KR20100102179A - 고체 함유 가스로부터 고체 입자의 조대물 분리를 위한 방법 및 장치 - Google Patents

고체 함유 가스로부터 고체 입자의 조대물 분리를 위한 방법 및 장치 Download PDF

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지멘스 브이에이아이 메탈스 테크놀로지스 게엠베하
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Abstract

본 발명은 고체 함유 가스로부터 고체 입자의 조대물(coarse)을 분리하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 또한, 본원 발명은 반응기 내에서, 특히 높은 온도의 유동화 영역 내에서 처리 가스에 의해서 미립자형 공급 물질을 처리하기 위한 방법에 관한 것이다. 한쪽이 막힌 홀-타입 라인 프로젝션으로 인해서, 고체 입자를 고체-함유 가스로부터 분리할 수 있다.

Description

고체 함유 가스로부터 고체 입자의 조대물 분리를 위한 방법 및 장치 {METHOD AND DEVICE FOR COARSE SEPARATION OF SOLID PARTICLES FROM SOLID-LADEN GASES}
본 발명은 고체 함유 가스로부터 고체 입자의 조대물(coarse)을 분리하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 또한, 본원 발명은 반응기 내에서, 특히 높은 온도의 유동화 영역(fluidization zone) 내에서 처리 가스에 의해서 미립자형 공급 물질을 처리하기 위한 방법에 관한 것이다.
미립자형 물질의 처리를 위한 반응기로부터 배출된 고체-함유 처리 가스가 예를 들어 사이클론(cyclone)과 같은 분리 수단으로 공급되는 것이 EP 1 397 521 로부터 공지되어 있다. 예를 들어 유체화 베드(bed)에서와 같은 유체화 영역 내에서의 프로세스로 인해서, 고체들이 처리 가스와 함께 방출된다. 사이클론 내에서, 이러한 고체가 처리 가스로부터 분리되고, 그러한 고체는 반응기로 다시 보내질 것이다. 이러한 것의 단점은, 고체를 반응기로 복귀시키는 동안에 큰 입자들이 공급 장치를 막을 수 있다는 것이다.
그에 따라, 본원 발명의 목적은 고체-함유 가스로부터 고체를 안전하게 분리할 수 있고 그리고 전술한 종래 기술의 단점을 해소할 수 있는 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
본원 발명의 목적은 특허청구범위 제1항의 특징부에 기재된 바와 같은 조대물 분리를 위한 발명에 따른 장치 및 제10항의 특징부에 기재된 바와 같은 조대물 분리 방법에 따라서 달성된다.
본원 발명에 다른 장치는 고체가 고체-함유 가스로부터 분리될 수 있게 한다. 고체들은 미립자형 물질의 환원에 이용되는 반응기로부터 처리 가스와 함께 배출되는 것이 일반적이다. 특히, 유동화 영역의 작업 동안에, 고체들이 처리 가스와 함께 방출된다는 것이 공지되어 있다. 이들 고체들은 처리 가스로부터 분리되어야 할 것이고 그리고 반응기로 복귀될 수 있을 것이다. 유동화 영역으로 인해서, 매우 많은 방출이 발생될 수 있으며, 심지어는 비교적 큰 고체 입자도 혼입(entrained)될 수 있을 것이다.
본원 발명에 따른 장치의 결과로서, 반응기로부터 방출 또는 배출되는 고체 입자는 한쪽이 막힌 홀-타입의 라인 프로젝션(blind hole-type line projection) 내로 이송되는 한편, 가스들은 원호형 드레인 라인으로 유동된다. 이는 조대한(coarse) 고체 입자들이 가스와 함께 유동하는 것을 방지한다. 그 입자들은 실질적으로 수직으로 또는 경사지게 정렬된 공급 라인 내에 잔류하며, 그에 따라 조대물 분리가 즉각적으로 이루어진다. 이와 관련하여, 장치가 가동 부분(movable parts)이 없이 구성되는 것이 바람직할 것이고 그리고 고체 입자들이 공급 라인내에 확실하게 남아 있는 것이 바람직할 것이다. 본원 발명에 따른 장치는 고체 입자들, 특히 조대한 입자들의 방출을 실질적으로 방지할 수 있으며, 그에 따라 고체 입자들은 고체-함유 가스의 추가적인 처리 동안에 문제를 발생하지 않게 된다.
바람직한 실시예에 따라, 적어도 특정 부분에서 원호형인 드레인 라인의 공급 라인 상의 위치는, 라인 프로젝션의 길이가 원호형 드레인 라인의 높이에 실질적으로 상응하도록(correspond), 선택된다. 라인 프로젝션의 길이의 조정 조정은 고체 입자가 도입되는 공간이 작업 압력과 같은 작업 파라미터에 따라서 조정될 수 있게 허용한다. 라인 프로젝션의 길이는 고체-함유 가스의 부피 유동 및 유동 속도에 따라서 결정된다. 원호형 드레인 라인이 유동 저항에 영향을 미침에 따라, 라인 프로젝션의 길이가 드레인 라인의 높이에 실질적으로 상응하는 것이 바람직하다는 것을 발견하였다.
또 다른 바람직한 실시예에 따라서, 라인 프로젝션의 길이는 공급 라인의 순수(clear) 폭의 0.3 - 3배, 특히 0.5 - 1배에 실질적으로 상응한다. 이러한 순수 폭 및 길이의 조합은 고체 입자들의 크기에 따라서 광범위한(extensive) 조대물 분리가 달성될 수 있게 허용한다. 이는 고체 입자들의 관성을 이용한다.
본원 발명에 따라서, 원의 원호 또는 직선 세그먼트(segment)로부터 구성된 원호 형태를 가지는 원호형 드레인 라인의 곡률은 원호형 드레인 라인의 순수 폭의 약 3 -5배의 반경을 가진다. 이러한 실시예는 휘어짐(deflection)과 관련한 압력 강하 및 유동 특성과 관련하여 바람직한 것으로 입증되었다. 그 대신에, 다수의 세그먼트를 이용하여 원호 형태를 구성할 수도 있을 것이다. 이는 원의 원호 형태에 대한 저렴한 대안이 될 수 있을 것이다.
본원 발명에 따른 장치의 특정 구성에 따라서, 원호형 드레인 라인과 공급 라인의 순수 폭들은 실질적으로 동일하다. 결과적으로, 내측 유동 단면은 실질적으로 일정하고, 그에 따라 장치 내의 압력 강하 역시 낮게 유지될 수 있을 것이다. 이는 또한 고체-함유 가스의 처리를 위한 후속 유닛과 관련하여서도 바람직할 것이다.
본원 발명에 따른 장치의 바람직한 구성에 따라서, 공급 라인 및/또는 원호형 드레인 라인의 단면들은 원형이고, 한쪽이 막힌 홀-타입 프로젝션이 원호부로 개방된 영역에서 상기 라인들은 보강용 리브(ribs)를 포함하는 평평한 벽을 구비한다. 원형 단면의 결과로서, 바람직하게 낮은 유동 저항이 장치 내에서 얻어진다. 원호 영역 내에서, 한쪽이 막힌 홀-타입 라인 프로젝션은 2개의 평평한 벽 부분을 생성한다. 가압되는 라인의 구성에서, 이들 평평한 벽 부분들은 리브들의 정렬에 의해서 보강된다.
본원 발명에 따른 장치의 추가적인 구성에서, 한쪽이 막힌 홀-타입 라인 프로젝션의 덮개가 공급 라인의 축선에 대해서 수평으로 및/또는 수직으로 정렬된 평평한 내측 표면을 가질 수 있을 것이고, 또는 접시형 바닥(dished bottom)이나 구형 캡 등에 상응하는 원호형 표면을 가질 수 있을 것이다. "접시형 바닥"이라는 용어는 엣지에 근접하여 보다 작은 곡률을 가지고 그리고 중심에서 보다 큰 곡률을 가지는 돔(dome) 형상을 지칭한다.
공급 라인은 휘어짐을 보강하기 위해서 S-형상 방식으로 수직으로 또는 경사지게 정렬되거나 또는 다른 방식으로 형성될 수 있을 것이다.
유동화 영역을 가지는 반응기의 경우에, 고체 입자들은 종종 처리 가스와 함께 매우 고속으로 반응기 외부로 방출되거나 배출된다. 그에 따라, 이들 고체 입자들이, 일부의 경우에 매우 고속으로, 라인 프로젝션 내의 덮개를 타격하고 그에 따라 반사되며, 중력으로 인해서 고체 입자들이 공급 라인을 통해서 반응기로 복귀된다. 유동화 영역을 가지는 많은 반응기들의 특성으로 인해서, 고체 입자들은 계속적으로 배출되지 않고 특정 압력 상황하에서만 배출된다. 이는, 방출된 고체 입자들이 공급 라인 및 라인 프로젝션으로만 유입되게 보장하거나 반응기로 다시 낙하되게 보장한다. 이러한 목적을 위해서, 본원 발명에 따른 장치를 반응기 위쪽에 배치하는 것이 일반적이라 할 것이다.
본원 발명에 따라서, 드레인 라인 내에서, 미리 정화된(prepurified) 가스를 냉각시키기 위해서, 미리 정화된 가스 내로 냉각 가스 유동을 도입하기 위한 연결부가 제공된다. 이에 따라, 한편으로 장치에 따라서 가스의 목표 온도가 셋팅될 수 있을 것이고 그리고 고체-함유 가스의 추가적인 처리를 위한 준비 작업이 가능해질 수 있을 것이다.
본원 발명에 따른 장치의 특정 구성에 따라서, 내부 세정을 위해서, 특히 부착물 제거를 위해서 원호형 드레인 라인의 영역 내에서 폐쇄가능한 개구부가 공급 라인에 제공된다. 고온의 고체-함유 가스 상태하에서 장치가 이용된다면, 부착물이나 케이킹-온(caking-on)이 발생될 수 있을 것이다. 개구부는 내부 세정 또는 케이킹-온의 제거를 용이하게 하며; 또한 장치를 체크할 수 있게 허용한다.
고체-함유 가스로부터 고체 입자의 조대물 분리를 위한 본원 발명에 따른 방법은 단순한 디자인을 특징으로 한다. 고체-함유 가스는 본원 발명에 따른 장치의 공급 라인을 통해서 단부 측에서 공급된다. 공급 라인은 타단부 측이 덮개에 의해서 폐쇄된다. 고체 입자 수용을 위한 한쪽이 막힌 홀-타입 라인 프로젝션을 형성하도록 공급 라인 상의 원호형 드레인 라인이 정렬되며, 이때 공급 라인 내로 도입되는 고체들은 관성으로 인해서 상기 라인 프로젝션내로 이송되고 그리고 이러한 경우에 적어도 부분적으로 가스로부터 분리된다. 드레인 라인을 통해서 잔류 고체 입자와 함께 가스가 인출된다. 결과적으로, 매우 미세한 고체 입자들이 가스와 함께 원호형 드레인 라인으로 유입되고, 그에 따라 고체의 대부분은 공급 라인 내에 남게 된다. 그러나, 무엇보다도, 상기 방법은 조대한 고체 입자가 가스와 함께 드레인 라인으로 유입되는 것을 방지한다. 이는, 입자 크기가 5-10 mm를 초과하는 고체 입자들이 가스의 처리를 위한 후속 단계들 중에 심각한 문제를 유발할 수 있기 때문에, 실질적인 이점이 될 수 있을 것이다. 이와 관련하여, 고체 입자들이 관성을 이용하여 분리되고, 그에 따라 휘어진 부분 또는 복잡한 방법 단계들을 필요로 하지 않는다는 점에서 유리하다 할 것이다.
본원 발명에 따른 방법의 특히 바람직한 구성에 따라서, 라인 프로젝션 내에서 분리된 고체들이 중력으로 인해서 공급 라인을 통해서 다시 방출된다. 이러한 매우 단순한 해결책은 분리된 고체 입자의 안전한 제거를 제공할 뿐만 아니라 제거를 위한 상응 장치에 대한 필요성도 제거할 수 있을 것이다.
본원 발명에 따른 방법의 하나의 가능한 구성은, 공급 라인을 통한 분리된 고체의 방출 동안에, 라인 프로젝션 내의 고체의 낙하 속도가 공급 라인 내의 고체-함유 가스의 가스 속도 보다 크게 한다. 다시 말해서, 고체의 낙하 속도가 가스 속도 보다 클 때, 고체 입자가 공급 라인을 통해서 방출될 수 있을 것이다.
본원 발명에 따른 방법의 추가적인 구성은, 분리된 고체들이 라인 프로젝션의 덮개 상에서 반사(reflect)되도록 하고 그리고 공급 라인 내로 다시 유입되게 한다. 빠른 가스 또는 고체 입자 속도에서, 입자들은 빠른 속도로 덮개를 타격하고 이어서 공급 라인 내로 다시 낙하된다.
본원 발명에 따른 방법의 하나의 구성에 따라서, 냉각 가스 유동이 냉각을 위해서 미리 정화된 가스에 부가된다. 조대물 분리가 일단 실행되면, 추가적인 처리를 위해서 미리 정화된 가스가 열적으로 조정될 수 있다. 이는 냉각 가스 유동을 부가함으로써 이루어질 수 있으며, 그에 따라 예를 들어 매우 높은 온도의 가스가 냉각될 수 있을 것이다.
본원 발명에 따른 방법의 바람직한 구성에 따라서, 미리 정화된 가스 내에 잔류하는 고체가 추가적인 분리 수단 내에서 분리된다. 이미 이루어진 조대물 분리로 인해서 그리고 가스 온도의 감소가 해당되는 경우에 그러한 가스 온도의 감소로 인해서, 가스가 후속 분리 수단에 맞춰 최적으로 준비될 수 있을 것이며, 그에 따라 분리 수단이 최적화된 높은 효율의 그리고 문제가 없는 작업을 제공할 수 있을 것이다. 특히, 사이클론 분리 장치가 이용된다면, 고온 가스의 경우에 온도를 낮출 필요가 있을 것이고 그리고 특정 유동 속도로 맞춰야 할 필요가 있을 것이다. 미리 실시된 조대물 분리의 결과로서, 이러한 경우에, 조대물 고체 입자들이 안전하게 분리되었고 그리고 충분히 높은 유동 속도가 유지될 수 있으며, 그에 따라 사이클론이나 다른 분리 수단에서 최적의 분리가 이루어질 수 있을 것이다.
본원 발명에 따른 목적은 특허청구범위 제16항의 특징부에 기재된 바와 같은 미립자형 공급 물질을 처리하기 위한 본원 발명에 따른 방법에 따라 추가적으로 달성될 수 있을 것이다.
본원 발명에 따른 미립자형 공급 물질, 특히 미세 광석(fine ores)을 처리하기 위한 방법은 반응기 내의, 특히 유동화 영역 내의 처리 가스에 의해서 그리고 고온에서 실시된다. 고체-함유 처리 가스가 반응기 내의 반응의 결과로서 방출되고, 이는 일부 경우에 반응기로부터 분출-타입의 결과를 초래할 수 있으며, 제1항 내지 제8항에 기재된 바와 같이, 장치로 공급될 수 있을 것이다.
유동화 영역의 작업이 반응기 내에서 압력 피크(peaks)를 반복적으로 유도하는 것으로 공지되어 있으며, 그러한 압력 피크는 분진과 작은 고체 입자를 초래할 뿐만 아니라 입자 크기가 5 -10 mm 보다 큰 크기의 보다 큰 입자들이 반응기 외부로 방출되게 만든다. 이러한 타입의 입자들은 케이킹-온, 부착으로 인한 장애를 일으킬 수 있을 뿐만 아니라, 유동 단면을 감소시켜 막힘까지 초래할 수 있을 것이다. 본원 발명에 따른 방법은 이렇게 문제가 있는 영역들을 제거한다.
고체-함유 처리 가스들이 공급 라인을 통해서 공급되고, 이때 공급 라인 내로 도입된 고체들이 관성으로 인해서 라인 프로젝션 내로 이송되고 그리고 처리 가스로부터 적어도 부분적으로 분리된다. 미리 정화된 처리 가스가 드레인 라인을 통해서 인출된다. 라인 프로젝션 내의 분리된 고체들이 중력으로 인해서 공급 라인을 통해서 반응기로 복귀된다. 이는, 예를 들어 미세 광석 또는 기타 미세 철광석과 같은 방출된 고체 입자들로 인한 손실을 낮게 유지할 수 있게 보장한다.
본원 발명에 따른 방법의 특히 바람직한 구성에 따라서, 미리 정화된 처리 가스 내에 잔류하는 고체들은 추가적인 분리 수단 내에서 분리되며, 이들 고체들은 주입 장치를 통해서 반응기로 복귀된다. 이는, 처리 가스와 함께 방출되는 거의 모든 입자들이 반응기로 그리고 프로세스로 복귀될 수 있게 한다. 그에 따라, 가치가 있는 물질, 예를 들어 광석의 손실을 매우 낮게 유지할 수 있다.
본원 발명에 따른 방법의 추가적인 특히 바람직한 구성에서, 상기 방법은 환원 방법이 될 것이다. 환원 방법의 경우에, 처리 가스와 함께 방출되는 예를 들어 광석 또는 기타 철광석과 같은 부분적으로 또는 광범위하게 환원된 물질이 상당히 손실될 수 있는데, 이는 가치 있는 물질/환원된 물질이 복잡한 처리를 거쳐야 하고 그리고 재도입되어야 하기 때문이다. 상기 방법은 이러한 것을 대부분 피할 수 있을 것이다.
이하에서는, 가능한 구성의 실시예를 기초로 하여 본원 발명을 보다 구체적으로 설명한다.
도 1은 조대물 분리를 위한 본원 발명에 다른 장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 2는 물질의 열적/야금학적 처리를 위한 반응기 위쪽의 본원 발명에 따른 장치의 배치 상태를 도시한 도면이다.
도 3은 물질의 열적/야금학적 처리를 위한 반응기 위쪽의 본원 발명에 따른 장치의 배치 상태를 도시한 도면으로서, 경사지게 정렬된 공급 라인과 함께 도시한 도면이다.
도 1은 라인을 통해서 고체-함유 가스 발생기(generator)로 연결되는 실질적으로 수직으로 정렬된 공급 라인(1)을 도시한다. 통상적인 배치에서, 이러한 타입의 발생기(반응기 8; 도 2 참조) 위쪽의 공급 라인(1)이 장치에 제공된다. 수 많은 야금학적 방법에서, 예를 들어, 환원 방법 또는 기타 야금학적/열적 방법에서, 미세한 물질 입자들이 상기 방법들의 프로세스 가스들(처리 가스들)과 함께 발생된다. 만약 입자들이 작다면, 그 입자들은 가스 유동에 특히, 종종 발생하는 고속 가스에 혼입될 것이다. 예를 들어, 유동화 영역을 기초로 하는 유동화 베드 방법의 경우에, 빠른 가스 속도와 조합된 분출-타입 이동(eruption-type movements)이 유동화 영역 내에서 반복적으로 발생된다는 것이 공지되어 있다. 이들 이동은 라인들을 통해서 처리 가스의 방출구로 연결되고, 그에 따라 고체-함유 가스(G)를 생성하며, 그러한 고체-함유 가스의 추가적인 처리는 복잡하고 비용이 많이 소요된다 할 것이다. 유동화 영역을 가지는 반응기로부터 고체를 방출하는 경우에, 고체-함유 가스(G)가 공급 라인(1)을 통해서 본원 발명에 따른 장치로 유입된다. 이러한 경우에, 고체 입자들이 라인 프로젝션(5)에 의해서 형성된 한쪽이 막힌 홀-타입 공간 내로 던져지게 된다. 고체 입자들의 관성으로 인해서, 고체 입자들의 대부분(majority)이 라인 프로젝션(5) 내에 잔류하고 그리고 원호형 드레인 라인(2) 내로 유입되지 않게 된다.
중력은 라인 프로젝션 내에 잔류하는 고체 입자들이 공급 라인을 통해서 원래의 반응기로 복귀될 수 있게 한다.
그에 따라, 분리된 고체 입자들을 장치로부터 방출하기 위한 수단이 필요치 않게 된다.
가스 유동이 방해받지 않도록 하기 위해서, 공급 라인(1) 내로의 개구부의 영역 내에서 드레인 라인(2)이 원호형 방식으로 형성된다. 추가적인 처리 수단으로의 연결이 가능하도록 하기 위해서, 원호형 드레인 라인(2)의 자유 단부가 어떠한 원하는 형상으로도 형성될 수 있을 것이다.
도 2에 따라서, 원호형 드레인 라인이, 예를 들어 사이클론(9)과 같은, 추가적인 분리 수단으로 연결될 수 있을 것이다. 이는 조대물 분리와 미세물 분리를 포함하는 적어도 2-단계의 분리를 제공하며, 적절한 경우에 제 2 단계에서 분리된 고체 입자들이 반응기로 복귀될 수 있을 것이다. 통상적으로, 예비 분리 단계에서 미리 정화된 가스 내로 냉각 가스가 연결부(6)를 통해서 도입되고, 그에 따라 상기 가스의 온도가 조정되며, 일반적으로는 냉각된다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본원 발명에 따른 다수의 장치가 반응기(8)로 연결되게 정렬될 수 있을 것이다.
바람직하게, 공급 라인(1)은 폐쇄가 가능한 개구부(7)를 원호형 드레인 라인(2)의 영역 내에 구비한다. 이는, 장치의 내부로의 접근을 허용하고 그리고 내부 세정을 가능하게 한다. 많은 수의 고체-함유 가스들의 경우에, 가스가 통과하는 장치 내에서 부착 또는 케이킹(caking)이 발생된다. 간단한 부착물의 제거나 장치의 검사가 개구부(7)를 통해서 이루어질 수 있을 것이다.
고체-함유 가스 발생기 마다 필요한 조대물 분리 장치의 수가 필요에 따라 결정될 수 있을 것이다. 통상적인 산업적 반응기들은 4 내지 8개의 조대물 분리 장치를 구비할 수 있을 것이다. 도 2는 반응기(8)로의 경사진 라인 링크(10)를 수직 공급 라인(1) 및 수직의 한쪽이 막힌 홀-타입 프로젝션(5)과 함께 도시하고 있다. 그러나, 프로젝션(5)은 또한 라인 링크(10)의 축방향 연장선을 따라 연장할 수도 있을 것이다.
사이클론(9) 내에서 분리된 고체 입자(11)가 주입장치(도시되지 않음)를 통해서 반응기로 복귀될 수 있을 것이다.
도 3에 따라서, 공급 라인(1)이 경사지게 정렬되며, 그에 따라 반응기로부터 장치 내로 S-형상의 라인을 생성하며, 이는 보다 많은 휘어짐(deflection)이 제공될 수 있게 한다.

Claims (18)

  1. 특히 처리 가스를 이용하여 미립자형 공급 물질을 처리하기 위한 반응기로부터의 고체-함유 가스로부터 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 장치로서, 실질적으로 수직으로 또는 경사지게 정렬된 공급 라인(1) 및 드레인 라인(2)을 구비하고, 상기 드레인 라인은 적어도 특정 부분에서 원호 형상이며 미리 정화된 가스로부터 잔류 고체를 분리하기 위한 분리 수단에 선택적으로 연결될 수 있는, 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 장치에 있어서,
    상기 고체-함유 가스(G)가 공급 라인의 일 단부측(3)을 통해서 공급될 수 있으며, 상기 공급 라인의 타단부는 덮개(4)에 의해서 폐쇄되며, 상기 원호형 드레인 라인(2)이 상기 공급 라인(1) 상에 정렬되어 고체 입자를 수용하기 위한 한쪽이 막힌 홀-타입 라인 프로젝션(5)을 형성하는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 라인 프로젝션(5)의 길이가 상기 원호형 드레인 라인(2)의 높이에 실질적으로 상응하도록 상기 공급 라인(1) 상의 원호형 드레인 라인(2)의 위치가 선택되는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 라인 프로젝션(5)의 길이가 실질적으로 상기 공급 라인(1)의 순수 폭의 0.3 - 3배, 특히 0.5 - 1배에 상응하는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 장치.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    원의 원호 또는 직선 세그먼트들로 구성된 원호의 형태를 가지는 상기 원호형 드레인 라인(2)의 곡률이 상기 원호형 드레인 라인(2)의 순수 폭의 약 3 - 5배의 반경을 가지는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공급 라인(1) 및 상기 원호형 드레인 라인(2)의 순수 폭들이 실질적으로 서로 동일한
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 장치.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공급 라인(1) 및/또는 상기 원호형 드레인 라인(2)의 단면이 원형이고, 상기 공급 라인 및 드레인 라인은, 한쪽이 막힌 홀-타입 프로젝션이 원호형 부분 내로 개방되는 영역에서, 보강을 위한 리브들을 포함하는 평평한 벽 부분들을 구비하는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 장치.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 한쪽이 막힌 홀-타입 라인 프로젝션(5)의 덮개(4)가 상기 공급 라인(1)의 축선에 대해서 수평 및/또는 수직으로 정렬된 평평한 내측 표면 또는 접시형 바닥이나 구형 캡 등에 상응하는 원호형 표면을 구비하는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 장치.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 드레인 라인 내에서, 미리 정화된 가스의 냉각을 위해서, 미리 정화된 가스 내로 냉각 가스 유동을 도입하기 위한 연결부(6)가 제공되는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 장치.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    내부 세정을 위해서, 특히 부착물의 제거를 위해서, 상기 원호형 드레인 라인의 영역 내에서, 폐쇄가 가능한 개구부(7)가 상기 공급 라인 내에 제공되는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 장치.
  10. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 장치에서, 특히 처리 가스를 이용하여 미립자형 공급 물질을 처리하기 위한 반응기로부터의 고체-함유 가스로부터 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 방법에 있어서,
    상기 고체-함유 가스가 공급 라인의 일 단부측을 통해서 공급되고, 상기 공급 라인의 타 단부측이 덮개에 의해서 폐쇄되며, 상기 원호형 드레인 라인이 상기 공급 라인 상에 정렬되어 상기 고체 입자를 수용하기 위한 한쪽이 막힌 홀-타입 라인 프로젝션을 형성하며, 상기 공급 라인 내로 도입되는 고체는 관성으로 인해서 상기 라인 프로젝션 내로 이송되고 그리고 이러한 경우에 가스로부터 적어도 부분적으로 분리되며, 상기 가스가 드레인 라인을 통해서 잔류 고체와 함께 인출되는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 라인 프로젝션 내의 분리된 고체가 중력으로 인해서 공급 라인을 통해서 다시 방출되는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 방법.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 공급 라인을 통한 분리된 고체의 방출 동안에, 상기 라인 프로젝션 내의 고체의 낙하 속도가 상기 공급 라인 내의 고체-함유 가스의 가스 속도 보다 큰
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 방법.
  13. 제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 분리된 고체가 상기 라인 프로젝션의 덮개 상에서 반사되고 그리고 상기 공급 라인 내로 다시 방출되는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 방법.
  14. 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    냉각을 위해서, 상기 미리 정화된 가스로 냉각 가스 유동이 부가되는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 방법.
  15. 제 10 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 미리 정화된 가스 내에 잔류하는 고체들이 추가적인 분리 수단 내에서 분리되는
    것을 특징으로 하는 고체 입자의 조대물을 분리하기 위한 방법.
  16. 반응기 내에서, 특히 유동화 영역 내에서 그리고 높은 온도에서 처리 가스를 이용하여 미립자형 공급 물질, 특히 미세 광석을 처리하기 위한 방법으로서, 고체-함유 처리 가스가 상기 반응기로부터 방출되고 그리고 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 장치로 공급되는, 미립자형 공급 물질 처리 방법에 있어서,
    상기 고체-함유 처리 가스가 공급 라인을 통해서 공급되고, 상기 공급 라인 내로 도입된 고체는 관성으로 인해서 상기 라인 프로젝션 내로 이송되고 그리고 상기 처리 가스로부터 적어도 부분적으로 분리되며, 상기 미리 정화된 가스는 상기 드레인 라인으로부터 인출되고, 상기 라인 프로젝션 내의 분리된 고체는 중력으로 인해서 공급 라인을 통해서 반응기로 복귀되는
    것을 특징으로 하는 미립자형 공급 물질 처리 방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 미리 정화된 처리 가스 내에 잔류하는 고체가 추가적인 분리 수단 내에서 분리되고, 이들 고체는 주입 장치를 통해서 반응기로 복귀되는
    것을 특징으로 하는 미립자형 공급 물질 처리 방법.
  18. 제 16 항 또는 제 17 항에 있어서,
    상기 방법이 환원 방법인
    것을 특징으로 하는 미립자형 공급 물질 처리 방법.
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