KR20100103370A - Display uint - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A display unit is provided to improve the purity of color and reduce the spectrum width of extracted light by a multiple interference of light generated from a light emitting layer. CONSTITUTION: Organic electroluminescent elements and a pixel circuit are formed in pixels(11R, 11G, 11B). The pixel circuit is composed of sustain capacitances which are connected between a first transistor(T_WS), a second transistor(T_Dr), and the gate and the source of the second transistor. The first transistor records an image signal. Based on the recorded image signal, the second transistor drives the organic electroluminescent elements. Gate lines(WSL) are connected with the gate of the first transistor through contacts.

Description

표시 유닛{DISPLAY UINT}Display unit {DISPLAY UINT}

본 발명은, 유기 EL (electroluminescence) 소자를 구비하는 표시 유닛에 관한 것이다.The present invention relates to a display unit including an organic EL (electroluminescence) element.

근래, 화상 표시를 행하는 표시 유닛의 분야에서는, 픽셀의 발광 소자로서, 흐르는 전류치에 따라 발광 휘도가 변하는 전류 구동형의 광학 소자, 예를 들면 유기 EL 소자를 이용하는 표시 유닛이 개발되고, 상품화가 진행되고 있다(예를 들면, 일본 특개 2008-083272호 참조).In recent years, in the field of a display unit for performing image display, as a light emitting element of a pixel, a display unit using a current-driven optical element, for example, an organic EL element, whose light emission luminance changes in accordance with a flowing current value, has been developed, and commercialization proceeds. (For example, see Japanese Patent Laid-Open No. 2008-083272).

유기 EL 소자는, 액정 소자 등과 달리 자발 광소자이다. 그 때문에, 유기 EL 소자를 이용하는 표시 유닛(유기 EL 표시 유닛)에서는, 광원(백라이트)이 필요 없기 때문에, 광원을 필요로 하는 액정 표시 유닛과 비교하여 화상의 시인성이 높고, 소비 전력이 낮고, 또한 소자의 응답 속도가 빠르다.An organic EL element is a self-luminous element, unlike a liquid crystal element. Therefore, in the display unit (organic EL display unit) using the organic EL element, since no light source (backlight) is required, the visibility of the image is higher, the power consumption is lower, and the power consumption is lower than that of the liquid crystal display unit requiring the light source. The response speed of the device is fast.

유기 EL 표시 유닛에서는, 액정 표시 유닛과 마찬가지로 그 구동 방식으로서 단순(패시브) 매트릭스 방식과 액티브 매트릭스 방식이 있다. 전자는, 구조가 단순한 것이지만, 대형이면서 고정밀의 표시 유닛의 실현이 어려운 등의 문제가 있다. 그 때문에, 현재는, 액티브 매트릭스 방식의 개발이 번창하게 행해지고 있다. 이 방식은, 픽셀마다 배치한 발광 소자에 흐르는 전류를, 발광 소자마다 설치한 구동 회로 내에 설치한 능동 소자(일반적으로는 TFT(Thin Film Transistor; 박막 트랜지스터))에 의해 제어하는 것이다.In the organic EL display unit, similarly to the liquid crystal display unit, there are a simple (passive) matrix method and an active matrix system as its driving methods. Although the former has a simple structure, there is a problem that it is difficult to realize a large and high-precision display unit. Therefore, development of the active matrix system is prosperous at present. In this system, the current flowing through the light emitting elements arranged for each pixel is controlled by an active element (typically a thin film transistor (TFT)) provided in a driving circuit provided for each light emitting element.

도 15는, 일반적인 유기 EL 표시 유닛의 대략 구성을 나타낸 것이다. 도 15에 기재된 표시 유닛(100)은, 복수의 픽셀(120)이 매트릭스 모양으로 배치된 표시 유닛(110)와, 각 픽셀(120)을 구동하는 구동부(수평 구동 회로(130), 기록 주사 회로(140) 및 전원 주사 회로(150))를 구비하고 있다.15 shows a general configuration of a general organic EL display unit. The display unit 100 illustrated in FIG. 15 includes a display unit 110 in which a plurality of pixels 120 are arranged in a matrix, and a driver (horizontal drive circuit 130 and a write scan circuit) for driving each pixel 120. 140 and a power supply scanning circuit 150 are provided.

각 픽셀(120)은, 적색용의 픽셀(120R), 녹색용의 픽셀(120G) 및 청색용의 픽셀(120B)로 구성되어 있다. 픽셀(120R, 120G, 120B)은, 도 16, 도 17에 나타낸 것처럼, 유기 EL 소자(121)(유기 EL 소자(121R, 121G, 121B)) 및 그것에 접속된 픽셀 회로(122)에 의해 구성되어 있다. 또한, 도 16은, 픽셀(120R, 120G, 120B)의 회로 구성을 나타낸 것이다. 도 17은, 픽셀(120R, 120G, 120B)의 레이아웃을 나타낸 것이다.Each pixel 120 is comprised of the pixel 120R for red, the pixel 120G for green, and the pixel 120B for blue. The pixels 120R, 120G, and 120B are composed of an organic EL element 121 (organic EL elements 121R, 121G, 121B) and a pixel circuit 122 connected thereto as shown in Figs. 16 and 17. have. 16 illustrates a circuit configuration of the pixels 120R, 120G, and 120B. 17 shows the layout of the pixels 120R, 120G, and 120B.

픽셀 회로(122)는, 샘플링용의 트랜지스터(TWS), 유지 용량(Cs), 구동용의 트랜지스터(TDr)에 의해 구성된 것이고, 2Tr1C의 회로 구성으로 되어 있다. 기록 주사 회로(140)로부터 인출된 게이트선(WSL)이 행방향으로 연재되어 형성되어 있고, 콘택트(126A)를 통해 트랜지스터(TWS)의 게이트(123A)에 접속되어 있다. 전원 주사 회로(150)로부터 인출된 드레인선(DSL)도 행방향으로 연재되어 형성되어 있고, 인출 배선(128A)을 통해 트랜지스터(TDr)의 드레인(124C)에 접속되어 있다. 또한, 수평 구동 회로(130)로부터 인출된 신호선(DTL)은 열방향으로 연재되어 형성되어 있고, 콘택트(126B) 및 인출 배선(128B)을 통해 트랜지스터(TWS)의 드레인(123C)에 접속되어 있다. 트랜지스터(TWS)의 소스(123B)는, 콘택트(126C)를 통해 구동용의 트랜지스터(TDr)의 게이트(124A)와, 유지 용량(Cs)의 일단(단자(125A))에 접속되어 있다. 트랜지스터(TDr)의 소스(124B)와 유지 용량(Cs)의 타단(단자(125B))이, 콘택트(126D)를 통해 유기 EL 소자(121)의 아노드(127A)에 접속되어 있다. 유기 EL 소자(121)의 캐소드(127B)는, 외부 캐소드선(CTL)에 접속되어 있다.The pixel circuit 122 is composed of a sampling transistor T WS , a holding capacitor C s , and a driving transistor T Dr , and has a circuit structure of 2Tr1C. The gate line WSL drawn out from the write scan circuit 140 is extended in the row direction, and is connected to the gate 123A of the transistor T WS through the contact 126A. The drain line DSL drawn out from the power supply scanning circuit 150 is also extended in the row direction and is connected to the drain 124C of the transistor T Dr via the lead wiring 128A. The signal line DTL drawn out from the horizontal drive circuit 130 is extended in the column direction, and is connected to the drain 123C of the transistor T WS through the contact 126B and the lead wire 128B. have. The source 123B of the transistor T WS is connected to the gate 124A of the driving transistor T Dr and one end (terminal 125A) of the holding capacitor C s through the contact 126C. have. The source 124B of the transistor T Dr and the other end (terminal 125B) of the storage capacitor C s are connected to the anode 127A of the organic EL element 121 via the contact 126D. The cathode 127B of the organic EL element 121 is connected to the external cathode line CTL.

도 18은, 도 17의 A-A선을 따른 단면 구성의 일 예를 나타낸 것이다. 픽셀(120R, 120G, 120B)은, 도 17의 A-A선에 대응하는 부분에서, 기판(111) 위에, 게이트 절연막(112), 절연 보호막(113) 및 절연 평탄화막(114)을 갖고 있다. 기판(111)과 게이트 절연막(112) 사이에는, 게이트(124A)(단자(125A))와, 게이트(123A)가 형성되어 있다.18 shows an example of a cross-sectional configuration along the line A-A of FIG. The pixels 120R, 120G, and 120B have a gate insulating film 112, an insulating protective film 113, and an insulating planarization film 114 on the substrate 111 at a portion corresponding to the A-A line in FIG. 17. A gate 124A (terminal 125A) and a gate 123A are formed between the substrate 111 and the gate insulating film 112.

게이트 절연막(112)과 절연 보호막(113) 사이이며, 또한 게이트(124A)의 바로 위에는, 채널(131)과, 소스(132, 124B)와, 드레인(133, 124C)과, 보호막(134)이 형성되어 있다. 채널(131)은 게이트 절연막(112) 중 게이트(124A)의 바로 위에 접하여 형성되어 있다. 또한, 게이트 절연막(112)과 절연 보호막(113) 사이이며, 또한 게이트(123A)의 바로 위에는, 채널(135)과, 드레인(136, 123C)과, 소스(137, 123B)와, 보호막(138)이 형성되어 있다.Between the gate insulating film 112 and the insulating protective film 113, and directly above the gate 124A, the channel 131, the sources 132 and 124B, the drains 133 and 124C, and the protective film 134 are provided. Formed. The channel 131 is formed in direct contact with the gate 124A of the gate insulating layer 112. In addition, between the gate insulating film 112 and the insulating protective film 113, and directly above the gate 123A, the channel 135, the drains 136 and 123C, the sources 137 and 123B, and the protective film 138. ) Is formed.

절연 평탄화막(114) 위에는, 유기 EL 소자(121)가 형성되어 있다. 유기 EL 소자(121)는, 예를 들면, 아노드(127A), 유기층(127C) 및 캐소드(127B)가 기판(111) 측에서 순서대로 적층된 구조로 되어 있다. 아노드(127A)와 동일한 면내에는, 아노드(127A)와 소정의 간극을 사이에 두고 캐소드 보조 배선(117)이 마련되어 있고, 아노드(127A)와 캐소드 보조 배선(117) 사이에는 개구(117A)가 존재하고 있다.The organic EL element 121 is formed on the insulating planarization film 114. The organic EL element 121 has a structure in which, for example, the anode 127A, the organic layer 127C, and the cathode 127B are sequentially stacked on the substrate 111 side. In the same plane as the anode 127A, a cathode auxiliary wiring 117 is provided between the anode 127A and a predetermined gap therebetween, and an opening (between the anode 127A and the cathode auxiliary wiring 117) is provided. 117A) exists.

유기 EL 소자(121)는, 예를 들면, 도 18에 나타낸 것처럼, 아노드(127A), 유기층(127C) 및 캐소드(127B)가 기판(111) 측에서 순서대로 적층된 구조로 되어 있다. 아노드(127A)는 반사층으로서의 기능을 갖고 있고, 캐소드(127B)는 반투과성 반사층으로서의 기능을 갖고 있다. 이들 아노드(127A)와 캐소드(127B)는, 유기층(127C)에 포함된 발광층(도시하지 않음)에서 발생한 빛을 공진시키는 공진기 구조를 구성한다. 즉, 아노드(127A)의 유기층(127C) 측의 표면과, 캐소드(127B)의 유기층(127C) 측의 표면이 한 쌍의 반사경을 구성하고, 발광층에서 발생한 빛이 이 한 쌍의 반사경에 의해 공진하고, 캐소드(127B) 측에서 취출되다. 이것에 의해, 발광층에서 발생한 빛이 다중 간섭을 일으키고, 공진기 구조가 일종의 협대역 필터로서 작용하는 것에 의해, 취출된 빛의 스펙트럼의 반값폭이 감소하고, 색 순도가 향상한다.For example, as shown in FIG. 18, the organic EL element 121 has a structure in which the anode 127A, the organic layer 127C, and the cathode 127B are stacked in order on the substrate 111 side. The anode 127A has a function as a reflective layer, and the cathode 127B has a function as a semi-transmissive reflective layer. These anodes 127A and cathode 127B constitute a resonator structure for resonating light generated in a light emitting layer (not shown) included in the organic layer 127C. That is, the surface of the organic layer 127C side of the anode 127A and the surface of the organic layer 127C side of the cathode 127B constitute a pair of reflecting mirrors, and the light generated in the light emitting layer is generated by the pair of reflecting mirrors. It resonates and is taken out at the cathode 127B side. As a result, the light generated in the light emitting layer causes multiple interference, and the resonator structure acts as a kind of narrow-band filter, whereby the half value width of the spectrum of the extracted light is reduced and color purity is improved.

유기 EL 소자(121)의 아노드(127A)와 동일면 내에는, 개구 규정 절연막(115)이 형성되어 있고, 유기 EL 소자(121) 위에는 절연 보호막(116)이 형성되어 있다. 개구 규정 절연막(115)은, 아노드(127A)에 대응하는 개구(EL 개구부(115A))를 갖고 있다. EL 개구부(115A)는, 아노드(127A)의 상면과의 대향 영역의 일부에 형성되어 있고, 개구 규정 절연막(115)이, 아노드(127A)의 외연(주연)을 덮고 있다. 즉, EL 개구부(115A)의 바닥면에는, 아노드(127A)의 상면의 일부만이 노출하고 있고, 유기층(127B)은, 아노드(127A)의 상면중 EL 개구부(115A)의 바닥면에 노출하고 있는 부분과 접하고 있다.An opening defining insulating film 115 is formed in the same plane as the anode 127A of the organic EL element 121, and an insulating protective film 116 is formed on the organic EL element 121. The opening defining insulating film 115 has an opening (EL opening 115A) corresponding to the anode 127A. The EL opening 115A is formed in a part of the region facing the upper surface of the anode 127A, and the opening defining insulating film 115 covers the outer edge (peripheral) of the anode 127A. That is, only a part of the top surface of the anode 127A is exposed on the bottom surface of the EL opening 115A, and the organic layer 127B is exposed on the bottom surface of the EL opening 115A of the top surface of the anode 127A. We are in contact with part that we do.

아노드(127A)와 동일면 내에서, 아노드(127A)의 주위에는, 아노드(127A)를 둘러싸는 캐소드 보조 배선(117)이 형성되어 있다. 캐소드 보조 배선(117)은, 캐소드(127B)의 면내 전위 분포를 균일화하기 위해 설치된 것이고, 캐소드(127B)와 전기적으로 접속되어 있다. 또한, 캐소드 보조 배선(117)은, 아노드(127A)와 소정의 간극을 사이에 두고 배치되어 있고, 아노드(127A)와의 사이에 개구(117A)가 존재하고 있다. 따라서, 캐소드 보조 배선(117)은, 아노드(127A)에 대하여 절연성을 유지하고 있다.The cathode auxiliary wiring 117 surrounding the anode 127A is formed around the anode 127A within the same plane as the anode 127A. The cathode auxiliary wiring 117 is provided to uniformize the in-plane potential distribution of the cathode 127B, and is electrically connected to the cathode 127B. The cathode auxiliary wiring 117 is disposed with the anode 127A and a predetermined gap therebetween, and an opening 117A is present between the anode 127A. Therefore, the cathode auxiliary wiring 117 maintains insulation with respect to the anode 127A.

여기에서, 도 18에 나타낸 것처럼, 발광층에서 발생한 빛 중 일부의 빛(L)은 캐소드(127B) 측에서 출력되지 않고, 인접한 픽셀로 새기 시작한다. 이 새기 시작한 빛(L)이, 인접한 픽셀 내의 트랜지스터(TDr, TWS)의 채널(131)에 입사하는 경우에는, 빛 리크 전류가 증가하는 등, 픽셀 회로(122)의 오동작의 원인으로 된다.Here, as shown in FIG. 18, light L of some of the light generated in the light emitting layer is not output from the cathode 127B side, and starts leaking to adjacent pixels. When the light L which starts to leak enters the channel 131 of the transistors T Dr and T WS in adjacent pixels, the light leakage current increases, which causes malfunction of the pixel circuit 122. .

특히, 채널(131)에 파장이 짧은 청색광이 입사하면, 시간의 경과와 함께 게이트의 반응을 일으키는 최소의 물리량 전압(Vth)이 시프트하는 등, TFT 특성이 변동하고, TFT의 장기 신뢰성이 저하되어 버리는 문제가 있다. 채널(131)이 무정형 실리콘(a-Si) 또는 미결정 Si(μ-Si)를 포함하는 경우에는, TFT의 장기 신뢰성의 저하가 현저해진다.In particular, when blue light having a short wavelength enters the channel 131, the TFT characteristics change, such as the minimum physical quantity voltage Vth, which causes the gate reaction to shift with time, and the long-term reliability of the TFT is deteriorated. There is a problem. When the channel 131 contains amorphous silicon (a-Si) or microcrystalline Si (μ-Si), the deterioration of the long-term reliability of the TFT becomes remarkable.

예를 들면, 도 19에 나타낸 것처럼, 하나의 픽셀(120)에 포함된 픽셀(120B)은, 그 픽셀(120)에 포함된 픽셀(120G)과, 그 픽셀(120)에 인접한 다른 픽셀(120)에 포함된 픽셀(120R) 사이에 배치된다. 이 경우에는, 픽셀(120B)의 유기층(127C)으로부터 새어 나온 청색의 빛(L)이 픽셀(120G) 내의 트랜지스터(TDr)와, 픽셀(120R) 내의 트랜지스터(TWS)에 입사하고, 트랜지스터(TDr, TWS)의 장기 신뢰성이 저하되는 문제가 있다.For example, as shown in FIG. 19, a pixel 120B included in one pixel 120 includes a pixel 120G included in the pixel 120 and another pixel 120 adjacent to the pixel 120. Is disposed between the pixels 120R included in. In this case, blue light L leaking from the organic layer 127C of the pixel 120B is incident on the transistor T Dr in the pixel 120G and the transistor T WS in the pixel 120R, and the transistor There is a problem that the long-term reliability of (T Dr , T WS ) is deteriorated.

본 발명은 상기의 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은, 트랜지스터 장기 신뢰성의 저하를 절감하는 것이 가능한 표시 유닛을 제공하는 것에 있다.This invention is made | formed in view of the said problem, and the objective is to provide the display unit which can reduce the fall of transistor long-term reliability.

본 발명의 표시 유닛은, 발광색이 서로 다른 복수의 유기 EL 소자와, 유기 EL 소자마다 1개씩 설치된 복수의 픽셀 회로를 픽셀마다 가지는 표시 유닛을 구비한 것이다. 픽셀 회로는, 영상 신호를 기록하는 기록용의 제 1의 트랜지스터와, 제 1의 트랜지스터에 의해 기록된 영상 신호에 근거하여 유기 EL 소자를 구동하는 구동용의 제 2의 트랜지스터와, 유지 용량을 갖고 있다. 제 1의 트랜지스터 및 제 2의 트랜지스터 중, 제 1의 유기 EL 소자에 인접한 제 2의 유기 EL 소자에 대응하여 설치된 제 3의 트랜지스터는, 제 2의 유기 EL 소자에 대응하여 설치된 제 1의 유지 용량과 비교하여, 제 1의 유기 EL 소자로부터 떨어져 배치되어 있다.The display unit of the present invention includes a plurality of organic EL elements having different emission colors and a display unit having a plurality of pixel circuits each provided with one pixel for each organic EL element. The pixel circuit has a first transistor for recording for recording a video signal, a second transistor for driving for driving an organic EL element based on a video signal recorded by the first transistor, and a storage capacitor. have. Among the first transistors and the second transistors, the third transistor provided in correspondence with the second organic EL element adjacent to the first organic EL element is the first holding capacitor provided in correspondence with the second organic EL element. In comparison with this, it is disposed away from the first organic EL element.

본 발명의 표시 유닛에서는, 제 1의 유기 EL 소자에 인접한 제 2의 유기 EL 소자에 대응하여 설치된 제 3의 트랜지스터가, 제 2의 유기 EL 소자에 대응하여 설치된 제 1의 유지 용량과 비교하여, 제 1의 유기 EL 소자로부터 떨어져 배치되어 있다. 그 때문에, 제 3의 트랜지스터의, 제 1의 유기 EL 소자까지의 거리(A)가 제 1의 유지 용량의, 제 1의 유기 EL 소자까지의 거리(B)보다도 가까운 경우와 비교하여, 제 1의 유기 EL 소자내의 유기층으로부터 새어 나온 빛의, 제 3의 트랜지스터로의 입사량이 적다.In the display unit of the present invention, the third transistor provided in correspondence with the second organic EL element adjacent to the first organic EL element is compared with the first holding capacitor provided in correspondence with the second organic EL element, It is arrange | positioned away from the 1st organic electroluminescent element. Therefore, compared with the case where the distance A to a 1st organic electroluminescent element of a 3rd transistor is closer than the distance B to a 1st organic electroluminescent element of a 1st storage capacitance, it is 1st. The amount of light leaking from the organic layer in the organic EL element into the third transistor is small.

본 발명의 표시 유닛에 의하면, 상기의 거리(A)가 상기의 거리(B)보다도 가까운 경우와 비교하여, 제 1의 유기 EL 소자내의 유기층으로부터 새어 나온 빛의, 제 3의 트랜지스터로의 입사량이 적어진다. 이것에 의해, 제 1의 유기 EL 소자가 제 1의 트랜지스터 및 제 2의 트랜지스터를 열화시킬 수 있는 빛을 발생하는 유기층을 갖고 있는 경우에, 제 3의 트랜지스터의 장기 신뢰성의 저하를 절감할 수 있다.According to the display unit of the present invention, the incident amount of light leaking from the organic layer in the first organic EL element into the third transistor is compared with the case where the distance A is closer than the distance B. Less. Thereby, when the 1st organic electroluminescent element has the organic layer which produces the light which can deteriorate a 1st transistor and a 2nd transistor, the fall of the long-term reliability of a 3rd transistor can be reduced. .

본 발명의 다른 목적, 특징 및 이점은 첨부된 도면과 연계한 하기의 설명으로부터 더욱 명확해질 것이다.Other objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following description taken in conjunction with the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 한 실시의 형태에 관한 표시 유닛의 개략도.
도 2는 도 1의 픽셀의 회로도.
도 3은 도 1의 적색용의 픽셀의 레이아웃도.
도 4는 도 1의 청색용 및 녹색용의 픽셀의 레이아웃도.
도 5는 도 1의 픽셀의 레이아웃도.
도 6은 도 3의 픽셀의 A-A선을 따른 단면도.
도 7은 도 3의 픽셀의 B-B선을 따른 단면도.
도 8은 도 1의 픽셀의 V-I 특성을 나타내는 특성도.
도 9는 상기 각 실시의 형태의 표시 유닛을 포함하는 모듈의 대략 구성을 나타내는 평면도.
도 10은 상기 실시의 형태의 표시 유닛의 적용예1의 외관을 나타내는 사시도.
도 11의 A는 적용예2의 바깥쪽에서 본 외관을 나타내는 사시도, B는 이면에서 본 외관을 나타내는 사시도.
도 12는 적용예3의 외관을 나타내는 사시도.
도 13은 적용예4의 외관을 나타내는 사시도.
도 14의 A는 적용예5가 열린 상태의 정면도, B는 그 측면도, C는 닫힌 상태의 정면도, D는 좌측면도, E는 우측면도, F는 상면도, (G)는 하면도.
도 15는 종래의 표시 유닛의 개략도.
도 16은 도 15의 픽셀의 회로도.
도 17은 도 15의 픽셀의 레이아웃도.
도 18은 도 17의 픽셀의 A-A선을 따른 단면도.
도 19는 도 15의 픽셀의 레이아웃도.
1 is a schematic diagram of a display unit according to an embodiment of the present invention.
2 is a circuit diagram of the pixel of FIG.
3 is a layout diagram of pixels of red color in FIG. 1;
4 is a layout diagram of pixels for blue and green in FIG. 1;
5 is a layout diagram of pixels of FIG. 1;
FIG. 6 is a cross-sectional view along line AA of the pixel of FIG. 3; FIG.
7 is a cross-sectional view along the line BB of the pixel of FIG. 3;
8 is a characteristic diagram showing the VI characteristic of the pixel of FIG.
Fig. 9 is a plan view showing a rough configuration of a module including display units of the above embodiments.
10 is a perspective view showing an appearance of an application example 1 of a display unit according to the embodiment;
Fig. 11A is a perspective view showing the appearance as seen from the outside of Application Example 2, and B is a perspective view showing the appearance as seen from the back side.
12 is a perspective view showing the appearance of Application Example 3. FIG.
Fig. 13 is a perspective view showing the appearance of Application Example 4.
14A is a front view of an application example 5 in an open state, B is a side view thereof, C is a front view thereof in a closed state, D is a left side view, E is a right side view, F is a top view, and (G) is a bottom view.
15 is a schematic view of a conventional display unit.
16 is a circuit diagram of a pixel of FIG. 15.
17 is a layout diagram of pixels of FIG. 15;
18 is a cross-sectional view along the AA line of the pixel of FIG. 17;
19 is a layout diagram of pixels of FIG. 15;

이하, 발명을 실시하기 위한 최선의 형태에 관하여, 도면을 참조하여 상세히 설명하다. 또한, 설명은 이하의 순서로 행한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the best form for implementing this invention is demonstrated in detail with reference to drawings. The description will be made in the following order.

1. 대략 구성1. About configuration

2. 레이아웃2. Layout

3. 단면 구성3. Sectional Composition

4. 동작 및 효과4. Motion and Effects

5. 변형예5. Modifications

6. 모듈 및 적용예
6. Modules and Application Examples

대략 구성Rough composition

도 1은, 본 발명의 한 실시의 형태에 관한 표시 유닛(1)의 전체 구성의 일 예를 나타낸 것이다. 이 표시 유닛(1)은, 예를 들면, 유리, 실리콘(Si) 웨이퍼 또는 수지 등으로 된 기판(40)(후술) 위에, 표시 유닛(10)과, 표시 유닛(10)의 주변에 형성된 주변 회로부(20)(구동부)를 구비하고 있다.1 shows an example of the entire configuration of a display unit 1 according to an embodiment of the present invention. The display unit 1 is formed around the display unit 10 and the periphery of the display unit 10 on, for example, a substrate 40 (to be described later) made of glass, silicon (Si) wafer, resin, or the like. The circuit part 20 (drive part) is provided.

표시 유닛(10)은, 복수의 픽셀(11)을 표시 유닛(10)의 전면에 걸쳐 매트릭스 모양으로 배치한 것이고, 외부에서 입력된 영상 신호(20a)에 근거한 화상을 액티브 매트릭스 구동에 의해 표시하는 것이다. 각 픽셀(11)은, 적색용의 픽셀(11R)과, 녹색용의 픽셀(11G)과, 청색용의 픽셀(11B)을 포함하고 있다.The display unit 10 arranges the plurality of pixels 11 in a matrix form over the entire surface of the display unit 10, and displays an image based on the externally input video signal 20a by active matrix driving. will be. Each pixel 11 includes a pixel 11R for red, a pixel 11G for green, and a pixel 11B for blue.

도 2는, 픽셀(11R, 11G, 11B)의 회로 구성의 일 예를 나타낸 것이다. 픽셀(11R, 11G, 11B) 안에는, 도 2에 나타낸 것처럼, 유기 EL 소자(12)(12R, 12G, 12B)와, 픽셀 회로(13)가 마련되어 있다. 또한, 본 실시의 형태의 유기 EL 소자(12B)는 본 발명의 "제 1의 유기 EL 소자"의 구체적인 예에 상당하고, 본 실시의 형태의 유기 EL 소자(12R 및 12G)는 본 발명의 "제 2의 유기 EL 소자"의 구체적인 예에 상당한다.2 shows an example of a circuit configuration of the pixels 11R, 11G, and 11B. In the pixels 11R, 11G and 11B, the organic EL elements 12 (12R, 12G and 12B) and the pixel circuit 13 are provided as shown in FIG. In addition, the organic EL element 12B of this embodiment is corresponded to the specific example of the "1st organic electroluminescent element" of this invention, and the organic EL element 12R and 12G of this embodiment are the " It corresponds to the specific example of "2nd organic electroluminescent element."

픽셀 회로(13)는, 트랜지스터(TWS), 트랜지스터(TDr), 트랜지스터(TDr)의 게이트-소스 사이에 접속된 유지 용량(Cs)으로 구성되며, 2Tr1C의 회로 구성으로 되어 있다. 트랜지스터(TWS)는 영상 신호를 기록하는 기록용의 트랜지스터이다. 트랜지스터(TDr)는 트랜지스터(TWS)에 의해 기록된 영상 신호에 근거하여 유기 EL 소자(12)를 구동하는 구동용의 트랜지스터이다. 트랜지스터(TWS, TDr)는, 예를 들면, n 채널 MOS 형의 박막 트랜지스터(TFT(Thin Film Transistor))에 의해 형성되어 있다.The pixel circuit 13 is composed of a holding capacitor C s connected between the transistor T WS , the transistor T Dr , and the gate-source of the transistor T Dr , and has a circuit configuration of 2Tr1C. The transistor T WS is a recording transistor for recording a video signal. The transistor T Dr is a driving transistor for driving the organic EL element 12 based on the video signal recorded by the transistor T WS . The transistors T WS and T Dr are formed of, for example, an n-channel MOS thin film transistor (TFT (Thin Film Transistor)).

또한, 본 실시의 형태의 트랜지스터(TWS)가 본 발명의 "제 1의 트랜지스터"의 구체적인 예에 상당하고, 본 실시의 형태의 트랜지스터(TDr)가 본 발명의 "제 2의 트랜지스터"의 구체적인 예에 상당한다. 또한, 본 실시의 형태에 있어서, 픽셀(11R, 11G)에 포함된 트랜지스터(TWS, TDr)가 본 발명의 "제 3의 트랜지스터"의 구체적인 예에 상당하고, 유기 EL 소자(12B)에 인접한 유기 EL 소자(12R, 12G)에 대응하여 설치된 트랜지스터이다. 또한, 본 실시의 형태에 있어서, 픽셀(11R, 11G)에 포함된 유지 용량(Cs)은 본 발명의 "제 1의 유지 용량"의 구체적인 예에 상당하고, 유기 EL 소자(12R, 12G)에 대응하여 설치된 유지 용량이다.In addition, the transistor T WS of the present embodiment corresponds to a specific example of the "first transistor" of the present invention, and the transistor T Dr of the present embodiment corresponds to the "second transistor" of the present invention. It corresponds to a concrete example. In the present embodiment, the transistors T WS and T Dr included in the pixels 11R and 11G correspond to specific examples of the "third transistor" of the present invention. It is a transistor provided corresponding to the adjacent organic EL elements 12R and 12G. In the present embodiment, the storage capacitors C s included in the pixels 11R and 11G correspond to specific examples of the "first holding capacitor" of the present invention, and the organic EL elements 12R and 12G are represented. It is installed holding capacity correspondingly.

주변 회로부(20)는, 타이밍 제어 회로(21)와, 수평 구동 회로(22)와, 기록 주사 회로(23)와, 전원 주사 회로(24)를 갖고 있다. 타이밍 제어 회로(21)는, 표시 신호 생성 회로(21A)와, 표시 신호 유지 제어 회로(21B)를 포함하고 있다. 또한, 주변 회로부(20)에는, 게이트선(WSL)과, 드레인선(DSL)과, 신호선(DTL)과, 그라운드선(GND)이 마련되어 있다. 또한, 그라운드선은, 그라운드에 접속된 것이고, 그라운드에 접속된 때에 그라운드 전압(참조 전압)으로 된다.The peripheral circuit section 20 includes a timing control circuit 21, a horizontal drive circuit 22, a write scan circuit 23, and a power supply scan circuit 24. The timing control circuit 21 includes a display signal generating circuit 21A and a display signal holding control circuit 21B. In the peripheral circuit portion 20, a gate line WSL, a drain line DSL, a signal line DTL, and a ground line GND are provided. In addition, the ground line is connected to ground and becomes a ground voltage (reference voltage) when connected to ground.

표시 신호 생성 회로(21A)는, 외부에서 입력된 영상 신호(20a)에 근거하여, 예를 들면 1 화면마다(1 필드의 표시마다) 표시 유닛(10)에 표시하기 위한 표시 신호(21a)를 생성하는 것이다.The display signal generation circuit 21A displays the display signal 21a for displaying on the display unit 10 for each screen (for each display of one field), for example, based on the externally input video signal 20a. To generate.

표시 신호 유지 제어 회로(21B)는, 표시 신호 생성 회로(21A)로부터 출력된 표시 신호(21a)를 1 화면마다(1 필드의 표시마다), 예를 들면 SRAM(Static Random Access Memory) 등으로부터 구성된 필드 메모리에 격납하여 유지하는 것이다. 이 표시 신호 유지 제어 회로(21B)는 또한, 각 픽셀(11)을 구동하는 수평 구동 회로(22), 기록 주사 회로(23) 및 전원 주사 회로(24)가 연동하여 동작하도록 제어하는 역할도 한다. 구체적으로는, 표시 신호 유지 제어 회로(21B)는, 기록 주사 회로(23)에 대해서는 제어 신호(21b)를, 전원 주사 회로(24)에 대해서는 제어 신호(21c)를, 표시 신호 구동 회로(21C)에 대해서는 제어 신호(21d)를 각각 출력하게 되어 있다.The display signal holding control circuit 21B configures the display signal 21a output from the display signal generating circuit 21A for each screen (for each display of one field), for example, from a static random access memory (SRAM) or the like. It is stored in the field memory. The display signal holding control circuit 21B also serves to control the horizontal drive circuit 22, the write scan circuit 23, and the power source scan circuit 24 to drive each pixel 11 to operate in conjunction with each other. . Specifically, the display signal holding control circuit 21B receives the control signal 21b for the write scanning circuit 23, the control signal 21c for the power supply scanning circuit 24, and the display signal driving circuit 21C. Are output to the control signal 21d, respectively.

수평 구동 회로(22)는, 표시 신호 유지 제어 회로(21B)로부터 출력된 제어 신호(21d)에 따른 전압을 출력할 수 있다. 구체적으로는, 수평 구동 회로(22)는, 표시 유닛(10)의 각 픽셀(11)에 접속된 신호선(DTL)을 통해 기록 주사 회로(23)에 의해 선택된 픽셀(11)에 소정의 전압을 공급하게 되어 있다.The horizontal drive circuit 22 can output a voltage corresponding to the control signal 21d output from the display signal holding control circuit 21B. Specifically, the horizontal drive circuit 22 applies a predetermined voltage to the pixel 11 selected by the write scan circuit 23 via the signal line DTL connected to each pixel 11 of the display unit 10. It is to supply.

기록 주사 회로(23)는, 표시 신호 유지 제어 회로(21B)로부터 출력된 제어 신호(21b)에 따른 전압을 출력할 수 있다. 구체적으로는, 기록 주사 회로(23)는, 표시 유닛(10)의 각 픽셀(11)에 접속된 게이트선(WSL)을 통해 구동 대상의 픽셀(11)에 소정의 전압을 공급하고, 샘플링용의 트랜지스터(TWS)를 제어하게 되어 있다.The write scanning circuit 23 can output the voltage corresponding to the control signal 21b output from the display signal holding control circuit 21B. Specifically, the write scanning circuit 23 supplies a predetermined voltage to the pixel 11 to be driven through the gate line WSL connected to each pixel 11 of the display unit 10, and for sampling. To control the transistor T WS .

전원 주사 회로(24)는, 표시 신호 유지 제어 회로(21B)로부터 출력된 제어 신호(21c)에 따른 전압을 출력할 수 있다. 구체적으로는, 전원 주사 회로(24)는, 표시 유닛(10)의 각 픽셀(11)에 접속된 드레인선(DSL)을 통해 구동 대상의 픽셀(11)에 소정의 전압을 공급하고, 유기 EL 소자(12R) 등의 발광 및 소광(消光)을 제어하게 되어 있다.The power supply scanning circuit 24 can output a voltage corresponding to the control signal 21c output from the display signal holding control circuit 21B. Specifically, the power supply scanning circuit 24 supplies a predetermined voltage to the pixel 11 to be driven through the drain line DSL connected to each pixel 11 of the display unit 10, thereby providing an organic EL. Light emission and quenching of the element 12R and the like are controlled.

레이아웃layout

다음에, 도 2~도 5를 참조하여, 각 구성 요소의 접속 관계 및 배치에 관하여 설명한다. 또한, 도 3은, 픽셀(11R)의 레이아웃의 일 예를 나타낸 것이고, 도 4는, 픽셀(11G, 11B)의 레이아웃의 일 예를 나타낸 것이다. 도 5는, 픽셀(11)의 레이아웃의 일 예를 나타낸 것이다. 또한, 도 5에는, 하나의 픽셀(11)에 포함된 픽셀(11G, 11B)과, 그 픽셀(11)에 인접한 다른 픽셀(11)에 포함된 픽셀(11R)이 나타나 있다.Next, the connection relationship and arrangement | positioning of each component are demonstrated with reference to FIGS. 3 shows an example of the layout of the pixel 11R, and FIG. 4 shows an example of the layout of the pixels 11G and 11B. 5 shows an example of the layout of the pixel 11. 5, the pixels 11G and 11B contained in one pixel 11 and the pixel 11R included in the other pixel 11 adjacent to the pixel 11 are shown.

우선, 각 픽셀(11R, 11G, 11B)의 공통 사항에 관하여 설명한다. 기록 주사 회로(23)로부터 인출된 게이트선(WSL)은, 행방향으로 연재되어 형성되어 있고, 콘택트(34A)를 통해 트랜지스터(TWS)의 게이트(31A)에 접속되어 있다. 전원 주사 회로(24)로부터 인출된 드레인선(DSL)도 행방향으로 연재되어 형성되어 있고, 인출 배선(36A)을 통해 트랜지스터(TDr)의 드레인(32C)에 접속되어 있다. 또한, 수평 구동 회로(22)로부터 인출된 신호선(DTL)은 열방향으로 연재되어 형성되어 있고, 콘택트(34B) 및 인출 배선(36B)을 통해 트랜지스터(TWS)의 드레인(31C)에 접속되어 있다. 트랜지스터(TWS)의 소스(31B)는 구동용의 트랜지스터(TDr)의 게이트(32A)와, 유지 용량(Cs)의 일단(단자(33A))에 접속되어 있다. 트랜지스터(TDr)의 소스(32B)와 유지 용량(Cs)의 타단(단자(33B))이, 콘택트(34D)를 통해, 유기 EL 소자(12)의 아노드(35A)에 접속되어 있다. 유기 EL 소자(12)의 캐소드(35B)는, 캐소드선(CTL)에 접속되어 있다.First, the common matters of the pixels 11R, 11G, and 11B will be described. The gate line WSL drawn out from the write scan circuit 23 is extended in the row direction and is connected to the gate 31A of the transistor T WS through the contact 34A. The drain line DSL drawn out from the power source scanning circuit 24 is also extended in the row direction and is connected to the drain 32C of the transistor T Dr via the lead wire 36A. The signal line DTL drawn out from the horizontal drive circuit 22 is formed to extend in the column direction, and is connected to the drain 31C of the transistor T WS through the contact 34B and the lead wire 36B. have. The source 31B of the transistor T WS is connected to the gate 32A of the driving transistor T Dr and one end (terminal 33A) of the holding capacitor C s . The source 32B of the transistor T Dr and the other end (terminal 33B) of the storage capacitor C s are connected to the anode 35A of the organic EL element 12 via the contact 34D. . The cathode 35B of the organic EL element 12 is connected to the cathode line CTL.

다음에, 픽셀(11R, 11G, 11B) 사이의 다른 점에 관하여 주로 설명한다. 픽셀(11R, 11G, 11B)은, 하나의 픽셀(11) 내에서, 행방향으로 순서대로 배치되어 있다. 즉, 픽셀(11R)의 오른편(행방향의 오른편)에는 픽셀(11G)이 배치되어 있고, 픽셀(11G)의 오른편에는 픽셀(11B)이 배치되어 있고, 픽셀(11B)의 오른편에는 다른 픽셀(11)의 픽셀(11R)이 배치되어 있다.Next, different points between the pixels 11R, 11G, and 11B will be mainly described. The pixels 11R, 11G, and 11B are arranged in order in the row direction within one pixel 11. That is, the pixel 11G is disposed on the right side (right side in the row direction) of the pixel 11R, the pixel 11B is disposed on the right side of the pixel 11G, and the other pixel (on the right side of the pixel 11B). The pixel 11R of 11 is arrange | positioned.

픽셀(11R)은, 예를 들면, 도 3, 도 5에 나타낸 것처럼, 픽셀(11B)의 레이아웃을 좌우 반전시킨 레이아웃으로 되어 있다. 픽셀(11R) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)는, 픽셀(11R) 내의 유지 용량(Cs)과 비교하여, 인접한 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(11B)로부터 떨어져 배치되어 있다. 즉, 픽셀(11R) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)는, 픽셀(11R) 내의 유지 용량(Cs) 중 픽셀(11B) 측의 단부에 접함과 동시에 열방향으로 연재된 직선(LR)과의 관계에서, 인접한 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(11B)와는 반대측에 배치되어 있다. 픽셀(11R) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)는, 도 5에 나타낸 것처럼, 픽셀(11R) 내의 유지 용량(Cs)과의 관계에서, 인접한 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(11B)와는 반대측에 배치되어 있는 것이 바람직하다. 즉, 픽셀(11R) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)는, 픽셀(11R) 내에서, 인접한 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(11B)로부터 가장 멀리 떨어진 영역에 배치되는 것이 바람직하다.For example, as illustrated in FIGS. 3 and 5, the pixel 11R is a layout in which the layout of the pixel 11B is reversed left and right. The transistors T Dr and T WS in the pixel 11R are disposed away from the organic EL element 11B in the adjacent pixel 11B as compared with the storage capacitor C s in the pixel 11R. That is, the transistor (T Dr, T WS), the pixels (11R) the storage capacitor (C s) of the pixels (11B) side of a straight line (L R) extending in the same time the tangent in the column direction at an end of the inside in the pixel (11R) In the relation with the organic EL element 11B, the organic EL element 11B in the adjacent pixel 11B is disposed on the opposite side. The transistors T Dr and T WS in the pixel 11R are different from the organic EL elements 11B in the adjacent pixel 11B in a relationship with the storage capacitor C s in the pixel 11R as shown in FIG. 5. It is preferable to arrange on the opposite side. In other words, the transistors T Dr and T WS in the pixel 11R are preferably arranged in the pixel 11R at the region farthest from the organic EL element 11B in the adjacent pixel 11B.

픽셀(11G)은, 예를 들면, 도 4, 도 5에 나타낸 것처럼, 픽셀(11R)의 레이아웃을 좌우 반전시킨 레이아웃으로 되어 있다. 픽셀(11G) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)는, 픽셀(11G) 내의 유지 용량(Cs)과 비교하여, 인접한 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(11B)로부터 떨어져 배치되어 있다. 즉, 픽셀(11G) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)는, 픽셀(11G) 내의 유지 용량(Cs) 중 픽셀(11B) 측의 단부에 접함과 동시에 열방향으로 연재된 직선(LG)과의 관계에서, 인접한 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(11B)와는 반대측에 배치되어 있다. 픽셀(11G) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)는, 픽셀(11G) 내의 유지 용량(Cs)과의 관계에서, 인접한 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(11B)와는 반대측에 배치되어 있는 것이 바람직하다. 즉, 픽셀(11G) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)는, 픽셀(11G) 내에서, 인접한 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(11B)로부터 가장 멀리 떨어진 영역에 배치되는 것이 바람직하다.For example, as illustrated in FIGS. 4 and 5, the pixel 11G is a layout in which the layout of the pixel 11R is reversed left and right. The transistors T Dr and T WS in the pixel 11G are disposed away from the organic EL element 11B in the adjacent pixel 11B as compared with the storage capacitor C s in the pixel 11G. That is, the pixel transistor (T Dr, T WS), the storage capacitor (C s) of pixels (11B) the straight line (L G) at the same time the tangent extending in the column direction at the ends of the side of the in-pixel (11G) in (11G) In the relation with the organic EL element 11B, the organic EL element 11B in the adjacent pixel 11B is disposed on the opposite side. The transistors T Dr and T WS in the pixel 11G are arranged on the opposite side to the organic EL element 11B in the adjacent pixel 11B in relation to the holding capacitor C s in the pixel 11G. desirable. That is, it is preferable that the transistors T Dr and T WS in the pixel 11G are disposed in the pixel 11G in the region farthest from the organic EL element 11B in the adjacent pixel 11B.

픽셀(11B)은, 예를 들면, 도 5에 나타낸 것처럼, 픽셀(11G)의 레이아웃과 동일한 레이아웃으로 되어 있다. 픽셀(11B) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)는, 픽셀(11B) 내의 유지 용량(Cs)과 비교하여, 인접한 픽셀(11G) 내의 유기 EL 소자(11G)에 근접하여 배치되어 있다. 또한, 픽셀(11B)은, 픽셀(11G)의 레이아웃과 다른 레이아웃으로 되어 있어도 좋다.For example, the pixel 11B has the same layout as that of the pixel 11G, as shown in FIG. 5. The transistors T Dr and T WS in the pixel 11B are disposed close to the organic EL element 11G in the adjacent pixel 11G as compared with the storage capacitor C s in the pixel 11B. In addition, the pixel 11B may have a layout different from that of the pixel 11G.

단면 구성Sectional composition

도 6은, 도 3의 A-A선을 따른 단면 구성을 나타낸 것이다. 도 6에는, 트랜지스터(TWS)의 단면이 포함되어 있다. 도 7은, 도 3의 B-B선을 따른 단면 구성을 나타낸 것이다. 도 7에는, 트랜지스터(TDr)의 단면이 포함되어 있다. 또한, 본 실시의 형태에서는, 도 6의 단면 구성을 좌우 반전킨 것이, 예를 들면, 도 4의 A-A선을 따른 단면 구성에 대응하고 있고, 도 7의 단면 구성을 좌우 반전시킨 것이, 예를 들면, 도 4의 B-B선을 따른 단면 구성에 대응하고 있다.FIG. 6 shows a cross-sectional configuration along the line AA of FIG. 3. 6 includes a cross section of the transistor T WS . FIG. 7 shows a cross-sectional configuration along the line BB of FIG. 3. 7 includes a cross section of the transistor T Dr. In addition, in this embodiment, what reversed the cross-sectional structure of FIG. 6 left-right corresponded to the cross-sectional structure along the AA line of FIG. 4, for example, and reversed the cross-sectional structure of FIG. For example, it corresponds to the cross-sectional structure along the BB line of FIG.

픽셀(11R, 11G, 11B)은, 도 3의 A-A선 및 B-B 선에 대응하는 부분에서, 기판(40) 위에, 게이트 절연막(41), 절연 보호막(42) 및 절연 평탄화막(43)을 갖고 있다. 게이트 절연막(41)은, 트랜지스터(TWS, TDr)의 게이트 절연막으로서 기능한다. 절연 보호막(42)은, 트랜지스터(TWS, TDr)를 피복하여 보호하는 것이다. 절연 평탄화막(43)은, 유기 EL 소자(12)의 바탕을 평탄화하는 것을 목적으로 하여 설치된 것이고, 절연 보호막(42)의 표면 전체를 덮고 있다.The pixels 11R, 11G, and 11B each have a gate insulating film 41, an insulating protective film 42, and an insulating planarization film 43 on the substrate 40 at portions corresponding to the AA and BB lines in FIG. 3. have. The gate insulating film 41 functions as a gate insulating film of the transistors T WS and T Dr. The insulating protective film 42 covers and protects the transistors T WS and T Dr. The insulating planarization film 43 is provided for the purpose of planarizing the base of the organic EL element 12, and covers the entire surface of the insulating protective film 42.

도 3의 A-A선에 대응하는 부분(트랜지스터(TWS)의 단면을 포함한 부분)에서는, 기판(40)과 게이트 절연막(41) 사이에, 게이트(31A)와 단자(33A)가 형성되어 있다. 한편, 도 4의 A-A선에 대응하는 부분(트랜지스터(TDr)의 단면을 포함한 부분)에서는, 기판(40)과 게이트 절연막(41)과의 사이에, 게이트(32A)가 형성되어 있다. 게이트(31A)는, 대체로, 후술의 EL 개구부(44A)와의 대향 영역의 주위에 형성되어 있다. 단자(33A) 및 게이트(32A)는, 대체로, EL 개구부(44A)와의 대향 영역에 형성되어 있다. 게이트 절연막(41)은, 기판(40), 게이트(31A, 32A) 및 단자(33A)를 포함하는 표면 전체를 덮고 있다.In the portion corresponding to the AA line in FIG. 3 (the portion including the cross section of the transistor T WS ), a gate 31A and a terminal 33A are formed between the substrate 40 and the gate insulating film 41. On the other hand, in the part (part including the cross section of transistor T Dr ) corresponding to AA line of FIG. 4, the gate 32A is formed between the board | substrate 40 and the gate insulating film 41. As shown in FIG. The gate 31A is generally formed around the region facing the EL opening 44A described later. The terminal 33A and the gate 32A are generally formed in an area facing the EL opening 44A. The gate insulating film 41 covers the entire surface including the substrate 40, the gates 31A and 32A, and the terminal 33A.

게이트 절연막(41)과 절연 보호막(42)의 사이, 또한 게이트(31A)의 바로 위에는, 채널(51)과, 소스(52, 31B)와, 드레인(53, 31C)과, 인출 배선(36B)과, 보호막(54)이 형성되어 있다. 채널(51)은 게이트 절연막(41) 중 게이트(31A)의 바로 위에 접하여 형성되어 있다. 소스(52)는 채널(51)의 일단에 접하여 형성되어 있고, 그 위에 소스(31B)가 소스(52)에 접하여 형성되어 있다. 드레인(53)은 채널(51)의 타단에 접하여 형성되어 있고, 그 위에 드레인(31C)이 드레인(53)에 접하여 형성되어 있다. 채널(51), 소스(52) 및 드레인(53)은, 예를 들면, 무정형 실리콘(a-Si), 미결정 Si(μ-Si) 또는 저온 폴리실리콘을 포함하여 구성되어 있다. 보호막(54)은, 소스(52, 31B)와, 드레인(53, 31C) 사이에 형성되어 있고, 채널(51) 중 소스(52) 및 드레인(53)과의 비접촉 영역을 덮고 있다.Between the gate insulating film 41 and the insulating protective film 42 and directly above the gate 31A, the channel 51, the sources 52 and 31B, the drains 53 and 31C, and the lead-out wiring 36B. And the protective film 54 is formed. The channel 51 is formed in direct contact with the gate 31A of the gate insulating film 41. The source 52 is formed in contact with one end of the channel 51, and a source 31B is formed in contact with the source 52 thereon. The drain 53 is formed in contact with the other end of the channel 51, and a drain 31C is formed in contact with the drain 53 thereon. The channel 51, the source 52, and the drain 53 include, for example, amorphous silicon (a-Si), microcrystalline Si (μ-Si), or low temperature polysilicon. The protective film 54 is formed between the sources 52 and 31B and the drains 53 and 31C, and covers the non-contact area with the source 52 and the drain 53 of the channel 51.

게이트 절연막(41)과 절연 보호막(42) 사이, 또한 게이트(32A)의 바로 위에는, 채널(55)와, 소스(56, 32B)와, 드레인(57, 32C)와, 보호막(58)이 형성되어 있다. 또한, 게이트 절연막(41)과 절연 보호막(42) 사이, 또한 드레인(32C)의 옆에는, 인출 배선(36B)이 형성되어 있다. 채널(55)은 게이트 절연막(41) 중 게이트(32A)의 바로 위에 접하여 형성되어 있다. 소스(56)는 채널(55)의 일단에 접하여 형성되어 있고, 그 위에 소스(32B)가 소스(56)에 접하여 형성되어 있다. 드레인(57)은 채널(55)의 타단에 접하여 형성되어 있고, 그 위에 드레인(32C)이 드레인(57)에 접하여 형성되어 있다. 채널(55), 소스(56) 및 드레인(57)은, 예를 들면, 무정형 실리콘(a-Si), 미결정 Si(μ-Si) 또는 저온 폴리실리콘을 포함하여 구성되어 있다. 보호막(58)은, 소스(56, 32B)와, 드레인(57, 32C)과의 사이에 형성되어 있고, 채널(55) 중 소스(56) 및 드레인(57)과의 비접촉 영역을 덮고 있다.Between the gate insulating film 41 and the insulating protective film 42 and directly above the gate 32A, the channel 55, the sources 56 and 32B, the drains 57 and 32C and the protective film 58 are formed. It is. Further, a lead wire 36B is formed between the gate insulating film 41 and the insulating protective film 42 and next to the drain 32C. The channel 55 is formed in direct contact with the gate 32A of the gate insulating film 41. The source 56 is formed in contact with one end of the channel 55, and the source 32B is formed in contact with the source 56 thereon. The drain 57 is formed in contact with the other end of the channel 55, and a drain 32C is formed in contact with the drain 57 thereon. The channel 55, the source 56 and the drain 57 are composed of, for example, amorphous silicon (a-Si), microcrystalline Si (μ-Si) or low temperature polysilicon. The passivation film 58 is formed between the sources 56 and 32B and the drains 57 and 32C, and covers the non-contact area between the source 56 and the drain 57 of the channel 55.

픽셀(11R, 11G, 11B)은, 절연 평탄화막(43) 위에, 유기 EL 소자(12)를 갖고 있다. 유기 EL 소자(12)는, 예를 들면, 아노드(35A), 유기층(35C) 및 캐소드(35B)가 기판(40) 측에서 순서대로 적층된 구조로 되어 있다. 유기층(35C)은, 예를 들면, 아노드(35A) 측에서 순서대로, 정공 주입 효율을 높인 정공 주입층과, 발광층으로의 정공 수송 효율을 높인 정공 수송층과, 전자와 정공의 재결합에 의한 발광을 발생시키는 발광층과, 발광층으로의 전자 수송 효율을 높인 전자 수송층을 포함하고 있다. 픽셀(11R)의 유기층(35C)은, 적색광을 발하는 재료를 포함한다. 픽셀(11G)의 유기층(35C)은, 녹색광을 발하는 재료를 포함한다. 픽셀(11B)의 유기층(35C)은, 청색광을 발하는 재료를 포함한다. 픽셀(11B)의 유기층(35C)으로부터 발광된 청색광은, 픽셀(11B)에 인접한 픽셀(11R, 11G) 내의 트랜지스터를 열화시키는 성질을 강하게 갖고 있다. 또한, 픽셀(11R)의 유기층(35C)으로부터 발광된 적색광이나, 픽셀(11G)의 유기층(35C)으로부터 발광된 녹색광에 대해서도, 픽셀(11R 또는 11G)에 인접한 픽셀 내의 트랜지스터를 열화시키는 성질을 약간이지만 갖고 있다.The pixels 11R, 11G, and 11B have the organic EL element 12 on the insulating planarization film 43. The organic EL element 12 has a structure in which the anode 35A, the organic layer 35C, and the cathode 35B are stacked in order on the substrate 40 side, for example. The organic layer 35C is, for example, on the anode 35A side in order, a hole injection layer having a high hole injection efficiency, a hole transport layer having a high hole transport efficiency to the light emitting layer, and light emission by recombination of electrons and holes. The light emitting layer which generate | occur | produces the light emitting layer, and the electron carrying layer which improved the electron transport efficiency to a light emitting layer are included. The organic layer 35C of the pixel 11R contains a material that emits red light. The organic layer 35C of the pixel 11G contains a material that emits green light. The organic layer 35C of the pixel 11B contains a material that emits blue light. Blue light emitted from the organic layer 35C of the pixel 11B strongly has a property of degrading the transistors in the pixels 11R and 11G adjacent to the pixel 11B. In addition, the red light emitted from the organic layer 35C of the pixel 11R and the green light emitted from the organic layer 35C of the pixel 11G also slightly degrade the transistor in the pixel adjacent to the pixel 11R or 11G. But have.

아노드(35A)는 반사층으로서의 기능을 갖고 있고, 캐소드(35B)는 반투과성 반사층으로서의 기능을 갖고 있다. 이들 아노드(35A)와 캐소드(35B)는, 발광층(35C)에서 발생한 빛을 공진시키는 공진기 구조를 구성한다. 즉, 아노드(35A)의 유기층(35C) 측의 표면과, 캐소드(35B)의 유기층(35C) 측의 표면에 의해 한 쌍의 반사경이 구성되고 있고, 발광층(35C)에서 발생한 빛이 이 한 쌍의 반사경에 의해 공진하고, 캐소드(35B) 측에서 취출된다. 이것에 의해, 발광층(35C)에서 발생한 빛이 다중 간섭을 일으키고, 공진기 구조가 일종의 협대역 필터로서 작용하는 것에 의해, 취출되는 빛의 스펙트럼의 반값폭이 감소하고, 색 순도가 향상한다.The anode 35A has a function as a reflective layer, and the cathode 35B has a function as a semi-transmissive reflective layer. These anodes 35A and 35B constitute a resonator structure for resonating light generated in the light emitting layer 35C. That is, a pair of reflecting mirrors is formed by the surface on the organic layer 35C side of the anode 35A and the surface on the organic layer 35C side of the cathode 35B, and the light generated in the light emitting layer 35C is limited to this range. It resonates by a pair of reflecting mirrors, and is taken out from the cathode 35B side. As a result, the light generated in the light emitting layer 35C causes multiple interference, and the resonator structure acts as a kind of narrow-band filter, thereby reducing the half-value width of the spectrum of light to be extracted and improving color purity.

픽셀(11R, 11G, 11B)은, 유기 EL 소자(12)의 아노드(35A)와 동일면 내에 개구 규정 절연막(44)를 갖고 있고, 유기 EL 소자(12) 위에 절연 보호막(45)을 갖고 있다.The pixels 11R, 11G, and 11B have an opening defining insulating film 44 in the same plane as the anode 35A of the organic EL element 12, and have an insulating protective film 45 on the organic EL element 12. .

개구 규정 절연막(44)은, 아노드(35A)에 대응하는 개구(EL 개구부(44A))를 갖고 있다. EL 개구부(44A)는, 아노드(35A)의 상면과의 대향 영역의 일부에 형성되어 있고, 개구 규정 절연막(44)이, 아노드(35A)의 외연(주연)을 덮고 있다. 즉, EL 개구부(44A)의 바닥면에는, 아노드(35A)의 상면의 일부만이 노출하고 있고, 유기층(35C)은, 아노드(35A)의 상면 중 EL 개구부(44A)의 바닥면에 노출하고 있는 부분과 접하고 있다.The opening defining insulating film 44 has an opening (EL opening 44A) corresponding to the anode 35A. The EL opening 44A is formed in a part of the region facing the upper surface of the anode 35A, and the opening defining insulating film 44 covers the outer edge (periphery) of the anode 35A. That is, only a part of the top surface of the anode 35A is exposed on the bottom surface of the EL opening 44A, and the organic layer 35C is exposed on the bottom surface of the EL opening 44A among the top surfaces of the anode 35A. We are in contact with part that we do.

절연 보호막(45)은, 캐소드(35B)의 표면 전체를 덮고 있다. 절연 보호막(45)은, 유기 EL 소자(12)에서 발광한 빛에 대해 투명한 재료로 형성되어 있다. 그 때문에, 절연 보호막(45)은, 유기 EL 소자(12)의 발광광뿐만 아니라, 유기 EL 소자(12)의 발광광과 공통된 파장대의 외광도 투과하는 것이 가능하다.The insulating protective film 45 covers the whole surface of the cathode 35B. The insulating protective film 45 is formed of a material transparent to the light emitted from the organic EL element 12. Therefore, the insulating protective film 45 can transmit not only the light emission of the organic EL element 12 but the external light of the wavelength band common to the light emission of the organic EL element 12.

아노드(35A)와 동일면 내에서, 아노드(35A)의 주위에는, 아노드(35A)를 둘러싸는 캐소드 보조 배선(46)이 형성되어 있다. 캐소드 보조 배선(46)은, 캐소드(35B)의 면내 전위 분포를 균일화하기 위해 설치된 것이고, 캐소드(35B)와 전기적으로 접속되어 있다. 또한, 캐소드 보조 배선(46)은, 아노드(35A)와 소정의 간극을 두고 배치되어 있고, 아노드(35A)와의 사이에 개구(46A)가 존재하고 있다. 따라서, 캐소드 보조 배선(46)은, 아노드(35A)에 대해 절연성을 유지하고 있다.In the same plane as the anode 35A, a cathode auxiliary wiring 46 surrounding the anode 35A is formed around the anode 35A. The cathode auxiliary wiring 46 is provided to uniformize the in-plane potential distribution of the cathode 35B, and is electrically connected to the cathode 35B. In addition, the cathode auxiliary wiring 46 is arranged with a predetermined gap from the anode 35A, and an opening 46A is present between the anode 35A. Therefore, the cathode auxiliary wiring 46 maintains insulation with respect to the anode 35A.

동작 및 효과Motion and effects

본 실시의 형태의 표시 유닛(1)에서는, 각 픽셀(11R, 11G, 11B)의 픽셀 회로(13)가 온오프 제어되고, 각 픽셀(11R, 11G, 11B)의 유기 EL 소자(12)에 구동 전류가 주입되는 것에 의해, 정공과 전자가 재결합하여 발광이 일어난다. 이 빛은, 아노드(35A)와 캐소드(35B) 사이에서 다중 반사하고, 캐소드(35B)를 투과하여 외부로 취출된다. 그 결과, 표시 유닛(10)에 화상이 표시된다.In the display unit 1 of the present embodiment, the pixel circuit 13 of each pixel 11R, 11G, 11B is turned on and off, and the organic EL element 12 of each pixel 11R, 11G, 11B is controlled. As the driving current is injected, holes and electrons recombine to emit light. This light multiplexes reflection between the anode 35A and the cathode 35B, passes through the cathode 35B, and is taken out to the outside. As a result, an image is displayed on the display unit 10.

그런데, 일반적으로, 유기 EL 표시 유닛에서는, 예를 들면, 도 6, 도 7, 도 18에 나타낸 것처럼, 유기층(35C)(127C)에서 발생한 빛 중 일부의 빛(L)은 캐소드(35B)(127B) 측에서 출력되지 않고, 인접한 픽셀로 새기 시작한다. 이 새기 시작한 빛(L)이, 예를 들면, 도 19에 나타낸 것처럼, 인접한 픽셀 내의 트랜지스터(TDr, TWS)(특히 채널(131))에 입사하는 경우에는, 빛 리크 전류가 증가하는 등, 픽셀 회로(122)의 오동작의 원인으로 된다.By the way, in general, in the organic EL display unit, as shown in Figs. 6, 7, and 18, for example, light L of a part of the light generated in the organic layers 35C and 127C is reduced by the cathode 35B ( 127B) is not outputted and starts leaking to the adjacent pixel. For example, as shown in Fig. 19, when the light L started to enter the transistors T Dr and T WS (in particular, the channel 131) in the adjacent pixels, the light leakage current increases. This may cause malfunction of the pixel circuit 122.

특히, 채널(131)에 파장이 짧은 청색광이 입사하면, 시간의 경과와 함께 게이트의 반응을 일으키는 최소의 물리량 전압(Vth)이 시프트하는 등, TFT 특성이 변동하고, TFT의 장기 신뢰성이 저하되어 버린다. 채널(131)이 무정형 실리콘(a-Si) 또는 미결정 Si(μ-Si)를 포함하여 구성되어 있는 경우에는, TFT의 장기 신뢰성의 저하가 현저해진다.In particular, when blue light having a short wavelength enters the channel 131, the TFT characteristics change, such as the minimum physical quantity voltage Vth, which causes the gate reaction to shift with time, and the long-term reliability of the TFT is deteriorated. Throw it away. When the channel 131 is composed of amorphous silicon (a-Si) or microcrystalline Si (μ-Si), the deterioration of the long-term reliability of the TFT becomes remarkable.

예를 들면, 도 19에 나타낸 것처럼, 하나의 픽셀(120)에 포함된 픽셀(120B)은, 그 픽셀(120)에 포함된 픽셀(120G)과, 그 픽셀(120)에 인접한 다른 픽셀(120)에 포함된 픽셀(120R) 사이에 배치된다. 이 경우에는, 픽셀(120B)의 유기층(127C)으로부터 새어 나온 청색의 빛(L)이 픽셀(120G) 내의 트랜지스터(TDr)와 픽셀(120R) 내의 트랜지스터(TWS)로 입사하고, 트랜지스터(TDr, TWS)의 장기 신뢰성이 저하되어 버리는 문제가 발생하고 있다.For example, as shown in FIG. 19, a pixel 120B included in one pixel 120 includes a pixel 120G included in the pixel 120 and another pixel 120 adjacent to the pixel 120. Is disposed between the pixels 120R included in. In this case, blue light L leaking from the organic layer 127C of the pixel 120B is incident on the transistor T Dr in the pixel 120G and the transistor T WS in the pixel 120R, and the transistor ( T Dr , T WS ) has a problem that the long-term reliability is reduced.

한편, 본 실시의 형태에서는, 예를 들면, 도 5에 나타낸 것처럼, 픽셀(11B)에 인접한 픽셀(11R) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)가, 픽셀(11R) 내의 유지 용량(Cs)과 비교하여, 픽셀(11B)로부터 떨어져 배치되어 있다. 또한, 픽셀(11B)에 인접한 픽셀(11G) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)가, 픽셀(11G) 내의 유지 용량(Cs)과 비교하여, 픽셀(11B)로부터 떨어져 배치되어 있다. 그 때문에, 픽셀(11R) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)로부터 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(12)까지의 거리(A1)가 픽셀(11R) 내의 유지 용량(Cs)으로부터 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(12)까지의 거리(B1)보다도 멀다. 또한, 픽셀(11G) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)로부터 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(12)까지의 거리(A2)가 픽셀(11G) 내의 유지 용량(Cs)으로부터 픽셀(11B) 내의 유기 EL 소자(12)까지의 거리(B2)보다도 멀다. 이것에 의해, 거리(A1)가 거리(B1)보다도 가깝고 또한 거리(A2)가 거리(B2)보다도 가까운 경우와 비교하여, 픽셀(11B) 내의 유기층(35C)으로부터 새어 나온 빛(L)의, 인접한 픽셀(11B, 11G) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)로의 입사량이 적다. 그 결과, 채널(51, 55)이 무정형 실리콘(a-Si) 또는 미결정 Si(μ-Si)를 포함하여 구성되어 있는 경우라도, 트랜지스터의 장기 신뢰성의 저하를 절감할 수 있다.On the other hand, in the present embodiment, for example, as shown in FIG. 5, the transistors T Dr and T WS in the pixel 11R adjacent to the pixel 11B have a holding capacitor C s in the pixel 11R. In comparison with the pixel 11B. In addition, the transistors T Dr and T WS in the pixel 11G adjacent to the pixel 11B are disposed away from the pixel 11B as compared with the holding capacitor C s in the pixel 11G. Therefore, the distance A1 from the transistors T Dr and T WS in the pixel 11R to the organic EL element 12 in the pixel 11B is equal to the pixel 11B from the holding capacitor C s in the pixel 11R. It is farther than the distance B1 to the organic EL element 12 in. Further, the distance A2 from the transistors T Dr and T WS in the pixel 11G to the organic EL element 12 in the pixel 11B is equal to the pixel 11B from the holding capacitor C s in the pixel 11G. It is farther than the distance B2 to the organic EL element 12 inside. Thereby, compared with the case where distance A1 is closer than distance B1 and distance A2 is closer than distance B2, of the light L which leaked out from the organic layer 35C in pixel 11B, The incident amount of the transistors T Dr and T WS in the adjacent pixels 11B and 11G is small. As a result, even when the channels 51 and 55 are composed of amorphous silicon (a-Si) or microcrystalline Si (μ-Si), the degradation of the long-term reliability of the transistor can be reduced.

그런데, 트랜지스터(TDr, TWS)의 열화의 예측이 가능한 경우에는, 트랜지스터(TDr, TWS)의 특성이 변하더라도, 유기 EL 소자(12)에 인가하는 전압을 원하는 값으로 설정(보정)하는 것이 가능하다. 그러나, 파장이 짧은 청색광이 트랜지스터(TDr, TWS)의 채널에 입사하고, 그것에 의해 트랜지스터(TDr, TWS)의 특성이 변화하는 경우에는, 그 변화를 올바르게 예측하는 것이 어렵다. 예를 들면, 도 8에 나타낸 것처럼, 청색광의 조사에 의해, 트랜지스터(TDr, TWS)의 Vds-Ids 특성에서, S 값이 서서히 작아지지만, 이 S 값의 변화의 예측은 대단히 어렵다. 그 때문에, 청색광에 의한 열화를 고려하여, 유기 EL 소자(12)에 인가하는 전압을 원하는 값으로 설정(보정)하는 것은 용이하지 않다.By the way, when the degradation of the transistors T Dr and T WS can be predicted, even if the characteristics of the transistors T Dr and T WS change, the voltage applied to the organic EL element 12 is set to a desired value (correction). It is possible to However, when the wavelength of the blue light is incident on the short channel of the transistor (T Dr, T WS), and the characteristics of the transistor (T Dr, T WS) changes with it, and it is difficult to correctly predict the change. For example, as shown in FIG. 8, the S value gradually decreases in the Vds-Ids characteristic of the transistors T Dr and T WS by irradiation with blue light, but it is very difficult to predict the change of this S value. Therefore, in consideration of deterioration due to blue light, it is not easy to set (correct) the voltage applied to the organic EL element 12 to a desired value.

그러나, 본 실시의 형태에서는, 상술한 것처럼, 픽셀(11B) 내의 유기층(35C)으로부터 새어 나온 빛(L)의, 인접한 픽셀(11R, 11G) 내의 트랜지스터(TDr, TWS)로의 입사량이 적다. 그 때문에, 청색광에 의한 열화를 고려한 보정은, 거의 필요 없기 때문에, 높은 표시 품질을 장기간에 걸쳐 유지하는 것이 가능하다.However, in the present embodiment, as described above, the amount of incidence of light L leaking from the organic layer 35C in the pixel 11B into the transistors T Dr and T WS in the adjacent pixels 11R and 11G is small. . Therefore, since almost no correction in consideration of deterioration due to blue light is necessary, it is possible to maintain high display quality over a long period of time.

변형예Variant

상기 실시의 형태에서는, 하나의 픽셀(11) 안에, 3색의 빛을 발하는 픽셀(11R, 11G, 11B)이 마련되어 있는 경우가 예시되고 있지만, 그 밖의 빛을 발하는 픽셀이 또한 설치될 수도 있다. 또한, 하나의 픽셀(11) 안에, 픽셀(11R, 11G) 이외의 픽셀이 설치되어 있을 수도 있다. 어느 쪽에 있어도, 픽셀(11B)에 인접한 다른 픽셀에서, 트랜지스터(TDr, TWS)는 픽셀(11B)로부터 가능한 한 멀리 떨어져 배치되는 것이 바람직하다.In the above embodiment, the case where the pixels 11R, 11G, 11B that emit three colors of light is provided in one pixel 11, but other emitting pixels may also be provided. In addition, pixels other than the pixels 11R and 11G may be provided in one pixel 11. Either way, in other pixels adjacent to the pixel 11B, the transistors T Dr and T WS are preferably arranged as far away from the pixel 11B as possible.

모듈 및 Module and 적용예Application example

이하, 상기 실시의 형태 및 그 변형예에서 설명한 표시 유닛의 적용예에 관하여 설명한다. 상기 실시의 형태 등의 표시 유닛은, 텔레비전 장치, 디지털 카메라, 노트형 퍼스널 컴퓨터, 휴대 전화 등의 휴대 단말 장치 또는 비디오 카메라 등, 외부에서 입력된 영상 신호 또는 내부에서 생성한 영상 신호를, 화상 또는 영상으로서 표시하는 모든 분야의 전자 기기의 표시 유닛에 적용하는 것이 가능하다.Hereinafter, the application example of the display unit demonstrated by the said embodiment and its modification is demonstrated. The display unit according to the above-described embodiments includes an image signal or a video signal input from the outside, such as a television device, a digital camera, a portable personal computer such as a notebook personal computer, a mobile phone, or a video camera. It is possible to apply it to the display unit of the electronic equipment of all the fields displayed as an image.

모듈module

상기 실시의 형태 등의 표시 유닛은, 예를 들면, 도 9에 나타낸 것 같은 모듈로서, 후술하는 적용예1~적용예5 등의 여러 가지의 전자 기기에 편입된다. 이 모듈은, 예를 들면, 기판(2)의 한 변에, 표시 유닛(10)을 밀봉하는 부재(도시하지 않음)로부터 노출한 영역(210)을 설치하고, 이 노출한 영역(210)에, 타이밍 제어 회로(21), 수평 구동 회로(22), 기록 주사 회로(23) 및 전원 주사 회로(24)의 배선을 연장하고 외부 접속단자(도시하지 않음)를 형성한 것이다. 외부 접속단자에는, 신호의 입출력을 위한 플렉시블 프린트 배선 기판(FPC; Flexible Printed Circuit; 220)이 설치될 수 있다.The display unit of the above embodiment or the like is, for example, a module as shown in FIG. 9 and incorporated into various electronic devices such as Application Examples 1 to 5 described later. This module is provided with, for example, an area 210 exposed from a member (not shown) that seals the display unit 10 on one side of the substrate 2, and in this exposed area 210. The wirings of the timing control circuit 21, the horizontal drive circuit 22, the write scan circuit 23, and the power supply scan circuit 24 are extended to form external connection terminals (not shown). The external connection terminal may be provided with a flexible printed circuit board (FPC) 220 for inputting and outputting signals.

적용예1Application Example 1

도 10은, 상기 실시의 형태 등의 표시 유닛이 적용된 텔레비전 장치의 외관을 나타낸 것이다. 이 텔레비전 장치는, 예를 들면, 프런트 패널(310) 및 필터 유리(320)를 포함하는 영상 표시 화면부(300)를 갖고 있고, 이 영상 표시 화면부(300)는, 상기 실시의 형태 등의 표시 유닛에 의해 구성되고 있다.10 shows the appearance of a television apparatus to which a display unit such as the above embodiment is applied. This television apparatus has the video display screen part 300 containing the front panel 310 and the filter glass 320, for example, and this video display screen part 300 is the same as the above-mentioned embodiment. It is comprised by the display unit.

적용예2Application Example 2

도 11은, 상기 실시의 형태 등의 표시 유닛이 적용된 디지털 카메라의 외관을 나타낸 것이다. 이 디지털 카메라는, 예를 들면, 플래시용의 발광부(410), 표시 유닛(420), 메뉴 스위치(430) 및 셔터 버튼(440)을 갖고 있고, 그 표시 유닛(420)은, 상기 실시의 형태 등의 표시 유닛에 의해 구성되어 있다.Fig. 11 shows the appearance of a digital camera to which a display unit such as the above embodiment is applied. This digital camera has, for example, a light emitting unit 410 for flash, a display unit 420, a menu switch 430, and a shutter button 440. It is comprised by display units, such as a form.

적용예3Application Example 3

도 12는, 상기 실시의 형태 등의 표시 유닛이 적용된 노트형 퍼스널 컴퓨터의 외관을 나타낸 것이다. 이 노트형 퍼스널 컴퓨터는, 예를 들면, 본체(510), 문자 등의 입력 조작을 위한 키보드(520) 및 화상을 표시하는 표시 유닛(530)을 갖고 있고, 그 표시 유닛(530)은, 상기 실시의 형태 등의 표시 유닛에 의해 구성되어 있다.12 shows the appearance of a notebook personal computer to which the display unit of the above-described embodiment or the like is applied. This notebook personal computer has a main body 510, the keyboard 520 for input operations, such as a character, and the display unit 530 which displays an image, for example, The display unit 530 is the said. It is comprised by display units, such as embodiment.

적용예4Application Example 4

도 13은, 상기 실시의 형태 등의 표시 유닛이 적용된 비디오 카메라의 외관을 나타낸 것이다. 이 비디오 카메라는, 예를 들면, 본체부(610), 이 본체부(610)의 앞쪽 측면에 설치된 피사체 촬영용의 렌즈(620), 촬영시의 스타트/스톱 스위치(630) 및 표시 유닛(640)을 갖고 있고, 그 표시 유닛(640)은, 상기 실시의 형태 등의 표시 유닛에 의해 구성되어 있다.Fig. 13 shows the appearance of a video camera to which a display unit such as the above embodiment is applied. This video camera includes, for example, a main body 610, a lens 620 for photographing a subject provided on the front side of the main body 610, a start / stop switch 630 and a display unit 640 at the time of shooting. This display unit 640 is comprised by display units, such as the said embodiment.

적용예5Application Example 5

도 14는, 상기 실시의 형태 등의 표시 유닛이 적용된 휴대 전화기의 외관을 나타낸 것이다. 이 휴대 전화기는, 예를 들면, 상측 박스(710)와 하측 박스(720)를 연결부(경첩부)(730)로 연결한 것이고, 디스플레이(740), 서브 디스플레이(750), 픽처 라이트(760) 및 카메라(770)를 갖고 있다. 그 디스플레이(740) 또는 서브 디스플레이(750)는, 상기 실시의 형태 등의 표시 유닛에 의해 구성되어 있다.Fig. 14 shows the appearance of a mobile phone to which the display unit of the above embodiment or the like is applied. The mobile phone is, for example, the upper box 710 and the lower box 720 connected by a connecting portion (hinges) 730, and the display 740, the sub display 750, and the picture light 760. And a camera 770. The display 740 or the sub display 750 is configured by display units such as the above embodiments.

이상, 상기 각 실시의 형태 및 그 변형예 및 적용예를 들어 본 발명을 설명했지만, 본 발명은 그것들로 한정되는 것이 아니고, 여러 가지 변형이 가능하다.As mentioned above, although this invention was demonstrated with each said embodiment, its modified example, and application example, this invention is not limited to them, A various deformation | transformation is possible.

예를 들면, 상기 실시의 형태 등에서는, 표시 유닛이 액티브 매트릭스 형인 경우에 관하여 설명했지만, 액티브 매트릭스 구동을 위한 픽셀 회로(13)의 구성은 상기 실시의 형태 등에서 설명한 것에 한정되지 않는다. 따라서 필요에 따라 용량 소자나 트랜지스터를 픽셀 회로(13)에 추가하는 것이 가능하다. 그 경우, 픽셀 회로(13)의 변경에 따라, 상술한 수평 구동 회로(22), 기록 주사 회로(23), 전원 주사 회로(24) 외에, 필요한 구동 회로를 추가해도 좋다.For example, in the above embodiment and the like, the case where the display unit is an active matrix type has been described. However, the configuration of the pixel circuit 13 for driving the active matrix is not limited to that described in the above embodiment and the like. Therefore, it is possible to add a capacitor or a transistor to the pixel circuit 13 as necessary. In that case, in accordance with the change of the pixel circuit 13, the necessary driving circuit may be added in addition to the above-described horizontal driving circuit 22, the write scanning circuit 23, and the power supply scanning circuit 24.

또한, 상기 실시의 형태 등에서는, 수평 구동 회로(22), 기록 주사 회로(23) 및 전원 주사 회로(24)의 구동을 신호 유지 제어 회로(21B)가 제어하고 있지만, 다른 회로가 이러한 구동을 제어하도록 하여도 좋다. 또한, 수평 구동 회로(22), 기록 주사 회로(23) 및 전원 주사 회로(24)의 제어는, 하드웨어(회로)로 행해져도 좋고, 소프트웨어(프로그램)로 행해져도 좋다.In the above embodiment, the signal holding control circuit 21B controls the driving of the horizontal driving circuit 22, the write scanning circuit 23, and the power supply scanning circuit 24, but other circuits perform such driving. You may make it control. In addition, the control of the horizontal drive circuit 22, the write scan circuit 23, and the power source scan circuit 24 may be performed by hardware (circuit) or may be performed by software (program).

또한, 상기 실시의 형태 등에서는, 트랜지스터(TWS)의 소스 및 드레인이나, 트랜지스터(TDr)의 소스 및 드레인이 고정된 것으로 하여 설명되고 있지만, 말할 것도 없이, 전류가 흐르는 방향에 따라, 소스와 드레인의 대향 관계가 상기의 설명과는 역으로 되는 것이 있다.In the above embodiment and the like, the source and the drain of the transistor T WS and the source and the drain of the transistor T Dr are described as being fixed, but needless to say, depending on the direction in which the current flows, The opposing relationship between and drain may be inverse to the above description.

또한, 상기 실시의 형태 등에서는, 트랜지스터(TWS, TDr)가 n채널 MOS 형의 TFT에 의해 형성되어 있는 것으로 하여 설명되고 있지만, 트랜지스터(TWS, TDr)의 적어도 한편이 p채널 MOS 형의 TFT에 의해 형성되어 있어도 좋다. 또한, 트랜지스터(TDr)가 p채널 MOS 형의 TFT에 의해 형성되어 있는 경우에는, 상기 실시의 형태 등에서, 유기 EL 소자(12)의 아노드(35A)가 캐소드로 되고, 유기 EL 소자(12)의 캐소드(35B)가 아노드로 된다. 또한, 상기 실시의 형태 등에서, 트랜지스터(TWS, TDr)는, 항상, 무정형 실리콘형의 TFT나 마이크로 실리콘형의 TFT일 필요는 없고, 예를 들면, 저온 폴리실리콘형의 TFT이라도 좋다.In the above embodiment and the like, the transistors T WS and T Dr are described as being formed by an n-channel MOS type TFT, but at least one of the transistors T WS and T Dr is a p-channel MOS. It may be formed by a TFT of a type | mold. When the transistor T Dr is formed of a p-channel MOS type TFT, the anode 35A of the organic EL element 12 becomes a cathode in the above-described embodiment and the like, and the organic EL element 12 ) Cathode 35B becomes an anode. Note that in the above embodiments and the like, the transistors T WS and T Dr do not always need to be amorphous silicon TFTs or micro silicon silicon TFTs, for example, but may be low temperature polysilicon TFTs.

본 발명은 2009년 3월 13일부로 일본특허청에 특허출원된 일본특허원 제2009-061713호를 우선권으로 주장한다.The present invention claims priority of Japanese Patent Application No. 2009-061713 filed with the Japan Patent Office on March 13, 2009.

1…표시 유닛
10…표시 유닛
11…픽셀
11R, 11G, 11B…픽셀
12, 12R, 12G, 12B…유기 EL 소자
13…픽셀 회로
20…주변 회로부
21…타이밍 제어 회로
21A…표시 신호 생성 회로
21B…표시 신호 유지 제어 회로
22…수평 구동 회로
23…기록 주사 회로
24…전원 주사 회로
31A, 32A…게이트
31B, 32B…소스
31C, 32C…드레인
33A, 33B…단자
34A, 34B, 34C, 34D…콘택트
35A…아노드
35B…캐소드
35C…유기층
36A, 36B…인출선
40…기판
41…게이트 절연막
42, 45…절연 보호막
43…절연 평탄화막
44…개구 규정 절연막
44A…EL 개구부
CS…유지 용량
DSL…드레인선
DTL…신호선
L…외광
TDr, TWS …트랜지스터
WSL…게이트 선
One… Display unit
10... Display unit
11 ... pixel
11R, 11G, 11B... pixel
12, 12R, 12G, 12B... Organic EL device
13... Pixel circuit
20... Peripheral circuit
21 ... Timing control circuit
21A... Display signal generation circuit
21B... Display signal holding control circuit
22... Horizontal drive circuit
23 ... Recording scanning circuit
24 ... Power scan circuit
31A, 32A... gate
31B, 32B... sauce
31C, 32C... drain
33A, 33B... Terminals
34A, 34B, 34C, 34D... Contact
35A... Anode
35B... Cathode
35C... Organic layer
36A, 36B... Leader
40 ... Board
41... Gate insulating film
42, 45... Insulation shield
43 ... Insulation planarization film
44 ... Aperture regulation insulating film
44A... EL opening
C S … Holding capacity
DSL… Drain wire
DTL… Signal line
L… Outer light
T Dr , T WS . transistor
WSL… Gate line

Claims (5)

발광색이 서로 다른 복수의 유기 EL 소자와,
상기 유기 EL 소자마다 하나씩 설치된 복수의 픽셀 회로를 픽셀마다 가지는 표시 유닛을 구비하고,
상기 픽셀 회로는, 영상 신호를 기록하는 기록용의 제 1의 트랜지스터와, 상기 제 1의 트랜지스터에 의해 기록된 영상 신호에 근거하여 상기 유기 EL 소자를 구동하는 구동용의 제 2의 트랜지스터와, 유지 용량을 구비하고,
상기 제 1의 트랜지스터 및 상기 제 2의 트랜지스터 중, 제 1의 유기 EL 소자에 인접한 제 2의 유기 EL 소자에 대응하여 설치된 제 3의 트랜지스터는, 상기 유지 용량 중, 상기 제 2의 유기 EL 소자에 대응하여 설치된 제 1의 유지 용량과 비교하여, 상기 제 1의 유기 EL 소자로부터 멀리 떨어져 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 표시 유닛.
A plurality of organic EL elements having different emission colors,
A display unit having a plurality of pixel circuits for each pixel, one for each organic EL element;
The pixel circuit includes a first transistor for recording that records a video signal, a second transistor for driving that drives the organic EL element based on a video signal recorded by the first transistor, and a sustain. With capacity,
The third transistor provided in correspondence with the second organic EL element adjacent to the first organic EL element among the first transistor and the second transistor is connected to the second organic EL element among the holding capacitors. A display unit, wherein the display unit is disposed far from the first organic EL element in comparison with the corresponding first storage capacitor.
제 1항에 있어서,
상기 제 3의 트랜지스터는, 상기 제 1의 유지 용량과의 관계에서, 상기 제 1의 유기 EL 소자와는 반대측에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 표시 유닛.
The method of claim 1,
The third transistor is disposed on the side opposite to the first organic EL element in relation to the first storage capacitor.
제 1항에 있어서,
상기 제 1의 유기 EL 소자는, 상기 제 1의 트랜지스터 및 상기 제 2의 트랜지스터를 열화시킬 수 있는 빛을 발생하는 유기층을 구비하는 것을 특징으로 하는 표시 유닛.
The method of claim 1,
The first organic EL element includes an organic layer that generates light capable of deteriorating the first transistor and the second transistor.
제 3항에 있어서,
상기 유기층은 청색광을 발광하는 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 유닛.
The method of claim 3, wherein
And the organic layer comprises a material emitting blue light.
제 3항에 있어서,
상기 제 3의 트랜지스터는 무정형 실리콘(a-Si) 또는 미결정 Si(μ-Si)를 포함하는 채널을 구비하는 것을 특징으로 하는 표시 유닛.
The method of claim 3, wherein
And said third transistor comprises a channel comprising amorphous silicon (a-Si) or microcrystalline Si (μ-Si).
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