KR20100102174A - 스틸 스트립의 연속 산세척 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 연속 이송되는 스틸 스트립의 산세척에 관한 것이며, 보다 구체적으로는 산세척 동작 전체의 중앙 제어를 포함하는 산세척 방법 및 이를 실행하기 위한 장치(1)에 관한 것이다.

Description

스틸 스트립의 연속 산세척 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR THE CONTINUOUS PICKLING OF STEEL STRIP}
본 발명은 일반적으로 산세척(pickling) 장치를 통해서 연속으로 이송되는 스틸 스트립의 산세척에 관한 것이며, 더 구체적으로는 모든 산세척 작업의 중앙 제어를 포함하는 산세척 방법 및 상기 산세척을 실행하기 위한 장치에 관한 것이다.
그 제조 공정에서, 스틸 스트립은 압연의 종료 시에 거의 1200℃에 도달할 수 있는 온도에서 열간 압연되고 이후 냉간 압연된다. 열간 압연 이후에, 스틸 스트립은 압연된 스트립의 표면에 물을 분사함으로써 냉각되며, 800℃까지의 온도에서 코일에 권선된다. 열간 압연 중에, 물 분사에 의한 산화 반응은 "스케일(scale)"로 공지되어 있는 철-산화물 층을 형성하여, 열간 압연 이후 스틸 스트립은 비교적 두껍고 경질인 스케일 층에 의해 커버된다. 산화는 코일이 공냉되는 동안 계속된다. 산화의 상이한 온도 및 소스로 인해 스케일 내에는 세 가지의 철 산화물이 존재하게 된다. 이 스케일은 최종 냉간 압연 전에 제거되어야 하며, 그렇지 않을 경우 이는 금속을 덮어서 금속의 표면 상태 및 딥 드로잉(deep drawing)에 대한 금속의 적합성을 크게 변경시킬 것이다. 또한, 스케일 층이 너무 경질이면, 스틸 스트립 상의 그 존재가 냉간-압연 롤러의 매우 급속한 마모를 초래할 수 있다. 열간-압연된 스트립의 산세척을 위해서는, 산세척 용액이 저장된 탱크를 통해서 연속으로 이송되는 스트립에 대해 화학적 산세척을 적용시키는 특수 라인을 포함하는 시스템이 통상적으로 사용된다.
가장 오래된 시스템에서, 산세척 용액은 황산 용액이다. 그러나, 오늘날은 환경 상의 이유와 생산성의 이유로 염산에 기초한 산세척 용액이 사용된다.
통상적인 연속 산세척 라인 장치(1)의 일 예가 도 1에 도시되어 있다. 산세척 장치(1)는,
- 후속 산세척 공정을 가속화시키기 위해, 스틸 스트립(2)의 열간 압연 중에 스틸 스트립(2)의 표면에 형성된 산화물에 대한 파쇄(fragmentation) 시스템(11),
- 이들 산화물을 부식시키기 위한 산을 위한 다수의 산세척 탱크(도 1에 도시되지 않음)를 포함하는 실제 산세척 시스템(12), 및
- 스트립(2)의 표면에 존재하는 산(특히 염산)과 철 염화물을 제거하기 위한 헹굼 유닛(15)을 포함하며,
상기 파쇄 시스템(11), 산세척 시스템(12) 및 헹굼 유닛은 산세척되는 스트립(2)이 산세척 장치(1)를 통해서 연속적으로 이송될 때 이들을 연속적으로 지나도록 순차적으로 배치된다.
도 1에 도시된 장치(1)는 또한,
- 상기 파쇄 시스템(11)의 상류에 순차로 배치되는, 교대로 동작하는 한 세트의 스트립 언코일러(uncoiler)(21), 용접기(23) 및 제1 축적 시스템(4), 및
- 상기 산세척 시스템(12)의 하류에 역시 순차로 배치되는 건조기(25), 제2 축적 시스템(26), 에지 전단기(edge shear)(27), 주유기(oiler)(28), 전단기(29) 및 한 세트의 코일러(coiler)(30)를 포함한다.
동작 시에, 산세척되는 스트립(2)은 스트립 언코일러(21)에 의해 언코일링되고, 스트립(2)의 헤드를 절취(crop)하는 전단기(22)를 통과한다. 이후 용접기(23)를 통과하는 스트립(2)은 전단기(22)에 의해 앞서 절취된 스트립의 후미(tail)에 용접된다. 이후 축적 시스템(24)은 이전 스트립의 후미와 산세척 중인 스트립(2)이 용접될 때 스트립(2)을 축적 가능하게 하여 하류, 즉 파쇄 시스템(11)의 직전 상류로 복귀 가능하게 한다. 스트립(2)은 이후 산화물 브레이커로 주지되어 있는 산화물 파쇄 시스템(11)을 통과한다. 이 파쇄 시스템(11)은 특히 열간 압연 단계 중에 스트립(2)에 형성되는 스케일의 기계적 파쇄를 가능하게 하며, 이는 이 기계적 파쇄에 바로 이어지는 스트립(2)의 산세척을 촉진 및 가속화한다. 파쇄 시스템(11)을 통과한 후, 산세척되는 스트립(2)은 계속해서 산세척 시스템(12)의 산세척 탱크를 통해서 이송되며, 이들 탱크는 각각 휘도는(churning) 산세척 용액으로 충전된다. 스트립(2)의 산세척은 침지에 의해 실현되며, 산세척된 스트립(2)이 얻어진다. 산세척 시스템(12)의 탱크를 통과한 후, 스트립(2)은 헹굼 유닛(15)에서 헹궈지고, 이후 건조기(25)에서 건조된다. 제2 축적 장치(26)는 절취 및 코일러(30) 로딩 동작 중에 스트립(2)이 산세척 장치(1)를 통해서 계속 이송될 수 있게 한다.
에지 전단기(27)는 크랙과 같은 "에지" 결함이 없도록 보장하고 연속적인 스트립 폭을 보장하기 위해 스트립의 에지를 제거하는데 사용된다. 주유기(28)는 산세척된 시트를 산화로부터 보호하기 위해 사용된다. 전단기(29)는 코일의 단부에서 스트립(2)을 절취하고, 교대로 동작하는 코일러(30)는 산세척된 스트립(2)을 코일링한다.
전체 스트립 산세척 동작을 가속화하기 위한 산화물 파쇄 동작은 통상, 도 1에 개략 도시되고 도 2에 보다 자세히 도시된 것과 같은 산화물 파쇄 시스템(11)에서 실현된다. 이 파쇄 시스템(11)은 지지 롤(112)에 의해 지지되는 동작 롤(111) 상에서 스트립(2)을 번갈아 구부리는 것을 포함하는 "텐션 레벨링(tension leveling)"으로 공지된 기술을 사용하여 스케일 층을 파쇄시킬 수 있으며, 스트립(2)은 입력 텐셔너(tensioner)(113) 및 출력 텐셔너(114)에 의해 신장된다. 신장은 2%에 달할 수 있다. 도 3에 도시된 예시적 파쇄 시스템(12)은 연속 산세척 라인에서 가장 보편적으로 사용되는 시스템 중 하나이다. 이러한 시스템(11)은 또한 산세척되는 스트립(2)의 평탄성을 향상시키는 것을 도와준다.
실제 산세척 동작은 철 산화물("스케일")을 산세척 용액과 반응시키는 것을 포함한다. 이 산세척 용액에서는 스케일 층의 화학적 특징에 따라 상이한 화학 반응이 일어난다.
사실, 스트립이 열간 압연기(hot mill)의 최종 마무리 압연의 출력부와 코일러 사이에서 고온 상태일 때, 스케일은 초급산화물(protoxide) FeO, 자철광 Fe3O4 및 약간의 적철광 Fe2O3의 층들로 구성된 구조를 갖는다. 코일이 대기에서 냉각될 때, 스트립 헤드와 후미 및 에지는 급속히 냉각되고, 스케일은 Fe3O4 및 Fe2O3 구조로 진화한다. 스트립의 잔여부가 더 천천히 냉각되면, 그곳에 형성되는 스케일은 FeO가 약간 남아있을 수 있는 본질적으로 Fe3O4-Fe 공융 조성물이다.
따라서, 염산에 기초한 산세척 용액에서의 산세척 도중에, 이하의 화학 반응이 일어난다:
(1) FeO + 2HCl → FeCl2 + H2O
(2) Fe2O3 + 6HCl → 2FeCl3 + 3H2O
(3) Fe3O4 + 8HCl → FeCl2 + 2FeCl3 + 4H2O
(4) Fe + 2HCl → FeCl2 + H2가스
(5) 2FeCl3 + Fe → 3FeCl2
이들 반응은, 산세척 도중에 산세척 용액이 덜 산성적이 되고 그에 따라 철 염화물로 충전되어가는 전체적인 경향을 갖는 것을 보여준다. 연속적인 산세척 공정은 산세척 용액의 특징이 가능한 한 일정하게 유지될 것을 요구하므로, 이는 필연적으로 산세척 설비와 나란히 배치되고 노 또는 원자로에 주입됨으로써 동작하는 "재생" 탱크에서 재생되어야 한다. 더욱이, 특히 스트립이 욕(bath) 내에서 정지하는 경우 베어 스틸(bare steel)의 산성 부식을 제한하기 위해 억제제가 사용된다.
산세척 용액의 산성도 손실, 스트립에 의해 산세척 장치를 통해서 하방으로 인출되는 산세척 용액, 산세척 시스템의 연속적인 탱크 사이에서 가능한 최선의 농도 평형을 갱신 및 보장할 필요성으로 인해 도 3에 도시된 것과 같은 산세척 시스템이 채택되었다. 이는 다수의 산세척 탱크(121, 122, 123)(보통 세 개 이상)를 포함하며, 각각의 산세척 탱크는 특히 황산이나 염산으로 구성되는 산세척 용액(1211, 1221, 1231)으로 충전된다.
이들 탱크(121, 122, 123)는 스트립(2)의 종방향 이송 방향을 따라서 순차적으로 앞뒤로 배치되며, 따라서 스트립은 하나의 탱크에서 다른 탱크로[이 경우 탱크(123)로부터 탱크(122)를 거쳐서 탱크(121)로] 연속 이송된다.
스트립(2)의 이동을 제어하기 위한 제어 수단(도 3에 도시되지 않음), 예를 들어 코일러는 통상적으로 산세척 장치(1)의 출력부에 배치된다. 이들 제어 수단은 스트립(2)이 상이한 산세척 탱크(121, 122, 123)를 연속적으로 통과하도록 이송 방향으로 구동될 수 있게 하며, 상기 탱크 각각의 내부에는 탱크(121, 122, 123) 각각에 저장된 산세척 용액(1211, 1221, 1231)에 침지되는 상향 오목한 곡선["사슬형(catenary)" 곡선으로 공지됨]이 형성된다.
산세척 탱크(121, 122, 123)에 추가적으로, 도 1에 도시된 산세척 장치는 산세척 용액(1211, 1221, 1231)을 위한 재순환 회로(13) 및 재생 회로(14)를 구비한다.
재순환 회로(13)는 다수의 저장 탱크(131, 132, 133)를 구비하며, 각각의 저장 탱크는 교환기(1311, 1321, 1331)를 사용하는 펌핑 및 가열 유닛에 의해 산세척 탱크(121, 122, 123)에 링크된다.
또한, 저장 탱크(131, 132, 133)는 산세척 장치(1)에서의 스트립(2)의 이송 방향(3)과 반대되는 방향으로 산세척 장치 내에 배치되도록 도관(1312, 1323)에 의해 연결된다.
재생 회로(14)는 산 부식 도중에 형성된 철 염화물을 철 산화물로 변형시키기 위한 열 가수분해(pyrohydrolysis) 유닛(141), 및 산화물을 탱크에 수집하기 위한 회수 탱크(142)를 구비한다. 열 가수분해 유닛(141)은 제1 저장 탱크(133) 및 장치(1) 내에서의 스트립(2)의 이송 방향(3)으로 마주치는 마지막 저장 탱크(131)에 연결된다. 또한, 회수 탱크(142)는 열 가수분해 유닛(141)에만 연결되며, 따라서 철 염화물이 농후한 산세척 용액은 제1 순환 탱크(133)에 포획된 후 열 가수분해 유닛(141)에서 하기 반응(6, 7)에 의해 재생되고, 여기에서 철 염화물은 산화물로 변형된다:
(6) 2FeCl2 + 2H2O + 1/2O2 → Fe2O3 + 4HCl (6)
(7) 2FeCl3 + 3H2O = Fe2O3 → 6HCl (7)
이렇게 재생된 산세척 용액은 이후 마지막 재순환 탱크(131)로 복귀한다.
상이한 탱크(121, 122, 123) 사이의 산 농도 평형은, 탱크에서 탱크로[즉, 탱크(123)에서 탱크(122)를 거쳐서 탱크(121)로] 이송되는 스트립(2)에 의해 이동되는 산세척 용액(1211, 1221, 1231)의 유동에 의해서 그리고 저장 탱크(131, 132, 133) 사이의 역 캐스케이드(reverse cascade)의 비율에 의해서[즉, 탱크(131)에서 탱크(132)를 거쳐서 탱크(133)로], 공지의 방식으로 규정된다.
여분의 재생 산 및 필요할 경우 새로운 산(135)이 순환 탱크(131)에 추가된다.
따라서 유리-산(free-acid) 농도는 마지막 산세척 탱크(121)에서 가장 높고(200g/ℓ에 달할 수 있음) 상류 탱크(122, 123)에서 저하되는바, 제1 탱크(123)에서는 수 십의 g/ℓ에 달할 뿐이다. 따라서, 펌핑 및 재가열 유닛(1331)은, 스트립(2)을 재가열하고 이것이 낮은 산 농도에도 불구하고 산세척되도록 보장하기 위해 제1 탱크(123)에서 더 높은 화력을 유지할 수 있다.
스케일이 산 부식에 의한 파쇄에 의해 제거되면, 산성 용액은 특히 스트립(2)이 이송을 중지하고 연장된 기간 동안 산세척 탱크(121, 122, 123) 내에 유지될 경우 베어 스트립(2)을 부식시키기 시작할 수 있다. "과도한(over) 산세척"으로 주지되어 있는 이 원치않는 부식은 이하의 효과를 갖는다:
- 중량 손실,
- 표면 조도(roughness)의 변동,
- 착색의 변화,
- 표면 자국의 생성,
- 수소의 과도한 발생(이는 국소적으로 축적되어 폭발 위험을 생성할 수 있음).
이를 방지하기 위해, 산세척 용액(1211, 1221, 1231)에는 보통 억제제가 첨가된다. 이 억제제의 정확한 초기 적정(titration)이 장치(1)의 정상 동작 중의 과도한-산세척의 모든 위험을 방지하지는 못하지만, 이는 스트립이 산세척 탱크 내에서 이송을 중단하고 연장된 기간 동안 남아있으면 적절하지 못할 수 있다.
산세척 이후에, 스트립(2)은 스트립(2)의 표면에 존재하는 철 염화물과 산을 제거하기 위해 헹궈져야 한다. 헹굼은 일반적으로 도 4에 도시된 것과 같은 헹굼 유닛(15)에서 이루어진다. 이는 연속 산세척 라인에 통상 사용되는 헹굼 유닛이다.
이 헹굼 유닛(15)은,
- 헹굼 유닛(15)을 통해서 이송될 때 산세척되는 스트립(2)의 양면에 분사를 수행할 수 있도록 배치되는 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155)의 배터리,
- 다수의 유동 탱크(1511, 1521, 1531, 1541, 1551)로서, 그 각각은 상기 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155)에 의해 분사되는 물을 회수하기 위해 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155)의 아래에 각각 배치되며, 유동 탱크(1521, 1531, 1541, 1551)의 각각은 그 이웃하는 탱크로 넘쳐흘러(overflow) 스트립(2)의 이송 방향(3)과 반대되는 방향으로 흐르는 캐스케이드를 형성하는 유동 탱크, 및
- 상기 헹굼 유닛(15)의 입구와 출구에 배치되는 롤러 건조기 장치(1501, 1502)뿐 아니라, 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155)의 각 배터리 사이에 배치되는 롤러 건조기 장치(1512, 1523, 1534, 1545)를 구비한다.
헹굼은 보통 이하와 같이 동작하는 대향류 캐스케이드에 의해 이루어진다: 스트립(2)이 헹굼 유닛(15)을 통과하고 이곳에서 양면에 물이 분사되며, 바람직하게는 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155)의 배터리에 의해 탈염(demineralize)된다. 롤러 건조기 장치는 스트립(2)이 물속에 희석되어 있는 산을 끌어당기지 못하게 한다.
각각의 배터리(151, 152, 153, 154, 155) 아래로 흐르는 물은 그 대응하는 유동 탱크(1511, 1521, 1531, 1541, 1551)에서 회수되며, 각 탱크(1511, 1521, 1531, 1541, 1551)의 넘쳐흐름은 스트립(2)의 이송 방향(3)과 반대되는 방향으로 그 이웃하는 탱크 안으로 흐른다.
각각의 유동 탱크(1511, 1521, 1531, 1541, 1551)에는 또한, 펌프(15101, 15201, 15301, 15401, 15501)를 각각 구비하는 재순환 회로(1510, 1520, 1530, 1540, 1501, 1502)가 제공된다. 이제 산성이 농후한 헹굼수(rinsing water)(15510)는 스트립(2)의 이송 방향(3)으로 마주치는 첫 번째 유동 탱크(1511)에서 회수된 후 배출된다. 여분의 탈염수(15510)는 마주치는 최종 유동 탱크(1551)와 나란히 배치된다.
일반적으로, 산세척 및 헹굼 단계 이후에, 산세척 및 헹굼된 스트립의 표면 특징을 분석한다. 이는 실시된 동작의 품질에 대한 초기 평가를 가능하게 하며 그 결과에 따라 스트립 이송 속도(V)와 같은 특정 파라미터 및 산화물 파쇄, 산세척 및 헹굼 공정에 관한 파라미터의 보정 또는 최적화를 가능하게 한다.
일반적으로, 이들 표면 특징은 이하의 특징에 따라 규정된다:
- 양호하게 산세척된 스트립은 스트립의 폭과 길이에 비해 조도의 변동이 적은 시각적으로 균일한 외관을 가지며,
- "부족하게(under) 산세척된" 스트립은 검출이 상당히 용이하고 스트립의 폭에 걸쳐서 위치하는 갈색 또는 회색 자국을 가지며, 정확히 산세척된 구역과 부족하게 산세척된 구역 사이에는 표면 상태의 큰 차이가 존재하고,
- "과도하게 산세척된" 스트립은 예를 들어 산세척 탱크 내에서의 늘어난 정지 이후에 회색 외관을 갖는다. 이 회색 외관은 시각 검사에서 검출이 용이하다.
그러나, 이송 속도, 억제제 농도, 온도 또는 산 농도에 대한 부적절한 설정으로 인한 보다 감지하기 어려운 시각적 결함은 육안으로 볼 수 없으며 고성능 이미지 캡처 및 분석 수단을 필요로 할 수 있다.
외관 분석에 추가적으로 조도 변동 분석도 사용될 수 있다.
따라서, 도 1에 도시된 것과 같은, 연속 산세척 라인에서 산성 매질 중에서의 스틸 스트립에 대한 연속적인 산세척 동작은 장치(1)에서의 스트립 이송 속도, 파쇄 시스템(11)에서의 산화물 파쇄 성능, 산세척 시스템(12)에서의 실제 산세척 성능, 및 헹굼 유닛(15)에서의 헹굼 성능에 관한 상당수의 조정가능한 파라미터의 관리를 필요로 한다.
일본 특허 출원 JP 56-136982호는 새로운 산을 추가하기 위해 밸브의 개폐를 제어하는 산세척 용액의 밀도만 측정하는 것으로 제한된 제어 시스템을 제안한다. 산 농도는 실험식을 적용하는, 산세척 용액의 밀도에 대한 측정 만을 사용하여 계산된다. 온도와 같은 다른 산세척 욕 제어 파라미터는 고려되지 않는다. 그러나 JP 56-136982호에 기재된 제어 시스템은 부적합한 바, 첫째로 전술한 화학반응(1 내지 4)으로 인한 산 농도의 감소는 느린 공정이고, 둘째로 새로운 산의 추가는 상당한 시정수를 수반하며 이는 제어 변수의 상당한 변동을 초래한다.
이 분야에는, 또한 미국 특허 제6,396,280호가 공지되어 있으며, 이는 두 개의 연속한 탱크에서 산 농도를 연속적으로 측정할 수 있고 여분의 산 투여량(acid doses)을 측정할 수 있는 산 농도 제어 시스템을 개시하고 있다. 원칙적으로 JP 56-136982호와 유사하지만, 미국 특허 제6,396,280호는 산 농도의 변동 제한을 청구하고 있다. 그러나, 하나의 파라미터만 감시되며, 산세척 동작의 결과는 제어 파라미터에 고려되고 있지 않다.
미국 특허 출원 제2002/0130666호는 산세척 탱크 외부의 완전 측정 시스템을 개시한다. 온도 센서 및 전도율 측정기가 장착된 이 시스템은 칼럼 내의 액체 레벨 변동에 의해 산세척 용액의 밀도를 측정할 수 있다. 이 시스템은 연속 산세척의 성능을 효과적으로 변경할 수 있지만, 측정에서 산 농도와 철 염화물 농도의 상대적인 영향을 알지 못한다. 한편, 미국 특허 제5,175,502호는 산세척 탱크로부터 나오는 희석되지 않은 산세척 용액의 밀도, 및 동일하지만 물로 제어되면서 희석되는 산세척 용액의 전도율을 제어되는 온도에서 측정함으로써 산 농도 및 철 염화물 농도의 효과를 알기 위한 보다 정밀한 시스템을 개시하고 있다. 전도율은 낮은 산 농도(예를 들면 대략 25g/ℓ)에서는 철 염화물 농도에 따라 거의 변화되지 않는다. 이런 식으로 측정되는 전도율은 이후 철 염화물 함량과 무관하며 따라서 HCl 함량만을 나타내는 것으로 간주된다. 측정에 사용된 희석율을 알면, 산세척 탱크 내의 산 농도를 외삽하여 철 염화물 농도를 계산하는 것은 쉽다. 그러나, 이 산 농도를 측정하기 위해 사용되는 기술은 이 농도를 제어할 수 없다.
전술한 종래 기술의 시스템 중에서는 산세척 동작을 전체적으로 최적화할 수 있는 것이 없다.
이를 극복하기 위해, 당업자는 산세척 동작을 전체적으로 관리하는 전체 공정에 의해 제어되는 산세척 방법을 알고 있다. 따라서, 미국 특허 제6,419,756호는 산세척 장치를 통해서 이송되는 압연 금속 스트립을 산세척하기 위한 방법으로서,
- 조작자가 예를 들어 산세척 용액의 온도와 같은 산세척 파라미터를 조절하는 단계,
- 여러 카테고리의 결함으로 분류되고 이들 형태의 결함의 발생 빈도를 결정하기 위해 분류기에 의해 계수되는 금속 스트립의 결함을 측정하기 위해 광학 측정 기구를 사용하는 단계,
- 이들 결함 카테고리 발생 빈도를 퍼지 평가기(fuzzy evaluator), 신경망 또는 신경 퍼지 평가기일 수 있는 평가기에 송신하는 단계, 및
- 산세척 결과를 평가기로 평가하는 단계로서, 산세척 조절 파라미터의 함수이고 이를 기초로 평가기가 산세척 조절 파라미터 중 적어도 하나에 대한 지령을 결정하는 평가 단계를 포함하는 산세척 방법을 개시하고 있다.
이러한 시스템은 조절 파라미터 중 어느 하나에 작용하는 결점을 갖고 있다. 미국 특허 제6,419,756호에 기재된 실시예에서, 이것은 산세척 용액의 온도인 것이 바람직하다. 이러한 수정은 산세척 장치 고유의 관성 때문에 즉효가 없다는 주요 결점을 갖는다.
따라서 본 발명은 스트립 이송 속도를 단계적으로 감소시킴으로써 스트립 이송 속도에 직접 작용하고 산세척의 조절 파라미터를 변경하지 않는 전체 제어 공정을 실행함으로써 종래 기술의 결점을 극복하는 산세척 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 본 발명에 따른 방법을 실행하기 위한 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 연속 산세척 라인 장치를 통해서 연속으로 이송되는 금속 스트립에 대한 산세척 방법으로서, 열간 압연 도중에 상기 스트립의 표면에 형성되는 산화물에 대한 파쇄 단계, 산세척 단계, 스트립 헹굼 단계, 및 건조 단계를 연속적으로 포함하고, 상기 스트립은 스트립의 폭에 수직한 종방향 이송 방향으로 상기 장치에서 이송 속도(V)로 구동되며, 상기 스트립의 이송 속도(V)는 언코일링 및 코일링 유닛에 의해 제어되고, 상기 산세척의 각 단계는 산세척 라인의 조절 파라미터에 작용할 수 있는 액추에이터에 의해 제어되며, 주어진 조절 파라미터에 대한 액추에이터의 작용 또는 작용의 부재는 상태 데이터에 의해 식별되는 산세척 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 산세척 방법은 또한 산세척을 제어하기 위한 전체 공정으로서,
- 산세척 조절 파라미터 중 적어도 일부의 연속 측정으로서, 산세척 도중에 이루어지는 연속 측정 단계,
- 산세척 도중에 실행되는 명령 단계로서, 그 도중에 전체 제어 공정이 예측 제어 시스템을 사용하여 최적화된 명령을 생성하여 모든 액추에이터에 송신하는 명령 단계, 및
- 스트립 표면의 연속 검사 단계를 실행하는 전체 공정을 구비한다.
본 발명에 따르면, 산세척 방법을 제어하기 위한 전체 공정은,
- 산세척의 상류에서 또는 시작부에서 실행되는 사전 준비 단계로서, 그 도중에 전체 제어 공정이 예측 제어 시스템과 연관될 수 있는 분석 모델을 사용하여 사전-조절 지령을 생성하고 모든 액추에이터에 송신하는 사전 준비 단계, 및
- 산세척 조절 파라미터 중 적어도 일부를 연속 계산하는 단계로서, 산세척 도중에 실행되는 연속 계산 단계를 구비하며,
- 상기 스트립 표면의 연속 검사 단계는 부족한 산세척의 경우에 스트립의 이송 속도(V)를 수정된 이송 속도(Vcor)로 단계적으로 감소시키는 경고 지령을 생성하여 상기 명령 단계에 송신하고, 상기 이송 속도(V)는 이 결함이 더 이상 검출되지 않고 경고 지령을 더 이상 촉발하지 않을 때까지 단계적으로 감소된다.
본 발명에서, 액추에이터 상태 데이터는 액추에이터의 작동 또는 비작동 조절 상태를 포함하는 데이터를 의미한다.
본 발명에서, 분석 모델은 방정식 또는 소정의 사전-조절 표를 사용하여 실현되는 조절 파라미터의 모델을 의미한다.
분석 모델 및 예측 제어 시스템의 사용은, 산세척 속도를, 미국 특허 제6,419,756호에서의 신경 모델 또는 퍼지 모델 또는 신경 퍼지 모델에 의한 것보다 정밀하게 그리고 학습할 필요 없이, 조절 파라미터 및 이들 파라미터의 측정의 함수로서 결정할 수 있다는 장점을 갖는다.
유리하게, 전체 제어 공정의 예측 모델은 스트립의 이송 속도(V)를 제외하고 모든 액추에이터에 송신된 명령을 이송 속도(Vcor)에 대해 이루어진 수정의 함수로서 그리고 예를 들어 스트립 표면의 검사 도중에 이루어진 평가의 품질을 유지하기 위해서 수정한다.
유리하게, 스트립 표면의 연속 검사는 또한 결함성 헹굼이 검출되는 경우에 더 이상 결함이 검출되지 않을 때까지 헹굼수의 단계적인 pH 조절을 초래한다.
유리하게, 계산은 산 세척 도중에 사용되는 산세척 용액 중의 산 농도 및 철 농도의 결정을 가능하게 만든다.
유리하게, 준비 단계는 이하의 단계를 포함한다:
- 액추에이터로부터의 상태 데이터를 수신하고, 동작 데이터, 및 스트립 산세척을 최적화하기 위해 분석 모델에 의해 수립된 조절 파라미터에 대한 목표값을 수신하는 단계,
- 각각의 액추에이터에 대한 사전-조절 지령을 수립하는 단계,
- 각각의 액추에이터에 이들 사전-조절 지령을 송신하는 단계,
- 명령 단계를 위한 입력 데이터를 수립하는 단계,
- 이 입력 데이터를 명령 단계에 송신하는 단계.
본 발명에서, 동작 데이터는 산세척될 스트립에 대한 데이터, 스트립의 크기, 스트립의 스틸 등급 또는 심지어 열간 압연 중에 형성되는 스케일에 대한 데이터(형성된 산화물의 특성, 예를 들면, 양)를 의미한다.
본 발명에 따른 방법의 준비 단계의 특히 유리한 일 실시예에 따르면, 분석 모델은 관련 액추에이터가 작용하는 조절 파라미터에 대한 상기 사전-조절 지령을 생성하기 위해 각각의 액추에이터와 연관된 분석 서브-모델을 구비한다.
유리하게, 상기 명령 단계는 이하의 동작을 포함한다:
- 액추에이터로부터의 상태 데이터, 측정 및 계산 수단으로부터의 정보, 및 준비 단계 중에 수립된 명령 단계를 위한 입력 데이터를 연속적으로 실시간 수신하는 단계,
- 각각의 액추에이터에 대해 최적화된 명령 신호를 수립하는 단계, 및
- 상기 명령 신호를 액추에이터에 송신하는 단계.
본 발명에 따른 방법의 명령 단계의 특히 유리한 일 실시예에 따르면, 예측 제어 시스템은 명령이 송신되었을 때 각각의 액추에이터의 최적 작동을 체크하기 위한 주 조절 루프를 구비한다.
유리하게, 스트립 검사 단계는 스트립의 표면 외관의 광학 검사 및 스트립의 표면 상태의 적어도 하나의 특징의 변동 측정을 포함한다.
스트립의 표면 상태의 특징의 중요한 예는 평균 조도(Ra), 최대 조도(Rm)(피크 사이 값) 및 cm당 피크 개수를 포함한다.
바람직하게, 스트립(2)의 표면 외관의 광학 검사(5001) 및 스트립(2)의 표면 상태의 변동 측정(5002)은 과도한-산세척 결함, 부족한-산세척 결함 또는 결함 없음 사이의 식별을 가능하게 하는 이미지 및/또는 데이터의 라이브러리를 참조하여 의심 구역을 학습하는 단계를 포함한다.
본 발명은 또한 연속 라인 장치에서 연속 이송되는 열간-압연된 금속 스트립을 산세척하기 위한 연속 산세척 라인 장치로서,
- 스트립의 표면에 형성된 산화물에 대한 파쇄 시스템으로서, 파쇄 조절 파라미터에 의해 조절될 수 있는 파쇄 시스템,
- 산세척 조절 파라미터를 사용하여 조절될 수 있는 산세척 시스템,
- 헹굼 조절 파라미터를 사용하여 조절될 수 있는 헹굼 시스템,
- 건조 시스템,
- 상기 장치의 조절 파라미터를 측정 및 계산하기 위한 수단 세트, 및
- 상기 장치의 조절 파라미터에 작용하도록 구성된 액추에이터 세트를 포함하는 연속 산세척 라인 장치에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 연속 산세척 라인 장치는 또한,
- 금속 스트립의 산세척을 최적화하기 위한 중앙 명령 시스템으로서,
* 측정 및 계산 수단과 액추에이터 전부로부터 정보를 수신하고, 사전-조절 지령을 생성하여 모든 액추에이터에 송신하도록 구성된 준비 모듈, 및
* 측정 및 계산 수단과 액추에이터 전부로부터 정보를 수신하고, 최적화된 명령을 생성하여 모든 액추에이터에 송신하도록 구성된 명령 모듈
을 구비하는 중앙 명령 시스템, 및
- 상기 헹굼 시스템의 출력부에 배치되는 스트립 검사 시스템을 구비하며,
상기 검사 시스템은 스트립 이송 속도(V)에 작용하도록 경고 지령을 생성하여 명령 모듈에 송신할 수 있다.
유리하게, 상기 검사 시스템은 또한 헹굼 조절 파라미터에 작용하도록 명령을 생성하여 명령 모듈에 송신할 수 있다.
유리하게, 상기 측정 및 계산 수단 세트는,
- 스트립 이송 속도(V) 측정 수단, 산화물 파쇄에 대한 조절 파라미터의 측정 수단, 산세척에 대한 조절 파라미터 중 적어도 일부의 측정 수단, 및 헹굼에 대한 조절 파라미터의 측정 수단의 세트, 및
- 산세척에 대한 조절 파라미터 중 적어도 일부의 계산 수단을 포함한다.
유리하게, 상기 계산 수단은 산세척 시스템에 사용되는 산세척 용액 중의 산 농도 및 철 이온의 농도를 결정할 수 있다.
유리하게, 상기 액추에이터 세트는 산화물 파쇄 조절 파라미터에 작용하도록 구성된 파쇄 액추에이터, 산세척 조절 파라미터에 작용하도록 구성된 산세척 액추에이터, 및 헹굼 조절 파라미터에 작용하도록 구성된 헹굼 액추에이터를 포함한다.
본 발명에 따른 산세척 장치는 본 발명에 따른 방법이 실행될 수 있게 한다.
따라서, 본 발명에 따른 방법이 본 발명에 따른 장치에서 실행되면, 본 발명에 따른 방법의 준비 단계는 준비 모듈에 의해 수행되며, 상기 준비 모듈은 본 발명에 따른 장치의 상이한 액추에이터에 대한 사전-조절 지령의 분석 모델을 사용하여, 상이한 액추에이터에서 발생하는 상태 데이터, 산세척되는 스트립에 관한 동작 데이터, 및 조절 파라미터에 대한 목표값에 기초하여 수립된다.
본 발명에서, 목표값은 전체 제어 공정이 달성하고자 하는 조절 파라미터의 최적값을 의미한다.
산세척 조절 파라미터의 일부는 본 발명에 따른 산세척 장치 내의 계산 수단을 사용하여 계산된다. 이들 수단은 유리하게, 저장 탱크 내의 산세척 용액의 밀도 및 전도율 측정에 기초하여, 이들 저장 탱크 내의 산세척 용액의 산 농도 및 철 농도를 결정할 수 있다.
산세척 조절 파라미터의 일부는 산세척 도중에 산세척 라인에 배치된 상이한 측정 수단 세트에 의해 측정된다.
명령 단계는, 액추에이터로부터의 상태 데이터, 측정 및 계산 수단으로부터의 정보, 및 준비 단계 중에 수립된 예측 제어 시스템으로부터의 입력 데이터에 기초하여, 전체 제어 공정의 각각의 반복시에 수정되는 반응 상태 데이터가 얻어지는 산세척 라인 상의 상이한 액추에이터에 송신되는 명령을 수립하는 명령 모듈에 의해 수행된다.
스트립 표면의 검사 단계는 중앙 명령 시스템과 무관한 본 발명에 따른 장치의 표면 검사 시스템에 의해 수행된다. 이 표면 검사 시스템은 유리하게,
- 특히 스트립 표면에서의 자국의 존재뿐 아니라, 그 색상, 위치 및 크기를 결정할 수 있는 스트립 표면 외관 검사 시스템, 및
- 특히 평균 조도(Ra), 최대 조도(Rm) 또는 cm당 피크 개수와 같은 스트립의 표면 상태의 적어도 하나의 특징에서의 변동을 측정할 수 있는 표면 상태 측정 시스템을 구비할 수 있다.
부족한 산세척의 경우에 본 발명의 특히 유리한 일 실시예에 따르면, 표면 외관 검사 시스템과 표면 상태 측정 시스템 중 하나만이 결함을 검출하여 명령 모듈에 경고 지령을 송신하면 명령 모듈은 이를 조작자에게 송신하고, 이는 표면 외관 검사 시스템과 표면 상태 측정 시스템 중 나머지도 상기 결함을 검출하면 스트립 이송 속도(V)에만 작용한다.
본 발명에 따른 장치에 사용될 수 있는 스트립 표면 외관 검사 시스템은 주로,
- 프랑스 특허 출원 FR 2892191호에 기재된 것과 같은 이송 스트립 조명 시스템,
- 예를 들어 프랑스 특허 출원 FR 2893519호에 기재된 것과 같은 CCD 카메라로 구성되는 이미지 캡처 시스템,
- 불균일한 조명 또는 광 반사와 같은 외란을 제거하기 위한 이미지 처리 기능부(FTI),
- 그레이-임계값 또는 윤곽 검출 기능부(FD),
- 의심 구역에 대한 측광적 및 형태적(photometric and morphological) 특징화 및 추출 기능부(FE),
- "부족한 산세척" 결함, "과도한 산세척" 결함, 전술한 스틸 스트립에 고유한 결함 또는 일체의 결함 없음을 구별할 수 있는, 이미지 라이브러리를 참조한 의심 구역의 학습-기초(learning-based) 식별 및 분류 기능부(FCI)를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 장치의 표면 외관 검사 시스템은 과도한-산세척 또는 부족한-산세척 또는 헹굼 이후에 남는 자국과 같은 스트립의 표면에 있는 산세척 결함을 검출할 수 있다.
표면 외관 검사 시스템의 조명 시스템은 유리하게, 가시 스펙트럼의 적어도 한 대역 내에서 스트립의 전체 폭을 조명할 수 있는 스트립 광, 및 스트립에 의해 반사된 광을 포획하는 컬러 CCD 카메라를 구비할 수 있다.
이 표면 상태 검사 시스템의 처리 기능부(FTI)는 그레이-임계값 또는 윤곽 검출 기능부 및 의심 구역에 대한 측광적 및 형태적 특징화 및 추출 기능부로부터 불균일한 조명 또는 광 반사와 같은 외란을 제거하기 위해 사용된다.
최종적으로, 이 시스템의 이미지 라이브러리를 참조한 의심 구역의 학습-기초 식별 및 분류 기능부는 "부족한 산세척" 결함, "과도한 산세척" 결함, 스틸 스트립에 고유한 결함 또는 일체의 결함 없음을 구별할 수 있다.
본 발명에 따른 스트립 표면 외관 검사 시스템은 이송 스트립의 전체 폭을 연속적으로 검사할 수 있다. 국제 특허 출원 WO2006/134259호에 기재된 시스템은 표면 외관 검사 시스템으로서 사용될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 장치에 사용될 수 있는 표면 상태 측정 시스템은 주로 이하의 기능부가 제공되는 광학 기기를 포함할 수 있다:
- 의심 구역에서 적어도 하나의 프로파일 특징(경우 1), 산란 특징(경우 2) 또는 반사광 스펙트럼 특징(경우 3)의 변동을 검출할 수 있는 신호 처리 기능부(FTS),
- 결함과 결함 없음을 구별할 수 있는, 데이터베이스를 참조한 학습-기초 분류 기능부(FC).
이 표면 상태 측정 시스템은 이송 스트립의 폭의 중간에 배치된 적어도 하나의 라인, 및 바람직하게는 세 개의 라인으로서, 하나는 스트립 폭의 중간에 배치되고 나머지 두 개는 산세척된 스트립의 각 에지로부터 스트립 폭의 1/3 내지 1/4 사이에 위치하는 구역에 배치되는 세 개의 라인을 연속적으로 검사할 수 있다.
본 발명에 따른 스트립 표면 상태 측정 시스템에 사용하기 위해 추천되는 광학계는, 프로파일 측정기(경우 1) 또는 스캐터(scatter)(경우 2)를 사용하거나 대안적으로 축방향 색수차 광학 기기(경우 3)를 사용하는 선형 또는 스폿 레이저 삼각 스캐너이다.
프로파일-측정 레이저 삼각 스캐너 장치가 사용될 경우, 이는 조명되는 표면의 프로파일을 레이저 빔으로 측정함으로써 산세척된 스트립의 표면 상태를 평가한다. 레이저 스캐너 장치의 빔은 선(선형 레이저 스캐너로 공지됨) 또는 스폿(스폿 레이저 스캐너로 공지됨)일 수 있다.
스캐터-기초의 레이저 삼각 스캐너 장치가 사용될 경우, 이는 적어도 두 개의 빔을 상이한 입사각으로 방출함으로써 산세척된 스트립의 표면 상태를 평가하며, 산세척된 스트립의 표면 상태는 이후 조명된 표면에 의해 초래되는 빔 회절의 차이를 검출함으로써 평가된다.
광축방향 색수차 시스템이 사용될 경우, 이는 광학 기기에 의해 백색 광이 조명된 표면에 포커싱되는 광의 스펙트럼 분석에 의해 산세척된 스트립의 표면 상태를 평가한다.
본 발명에 따른 표면 상태 측정 시스템의 광학 기기는 산세척된 스트립의 중심 위에 고정되는 것이 유리하다.
본 발명의 특히 유리한 제1 실시예에 따르면, 두 개의 축방향 색 수차 광학계, 스캐터 레이저 또는 레이저 스캐너 시스템이 사용되며, 이들은 이송 스트립의 에지로부터 스트립 폭의 1/3 내지 1/4 사이의 거리에서 이송 스트립 위에 배치되는 것이 바람직하다.
본 발명의 특히 유리한 제2 실시예에 따르면, 두 개의 레이저 스캐너가 사용되며, 이들은 산세척된 스트립의 에지로부터 스트립 폭의 1/4 내지 1/3의 거리에서 스트립 위에 고정되고, 스트립의 중심 위에서 스트립에 부착되는 동일한 형태의 다른 기기에 연결된다.
최종적으로, 장치 제어 시스템은 또한 유리하게, 상기 산세척 장치의 하류 및/또는 상류에서 스트립 처리 설비의 관리를 제어하는 일반 제어 시스템에 데이터를 송신할 수 있다.
본 발명의 다른 유리한 특징은, 예로서 제시되고 첨부도면에 도시된 이하의 특정 실시예에 관한 설명에서 자세히 나타나 있다.
도 1은 종래의 공지된 연속 산세척 라인의 제1 예의 개략도이다.
도 2는 연속 산세척 라인 장치에 사용하기 위한 종래의 공지된 산화물 파쇄 시스템의 일 예의 개략도이다.
도 3은 연속 산세척 라인 장치에 사용하기 위한 종래의 공지된 산세척 시스템의 일 예의 개략도이다.
도 4는 연속 산세척 라인 장치에 사용하기 위한 종래의 공지된 헹굼 유닛(15)의 일 예의 개략도이다.
도 5는 본 발명에 따른 연속 산세척 라인 장치의 일 예의 개략도이다.
도 6은 본 발명에 따른 방법의 전체 제어 공정의 여러 단계를 도시하는 도면이다.
도 1 내지 도 6에서 동일한 구성요소는 동일한 도면부호가 병기된다.
도 1에 도시된 연속 산세척 라인 장치(1)는 앞서 종래 기술과 관련하여 이미 설명되었다. 또한, 도 2에 도시된 파쇄 시스템(12), 도 3에 도시된 산세척 시스템(12) 및 도 4에 도시된 헹굼 유닛(15)도 앞서 종래 기술과 관련하여 이미 설명되었다.
도 5에 도시된 본 발명에 따른 산세척 설비는 특히,
- 열간 압연 중에 스틸 스트립(2)의 표면에 형성된 산화물에 대한 파쇄 시스템(11),
- 산화물을 산 부식시키기 위한 산세척 시스템(12), 및
- 스트립의 표면에 존재하는 산(및 특히 염산)과 철 염화물을 제거하기 위한 헹굼 유닛(15)을 포함한다.
산세척되는 스트립(2)이 산세척 장치(1)를 연속으로 통과할 때 파쇄 시스템(11), 산세척 시스템(12) 및 헹굼 유닛(15)을 차례로 통과하도록 파쇄 시스템(11), 산세척 시스템(12) 및 헹굼 유닛(15)은 본 발명에 따른 산세척 장치(1) 내에 순차적으로 배치된다.
본 발명에 따른 장치에 사용가능한 파쇄 시스템(11)은 특히 도 2에 도시된 것일 수 있으며, 이는 특히,
- 그 사이에서 스트립(2)이 평평해지는 최저 동작 롤러(들)와 최고 동작 롤(들) 사이의 높이 차이(1111)를 통해서 동작 롤(111)의 중첩(1112)을 제어하는 액추에이터(45111, 451112), 및
- 입력 텐셔너(113)와 출력 텐셔너(114) 사이에서 발휘되는 견인력(451113)을 제어하는 액추에이터(451113)를 포함한다.
도 5에 도시된 본 발명에 따른 장치(1)에 사용하도록 추천되는 산세척 시스템(12)은 도 3에 도시된 것이며, 여기에는 이하의 것들이 추가된다:
- 스트립(2)의 이송 방향(3)에서 마주치는 마지막 저장 탱크(134)에서의 산 재충전(top-up) 시스템(135),
- 산세척 조절 파라미터 측정 수단 세트(431212, 431222, 431232, 431242, 431313, 431323, 431333, 431343, 431314, 431324, 431334, 431344), 및
- 상기 산세척 조절 파라미터에 작용하는 액추에이터 세트(451311, 451311a, 451311b, 431321, 451321a, 451321b, 451331, 451331a, 451331b, 431341, 451341a, 451341b).
산세척 조절 파라미터 측정 수단(431212, 431222, 431232, 431242, 431313, 431333, 431343, 431314, 431324, 431334, 431344)은
- 상이한 산세척 탱크(121, 122, 123, 124)에 저장된 산세척 용액(1211, 1221, 1231, 1241)의 온도 측정 수단(431212, 431222, 431232, 431242),
- 상기 저장 탱크(131, 132, 133, 134) 내의 산세척 용액(1211, 1221, 1231, 1241)의 밀도 측정 수단(431313, 431323, 431333, 431343), 및
- 상기 저장 탱크(131, 132, 133, 134) 내의 산세척 용액(1211, 1221, 1231, 1241)의 전도율 측정 수단(431314, 431324, 431334, 431344)을 포함한다.
본 발명에 따른 산세척 장치(1)에서, 산세척 조절 파라미터에 작용할 수 있는 액추에이터(451311, 451311a, 451311b, 451321, 451321a, 451321b, 451331, 451331a, 451331b, 451341, 451341a, 451341b)는 산세척 탱크(121, 122, 123, 124)에 각각 연결되는 펌핑 및 재가열 유닛(451311, 451321, 451331, 451341)을 구비하며, 상기 펌핑 및 재가열 유닛은 각각,
- 산세척 시스템(12)의 재순환 회로(132)에서 산세척 용액(1211, 1221, 1231, 1241)의 온도를 제어하기 위한 열교환기(451311a, 451321a, 451331a, 451341a),
- 산세척 시스템(12)의 재순환 회로(13)에서 산세척 용액(1211, 1221, 1231, 1241)의 유동을 제어하기 위한 펌프(451311a, 451321b, 451331b, 451341b), 및
- 스트립(2)의 이송 방향(3)에서 마주치는 마지막 저장 탱크(134) 내의 여분의 산(135)의 유동을 제어하기 위한 펌프(451351)를 구비한다.
도 4에 도시된 본 발명에 따른 장치에 사용될 수 있는 헹굼 시스템은 도 4에 도시된 것일 수 있으며, 이는
- 탈염 헹굼수가 공급되고 스트립(2)의 양면(21, 22)에 물을 분사할 수 있도록 배치되는 다수의 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155),
- 그 각각이 상기 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155)의 아래에 배치되는 다수의 유동 탱크(1511, 1521, 1531, 1541, 1551)로서, 그 이웃 탱크로 넘쳐흐르는 물은 스트립(2)의 이송 방향(3)과 반대되는 방향으로 흐르는 캐스케이드를 형성하는 유동 탱크,
- 상기 헹굼 유닛(15)의 입구와 출구에 배치되는 롤러 건조기 장치(1501, 1502)뿐 아니라, 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155)의 각 배터리 사이에 배치되는 롤러 건조기 장치(1512, 1523, 1534, 1545)를 포함한다.
도 5에 도시된 헹굼 시스템(15)은 또한, [도 4에 도시된 종래 기술에서의 헹굼 시스템(15)에 비해]
- 헹굼 유닛의 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155)에 헹굼수를 공급하기 위한 메인 탈염수 재충전 시스템(1504),
- 필요할 경우 스트립(2)의 이송 방향(3)으로 마주치는 제3 스프레이 바(153)와 제4 스프레이 바(154)에 공급하기 위한 두 개의 보충 탈염수 재충전 장치(1534, 1544),
- 스트립(2)의 이송 방향(3)으로 마주치는 헹굼 유닛(15)의 제1 유동 탱크(1511, 1521, 1531) 내의 산 분사 장치(1515, 1525, 1535), 및
- 스트립(2)의 이송 방향(3)으로 마주치는 헹굼 유닛(15)의 제3 및 제4 유동 탱크(1531, 1541) 내의 알칼리-생성물 분사 장치(1536, 1546)를 구비한다.
또한, 도 5에 도시된 장치의 헹굼 시스템(15)은 헹굼 조절 파라미터 측정 수단(431512, 431522, 431532, 431542, 431552, 431553, 431554) 및 이들 헹굼 조절 파라미터에 작용할 수 있는 액추에이터(4515151, 4515251, 4515351, 4515361, 4515461, 4515341, 4515441, 4515041, 4515042)를 구비한다.
헹굼 장치(15)의 동작을 가능하게 하는 헹굼 조절 파라미터의 측정 수단(431512, 431522, 431532, 431542, 431552, 431553, 431554)은,
- 헹굼 유닛(15)의 유동 탱크(1511, 1521, 1531, 1541, 1551) 내의 헹굼수에 대한 pH 측정 수단(431512, 431522, 431532, 431542, 431552),
- 스트립(2)의 이송 방향(3)으로 마주치는 마지막 유동 탱크(1551)에 저장된 헹굼수에 대한 전도율 측정 수단(431553), 및
- 스트립(2)의 이송 방향(3)으로 마주치는 마지막 유동 탱크(1551)에 저장된 헹굼수에 대한 온도 측정 수단(431554)을 구비한다.
헹굼 파라미터에 작용할 수 있는 액추에이터(4515151, 4515251, 4515351, 4515361, 4515461, 4515341, 4515441, 4515041, 4515042)는,
- 상기 산-분사 장치(1515, 1525, 1535)로부터의 산 유동을 제어하기 위한 펌프(4515151, 4515251, 4515351),
- 알칼리-생성물 분사 장치(1536, 1546)로부터의 알칼리 생성물의 유동을 제어하기 위한 펌프(4515361, 4515461),
- 보충 탈염수 재충전 장치(1534, 1544)로부터의 탈염수의 유동을 제어하기 위한 펌프(4515341, 4515441),
- 메인 탈염수 재충전 장치(1504)로부터의 탈염수의 유동을 제어하기 위한 펌프(4515041), 및
- 메인 탈염수 재충전 장치(1504)로부터의 탈염수의 온도를 제어하기 위한 열교환기(4515042)를 구비한다.
본 발명에 따른 장치(1)는 또한, 헹굼 및 건조의 출력부에서 스트립(2)의 검사 시스템(5)을 구비하며, 이 스트립 검사 시스템은,
- 표면 외관 검사 시스템(51), 및
- 표면 상태 측정 시스템(52)으로 구성된다.
스트립(2)의 표면 외관 검사 시스템(5)은 유리하게,
- 이송되는 스트립(2)에 대한 조명 장치(511),
- 상기 조명 장치가 부착되는 이미지 캡처 장치(512),
- 이미지 처리 기능부(513),
- 그레이-임계값 또는 윤곽 검출 기능부(514),
- 의심 구역에 대한 측광적 및 형태적 특징화 및 추출 기능부(515), 및
- 이미지 라이브러리를 참조한 의심 구역의 식별 및 분류 기능부(516)를 구비하며,
이러한 기능부(516)는 "부족한 산세척" 결함, "과도한 산세척" 결함, 또는 심지어 스틸 스트립(2)에 고유한 결함, 및 일체의 결함 없음을 구별할 수 있도록 한다.
표면 상태 측정 시스템(52)은 유리하게,
- 이송 스트립(2)의 적어도 한 라인에서의 연속 검사를 위한 광학 기기(521),
- 신호 처리 기능부(522), 및
- 의심 구역에 대한 데이터베이스를 참조한 학습-기초 분류 기능부(523)로서, 결함과 결함 없음을 구별할 수 있는 분류 기능부(523)를 구비한다.
표면 상태 측정 시스템(52)은 이송 스트립(2)의 폭의 중간에 배치된 적어도 하나의 라인, 및 바람직하게는 세 개의 라인으로서, 하나는 스트립 폭의 중간에 배치되고 나머지 두 개는 산세척된 스트립의 각 에지로부터 스트립 폭의 1/3 내지 1/4 사이에 위치하는 구역에 배치되는 세 개의 라인을 연속적으로 검사할 수 있다.
장치(1)의 측정 수단(43) 전부와 장치(1)의 액추에이터(45) 전부는 중앙 제어 시스템(4)에 의해 제어되며, 이 시스템은 이하의 단계를 포함하는 전체 공정에 의해 산세척을 제어할 수 있다:
- 산세척 조절 파라미터 중 적어도 일부를 연속 측정하는 단계(43101, 43102)로서, 산세척 도중에 실행되는 측정 단계,
- 산세척 조절 파라미터 중 적어도 일부를 연속 계산하는 단계(43200)로서, 산세척 도중에 실행되는 계산 단계,
- 산세척의 상류에서 또는 시작부에서 실행되는 사전 준비 단계(4101, 4102)로서, 그 도중에 전체 제어 공정(4000)이 예측 제어 시스템과 연관될 수 있는 분석 모델을 사용하여 사전-조절 지령(411)을 생성하고(4101) 모든 액추에이터(45)에 송신하는(4102) 사전 준비 단계,
- 산세척 도중에 실행되는 명령 단계(4201, 4202)로서, 그 도중에 전체 제어 공정(4000)은 예측 제어 시스템을 사용하여 최적화된 명령을 생성하여(4201) 모든 액추에이터에 송신하는(4202) 명령 단계, 및
- 스트립(2) 표면의 연속 검사 단계(5001, 5002)로서, 부족한 산세척의 경우에는 스트립(2) 이송 속도(V)를 수정된 이송 속도(Vcor)로 단계적으로 감소시키는 경고 지령(500)을 생성하여(5001) 상기 명령 단계(4201, 4202)에 송신하고(5002), 상기 이송 속도(V)의 단계적인 감소는 스트립(2) 표면의 검사(5001, 5002) 중에 스트립(2)의 상태가 만족스럽다고 생각될 때까지 이루어지는 연속 검사 단계.
준비 모듈(41)은 이하의 동작을 유리하게 포함하는 본 발명에 따른 방법의 준비 단계(4101, 4102)를 수행한다:
- 액추에이터(45)로부터의 상태 데이터(450)를 수신하고(4501), 동작 데이터(413), 및 스트립(2)의 산세척을 최적화하기 위해 분석 모델에 의해 수립된 조절 파라미터에 대한 목표값(412)을 수신하는 단계,
- 각각의 액추에이터(45)에 대한 사전-조절 지령(411)을 수립하는 단계(4101),
- 사전-조절 지령(421)을 각각의 액추에이터(45)에 송신하는 단계(4102),
- 명령 단계(4201, 4202)를 위한 입력 데이터(414)를 수립하는 단계(4103), 및
- 상기 입력 데이터(414)를 명령 단계(4401)에 송신하는 단계(4104).
계산 모듈은 산세척 시스템(12)에서 흐르는 산세척 용액(1211, 1221, 1231, 1241) 중의 산(4321) 및 철(4322)의 상이한 농도에 대한 계산 단계(43200)를 수행한다.
명령 모듈(42)은 이하의 동작을 포함하는 명령 단계(4401, 4402)를 수행한다:
- 액추에이터(45)로부터의 상태 데이터(450)를 연속적으로 실시간 수신하고(4502), 측정 및 계산 수단(43)으로부터의 정보를 연속적으로 실시간 수신하며(4300), 준비 단계(4101, 4102) 중에 수립된 명령 단계(4201, 4202)를 위한 입력 데이터(414)를 연속적으로 실시간 수신하는 단계,
- 각각의 액추에이터(45)에 대해 최적화된 명령 신호(425)를 수립하는 단계(4201), 및
- 상기 명령 신호(421)를 액추에이터(45)에 송신하는 단계(4202).
표면 검사 시스템(5)은 산세척 장치의 출력부에서 먼저 스트립(2)의 표면의 외관을 광학 검사(5001)하고 스트립(2)의 표면 상태의 변동을 측정함으로써 스트립(2)의 표면 검사 단계를 수행한다.

Claims (26)

  1. 산세척 라인 장치(1)를 통해서 이송되는 금속 스트립(2)에 대한 산세척 방법으로서, 열간 압연 도중에 상기 스트립(2)의 표면에 형성되는 산화물에 대한 파쇄 단계, 산세척 단계, 헹굼수로서 탈염수를 사용하여 스트립(2)을 헹구는 단계, 및 건조 단계를 연속적으로 포함하고, 상기 스트립(2)은 스트립(2)의 폭에 수직한 종방향 이송 방향으로 상기 장치(1)에서 이송 속도(V)로 구동되며, 상기 스트립(2)의 이송 속도(V)는 언코일링(21) 및 코일링(30) 유닛에 의해 제어되고, 상기 산세척의 각 단계는 산세척 라인(1)의 조절 파라미터에 작용할 수 있는 액추에이터(45)에 의해 제어되며, 주어진 조절 파라미터에 대한 액추에이터(45)의 작용 또는 작용의 부재는 상태 데이터(450)에 의해 식별되는 산세척 방법이며,
    상기 방법은 산세척에 대한 전체 제어 공정(4000)으로서,
    - 산세척 조절 파라미터 중 적어도 일부의 연속 측정 단계(43101, 43102)로서, 산세척 도중에 이루어지는 연속 측정 단계,
    - 산세척 도중에 실행되는 명령 단계(4201, 4202)로서, 그 도중에 전체 제어 공정(4000)은 예측 제어 시스템을 사용하여 최적화된 명령(425)을 생성하여(4201) 모든 액추에이터(45)에 송신하는(4202) 명령 단계, 및
    - 스트립(2) 표면의 연속 검사 단계(5001, 5002)를 실행하는 전체 제어 공정을 구비하는 금속 스트립 산세척 방법에 있어서,
    상기 전체 제어 공정(4000)은,
    - 산세척의 상류에서 또는 시작부에서 실행되는 사전 준비 단계(4101, 4102)로서, 그 도중에 전체 제어 공정(4000)이 예측 제어 시스템과 연관될 수 있는 분석 모델을 사용하여 사전-조절 지령(411)을 생성하고(4101) 모든 액추에이터(45)에 송신하는(4102) 사전 준비 단계, 및
    - 산세척 조절 파라미터 중 적어도 일부를 연속 계산하는 단계(43200)로서, 산세척 도중에 실행되는 연속 계산 단계를 구비하며,
    상기 스트립(2) 표면의 연속 검사 단계(5001, 5002)는 부족한 산세척의 경우에 스트립(2)의 이송 속도(V)를 수정된 이송 속도(Vcor)로 단계적으로 감소시키는 경고 지령(500)을 생성하여(5001) 상기 명령 단계(4201, 4202)에 송신하고(5002), 상기 이송 속도(V)의 단계적인 감소(5001)는 결함이 더 이상 검출되지 않고 경고 지령(500)을 더 이상 촉발하지 않을 때까지 이루어지는 것을 특징으로 하는 금속 스트립 산세척 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전체 제어 공정(4000)의 예측 모델은 스트립(2)의 이송 속도(V)를 제외하고 모든 액추에이터(45)에 송신된 명령(425)을 이송 속도(Vcor)에 대해 이루어진 수정의 함수로서 그리고 예를 들어 스트립(2) 표면의 검사(5001, 5002) 도중에 이루어진 평가의 품질을 유지하기 위해서 수정하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립 산세척 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 스트립(2) 표면의 연속 검사(5001, 5002)는 또한 결함성 헹굼이 검출되는 경우에 더 이상 결함이 검출되지 않을 때까지 헹굼수의 pH의 단계적인 조절을 초래하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립 산세척 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스트립(2)의 검사(5001, 5002)는,
    - 스트립(2)의 표면 외관의 광학 검사(5001) 및
    - 스트립(2)의 표면 상태의 적어도 하나의 특징의 변동 측정(5002)을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립 산세척 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스트립(2)의 표면 외관의 광학 검사(5001) 및 스트립(2)의 표면 상태의 변동 측정(5002)은 과도한-산세척 결함, 부족한-산세척 결함 또는 결함 없음 사이의 식별을 가능하게 하는 이미지 및/또는 데이터의 라이브러리를 참조하여 의심 구역을 학습하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립 산세척 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 계산(43200)은 산세척 도중에 사용되는 산세척 용액(1211, 1221, 1241) 중의 산 농도 및 철 이온 농도를 결정하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립 산세척 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 준비 단계(4101, 4102)는,
    - 액추에이터(45)로부터의 상태 데이터(450)를 수신하고(4501), 동작 데이터(413), 및 스트립(2)의 산세척을 최적화하기 위해 분석 모델에 의해 수립된 조절 파라미터에 대한 목표값(412)을 수신하는 단계,
    - 각각의 액추에이터(45)에 대한 사전-조절 지령(411)을 수립하는 단계(4101),
    - 각각의 액추에이터(45)에 상기 사전-조절 지령(421)을 송신하는 단계(4102),
    - 명령 단계(4201, 4202)를 위한 입력 데이터(414)를 수립하는 단계(4103),
    - 상기 입력 데이터(414)를 명령 단계(4401)에 송신하는 단계(4104)를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립 산세척 방법.
  8. 제7항에 있어서, 분석 모델은 관련 액추에이터(45)가 작용하는 조절 파라미터에 대한 상기 사전-조절 지령(411)을 생성하기 위해 각각의 액추에이터(45)와 연관된 분석 서브-모델을 구비하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립 산세척 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 명령 단계(4201, 4202)는,
    - 액추에이터(45)로부터의 상태 데이터(450)를 연속적으로 실시간 수신하고(4502), 측정 및 계산 수단(43)으로부터의 정보를 연속적으로 실시간 수신하며(4300), 준비 단계(4101, 4102) 중에 수립된 명령 단계(4201, 4202)를 위한 입력 데이터(414)를 연속적으로 실시간 수신하는 단계,
    - 각각의 액추에이터(45)에 대해 최적화된 명령 신호(425)를 수립하는 단계(4201), 및
    - 상기 명령 신호(421)를 액추에이터(45)에 송신하는 단계(4202)를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립 산세척 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 예측 제어 시스템은 명령(425)이 송신되었을 때 각각의 액추에이터(45)의 최적 작동을 체크하기 위한 주 조절 루프를 구비하는 것을 특징으로 하는 금속 스트립 산세척 방법.
  11. 연속 산세척 라인 장치(1)에서 연속 이송되는 열간-압연된 금속 스트립(2)을 산세척하기 위한 연속 산세척 라인 장치(1)이며,
    - 스트립(2)의 표면에 형성된 산화물에 대한 파쇄 시스템(11)으로서, 파쇄 조절 파라미터(1111, 1112, 1113)에 의해 조절될 수 있는 파쇄 시스템(11),
    - 산세척 조절 파라미터를 사용하여 조절될 수 있는 산세척 시스템(12),
    - 헹굼 조절 파라미터를 사용하여 조절될 수 있는 헹굼 시스템(15),
    - 상기 장치(1)의 조절 파라미터를 측정 및 계산하기 위한 수단(43) 세트, 및
    - 상기 장치(1)의 조절 파라미터에 작용하도록 구성된 액추에이터(45) 세트를 포함하는 연속 산세척 라인 장치에 있어서,
    상기 장치는 또한,
    - 금속 스트립(2)의 산세척을 최적화하기 위한 중앙 명령 시스템(4)으로서,
    * 측정 및 계산 수단(43)과 액추에이터(45) 전부로부터 정보를 수신하고(4100), 사전-조절 지령(411)을 생성하여(4101) 모든 액추에이터(45)에 송신(4102)하도록 구성된 준비 모듈(41), 및
    * 측정 및 계산 수단(43)과 액추에이터(45) 전부로부터 정보를 수신하고(4200), 최적화된 명령(421)을 생성하여(4201) 모든 액추에이터(45)에 송신(4202)하도록 구성된 명령 모듈(42)
    을 구비하는 중앙 명령 시스템(4), 및
    - 상기 헹굼 시스템(15)의 출력부에 배치되는 스트립(2)용 검사 시스템(5, 51, 52)을 구비하며,
    상기 검사 시스템(5)은 스트립(2)의 이송 속도(V)에 작용하도록 경고 지령(500)을 생성하여(5001) 명령 모듈(42)에 송신(5002)할 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  12. 제11항에 있어서, 상기 검사 시스템(55, 51, 52)은 또한 헹굼 조절 파라미터에 작용하도록 명령(500)을 생성하여(5001) 명령 모듈(42)에 송신(5002)할 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  13. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 측정 및 계산 수단(43) 세트는,
    - 스트립(2) 이송 속도(V)의 측정 수단(4312), 산화물 파쇄 조절 파라미터의 측정 수단(431111, 431112, 431113), 산세척 조절 파라미터 중 적어도 일부의 측정 수단(431212, 431222, 431232, 431242, 431313, 431323, 431333, 431343, 431314, 431324, 431334, 341344), 및 헹굼 조절 파라미터의 측정 수단(431512, 431522, 431532, 431542, 431553, 431554)을 구비하는 측정 수단(431) 세트, 및
    - 산세척 조절 파라미터 중 적어도 일부에 대한 계산 수단(432)을 포함하는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  14. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액추에이터(45) 세트는 산화물 파쇄 조절 파라미터(1111, 1112, 1113)에 작용하도록 구성된 파쇄 액추에이터(451111, 451112, 451113), 산세척 조절 파라미터에 작용하도록 구성된 산세척 액추에이터(451311, 451311a, 451311b, 451321, 451321a, 451321b, 451331, 451331a, 451331b, 451341, 451341a, 451341b), 및 헹굼 조절 파라미터에 작용하도록 구성된 헹굼 액추에이터(4515151, 4515251, 4515351, 4515361, 4515461, 4515341, 4515441, 4515041, 4515042)를 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  15. 제11항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 계산 수단은 산세척 시스템(12)에 사용되는 산세척 용액(1211, 1221, 1241) 중의 산 농도 및 철 이온 농도를 결정할 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  16. 제11항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 헹굼 유닛(15)은 헹굼용 탈염수가 공급되고 스트립(2) 상에 물을 분사할 수 있도록 배치되는 다수의 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155), 및 상기 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155) 아래에 각각 배치되는 다수의 유동 탱크(1511, 1521, 1531, 1541, 1551)를 구비하며,
    상기 헹굼 조절 파라미터의 측정 수단(431512, 431522, 431532, 431542, 431553, 431554)은 스트립의 이송 방향(3)으로 마주치는 헹굼 유닛(15)의 유동 탱크(1511, 1521, 1531, 1541, 1551) 중 첫 번째 3개의 탱크 내의 헹굼수에 대한 pH 측정 수단(431512, 431522, 431532, 431542, 431552), 스트립(2)의 이송 방향(3)으로 마주치는 마지막 유동 탱크(1551)에 저장된 헹굼수에 대한 전도율 측정 수단(431553) 및 온도 측정 수단(431554)을 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  17. 제16항에 있어서, 상기 헹굼 유닛(15)은 헹굼 유닛(15)의 스프레이 바(151, 152, 153, 154, 155)에 공급하기 위한 메인 탈염수 재충전 장치(1504), 스트립(2)의 이송 방향(3)으로 마주치는 제3 스프레이 바(153)와 제4 스프레이 바(154)에 공급하기 위한 보충 탈염수 재충전 장치(1534, 1544), 스트립(2)의 이송 방향(3)으로 마주치는 헹굼 유닛(15)의 제1 유동 탱크(1511, 1521, 1531) 내의 산 분사 장치(1515, 1525, 1535), 및 스트립(2)의 이송 방향(3)으로 마주치는 헹굼 유닛(15)의 제3 유동 탱크(1531)와 제4 유동 탱크(1541) 내의 알칼리-생성물 분사 장치(1536, 1546)를 구비하며,
    상기 헹굼 파라미터에 작용할 수 있는 액추에이터(4515151, 4515251, 4515351, 4515361, 4515461, 4515341, 4515441, 4515041, 4515042)는 메인 탈염수 재충전 장치(1504)로부터의 탈염수의 유동을 제어하기 위한 펌프(4515041), 메인 탈염수 재충전 장치(1504)로부터의 탈염수의 온도를 제어하기 위한 열교환기(4515042), 보충 탈염수 재충전 장치(1534, 1544)로부터의 탈염수의 유동을 제어하기 위한 펌프(4515341, 4515441), 상기 산-분사 장치(1515, 1525, 1535)로부터의 산 유동을 제어하기 위한 펌프(4515151, 4515251, 4515351), 및 상기 알칼리-생성물 분사 장치(1536, 1546)로부터의 알칼리 생성물의 유동을 제어하기 위한 펌프(4515361, 4515461)를 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  18. 제11항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스트립(2)의 표면 검사 시스템(5)은,
    - 스트립(2)에 대한 표면 외관 검사 시스템(51), 및
    - 스트립(2)에 대한 표면 상태 측정 시스템(52)을 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  19. 제11항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 부족한 산세척의 경우에, 표면 외관 검사 시스템(51)과 표면 상태 측정 시스템(52) 중 하나만이 결함을 검출하여 명령 모듈(42)에 경고 지령(500)을 송신하면(5002) 명령 모듈은 이를 조작자에게 송신하고, 이는 표면 외관 검사 시스템(51)과 표면 상태 측정 시스템(52) 중 나머지도 상기 결함을 검출하면 스트립(2)의 이송 속도(V)에만 작용하는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  20. 제18항 또는 제19항에 있어서, 상기 표면 외관 검사 시스템(51)은,
    - 이송되는 스트립(2)에 대한 조명 장치(511),
    - 상기 조명 장치가 부착되는 이미지 캡처 장치(512),
    - 이미지 처리 기능부(513),
    - 그레이-임계값 또는 윤곽 검출 기능부(514),
    - 의심 구역에 대한 측광적 및 형태적 특징화 및 추출 기능부(515), 및
    - 의심 구역 식별 및 분류 기능부(516)를 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  21. 제18항 또는 제19항에 있어서, 상기 표면 상태 측정 시스템(52)은 스트립(2)의 표면 상태의 적어도 하나의 특징의 변동을 측정할 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  22. 제21항에 있어서, 상기 표면 상태 측정 시스템(52)은,
    - 스트립(2)의 적어도 한 라인의 연속 검사를 위한 적어도 하나의 광학 기기(521),
    - 신호 처리 기능부(522), 및
    - 의심 구역 분류 기능부(523)를 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  23. 제22항에 있어서, 상기 광학 기기(521)는 레이저 스캐너 장치, 스캐터 레이저 장치 또는 광축방향 색수차 장치인 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  24. 제22항 또는 제23항에 있어서, 상기 표면 상태 측정 시스템(52)은 이송 스트립의 에지로부터 스트립 폭의 1/4 내지 1/3 사이의 거리에서 이송 스트립 위에 배치되는 두 개의 광학 기기(521)를 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  25. 제22항 또는 제23항에 있어서, 상기 표면 상태 측정 시스템(52)은, 산세척된 스트립의 에지로부터 스트립 폭의 1/4 내지 1/3의 거리에서 스트립 위에 고정되고, 스트립의 중심 위에 고정되는 동일한 형태의 다른 기기에 연결되는 두 개의 광학 기기(521)를 구비하는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
  26. 제11항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치(1)의 제어 시스템(4)은 상기 산세척 장치(1)의 하류 및/또는 상류에서 스트립(2) 처리 설비의 관리를 제어하는 일반 제어 시스템에 데이터를 송신할 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 산세척 라인 장치(1).
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