으로 하여 상기 저류부에 세정액을 저류하는 저류 동작과, 상기 액 공급 밸브, 가압 밸브 및 감압 밸브를 닫힘으로 하여 대기하는 대기 동작을 실행하는 것을 특징으로 하는, 공구 세정 장치.4. The control apparatus according to claim 3, further comprising a control device for opening and closing the liquid supply valve, the pressure valve, and the pressure reducing valve, wherein the control device opens the liquid supply valve and the pressure valve, and closes the pressure reducing valve. A cleaning operation for supplying the cleaning liquid to the cleaning liquid nozzle, a storage operation for storing the cleaning liquid in the storage part by closing the liquid supply valve and the pressure valve and opening the pressure reducing valve, and the liquid supply valve and pressurization A tool cleaning device, characterized in that the standby operation is performed by closing the valve and the pressure reducing valve. 제3항에 있어서, 상기 액 공급 밸브, 가압 밸브 및 감압 밸브를 개폐 제어하는 제어 장치를 구비하고, 상기 제어 장치는 상기 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 열림으로 하고, 또한 상기 감압 밸브를 닫힘으로 하여 상기 세정액 노즐에 세정액을 공급하는 세정 동작과, 상기 액 공급 밸브 및 가압 밸브를 닫힘으로 하고, 또한 상기 감압 밸브를 열림으로 하여 상기 저류부에 세정액을 저류하는 저류 동작과, 상기 액 공급 밸브 및 감압 밸브를 닫힘으로 하고, 또한 상기 가압 밸브를 열림으로 하여 대기하는 대기 동작을 실행하는 것을 특징으로 하는, 공구 세정 장치.4. The control apparatus according to claim 3, further comprising a control device for opening and closing the liquid supply valve, the pressure valve, and the pressure reducing valve, wherein the control device opens the liquid supply valve and the pressure valve, and closes the pressure reducing valve. A cleaning operation for supplying the cleaning liquid to the cleaning liquid nozzle, a storage operation for storing the cleaning liquid in the storage part by closing the liquid supply valve and the pressurizing valve and opening the pressure reducing valve, and the liquid supply valve and the pressure reduction A tool cleaning device, characterized in that the valve is closed and the standby valve is opened to perform a standby operation of waiting. 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 저류부 내의 액량을 검출하는 액량 검출기를 더 구비하고, 상기 제어 장치는 상기 액량 검출기의 검출액량이 소정량에 도달할 때까지 상기 저류 동작을 실행하는 것을 특징으로 하는, 공구 세정 장치.The liquid level detector according to claim 4 or 5, further comprising a liquid level detector for detecting the liquid level in the storage unit, wherein the control device performs the storage operation until the detected liquid level of the liquid level detector reaches a predetermined amount. Characterized in that the tool cleaning device. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 탱크와 상기 저류부 사이의 상기 세정액 통로 상에 배치되어 있고, 상기 저류부로부터 상기 탱크를 향하는 세정액의 흐름을 멈추게 하는 역지 밸브를 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 공구 세정 장치.6. A check valve according to any one of claims 1 to 5, further comprising a check valve disposed on said cleaning liquid passage between said tank and said storage portion, for stopping the flow of the cleaning liquid from said storage portion to said tank. The tool cleaning apparatus characterized by the above-mentioned. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 탱크와 상기 저류부 사이의 상기 세정액 통로 상에 배치되어 있고, 상기 세정액 통로를 개폐하는 개폐 밸브를 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 공구 세정 장치.The tool cleaning according to any one of claims 1 to 5, further comprising: an opening / closing valve disposed on the cleaning liquid passage between the tank and the reservoir, and configured to open and close the cleaning liquid passage. Device. 제8항에 있어서, 상기 개폐 밸브는 세정액을 배출하는 절환 위치를 갖고, 상기 개폐 밸브와 상기 저류부 사이의 상기 세정액 통로 상에 배치한 필터를 구비하고, 상기 대기 동작 중에 상기 제어 장치는, 상기 개폐 밸브를 상기 절환 위치로 하고, 상기 저류부 내의 세정액을 상기 필터에 역방향으로 흘려, 상기 필터를 세정하는 필터 세정 동작을 실행하는 것을 특징으로 하는, 공구 세정 장치.The said on-off valve has a switching position which discharge | releases a washing | cleaning liquid, The filter is arrange | positioned on the said washing | cleaning liquid passage | path between the said opening-closing valve and the said storage part, The said control apparatus is a said, A tool cleaning device, characterized in that the on / off valve is in the switching position, and the cleaning liquid in the reservoir flows in the reverse direction to the filter to perform a filter cleaning operation for cleaning the filter. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 저류부는 병렬로 배치한 제1 저류부 및 제2 저류부를 구비하고 있고, 상기 세정액 노즐에 세정액을 공급 중인 상기 제1 저류부 또는 제2 저류부 내의 세정액량이 소정량 이하일 때, 상기 세정액 노즐로의 유로를 세정액 공급 대기 중인 상기 제2 저류부 또는 제1 저류부로 절환 가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는, 공구 세정 장치.The said storage part is a said 1st storage part or 2nd in any one of Claims 1-5 provided with the 1st storage part and the 2nd storage part arrange | positioned in parallel, and supplying a cleaning liquid to the said cleaning liquid nozzle. When the amount of the cleaning liquid in the storage portion is less than or equal to the predetermined amount, the flow path to the cleaning liquid nozzle can be switched to the second storage portion or the first storage portion that is waiting to be supplied with the cleaning liquid. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정액 노즐은 상기 주축을 지지하는 주축 헤드의 선단부에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는, 공구 세정 장치.The tool cleaning device according to any one of claims 1 to 5, wherein the cleaning liquid nozzle is disposed at a tip end of the main spindle head that supports the main shaft.
KR20100027352A 2009-03-27 2010-03-26 Tool cleaning equipment KR101161947B1 (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2009-078246 2009-03-27
JP2009078246 2009-03-27
JP2009157525 2009-07-02
JPJP-P-2009-157525 2009-07-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100108289A true KR20100108289A (en) 2010-10-06
KR101161947B1 KR101161947B1 (en) 2012-07-04

Family

ID=42769226

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20100027352A KR101161947B1 (en) 2009-03-27 2010-03-26 Tool cleaning equipment

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5482359B2 (en)
KR (1) KR101161947B1 (en)
CN (1) CN101844315B (en)
TW (1) TWI418417B (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101355347B1 (en) * 2012-04-17 2014-01-24 현대위아 주식회사 Supply apparatus of coolant for machine tool

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8920574B2 (en) 2011-10-21 2014-12-30 Ethicon, Inc. Instrument reprocessor and instrument reprocessing methods
JP6331474B2 (en) * 2014-02-28 2018-05-30 ブラザー工業株式会社 Machine tool cleaning fluid filtration device
FR3055227B1 (en) 2016-08-26 2020-11-06 Ridel PNEUMATIC WASHING / DRYING MACHINE
JP6602484B2 (en) * 2016-09-09 2019-11-06 株式会社牧野フライス製作所 Machine Tools
JP7035431B2 (en) * 2017-09-29 2022-03-15 ブラザー工業株式会社 Machine Tools
JP7031395B2 (en) * 2018-03-16 2022-03-08 ブラザー工業株式会社 Cleaning mechanism and cleaning method
CN113997108B (en) * 2021-11-26 2023-01-24 江苏益铨数控科技有限公司 Nested formula tool magazine of digit control machine tool
CN114850932A (en) * 2022-07-07 2022-08-05 泰州承逸智能装备科技有限公司 Quick tool changing numerical control machine tool convenient for tool changing

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6014660B2 (en) * 1978-02-27 1985-04-15 豊田工機株式会社 Coolant supply device
JPS56107863A (en) * 1980-01-30 1981-08-27 Nissan Motor Co Ltd Splash removal device
JPS5849097U (en) * 1981-09-30 1983-04-02 株式会社小松製作所 oil injection device
DE3521510A1 (en) * 1985-06-14 1986-12-18 Hanns-Heinz 8000 München Peltz DEVICE FOR RECIRCULATING LIQUID COOLANT
US6533927B1 (en) * 1999-11-17 2003-03-18 Sodick Co., Ltd. Liquid feeder for electrodischarge machining
DE10010157A1 (en) * 2000-03-03 2001-09-06 Grob Gmbh & Co Kg Swarf removing device from machine tools has guide surface that deflects liquid jet onto machine surface and that is movable to vary direction of incidence and hence deflection of jet
EP1154455A3 (en) * 2000-05-09 2003-12-03 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus for cleaning translucent tube for discharge lamp, and discharge lamp
JP2002273640A (en) * 2001-03-19 2002-09-25 Brother Ind Ltd Machine tool cleaning device, and machine tool
JP3861235B2 (en) * 2001-07-31 2006-12-20 ホーコス株式会社 Process liquid supply method and apparatus for machine tool
CN1259175C (en) * 2003-01-15 2006-06-14 报国株式会社 Method for supplying machine tool treating liquid and its device
JP2005059165A (en) * 2003-08-18 2005-03-10 Nippei Toyama Corp Cleaning device for tool holder engagement part of spindle device in machine tool
JP2005088133A (en) 2003-09-18 2005-04-07 Mori Seiki Co Ltd Machine tool
JP2005271088A (en) 2004-03-22 2005-10-06 Toyoda Mach Works Ltd Coolant supply device and method
JP4613624B2 (en) * 2005-02-01 2011-01-19 株式会社デンソー Coolant supply device
JP4704170B2 (en) * 2005-09-28 2011-06-15 富士重工業株式会社 Machining system
JP4700570B2 (en) * 2006-07-14 2011-06-15 株式会社新川 Bonding apparatus, bonding tool tip cleaning method and program
JP4912119B2 (en) * 2006-10-29 2012-04-11 フジビーシー技研株式会社 Cutting fluid supply device
DE102007016246B4 (en) * 2007-04-04 2019-02-21 Ecoclean Gmbh Method for providing a cleaning medium and method and cleaning device for cleaning a workpiece

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101355347B1 (en) * 2012-04-17 2014-01-24 현대위아 주식회사 Supply apparatus of coolant for machine tool

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011025398A (en) 2011-02-10
KR101161947B1 (en) 2012-07-04
CN101844315B (en) 2012-11-07
TWI418417B (en) 2013-12-11
TW201034764A (en) 2010-10-01
CN101844315A (en) 2010-09-29
JP5482359B2 (en) 2014-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101161947B1 (en) Tool cleaning equipment
US20040257409A1 (en) Refill station
JP6331474B2 (en) Machine tool cleaning fluid filtration device
JP5402668B2 (en) Tool cleaning equipment for machine tools
JP5321404B2 (en) Tool cleaning equipment for machine tools
JP5321412B2 (en) Tool cleaning equipment for machine tools
AU2003239105B2 (en) Refill station
JP4781036B2 (en) Shower coolant equipment
KR100644241B1 (en) Device for filtering chips in oil of cutting machine and there of method for washing a filter
KR101725829B1 (en) Supply device for cutting oil
JP5482219B2 (en) Tool cleaning equipment for machine tools
KR100314211B1 (en) Chip filter apparatus of cutting oil and method thereof
JP2015100859A (en) Tool cleaning device
JP4344419B2 (en) Coolant equipment for machine tools
JP6996105B2 (en) Cleaning equipment and cleaning method
KR100406286B1 (en) supply apparatus of coolant for machine tool
JP3943803B2 (en) Liquid injection device
JP2969322B2 (en) Cutting fluid supply device
KR200290823Y1 (en) lubrication recycling supplying apparatus
JP2006075967A (en) Treating liquid supplying device
JP2005088133A (en) Machine tool
JP2005066722A (en) Tool holder
KR20040094130A (en) Filtering apparatus for cutting oil

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160330

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170330

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180329

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190327

Year of fee payment: 8