KR20100060513A - Equipment for manufacturing display having pressure leak monitoring unit - Google Patents

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KR20100060513A
KR20100060513A KR1020080119134A KR20080119134A KR20100060513A KR 20100060513 A KR20100060513 A KR 20100060513A KR 1020080119134 A KR1020080119134 A KR 1020080119134A KR 20080119134 A KR20080119134 A KR 20080119134A KR 20100060513 A KR20100060513 A KR 20100060513A
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박한뫼
강희영
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세메스 주식회사
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Abstract

PURPOSE: Equipment for manufacturing a display having pressure leak monitoring unit is provided to generate an alarm by monitoring a pressure leakage due to a slit valve connection a process chamber and a transfer chamber in real time. CONSTITUTION: A processing chamber(100) comprises slits which are communicated with the outside while processing the substrate. A plurality of transfer chambers(300) are arranged around the processing chamber to be communicated with the slits of the processing chamber. The slit valve is arranged around the slit and opens/closes the slit by receiving an electrical signal from outside. A monitoring unit monitors the pressure leakage between the slit valve and the slit.

Description

압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치{Equipment For Manufacturing Display Having Pressure Leak Monitoring Unit}Equipment For Manufacturing Display Having Pressure Leak Monitoring Unit

본 발명은 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치에 관한 것으로서, 공정 챔버와 이송 챔버를 잇는 슬릿에서의 슬릿 밸브로 인한 압력 리크를 감지할 수 있는 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit, and more particularly, to a display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit capable of detecting a pressure leak due to a slit valve in a slit connecting a process chamber and a transfer chamber.

일반적으로, 화학 기상 증착 또는 건식 식각 설비는 기판 상에 증착 또는 식각을 진행하는 공정 챔버의 내부 압력 및 외부 압력의 상호 관계를 적절히 유지해서 공정 챔버 내 반도체 기판 상에 식각 공정을 수행한다. 여기서, 상기 외부 압력은 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치를 둘러싸는 대기압(Atmosphere)으로부터 온다.In general, chemical vapor deposition or dry etching facilities perform an etching process on a semiconductor substrate in a process chamber by properly maintaining a correlation between an internal pressure and an external pressure of a process chamber which deposits or etches on the substrate. Here, the external pressure comes from atmospheric pressure surrounding the display manufacturing apparatus with the pressure leak monitoring unit.

그리고, 상기 내부 압력은 반도체 또는 엘씨디 식각 장비 내 공정 챔버 주변에 인위적으로 조절된 진공(Vacuum)으로부터 온다.The internal pressure then comes from a vacuum that is artificially controlled around the process chamber in the semiconductor or LCD etching equipment.

이를 위해서, 상기 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치는 내부 압력을 유지하기 위해서 공정 챔버 주변에 로드 락 챔버 및 트랜스퍼 챔버 를 갖는다. 상기 트랜스퍼 챔버 및 로드 락 챔버는 식각 공정 동안 공정 챔버를 보호해주기 위해서 내부 압력으로 유지된다.To this end, the display manufacturing apparatus having the pressure leak monitoring unit has a load lock chamber and a transfer chamber around the process chamber to maintain the internal pressure. The transfer chamber and the load lock chamber are maintained at internal pressure to protect the process chamber during the etching process.

그러나, 상기 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치는 증착 또는 식각 공정 중 또는 후에 내부 압력을 외부 압력과 동일하게 형성하여야 한다.However, the display manufacturing apparatus having the pressure leak monitoring unit should form the internal pressure equal to the external pressure during or after the deposition or etching process.

왜냐 하면, 상기 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치는 증착 또는 식각 공정 후 공정 챔버로부터 기판을 언로딩하여 기판을 대기압에 노출시켜야 하기 때문이다.This is because a display manufacturing apparatus having the pressure leak monitoring unit must unload the substrate from the process chamber after the deposition or etching process to expose the substrate to atmospheric pressure.

이는 후속의 디스플레이 제조 공정을 진행하기 위함이다.This is to proceed with the subsequent display manufacturing process.

종래의 화학 기상 증착 설비 또는 건식 식각 설비와 같은 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치는 기판을 이송하는 이송 챔버와, 상기 이송 챔버와 연통되며 다수개의 기판이 대기되는 대기 챔버와, 상기 이송 챔버를 에워싸고 상기 이송 챔버와 연통되는 다수개의 공정 챔버들을 갖는다.A display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit, such as a conventional chemical vapor deposition apparatus or a dry etching apparatus, includes a transfer chamber for transferring a substrate, an atmospheric chamber in communication with the transfer chamber, and waiting for a plurality of substrates, and the transfer chamber. It has a plurality of process chambers enclosed and in communication with the transfer chamber.

그리고, 상기 공정 챔버들과 이송 챔버의 사이에는 슬릿이 형성되는데, 상기 슬릿에는 슬릿 밸브가 배치된다. 상기 슬릿 밸브는 상기 슬릿을 개방 또는 폐쇄함으로써 기판의 이송 경로를 개폐하는 역할을 한다.A slit is formed between the process chambers and the transfer chamber, and a slit valve is disposed in the slit. The slit valve serves to open and close the transfer path of the substrate by opening or closing the slit.

여기서, 종래의 슬릿 밸브가 폐쇄되는 경우에, 공정 챔버의 압력은 이송 챔버의 압력보다 일정 값 낮아지게 형성된다.Here, in the case where the conventional slit valve is closed, the pressure of the process chamber is formed to be lower than the pressure of the transfer chamber.

따라서, 폐쇄되는 슬릿 밸브는 공정 챔버 측으로 당겨지게 되고, 이로 인하여 슬릿 밸브는 공정 챔버의 슬릿 주변에 밀착된다.Thus, the closed slit valve is pulled toward the process chamber, whereby the slit valve is in close contact with the slit around the process chamber.

이에 따라, 종래에는 폐쇄되는 슬릿 밸브로 인한 슬릿에서의 압력 리크를 확인 할 수 없는 문제점이 있다.Accordingly, there is a problem in that the pressure leak in the slit due to the slit valve that is conventionally closed cannot be confirmed.

이에 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 본 발명의 목적은 공정 챔버와 이송 챔버를 잇는 슬릿에서의 슬릿 밸브로 인한 압력 리크를 감지할 수 있는 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit capable of detecting a pressure leak due to a slit valve in a slit connecting a process chamber and a transfer chamber.

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치는, 기판에 대하여 일련의 공정을 진행하며 외부와 연통되는 슬릿들이 형성되는 공정 챔버와, 상기 공정 챔버의 슬릿들과 연통되도록 상기 공정 챔버의 주변에 배치되는 다수개의 이송 챔버와, 상기 슬릿의 주변에 배치되며, 외부로부터 전기적 신호를 전송 받아 상기 슬릿을 개폐하는 슬릿 밸브 및 상기 슬릿 밸브와 상기 슬릿 사이에서의 압력 리크를 모니터링 하는 압력 리크 모니터링 유니트를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit, including: a process chamber in which a series of processes are performed on a substrate and slits communicating with the outside are formed; A plurality of transfer chambers disposed in the periphery of the process chamber so as to communicate with the slits, a slit valve disposed around the slit and receiving and receiving electrical signals from the outside, and between the slit valve and the slit valve. Includes a pressure leak monitoring unit for monitoring pressure leaks.

여기서, 상기 압력 리크 모니터링 유니트는 상기 공정 챔버와 연결되며 상기 공정 챔버의 내부로 소정의 가스를 공급하는 가스 공급부와, 상기 공정 챔버의 내부에 설치되어 상기 공정 챔버 내부 제 1압력값을 측정하는 제 1압력 센서와, 상기 이송 챔버의 내부에 설치되어 상기 이송 챔버의 내부 제 2압력값을 측정하는 제 2 압력 센서와, 상기 제 1,2압력 센서 및 상기 가스 공급부와 연결되며 상기 제 1압력값이 상기 제 2압력값 보다 일정 값으로 높게 형성되도록 상기 가스 공급부를 작동시키고, 상기 제 1압력 센서로부터 측정되는 제 1압력값을 전송 받아 상기 제 1압력값의 변화값을 실시간으로 체크하여 압력 리크를 모니터링 하는 제어부를 포함한다.Here, the pressure leak monitoring unit is connected to the process chamber and the gas supply unit for supplying a predetermined gas into the process chamber, and the inside of the process chamber is installed to measure the first pressure value in the process chamber A first pressure sensor, a second pressure sensor installed inside the transfer chamber to measure an internal second pressure value of the transfer chamber, and connected to the first and second pressure sensors and the gas supply unit, and the first pressure value The gas supply unit is operated to be formed at a predetermined value higher than the second pressure value, receives a first pressure value measured from the first pressure sensor, checks a change value of the first pressure value in real time, and opens the pressure leak. It includes a control unit for monitoring.

여기서, 상기 제어부에는 상기 제 1압력값의 기준 변화값이 기설정되고, 상기 제어부는 표시부와 알람 발생부와 전기적으로 연결되되, 상기 표시부는 상기 제어부로부터 전기적 신호를 전송 받아 상기 체크되는 제 1압력값의 변화값 및 상기 기준 변화값을 표시하고, 상기 알람 발생부는 상기 체크되는 제 1압력값의 변화값이 상기 기설정된 기준 변화값을 벗어 나는 경우에, 상기 제어부로부터 전기적 신호를 전송 받아 알람을 발생시키는 것이 바람직하다.Here, the reference change value of the first pressure value is preset in the control unit, the control unit is electrically connected to the display unit and the alarm generating unit, the display unit receives the electrical signal from the control unit the first pressure checked A change value of the value and the reference change value, and the alarm generation unit generates an alarm by receiving an electrical signal from the controller when the change value of the checked first pressure value is out of the preset reference change value. It is preferable to generate.

또한, 상기 압력 리크 모니터링 유니트는 상기 공정 챔버와 연결되며 상기 공정 챔버의 내부로 소정의 가스를 공급하는 가스 공급부와, 상기 공정 챔버의 내부에 설치되어 상기 공정 챔버 내부 제 1압력값을 측정하는 제 1압력 센서와, 상기 이송 챔버의 내부에 설치되어 상기 이송 챔버의 내부 제 2압력값을 측정하는 제 2압력 센서와, 상기 제 1,2압력 센서 및 상기 가스 공급부와 연결되며 상기 제 1압력값이 상기 제 2압력값 보다 일정 값으로 높게 형성되도록 상기 가스 공급부를 작동시키고, 상기 제 2압력 센서로부터 측정되는 제 2압력값을 전송 받아 상기 제 2압력값의 변화값을 실시간으로 체크하여 압력 리크를 모니터링 하는 제어부를 포함할 수 있다.In addition, the pressure leak monitoring unit is connected to the process chamber and the gas supply unit for supplying a predetermined gas into the process chamber, and the inside of the process chamber is installed to measure the first pressure value inside the process chamber; A first pressure sensor, a second pressure sensor installed inside the transfer chamber to measure an internal second pressure value of the transfer chamber, and connected to the first and second pressure sensors and the gas supply unit, and the first pressure value The gas supply unit is operated to be formed at a predetermined value higher than the second pressure value, the second pressure value measured by the second pressure sensor is received, and the change value of the second pressure value is checked in real time to provide a pressure leak. It may include a control unit for monitoring.

여기서, 상기 제어부에는 상기 제 2압력값의 기준 변화값이 기설정되고, 상기 제어부는 표시부와 알람 발생부와 전기적으로 연결되되, 상기 표시부는 상기 제어부로부터 전기적 신호를 전송 받아 상기 체크되는 제 2압력값의 변화값 및 상기 기준 변화값을 표시하고, 상기 알람 발생부는 상기 체크되는 제 2압력값의 변화값이 상기 기설정된 기준 변화값을 벗어 나는 경우에, 상기 제어부로부터 전기적 신호를 전송 받아 알람을 발생시키는 것이 바람직하다.Here, the reference change value of the second pressure value is preset in the control unit, and the control unit is electrically connected to the display unit and the alarm generating unit, wherein the display unit receives the electrical signal from the control unit and checks the second pressure A change value of the value and the reference change value, and the alarm generation unit generates an alarm by receiving an electrical signal from the controller when the change value of the checked second pressure value is out of the preset reference change value. It is preferable to generate.

본 발명에 따르는 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치에 의하면, 공정 챔버와 이송 챔버를 잇는 슬릿에서의 슬릿 밸브로 인한 압력 리크를 실시간으로 모니터링하여 외부로 표시하고, 리크가 발생되는 경우에 외부에 알람을 발생시킬 수 있는 것이다.According to the display manufacturing apparatus having the pressure leak monitoring unit according to the present invention, the pressure leak caused by the slit valve in the slit connecting the process chamber and the transfer chamber is monitored and displayed in real time in real time, It can trigger an alarm.

실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Details of the embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but can be implemented in various different forms, and only the embodiments make the disclosure of the present invention complete, and the general knowledge in the art to which the present invention belongs. It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, which is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

이하, 첨부되는 도면들을 참조로 하여, 본 발명의 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치를 설명하도록 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, it will be described a display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit of the present invention.

도 1은 본 발명의 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치를 개략적으로 보여주는 도면이고, 도 2는 본 발명의 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치에서의 압력 리크가 모니터링되는 것을 보여주는 도면이며, 도 3은 본 발명에 따르는 압력 리크 모니터링 유니트를 보여주는 블록도이다.FIG. 1 is a view schematically showing a display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit of the present invention, and FIG. 2 is a view showing pressure leak monitoring at a display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit of the present invention. 3 is a block diagram showing a pressure leak monitoring unit according to the present invention.

도 1에 있어서, 본 발명의 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치는 기판(50)에 대하여 일련의 공정을 진행하며 외부와 연통되는 슬릿들(110)이 형성되는 공정 챔버(100, PC1 내지 PC7)와, 상기 공정 챔버(100)의 슬릿들(110)과 연통되도록 상기 공정 챔버(100)의 주변에 배치되는 다수개의 이송 챔버(300, TC)와, 상기 이송 챔버(300)와 연결되며 이송 챔버(300)로 공급되는 기판들(50)이 대기되는 대기 챔버(200, LC)와, 상기 이송 챔버(300)의 내부에 설치되며 상기 대기 챔버(200)로부터 기판(500)을 로딩하여 공정 챔버들(100)로 공급하는 이송 로봇(310)과, 상기 슬릿(110)의 주변에 배치되며, 외부로부터 전기적 신호를 전송 받아 상기 슬릿(310)을 개폐하는 슬릿 밸브(120) 및 상기 슬릿 밸브(120)와 상기 슬릿(110) 사이에서의 압력 리크(pressure leak)를 모니터링하는 압력 리크 모니터링 유니트(400)를 갖는다.In FIG. 1, the display manufacturing apparatus having the pressure leak monitoring unit of the present invention performs a series of processes on the substrate 50 and includes process chambers 100 and PC1 to PC7 in which slits 110 are formed to communicate with the outside. ), A plurality of transfer chambers 300 and TC disposed around the process chamber 100 to communicate with the slits 110 of the process chamber 100, and are connected to and transferred to the transfer chamber 300. The standby chambers 200 and LC are waiting for the substrates 50 to be supplied to the chamber 300, and the substrates 500 are loaded in the transfer chamber 300 and loaded with the substrate 500 from the standby chamber 200. Transfer robot 310 to supply to the chambers 100, the slit 110 is disposed around the slit 110, the slit valve 120 and the slit valve opening and closing the slit 310 by receiving an electrical signal from the outside To monitor the pressure leak between the 120 and the slit 110 Force has a leak monitoring unit 400.

상기 압력 리크 모니터링 유니트(400)는 상기 공정 챔버(100)와 연결되며 상기 공정 챔버(100)의 내부로 소정의 가스를 공급하는 가스 공급부(430)와, 상기 공정 챔버(100)의 내부에 설치되어 상기 공정 챔버(100) 내부 제 1압력값을 측정하는 제 1압력 센서(410)와, 상기 이송 챔버(300)의 내부에 설치되어 상기 이송 챔버(300)의 내부 제 2압력값을 측정하는 제 2압력 센서(420)와, 상기 제 1,2압력 센서(410, 420) 및 상기 가스 공급부(430)와 연결되며 상기 제 1압력값이 상기 제 2압력값 보다 일정 값으로 높게 형성되도록 상기 가스 공급부(430)를 작동시키고, 상기 제 1압력 센서(410)로부터 측정되는 제 1압력값을 전송 받아 상기 제 1압력값의 변화값을 실시간으로 체크하여 압력 리크를 모니터링 하는 제어부(440)로 구성된다.The pressure leak monitoring unit 400 is connected to the process chamber 100 and installed in the process chamber 100 and a gas supply unit 430 for supplying a predetermined gas into the process chamber 100. And a first pressure sensor 410 for measuring a first pressure value in the process chamber 100, and installed in the transfer chamber 300 to measure an internal second pressure value of the transfer chamber 300. The second pressure sensor 420 is connected to the first and second pressure sensors 410 and 420 and the gas supply unit 430 so that the first pressure value is higher than the second pressure value by a predetermined value. The control unit 440 operates the gas supply unit 430, receives the first pressure value measured from the first pressure sensor 410, and checks the change value of the first pressure value in real time to monitor the pressure leak. It is composed.

여기서, 상기 제어부(440)에는 상기 제 1압력값의 기준 변화값이 기설정된다.Here, the reference change value of the first pressure value is preset in the controller 440.

상기 제어부(440)는 표시부(450)와 알람 발생부(460)와 전기적으로 연결된다.The controller 440 is electrically connected to the display 450 and the alarm generator 460.

상기 표시부(450)는 상기 제어부(440)로부터 전기적 신호를 전송 받아 상기 체크되는 제 1압력값의 변화값 및 상기 기준 변화값을 표시한다.The display unit 450 receives the electrical signal from the controller 440 and displays the change value of the checked first pressure value and the reference change value.

상기 알람 발생부(460)는 상기 체크되는 제 1압력값의 변화값이 상기 기설정된 기준 변화값을 벗어 나는 경우에, 상기 제어부(440)로부터 전기적 신호를 전송 받아 알람을 발생시킨다.When the change value of the checked first pressure value is out of the preset reference change value, the alarm generation unit 460 receives an electrical signal from the control unit 440 to generate an alarm.

도 2에서 미설명 부호 '130'은 슬릿(110)과 슬릿 밸브(120)의 사이를 기밀하는 오링(O-ring)과 같은 기밀 부재이다.In FIG. 2, reference numeral 130 denotes an airtight member such as an O-ring that seals between the slit 110 and the slit valve 120.

다음은, 상기와 같이 구성되는 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치의 작동을 설명하도록 한다.Next, the operation of the display manufacturing apparatus having the pressure leak monitoring unit configured as described above will be described.

도 1 내지 도 3에 있어서, 기판에 대한 일련의 공정 진행시에 공정 챔버들(100) 중 어느 하나와 이송 챔버(300)의 내부에는 일정의 압력이 형성될 수 있다.1 to 3, a predetermined pressure may be formed inside any one of the process chambers 100 and the transfer chamber 300 during a series of process processes on the substrate.

예컨대, 저압 화학 기상 증착의 공정에서의 공정 챔버(100) 내부 압력은 이송 챔버(300)의 내부 압력 보다 일정 압력 낮게 형성될 수 있다.For example, the pressure inside the process chamber 100 in the process of low pressure chemical vapor deposition may be formed at a predetermined pressure lower than the internal pressure of the transfer chamber 300.

이때, 슬릿(110)을 폐쇄하고 있는 슬릿 밸브(120)는 이송 챔버(300) 측에서 공정 챔버(100) 측을 향하여 일정의 가압력이 형성되고, 이로 인하여 상기 슬릿 밸브(120)는 슬릿(110)의 주변 영역에 밀착된다.At this time, the slit valve 120 closing the slit 110 is a predetermined pressing force is formed toward the process chamber 100 side from the transfer chamber 300 side, thereby the slit valve 120 is the slit 110 In close proximity to the periphery.

이와 같은 상태에서, 본 발명의 압력 리크 모니터링 유니트(400)는 상기 슬릿(110)과 슬릿 밸브(120) 사이에서의 압력 리크를 모니터링 할 수 있다.In such a state, the pressure leak monitoring unit 400 of the present invention may monitor the pressure leak between the slit 110 and the slit valve 120.

먼저, 제어부(440)는 공정 챔버(100)의 제 1압력값을 제 1압력 센서(410)에 의해, 이송 챔버(300)의 제 2압력값을 제 2압력 센서(420)에 의해 실시간 전송 받는다.First, the controller 440 transmits the first pressure value of the process chamber 100 by the first pressure sensor 410 and the second pressure value of the transfer chamber 300 by the second pressure sensor 420 in real time. Receive.

따라서, 상기 제어부(440)는 가스 공급부(430)를 작동시키어 공정 챔버(100)의 내부의 제 1압력값이 이송 챔버(300)의 내부 제 2압력값보다 일정값으로 높게 형성되도록 소정의 가스를 공급한다. 상기 가스는 공정에 필요한 공정 가스이다.Accordingly, the control unit 440 operates the gas supply unit 430 so that the first pressure value inside the process chamber 100 is higher than the second pressure value inside the transfer chamber 300 to a predetermined value. To supply. The gas is a process gas required for the process.

이어, 제어부(440)는 상기 제 1압력 센서(410)로부터 측정되는 제 1압력값을 전송 받아 상기 제 1압력값의 변화값을 실시간으로 체크하여 슬릿(110)과 슬릿 밸브(120)의 사이에서 발생될 수 있는 압력 리크를 모니터링할 수 있다.Subsequently, the control unit 440 receives the first pressure value measured from the first pressure sensor 410 and checks the change value of the first pressure value in real time to between the slit 110 and the slit valve 120. Pressure leaks can be monitored at

여기서, 상기 제어부(440)에는 상기 제 1압력값의 기준 변화값이 기설정된 다.Here, the reference change value of the first pressure value is preset in the controller 440.

상기 표시부(450)는 상기 제어부(440)로부터 전기적 신호를 전송 받아 상기 체크되는 제 1압력값의 변화값 및 상기 기준 변화값을 표시한다.The display unit 450 receives the electrical signal from the controller 440 and displays the change value of the checked first pressure value and the reference change value.

상기 알람 발생부(460)는 상기 체크되는 제 1압력값의 변화값이 상기 기설정된 기준 변화값을 벗어 나는 경우에, 상기 제어부(440)로부터 전기적 신호를 전송 받아 알람을 발생시킬 수 있다.When the change value of the checked first pressure value is out of the preset reference change value, the alarm generator 460 may receive an electrical signal from the controller 440 to generate an alarm.

한편, 본 발명에 따르는 압력 리크 모니터링 유니트(400)는 상기 공정 챔버(100)와 연결되며 상기 공정 챔버(100)의 내부로 소정의 가스를 공급하는 가스 공급부(430)와, 상기 공정 챔버(100)의 내부에 설치되어 상기 공정 챔버(100) 내부 제 1압력값을 측정하는 제 1압력 센서(410)와, 상기 이송 챔버(300)의 내부에 설치되어 상기 이송 챔버(300)의 내부 제 2압력값을 측정하는 제 2압력 센서(420)와, 상기 제 1,2압력 센서(410, 420) 및 상기 가스 공급부(430)와 연결되며 상기 제 1압력값이 상기 제 2압력값 보다 일정 값으로 높게 형성되도록 상기 가스 공급부(430)를 작동시키고, 상기 제 2압력 센서(420)로부터 측정되는 제 2압력값을 전송 받아 상기 제 2압력값의 변화값을 실시간으로 체크하여 압력 리크를 모니터링 하는 제어부(440)로 구성될 수 있다.On the other hand, the pressure leak monitoring unit 400 according to the present invention is connected to the process chamber 100 and the gas supply unit 430 for supplying a predetermined gas into the process chamber 100, the process chamber 100 The first pressure sensor 410 is installed inside the process chamber 100 to measure the first pressure value in the process chamber 100, and the second inside of the transfer chamber 300 is installed inside the transfer chamber 300 A second pressure sensor 420 for measuring a pressure value, and the first and second pressure sensors 410 and 420 and the gas supply unit 430, the first pressure value is a constant value than the second pressure value Operating the gas supply unit 430 so as to be formed as high, and receives the second pressure value measured from the second pressure sensor 420 to monitor the pressure leak by checking the change value of the second pressure value in real time The controller 440 may be configured.

여기서, 상기 제어부(440)에는 상기 제 2압력값의 기준 변화값이 기설정되고, 상기 제어부(440)는 표시부(450)와 알람 발생부(460)와 전기적으로 연결되되, 상기 표시부(450)는 상기 제어부(440)로부터 전기적 신호를 전송 받아 상기 체크되는 제 2압력값의 변화값 및 상기 기준 변화값을 표시하고, 상기 알람 발생부(460) 는 상기 체크되는 제 2압력값의 변화값이 상기 기설정된 기준 변화값을 벗어 나는 경우에, 상기 제어부(440)로부터 전기적 신호를 전송 받아 알람을 발생시킬 수 있다.Here, the reference change value of the second pressure value is preset in the control unit 440, and the control unit 440 is electrically connected to the display unit 450 and the alarm generator 460, and the display unit 450 Receives an electrical signal from the control unit 440 to display the change value of the checked second pressure value and the reference change value, the alarm generator 460 is the change value of the checked second pressure value When the reference value is out of the reference change value, the control unit 440 may receive an electrical signal to generate an alarm.

이의 구성을 참조하면, 제어부(440)는 공정 챔버(100)의 제 1압력값을 제 1압력 센서(410)에 의해, 이송 챔버(300)의 제 2압력값을 제 2압력 센서(420)에 의해 실시간 전송 받는다.Referring to this configuration, the control unit 440 is the first pressure value of the process chamber 100 by the first pressure sensor 410, the second pressure value of the transfer chamber 300 to the second pressure sensor 420 Receive real time transmission by

그리고, 상기 제어부(440)는 가스 공급부(430)를 작동시키어 공정 챔버(100)의 내부의 제 1압력값이 이송 챔버(300)의 내부 제 2압력값보다 일정값으로 높게 형성되도록 가스를 공급한다.In addition, the control unit 440 operates the gas supply unit 430 to supply gas such that the first pressure value inside the process chamber 100 is formed to be higher than the second pressure value inside the transfer chamber 300 at a predetermined value. do.

이어, 제어부(440)는 상기 제 2압력 센서(420)로부터 측정되는 제 2압력값을 전송 받아 상기 제 2압력값의 변화값을 실시간으로 체크하여 슬릿(110)과 슬릿 밸브(120)의 사이에서 발생될 수 있는 압력 리크를 모니터링할 수 있다.Subsequently, the control unit 440 receives the second pressure value measured by the second pressure sensor 420 and checks the change value of the second pressure value in real time, between the slit 110 and the slit valve 120. Pressure leaks can be monitored at

여기서, 상기 제어부(440)에는 상기 제 2압력값의 기준 변화값이 기설정된다.Here, the reference change value of the second pressure value is preset in the controller 440.

상기 표시부(450)는 상기 제어부(440)로부터 전기적 신호를 전송 받아 상기 체크되는 제 2압력값의 변화값 및 상기 기준 변화값을 표시한다.The display unit 450 receives the electrical signal from the control unit 440 and displays the change value of the checked second pressure value and the reference change value.

상기 알람 발생부(460)는 상기 체크되는 제 2압력값의 변화값이 상기 기설정된 기준 변화값을 벗어 나는 경우에, 상기 제어부(440)로부터 전기적 신호를 전송 받아 알람을 발생시킬 수 있다.When the change value of the checked second pressure value is out of the preset reference change value, the alarm generator 460 may receive an electrical signal from the controller 440 to generate an alarm.

본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구의 범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구의 범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Those skilled in the art will appreciate that the present invention can be embodied in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is indicated by the scope of the following claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and the equivalent concept are included in the scope of the present invention. Should be interpreted.

도 1은 본 발명의 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치를 개략적으로 보여주는 도면.1 schematically shows a display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit of the present invention;

도 2는 본 발명의 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치에서의 압력 리크가 모니터링되는 것을 보여주는 도면.FIG. 2 shows that pressure leaks are monitored in a display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit of the present invention. FIG.

도 3은 본 발명에 따르는 압력 리크 모니터링 유니트를 보여주는 블록도.3 is a block diagram showing a pressure leak monitoring unit according to the invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호설명><Code Description of Main Parts of Drawing>

100 : 공정 챔버 110 : 슬릿100: process chamber 110: slit

120 : 슬릿 밸브 200 : 대기 챔버120: slit valve 200: waiting chamber

300 : 이송 챔버 310 : 이송 로봇300: transfer chamber 310: transfer robot

400 : 압력 리크 모니터링 유니트 410 : 제 1압력 센서400: pressure leak monitoring unit 410: first pressure sensor

420 : 제 2압력 센서 430 : 가스 공급부420: second pressure sensor 430: gas supply unit

440 : 제어부 450 : 표시부440 control unit 450 display unit

460 : 알람 발생부460: alarm generating unit

Claims (5)

기판에 대하여 일련의 공정을 진행하며 외부와 연통되는 슬릿들이 형성되는 공정 챔버;A process chamber in which a series of processes are performed on the substrate and slits communicating with the outside are formed; 상기 공정 챔버의 슬릿들과 연통되도록 상기 공정 챔버의 주변에 배치되는 다수개의 이송 챔버;A plurality of transfer chambers disposed around the process chamber to communicate with slits of the process chamber; 상기 슬릿의 주변에 배치되며, 외부로부터 전기적 신호를 전송 받아 상기 슬릿을 개폐하는 슬릿 밸브; 및A slit valve disposed around the slit and receiving an electrical signal from an outside to open and close the slit; And 상기 슬릿 밸브와 상기 슬릿 사이에서의 압력 리크를 모니터링 하는 압력 리크 모니터링 유니트를 포함하는 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치.And a pressure leak monitoring unit comprising a pressure leak monitoring unit for monitoring a pressure leak between the slit valve and the slit. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 압력 리크 모니터링 유니트는 상기 공정 챔버와 연결되며 상기 공정 챔버의 내부로 소정의 가스를 공급하는 가스 공급부와, 상기 공정 챔버의 내부에 설치되어 상기 공정 챔버 내부 제 1압력값을 측정하는 제 1압력 센서와, 상기 이송 챔버의 내부에 설치되어 상기 이송 챔버의 내부 제 2압력값을 측정하는 제 2압력 센서와, 상기 제 1,2압력 센서 및 상기 가스 공급부와 연결되며 상기 제 1압력값이 상기 제 2압력값 보다 일정 값으로 높게 형성되도록 상기 가스 공급부를 작동시키고, 상기 제 1압력 센서로부터 측정되는 제 1압력값을 전송 받아 상기 제 1압력값 의 변화값을 실시간으로 체크하여 압력 리크를 모니터링 하는 제어부를 구비하는 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치.The pressure leak monitoring unit is connected to the process chamber and supplies a gas to supply a predetermined gas into the process chamber, and a first pressure installed inside the process chamber to measure a first pressure value inside the process chamber. A sensor, a second pressure sensor installed inside the transfer chamber to measure an internal second pressure value of the transfer chamber, and connected to the first and second pressure sensors and the gas supply unit, wherein the first pressure value is The gas supply unit is operated to be formed at a predetermined value higher than a second pressure value, and the pressure is monitored by receiving a first pressure value measured from the first pressure sensor and checking a change value of the first pressure value in real time. A display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit having a control unit. 제 2항에 있어서,3. The method of claim 2, 상기 제어부에는 상기 제 1압력값의 기준 변화값이 기설정되고,The reference change value of the first pressure value is preset in the control unit, 상기 제어부는 표시부와 알람 발생부와 전기적으로 연결되되,The control unit is electrically connected to the display unit and the alarm generating unit, 상기 표시부는 상기 제어부로부터 전기적 신호를 전송 받아 상기 체크되는 제 1압력값의 변화값 및 상기 기준 변화값을 표시하고,The display unit receives an electrical signal from the controller to display a change value of the checked first pressure value and the reference change value, 상기 알람 발생부는 상기 체크되는 제 1압력값의 변화값이 상기 기설정된 기준 변화값을 벗어 나는 경우에, 상기 제어부로부터 전기적 신호를 전송 받아 알람을 발생시키는 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치.And the alarm generating unit has a pressure leak monitoring unit configured to generate an alarm by receiving an electrical signal from the controller when the change value of the checked first pressure value is out of the predetermined reference change value. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 압력 리크 모니터링 유니트는 상기 공정 챔버와 연결되며 상기 공정 챔버의 내부로 소정의 가스를 공급하는 가스 공급부와, 상기 공정 챔버의 내부에 설치되어 상기 공정 챔버 내부 제 1압력값을 측정하는 제 1압력 센서와, 상기 이송 챔버의 내부에 설치되어 상기 이송 챔버의 내부 제 2압력값을 측정하는 제 2압력 센서와, 상기 제 1,2압력 센서 및 상기 가스 공급부와 연결되며 상기 제 1압력값이 상기 제 2압력값 보다 일정 값으로 높게 형성되도록 상기 가스 공급부를 작동시키고, 상기 제 2압력 센서로부터 측정되는 제 2압력값을 전송 받아 상기 제 2압력값 의 변화값을 실시간으로 체크하여 압력 리크를 모니터링 하는 제어부를 구비하는 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치.The pressure leak monitoring unit is connected to the process chamber and supplies a gas to supply a predetermined gas into the process chamber, and a first pressure installed inside the process chamber to measure a first pressure value inside the process chamber. A sensor, a second pressure sensor installed inside the transfer chamber to measure an internal second pressure value of the transfer chamber, and connected to the first and second pressure sensors and the gas supply unit, wherein the first pressure value is The gas supply unit is operated to be formed at a predetermined value higher than the second pressure value, and the pressure pressure is monitored by receiving the second pressure value measured by the second pressure sensor in real time to check the change value of the second pressure value. A display manufacturing apparatus having a pressure leak monitoring unit having a control unit. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제어부에는 상기 제 2압력값의 기준 변화값이 기설정되고,The reference change value of the second pressure value is preset in the control unit, 상기 제어부는 표시부와 알람 발생부와 전기적으로 연결되되,The control unit is electrically connected to the display unit and the alarm generating unit, 상기 표시부는 상기 제어부로부터 전기적 신호를 전송 받아 상기 체크되는 제 2압력값의 변화값 및 상기 기준 변화값을 표시하고,The display unit receives the electrical signal from the control unit and displays the change value and the reference change value of the checked second pressure value, 상기 알람 발생부는 상기 체크되는 제 2압력값의 변화값이 상기 기설정된 기준 변화값을 벗어 나는 경우에, 상기 제어부로부터 전기적 신호를 전송 받아 알람을 발생시키는 압력 리크 모니터링 유니트를 갖는 디스플레이 제조 장치.And the alarm generator has a pressure leak monitoring unit configured to generate an alarm by receiving an electrical signal from the controller when the change value of the checked second pressure value is out of the predetermined reference change value.
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