KR20100067558A - Photocuring composition for pressure sensitive adhesive and dicing die bonding film comprising the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A photo-curable adhesive composition is provided to reduce delamination force of adhesive layers after UV hardening by including a UV-curable acrylate having a hydroxyl group and a vinyl group at the same time. CONSTITUTION: A photo-curable adhesive composition comprises UV-curable acrylate including a hydroxyl group and vinyl group 3-50 parts by weight, thermosetting material 0.5-5 parts by weight, and photopolymerization initiator 0.1-3 parts by weight based on 100.0 parts by weight of an acrylic adhesive binder including the vinyl group. The acrylic adhesive binder includes an acrylic monomer, a hydroxyl monomer, and an epoxy monomer. A dicing film includes a base film(100) and an adhesive layer which is formed on the base film.

Description

광경화성 점착 조성물 및 이를 포함하는 다이싱 다이본딩 필름 {PHOTOCURING COMPOSITION FOR PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE AND DICING DIE BONDING FILM COMPRISING THE SAME}Photocurable adhesive composition and dicing die-bonding film comprising the same {PHOTOCURING COMPOSITION FOR PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE AND DICING DIE BONDING FILM COMPRISING THE SAME}

본 발명은 광경화성 점착 조성물 및 이를 포함하는 다이싱 다이본딩 필름에 관한 것으로, 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더에 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트를 첨가하여, 광경화후 점착층 및 접착층 사이의 박리력을 효과적으로 감소시킬 수 있도록 하는 기술에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable pressure-sensitive adhesive composition and a dicing die-bonding film comprising the same, by adding a UV-curable acrylate including a hydroxyl group and a vinyl group to an acrylic pressure-sensitive adhesive binder containing a vinyl group, the adhesive layer and the adhesive layer after photocuring The present invention relates to a technique capable of effectively reducing the peel force therebetween.

반도체 제조공정에서 회로가 설계된 웨이퍼는 큰 직경을 갖는 크기에서 다이싱을 통해 작은 칩들로 분리되고, 분리된 각 칩들은 PCB 기판이나 리드프레임 기판 등의 지지부재에 접착공정을 통해 다이본딩 되는 단계적 공정을 거친다. In the semiconductor manufacturing process, wafers designed for circuits are divided into small chips through dicing in a size having a large diameter, and each separated chip is die-bonded by bonding to a supporting member such as a PCB substrate or a lead frame substrate. Go through

종래에는 다이싱 공정에서 다이싱 필름을 웨이퍼 이면에 부착하여 다이싱 시에 칩이 비산하거나 움직이는 것을 방지해왔다. 다이싱 필름을 사용하지 않으면 고속으로 회전하는 블레이드에 의해 칩이 비산하거나 움직여 칩에 크랙이 발생할 수 있고 손상을 입게 된다. 따라서, 적절한 점착력을 가진 다이싱 필름을 사용하여 칩의 개별화 공정을 용이하게 하였다. Conventionally, a dicing film is attached to the back surface of a wafer in a dicing process to prevent chips from scattering or moving during dicing. Without the dicing film, the chip is scattered or moved by the blades rotating at high speed, causing cracks and damage to the chip. Thus, a dicing film with appropriate adhesion was used to facilitate the individualization process of the chip.

다이싱 필름이 자외선 경화형 조성물인 경우에는 다이싱 완료 후, 후면에 자외선을 조사하여 조성물을 경화시킴으로써 웨이퍼와의 계면 박리력을 낮추어 개별화된 칩 웨이퍼의 픽업(Pick-up) 공정을 용이하게 하고 있다.When the dicing film is an ultraviolet curable composition, after dicing is completed, ultraviolet rays are irradiated on the rear surface to cure the composition, thereby lowering the interfacial peeling force with the wafer, thereby facilitating the pick-up process of the individualized chip wafer. .

그러나, 칩 사이즈가 작은 경우나 웨이퍼 두께가 큰 경우에는 픽업기의 변수들을 조정해 어느 정도 범위의 픽업이 가능하지만, 80㎛ 이하의 웨이퍼 두께나 가로 10mm × 세로 10mm 이상의 칩 사이즈에서는 적절하게 점착층과 접착층 사이의 접착력이 감소되지 않아 다이 픽업에 문제가 발생하고 있다.However, if the chip size is small or the wafer thickness is large, the pick-up range can be adjusted by adjusting the parameters of the pick-up machine. However, in the case of a wafer thickness of 80 µm or less or a chip size of 10 mm x 10 mm or more, the adhesion layer is appropriate. The adhesion between the adhesive layer and the adhesive layer is not reduced, which causes a problem in die pickup.

특히 50㎛ 미만의 웨이퍼를 PCB 및 다른 칩(Chip)위에 본딩(Bonding)하기 위하여 픽업 공정이 필수적이지만, 기존 다이싱 다이본딩 필름 적용시 UV 경화후 접착층-점착층 사이의 박리력 감소 정도가 낮아 불량 발생 및 공정 수율이 감소되는 문제가 있다.In particular, the pick-up process is essential for bonding wafers smaller than 50 μm onto PCBs and other chips, but the reduction of the peel force between the adhesive layer and the adhesive layer after UV curing is low when the conventional dicing die-bonding film is applied. There is a problem that defects occur and process yield is reduced.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 자외선 경화 후 충분한 점착력의 감소를 위하여, 하이드록실기 및 비닐기를 동시에 포함하는 UV경화형 아크릴레이트 도입하여 UV 경화후 접착층-점착층 사이의 박리력이 감소될 수 있도록 하는 광경화성 점착 조성물을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention is to solve the above problems, in order to reduce the sufficient adhesive strength after ultraviolet curing, by introducing a UV-curable acrylate containing a hydroxyl group and a vinyl group at the same time the peeling force between the adhesive layer-adhesive layer after UV curing It is an object to provide a photocurable adhesive composition that can be reduced.

아울러, 본 발명은 상기의 광경화성 점착 조성물을 포함하고 있어 반도체 공정 중 다이싱(Dicing)할 때에는 칩이 비산하거나 움직이는 것을 방지하고 픽업할 때에는 접착제가 부착된 칩을 점착층으로부터 용이하게 박리하여 사용할 수 있으며, PCB기판이나 리드프레임 기판에 다이 본딩 작업시 충분한 접착성을 갖는 다이싱 필름 또는 다이싱 다이본딩 필름을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, the present invention includes the above photocurable adhesive composition to prevent the chip from scattering or moving during dicing during the semiconductor process and to easily peel off the chip with the adhesive from the adhesive layer when picking up It is possible to provide a dicing film or a dicing die-bonding film having sufficient adhesiveness during die bonding operations on a PCB substrate or a lead frame substrate.

본 발명에 따른 광경화성 점착 조성물은 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 100 중량부 대비, 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트 3 내지 50 중량부, 열경화제 0.5 내지 5 중량부 및 광중합 개시제 0.1 내지 3 중량부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The photocurable pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is 3 to 50 parts by weight of UV-curable acrylates containing hydroxyl and vinyl groups, 0.5 to 5 parts by weight of a thermosetting agent, and 0.1 photopolymerization initiator, based on 100 parts by weight of the acrylic adhesive binder including a vinyl group. To 3 parts by weight.

여기서, 상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더는 아크릴 모노머, 하이드록시 모노머 및 에폭시 모노머를 포함하는 것을 특징으로 하고, 상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더는 수산기가가 15 ~ 30, 산가가 1이하인 것을 포함 하는 것을 특징으로 하고, 상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더의 중량평균 분자량은 150,000 내지 400,000이고, 유리 전이 온도는 -80 ∼ -40℃인 것을 특징으로 하고, 상기 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 아크릴레이트는 상기 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴계 점착 바인더 100중량부에 대하여 5 내지 20 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하고, 상기 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트는 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, Hydroxypropyl Acrylate, Hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, N-(hydroxymethyl) acrylate, N-(hydroxymethyl) methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, Glycerin dimethacrylate, Glycerin diacrylate, 2-hydroxy 3-acryloxy propyl methacrylate, 2-hydroxy 3-methacryloxy propyl acrylate, Pentaerythritol triacrylate, Pentaerythritol trimethacrylate, N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide 및 N-(4-hydroxyphenyl)acrylamide 로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다.Here, the acrylic pressure-sensitive adhesive binder containing a vinyl group is characterized in that it comprises an acrylic monomer, a hydroxy monomer and an epoxy monomer, the acrylic pressure-sensitive adhesive binder containing a vinyl group includes a hydroxyl value of 15 to 30, the acid value is 1 or less. The weight average molecular weight of the acrylic pressure-sensitive adhesive binder containing a vinyl group is 150,000 to 400,000, the glass transition temperature is -80 to -40 ℃, the acrylic containing a hydroxyl group and a vinyl group The rate is 5 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the UV-curable acrylic pressure-sensitive adhesive binder containing a vinyl group, the UV-curable acrylate containing a hydroxyl group and a vinyl group is 2-hydroxyethyl methacrylate, 2- hydroxyethyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, Hydroxyp ropyl Acrylate, Hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, N- (hydroxymethyl) acrylate, N- (hydroxymethyl) methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, Glycerin dimethacrylate, Glycerin diacrylate, 2-hydroxy 3-acryloxy propyl methacrylate, 2-hydroxy 3-methacryloxy propyl acrylate, Pentaerythritol triacrylate, Pentaerythritol trimethacrylate, N- It is characterized in that it comprises one or more selected from the group consisting of (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide.

아울러, 본 발명에 따른 다이싱 필름 및 다이싱 다이 본딩 필름은 상술한 광경화성 점착 조성물로 형성된 점착층을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the dicing film and the dicing die bonding film according to the present invention is characterized in that it comprises an adhesive layer formed of the photocurable pressure-sensitive adhesive composition described above.

본 발명에 따른 광경화성 점착 조성물 및 이를 포함하는 다이싱 다이 본딩 필름은 비닐기를 함유하는 아크릴계 점착 바인더에 하이드록실기 및 비닐기를 동시에 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트를 포함시킴으로써, 접착층-점착층 사이의 박리력을 감소시킬 수 있다. 따라서, 다이싱 할 경우에는 칩이 비산하거나 움직이는 것을 방지하고, 다이싱된 칩이 점착층으로부터 용이하게 박리되도록 하는 효과를 제공한다.The photocurable adhesive composition and the dicing die bonding film including the same according to the present invention include a UV-curable acrylate including a hydroxyl group and a vinyl group simultaneously in an acrylic adhesive binder containing a vinyl group, thereby peeling between the adhesive layer and the adhesive layer. Can reduce the force. Thus, when dicing, the chip is prevented from scattering or moving, and the diced chip is easily peeled from the adhesive layer.

따라서, PCB 기판이나 리드프레임 기판에 다이본딩 할 때에 충분한 접착성을 유지할 수 있도록 하고, 다이싱 공정 또는 다이 본딩 공정시 픽업성을 향상시켜 한 번의 공정으로 수행할 수 있도록 하여 제조 수율을 증가시키는 효과를 제공한다.Therefore, it is possible to maintain sufficient adhesiveness when die-bonding the PCB substrate or the lead frame substrate, and to improve the pick-up property during the dicing process or the die bonding process, so that it can be performed in one step to increase the manufacturing yield. To provide.

본 발명은 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더에 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트를 첨가하여 점착층 형성용 광경화성 점착 조성물을 제공한다.The present invention provides a photocurable pressure-sensitive adhesive composition for forming an adhesive layer by adding a UV-curable acrylate including a hydroxyl group and a vinyl group to an acrylic adhesive binder including a vinyl group.

여기서, 광경화성 점착 조성물을 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 100 중량부 대비, 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 아크릴레이트 3 내지 50 중량부, 열경화제 0.5 내지 5 중량부 및 광중합 개시제 0.1 내지 3 중량부를 포함하도록 한다.Here, the photocurable pressure-sensitive adhesive composition 3 to 50 parts by weight of the acrylate including a hydroxyl group and a vinyl group, 0.5 to 5 parts by weight of the thermosetting agent and 0.1 to 3 parts by weight of the photopolymerization initiator, relative to 100 parts by weight of the acrylic adhesive binder containing a vinyl group Include it.

이하에서 본 발명의 각 조성에 대해 더욱 상세하게 설명한다. Hereinafter, each composition of the present invention will be described in more detail.

(A) 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A) Acrylic adhesive binder containing a vinyl group

상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더는 2단계 공정을 거쳐 합성하게 된다. 우선은 점착력을 부여해줄 수있는 아크릴 모노머를 주 모노머로 선정하고, 거기에 기능성 아크릴 모노머를 부가하여, 아크릴 점착 바인더를 중합 반응 후, 이에 비닐기 도입 모노머를 적용하여 저온에서 우레탄 부가반응을 함으로써 비닐기를 갖는 광경화형 아크릴계 점착 바인더를 합성할 수 있다.The acrylic adhesive binder including the vinyl group is synthesized through a two step process. First of all, an acrylic monomer capable of imparting adhesive strength is selected as a main monomer, and a functional acrylic monomer is added thereto, and the acrylic adhesive binder is polymerized, and then a vinyl group-introducing monomer is applied thereto to perform urethane addition reaction at low temperature. A photocurable acrylic adhesive binder having a group can be synthesized.

바람직하게는 아크릴 모노머, 기능성 아크릴 모노머 및 중합개시제가 중합 반응되어 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지가 제조되는 제 1 중합반응과, 제 1 중합반응에서 수득된 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지와 이소시아네이트 및 비닐기를 갖는 모노머가 우레탄 부가 반응되는 제 2 중합반응에 의해 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A)가 제조될 수 있다.Preferably, a first polymerization reaction in which an acrylic monomer, a functional acrylic monomer, and a polymerization initiator are polymerized to produce an acrylic polyol adhesive binder resin, and a monomer having an acrylic polyol adhesive binder resin, an isocyanate and vinyl group obtained in the first polymerization reaction, By the second polymerization reaction in which the urethane addition reaction is carried out, an acrylic adhesive binder (A) including a vinyl group may be prepared.

제 1 중합반응에서 기능성 모노머로는 하이드록시 모노머, 에폭시기 모노머 또는 반응성 모노머가 있고, 이 중 반드시 하이드록시 모노머와 에폭시기 모노머가 사용되는 것이 바람직하다.The functional monomer in the first polymerization reaction includes a hydroxy monomer, an epoxy group monomer or a reactive monomer, of which a hydroxy monomer and an epoxy group monomer are preferably used.

여기서, 아크릴 모노머는 필름에 점착력을 부여하는 기능을 하는데, 아크릴 모노머로는 특별한 제한이 없으나, 2-에칠헥실메타크릴레이트, 이소 옥칠 아크릴레이트, 2-에칠헥실아크릴레이트, 에칠아크릴레이트, n-부칠아크릴레이트, iso-부칠아크릴레이트 및 옥타데실메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다. 이때, 아크릴 모노머의 유리 전이온도가 -50℃ 이하 인 것이 바람직하다.Here, the acrylic monomer functions to impart adhesion to the film, but there is no particular limitation as the acrylic monomer, 2-ethylhexyl methacrylate, iso-oxyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, ethyl acrylate, n- Preference is given to using at least one member selected from the group consisting of butyl acrylate, iso-butyl acrylate and octadecyl methacrylate. At this time, it is preferable that the glass transition temperature of an acryl monomer is -50 degreeC or less.

상기 아크릴 모노머의 함량은 전체 모노머중 50 내지 85 중량%, 바람직하게는 60 내지 80중량%를 사용할 수 있다.The content of the acrylic monomer may be 50 to 85% by weight, preferably 60 to 80% by weight of the total monomers.

다음으로, 하이드록시 모노머로서 특별한 제한이 있는 것은 아니지만, 2-하이드록시 에틸 메타아크릴레이트, 하이드록시 에틸 아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트, 하이드록시 프로필 (메타)아크릴레이트 및 비닐 카프로락탐으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다. Next, there is no particular limitation as the hydroxy monomer, but with 2-hydroxy ethyl methacrylate, hydroxy ethyl acrylate, 4-hydroxy butyl acrylate, hydroxy propyl (meth) acrylate and vinyl caprolactam It is preferable to use one or more selected from the group consisting of.

하이드록시 모노머의 함량은 제 1 중합반응에 사용되는 모노머 중 10 내지 35중량%, 바람직하게는 15 내지 25중량%를 사용할 수 있다. 상기 10중량% 미만이면, 비닐기를 갖는 모노머 도입후 열경화제인 이소시아네이트와 반응하는 수산화기의 함량이 작게 되어 기재필름과의 부착력이 매우 취약하게 되고, 35중량% 초과하면, 웨이퍼 또는 다이 접착용 접착필름층과의 부착력이 라미네이션 후 증가하게 될 수 있으므로 본 발명에 따른 첨가비를 유지하는 것이 바람직하다.The content of the hydroxy monomer may be 10 to 35% by weight, preferably 15 to 25% by weight of the monomer used in the first polymerization reaction. If the content is less than 10% by weight, the content of hydroxyl groups reacted with the isocyanate, which is a thermosetting agent after introduction of the monomer having a vinyl group, becomes small, so that the adhesion with the base film is very weak. It is desirable to maintain the addition ratio according to the invention as the adhesion with the layer can be increased after lamination.

그 다음으로, 에폭시기 모노머로는 글리시딜 메타크릴레이트 또는 글리시딜 아크릴레이트를 사용할 수 있다. 이때, 에폭시기 모노머의 함량이 제 1 중합반응에 사용되는 모노머 중 2 내지 15중량%, 바람직하게는 2 내지 8중량%를 사용할 수 있다. 상기 범위에서는 특히 자외선 경화 시 표면에너지가 크게 감소하며, 또한 자외선 경화 전후 표면에너지 차이가 클수록 픽업성이 우수한 결과를 보인다. 그 함량 이 2% 미만이면 링프레임에 대한 부착력이 저하되고, 15% 초과인 경우 광경화시 에폭시기에 의한 광경화율이 악화되어 소재와의 박리력이 증가될 수 있다.Next, glycidyl methacrylate or glycidyl acrylate may be used as the epoxy group monomer. At this time, the content of the epoxy group monomer may be used 2 to 15% by weight, preferably 2 to 8% by weight of the monomer used in the first polymerization reaction. In the above range, in particular, the surface energy during UV curing is greatly reduced, and the greater the difference in surface energy before and after UV curing, the better the pickup performance. If the content is less than 2%, the adhesion to the ring frame is lowered, if the content is greater than 15%, the photocuring rate due to the epoxy group during photocuring may be deteriorated to increase the peeling force with the material.

에폭시기 모노머는 중합 후 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A) 말단에 잔존하며 광경화 후 반응에 참여하지 않고 표면 특성에 영향을 준다. 즉, 표면에너지와 연관이 있으며 광경화 후 표면에너지를 감소 시키는 역할을 한다.The epoxy group monomer remains at the end of the acrylic adhesive binder (A) containing a vinyl group after polymerization and does not participate in the reaction after photocuring and affects surface properties. That is, it is related to surface energy and plays a role of reducing surface energy after photocuring.

그 다음으로, 기능성 모노머로서 사용될 수 있는 반응성 모노머로는 라우릴아크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 스티어리메타아크릴레이트, 세칠아크릴레이트, 옥타데실아크릴레이트, 옥타데실메타크릴레이트 등이 바람직하며, 보다 바람직하게는 탄소수 12이상인 모노머의 단독 또는 혼합 사용이 더욱 바람직하다. 이때, 반응성 모노머의 함량은 제 1 중합반응에 사용되는 모노머중 1 내지 10중량% 범위에서 적절히 사용될 수 있다.Next, as the reactive monomer which can be used as the functional monomer, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, stearyl methacrylate, cetyl acrylate, octadecyl acrylate, octadecyl methacrylate, and the like are preferable. More preferably, single or mixed use of monomers having 12 or more carbon atoms is more preferable. In this case, the content of the reactive monomer may be suitably used in the range of 1 to 10% by weight of the monomer used in the first polymerization reaction.

그 다음으로, 비닐기 도입 모노머로는 한쪽 말단에 이소시아네이트기를 다른 말단에 비닐기를 갖는 모노머 또는 올리고머를 사용할 수 있는데, 이는 아크릴 점착 바인더에 비닐기를 도입하기 위함이다.Next, as the vinyl group introduction monomer, a monomer or oligomer having an isocyanate group at one end and a vinyl group at the other end can be used, for introducing the vinyl group into the acrylic adhesive binder.

상기 비닐기 도입 모노머로는 반드시 제한이 있는 것은 아니지만, α,α-디메틸-m-이소프로페닐벤질이소시아네이트(α,α-dimethyl-m-isopropenylbenzyl isocyanate), 2-이소시아네이토에틸메타크릴레이트(2-Isocyanatoethyl Methacrylate), 2-이소시아네이토에틸2-프로펜산(2-Isocyanatoethyl 2-propenoate), 1,1-비스(아크릴로일옥시메틸에틸이소시아네이트)(1,1- bis(acryloyloxy methyl ethyl isocyanate))으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 단독 또는 혼합 사용할 수 있다. 이때, 비닐기 도입 모노머는 상기 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지의 수산기 당량 대비 1 대 0.4 ~ 0.9로 사용하는 것이 바람직하다.The vinyl group-introducing monomer is not necessarily limited, but α, α-dimethyl-m-isopropenylbenzyl isocyanate (α, α-dimethyl-m-isopropenylbenzyl isocyanate) and 2-isocyanatoethyl methacrylate (2-Isocyanatoethyl Methacrylate), 2-Isocyanatoethyl 2-propenoate, 1,1-bis (acryloyloxymethylethylisocyanate) (1,1-bis (acryloyloxy methyl ethyl isocyanate)) may be used alone or in combination. At this time, the vinyl group-introduced monomer is preferably used in a ratio of 0.4 to 0.9 compared to the hydroxyl equivalent of the acrylic polyol adhesive binder resin.

이는 수산기 당량 대비 1대 0.4 미만인 경우 광경화 시 반응할 수 있는 이중결합의 수가 적어서 점착력의 손실이 크지 않아 웨이퍼 또는 다이 접착용 접착필름과의 박리력이 증가하게 되며, 0.9 초과일 경우 열경화제와 반응할 수 있는 사이트가 적어져서 기재 필름과의 부착력이 감소하기 때문이다. When the ratio is less than 0.4, the number of double bonds that can be reacted during photocuring is not so large that the loss of adhesive strength is not large, and thus the peeling force with the adhesive film for bonding the wafer or die is increased. This is because the number of sites that can react is reduced so that the adhesion with the base film is reduced.

여기서, 비닐기 도입 모노머의 함량이 제 1 중합반응에서 제조된 폴리올 점착 바인더 수지의 고형분 100 중량부 대비 10 내지 25중량부, 바람직하게는 15 내지 20중량부가 되도록 한다. 함량이 10중량부 미만인 경우, 광경화후에 점착력의 손실이 크지 않아 웨이퍼 또는 다이 접착용 접착필름과의 박리력이 증가하게 되며, 25중량부 초과일 경우, 점착필름층의 유동성이 나빠지게 되어 기재와의 부착이 오히려 증가하여 박리력이 증가될 수 있다.Here, the content of the vinyl group-introducing monomer is 10 to 25 parts by weight, preferably 15 to 20 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the solid content of the polyol adhesive binder resin prepared in the first polymerization reaction. If the content is less than 10 parts by weight, the loss of adhesion after photocuring is not large, the peeling force with the adhesive film for wafer or die adhesion is increased, and if more than 25 parts by weight, the fluidity of the adhesive film layer is worsened Adhesion may increase rather than increase peel force.

상술한 바와 같이, 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A)는 하이드록시 모노머를 적용한 결과 수산기를 가지며, 상기 수산기가가 15 ~ 30인 것이 바람직하다. 상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A)의 수산기가가 15 미만이면 열경화제인 이소시아네이트의 함량이 감소 되어 기재필름과의 부착력이 매우 취약하게 되고, 수산기가가 30 초과이면 웨이퍼 또는 다이 접착용 접착필름층과의 부 착력이 라미네이션 후 증가하게 되기 때문이다.As described above, the acrylic pressure-sensitive adhesive (A) containing a vinyl group has a hydroxyl group as a result of applying a hydroxy monomer, the hydroxyl value is preferably 15 to 30. When the hydroxyl value of the acrylic adhesive binder (A) including the vinyl group is less than 15, the content of isocyanate, which is a thermosetting agent, is reduced, so that the adhesion force with the base film is very weak, and when the hydroxyl value is more than 30, the adhesive for wafer or die adhesion This is because adhesion with the film layer increases after lamination.

아울러, 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A)의 산가가 1이하가 되도록 하는 것이 바람직하다. 산가가 1 을 초과하는 경우 아크릴산과 에폭시기를 갖는 모노머를 동시에 도입할 때 합성 시 겔이 발생될 가능성이 매우 높으며, 웨이퍼 또는 다이 접착용 점착필름층과의 합지 후 경시변화가 매우 크게 되기 때문이다.In addition, it is preferable to make the acid value of the acrylic adhesive binder (A) containing a vinyl group into one or less. If the acid value is greater than 1, it is very likely that a gel is generated during synthesis when the monomers having acrylic acid and an epoxy group are simultaneously introduced, and the change over time after lamination with an adhesive film layer for wafer or die bonding is very large.

상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A)는 열경화 후의 적절한 초기 점착력을 얻기 위해 -80 ∼ -40℃의 유리전이온도, 바람직하게는 -70 ∼ -50℃의 유리전이온도를 가지는데, 유리전이 온도가 약 -40℃를 초과하는 경우, 초기 점착력이 낮아 다이싱 할 경우 링프레임에 대한 부착력이 낮아 링프레임으로부터 떨어지거나, 웨이퍼에 대한 부착력이 낮아 칩의 비산이 발생할 수 있고, -80℃ 미만인 경우 광경화전 높은 점착력에 의해 광경화 후에도 택(tack)이 많이 남아 웨어퍼 또는 접착필름과의 박리력이 증가될 수 있다.The acrylic adhesive binder (A) containing the vinyl group has a glass transition temperature of -80 to -40 ° C, preferably -70 to -50 ° C, in order to obtain an appropriate initial adhesive strength after thermosetting. If the transition temperature exceeds about -40 ℃, the initial adhesion is low, when dicing, the adhesion to the ring frame is low, falling off from the ring frame, or the adhesion to the wafer may be low, chip scattering may occur, -80 ℃ If less than, the tack remains after the photocuring due to the high adhesive force before the photocuring may increase the peeling force with the wafer or adhesive film.

상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A)의 중량평균 분자량은 150,000 내지 400,000이다. 종래의 아크릴 폴리올만으로 구성된 아크릴 수지는 분자량이 500,000 이상인 아크릴 폴리올을 함유할 경우에 한하여 자외선 경화 후 낮은 박리력을 나타낼 수 있었지만, 본 발명에 의한 광경화형 아크릴계 점착 바인더는 에폭시기를 도입하여, 링프레임에 대한 부착력을 향상시킬 수 있어, 분자량 150,000 ~ 400,000 정도에서도 우수한 박리력을 보유할 수 있게 된다. The weight average molecular weight of the acrylic adhesive binder (A) containing the said vinyl group is 150,000-400,000. Conventional acrylic resins composed of only acrylic polyols could exhibit low peeling strength after UV curing only when the acrylic resins contained an acrylic polyol having a molecular weight of 500,000 or more.However, the photocurable acrylic adhesive binder according to the present invention introduces an epoxy group to the ring frame. It is possible to improve the adhesion to the, it is possible to retain the excellent peeling force even in the molecular weight of about 150,000 ~ 400,000.

상기 바인더의 분자량이 150,000 미만이면, 코팅 시 도막형성능에 문제가 발생하며, 광경화 후 점착력 소실시에도 일정한 물성이 나오지 않아, 소재와의 박리 력이 일정하지 못한 문제가 발생할 수 있다. When the molecular weight of the binder is less than 150,000, a problem occurs in the coating film forming ability during coating, and even after the photocuring, even when the adhesive force is reduced, a certain physical property does not come out.

상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A)의 합성에 있어서, 공중합을 용액중합으로 행하는 경우의 유기용제로는, 케톤계, 에스테르계, 알코올계, 방향족인 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 톨루엔, 초산에틸, 아세톤, 메틸에틸케톤 등을 사용하는 것이 좋고,특히 비점이 60 ~ 120℃인 용제가 바람직하다. In the synthesis | combination of the acrylic adhesive binder (A) containing the said vinyl group, as an organic solvent in the case of performing copolymerization by solution polymerization, the thing of ketone type, ester type, alcohol type, and aromatic can be used, Preferably toluene, Ethyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone and the like are preferably used, and a solvent having a boiling point of 60 to 120 ° C is particularly preferable.

중합개시제로서는 α,α'-아조비스이소부틸니트릴 등의 아조비스계, 벤조일퍼옥사이드 등의 유기과산화물계 등의 라디칼 발생제를 통상 이용한다. 이때, 필요에 따라서 촉매, 중합금지제를 병용할 수 있고, 그 함량은 투입 모노머 100중량부 대비 0.1 내지 0.5중량부를 사용하는 것이 바람직하다.As a polymerization initiator, radical generators, such as azobis type | system | groups, such as (alpha), (alpha) '-azobisisobutyl nitrile, and organic peroxides, such as benzoyl peroxide, are used normally. At this time, if necessary, a catalyst and a polymerization inhibitor may be used in combination, and the content thereof is preferably 0.1 to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the input monomer.

상기 중합반응은 중합온도 80 내지 120℃ 및 중합시간 1 내지 75hr, 바람직하게는 5 내지 15hr의 범위에서 분자량을 조절할 수 있다.The polymerization reaction may control the molecular weight in the range of polymerization temperature 80 to 120 ℃ and polymerization time 1 to 75hr, preferably 5 to 15hr.

상기 1 단계의 중합반응에서 수득한 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지, 이소시아네이트기와 비닐기를 갖는 모노머 및 촉매를 넣어 30 내지 55℃에서 7 내지 15hr 동안 우레탄 부가반응을 하여,아크릴계 공중합체를 합성할 수 있다.The acrylic polyol adhesive binder resin obtained in the first step of the polymerization reaction, a monomer having an isocyanate group and a vinyl group, and a catalyst are put in a urethane addition reaction at 30 to 55 ° C. for 7 to 15 hours to synthesize an acrylic copolymer.

(B) 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트(B) UV curable acrylates containing hydroxyl and vinyl groups

사용 가능한 아크릴레이트는 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, Hydroxypropyl Acrylate, Hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, N-(hydroxymethyl) acrylate, N-(hydroxymethyl) methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, Glycerin dimethacrylate, Glycerin diacrylate, 2-hydroxy 3-acryloxy propyl methacrylate, 2-hydroxy 3-methacryloxy propyl acrylate, Pentaerythritol triacrylate, Pentaerythritol trimethacrylate, N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide, N-(4-hydroxyphenyl)acrylamide 로서 이에 한정되는 것은 아니고, 하이드록실기 및 비닐기를 동시에 가지고 있는 UV 경화형 아크릴레이트면 사용 가능하다. Available acrylates are 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, Hydroxypropyl Acrylate, Hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, N- (hydroxymethyl) acrylate, N- (hydroxymethyl) methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, Glycerin dimethacrylate, Glycerin diacrylate, 2 -hydroxy 3-acryloxy propyl methacrylate, 2-hydroxy 3-methacryloxy propyl acrylate, Pentaerythritol triacrylate, Pentaerythritol trimethacrylate, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, including, but not limited to, hydroxyl groups And a UV curable acrylate surface having a vinyl group at the same time.

상기 예시된 것 중, 2-hydroxyethyl methacrylate는 하기 [화학식 1]을 따르고, Pentaerythritol triacrylate는 하기 [화학식 2]를 따르고, Glycerin dimethacrylate는 하기 [화학식 3]을 따른다.Of the above, 2-hydroxyethyl methacrylate follows the following [Formula 1], Pentaerythritol triacrylate follows the following [Formula 2], Glycerin dimethacrylate follows the following [Formula 3].

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112008085478688-PAT00001
Figure 112008085478688-PAT00001

2-hydroxyethyl methacrylate2-hydroxyethyl methacrylate

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112008085478688-PAT00002
Figure 112008085478688-PAT00002

Pentaerythritol triacrylatePentaerythritol triacrylate

[화학식 3] (3)

Figure 112008085478688-PAT00003
Figure 112008085478688-PAT00003

Glycerin dimethacrylateGlycerin dimethacrylate

상기 [화학식 1] 내지 [화학식 3]에서 볼 수 있는 바와 같이 비닐기(CH2=CH-) 및 하이드록실기(-OH)를 동시에 가지며, 비닐기가 먼저 이소시아네이트 경화제와 반응하고 이소시아네티의 다른 반응사이트가 바인더의 하이드록시기와 반응하게 되는 것이다. As can be seen in [Formula 1] to [Formula 3] having a vinyl group (CH2 = CH-) and a hydroxyl group (-OH) at the same time, the vinyl group first reacts with an isocyanate curing agent and other reaction of isocyaneti The site will react with the hydroxyl groups of the binder.

아울러, 기존의 비닐기만 있는 바인더 중합 시 이중결합을 많이 도입하기 힘 들었으나, 본 발명에서는 하기 [화학식 4]에서 나타내는 바와 같이 다관능 이소시아네이트 경화제와, 하이드록실기(-OH)가 있는 모노머를 도입하여, 이중결합을 용이하게 증량시킬 수 있으며, 이중결합 증가에 따른 경화도 증가에 따라 픽업을 향상시킬 수 있게 되는 것이다.In addition, although it was difficult to introduce a large number of double bonds during the conventional polymerization of a binder having only vinyl groups, in the present invention, a polyfunctional isocyanate curing agent and a monomer having a hydroxyl group (-OH) are introduced as shown in the following [Formula 4]. As a result, the double bond can be easily increased, and the pickup can be improved as the degree of curing due to the double bond is increased.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112008085478688-PAT00004
Figure 112008085478688-PAT00004

본 발명은 상술한 바와 같이 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트(B)는 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A) 100중량부에 대하여 3 내지 50 중량부 적용하는 것이 바람직하고, 5 내지 20 중량부 사용하는 것이 보다 바람직하다. 이는 3 중량부 미만이면 자외선에 의해서 경화하는 절대량이 작으므로 접착력 감소가 상대적으로 작으며, 50중량부 초과이면 UV조사 전 도막의 응집력이 부족하여 필름을 제대로 형성하기 어렵기 때문이다.As described above, the UV curable acrylate (B) containing a hydroxyl group and a vinyl group is preferably applied to 3 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic adhesive binder (A) containing a vinyl group. It is more preferable to use 20 weight part. This is because less than 3 parts by weight of the absolute amount of curing by ultraviolet light is relatively small, the adhesive force is relatively small, if more than 50 parts by weight of the coating film before UV irradiation is insufficient to form a film properly.

(C) 열경화제(C) thermosetting agent

광경화형 점착필름을 만들기 위해 사용 가능한 열경화제로 2,4-트릴렌 디이소시아네이트, 2,6-트리렌 디이소시아네이트, 수소화 트릴렌 디이소시아네이트, 1,3-크실렌 디이소시아네이트, 1,4-크실렌 디이소시아네이트, 디페닐 메탄-4,4-디이소시아네이트, 1,3-비스이소시아나토메칠 시클로헥산, 테트라 메틸 크실렌 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메티롤프로판의 트릴렌 디이소시아네이트 어덕트, 트리메티롤프로판의 크실렌 디이소시아네이트 어덕트, 토리페닐메탄토리이소시아네토, 메틸렌 비스 트리 이소시아네이트 등으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 열경화제(C)는 점착 바인더의 관능기와 반응하여 가교제로서 작용하며 가교 반응 결과 삼차원 그물 형상 구조를 가지게 된다. Thermosetting agents that can be used to make photocurable adhesive films include 2,4-trilene diisocyanate, 2,6-triene diisocyanate, hydrogenated triylene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene di Isocyanate, diphenyl methane-4,4-diisocyanate, 1,3-bisisocyanatomethyl cyclohexane, tetra methyl xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 2,2,4-trimethyl hexamethylene diisocyanate, Consisting of 2,4,4-trimethyl hexamethylene diisocyanate, triylene diisocyanate adduct of trimetholpropane, xylene diisocyanate adduct of trimetholpropane, toriphenylmethanetoriisocyanate, methylene bistri isocyanate, etc. One or more selected from the group can be used, but is not limited thereto. The thermosetting agent (C) reacts with the functional group of the adhesive binder to act as a crosslinking agent and has a three-dimensional network structure as a result of the crosslinking reaction.

열경화제(C)를 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A) 100중량부에 대하여 0.5 내지 5 중량부 적용하는 것이 바람직하다. 이는 0.5 미만이면 가교 반응 정도가 낮아서 기재필름과의 부착력이 불량해 코팅 후 도막층의 탈리가 발생하거나, 기재필름과 점착층간의 광경화 후 부착력이 낮아지게 되어 웨이퍼 또는 다이 접착용 접착필름면에 전이될 수 있는 문제가 발생하고, 5 초과이면 미반응 이소시아네이트에 의해 다이 접착용 접착필름과의 박리력이 상대적으로 무거워 지거나 과도한 가교 반응으로 자외선 조사 전 택(tack)을 소실하여 링프레임의 부착력이 나빠져 익스팬딩시 링프레임에서 다이싱 다이본딩 필름 및 웨이퍼의 탈착이 일어나는 문제가 있기 때문이다.It is preferable to apply 0.5-5 weight part of thermosetting agents (C) with respect to 100 weight part of acrylic adhesive binders (A) containing a vinyl group. If it is less than 0.5, the degree of crosslinking reaction is low, resulting in poor adhesion to the base film, resulting in detachment of the coating layer after coating, or low adhesion after photocuring between the base film and the adhesive layer. The problem that can be transferred occurs, and if it is more than 5, the peeling force with the die-bonding adhesive film becomes relatively heavy due to unreacted isocyanate or the UV irradiation tack is lost due to excessive crosslinking reaction. This is because deterioration of the dicing die-bonding film and the wafer occurs in the ring frame during the expansion.

(D) 광중합 개시제(D) photoinitiator

본 발명의 점착 조성물에는 광중합 개시제(D)가 포함된다. 상기 광경화성 조성물에 포함되는 광중합 개시제(D)는 특별한 제한이 업고 종래 알려져 있는 것을 이용할 수 있다. 구체적으로는 벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 4,4'디클로로벤조페논 등의 벤조페논류, 아세토페논, 디에톡시아세토페논 등의 아세톤페논류, 2-에틸안트라퀴논, t-부틸안트라퀴논 등의 안트라퀴논류 등의 이들의 단독 또는 두 종류 이상의 혼합에 의해 사용할 수 있다. The adhesive composition of this invention contains a photoinitiator (D). The photoinitiator (D) contained in the said photocurable composition has a special limitation, and can use what is known conventionally. Specifically, benzophenones such as benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, 4,4'dichlorobenzophenone, acetone such as acetophenone and diethoxyacetophenone Anthraquinones, such as phenone, 2-ethyl anthraquinone, and t-butyl anthraquinone, etc. can be used individually or in mixture of 2 or more types.

광중합 개시제(D)의 함량은 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A) 100 중량부에 대하여 0.1 내지 3 중량부가 바람직하다. 광중합 개시제(D)의 함량이 0.1중량부 미만이면 자외선 조사에 의해 라디칼 생성 효율이 떨어져 자외선 조사 후 점착층과 접착층의 계면 사이에서 충분한 접착력의 감소를 가져오지 못한다. 따라서, 칩 크기에 관계 없이 원하는 픽업 성능을 가져오지 못한다. 반대로, 3 중량부 초과이면 생성되는 라디칼농도가 과하여 UV에 의하여 반응하는 UV경화형 아크릴레이트의 분자량이 작아져 충분한 망상구조를 형성하지 못하면서 미반응 개시제의 냄 새 문제 발생 및 미반응 개시제의 접착층으로의 전이가 발생하여 접착층의 패키징 내의 신뢰성을 떨어뜨리게 된다.As for content of a photoinitiator (D), 0.1-3 weight part is preferable with respect to 100 weight part of acrylic adhesive binders (A) containing a vinyl group. If the content of the photopolymerization initiator (D) is less than 0.1 part by weight, the radical generation efficiency is lowered by ultraviolet irradiation, and thus, sufficient adhesive force may not be reduced between the adhesive layer and the interface between the adhesive layer after ultraviolet irradiation. Thus, regardless of chip size, the desired pickup performance is not achieved. On the contrary, if the content is more than 3 parts by weight, the resulting radical concentration is excessive and the molecular weight of the UV-curable acrylate reacted by the UV becomes small, resulting in odor problems of the unreacted initiator and the unreacted initiator to the adhesive layer without forming a sufficient network structure. Transitions occur that degrade the reliability in the packaging of the adhesive layer.

상기 (A), (B), (C) 및 (D)의 조성을 메틸에틸케톤 등의 용제에 녹여 본 발명의 광경화성 점착 조성물을 제조할 수 있고, 이 제조된 조성물에 대하여 열풍건조 및 기타 방법으로 잔량의 용제를 휘발하여 광경화형 점착 필름을 만들 수 있다. 또한 이렇게 하여 얻어진 광경화성 점착필름은 다이싱 필름 또는 접착용 접착필름층을 갖는 다이싱 다이본딩 필름에 유용하게 적용할 수 있다.The composition of (A), (B), (C) and (D) can be dissolved in a solvent such as methyl ethyl ketone to prepare the photocurable pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, and hot air drying and other methods for the prepared composition. The remaining amount of solvent may be volatilized to form a photocurable pressure-sensitive adhesive film. Moreover, the photocurable adhesive film obtained in this way can be usefully applied to the dicing die-bonding film which has a dicing film or an adhesive film layer for adhesion | attachment.

먼저 아크릴계 점착 바인더, 에스테르화된 퀴논디아지드 화합물, 열경화제 및 광중합 개시제를 전술한 바의 조성으로 메틸에틸케톤 등의 용제에 녹여 본 발명의 광경화성 점착 조성물을 제조한다.First, an acrylic adhesive binder, an esterified quinonediazide compound, a thermosetting agent, and a photopolymerization initiator are dissolved in a solvent such as methyl ethyl ketone in the above-described composition to prepare a photocurable adhesive composition of the present invention.

다음에는 제조된 점착 조성물에 대하여 열풍건조 및 기타 방법으로 잔량의 용제를 휘발시켜 광경화성 점착층을 형성한다.Next, the remaining amount of solvent is volatilized by hot air drying and other methods with respect to the prepared pressure-sensitive adhesive composition to form a photocurable pressure-sensitive adhesive layer.

그 다음에는, 광경화성 점착층을 다이싱 필름 또는 다이싱 다이 본딩 필름에 적용한다.Next, a photocurable adhesive layer is applied to a dicing film or a dicing die bonding film.

여기서, 다이싱 필름은 기재 필름 상에 점착층이 도포된 형태이며, 다이싱 다이본딩 필름은 기재 필름 상에 점착층이 도포되고, 점착층 상에 에폭시 접착층이 상호 적층된 형태이다. 이때, 접착층을 보호하기 위한 이형필름이 접착층 상에 적층되어 있는 구조를 지닐 수 있다.Here, the dicing film is a form in which an adhesive layer is applied on a base film, the dicing die bonding film is a form in which an adhesive layer is coated on a base film, and an epoxy adhesive layer is laminated on each other. At this time, the release film for protecting the adhesive layer may have a structure laminated on the adhesive layer.

그러나, 본 발명에 따른 다이싱 필름 또는 다이싱 다이본딩 필름들이 이에 제한되는 것은 아니다.However, dicing films or dicing diebonding films according to the present invention are not limited thereto.

또한, 본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름에 포함되는 상기 점착층은 3 내지 40 마이크론의 두께를 갖는데, 3 마이크론 미만의 점착층에서는 자외선 경화 후 도막 응집력이 약해 상부의 접착층과의 계면 사이에서 바람직한 접착력 감소 효과를 가져오지 못하며, 40 마이크론 초과의 경우에는 다이싱 공정시 수염 형태의 절삭 부스러기 등이 발생하는 문제점이 있다.In addition, the pressure-sensitive adhesive layer included in the dicing die-bonding film according to the present invention has a thickness of 3 to 40 microns, but in the pressure-sensitive adhesive layer of less than 3 microns, the coating film cohesion strength is weak after UV curing, and is preferable between the interfaces with the adhesive layer on the upper side. It does not bring about the effect of reducing the adhesive force, in the case of more than 40 microns, there is a problem that the cutting chips in the form of a beard during the dicing process occurs.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the dicing die-bonding film according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1a 내지 도 1e는 본 발명의 일 실시예에 의한 다이싱 다이본딩 필름 및 이를 이용한 웨이퍼 칩 픽업 공정을 도시한 단면개략도들이다.1A to 1E are schematic cross-sectional views illustrating a dicing die-bonding film and a wafer chip pick-up process using the same according to an embodiment of the present invention.

도 1a를 참조하면, 폴리올레핀 필름 등의 익스팬딩이 가능한 기재 필름(100) 상에 점착층(120)이 코팅되고, 점착층(120) 상부에 칩과 칩 사이를 부착시킬 수 있는 접착층(130)이 형성된다. 이때, 점착층(120)은 상술한 (A), (B), (C) 및 (D)의 점착 조성물들로 형성함으로써, 후속의 에이징(Aging) 공정에서 열경화제(C)와 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A) 및 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트(B)가 우레탄 반응에 의해 네트워크(Network)를 형성하도록 하여, 전이를 방지하고, UV 경화후 점착층(120)-접착층(130)의 박리력을 감소시킬 수 있도록 한다.Referring to FIG. 1A, the adhesive layer 120 is coated on the expandable base film 100 such as a polyolefin film, and the adhesive layer 130 may adhere between the chip and the chip on the adhesive layer 120. Is formed. At this time, the adhesive layer 120 is formed of the adhesive compositions of (A), (B), (C) and (D) described above, so that the thermosetting agent (C) and the vinyl group are included in a subsequent aging process. UV-curable acrylate (B) comprising an acrylic adhesive binder (A) and a hydroxyl group and a vinyl group to form a network by a urethane reaction, to prevent the transition, the adhesive layer 120 after UV curing It is possible to reduce the peel force of the adhesive layer 130.

여기서, 상술한 바와 같이 기재 필름(100) 및 점착층(120)의 구조까지만 사 용되는 경우 다이싱 필름으로써 사용되고, 접착층(130)의 구조까지 사용되는 경우 다이싱 다이 본딩 필름이 된다. 이때, 접착층(130) 상부에는 접착층(130)을 보호하는 이형필름(140)이 형성되며, 이하에서는 다이싱 다이 본딩 필름의 예를 중심으로 설명하는 것으로 한다.Here, as described above, when only up to the structure of the base film 100 and the adhesive layer 120 is used as a dicing film, when used up to the structure of the adhesive layer 130 is a dicing die bonding film. At this time, the release film 140 to protect the adhesive layer 130 is formed on the adhesive layer 130, it will be described below with reference to the example of the dicing die bonding film.

도 1b를 참조하면, 이형필름(140)을 박리한 후에, 접착층(130) 상부에 웨이퍼(150)를 라미네이션한다. Referring to FIG. 1B, after the release film 140 is peeled off, the wafer 150 is laminated on the adhesive layer 130.

도 1c를 참조하면, 접착층(130)과 웨이퍼(150)를 라미네이션 한 후 설계된 회로의 크기대로 칩을 자르는 다이싱 공정을 수행한다.Referring to FIG. 1C, after the lamination of the adhesive layer 130 and the wafer 150, a dicing process of cutting a chip to a size of a designed circuit is performed.

다이싱 공정은 접착층(130)을 포함하여 점착층(120) 하부의 기재 필름(100) 일부 깊이까지 수행한다. 그 결과로 개별화된 칩(155), 접착 패턴(135) 및 점착 패턴(125)이 형성된다.The dicing process is performed to the depth of the base film 100 under the adhesive layer 120 including the adhesive layer 130. As a result, the individualized chip 155, the adhesion pattern 135, and the adhesion pattern 125 are formed.

다음에는, 픽업을 위하여 기재 필름(100) 하부에서 자외선(UV)을 조사하여 점착 패턴(125)을 광경화시킴으로써, 접착 패턴(135)과의 계면 박리력을 감소시킨다. 이때, 점착 패턴(125)에 포함되는 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트(B)가 우레탄 반응에 의해 네트워크(Network)를 형성하므로, 점착 패턴(125)-접착 패턴(135) 사이의 부착력은 현저하게 감소된다. Subsequently, the adhesive pattern 125 is photocured by irradiating ultraviolet (UV) under the base film 100 for pickup, thereby reducing the interfacial peeling force with the adhesive pattern 135. At this time, since the UV-curable acrylate (B) comprising a hydroxyl group and a vinyl group included in the adhesive pattern 125 forms a network by a urethane reaction, between the adhesive pattern 125 and the adhesive pattern 135 The adhesion of is significantly reduced.

도 1d을 참조하면, 접착 패턴(135)이 부착된 개별화된 칩(155)을 콜렛(Collet)이라는 픽업기를 사용하여 일정한 힘으로 픽업한다. 이때, 픽업이 용이하도록 기재 필름(100)을 확장시키는 익스팬딩 공정을 수행하며, 상기 도 1c에서 설명한 바와 같이 점착 패턴(125)-접착 패턴(135) 사이의 부착력이 현저하게 감소 되어 있으므로, 점착 패턴(125)과 접착 패턴(135)의 분리가 용이하게 수행될 수 있다.Referring to FIG. 1D, the individualized chip 155 to which the adhesive pattern 135 is attached is picked up with a constant force by using a pickup called a collet. In this case, an expansion process of expanding the base film 100 is performed to facilitate pickup, and as described above with reference to FIG. 1C, since the adhesive force between the adhesive pattern 125 and the adhesive pattern 135 is significantly reduced, Separation of the pattern 125 and the adhesive pattern 135 may be easily performed.

도 1e를 참조하면, 픽업된 칩(155)을 PCB 기판이나 리드프레임과 같은 지지부재(200)에 부착한다.Referring to FIG. 1E, the picked-up chip 155 is attached to a supporting member 200 such as a PCB substrate or a lead frame.

여기서, 기재 필름(100)은 다이싱 시에 웨이퍼가 흔들리지 않도록 붙잡아 주는 역할을 하는 점착층(120)을 지지해주고, 또한 다이싱이 완료되면 개별화된 칩을 픽업하기 용이하도록 하기 위해 칩과 칩 사이의 간격을 늘리는 공정인 익스팬딩 공정이 가능하도록 상온에서 연신이 가능한 필름을 사용하는 것이 바람직하다.Here, the base film 100 supports the adhesive layer 120, which serves to hold the wafer so as not to be shaken during dicing, and also facilitates pickup of individualized chips when dicing is completed. It is preferable to use a film that can be stretched at room temperature so as to enable an expansion process, which is a process of increasing the interval of.

본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름을 구성하는 기재 필름(100)으로 다양한 고분자 필름이 사용될 수 있으나, 그 중에서도 일반적으로 열가소성의 플라스틱 필름이 사용되고 있다. 이러한 이유는 열가소성 필름을 사용하여야 다이싱 공정 후 픽업하기 위해 익스팬딩 할 수 있고 익스팬딩 후에 남아 있는 칩들을 시간이 경과한 후에 다시 픽업하기 위한 경우도 있으므로, 필름의 복원력 측면에서도 열가소성 필름이 필요하기 때문이다.Various polymer films may be used as the base film 100 constituting the dicing die-bonding film according to the present invention. Among them, thermoplastic plastic films are generally used. This is because the thermoplastic film must be used to expand the pickup after the dicing process, and the chips remaining after the expansion can be picked up again over time. Because.

기재 필름(100)은 익스팬딩이 가능해야 할 뿐만 아니라, 자외선 투과성인 것이 바람직하고, 특히 점착제가 자외선 경화형 점착 조성물인 경우 점착 조성물이 경화 가능한 파장의 자외선에 대해서 투과성이 우수한 필름인 것이 바람직하다. 따라서 기재 필름(100)에는 자외선 흡수제 등이 포함되어서는 안 된다.The base film 100 should not only be expandable but also preferably UV-permeable, and in particular, when the pressure-sensitive adhesive is an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive composition, it is preferable that the base film 100 is a film excellent in transmittance to ultraviolet rays of a wavelength at which the pressure-sensitive adhesive composition can be cured. Therefore, the base film 100 should not contain an ultraviolet absorber or the like.

이러한 기재로써 사용할 수 있는 기재 필름(100)용 폴리머 필름의 예로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌/프로필렌 공중합체, 폴리부텐-1, 에틸렌/초산비닐 공중합체, 폴리에틸렌/스타이렌부타디엔 고무의 혼합물, 폴리비닐클로라이드 필름 등의 폴리올레핀계 필름 등이 주로 사용될 수 있다. 또한, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리(메틸메타크릴레이트)등의 고분자나 폴리우레탄, 폴리아미드-폴리올 공중합체 등의 열가소성 엘라스토머 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있고, 이들 기재 필름(100)은 다이싱 시의 절삭성이나 익스팬딩성을 개선하기 위해 복층의 구조를 지녀도 좋다. 이와 같은 필름 등은 주로 폴리올레핀 칩을 블렌딩하여 용융시켜 압출 방식으로 필름을 형성할 수도 있고, 블로잉 방식으로도 필름을 형성 할 수 있다. 블렌딩하는 칩의 종류에 따라 형성되는 필름의 내열성 및 기계적 물성이 결정되며, 상기 제조되는 필름은 헤이즈(HAZE) 85 이상의 값을 가져야 하는 바, 제조 당시 쿨링 롤의 표면을 인각하여 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 엠보싱 효과를 주어 빛의 산란에 의해 헤이즈를 지녀야 한다.Examples of the polymer film for the base film 100 which can be used as such a substrate include polyethylene, polypropylene, ethylene / propylene copolymer, polybutene-1, ethylene / vinyl acetate copolymer, a mixture of polyethylene / styrenebutadiene rubber, poly Polyolefin type films, such as a vinyl chloride film, etc. can be mainly used. In addition, polymers such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, poly (methyl methacrylate), thermoplastic elastomers such as polyurethane and polyamide-polyol copolymers, and mixtures thereof can be used, and these base films 100 are die In order to improve the cutting property and expandability at the time of cutting, it may have a multilayer structure. Such a film may be mainly melted by blending polyolefin chips to form a film by extrusion, or may be formed by blowing. The heat resistance and mechanical properties of the film to be formed are determined according to the type of chips to be blended, and the film to be manufactured should have a value of HAZE 85 or more. Emboss effect to give haze by scattering of light.

85 미만의 헤이즈이면 반도체 공정 중 프리컷(Pre-cut)상태에서 웨이퍼 경면에 라미네이션할 때 필름의 위치 인식 오류가 발생하여 연속적인 작업이 불가능해진다. 따라서, 기재 필름(100)의 배면은 반드시 표면에 엠보싱 처리됨으로써 인식 가능한 수준인 헤이즈 85 이상의 값을 나타내야 한다. If the haze is less than 85, the film may fail to recognize the position of the film when laminating to the mirror surface of the wafer in the pre-cut state during the semiconductor process, and continuous operation may be impossible. Therefore, the back surface of the base film 100 must exhibit a value of haze 85 or more, which is a recognizable level by embossing the surface.

기재 필름(100)의 엠보싱 가공은 인식성 뿐만 아니라, 기재 필름(100) 제조시의 블록킹을 방지하여 권취가 가능하도록 하는 역할도 한다. 기재 필름(100)의 엠보싱 처리된 이면에는 점착층(120)이 형성되므로, 엠보싱 면의 반대면은 형성되는 점착층(120)과의 접착력을 증가시키기 위하여 표면 개질을 하는 것이 바람직하다. The embossing process of the base film 100 not only recognizes, but also prevents blocking during manufacturing of the base film 100, and thus serves to enable winding. Since the adhesive layer 120 is formed on the embossed back surface of the base film 100, the surface opposite to the embossed surface is preferably modified to increase the adhesive strength with the adhesive layer 120 formed thereon.

표면 개질은 물리적 방법, 화학적 방법 모두 가능하며, 물리적 방법으로는 코로나 처리나 플라즈마 처리를 할 수 있고, 화학적 방법으로는 인라인코팅 처리 내지 프라이머 처리 등의 방법을 사용할 수 있고, 코로나 방전 처리에 의해 점착층(120)을 형성하는 것이 제조 공정성 측면에서 바람직하다.Surface modification can be performed by both physical and chemical methods, the physical method can be corona treatment or plasma treatment, the chemical method can be used such as in-line coating treatment or primer treatment, adhesion by corona discharge treatment Forming layer 120 is preferred in terms of manufacturing processability.

기재 필름(100)의 두께는 강한 신장도, 작업성, 자외선 투과성 등의 측면에서 바람직하게는 30 내지 300㎛, 보다 바람직하게는 50 내지 200㎛로 한다. 기재 필름(100)의 두께가 30㎛ 미만이면 프리컷(Pre-cut) 상태에서 작업성이 불량해지고, 자외선 조사시 발생하는 열에 의해 쉽게 필름의 변형이 일어난다. 또한, 기재 필름(100)의 두께가 300㎛ 초과하면 설비상 익스팬딩하기 위한 힘이 과도하게 요구되어 비용 측면에서 바람직하지 않다.The thickness of the base film 100 is preferably 30 to 300 µm, more preferably 50 to 200 µm in view of strong elongation, workability, UV transmittance and the like. When the thickness of the base film 100 is less than 30 μm, workability is poor in a pre-cut state, and deformation of the film is easily caused by heat generated during ultraviolet irradiation. In addition, when the thickness of the base film 100 exceeds 300㎛, the force for expanding on the installation is excessively required, which is not preferable in terms of cost.

다음으로, 점착층(120)은 자외선 조사 전에는 접착층(130) 또는 링프레임과 강한 접착력을 유지하여야 하는데, 자외선 조사 전에 점착층(120)과 접착층(130) 사이 계면의 접착력이 크지 않으면 다이싱시 접착제가 부착된 칩과 점착층(120) 사이에서 박리가 쉽게 일어나 부분적으로 들뜸이 발생하여 다이싱 시 칩이 흔들리므로 칩 크랙 등의 칩 손상이 발생할 우려가 있다. Next, the adhesive layer 120 should maintain a strong adhesive force with the adhesive layer 130 or the ring frame before the ultraviolet irradiation, when dicing if the adhesive strength of the interface between the adhesive layer 120 and the adhesive layer 130 is not large before ultraviolet irradiation Peeling easily occurs between the chip with the adhesive and the adhesive layer 120, so that partial lifting occurs, and the chip is shaken during dicing, causing chip damage such as chip cracks.

또한, 점착층(120)과 링프레임의 접착력이 크지 않으면 익스팬딩 시 링프레임은 고정되어 있고 필름에 일정한 장력을 가하여 익스팬딩시키므로 점착층(120)과 링프레임의 접착부분에서 탈착이 일어나 웨이퍼 전체의 불량을 야기시킬 수 있다. In addition, if the adhesion between the adhesive layer 120 and the ring frame is not large, the ring frame is fixed at the time of expansion and expands by applying a constant tension to the film, so that desorption occurs at the adhesive portion between the adhesive layer 120 and the ring frame and thus the entire wafer. May cause a defect.

따라서, 점착층(120)은 자외선 조사 후에는 점착층(120) 중의 도막층이 자외 선 경화 가교에 의해 단단해지고 응집력이 커져, 점착층(120)의 상부에 형성된 접착층(130)과의 계면 박리력이 현저히 낮아져야 하며, 박리력 감소 폭이 크면 클수록 접착층(130) 상부에 부착된 칩을 픽업하기가 용이해진다. 즉 점착층(120)은 다이싱 단계부터 건조 단계까지 칩을 강력하게 잡아 둘 정도의 큰 접착력을 가져야 하는 반면에, 픽업 단계에서는 그 접착력이 현저하게 감소되어 칩이 안전하게 다이본딩 단계로 이동될 수 있도록 낮은 접착력을 가져야 하는 상반된 두 물성을 자외선 조사 전/후로 지녀야 한다.Therefore, after the ultraviolet ray irradiation, the coating layer in the adhesive layer 120 is hardened by ultraviolet ray hardening crosslinking, and the cohesive force becomes large, and the adhesive layer 120 is interfaced with the adhesive layer 130 formed on the adhesive layer 120. The force should be significantly lower, and the greater the peel force reduction width, the easier the pick-up of the chip attached to the adhesive layer 130. That is, the adhesive layer 120 should have a great adhesive force enough to hold the chip strongly from the dicing step to the drying step, while the adhesive force is significantly reduced in the pick-up step so that the chip can be safely moved to the die bonding step. Both opposing properties, which must have low adhesion, should be before and after UV irradiation.

본 발명에 따른 다이싱 다이본딩 필름(160)에 사용되는 점착층(120)은 상기한 광경화성 점착 조성물을 이용하여 형성되는데, 광경화성 점착 조성물을 형성하는 방법은 주로 도포에 의해 이루어진다.The pressure-sensitive adhesive layer 120 used for the dicing die-bonding film 160 according to the present invention is formed using the photocurable pressure-sensitive adhesive composition, and the method of forming the photocurable pressure-sensitive adhesive composition is mainly performed by coating.

기재 필름(100)에 점착층(120)을 형성시키는 방법은 직접 코팅할 수도 있고, 이형필름 등에 코팅한 후에 건조 완료 후 전사방식에 의해 전사시킬 수도 있다. 전자이건 후자이건 점착층(120)을 형성시키는 도포 방법은 균일한 도막층을 형성시킬 수 있는 것이면 어느 것이든 제한이 없으나 주로 바 코팅, 그라비아 코팅, 콤마 코팅, 리버스 롤 코팅, 어플리케이터 코팅, 스프레이 코팅, 립 코팅 등의 방법이 이용되고 있다. The method of forming the adhesive layer 120 on the base film 100 may be directly coated, or may be transferred by a transfer method after completion of drying after coating on a release film or the like. The former or the latter is not limited as long as the coating method for forming the adhesive layer 120 can form a uniform coating layer, but mainly bar coating, gravure coating, comma coating, reverse roll coating, applicator coating, spray coating And lip coating are used.

도포한 후에 도막층을 형성하기 위한 건조방법은 주로 열경화 방식을 이용하고, 코팅 방식은 폴리올레핀 필름 표면 위에 직접 코팅층을 형성하기도 하고, 이형필름(140) 등의 필름 위에 점착층(120)을 형성시킨 후, 폴리올레핀 필름 등에 전사하여 코팅층을 형성하기도 한다. After coating, the drying method for forming the coating layer is mainly a thermosetting method, the coating method may form a coating layer directly on the surface of the polyolefin film, the adhesive layer 120 is formed on a film such as the release film 140 After this, the coating layer may be transferred to a polyolefin film or the like to form a coating layer.

점착층(120)의 두께는 3 내지 40㎛, 보다 바람직하게는 5 내지 30㎛의 두께로 한다. 이는 3㎛ 미만이면 자외선 경화 후 도막 응집력이 약해 상부의 접착층(130)과의 계면 사이에서 바람직한 접착력 감소 효과를 가져오지 못하며, 40㎛ 초과이면 다이싱 공정시 수염 형상 절삭 부스러기 등이 발생하는 문제점이 있기 때문이다.The thickness of the adhesion layer 120 is 3-40 micrometers, More preferably, it is 5-30 micrometers in thickness. If the thickness is less than 3 μm, the cohesive strength of the coating film is weak after UV curing, which does not bring about a desirable effect of reducing the adhesive force between the interface with the adhesive layer 130 on the upper side. Because there is.

생성된 점착층(120)은 일정한 온도에서 일정 시간 숙성시킬 수 있는데, 일반적으로 점착제는 열경화 후에도 일정 시간까지 도막층의 경화가 진행되기 때문에, 도막의 안정성과 경시변화를 최소화하는 범위 내에서 숙성시키는 것이 바람직하다.The resulting pressure-sensitive adhesive layer 120 may be aged at a constant temperature for a certain time. Generally, since the pressure-sensitive adhesive proceeds to harden the coating layer even after thermal curing, the pressure-sensitive adhesive layer 120 may be aged within a range of minimizing stability and change over time. It is preferable to make it.

본 발명에 따른 다이싱 다이본딩 필름(160)에 사용되는 점착층(120)은 상기한 광경화성 점착 조성물을 이용하여 형성된 것 이외에도, 자외선 조사 전에는 강한 점성(tack)으로 상부의 접착층(130)과 강한 접착력을 유지하고, 링프레임과도 강한 접착력을 지니며, 자외선 조사 후에는 점착층(120)이 가교 반응에 의해 도막 응집력이 증가하고 수축하여 접착층(130)과의 계면에서 접착력이 현저히 감소함으로써, 접착층(130)이 부착된 칩(155)이 쉽게 픽업되어 지지부재(200)에 다이본딩 되는 것이면 어느 것이나 가능하다.The adhesive layer 120 used in the dicing die-bonding film 160 according to the present invention is formed using the photocurable pressure-sensitive adhesive composition described above. Maintaining strong adhesive force, and also has a strong adhesive strength with the ring frame, after the ultraviolet irradiation, the adhesive layer 120 increases the coating cohesion force by the crosslinking reaction and shrinks, thereby significantly reducing the adhesive force at the interface with the adhesive layer 130 If the chip 155 having the adhesive layer 130 attached thereto is easily picked up and die-bonded to the support member 200, any one may be used.

특히, 자외선 조사에 의해 경화되는 조성이어도 되고, 자외선 조사가 아닌 열경화나 기타 외부 에너지에 의해 에너지 부가 전 후로 접착층(130)과의 계면 사이에서 접착력이 현저히 감소하는 조성이면 어느 것이나 가능하다. In particular, any composition may be used as long as it is a composition which is cured by ultraviolet irradiation, and the adhesive force is significantly reduced between the interface with the adhesive layer 130 before and after the energy is added by heat curing or other external energy rather than ultraviolet irradiation.

본 발명에 사용하는 기재 필름(100)이 폴리올레핀 필름과 같은 비극성 소재 이기 때문에 점착층(120)이 필름에 대해 부착력을 가지려면 필름 표면을 개질하여 점착층(120)에 대해 친화력을 높이기도 하지만 점착층(120) 성분 자체에 극성기를 도입하고 경화제와 가교 반응시켜서 부착력을 증진시킬 수 있다.Since the base film 100 used in the present invention is a non-polar material such as a polyolefin film, in order for the adhesive layer 120 to have adhesion to the film, the adhesive film 120 may be modified to improve the affinity for the adhesive layer 120, although the adhesion may be increased. Adhesion may be enhanced by introducing a polar group into the layer 120 component itself and crosslinking with the curing agent.

상술한 바와 같이, 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더와 경화제를 혼합하여 기재 필름(100) 위에 도포 시 숙성공정을 거치면서 점착 바인더내에서 단단하게 도막을 형성하여 부착되기 때문에 자외선 조사 전에도 접착층(130)으로의 전이가 발생하지 않아 자외선 조사 후에 충분한 접착력 감소 효과를 나타내게 된다. As described above, since the acrylic adhesive binder containing a vinyl group and the curing agent are mixed to form a coating film in the adhesive binder during the aging process when applied on the base film 100, the adhesive layer 130 even before UV irradiation. There is no transition to, resulting in a sufficient adhesive force reduction effect after ultraviolet irradiation.

열경화제의 첨가에 의해 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 및 자외선경화형 아크릴레이트는 기재 필름(100) 표면에 단단한 도막을 형성하며 다이싱이나 자외선 조사에 의해 도막 탈리가 발생하지 않는다. 앞에서도 언급한 것처럼 본 발명에 사용하는 기재 필름(100)인 폴리올레핀 필름은 분자내에 극성기를 전혀 함유하지 않으므로 극성이 없는 외부 물질을 표면에 부착하기가 어렵게 된다. 따라서 필름 표면의 극성을 높이기 위해 코로나 처리나 프라이머 처리 등으로 표면 장력을 높이기도 하는데 이는 한계가 있으므로 기본적인 수지의 극성을 조절해서 도막을 형성하는 것이 일반적이다.By adding a thermosetting agent, the acrylic pressure-sensitive adhesive binder and the ultraviolet curing acrylate containing a vinyl group form a hard coating film on the surface of the base film 100, and coating film desorption does not occur by dicing or ultraviolet irradiation. As mentioned above, since the polyolefin film, which is the base film 100 used in the present invention, contains no polar group in the molecule, it is difficult to attach an external material having no polarity to the surface. Therefore, in order to increase the polarity of the film surface to increase the surface tension by corona treatment or primer treatment, etc. This is limited, so it is common to control the polarity of the basic resin to form a coating film.

그 다음으로, 접착층(130)은 열경화형 조성물로 필름상으로 만들어지며 웨이퍼의 경면에 우수한 부착력을 가져야 하고, 최외부의 이형필름(140)은 접착층(130)을 외부 이물로부터 보호하고, 롤상으로 권취 하기 용이하게 하기 위해 사용되어진다.Next, the adhesive layer 130 is made of a thermosetting composition in the form of a film and should have excellent adhesion to the mirror surface of the wafer, and the outermost release film 140 protects the adhesive layer 130 from foreign matter and rolls. It is used to facilitate winding up.

본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름(160)은 상기와 같이 기재 필름(100) 위에 점착층(130)을 코팅하고 다시 상부에 접착층(130)을 적층하는 구조로 이루어진다. 접착층(130)은 반도체 칩이 붙어 있어 작은 크기로 개별화된 후 칩을 픽업할 때 하부의 점착층(130)과 쉽게 박리되어 칩 이면에 부착된 상태로 지지부재(200)의 표면에 다이본딩 하게 된다. The dicing die bonding film 160 according to the present invention has a structure in which the adhesive layer 130 is coated on the base film 100 as described above, and the adhesive layer 130 is laminated on the upper side. The adhesive layer 130 is attached to the surface of the support member 200 in a state where the semiconductor chip is attached to the small size and then individualized to a small size and easily peeled off from the lower adhesive layer 130 when attached to the chip back surface. do.

상기 접착층(130)은 60℃ 근처의 온도에서 회로가 설계된 웨이퍼의 경면(유리면)에 부착되고 다이싱이 된 후에는 약 100℃의 온도에서 리드프레임이나 PCB 기판과 같은 지지부재(200)에 다이본딩 하게 된다. 또한, 상기 접착층(130)은 칩에 부착되어 패키징 내에 들어가고, 에폭시 몰딩 후에도 패키징 내부에 잔존하게 되므로 이온이나 이물 기타 시간 경과에 따른 공정 안정성 등 신뢰성이 중요하다.The adhesive layer 130 is attached to the mirror surface (glass surface) of the wafer on which the circuit is designed at a temperature near 60 ° C. and then diced into a support member 200 such as a lead frame or a PCB substrate at a temperature of about 100 ° C. Bonding In addition, since the adhesive layer 130 is attached to the chip and enters the packaging and remains inside the packaging even after epoxy molding, reliability such as ionic or foreign matter and process stability over time is important.

본 발명에 따른 다이싱 다이 본딩 필름(160)의 접착층(130)은 필름 형성능을 갖는 고분자량의 아크릴 공중합체와 에폭시 수지 등의 열경화성 수지로 이루어진다. 상기 아크릴계 공중합체는 아크릴산 에스테르나 메타크릴산 에스테르 및 아크릴로니트릴 등의 공중합체인 아크릴 고무를 예로 들 수 있다. 에폭시 수지는 경화되어서 접착력을 나타내는 것이면 특별한 제한은 없으나, 경화반응을 하기 위해서는 관능기는 관능기가 2 이상이어야 하므로, 비스페놀 A형 에폭시 수지나 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 등을 사용하는 것이 바람직하다.The adhesive layer 130 of the dicing die bonding film 160 according to the present invention comprises a high molecular weight acrylic copolymer having a film forming ability and a thermosetting resin such as an epoxy resin. Examples of the acrylic copolymer include acrylic rubber which is a copolymer such as acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and acrylonitrile. The epoxy resin is not particularly limited as long as the epoxy resin is cured to exhibit adhesive strength. However, in order to perform the curing reaction, the functional group must have two or more functional groups. Therefore, bisphenol A type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, etc. are used. It is desirable to.

또한, 접착층(130)에는 에폭시 수지를 경화시키기 위한 경화촉진제를 사용할 수 있는데, 경화촉진제로는 이미다졸계나 아민계 등을 사용할 수 있다. 또한, 접착층(130)에는 웨이퍼와의 부착력을 증가시키기 위해 다양한 실란 커플링제를 1종 또 는 2종 이상의 혼합으로 사용할 수 있으며, 접착층의 치수 안정 및 내열 특성 향상을 위해 실리카 등의 무기 입자를 첨가 할 수 있다. In addition, a curing accelerator for curing the epoxy resin may be used for the adhesive layer 130, and as the curing accelerator, an imidazole series, an amine series, or the like may be used. In addition, in the adhesive layer 130, various silane coupling agents may be used in one kind or a mixture of two or more kinds to increase adhesion to the wafer, and inorganic particles such as silica may be added to improve the dimensional stability and heat resistance of the adhesive layer. can do.

상기 접착층(130)의 코팅 두께는 5 내지 100㎛이 바람직하며, 보다 바람직하게는 10 내지 80㎛이 좋다. 이는 5㎛ 미만에서는 웨이퍼 이면에 적합한 접착력을 나타내지 못하고, 100㎛ 초과하는 경우 최근에의 경박단소화의 반도체 패키징 경향에 반하고, 두께가 클수록 칩과 칩, 칩과 기판 사이를 접착할 때 접착제 층의 유동성에 의하여 액상 접착제를 사용할 때와 같은 필레(Fillet) 현상이 발생하게 되어 패키징시 신뢰성에 문제를 유발시키기 때문이다.The coating thickness of the adhesive layer 130 is preferably 5 to 100㎛, more preferably 10 to 80㎛. This is less than 5㎛ does not show the proper adhesion on the back of the wafer, if it exceeds 100㎛ contrary to the recent trend of thin and short semiconductor packaging, the larger the thickness, the adhesive layer when bonding between the chip and the chip, the chip and the substrate This is because the fillet phenomenon, such as when using a liquid adhesive, occurs due to the fluidity of the, causing problems in reliability during packaging.

또한, 상기 접착층의 성분으로는 필요에 따라서 유기 필러, 무기 필러, 접착부여제, 계면활성제, 대전방지제 등을 혼합하는 것이 가능하고, 접착층의 코팅 방식도 점착층과 마찬가지로 균일한 도막 두께를 형성시킬 수 있는 것이면 특별한 제한은 없다.In addition, as the component of the adhesive layer, it is possible to mix an organic filler, an inorganic filler, a tackifier, a surfactant, an antistatic agent and the like as necessary, and the coating method of the adhesive layer may also form a uniform coating film thickness as in the adhesive layer. There is no special limitation as long as it can.

본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름은 상기와 같이 제조된 점착층(120), 접착층(130)을 적층하여 하나의 필름으로 제조한 것으로, 프리컷(Pre-cut) 형태나 롤 형태 모두 가능하나, 롤 형태로 제조 되었을 때 반도체 공정 중 웨이퍼 이외의 필름 부분을 제거(scrap)해야 하는 공정이 별도로 필요로 되고, 프리컷(Pre-cut)형태로 제조하는 경우에는 웨이퍼 크기에 맞는 필름이므로 별도의 제거공정이 필요하지 않게 된다. 다만, 본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름은 점착층(120)과 접착층(130)을 합지하여 일정 크기에 맞게 컷팅한 형태이므로, 합지시의 롤 압력, 온도 치수 및 정밀도 관리 등이 매우 중요한 요소가 된다.The dicing die-bonding film according to the present invention is made of one film by laminating the adhesive layer 120 and the adhesive layer 130 prepared as described above, but both pre-cut and roll forms are possible. In case of manufacturing in roll form, it is necessary to separately process the film part other than wafer during the semiconductor process, and in case of manufacturing in pre-cut form, it is suitable for wafer size. No removal process is necessary. However, since the dicing die-bonding film according to the present invention is formed by cutting the adhesive layer 120 and the adhesive layer 130 to a certain size, the dicing die-bonding film according to the present invention is very important for controlling roll pressure, temperature dimension, and precision during lamination. Becomes

본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시를 위한 것이고, 첨부된 특허청구범위에 의하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.The invention can be better understood by the following examples, which are intended to illustrate the invention and are not intended to limit the scope of protection defined by the appended claims.

[접착층의 제조][Production of Adhesive Layer]

아크릴 수지 KLS-1046DR(수산기값 13mgKOH/g, 산가 63mgKOH/g, Tg 38℃, 평균분자량 690,000, 제조원: 후지쿠라 상사) 400g, WS-023(수산기 값 혹은 산가 20 mgKOH/g, Tg -5℃, 평균분자량 500,000, 수산기 혹은 카르복시기 함유량 20, 제조원: 나가세켐텍) 60g, 크레졸 노볼락계로 이루어진 에폭시 수지 YDCN-500-4P(제조원: 국도화학, 분자량 10,000이하) 60g, 크레졸 노볼락계 경화제 MEH-7800SS(제조원:메이와플라스틱산업) 40g, 이미다졸계 경화촉매 2P4MZ(제조원: 사국화학) 0.1g, 머켑토 실란커플링제 KBM-803(제조원: 신에쯔주식회사) 0.5g, 에폭시 실란커플링제KBM-303(제조원: 신에쯔주식회사) 0.5g 및 무정형 실리카 충진제 (OX-50, 제조원: 대구사) 20g을 혼합한 후, 500rpm에서 2시간 정도 1차 분산시켰다. Acrylic resin KLS-1046DR (hydroxyl value 13 mgKOH / g, acid value 63 mgKOH / g, Tg 38 ° C, average molecular weight 690,000, manufacturer: Fujikura Corporation) 400 g, WS-023 (hydroxyl value or acid value 20 mgKOH / g, Tg -5 ° C) , Average molecular weight 500,000, hydroxyl or carboxyl group content 20, manufacturer: Nagase Chemtech) 60 g, cresol novolac-based epoxy resin YDCN-500-4P (manufactured by Kukdo Chemical, molecular weight 10,000 or less) 60 g, cresol novolac-based curing agent MEH-7800SS (Manufacturer: Meiwa Plastic Industries) 40g, imidazole series curing catalyst 2P4MZ (manufacturer: Shukuk Chemical) 0.1g, mercuryto silane coupling agent KBM-803 (manufacturer: Shin-Etsu Co., Ltd.) 0.5g, epoxy silane coupling agent KBM- 0.5 g of 303 (manufactured by Shin-Etsu Co., Ltd.) and 20 g of amorphous silica filler (OX-50, manufactured by Daegu Co., Ltd.) were mixed, followed by primary dispersion at 500 rpm for about 2 hours.

1차 분산 이후 밀링을 실시하였다. 밀링은 주로 무기 입자를 이용한 비드 밀링 방법을 사용하였다. 밀링이 완료된 후 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 이형필름의 편면에 건조 후 막 두께 20㎛로 하여 코팅을 실시하였다. Milling was performed after the first dispersion. Milling mainly used bead milling method using inorganic particles. After the milling was completed, the coating was applied to one side of the polyethylene terephthalate release film having a thickness of 38 μm and then to a thickness of 20 μm.

코팅된 면을 보호하기 위해 코팅층 상부면에 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 으로 적층하여 접착층을 제조하였다.In order to protect the coated surface, an adhesive layer was prepared by laminating a polyethylene terephthalate film on the upper surface of the coating layer.

[비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 제조][Preparation of acrylic adhesive binder containing vinyl group]

2L의 4구 플라스크에 다음 제조예의 배합조건으로 하여 시약을 투입하였고, 반응공정은 다음과 같다. 유기용매인 에칠아세테이트 300g, 톨루엔 240g을 먼저 투입하고, 한쪽에는 환류냉각 관을 설치하였고, 다른 한쪽에는 온도계를 또 다른 한쪽에는 드롭핑 판넬을 설치하였다. The reagent was added to a 2 L four-necked flask under the mixing conditions of the following Preparation Example, and the reaction process was as follows. 300 g of ethyl acetate, 240 g of toluene, which was an organic solvent, were added first, a reflux cooling tube was installed on one side, and a thermometer was installed on the other side, and a dropping panel was installed on the other side.

플라스크 용액 온도를 80 내지 90℃로 올린 후, [표 1]의 제조예 1과 같이 2-에틸헥실아크릴레이트 (JUNSEI사, 7A2150), 하이드록시에틸메타크릴레이트 (SAMCHUN사, 03120), 하이드록시에틸아크릴레이트 (JUNSEI사, 10132-0480), 글리시딜 메타크릴레이트 (SAMCHUN사, E10780), 이소 옥칠 아크릴레이트 모노머 (SARTOMER사, 437425등), 라우릴메타크릴레이트 모노머(Aldrich사, 291811)와 벤조일퍼옥사이드 0.12g과 혼합액을 제조한 다음, 혼합액을 드롭핑 판넬을 사용하여 80 내지 100℃에서 3시간 동안 적하 하였다. 이때, 적하시의 교반속도는 250rpm으로 하였으며, 적하 종료 후 동일한 온도에서 4시간 동안 반응물을 숙성시킨 다음, 에칠아세테이트 30g, 아조비스이소부틸로나이트릴 1.2g을 투입하고, 4시간 동안 유지한 후 점도 및 고형분 측정을 하고 반응을 중지시켜 아크릴 공중합체인 아크릴 점착 폴리올 바인더 수지를 제조하였다. 중합 후의 점도는 300 내지 500cps 이고, 고형분의 함량을 40%로 보정하였다.After raising the flask solution temperature to 80 to 90 ℃, 2-ethylhexyl acrylate (JUNSEI, 7A2150), hydroxyethyl methacrylate (SAMCHUN, 03120), hydroxy as in Preparation Example 1 of [Table 1] Ethyl acrylate (JUNSEI, 10132-0480), glycidyl methacrylate (SAMCHUN, E10780), iso-oxyl acrylate monomer (SARTOMER, 437425, etc.), lauryl methacrylate monomer (Aldrich, 291811) 0.12 g of benzoyl peroxide and a mixed solution were prepared, and the mixed solution was added dropwise at 80 to 100 ° C. using a dropping panel for 3 hours. At this time, the stirring speed of the dropwise addition was 250rpm, after the completion of dropping to mature the reaction at the same temperature for 4 hours, and then 30g of ethyl acetate, 1.2g of azobisisobutylonitrile was added and maintained for 4 hours The viscosity and solids were measured and the reaction was stopped to prepare an acrylic adhesive polyol binder resin, which is an acrylic copolymer. The viscosity after polymerization was 300 to 500 cps, and the content of solids was corrected to 40%.

2L의 4구 플라스크에 상기에서 합성한 아크릴 점착 폴리올 바인더 수지 100 중량부에 2-Isocyanatoethyl Methacrylate(상품명 : Karenz MOI, 昭和電工(日))을 7중량부, 디부틸틴 디라우레이트(dibutyl tin dilaurate, DBTDL, Aldrich사, 291234) 20ppm을 넣고, 60℃의 온도에서 8시간 동안 반응 시켜 2-Isocyanatoethyl Methacrylate 모노머의 이소시아네이트기가 바인더의 수산기와 반응하여 FT-IR상에서 없어짐을 반응의 종말점으로 하여, 에틸아세테이트를 넣어 냉각시켜, 고형분 40%의 아크릴계 점착 바인더를 합성하였다.7 parts by weight of 2-Isocyanatoethyl Methacrylate (trade name: Karenz MOI, Japan) to 100 parts by weight of the acrylic adhesive polyol binder resin synthesized above in a 2 L four-necked flask and dibutyl tin dilaurate , DBTDL, Aldrich Co., Ltd., 291234) 20ppm was added and reacted for 8 hours at a temperature of 60 ° C. The ethyl acetate was used as the end point of the reaction, where the isocyanate group of the 2-Isocyanatoethyl Methacrylate monomer disappeared on the FT-IR by reacting with the hydroxyl group of the binder. Was added and cooled, and the acrylic adhesive binder of 40% of solid content was synthesize | combined.

[표 1]TABLE 1

Figure 112008085478688-PAT00005
Figure 112008085478688-PAT00005

[광경화성 점착 조성물 및 다이싱 다이 본딩 필름의 제조][Production of Photocurable Adhesive Composition and Dicing Die Bonding Film]

[표 2] 점착제 조성TABLE 2 Adhesive composition

Figure 112008085478688-PAT00006
Figure 112008085478688-PAT00006

<실시예 1 : 점착필름 형성용 광경화성 조성물의 제조>Example 1 Preparation of Photocurable Composition for Adhesive Film Formation

1L 비이커에 제조예1에서 합성한 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 250g과 하이드록실기가 있는 고형분 100% 702A(신나카무라사,2-Hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate) 10g을 투입하여 혼합한 후, 광개시제 고형분 100% 0.3g(Irgacure 184, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 고형분 75% 2.5g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 광경화성 조성물을 제조하였다.Into a 1 L beaker, 250 g of an acrylic adhesive binder containing a vinyl group of 40% of the solid content synthesized in Preparation Example 1 and 10 g of a solid content of 100% 702A (Synnakamura, 2-Hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate) containing hydroxyl groups were mixed. Thereafter, 0.3 g of photoinitiator solid content (Irgacure 184, Ciba-chemical) and 2.5 g of isocyanate curing agent 75% solid content (AK-75, Aekyung Chemical) were added to prepare a photocurable composition.

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 150㎛ 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10㎛의 점착필름(4-a)을 제조 후 접착 필름과 합지하여 다이싱 다이본딩 필름을 제조하였다.After mixing the photocurable composition for pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above practice and coating it on one side of the 150㎛ polyolefin film, after drying the adhesive film (4-a) having a thickness of 10㎛ prepared by laminating with an adhesive film and dicing die-bonding film Prepared.

<실시예 2 : 점착필름 형성용 광경화성 조성물의 제조><Example 2: Preparation of photocurable composition for adhesive film formation>

1L 비이커에 제조예1에서 합성한 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 250g과 하이드록실기가 있는 고형분 100% 701(신나카무라사, Glycerin dimethacrylate) 15g을 투입하여 혼합한 후, 광개시제 고형분 100% 0.3g(Irgacure 184, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 고형분 75% 2.5g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 광경화성 조성물을 제조하였다.250 g of an acrylic adhesive binder containing a vinyl group of 40% of the solid content synthesized in Preparation Example 1 and 15% of a solid content of hydroxyl group 100% 701 (Shin-Nakamura, Glycerin dimethacrylate) were added to a 1L beaker, followed by mixing. Photocurable composition was prepared by adding 0.3 g (Irgacure 184, Ciba-chemical), 2.5 g of isocyanate curing agent solids 75% (AK-75, Aekyung Chemical).

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 150㎛ 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10 ㎛의 점착필름(4-b)을 제조후 접착필름과 합지하여 다이싱 다이본딩 필름을 제조하였다. After mixing the photocurable composition for pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above practice and coating on one side of the 150㎛ polyolefin film, after drying the adhesive film (4-b) having a thickness of 10 ㎛ and laminated with an adhesive film to dicing die-bonding film Prepared.

<실시예 3 : 점착필름 형성용 광경화성 조성물의 제조><Example 3: Preparation of photocurable composition for adhesive film formation>

1L 비이커에 제조예1에서 합성한 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 250g과 하이드록실기가 있는 고형분 100% 4-Hydroxybutyl Methacrylate(Aldrich.Co.) 20g을 투입하여 혼합한 후, 광개시제 고형분 100% 0.3g(Irgacure 184, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 고형분 75% 2.5g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 광경화성 조성물을 제조하였다.250 g of an acrylic adhesive binder containing a vinyl group of 40% of the solid content synthesized in Preparation Example 1 and 20% of a solid content of 100% 4-Hydroxybutyl Methacrylate (Aldrich.Co.) In a 1L beaker were mixed, and then the photoinitiator solids were mixed. A photocurable composition was prepared by adding 100 g 0.3 g (Irgacure 184, Ciba-chemical) and 2.5 g 2.5 g of an isocyanate curing agent (AK-75, Aekyung Chemical).

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 150㎛ 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10㎛의 점착필름(4-c)을 제조후 접착 필름과 합지하여 도 1과 같은 다이싱 다이본딩 필름을 제조하였다.After mixing the photocurable composition for pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above practice and coating on one side of the 150㎛ polyolefin film, after drying the adhesive film (4-c) having a thickness of 10㎛ and laminated with an adhesive film after dicing as shown in FIG. A diebonding film was prepared.

<비교예 1>Comparative Example 1

1L 비이커에 제조예에서 합성한 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 250g과 광개시제 고형분 100% 0.3g(Irgacure 184, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 고형분 75% 2.5g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 광경화성 조성물을 제조하였다.250g of acrylic adhesive binder containing 40% of the solid group synthesized in the production example in a 1L beaker and 100% of the photoinitiator solids 0.3g (Irgacure 184, Ciba-chemical), 75% of the isocyanate curing agent 2.5g (AK-75, Aekyung Chemical) ) Was added to prepare a photocurable composition.

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 150㎛ 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10 ㎛의 점착필름(4-d)을 제조후 접착필름과 합지하여 다이싱 다이본딩 필름을 제조하였다. After mixing the photocurable composition for pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above practice and coating on one side of the 150㎛ polyolefin film, after drying the adhesive film (4-d) having a thickness of 10 ㎛ and laminated with an adhesive film to produce a dicing die-bonding film Prepared.

<비교예 2>Comparative Example 2

1L 비이커에 제조예에서 합성한 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 250g과 하이드록실기가 있는 고형분 100% 702A(신나카무라사, 2-Hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate) 60g을 투입하여 혼합한 후, 광개시제 고형분 100% 0.3g(Irgacure 184, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 고형분 75% 2.5g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 광경화성 조성물을 제조하였다.Into a 1 L beaker, 250 g of an acrylic adhesive binder containing a vinyl group of 40% of the solid content synthesized in the manufacturing example and 60 g of a solid content of 100% 702A (2-Hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate) having a hydroxyl group were mixed and mixed. Thereafter, 0.3 g of photoinitiator solid content (Irgacure 184, Ciba-chemical) and 2.5 g of isocyanate curing agent 75% solid content (AK-75, Aekyung Chemical) were added to prepare a photocurable composition.

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 150㎛ 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10㎛의 점착필름(4-e)을 제조후 접착필름과 합지하여 다이싱 다이본딩 필름을 제조하였다. After mixing the photocurable composition for pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above practice and coating on one side of the 150㎛ polyolefin film, after drying the adhesive film (4-e) having a thickness of 10㎛ prepared by laminating with the adhesive film and dicing die-bonding film Prepared.

<비교예 3>Comparative Example 3

1L 비이커에 제조예에서 합성한 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 250g과 하이드록실기가 없는 고형분 100% Miramer M200(미원상사, 1,6-Hexanediol dimethacrylate) 15g을 투입하여 혼합한 후, 광개시제 고형분 100% 0.3g(Irgacure 184, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 고형분 75% 2.5g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 광경화성 조성물을 제조하였다.250 g of an acrylic adhesive binder containing a vinyl group of 40% of the solid content synthesized in the preparation example and 15% of a solid content of 100% Miramer M200 without a hydroxyl group were added to a 1L beaker, followed by mixing. Photoinitiator solid content 100% 0.3g (Irgacure 184, Ciba-chemical), isocyanate curing agent solids 75% 2.5g (AK-75, Aekyung Chemical) was added to prepare a photocurable composition.

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 150㎛ 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10㎛의 점착필름(4-f)을 제조후 접착필름과 합지하여 다이싱 다이본딩 필름을 제조하였다. After mixing the photocurable composition for the pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above practice and coating on one side of the 150㎛ polyolefin film, after drying the adhesive film (4-f) having a thickness of 10㎛ prepared by laminating with the adhesive film and dicing die-bonding film Prepared.

<비교예 4><Comparative Example 4>

1L 비이커에 제조예에서 합성한 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 250g과 하이드록실기가 없는 고형분 100% EM-160A(미원상사, Dipentaerythritol hexaacrylate) 15g을 투입하여 혼합한 후, 광개시제 고형분 100% 0.3g(Irgacure 184, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 고형분 75% 2.5g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 광경화성 조성물을 제조하였다.250 g of an acrylic adhesive binder containing a vinyl group of 40% of the solid content synthesized in the preparation example and 15% of a solid content without hydroxyl group EM-160A (Dipentaerythritol hexaacrylate) were added to a 1L beaker, followed by mixing. Photocurable composition was prepared by adding 0.3 g (Irgacure 184, Ciba-chemical), 2.5 g of isocyanate curing agent solids 75% (AK-75, Aekyung Chemical).

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 150㎛ 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10 ㎛의 점착필름(4-g)을 제조후 접착필름과 합지하여 다이싱 다이본딩 필름을 제조하였다.After mixing the photocurable composition for the pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above practice and coating on one side of the 150㎛ polyolefin film, after drying the adhesive film (4-g) having a thickness of 10 ㎛ and laminated with an adhesive film to produce a dicing die-bonding film Prepared.

[물성평가 방법][Property evaluation method]

시험예 1 : 접착층-점착층 계면 박리력Test Example 1 Adhesive Layer-Adhesion Layer Interfacial Peeling Force

점착력 측정은 한국 공업 규격 KS-A-01107(점착 테이프 및 점착 시이트의 시험 방법)의 8항에 따라 시험하였다. 다이 접착용 접착층에 폭 25mm, 길이 250mm의 시료를 붙인 후, 다이 접착용 접착층에 접착 테이프를 붙인 후 2kg 하중의 압착 롤러를 이용하여 300mm/min의 속도로 1회 왕복시켜 압착하였다. 압착 후 30분 경과 후에 시험편의 접은 부분을 180˚로 뒤집어 약 25mm를 벗긴 후, 10N Load Cell에서 시험편을 인장강도기의 위쪽 클립에 다이 접착용 접착층을 시험판 아래쪽 클립에 고정시키고, 300mm/min의 인장속도로 당겨 벗길 때의 하중을 측정하였다.Adhesion measurement was tested in accordance with Clause 8 of Korean Industrial Standard KS-A-01107 (Test Method of Adhesive Tape and Adhesive Sheet). A sample having a width of 25 mm and a length of 250 mm was attached to the die bonding adhesive layer, and then an adhesive tape was attached to the die bonding adhesive layer, and then reciprocated once at a speed of 300 mm / min using a 2 kg load roller for compression. After 30 minutes after crimping, turn the folded part of the test piece to 180 ° and peel off about 25mm. Then, in 10N Load Cell, fix the test piece to the upper clip of tensile strength device and fix the die-bonding adhesive layer to the lower test clip of 300mm / min. The load when peeled off at the tensile speed was measured.

인장 시험기는 "Instron Series 1X/s Automated materials Tester-3343"을 사용하였으며, 자외선 조사는 70mW/㎠의 조도를 가진 고압수은등에서 3초간 조사하여 노광량 200mJ/㎠로 조사하였으며, 샘플은 자외선 조사 전후로 각각 10개씩 측정하여 평균값을 측정하였다. Tensile tester used "Instron Series 1X / s Automated materials Tester-3343", UV irradiation was carried out for 3 seconds in a high-pressure mercury lamp of 70mW / ㎠ illuminance at 200mJ / ㎠, each sample before and after UV irradiation The average value was measured by measuring each 10 pieces.

시험예 2 : 점착층의 점착성(tackiness) 측정Test Example 2: Measurement of the tackiness of the adhesive layer

상기에 실시예 및 비교예에 의해 제조된 다이싱 다이본딩 필름 중 점착층만을 자외선경화 전/후로 "probe tack tester(Chemilab Tack Tester)"를 이용하여 측정하였다. 이 방법은 ASTM D2979-71에 의거하여 깨끗한 Probe 끝을 10+0.1mm/sec의 속도와 9.79+1.01kPa의 접촉 하중으로 1.0+0.01sec 동안 점착제 표면에 접촉시킨 다음 떼었을 때 필요한 최대 힘을 측정한 결과의 평균값을 표시하였다.Only the adhesive layer of the dicing die-bonding film prepared by the above Examples and Comparative Examples was measured using the "probe tack tester (Chemilab Tack Tester)" before / after UV curing. This method uses ASTM D2979-71 to determine the maximum force required when a clean probe tip is brought into contact with the adhesive surface for 1.0 + 0.01 sec at a rate of 10 + 0.1 mm / sec and a contact load of 9.79 + 1.01 kPa and then released. The average value of one result is shown.

이때 자외선 조사는 70mW/㎠의 조도를 가진 고압수은등에서 3초간 조사하여 노광량 200mJ/㎠로 조사하였으며, 샘플은 자외선 조사 전후로 각각 5개씩 측정하여 평균값을 측정하였다.At this time, the ultraviolet irradiation was irradiated with an exposure dose of 200mJ / ㎠ for 3 seconds in a high-pressure mercury lamp having an illuminance of 70mW / ㎠, each sample was measured before and after the ultraviolet irradiation each measured 5 average values.

시험예 3 : 점착층의 기재필름 부착력 측정Test Example 3: Measurement of the base film adhesion of the adhesive layer

상기에 실시예 및 비교예에 의해 제조된 다이싱 다이본딩 필름 중에 점착층을 크로스 커트(cross cut) 시험하되, 도막을 예리한 칼로 수평, 수직 1㎜ 간격으로 11개씩의 선을 그어 총 100개의 바둑판을 만들고, 작성 된 바둑판에 접착테이프를 붙이고 순간적으로 잡아당겨 부착력을 측정한 결과를 나타내었다. In the dicing die-bonding film prepared in Examples and Comparative Examples above, the adhesive layer was cross cut tested, and 11 lines were drawn at intervals of 1 mm horizontally and vertically with a sharp knife to coat the coating board in total. After making the adhesive board, the adhesive tape was attached and pulled out instantaneously to measure the adhesive force.

여기서, 100/100은 상기 100개의 바둑판이 모두 양호하게 부착되어 있다는 시험 결과를 나타낸다.Here, 100/100 indicates a test result that all the 100 check boards are attached well.

시험예 4 : 다이싱 다이본딩 필름 픽업(pick-up) 성공률 측정Test Example 4: Measurement of success rate of dicing die-bonding film pick-up

상기에 실시예 1 내지 실시예 3 및 비교예 1에 의해 제조된 다이싱 다이본딩 필름(160)에 두께 50㎛의 실리콘 웨이퍼를 60℃, 10초간 열 압착 시킨 후 DFD-650(DISCO사)을 이용하여 크기 16mm x 9mm의 크기로 다이싱하였다. After the silicon wafer having a thickness of 50 μm was thermally compressed at 60 ° C. for 10 seconds to the dicing die bonding film 160 prepared according to Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, DFD-650 (DISCO) was used. Dicing was carried out to the size of 16mm x 9mm.

그 후 필름을 70mW/㎠의 조도를 가진 고압수은등에서 3초간 조사하여 노광량 200mJ/㎠로 조사하였다. 조사가 완료된 후 실리콘 웨이퍼 중앙부의 칩 200개에 대하여 다이본더 장치(SDB-10M, 메카트로닉스사)를 이용하여 픽업 시험을 실시하고 그 성공률(%)을 측정한 결과를 하기 [표 3]에 나타내었다.Thereafter, the film was irradiated with a high-pressure mercury lamp having an illuminance of 70 mW / cm 2 for 3 seconds to irradiate with an exposure dose of 200 mJ / cm 2. After the irradiation was completed, the pick-up test was carried out using a die bonder (SDB-10M, Mechatronics) for 200 chips in the center of the silicon wafer, and the success rate (%) was measured. .

[표 3] 다이싱 다이본딩 필름 물성평가 결과[Table 3] Results of Dicing Die Bonding Film Properties

Figure 112008085478688-PAT00007
Figure 112008085478688-PAT00007

상기 [표 2] 및 [표 3]에서 보는 바와 같이, 실시예 1, 실시예 2 및 실시예 3과 같이 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A)에 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트(B)를 사용한 점착층용 광경화성 조성물을 사용한 다이싱 다이본딩 필름은 50㎛ 웨이퍼 16mm x 9mm 칩 크기에서도 100% 픽업 성공률을 달성하였다.As shown in [Table 2] and [Table 3], UV-curable acrylic containing a hydroxyl group and a vinyl group in the acrylic adhesive binder (A) containing a vinyl group as in Examples 1, 2 and 3 The dicing die-bonding film using the photocurable composition for pressure-sensitive adhesive layers using rate (B) achieved 100% pick-up success rate even with a 50 μm wafer 16 mm × 9 mm chip size.

반면에, 비교예 1은 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴 레이트(B)를 포함하지 않았고, 비교예 2는 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트(B)를 포함하였지만 그 함량이 바인더 대비 60 중량부를 투입하여, 필름 형성이 제대로 되지 않아 기재 부착력도 나오지 않았다. 비교예 3 및 비교예4는 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트(B)가 아니고, 하이드록실기가 없는 UV 경화형 아크릴레이트를 사용하였기 때문에, 전이에 의한 UV 경화후 접착층-점착층 박리력도 증가하고, 100% 픽업 성공률을 달성하지 못하였다.On the other hand, Comparative Example 1 did not include a UV curable acrylate (B) containing a hydroxyl group and a vinyl group, Comparative Example 2 included a UV curable acrylate (B) including a hydroxyl group and a vinyl group, but The content was added 60 parts by weight relative to the binder, the film was not formed properly, the substrate adhesion did not come out. Comparative Example 3 and Comparative Example 4 is not a UV-curable acrylate (B) containing a hydroxyl group and a vinyl group, but a UV-curable acrylate without a hydroxyl group is used, so that the adhesive layer-adhesive layer after UV curing by transition Peel force also increased and did not achieve 100% pickup success rate.

이상에서는 본 발명의 일 실시예를 중심으로 설명하였지만, 당업자의 수준에서 다양한 변경이나 변형을 가할 수 있다. 이러한 변경과 변형이 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명에 속한다고 할 수 있다. 따라서, 본 발명의 권리범위는 이하에 기재되는 청구범위에 의해 판단되어야 할 것이다.Although the above has been described with reference to one embodiment of the present invention, various changes and modifications can be made at the level of those skilled in the art. Such changes and modifications may belong to the present invention without departing from the scope of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should be judged by the claims described below.

도 1a 내지 도 1e는 본 발명의 일 실시예에 의한 다이싱 다이본딩 필름 및 이를 이용한 웨이퍼 칩 픽업 공정을 도시한 단면개략도들.1A to 1E are cross-sectional schematic diagrams illustrating a dicing die-bonding film and a wafer chip pick-up process using the same according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100 : 기재 필름 120 : 점착층100: base film 120: adhesive layer

125 : 점착 패턴 130 : 접착층125: adhesive pattern 130: adhesive layer

135 : 접착 패턴 140 : 이형필름135: adhesive pattern 140: release film

150 : 웨이퍼 200 : 지지부재150 wafer 200 support member

Claims (10)

비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 100 중량부 대비, 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트 3 내지 50 중량부, 열경화제 0.5 내지 5 중량부 및 광중합 개시제 0.1 내지 3 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.Compared to 100 parts by weight of the acrylic adhesive binder including a vinyl group, 3 to 50 parts by weight of a UV-curable acrylate including a hydroxyl group and a vinyl group, 0.5 to 5 parts by weight of a thermosetting agent and 0.1 to 3 parts by weight of a photopolymerization initiator Photocurable adhesive composition. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더는 아크릴 모노머, 하이드록시 모노머 및 에폭시 모노머를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.Acrylic adhesive binder containing the vinyl group is a photocurable pressure-sensitive adhesive composition comprising an acrylic monomer, a hydroxy monomer and an epoxy monomer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더는 수산기가가 15 ~ 30, 산가가 1이하인 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.The acrylic adhesive binder including the vinyl group is a photocurable adhesive composition comprising a hydroxyl value of 15 to 30, an acid value of 1 or less. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더의 중량평균 분자량은 150,000 내지 400,000이고, 유리 전이 온도는 -80 ∼ -40℃인 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.The weight average molecular weight of the acrylic adhesive binder containing the said vinyl group is 150,000-400,000, and glass transition temperature is -80-40 degreeC, The photocurable adhesive composition characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트는 상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 100중량부에 대하여 5 내지 20 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.UV-curable acrylate comprising the hydroxyl group and the vinyl group is a photocurable pressure-sensitive adhesive composition comprising 5 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic adhesive binder containing the vinyl group. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 하이드록실기 및 비닐기를 포함하는 UV 경화형 아크릴레이트는 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, Hydroxypropyl Acrylate, Hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, N-(hydroxymethyl) acrylate, N-(hydroxymethyl) methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, Glycerin dimethacrylate, Glycerin diacrylate, 2-hydroxy 3-acryloxy propyl methacrylate, 2-hydroxy 3-methacryloxy propyl acrylate, Pentaerythritol triacrylate, Pentaerythritol trimethacrylate, N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide 및 N-(4-hydroxyphenyl)acrylamide 로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.UV-curable acrylates containing the hydroxyl and vinyl groups are 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, Hydroxypropyl Acrylate, Hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, N- (hydroxymethyl) acrylate, N- (hydroxymethyl) methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxyl propyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, Glycerin dimethacrylate, Glycerin diacrylate, 2-hydroxy 3-acryloxy propyl methacrylate, 2-hydroxy 3-methacryloxy propyl acrylate, Pentaerythritol triacrylate, Pentaerythritol trimethacrylate, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide Photocurable pressure-sensitive adhesive composition comprising one or more selected from the group consisting of. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 열경화제는 2,4-트릴렌 디이소시아네이트, 2,6-트리렌 디이소시아네이트, 수소화 트릴렌 디이소시아네이트, 1,3-크실렌 디이소시아네이트, 1,4-크실렌 디이소시아네이트, 디페닐 메탄-4,4-디이소시아네이트, 1,3-비스이소시아나토메칠 시클로헥산, 테트라 메틸 크실렌 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메티롤프로판의 트릴렌 디이소시아네이트 어덕트, 트리메티롤프로판의 크실렌 디이소시아네이트 어덕트, 토리페닐메탄토리이소시아네토 및 메틸렌 비스트리 이소시아네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.The thermosetting agent is 2,4-triylene diisocyanate, 2,6-triene diisocyanate, hydrogenated triylene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, diphenyl methane-4, 4-diisocyanate, 1,3-bisisocyanatomethyl cyclohexane, tetra methyl xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 2,2,4-trimethyl hexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethyl hexa Methylene diisocyanate, triylene diisocyanate adduct of trimetholpropane, xylene diisocyanate adduct of trimetholpropane, toriphenylmethane toisocyanato and methylene bistriisocyanate Photocurable adhesive composition, characterized in that. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광중합 개시제는 벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논 및 4,4'디클로로벤조페논을 포함하는 벤조페논류;The photopolymerization initiator may be a benzophenone including benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, and 4,4'dichlorobenzophenone; 아세토페논 및 디에톡시아세토페논을 포함하는 아세톤페논류; 및Acetone phenones containing acetophenone and diethoxy acetophenone; And 2-에틸안트라퀴논 및 t-부틸안트라퀴논를 포함하는 안트라퀴논류로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.Photocurable pressure-sensitive adhesive composition comprising at least one member selected from the group consisting of anthraquinones containing 2-ethylanthraquinone and t-butylanthraquinone. 기재 필름; 및Base film; And 상기 기재 필름 상부에 형성되며, 청구항 제 1 항에 기재된 광경화성 점착 조성물로 형성되는 첨착층을 포함하는 것을 특징으로 하는 다이싱 필름.A dicing film formed on the base film and including an adhesion layer formed of the photocurable pressure-sensitive adhesive composition of claim 1. 기재 필름;Base film; 상기 기재 필름 상부에 형성되며, 청구항 제 1 항에 기재된 광경화성 점착 조성물로 형성되는 첨착층; 및An adhesion layer formed on the base film and formed of the photocurable pressure-sensitive adhesive composition of claim 1; And 상기 점착층 상부에 형성되는 접착층을 포함하는 것을 특징으로 하는 다이싱 다이 본딩 필름.Dicing die bonding film comprising an adhesive layer formed on the adhesive layer.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114015388A (en) * 2021-12-20 2022-02-08 苏州赛伍应用技术股份有限公司 Hydroxyl-containing viscose reducing agent composition and preparation method and application thereof
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