KR20100099304A - 다중 후-증류에 의한 사이클로헥사논의 제조방법 - Google Patents

다중 후-증류에 의한 사이클로헥사논의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20100099304A
KR20100099304A KR1020107016035A KR20107016035A KR20100099304A KR 20100099304 A KR20100099304 A KR 20100099304A KR 1020107016035 A KR1020107016035 A KR 1020107016035A KR 20107016035 A KR20107016035 A KR 20107016035A KR 20100099304 A KR20100099304 A KR 20100099304A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
fraction
phenol
distillation
cyclohexanone
zone
Prior art date
Application number
KR1020107016035A
Other languages
English (en)
Inventor
반 가데프리두스 마리아 도르몬트
마를렌 호르셀스
루디 프랑소아 마리아 요셉 파르톤
요한 토마스 팅게
Original Assignee
디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. filed Critical 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이.
Publication of KR20100099304A publication Critical patent/KR20100099304A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
    • C07C29/48—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by oxidation reactions with formation of hydroxy groups
    • C07C29/50—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by oxidation reactions with formation of hydroxy groups with molecular oxygen only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/006—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by hydrogenation of aromatic hydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C07C45/81—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation
    • C07C45/82—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation by distillation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14—The ring being saturated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

백금 및 팔라듐 중에서 선택된 하나 이상의 촉매적 활성 금속을 포함하는 촉매를 사용함으로써, 페놀로부터 사이클로헥사논을 연속적으로 제조하는 방법으로서,
(a) 페놀을 수소화하여 사이클로헥사논 및 미반응된 페놀을 포함하는 생성물 스트림을 형성하는 단계;
(b) 증류를 이용하여, 생성물 스트림의 적어도 일부를, 또는 사이클로헥사논 보다 낮은 비점을 갖는 하나 이상의 성분들이 제거된 생성물 스트림의 적어도 일부를, 사이클로헥사논을 포함하는 제 1 분획 및 페놀과 사이클로헥산올을 포함하는 제 2 분획으로 분리하는 단계;
(c) 증류를 이용하여, 상기 제 2 분획을, 사이클로헥산올-풍부 제 3 분획 및 페놀-풍부 제 4 분획으로 분리하는 단계, 및
(d) 상기 제 4 분획의 적어도 일부를 추가의 증류 단계에 적용하여, 이로써 제 5 분획 및 제 6 분획을 형성하되, 여기서 제 5 분획은 상기 제 6 분획에 비해 페놀이 풍부하고, 상기 제 6 분획은, 페놀보다 높은 비점을 갖는 부산물 및 페놀을 포함하는, 단계
를 포함하고,
(e) 상기 제 6 분획의 적어도 일부를 연속적으로 또는 간헐적으로 추가의 증류 단계에서 분리시켜, 이로써 제 7 분획 및 제 8 분획을 형성하되, 여기서 상기 제 7 분획이 상기 제 8 분획에 비해 페놀이 풍부하고, 상기 제 8 분획이 페놀보다 높은 비점을 갖는 부산물을 포함하는, 부가적인 단계를 특징으로 하는, 방법에 관한 것이다.

Description

다중 후-증류에 의한 사이클로헥사논의 제조방법{CYCLOHEXANONE PRODUCTION PROCESS WITH MULTIPLE POST-DISTILLATION}
본 발명은 페놀로부터의 사이클로헥사논의 제조방법 및 본 발명에 따른 방법을 수행하기에 적합한 플랜트에 관한 것이다.
사이클로헥사논은 산업적 용매로서 또는 산화 반응에서의 활성제로서 사용될 수 있다. 이는 또한, 특히 아디프산, 사이클로헥사논 수지, 카프로락탐, 나일론 6 또는 나일론 6,6의 제조에서 중간체로서 사용될 수도 있다.
사이클로헥사논은, 통상적으로, 예를 들어 백금 또는 팔라듐 촉매를 사용하여, 페놀 수소화 반응기에서 촉매적 수소화에 의해 페놀로부터 제조된다. 반응은 액상 또는 증기상으로 수행될 수 있다(문헌[Kirk Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, e.g. 3rd Edition, Vol 7 (1979) p. 410-416]; 문헌[I. Dodgson et al . "A low Cost Phenol to Cyclohexanone Process", Chemistry & Industry, 18, December 1989, p 830-833] 또는 http://www.mrw.interscience.wiley.com/emrw/9783527306732/search/firstpage로부터 컴퓨터로 입수가능한 문헌[M.T. Musser "Cyclohexanol and Cyclohexanone", Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry (7th Edition, 2007)](이후, "뮤서(Musser)의 문헌"으로 지칭함) 참조).
페놀로부터 사이클로헥사논을 제조하는 경우, 전형적으로 사이클로헥산올(이는 사이클로헥사논으로 추가로 전환하기에 유용한 중간체 생성물로서 고려될 수 있다) 및 다양한 원치 않는 부산물이 형성된다.
사이클로헥사논은 전형적으로는 사이클로헥사논-풍부(일반적으로 90중량% 이상) 생성물로서 또는 본질적으로 순수한 생성물(99중량% 이상)로서 증류공정에 의해 회수된다. 증류에서, 유체는 2개 이상의 분획으로 나뉜다. 2개의 분획을 비교하자면, 하나는 "경질" 분획으로, 다른 하나는 "중질" 분획으로 지칭할 수 있다. 특히, 증류에 의한 분리와 관련하여 "경질" 분획 또는 "중질" 분획을 언급하는 경우, 이러한 용어들은 낮은 비점을 갖는 분획(경질 분획)과 높은 비점을 갖는 분획(중질 분획)을 구별하기 위해서, 구체적인 증류 단계에서 서로에 대해 상대적으로 사용된다. 따라서, 특정 화합물이 제 1 증류 단계에서는 "중질" 화합물(주로 중질 분획에서 발견됨)일 수 있지만, 제 2 증류 단계에서는 "경질" 화합물(주로 경질 분획에서 발견됨)일 수 있다. 일반적으로 공지된 바와 같이, 혼합물을 중질 분획 및 경질 분획으로 분리하는 것은 전혀 절대적이지 않다.
페놀 공급물스탁으로부터의 사이클로헥사논의 통상적인 제조 및 회수 방법은 도 1에 개략적으로 도시되어 있다.
사이클로헥사논은 수소화 반응 영역(1)에서 제조된다. 이러한 반응 영역은 특히 수소화 반응기(여기에는, 사용되는 동안 수소 및 페놀이 공급됨)를 포함하고 부가적인 설비를 포함할 수 있다(예를 들어, 상기 뮤서의 참고문헌의 도 1 또는 미국특허 제 3,305,586 호를 참조함). 수소화는 증기상 공정 또는 액상 공정으로 수행될 수도 있다.
사이클로헥사논, (미반응된) 페놀 및 부산물, 예를 들어 사이클로헥산올은, 일반적으로 여러개의 증류 영역을 사용하여 반응 영역으로부터 떠나는 스트림으로부터 회수된다. 본원에서 사용되는 증류 영역은 하나의 증류 컬럼, 또는 각각 동일한 기능을 갖는, 병렬 상태의 복수개의 증류 컬럼을 포함하는 시설이다. 추가로, 이러한 영역은 증류 유닛의 기타 전형적인 파트들을 포함할 수 있다.
선택적인 제 1 증류 영역(2)(예비증류 영역, 즉 사이클로헥사논이 회수되는 증류 영역의 업스트림에 있는 증류 영역의 제 1 파트)에서, 경질 성분들, 예를 들어 벤젠, 사이클로헥산, 물이 반응 생성물로부터 제거되고, 상기 반응 생성물은 도관(a) 및 도관(h)을 통해 증류 영역(2)으로 도입되는 반면, 사이클로헥사논, 잔사 페놀, 사이클로헥산올 및 기타 부산물은 도관(b)을 통해 바닥부 분획으로서 예비증류 영역을 떠난다.
이러한 바닥부 분획은 제 2 증류 영역(3)(사이클로헥사논이 회수된 주된 증류 영역)에서 증류된다. 여기서, 사이클로헥사논은 경질 분획으로서 공정 스트림으로부터 회수된다. 증류 영역(3)의 중질 분획은 잔사 페놀, 사이클로헥산올, 다양한 부산물 및 일반적으로 여전히 존재하는 일부 사이클로헥사논을 함유한다. 이러한 중질 분획은 도관(c)을 통해 증류 영역(3)을 떠난다. 적합한 증류 조건은 당업계에 공지되어 있다(예를 들어, 미국특허 제 2,829,166 호 또는 미국특허 제 3,076,810 호 참조). 이러한 중질 분획으로부터, 전형적으로 가치있는 성분들, 즉 잔사 페놀, 사이클로헥산올 및 사이클로헥사논이 회수된다.
사이클로헥산올은 전형적으로 (제 1 ) 후-증류 영역(4)에서 경질 분획으로서 주된 증류 영역을 떠나는 이러한 중질 영역으로부터 회수된다(후-증류란, 사이클로헥사논이 회수되는 주된 증류 영역의 다운스트림을 의미한다). 일부 사이클로헥사논도 함유하는 이러한 경질 분획은, 일반적으로 70중량% 이상, 특히 80중량% 이상의 사이클로헥산올을 포함하는 사이클로헥산올-풍부 스트림이다. 이러한 경질 분획은 후속적으로 도관(d)을 통해 사이클로헥산올 탈수소화 영역(6)으로 향한다(예를 들어, 상기 뮤서의 문헌의 제 3.5 단락 참조). 사이클로헥산올 탈수소화 영역(6)에서, 사이클로헥산올은 부분적으로 탈수소화되어 사이클로헥사논을 형성한다. 전형적으로 상기 영역(6)은 탈수소화 반응기를 포함하고, 일반적으로는 추가로 반응기의 공급물 업스트림을 증발시키기 위한 증류기 및 상기 반응기를 떠나는 생성물 스트림을 응축하기 위한 응축기를 포함한다. 그다음, 상기 영역(6)을 떠나는 사이클로헥사논-풍부 스트림은 도관(h)을 통해 예비증류 영역(2)을 향한다.
페놀은, 제 1 후-증류의 바닥부 분획의 일부를 형성한다. 이러한 바닥부 분획은 도관(e)을 통해 추가의 후-증류 영역(5)에 공급되고, 여기서, 잔류하는 가치있는 성분들, 주로 페놀 및 일반적으로 일부 사이클로헥사논 및 일부 사이클로헥산올이 경질 분획으로서 회수되어, 도관(g)을 통해 페놀 수소화 반응 영역으로 되돌아간다. 마지막 후-증류 영역으로부터의 바닥부 분획은 전형적으로 도관(f)을 통해 폐기, 예를 들어 소각되거나, 또는 보일러실내 스팀 발생을 위해 사용된다. 다르게는, 상기 바닥부 분획은 잔사 제품, 예를 들어 타르, 아스팔트, 구두약 등을 위한 저가 재료로서 사용될 수 있다.
본 발명의 발명자들은, 전술한 방법에서는, 후-증류 영역(5)에서 중질 잔사에 의한 심각한 오염이 발생할 수 있음을 인식하였다. 플랜트의 (소정의 사이클로헥사논 생산 능력에 대한) 후-증류 영역(5)에서의 에너지 소비가 시간 경과에 따라 증가하고, 후-증류 영역(5)에서의 분리 효율이 시간 경과에 따라 감소한다. 따라서, 상기 플랜트는 후-증류 영역(5)을 청소하기 위해서, 종종(1년에 4회, 각각의 경우 2일 내지 4일) 폐쇄되어야만 한다. 이는 생산의 상당한 손실을 유발한다.
본 발명의 목적은, 전술한 단점들 중 하나 이상이 해소되거나 적어도 경감된, 사이클로헥사논 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은, 추가의 분리 단계를 도입함으로써, 수소화에 의한 페놀의 사이클로헥사논으로의 전환 공정에서 생산 능력을 증가시키고/증가시키거나, 에너지 소비를 줄이고/줄이거나, 공정 내 오염을 줄이는 것이 가능함을 발견하였다.
따라서, 본 발명은, 백금 및 팔라듐 중에서 선택된 하나 이상의 촉매적 활성 금속을 포함하는 촉매를 사용함으로써, 페놀로부터 사이클로헥사논을 연속적으로 제조하는 방법에 관한 것으로, 상기 방법은
(a) 페놀을 수소화하여 사이클로헥사논 및 미반응된 페놀을 포함하는 생성물 스트림을 형성하는 단계;
(b) 증류를 이용하여, 생성물 스트림의 적어도 일부를 또는 사이클로헥사논 보다 낮은 비점을 갖는 하나 이상의 성분들이 제거된 생성물 스트림의 적어도 일부를, 사이클로헥사논을 포함하는 제 1 분획 및 페놀과 사이클로헥산올을 포함하는 제 2 분획으로 분리하는 단계;
(c) 증류를 이용하여, 상기 제 2 분획을, 사이클로헥산올-풍부 제 3 분획 및 페놀-풍부 제 4 분획으로 분리하는 단계, 및
(d) 상기 제 4 분획의 적어도 일부를 추가의 증류 단계에 적용하여, 이로써 제 5 분획 및 제 6 분획을 형성하되, 여기서 제 5 분획은 상기 제 6 분획에 비해 페놀이 풍부하고, 상기 제 6 분획은, 페놀보다 높은 비점을 갖는 부산물 및 페놀을 포함하는, 단계
를 포함하고,
(e) 상기 제 6 분획의 적어도 일부를 연속적으로 또는 간헐적으로 추가의 증류 단계에서 분리시켜, 이로써 제 7 분획 및 제 8 분획을 형성하되, 여기서 상기 제 7 분획이 제 8 분획에 비해 페놀이 풍부하고, 제 8 분획이 페놀보다 높은 비점을 갖는 부산물을 포함하는, 부가적인 단계를 특징으로 한다.
본 발명은 추가로 본 발명에 따른 방법을 수행하기에 적합한 화학 플랜트에 관한 것으로서, 상기 플랜트(도 2a, 도 2b, 도 3a 및 도 3b)는
- 페놀 수소화 반응 영역(1); 및
- 상기 페놀 수소화 반응 영역(1)의 다운스트림에 위치되며, 상기 수소화 영역으로부터의 생성물 스트림으로부터 하나 이상의 경질 성분들을 제거하기 위한 선택적인 예비-증류 영역(2), 페놀 수소화 반응 영역(1)의 생성물 스트림을 제 1 분획(이는 도관 "사이클로헥사논"을 통해 영역(3)으로부터 배출됨) 및 제 2 분획(이는 도관(c)을 통해 영역(4)을 향함)으로 분리하기 위한 영역(3), 상기 제 2 분획을 제 3 분획(이는 도관(d)을 통해 영역(6)을 향함) 및 제 4 분획(이는 도관(e)을 통해 영역(5)을 향함)으로 분리하기 위한 영역(4), 상기 제 4 분획을 제 5 분획(이는 도관(g)을 통해 영역(5)로부터 배출됨) 및 제 6 분획(이는 도관(f)을 통해 영역(7)을 향함)으로 분리하기 위한 영역(5), 및 상기 제 6 분획을 제 7 분획(이는 도관(i)을 통해(도 2a 및 도 3a 참조) 또는 도관(i')을 통해(도 2b 및 도 3a 참조) 영역(7)으로부터 배출됨) 및 제 8 분획(이는 도관(j)을 통해 영역(7)으로부터 배출됨, 일반적으로 플랜트의 배출구임)으로 분리하기 위한 영역(7)을 포함하는 복수개의 증류 영역을 포함한다.
일반적으로, 상기 플랜트는 증류 영역(4)으로부터의 상기 제 3 분획 중 사이클로헥산올의 적어도 일부를 사이클로헥사논으로 전환하고 생성된 스트림을 증류 영역(2)으로 공급하기 위한 루프(도관(d), 탈수소화 영역(6) 및 도관(h)을 포함함)를 포함한다. 게다가, 상기 플랜트는 일반적으로 상기 제 5 분획의 적어도 일부를 수소화 영역(1)으로 재순환시키기 위한 재순환 루프(도관(g)을 포함함)를 포함한다.
바람직하게는, 상기 플랜트는 또한 증류 영역(7)로부터의 상기 제 7 분획의 적어도 일부(i)를 수소화 영역(1)으로 재순환하기 위한 재순환 루프(도 2a 및 도 3a 참조) 또는 상기 제 7 분획의 적어도 일부(i)를 후-증류(5)로 재순환하기 위한 재순환 루프(도 2b 및 도 3b 참조)를 포함한다.
도 1은, 페놀 공급물스탁으로부터 사이클로헥사논을 제조하기 위한 통상적인 시설을 개략적으로 도시한 것이다.
도 2a는, (a) 재순환 루프가 제 5 및/또는 제 7 분획을 수소화 영역(1)으로 재순환하기 위해 존재하는, 본 발명에 따른 플랜트를 개략적으로 도시한 것이다.
도 2b는, 재순환 루프가 상기 제 7 분획을 증류 영역(5)으로 재순환시키기 위해 존재하고, 재순환 루프가 상기 제 5 분획을 수소화 영역(1)으로 재순환하기 위해 존재하는, 본 발명에 따른 플랜트를 개략적으로 도시한 것이다.
도 3a는, 도관이 제 7 및/또는 제 5 분획 또는 임의의 이러한 분획들의 일부를 수소화 영역(1)으로 및/또는 또다른 공정을 수행하기 위한 시설로 향하도록 하기 위해 존재하는, 본 발명에 따른 플랜트를 개략적으로 도시한 것이다.
도 3b는, 본 발명에 따른 플랜트를 개략적으로 도시한 것으로, 여기서 재순환 루프가 제 7 분획 또는 이들의 일부를 증류 영역(5)으로 재순환시키고/시키거나 제 7 분획을 다른 공정을 수행하기 위한 시설로 공급하기 위해 존재하고, 또한 도관이 제 5 분획 또는 이들의 일부를 수소화 영역(1)으로 및/또는 또다른 공정을 수행하기 위한 시설로 향하도록 하기 위해 존재한다.
숙련자들에 의해 이해되는 바와 같이, 도 2a, 도 2b, 도 3a 및 도 3b에서 예로서 도시된 실시양태는 하기에서 보다 상세하게 논의되거나, 이들의 일부는 조합되어 본 발명의 대체 실시양태를 제공할 수 있다. 이러한 도면에서, 번호가 붙은 영역으로의 공급물 스트림은 개별적인 스트림으로서 나타냈지만, 당업계의 숙련자들에게는 영역으로 공급된 스트림이 영역에 도입되기 전에 조합될 수 있거나 또는 개별적으로 영역에 도입될 수도 있음이 명백하다는 점에 주목해야만 한다. 예를 들어, 영역으로 공급된 스트림들은 컬럼의 상이한 수준에서 영역의 진공 증류 컬럼에 도입될 수도 있다.
본 발명의 방법에서, 생산 능력은 증가하고(작동하지 않는 시간이 줄고, 오염이 줄기 때문), (오염으로 인한) 에너지 손실이 준다. 특히, 본 발명자들은, 본 발명에 따른 방법이 수행되는, 예를 들어 도 2a, 도 2b, 도 3a 및 도 3b에서 개략적으로 도시한 바와 같은 플랜트가 증류 영역, 특히 도면에서 도시한 영역(5)을 세척하기 위해 더 이상, 또는 적어도 빈번하게 폐쇄될 필요가 없다는 점을 발견하였다. 이는, 추가의 후-증류 단계(증류 단계 (7))에 의해 달성된다. 또한, 분리 효율도 증가될 수 있다. 추가의 후-증류 단계 (7)로 인해, 후-증류 단계 (e)(도면에서 영역(5))는 낮은 에너지 인풋을 요구한다. 비교적 과량이 페놀이 영역(5)의 바닥부에 존재하기 때문에, 후-증류 컬럼(5)의 바닥부내 액체의 온도 및 체류 시간은 상당히 감소할 것이고, 결과적으로, 본원에서 제조된 중질 잔사의 양은 상당히 낮아질 것이다. 따라서, 영역(5)의 오염은 추가로 감소된다.
본 발명에 따른 방법에서, 후-증류 영역(5)의 바닥부 분획은 도관(f)을 통해 추가의 후-증류 영역(7)으로 공급되며, 여기서 잔류하는 가치있는 성분들, 주로 페놀 및 일반적으로 일부 사이클로헥사논과 일부 사이클로헥산올은 경질 분획으로서 회수되거나, 요구되는 경우, 도관(i)을 통해 페놀 수소화 영역(1)으로 되돌아가거나(도 2a 및 도 3a 참조), 또는 도관(i')을 통해 후-증류 영역(5)으로 되돌아갈 수 있다(도 2b 및 도 3b 참조). 마지막 후-증류 영역(7)의 바닥부 분획은 전형적으로 도관(j)을 통해 폐기, 예를 들어 소각되거나 보일러실에서의 증기 발생을 위해 사용된다. 다르게는, 바닥부 분획은 잔사 제품, 예를 들어 타르, 아스팔트, 구두약 등을 위한 저가 재료로서 사용될 수 있다. 후-증류 영역(5)에서 페놀이 단지 부분적으로만 제거되기 때문에, 단계 (e)가 수행되는 후-증류 영역(5)에서의 바닥부 온도 및 액체 체류 시간은 감소되어, 중질 잔사 형성을 감소시키고, 이로써 후-증류 영역(5)의 오염을 감소시킨다.
본 발명에 따르면, 몇년 동안 청소해야 할 필요가 없을 정도로 후-증류 영역(5)의 오염을 감소시킬 수 있다. 단계 (f)가 수행되는 후-증류 영역(7)은 때때로, 예를 들어 매년 2회 미만으로 청소할 필요가 있지만, 이러한 후-증류 영역(7)의 청소 도중에도, 상기 플랜트는 통상적인 공정으로, 즉 단계 (f) 없이 작동될 수 있다. 따라서, 상기 플랜트가 폐쇄되지 않아도 된다. 따라서, 상기 시간 동안, 단계(a), 단계(c), 단계(d), 단계(e) 및 선택적인 단계(b)를 포함하는 사이클로헥사논 플랜트가 수행될 수 있는 반면, 단계 (f)는 생략된다(단계 (f)가 수행되는 영역은 적절하게 청소할 수 있다). 본 발명에 따르면, 후-증류 영역(7), 단계 (f)가 페놀의 회수를 위해 필수적으로 연속적으로 사용되는 것은 아니지만, 후-증류 영역(7)은 운행 시간의 90% 이상, 보다 바람직하게는 95% 이상 동안 페놀의 회수를 위한 스트림 상에 존재한다.
따라서, 본 발명의 방법은, 후-증류 영역(5)을 청소하기 위해 상기 플랜트를 폐쇄할 필요 없이 연속적으로 수행될 수 있다. 따라서, 폐쇄 횟수는, 예를 들어 정부 법규로 인해 및/또는 정기적인 플랜트 유지보수를 위해, 및/또는 촉매 교환을 위해 요구되는, 총 매 4년 마다 약 1회 수준으로 제한될 수 있다.
따라서, 본 발명은, 전술한 통상적인 방법에 비해, 장기간 동안 사이클로헥사논의 연속적 제조를 가능하게 한다. 추가의 후-증류 영역(7)의 시행에 의한 오염의 감소는, 사이클로헥사논 공정의 에너지 및 분리 효율을 개선시킨다. 게다가, 청소를 위한 부가적인 플랜트 폐쇄가 제거되어, 생산 능력을 상당히 증가시킨다.
본원에서 스트림, 생성물 또는 다른 조성물을 지칭하는 경우, 구체적인 성분이 "풍부"하다는 것은 일반적으로 상기 성분이 주요 성분이고, 구체적으로 상기 성분이 50중량% 초과의 농도로 존재함을 의미한다. 그러나, 이러한 하한치는 구체적인 스트림 및 성분들에 따라 상이할 수 있다.
일반적으로, 제 1 분획은 사이클로헥사논이 풍부하고, 생성물 스트림에 비해 사이클로헥사논이 풍부하다. 바람직하게는, 제 1 분획이 99중량% 이상의 사이클로헥사논을 포함하고, 보다 바람직하게는 99.8중량% 이상의 사이클로헥사논을 포함한다.
사이클로헥산올이 풍부한 제 3 분획은, 특히 제 3 분획이 형성되는 증류 단계의 경질 분획일 수 있는 반면, 제 4 분획은 특히 중질 분획일 수 있다. 제 3 분획은 바람직하게는 70중량% 이상, 보다 바람직하게는 80중량% 이상의 사이클로헥산올을 포함한다. 제 4 분획은 바람직하게는 65중량% 이상의 페놀을 포함한다.
제 4 분획 보다 높은 페놀 함량을 갖는 제 5 함량은, 제 4 분획이 증류되는 증류 단계에서 경질 분획일 수 있는 반면, 제 6 분획은 특히 중질 분획일 것이다. 제 6 분획은 제 4 분획 보다 낮은 페놀 함량을 갖는다. 제 6 분획의 페놀 농도는 바람직하게는 20중량% 이상, 보다 바람직하게는 25중량% 이상의 페놀이다. 개선된 페놀 농도는 제 6 분획의 비점을 낮추고 중합체 부산물의 형성(오염에 높게 기여함)이 감소되기 때문에, 제 6 분획의 비교적 높은 페놀 농도가 유리하다.
특히, 제 7 분획은 제 7 분획이 형성되는 증류 단계에서 경질 분획일 수 있는 반면, 제 8 분획은 특히 중질 분획일 수 있다. 제 7 분획은 바람직하게는 40중량% 이상, 보다 바람직하게는 60중량% 이상의 페놀을 포함한다. 일반적으로 소량의 분획인 제 8 분획은, 바람직하게는 25중량% 미만의 페놀 및 보다 바람직하게는 20중량% 미만의 페놀을 포함한다.
단계 (b)는 예비-증류 단계로서, 단계 (c)는 주된 증류 단계로서(사이클로헥사논이 이 단계에서 회수되기 때문임) 지칭될 수 있다. 단계 (d), 단계 (e) 및 단계 (f)는 제 1, 제 2, 및 제 3 후-증류 단계로서 각각 지칭될 수 있다.
페놀이 풍부한 후-증류 단계로부터의 하나 이상의 분획은 특히 수소화 단계 (a)로, 또는 단계 (f)로부터 단계 (e)로(본 발명에 따른 실시양태를 도시하는 도면에서 제 3 후-증류 영역(7)으로부터 제 2 후-증류 영역(5)까지) 전체적으로 또는 부분적으로 재순환될 수 있다. 보다 상세하게 후술하는 바와 같이, 이러한 분획 또는 이들의 일부, 및/또는 제 5 분획 또는 이들의 일부를, 페놀로부터 사이클로헥사논을 제조하는 방법 이외의 제 2 공정으로 향하게 할 수도 있다.
페놀의 수소화는, 원칙상, 예를 들어 문헌[Kirk Othmer Encyclopedia of Chemical Technology 3rd Edition, Vol 7, 1979 p. 410-416], 문헌[I. Dodgson et al. "A low Cost Phenol to Cyclohexanone Process", Chemistry & Industry, 18, December 1989, p 830-833], 영국특허 제 GB 890,095 호; 문헌[Hancil and Beranek Chem. Eng. Sci., 25, 1970, p. 1121-1126]; 문헌[Sakai et al. Nippon Kagaku Kaishi, 5, 1972, 821-829]; 상기 뮤서의 문헌; 미국특허 제 2,829,166 호; 또는 미국특허 제 3,076,810 호에 기술되어 있는 기술에 기초하여, 임의의 방식, 증기상으로, 또는 액상으로 수행될 수 있다. 수소화 반응 영역은 수소화가 일어난 반응기를 떠난 스트림의 일부를 재순환하기 위한 내부 재순환 스트림을 포함할 수 있다. 수소화 반응 영역을 떠나는 생성물 스트림은 일반적으로 사이클로헥사논, 사이클로헥산올, 페놀 및 부산물을 포함한다.
증류 단계(예비-증류, 주 증류, 및 후-증류)는 당업계에 공지된 방식으로 수행될 수 있다. 적합한 증류 조건은, 일반적인 상식 및 선택적으로 일부 일상화된 시험에 기초하여, 당업계의 숙련자들에 의해 일상적으로 결정될 수 있다. 특히, 당업계의 숙련자들은 본원에서 언급된 종래의 기술에 대해 참고할 수도 있다. 단계 (f)의 경우, 각각 영역(7)인 통상적인 증류 컬럼, 예를 들어, 이전의 후-증류 단계에 대해 당업계에 기술한 바와 같은 증류 컬럼이, 사용될 수 있다. 보다 간단한 증류 장치, 예를 들어 박막 증류기, 구체적으로 원-패스 박막 증류기를 사용하는 것도 가능하다. 박막 증류기는 단계 (f)를 적합하게 수행하기에 충분한 분리 효율을 나타내고, 이것이 투자를 감소시킨다는 점 및 이들의 간단한 디자인이 빠른 청소를 가능하게 한다는 점에서 특히 유리하다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 방법은 사이클로헥사논의 합성 및 상기 사이클로헥사논을 회수하기 위한 복수개의 증류 단계들을 포함한다.
도 2a 및 도 2b에서 도시한 바와 같이, 수소화 단계 (a), 선택적인 예비-증류 단계 (b), 주 증류 단계 (c) 및 후-증류 단계 (d)와 (e)는, 도 1에서 논의할 때, 일반적으로 전술한 바와 같이 수행될 수 있다. 도 2a 및 도 2b에서 개략적으로 도시한 본 발명의 실시양태에 따라, 도관(f)은 (도 1에 따른 실시양태에서 존재하는 바와 같이) 더 이상 공정의 배출구로서 사용되지 않지만 후-증류 영역(5)으로부터의 바닥부 분획을 후-증류 영역(7)으로 향하도록 배열되어 있다. 도관(i)은 후-증류 영역(7)의 경질 분획을 수소화 영역(1)으로 재순환시키도록 배열되어 있는 반면(도 2a 참조), 도관(i')은 후-증류 영역(7)의 경질 분획을 후-증류 영역(5)으로 재순환시키기 위해 사용된다(도 2b 참조). 배출구(j)는 후-증류 영역(7)으로부터의 중질 분획을 배출하기 위해 제공된다. 그러나, 도관(j)은, 후-증류 영역(7)으로부터의 중질 분획을 추가의 후-증류 영역(도시하지 않음)으로 향하도록 하기 위해 제공되는 것도 가능하다.
도 3a에서, 도관(i)은 후-증류 영역(7)으로부터의 경질 분획의 적어도 일부를 수소화 영역(1)으로 재순환하기 위해 배열된 도관(i1), 및 경질 분획 또는 이들의 일부를 제 2 공정을 수행하기 위한 시설로 향하도록 배열된 도관(i2)으로 나뉜다. 도관(i1)을 생략하는 것도 가능하다. 선택적으로, (후-증류 영역(5)으로부터의 경질 분획을 위한) 도관(g)은 상기 경질 분획 또는 이들의 일부를 수소화 반응 영역(1)으로 재순환하기 위한 도관(g1), 및 상기 경질 분획 또는 이들의 일부를 페놀로부터의 사이클로헥사논의 제조방법과 상이한 제 2 공정으로 향하게 하기 위한 도관(g2)으로 나눈다.
도 3b는, 후-증류 영역(7)으로부터 후-증류 영역(5)으로의 재순환 루프(i1')가 존재하고, 여기서 도관(i2')이 후-증류 영역(7)으로부터의 경질 분획 또는 이들의 일부를, 페놀로부터의 사이클로헥사논의 제조방법과는 상이한 제 2 공정으로 향하게 하기 위해 존재한다.
제 2 공정으로서, 원칙상, 이러한 분획을 사용할 수 있는 어떠한 공정도 사용될 수 있다. 특히, 적합한 제 2 공정으로는 페놀-폼알데하이드 수지 생산 공정을 포함한다. 따라서, 도관(i2) 및 도관(i2') 및/또는 도관(g2)은 특히 페놀-폼알데하이드 수지 제조 시설을 향할 수 있다.
다르게는 또는 부가적으로, 도관(d) 및/또는 도관(h)은, 전체적으로 또는 부분적으로, 후-증류 영역(4)으로부터의 경질 분획, 후-증류 영역(5)으로부터의 경질 분획, 및 영역(6)으로부터의 생성물 스트림이 각각 다른 공정을 향하도록 배열될 수 있다. 특히, 사이클로헥산올이 관심있는 물질을 제조하기 위한 적합한 시약이거나, 사이클로헥산올이 적합한 용매이거나, 사이클로헥산올이 관심있는 물질인, 임의의 이러한 다른 공정이 사용될 수 있다. 이러한 다른 공정은 특히 사이클로헥산 산화 공정, 사이클로헥산올 탈수소화 공정, 및 아디프산 생산 공정의 군 중에서 선택될 수 있다.
본 발명은 하기 대조예 및 실시예로 추가로 설명될 것이다.
실시예
대조용 실험은 통상적인 플랜트에서 수행되되, 여기서 사이클로헥사논은 도 1에서 개략적으로 도시한 바와 같이 페놀의 수소화에 의해 제조된다. 본 발명에 따른 실시예와의 용이한 비교를 위해서, 실제 플랜트 데이터는, 본질적으로 순수한 사이클로헥사논 100,000 미터톤의 연간 플랜트 능력(annual plant capacity)으로 크기를 조정하였다. 본 발명에 따른 실시예의 경우, 후술하는 바와 같이, 본 발명에 따라 개조된 플랜트의 년간 100,000 미터톤을 모의함으로써 수득되는 결과를 나타낸 것이다. (대조용 실험 및 실시예에서의) 후-증류 영역(5)의 주요 유닛은 직경이 1m이고 높이가 15m인 진공 증류 컬럼이다. 이러한 컬럼의 탑정을 떠나는 증기는 응축기에서 액화된다. 수득된 액체의 일부는 환류액으로서 이러한 컬럼의 탑정으로 공급되고, 나머지 부분(유동물(g))은 페놀 수소화 영역(1)을 향한다. 이 컬럼에서 증류 공정을 위해 요구되는 에너지는, 스팀을 통한 간접 가열에 의해 도입된다. 다른 부산물 중 페놀, 사이클로헥사논 및 사이클로헥산올을 함유하는 유동물(f)이 후-증류 영역(5)의 증류 컬럼의 바닥부를 통해 공정을 떠난다.
(본 발명에 따른) 실시예 I에서, 추가의 후-증류 영역(7)이 사이클로헥사논 플랜트의 정제 파트에 첨가된다(도 2a에서 도시함). 이러한 경우, 후-증류 영역(5)의 바닥부 유동물(f)은 상기 공정을 떠나지 않지만, 후-증류 영역(7)으로의 공급물로서 사용된다. 후-증류 영역(7)의 주된 유닛은 직경이 0.7m이고 높이가 15m인 증류 컬럼이다. 이러한 컬럼의 탑정을 떠나는 증기는 응축기에서 액화된다. 수득된 액체의 일부는 환류물로서 상기 컬럼의 탑정에 공급되고, 나머지 부분인 유동물(i)은 페놀 수소화 영역(1)으로 공급된다. 이 컬럼에서 증류 공정을 위해 요구되는 에너지는, 스팀을 통한 간접 가열에 의해 도입된다. 다른 부산물들 중 페놀, 사이클로헥사논 및 사이클로헥산올을 함유하는 유동물(j)이, 후-증류 영역(7)의 증류 컬럼의 바닥부를 통해 플랜트를 떠단다.
(본 발명에 따른) 실시예 II는 추가의 후-증류 영역(7)이 증류 컬럼 대신에 원-패스 박막 증류기를 포함한다는 점에서 실시예 I과 상이하다. 실시예 II를 위한 플랜트 개시는 도 2b에 개략적으로 도시되어 있다. 이러한 경우, 후-증류 영역(5)의 바닥부 유동물(f)은 후-증류 영역(7)의 공급물로서 사용된다. 후-증류 영역(7)의 주된 유닛은 직경이 0.5m이고 높이가 5.4m인 원-패스 박막 증류기이다. 공급물(f)이 증류기의 탑정으로 도입된다. 원-패스 박막 증류기의 탑정을 떠나는 증기인 유동물(i)은 후-증류 영역(5)에 공급된다. 후-증류 영역(7)의 원-패스 박막 증류기를 위해 요구되는 에너지는 스팀에 의해 간접 가열에 의해 도입된다. 후-증류 영역(7)의 박막 증류기를 떠나는 중질 스트림(j)은, 다른 것들 가운데 부산물인, 페놀, 사이클로헥사논 및 사이클로헥산올을 함유한다.
대조예
전술한 바와 같고 도 1에 도시한, 페놀 수소화 반응 영역, 회수/정제 영역, 및 사이클로헥산올 전환기(converter) 영역으로 구성된 사이클로헥산논 플랜트는, 영역(5)의 증류 컬럼의 리보일러 및 바닥부 영역을 포함하는 전체 플랜트를 청소한 직후, 이론적으로는 본질적으로 순수한 사이클로헥사논 100,000 미터톤의 년간 생산 능력으로 작동할 수 있다(청소 직후 도달한 생산 수준은 폐쇄 없이 유지될 수 있었다).
후-증류 영역(5)의 증류 조건은 하기와 같다:
- 환류율(reflux ratio): 1.3
- 리보일러의 가열 부하(heat duty): 0.40MW
이러한 조건들 후, 후-증류 영역(5)내 증류 컬럼의 하기 성능은, 개시 후 1주일 후에 관찰하였다.
Figure pct00001
그러나, 후-증류 영역(5)내 증류 컬럼의 리보일러나, 펌프 내 시이브의 바닥부 영역의 오염으로 인해, 분리 및 에너지 효율이 시간경과에 따라 악화되었다.
플랜트의 적절한 작동을 유지하기 위해서, 플랜트는 3달마다 2일 내지 4일 동안 폐쇄하여 후-증류 영역(5)내 진공 증류 컬럼의 오염을 제거해야만 했다. 오염 및 청소를 위한 폐쇄 결과, 사이클로헥사논 플랜트의 실제 연간 생산 능력의 손실은 3,600 미터톤/년 초과인 것으로 계산될 수 있다.
실시예 I
전술한 바와 같고 도 2a에 도시한, 페놀 수소화 반응 영역, 회수/정제 영역, 및 사이클로헥산올 전환기 영역으로 구성된 사이클로헥산논 플랜트는, 깨끗한 플랜트의 개시 직후, 이론적으로는 본질적으로 순수한 사이클로헥사논 100,000 미터톤의 년간 생산 능력으로 작동될 수 있다.
후-증류 영역(5)의 증류 조건은 하기와 같다:
- 환류율: 1.4
- 리보일러의 부하: 0.30MW
후-증류 영역(7)의 증류 조건은 하기와 같다:
- 환류율: 1.4
- 리보일러의 부하: 0.30MW
이러한 조건들 후, 후-증류 영역(5) 및 영역(7)내 증류 컬럼의 하기 성능은 하기와 같다.
Figure pct00002
이러한 사이클로헥사논 플랜트의 4년간의 작동 동안, 후-증류 영역(5)을 비롯한 전체 플랜트는, 후-증류 영역(7)을 단지 몇 번(1년에 2회) 짧은 청소를 하였지만, 청소를 위해 전체 플랜트를 폐쇄하지 않은 채, 총 생산 능력으로 연속적으로 작동될 수 있었다. 그러나, 후-증류 영역(7)의 이러한 청소 기간 동안, 본질적으로 순수한 사이클로헥사논의 생산은 총 능력으로 계속될 수 있었으며, 이는 사이클로헥사논의 다른 파트들이 대조예에서 기술한 바와 같이 계속 작동할 수 있었기 때문이다. 따라서, 생산 능력의 이익은 대조예에서 기술한 통상적인 방법에 비해 약 3,600 미터톤/년이었다.
실시예 II
전술한 바와 같고 도 2b에 도시한, 페놀 수소화 반응 영역, 회수/정제 영역, 및 사이클로헥산올 전환기 영역으로 구성된 사이클로헥산논 플랜트는, 깨끗한 플랜트의 개시 직후, 이론적으로는 최종 생성물로서 사이클로헥사논 100,000 미터톤의 년간 생산 능력으로 작동될 수 있다(청소 직후 도달한 생산 수준은 폐쇄 없이 유지될 수 있었다).
후-증류 영역(5)의 증류 조건은 하기와 같다:
- 환류율: 1.3
- 리보일러의 부하: 0.35MW
후-증류 영역(7)의 증류 조건은 하기와 같다:
- 에너지 부하(energy duty): 0.05MW
이러한 조건들 후, 후-증류 영역(5) 및 영역(7)내 증류 컬럼의 하기 성능은, 하기와 같다.
Figure pct00003
이러한 사이클로헥사논 플랜트의 4년간의 작동 동안, 후-증류 영역(5)을 비롯한 전체 플랜트는, 원-패스 박막 증류기(7)를 단지 몇 번(1년에 2회) 짧은 청소를 하였지만, 청소를 위해 전체 플랜트를 폐쇄하지 않은 채, 총 생산 능력으로 연속적으로 작동될 수 있었다. 그러나, 원-패스 박막 증류기(7)의 이러한 청소 기간 동안, 본질적으로 순수한 사이클로헥사논의 생산은 총 능력으로 계속될 수 있었으며, 이는 사이클로헥사논의 다른 파트들이 대조예에서 기술한 바와 같이 계속 작동할 수 있었기 때문이다. 따라서, 생산 능력의 이익은 대조예에서 기술한 통상적인 방법에 비해 약 3,600 미터톤/년이었다.

Claims (14)

  1. 백금 및 팔라듐 중에서 선택된 하나 이상의 촉매적 활성 금속을 포함하는 촉매를 사용함으로써, 페놀로부터 사이클로헥사논을 연속적으로 제조하는 방법으로서,
    (a) 페놀을 수소화하여 사이클로헥사논 및 미반응된 페놀을 포함하는 생성물 스트림을 형성하는 단계;
    (b) 증류를 이용하여, 상기 생성물 스트림의 적어도 일부를, 또는 사이클로헥사논 보다 낮은 비점을 갖는 하나 이상의 성분들이 제거된 상기 생성물 스트림의 적어도 일부를, 사이클로헥사논을 포함하는 제 1 분획 및 페놀과 사이클로헥산올을 포함하는 제 2 분획으로 분리하는 단계;
    (c) 증류를 이용하여, 상기 제 2 분획을, 사이클로헥산올-풍부 제 3 분획 및 페놀-풍부 제 4 분획으로 분리하는 단계, 및
    (d) 상기 제 4 분획의 적어도 일부를 추가의 증류 단계에 적용하여, 이로써 제 5 분획 및 제 6 분획을 형성하되, 여기서 제 5 분획은 상기 제 6 분획에 비해 페놀이 풍부하고, 상기 제 6 분획은, 페놀보다 높은 비점을 갖는 부산물 및 페놀을 포함하는, 단계
    를 포함하고,
    (e) 상기 제 6 분획의 적어도 일부를 연속적으로 또는 간헐적으로 추가의 증류 단계에서 분리시켜, 이로써 제 7 분획 및 제 8 분획을 형성하되, 여기서 상기 제 7 분획이 상기 제 8 분획에 비해 페놀이 풍부하고, 상기 제 8 분획이 페놀보다 높은 비점을 갖는 부산물을 포함하는, 부가적인 단계
    를 특징으로 하는, 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 5 분획의 적어도 일부, 페놀을 포함하는 제 7 경질 분획의 적어도 일부, 또는 상기 제 5 분획 및 상기 제 7 경질 분획 둘다의 적어도 일부를 연속적으로 또는 간헐적으로 단계 (a)로 재순환시키는, 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제 7 분획의 적어도 일부가 단계 (e)로 재순환되는, 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제 5 분획의 적어도 일부, 페놀을 포함하는 상기 제 7 분획의 적어도 일부, 또는 상기 제 5 분획 및 상기 제 7 경질 분획 둘다의 적어도 일부가 연속적으로 또는 간헐적으로, 페놀로부터 사이클로헥사논을 제조하는 방법과는 상이한 제 2 공정에 도입되는, 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 공정이 폼알데하이드-페놀 수지의 제조공정인, 방법.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 3 분획의 적어도 일부가 연속적으로 또는 간헐적으로 페놀로부터의 사이클로헥사논의 제조방법 이외의 제 2 공정에 도입되는, 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 2 공정이 사이클로헥산올 및/또는 사이클로헥사논이 사이클로헥산으로부터 제조되는 사이클로헥산 산화 공정인, 방법.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 2 공정이, 사이클로헥산올이 적어도 부분적으로 사이클로헥사논으로 전환되는 사이클로헥산올 전환기(converter)의 사용을 포함하는 사이클로헥산올 탈수소화 공정이고, 그 후, 제 2 공정에서 사이클로헥사논이 상기 제 1 공정으로부터 유래하는 재순환 부산물 및 잔사 사이클로헥산올로부터 분리되는, 방법.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 2 공정이, 사이클로헥산올이 아디프산으로 전환되는 아디프산 생산 공정인, 방법.
  10. - 페놀 수소화 반응 영역(1); 및
    - 상기 페놀 수소화 반응 영역(1)의 다운스트림에 위치되며, 예비-증류 영역(2), 상기 페놀 수소화 반응 영역(1)의 생성물 스트림을 제 1 분획(도관 "사이클로헥사논") 및 제 2 분획(도관(c))으로 분리하기 위한 영역(3), 상기 제 2 분획을 제 3 분획(도관(d)) 및 제 4 분획(도관 (e))으로 분리하기 위한 영역(4), 상기 제 4 분획을 제 5 분획(도관(g)) 및 제 6 분획(도관(f))으로 분리하기 위한 영역(5), 상기 제 6 분획을 제 7 분획(도관(i) 및 도관(i')) 및 제 8 분획(도관(j))으로 분리하기 위한 영역(7)을 포함하는 복수개의 증류 영역,
    을 포함하는, 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 방법을 수행하기에 적합한 화학 플랜트.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 영역(1)의 플랜트 다운스트림이, 상기 영역(1)을 떠나는 생성물 스트림으로부터 하나 이상의 경질 성분들을 제거하기 위한 예비-증류 영역(2)을 포함하고, 추가로 제 3 영역의 사이클로헥산올의 적어도 일부를 사이클로헥사논으로 전환시키고 생성된 스트림을 예비증류 영역(2)으로 공급하기 위한 루프를 포함하고, 선택적으로 제 5 분획의 적어도 일부를 수소화 영역(1)으로 재순환하기 위한 재순환 루프를 또한 포함하는, 화학 플랜트.
  12. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    제 7 분획 및 제 8 분획을 형성하기 위한 증류 영역(7)에서 형성된 경질 분획의 적어도 일부를, 제 5 분획 및 제 6 분획을 형성하기 위한 증류 영역(5)으로 재순환시키기 위한 재순환 루프를 포함하는, 화학 플랜트.
  13. 제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 7 분획 및 제 8 분획을 형성하기 위한 증류 영역(7)이 박막 증류기를 포함하는, 화학 플랜트.
  14. 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 후-증류 영역인 영역(4), 영역(5) 및 영역(7) 중 하나 이상으로부터의 경질 분획으로 구성된 군 중에서 선택된 하나 이상의 분획 또는 이들의 일부를, 페놀로부터의 사이클로헥사논의 제조공정과 상이한 시설, 구체적으로 사이클로헥산올을 탈수소화하기 위한 시설, 아디프산을 제조하기 위한 시설, 사이클로헥산을 산화하기 위한 시설 및 폼알데하이드-페놀 수지를 제조하기 위한 시설 중에서 선택되는 시설로 향하게 하기 위한 도관을 포함하는, 화학 플랜트.
KR1020107016035A 2007-12-20 2008-12-16 다중 후-증류에 의한 사이클로헥사논의 제조방법 KR20100099304A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP07024765 2007-12-20
EP07024765.5 2007-12-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20100099304A true KR20100099304A (ko) 2010-09-10

Family

ID=39427580

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020107016035A KR20100099304A (ko) 2007-12-20 2008-12-16 다중 후-증류에 의한 사이클로헥사논의 제조방법

Country Status (11)

Country Link
US (1) US8507729B2 (ko)
EP (1) EP2231577B1 (ko)
JP (1) JP2011506546A (ko)
KR (1) KR20100099304A (ko)
CN (1) CN101945844B (ko)
AT (1) ATE544741T1 (ko)
EA (1) EA016277B1 (ko)
PL (1) PL2231577T3 (ko)
TW (1) TWI421237B (ko)
UA (1) UA100716C2 (ko)
WO (1) WO2009080620A1 (ko)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8618334B2 (en) * 2007-12-20 2013-12-31 Dsm Ip Assets B.V. Cyclohexanone production process with modified post-distillation
US8389773B2 (en) * 2007-12-20 2013-03-05 Dsm Ip Assets B.V. Cyclohexanone production process with impurities removal
CN103910617B (zh) * 2012-12-28 2018-03-06 Cap Iii 有限公司 利用温和的水性传热介质作为冷冻剂提纯环己酮的连续方法
WO2016025213A1 (en) 2014-08-15 2016-02-18 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Process and system for making cyclohexanone
SG11201700443WA (en) * 2014-08-15 2017-02-27 Exxonmobil Chemical Patents Inc Process for making cyclohexanone
SG11201700415UA (en) 2014-08-15 2017-02-27 Exxonmobil Chemical Patents Inc Process and system for making cyclohexanone
EP3180305A1 (en) 2014-08-15 2017-06-21 ExxonMobil Chemical Patents Inc. Process and system for making cyclohexanone
WO2016025218A1 (en) 2014-08-15 2016-02-18 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Process and system for making cyclohexanone
US9868687B2 (en) 2014-09-30 2018-01-16 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Process for making cyclohexanone
CN107124881B (zh) * 2014-11-10 2019-04-19 Cap Iii 有限公司 从苯酚生产环己酮的方法
TWI691480B (zh) * 2014-12-15 2020-04-21 荷蘭商卡普三世責任有限公司 用來建構用於生產環己酮之設備的方法
EP3115353A1 (en) * 2015-07-10 2017-01-11 GFBiochemicals Ltd. Process for the isolation of levulinic acid
TWI646076B (zh) 2016-09-09 2019-01-01 中國石油化學工業開發股份有限公司 酚氫化反應生成環己酮之方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2829166A (en) * 1933-04-04 1958-04-01 Allied Chem & Dye Corp Hydrogenation of phenol
US3305586A (en) * 1959-05-15 1967-02-21 Stamicarbon Process for preparing cyclohexanone
US4272326A (en) * 1980-01-24 1981-06-09 Allied Chemical Corporation Enhanced distillation of cyclohexanol from phenol with additional cyclohexanone feed
US4306944A (en) * 1980-07-03 1981-12-22 Allied Corporation Cyclohexanone distillation process
DE4205633A1 (de) * 1992-02-25 1993-08-26 Bayer Antwerpen Nv Verfahren zur reinigung von cyclohexanon
EP1433774A1 (en) * 2002-12-27 2004-06-30 Koninklijke DSM N.V. Process for reducing the aldehyde concentration in a mixture comprising cyclohexanone and one or more aldehydes
US8618334B2 (en) * 2007-12-20 2013-12-31 Dsm Ip Assets B.V. Cyclohexanone production process with modified post-distillation
US8389773B2 (en) * 2007-12-20 2013-03-05 Dsm Ip Assets B.V. Cyclohexanone production process with impurities removal

Also Published As

Publication number Publication date
EA201001034A1 (ru) 2010-12-30
CN101945844B (zh) 2013-09-18
WO2009080620A1 (en) 2009-07-02
EA016277B1 (ru) 2012-03-30
UA100716C2 (ru) 2013-01-25
PL2231577T3 (pl) 2012-07-31
US8507729B2 (en) 2013-08-13
US20110028675A1 (en) 2011-02-03
JP2011506546A (ja) 2011-03-03
CN101945844A (zh) 2011-01-12
ATE544741T1 (de) 2012-02-15
TW200936555A (en) 2009-09-01
EP2231577A1 (en) 2010-09-29
TWI421237B (zh) 2014-01-01
EP2231577B1 (en) 2012-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20100099304A (ko) 다중 후-증류에 의한 사이클로헥사논의 제조방법
US8618334B2 (en) Cyclohexanone production process with modified post-distillation
TWI432410B (zh) 雜質移除之環己酮生產方法
JP5476774B2 (ja) （メタ）アクリロニトリルの回収方法
US9388107B2 (en) Process for the production of a mixture comprising cyclohexanone and cyclohexanol from phenol
KR101820639B1 (ko) 페놀로부터 사이클로헥산온을 생산하기 위한 공정
JP2007269647A (ja) α−メチルスチレンの精製方法
KR101785250B1 (ko) 사이클로헥산온 제조를 위한 공장의 개조 방법
JP5554419B2 (ja) 炭化水素を酸素によって酸化する方法

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid