KR20100059360A - Substrate supporting unit, apparatus and method for treating substrate using the same - Google Patents

Substrate supporting unit, apparatus and method for treating substrate using the same Download PDF

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Abstract

PURPOSE: A substrate support unit, a substrate processing apparatus, and a processing method using the same are provide to prevent damage to the substrate support unit according to the separation of the substrate by detecting the separation of the substrate from the substrate support unit in a process. CONSTITUTION: A substrate is placed on a supporting plate(110). A sensing member(400) senses whether the substrate is on the upper support plate or not. The sensing member includes a light emitting element(420), a light receiving element(440) and a light transmitting unit(460). The light emitting element emits a light to the upper side of the support plate. The light receiving element receives the light. The light transmitting unit transmits the light emitted from the light emitting element to the light receiving element.

Description

기판 지지 유닛과, 이를 이용한 기판 처리 장치 및 방법{SUBSTRATE SUPPORTING UNIT, APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE USING THE SAME}Substrate support unit, substrate processing apparatus and method using same {SUBSTRATE SUPPORTING UNIT, APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE USING THE SAME}

본 발명은 반도체 제조 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 공정 진행시 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과, 이를 이용한 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus and method, and more particularly, to a substrate support unit for supporting a substrate during process progression, and a substrate processing apparatus and method using the same.

일반적으로 반도체 디바이스는 기판상에 여러 가지 물질을 박막 형태로 증착하고 이를 패터닝하여 제조된다. 이를 위하여 증착 공정, 사진 공정, 식각 공정 및 세정 공정 등 여러 단계의 서로 다른 공정들이 요구된다.Generally, semiconductor devices are manufactured by depositing and patterning various materials on a substrate in a thin film form. To this end, several different processes are required, such as a deposition process, a photographic process, an etching process and a cleaning process.

이들 공정 중 식각 공정은 기판상에 형성된 막질을 제거하는 공정이고, 세정 공정은 반도체 제조를 위한 각 단위 공정의 진행 후 기판 표면에 잔류하는 오염 물질을 제거하는 공정이다. 식각 공정 및 세정 공정은 공정 진행 방식에 따라 습식 방식과 건식 방식으로 분류되며, 습식 방식은 배치 타입의 방식과 스핀 타입의 방식으로 분류된다.Among these processes, the etching process is a process of removing film quality formed on the substrate, and the cleaning process is a process of removing contaminants remaining on the surface of the substrate after each unit process for semiconductor manufacturing. The etching process and the cleaning process are classified into a wet method and a dry method according to the process method, and the wet method is classified into a batch type method and a spin type method.

스핀 타입의 방식은 한 장의 기판을 처리할 수 있는 척 부재에 기판을 고정한 후, 기판을 회전시키면서 분사 노즐을 통해 기판에 약액 또는 탈이온수를 공급 하여, 원심력에 의해 약액 또는 탈이온수를 기판의 전면으로 퍼지게 함으로써 기판을 세정 처리하며, 기판의 세정 처리 후에는 건조 가스로 기판을 건조한다.In the spin type, the substrate is fixed to a chuck member capable of processing a single substrate, and then the chemical liquid or deionized water is supplied to the substrate through the spray nozzle while the substrate is rotated. The substrate is washed by being spread out, and the substrate is dried with dry gas after the substrate is washed.

본 발명은 공정 진행 중 기판 지지 유닛으로부터의 기판의 이탈을 감지할 수 있는 기판 지지 유닛과, 이를 이용한 기판 처리 장치 및 방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a substrate support unit that can detect the departure of the substrate from the substrate support unit during the process, and a substrate processing apparatus and method using the same.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited thereto, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 기판 지지 유닛은 기판이 놓이는 지지판; 및 상기 지지판 상의 상기 기판의 유무를 검출하는 감지 부재를 포함하되, 상기 감지 부재는 상기 지지판의 상부에 배치되며, 상기 지지판의 상면을 향해 광을 방출하는 발광 소자; 상기 지지판의 하부에 배치되며, 광을 수광하는 수광 소자; 및 상기 지지판에 설치되며, 상기 발광 소자에서 방출된 상기 광을 상기 수광 소자로 전달하는 광 전달부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a substrate support unit according to the present invention includes a support plate on which a substrate is placed; And a sensing member for detecting the presence or absence of the substrate on the supporting plate, wherein the sensing member is disposed above the supporting plate and emits light toward an upper surface of the supporting plate; A light receiving element disposed under the support plate and receiving light; And a light transmission part installed on the support plate and transmitting the light emitted from the light emitting device to the light receiving device.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 기판 지지 유닛에 있어서, 상기 광 전달부는 상기 발광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 상면에 설치되는 제 1 광 전달 소자; 상기 수광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 하면에 설치되는 제 2 광 전달 소자; 및 상기 제 1 광 전달 소자와 상기 제 2 광 전달 소자 간의 광 이동 경로를 제공하는 광 이동 모듈을 포함할 수 있다.A substrate support unit according to the present invention having the configuration as described above, wherein the light transmitting portion comprises: a first light transmitting element provided on an upper surface of the support plate so as to face the light emitting element; A second light transmitting element disposed on a lower surface of the support plate so as to face the light receiving element; And a light moving module that provides a light moving path between the first light transmitting element and the second light transmitting element.

상기 발광 소자는 방출되는 상기 광이 상기 지지판의 상면에 수직하도록 상 기 지지판 상면에 대해 수직한 방향으로 제공될 수 있다.The light emitting device may be provided in a direction perpendicular to the upper surface of the support plate so that the emitted light is perpendicular to the upper surface of the support plate.

상기 수광 소자는 수광되는 상기 광이 상기 지지판의 하면에 수직하도록 상기 지지판 하면에 대해 수직한 방향으로 제공될 수 있다.The light receiving element may be provided in a direction perpendicular to the lower surface of the support plate such that the light received is perpendicular to the lower surface of the support plate.

상기 발광 소자와 상기 수광 소자는 동일 연직선 상에 위치하지 않도록 제공될 수 있다.The light emitting element and the light receiving element may be provided not to be positioned on the same vertical line.

상기 광 이동 모듈은 광 섬유일 수 있다.The optical transfer module may be an optical fiber.

상기 지지판의 상면과 하면에는 상기 제 1 및 제 2 광 전달 소자가 삽입 설치되는 홈이 형성되고, 상기 각각의 홈은 투명한 내부식성 합성 수지 재질의 커버로 밀폐될 수 있다.Grooves in which the first and second light transmitting elements are inserted are formed on the upper and lower surfaces of the support plate, and each of the grooves may be sealed by a transparent corrosion-resistant synthetic resin cover.

상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 기판 처리 장치는 내부에 기판 처리 공정이 진행되는 공간을 제공하는 용기; 상기 용기의 내측에 설치되며, 기판을 지지하는 기판 지지 유닛; 및 상기 기판 지지 유닛에 지지된 상기 기판으로 처리 유체를 공급하여 상기 기판을 처리하는 처리 유체 공급 유닛을 포함하되, 상기 기판 지지 유닛은 기판이 놓이는 지지판; 상기 지지판의 상부에 배치되며, 상기 지지판의 상면을 향해 광을 방출하는 발광 소자; 상기 지지판의 하부에 배치되며, 광을 수광하는 수광 소자; 및 상기 지지판에 설치되며, 상기 발광 소자에서 방출된 상기 광을 상기 수광 소자로 전달하는 광 전달부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a substrate processing apparatus according to the present invention includes a container for providing a space in which a substrate processing process proceeds; A substrate support unit installed inside the container and supporting the substrate; And a processing fluid supply unit supplying a processing fluid to the substrate supported by the substrate support unit to process the substrate, wherein the substrate support unit comprises: a support plate on which the substrate is placed; A light emitting element disposed above the support plate and emitting light toward an upper surface of the support plate; A light receiving element disposed under the support plate and receiving light; And a light transmission part installed on the support plate and transmitting the light emitted from the light emitting device to the light receiving device.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 광 전달부는 상기 발광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 상면에 설치되는 제 1 광 전달 소자; 상기 수광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 하면에 설치되는 제 2 광 전달 소자; 및 상기 제 1 광 전달 소자와 상기 제 2 광 전달 소자 간의 광 이동 경로를 제공하는 광 이동 모듈을 포함할 수 있다.A substrate processing apparatus according to the present invention having the configuration as described above, wherein the light transmitting portion comprises: a first light transmitting element provided on an upper surface of the support plate so as to face the light emitting element; A second light transmitting element disposed on a lower surface of the support plate so as to face the light receiving element; And a light moving module that provides a light moving path between the first light transmitting element and the second light transmitting element.

상기 발광 소자는 방출되는 상기 광이 상기 지지판의 상면에 수직하도록 상기 지지판 상면에 대해 수직한 방향으로 제공되고, 상기 수광 소자는 수광되는 상기 광이 상기 지지판의 하면에 수직하도록 상기 지지판 하면에 대해 수직한 방향으로 제공될 수 있다.The light emitting element is provided in a direction perpendicular to the upper surface of the support plate such that the emitted light is perpendicular to the upper surface of the support plate, and the light receiving element is perpendicular to the lower surface of the support plate such that the light received is perpendicular to the lower surface of the support plate. It can be provided in one direction.

상기 발광 소자와 상기 수광 소자는 동일 연직선 상에 위치하지 않도록 제공될 수 있다.The light emitting element and the light receiving element may be provided not to be positioned on the same vertical line.

상기 광 이동 모듈은 광 섬유일 수 있다.The optical transfer module may be an optical fiber.

상기 지지판의 상면과 하면에는 상기 제 1 및 제 2 광 전달 소자가 삽입 설치되는 홈이 형성되고, 상기 각각의 홈은 투명한 내부식성 합성 수지 재질의 커버로 밀폐될 수 있다.Grooves in which the first and second light transmitting elements are inserted are formed on the upper and lower surfaces of the support plate, and each of the grooves may be sealed by a transparent corrosion-resistant synthetic resin cover.

상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 기판 처리 방법은 기판을 지지판 상에 로딩하고, 상기 지지판의 회전에 의해 상기 기판을 회전시키면서 상기 기판에 대한 처리 공정을 진행하되, 상기 기판 처리 공정의 진행시 상기 기판의 상기 지지판으로부터의 이탈 여부를 감지하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the substrate processing method according to the present invention loads a substrate on a support plate, and proceeds the processing process for the substrate while rotating the substrate by the rotation of the support plate, but the progress of the substrate processing process. It is characterized in that for detecting the departure from the support plate of the substrate.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 기판 처리 방법에 있어서, 상기 기판의 이탈 여부 감지는 상기 지지판의 상부에 배치된 발광 소자가 회전하는 상기 지지판을 향해 광을 방출하고, 상기 지지판에 설치된 광 전달부가 상기 발광 소자에서 방출된 상기 광을 상기 지지판의 하부에 배치된 수광 소자로 전달하면서 진행될 수 있다.In the substrate processing method according to the present invention having the configuration as described above, the detection of the departure of the substrate emits light toward the support plate to rotate the light emitting element disposed on the support plate, the light installed on the support plate The transfer unit may proceed while transferring the light emitted from the light emitting element to the light receiving element disposed under the support plate.

상기 광 전달부는 상기 발광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 상면에 설치되는 제 1 광 전달 소자; 상기 수광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 하면에 설치되는 제 2 광 전달 소자; 및 상기 제 1 광 전달 소자와 상기 제 2 광 전달 소자 간의 광 이동 경로를 제공하는 광 이동 모듈을 포함할 수 있다.The first light transmitting element is provided on the upper surface of the support plate to face the light emitting element; A second light transmitting element disposed on a lower surface of the support plate so as to face the light receiving element; And a light moving module that provides a light moving path between the first light transmitting element and the second light transmitting element.

상기 발광 소자는 연속적으로 광을 방출하고, 상기 제 1 및 제 2 광 전달 소자는 상기 지지판의 회전에 의해 주기적으로 상기 발광 소자 및 상기 수광 소자와 마주보는 위치를 통과하면서 상기 광을 상기 수광 소자로 전달할 수 있다.The light emitting device continuously emits light, and the first and second light transmitting devices periodically pass the light to the light receiving device while passing through a position facing the light emitting device and the light receiving device by rotation of the support plate. I can deliver it.

단위 시간 당 상기 수광 소자로의 광 전달 회수가 단위 시간 당 상기 지지판의 회전 수와 동일하면, 알람을 발생할 수 있다.If the number of times of light transmission to the light receiving element per unit time is equal to the number of rotations of the support plate per unit time, an alarm may be generated.

본 발명에 의하면, 공정 진행 중 기판 지지 유닛으로부터의 기판의 이탈을 감지할 수 있다.According to the present invention, the detachment of the substrate from the substrate support unit can be detected during the process.

그리고 본 발명에 의하면, 기판의 이탈에 따른 기판 지지 유닛 및 바울의 손상을 방지할 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to prevent damage to the substrate support unit and the Paul due to the detachment of the substrate.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 기판 지지 유닛과, 이를 이용한 기판 처리 장치 및 방법을 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음 에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a substrate support unit, a substrate processing apparatus and a method using the same according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals have the same reference numerals as much as possible even if displayed on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

( 실시 예 )(Example)

본 실시 예에서는 기판을 세정하는 장치를 예로 들어 설명한다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않으며, 매엽 방식으로 기판을 회전시키면서 공정을 진행하는 다양한 종류의 장치에 모두 적용될 수 있다.In this embodiment, an apparatus for cleaning a substrate will be described as an example. However, the technical idea of the present invention is not limited thereto, and the present invention may be applied to all kinds of apparatuses which process the substrate while rotating the substrate in a single sheet method.

도 1은 매엽식 기판 세정 설비의 레이아웃을 보여주는 도면이다. 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 매엽식 기판 세정 설비는 로딩/언로딩부(1), 캐리어 이송부(2), 캐리어 테이블(3), 기판 이송부(4), 그리고 세정 처리부(5)를 포함한다.1 shows the layout of a sheet type substrate cleaning facility. Referring to FIG. 1, a sheet type substrate cleaning apparatus according to the present invention includes a loading / unloading unit 1, a carrier transfer unit 2, a carrier table 3, a substrate transfer unit 4, and a cleaning processing unit 5. Include.

로딩/언로딩부(1)는 기판들이 수용된 캐리어(C)가 놓이는 인/아웃 포트(1-1)를 가진다. 로딩/언로딩부(1)에 인접하게 캐리어 이송부(2)가 배치되고, 캐리어 이송부(2)의 타 측 중앙부에는 기판 이송부(4)가 배치된다. 기판 이송부(4)는 캐리어 이송부(2)에 수직한 방향으로 형성된 이송 로봇(4-3) 이동용 통로(4-1)를 가진다. 통로(4-1)의 내측에는 통로(4-1)의 길이 방향을 따라 이송 가이드(4-2)가 설치되고, 이송 로봇(4-3)이 이송 가이드(4-2)에 의해 안내되어 통로(4-1)의 길이 방향을 따라 이동한다. 통로(4-1)의 양측에는 캐리어 테이블(3)과 세정 처리부(5)가 각각 배치된다. 세정 처리부(5)는 기판 이송부(4)의 통로(410) 양측에 나란하게 배치된 복수 개의 공정 챔버들(5a,5b,5c,5d)을 가진다. 기판 이송부(4), 캐리어 테이블(3) 및 세정 처리부(5)는 상층과 하층의 복층 구조로 배치될 수 있으며, 캐리어 이송부(2) 또한 복층 구조의 캐리어 테이블(3)에 대응하도록 복층 구조를 가질 수 있다. 그리고, 캐리어 이송부(2), 캐리어 테이블(3), 기판 이송부(4) 및 세정 처리부(5)의 상부에는 청정 공기를 공급하는 팬 필터 유닛(Fan Filter Unit)(미도시)이 각각 제공될 수 있다.The loading / unloading portion 1 has an in / out port 1-1 on which a carrier C on which substrates are accommodated is placed. The carrier transfer part 2 is arranged adjacent to the loading / unloading part 1, and the substrate transfer part 4 is arranged at the center of the other side of the carrier transfer part 2. The substrate transfer part 4 has a passage 4-1 for moving the transfer robot 4-3 formed in the direction perpendicular to the carrier transfer part 2. Inside the passage 4-1, a transfer guide 4-2 is provided along the longitudinal direction of the passage 4-1, and the transfer robot 4-3 is guided by the transfer guide 4-2. It moves along the longitudinal direction of the passage 4-1. The carrier table 3 and the washing | cleaning process part 5 are arrange | positioned at the both sides of the passage 4-1, respectively. The cleaning processor 5 has a plurality of process chambers 5a, 5b, 5c, and 5d arranged side by side on both sides of the passage 410 of the substrate transfer part 4. The substrate transfer unit 4, the carrier table 3, and the cleaning processing unit 5 may be arranged in a multilayer structure of an upper layer and a lower layer, and the carrier transfer unit 2 may also have a multilayer structure so as to correspond to the carrier table 3 having a multilayer structure. Can have In addition, a fan filter unit (not shown) for supplying clean air may be provided on the carrier transfer part 2, the carrier table 3, the substrate transfer part 4, and the cleaning processor 5, respectively. have.

기판을 수용하는 캐리어(C)로는 전면 개방 일체식 포드(Front Open Unified Pod)와 같은 밀폐용 용기가 사용될 수 있다. 캐리어(C)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)에 의해 로딩/언로딩부(1)의 인/아웃 포트(1-1) 상에 놓인다. 로딩/언로딩부(1)의 인/아웃 포트(1-1)에 놓인 캐리어(C)는 캐리어 이송부(2)에 의해 캐리어 테이블(3)로 이송된다. 기판 이송부(4)의 이송 로봇(4-3)은 캐리어 테이블(3)에 놓인 캐리어(C)로부터 세정 처리될 기판을 세정 처리부(5)의 공정 챔버들(5a,5b,5c,5d)로 이송하고, 공정 챔버들(5a,5b,5c,5d)에서는 기판의 세정 처리 공정이 진행된다. 세정 처리부(5)에서 세정 처리된 기판은 이송 로봇(4-3)에 의해 캐리어 테이블(3) 상의 캐리어(C)로 이송되며, 세정 처리된 기판들을 수용하는 캐리어(C)는 캐리어 이송부(2)에 의해 로딩/언로딩부(1)의 인/아웃 포트(1-1)에 놓인다.As the carrier C for accommodating the substrate, a hermetically sealed container such as a front open unified pod may be used. The carrier C may be connected to the loading / unloading portion 1 by a transfer means (not shown), such as an overhead transfer, an overhead conveyor, or an automatic guided vehicle. It is placed on the in / out port 1-1. The carrier C placed in the in / out port 1-1 of the loading / unloading portion 1 is transferred to the carrier table 3 by the carrier transfer portion 2. The transfer robot 4-3 of the substrate transfer part 4 transfers the substrate to be cleaned from the carrier C placed on the carrier table 3 to the process chambers 5a, 5b, 5c, 5d of the cleaning process part 5. In the process chambers 5a, 5b, 5c, and 5d, the substrate is cleaned. The substrate cleaned by the cleaning processor 5 is transferred to the carrier C on the carrier table 3 by the transfer robot 4-3, and the carrier C containing the cleaned substrates is a carrier carrier 2. ) Into the in / out port 1-1 of the loading / unloading section 1.

도 2는 도 1의 공정 챔버의 내부 구성을 보여주는 사시도이다. 도 2를 참조 하면, 공정 챔버의 내부에는 기판 지지 유닛(10), 용기(20) 및 기판 세정 수단(30,40,50)이 구비된다. 기판 지지 유닛(10)은 기판의 세정 공정 진행 중 기판(W)을 지지하며, 공정이 진행되는 동안 회전될 수 있다. 기판 지지 유닛(10)의 외측에는 공정에 사용된 약액들을 분리하여 회수하기 위한 용기(20)가 설치된다. 용기(20)의 둘레에는 기판을 세정하기 위한 기판 세정 수단(30,40,50)이 배치된다.FIG. 2 is a perspective view illustrating an internal configuration of the process chamber of FIG. 1. Referring to FIG. 2, a substrate support unit 10, a container 20, and substrate cleaning means 30, 40, and 50 are provided in the process chamber. The substrate support unit 10 supports the substrate W during the cleaning process of the substrate, and may be rotated while the process is in progress. The outer side of the substrate support unit 10 is provided with a container 20 for separating and recovering the chemical liquids used in the process. Substrate cleaning means 30, 40, and 50 are disposed around the vessel 20 to clean the substrate.

기판 세정 수단(30,40,50)은 기판으로 약액을 공급하는 제 1 처리 유체 공급 부재(30), 기판으로 린스액 또는 건조 가스를 공급하는 제 2 처리 유체 공급 부재(40) 및 초음파 세정 부재(50)를 포함한다. The substrate cleaning means 30, 40, 50 includes a first processing fluid supply member 30 for supplying a chemical liquid to the substrate, a second processing fluid supply member 40 for supplying a rinse liquid or a dry gas to the substrate, and an ultrasonic cleaning member. And 50.

제 1 처리 유체 공급 부재(30)는 스캔 방식으로 직선 왕복 운동하며 기판상에 약액을 공급한다. 기판의 세정 공정에 사용되는 약액으로는 불산(HF), 황산(H3SO4), 질산(HNO3), 인산(H3PO4), 그리고 SC-1 용액(수산화암모늄(NH4OH), 과산화수소(H2O2) 및 물(H2O)의 혼합액)으로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 어느 하나가 사용될 수 있다. 제 1 처리 유체 공급 부재(30)는 적어도 하나 이상의 약액 공급 노즐(32)을 가지며, 기판 처리에 사용되는 약액의 종류에 따라 선택된 어느 하나의 약액 공급 노즐(32)을 이용하여 기판상에 약액을 공급한다. 약액 공급 노즐(32)은 이동 로드(34)와 픽업(Pick-up) 부재(36)의 구동에 의해 취사 선택된다. 수직 방향으로 설치된 이동 로드(34)는 구동부(미도시)에 의해 스캔 방향을 따라 직선 왕복 운동할 수 있으며, 또한 상하 방향으로도 운동이 가능하다. 이동 로 드(34)의 상하 이동에 의해 이동 로드(34)의 상단에 수평 방향으로 연결된 픽업 부재(36)가 상하 이동하고, 픽업 부재(36)는 선택된 어느 하나의 약액 공급 노즐(32)을 픽업한다. 픽업 부재(36)에 약액 공급 노즐(32)이 픽업된 상태에서 이동 로드(34)가 스캔 방향을 따라 이동하고, 약액 공급 노즐(32)은 기판상으로 약액을 공급한다. 이때, 기판 지지 유닛(10)의 회전에 의해 기판 지지 유닛(10)에 놓인 기판이 회전된다.The first processing fluid supply member 30 linearly reciprocates in a scan manner and supplies the chemical liquid on the substrate. Chemicals used in the substrate cleaning process include hydrofluoric acid (HF), sulfuric acid (H3SO4), nitric acid (HNO3), phosphoric acid (H3PO4), and SC-1 solutions (ammonium hydroxide (NH 4 OH), hydrogen peroxide (H 2 O 2). ) And at least one selected from the group consisting of water (mixture of H 2 O)). The first processing fluid supply member 30 has at least one chemical liquid supply nozzle 32, and the chemical liquid is supplied onto the substrate using any one chemical liquid supply nozzle 32 selected according to the type of chemical liquid used for the substrate processing. Supply. The chemical liquid supply nozzle 32 is selected by driving of the movable rod 34 and the pick-up member 36. The movable rod 34 installed in the vertical direction can linearly reciprocate along the scan direction by a driving unit (not shown), and can also move in the vertical direction. The pick-up member 36 connected to the upper end of the moving rod 34 in the horizontal direction moves up and down by the vertical movement of the moving rod 34, and the pick-up member 36 moves the selected chemical liquid supply nozzle 32. Pick up. The moving rod 34 moves along the scanning direction while the chemical liquid supply nozzle 32 is picked up by the pickup member 36, and the chemical liquid supply nozzle 32 supplies the chemical liquid onto the substrate. At this time, the substrate placed on the substrate support unit 10 is rotated by the rotation of the substrate support unit 10.

제 2 처리 유체 공급 부재(40)는 붐 스윙 방식으로 회전 운동하며 기판상에 린스액 또는 건조 가스를 공급한다. 린스액으로는 초순수(DIW:Deionized Water)가 사용될 수 있고, 건조 가스로는 이소프로필 알코올 가스(IPA:Isopropyl alcohol gas)가 사용될 수 있다. 제 2 처리 유체 공급 부재(40)는 수직하게 배치되며 기판 지지 유닛(10)을 향해 린스액 또는 건조 가스를 공급하는 노즐(42)을 가진다. 노즐(42)은 노즐 지지대(44)의 일단에 연결되고, 노즐 지지대(44)는 노즐(42)과 직각을 유지하도록 수평 방향으로 배치된다. 노즐 지지대(44)의 타 단에는 노즐 지지대(44)와 직각을 유지하도록 수직 방향으로 배치되며, 공정 진행시 또는 공정 전후에 노즐(42)을 이동시키는 이동 로드(46)가 결합된다. 그리고, 이동 로드(46)는 구동부(미도시)에 연결된다. 구동부(미도시)는 노즐(42)을 회전시키기 위한 모터일 수 있으며, 선택적으로 노즐(42)을 상하 방향으로 직선 이동시키기 위한 어셈블리일 수도 있다.The second processing fluid supply member 40 rotates in a boom swing manner and supplies rinse liquid or dry gas onto the substrate. Ultra rinse water (DIW: Deionized Water) may be used as the rinse liquid, and isopropyl alcohol gas (IPA: Isopropyl alcohol gas) may be used as the dry gas. The second processing fluid supply member 40 is disposed vertically and has a nozzle 42 for supplying a rinse liquid or a dry gas toward the substrate support unit 10. The nozzle 42 is connected to one end of the nozzle support 44, and the nozzle support 44 is disposed in the horizontal direction to maintain a right angle with the nozzle 42. The other end of the nozzle support 44 is disposed in the vertical direction to maintain a right angle with the nozzle support 44, the moving rod 46 for moving the nozzle 42 during or before the process is coupled. In addition, the moving rod 46 is connected to a driving unit (not shown). The driving unit (not shown) may be a motor for rotating the nozzle 42, and optionally, an assembly for linearly moving the nozzle 42 in the vertical direction.

초음파 세정 부재(50)는 기판(W)상에 공급되는 약액에 초음파 진동을 인가하는 진동자(52)를 가진다. 진동자(52)는 수평 방향으로 배치된 지지대(54)의 일단에 연결된다. 지지대(54)의 타 단에는 지지대(54)와 직각을 유지하도록 수직 방향으로 배치되며, 공정 진행시 또는 공정 전후에 진동자(52)를 이동시키는 이동 로드(56)가 결합된다. 그리고, 이동 로드(56)는 구동부(미도시)에 연결된다. 구동부(미도시)는 진동자(52)를 회전시키기 위한 모터일 수 있으며, 선택적으로 진동자(52)를 상하 방향으로 직선 이동시키기 위한 어셈블리일 수도 있다. 기판상에 공급된 약액은 기판상의 오염 물질을 식각 또는 박리시키며, 이때 제 1 처리 유체 공급 부재(30)를 이용하여 약액에 초음파 진동을 인가한다. 약액에 인가된 초음파 진동은 약액과 기판(W)상의 오염 물질의 화학 반응을 촉진시켜 기판(W)상의 오염 물질의 제거 효율을 향상시킨다.The ultrasonic cleaning member 50 has a vibrator 52 for applying ultrasonic vibration to the chemical liquid supplied on the substrate W. As shown in FIG. The vibrator 52 is connected to one end of the support 54 arranged in the horizontal direction. The other end of the support 54 is disposed in the vertical direction to maintain a right angle with the support 54, the moving rod 56 for moving the vibrator 52 during or before or after the process is coupled. In addition, the moving rod 56 is connected to a driving unit (not shown). The driving unit (not shown) may be a motor for rotating the vibrator 52, and optionally an assembly for linearly moving the vibrator 52 in the vertical direction. The chemical liquid supplied on the substrate etches or peels off contaminants on the substrate, and at this time, ultrasonic vibration is applied to the chemical liquid by using the first processing fluid supply member 30. Ultrasonic vibration applied to the chemical liquid promotes chemical reaction of the chemical liquid and the contaminants on the substrate W, thereby improving the removal efficiency of the contaminants on the substrate W.

도 3은 도 2의 기판 지지 유닛(10)과 용기(20)의 구성 및 약액 공급 배관 계통을 보여주는 측단면도이다.3 is a side cross-sectional view showing the structure of the substrate support unit 10 and the container 20 of FIG. 2 and the chemical liquid supply piping system.

도 2 및 도 3을 참조하면, 기판 지지 유닛(10)은 용기(20)의 내부 공간에 배치된다. 기판 지지 유닛(10)은 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)의 상면에는 기판(W)을 지지하는 핀 부재들(112a,112b)이 결합된다. 지지 핀들(112a)은 기판(W)의 하면을 지지하고, 척킹 핀들(112b)은 기판(W)의 측면을 지지한다.2 and 3, the substrate support unit 10 is disposed in the inner space of the container 20. The substrate support unit 10 has a support plate 110. Pin members 112a and 112b supporting the substrate W are coupled to an upper surface of the support plate 110. The support pins 112a support the bottom surface of the substrate W, and the chucking pins 112b support the side surface of the substrate W.

지지판(110)은 구동 부재(120)에 의해 회전된다. 구동 부재(120)는 지지판(110)의 하면에 결합되는 구동 축(122)과, 구동 축(122)에 구동력을 제공하는 구동기(124)를 포함한다. 구동기(124)는 구동 축(122)에 회전력을 제공하는 모터일 수 있으며, 선택적으로 구동 축(122)을 상하 방향으로 직선 이동시키는 구동력을 제공할 수도 있다. 구동기(124)는 프레임(126)에 의해 지지된다.The support plate 110 is rotated by the drive member 120. The driving member 120 includes a driving shaft 122 coupled to the lower surface of the support plate 110, and a driver 124 providing a driving force to the driving shaft 122. The driver 124 may be a motor that provides a rotational force to the driving shaft 122, and may optionally provide a driving force to linearly move the driving shaft 122 in the vertical direction. The driver 124 is supported by the frame 126.

용기(20)는 내부에 상부가 개방되고 기판(W)이 처리되는 공간을 가지며, 공정에 사용된 약액들을 분리하여 회수할 수 있는 구조를 가진다. 이는 약액들의 재사용이 가능하게 한다. 용기(20)는 복수의 회수통들(220, 240, 260)을 가진다. 각각의 회수통(220, 240, 260)은 공정에 사용된 처리액들 중 서로 상이한 종류의 처리액을 회수한다. 본 실시 예에서 용기(20)는 3개의 회수통들을 가진다. 각각의 회수통들을 내부 회수통(220), 중간 회수통(240), 그리고 외부 회수통(260)이라 칭한다. The vessel 20 has a space in which the upper portion is opened and the substrate W is processed therein, and has a structure capable of separating and recovering the chemical liquids used in the process. This makes it possible to reuse the chemicals. The vessel 20 has a plurality of recovery bins 220, 240, 260. Each recovery container 220, 240, 260 recovers different types of treatment liquids from among treatment liquids used in the process. In this embodiment, the vessel 20 has three recovery bins. Each recovery container is referred to as an internal recovery container 220, an intermediate recovery container 240, and an external recovery container 260.

내부 회수통(220)은 지지판(110)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 중간 회수통(240)은 내부 회수통(220)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되며, 외부 회수통(260)은 중간 회수통(240)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 각각의 회수통(220, 240, 260)은 용기(20) 내에서 용기 내 공간과 통하는 유입구(227, 247, 267)를 가진다. 각각의 유입구(227, 247, 267)는 지지판(110)의 둘레에 링 형상으로 제공된다. 기판(W)으로 분사되어 공정에 사용된 약액들은 기판(W)의 회전으로 인한 원심력에 의해 유입구(227, 247, 267)를 통해 회수통(220, 240, 260)으로 유입된다. 외부 회수통(260)의 유입구(267)는 중간 회수통(240)의 유입구(247)의 수직 상부에 제공되고, 중간 회수통(240)의 유입구(247)는 내부 회수통(220)의 유입구(227)의 수직 상부에 제공된다.The inner recovery container 220 is provided in an annular ring shape surrounding the support plate 110, and the intermediate recovery container 240 is provided in an annular ring shape surrounding the internal recovery container 220, and the external recovery container 260 is provided. Is provided in an annular ring shape surrounding the intermediate recovery container 240. Each recovery bin 220, 240, 260 has inlets 227, 247, 267 in the vessel 20 that communicate with the space within the vessel. Each inlet 227, 247, 267 is provided in a ring shape around the support plate 110. Chemical liquids injected into the substrate W and used in the process are introduced into the recovery containers 220, 240, and 260 through the inlets 227, 247, and 267 by centrifugal force due to the rotation of the substrate W. FIG. The inlet port 267 of the outer container 260 is provided in the vertical upper portion of the inlet 247 of the intermediate container 240, the inlet 247 of the intermediate container 240 is the inlet of the internal container 220. 227 is provided at the vertical top.

내부 회수통(220)의 바닥벽에는 배출관(225)이 결합되고, 중간 회수통(240) 의 바닥벽에는 배출관(245)이 결합되고, 외부 회수통(260)의 바닥벽에는 배출관(265)이 결합된다. 내부 회수통(220), 중간 회수통(240) 및 외부 회수통(260)을 통해 유입된 처리액은 배출관(225,245,265)을 통해 외부의 약액 재생을 위한 시스템으로 배출된다. 그리고 외부 회수통(260)의 바닥벽에는 배기관(263)이 결합되며, 내부 회수통(220), 중간 회수통(240) 및 외부 회수통(260)으로 유입된 가스는 배기관(263)을 통해 외부로 배기한다.The discharge pipe 225 is coupled to the bottom wall of the inner recovery container 220, the discharge pipe 245 is coupled to the bottom wall of the intermediate recovery container 240, and the discharge pipe 265 is connected to the bottom wall of the external recovery container 260. Is combined. The treatment liquid introduced through the inner recovery container 220, the intermediate recovery container 240, and the external recovery container 260 is discharged through the discharge pipes 225, 245, and 265 to a system for regenerating external chemical liquid. The exhaust pipe 263 is coupled to the bottom wall of the outer recovery container 260, and the gas introduced into the internal recovery container 220, the intermediate recovery container 240, and the external recovery container 260 is discharged through the exhaust pipe 263. Exhaust to the outside.

승강 유닛(280)은 용기(20)를 상하 방향으로 직선 이동시킨다. 용기(20)가 상하로 이동됨에 따라 지지판(110)에 대한 용기(20)의 상대 높이가 변경된다. 승강 유닛(280)은 브라켓(282), 이동 축(284), 그리고 구동기(286)를 가진다. 브라켓(282)은 용기(20)의 외벽에 고정 설치되고, 브라켓(282)에는 구동기(286)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동 축(284)이 고정 결합된다. 기판(W)이 지지판(110)에 놓이거나, 지지판(110)으로부터 들어 올릴 때 지지판(110)이 용기(20)의 상부로 돌출되도록 용기(20)는 하강한다. 또한, 공정이 진행시에는 기판(W)에 공급된 처리액의 종류에 따라 처리액이 기설정된 회수통(220, 240, 260)으로 유입될 수 있도록 용기(20)의 높이가 조절된다.The lifting unit 280 linearly moves the container 20 in the vertical direction. As the container 20 is moved up and down, the relative height of the container 20 relative to the support plate 110 is changed. The elevating unit 280 has a bracket 282, a moving shaft 284, and a driver 286. The bracket 282 is fixedly installed on the outer wall of the container 20, and the bracket 282 is fixedly coupled to the moving shaft 284 moved in the vertical direction by the driver 286. When the substrate W is placed on the support plate 110 or lifted from the support plate 110, the container 20 is lowered so that the support plate 110 protrudes to the top of the container 20. In addition, when the process is in progress, the height of the container 20 is adjusted to allow the processing liquid to flow into the predetermined recovery containers 220, 240, and 260 according to the type of processing liquid supplied to the substrate W.

제 1 처리 유체 공급 부재(30)의 약액 공급 노즐(32)은 지지판(110)상에 놓인 기판의 상부 공간에서 스캔 방식으로 직선 왕복 운동하고, 기판으로 약액을 공급한다. 약액 공급 노즐(32)은 약액 공급 라인(321)에 의해 약액 공급원(322)에 연결된다. 약액 공급 라인(321)상에는 약액 공급원(322)으로부터 약액 공급 노 즐(321) 방향으로 펌프(323), 필터(324) 및 밸브(325)가 순차적으로 배치된다. 밸브(325)는 컷 오프 밸브(Cut-Off Valve, 325a)와 석백 밸브(Suckback Valve, 325b)를 가진다. 약액 공급원(322)으로부터 공급되는 약액은 펌프(323)에 의해 가압되고, 가압된 약액은 필터(324)를 거쳐 컷 오프 밸브(325a) 및 석백 밸브(325b)를 통과한 후, 약액 공급 노즐(32)을 통해 기판상에 토출된다. 컷 오프 밸브(325a)는 가압된 약액의 흐름을 온/오프(On/Off)하고, 석백 밸브(325b)는 약액 토출후 약액 공급 노즐(32)의 토출구(미도시) 끝단에 존재하는 일정량의 약액을 흡입하여 후퇴시킴으로써 약액의 흘림을 방지한다.The chemical liquid supply nozzle 32 of the first processing fluid supply member 30 linearly reciprocates in a scan manner in the upper space of the substrate placed on the support plate 110, and supplies the chemical liquid to the substrate. The chemical liquid supply nozzle 32 is connected to the chemical liquid supply source 322 by the chemical liquid supply line 321. On the chemical liquid supply line 321, the pump 323, the filter 324, and the valve 325 are sequentially disposed in the direction of the chemical liquid supply nozzle 321 from the chemical liquid supply source 322. The valve 325 has a cut-off valve 325a and a suckback valve 325b. The chemical liquid supplied from the chemical liquid source 322 is pressurized by the pump 323, and the pressurized chemical liquid passes through the cut-off valve 325a and the seat back valve 325b through the filter 324, and then the chemical liquid supply nozzle ( Through 32). The cut-off valve 325a turns on / off the flow of the pressurized chemical liquid, and the seat back valve 325b has a predetermined amount of water present at the discharging port (not shown) end of the chemical liquid supply nozzle 32 after the chemical liquid is discharged. Inhalation and retraction of the chemical prevents the liquid from spilling.

감지 부재(400)는 기판 처리 공정의 진행 중 기판의 지지판(110)으로부터의 이탈 여부를 감지한다. 감지 부재(400)는 발광 소자(420), 수광 소자(440), 그리고 광 전달부(460)를 포함한다. The sensing member 400 detects whether the substrate is separated from the support plate 110 during the substrate processing process. The sensing member 400 includes a light emitting element 420, a light receiving element 440, and a light transmitting unit 460.

발광 소자(420)는 지지판(110)의 상부에 배치되며, 지지판(110)의 상면을 향해 광을 방출한다. 발광 소자(420)는 광이 지지판(110)의 상면에 수직하게 방출되도록 지지판(110) 상면에 대해 수직하게 제공될 수 있다. 발광 소자(420)는 지지대(422)의 일단에 연결되고, 지지대(442)는 발광 소자(420)과 직각을 유지하도록 수평 방향으로 배치된다. 지지대(442)의 타 단에는 지지대(442)와 직각을 유지하도록 수직 방향으로 배치되는 수직 로드(424)가 결합된다. 수직 로드(424)는 고정될 수 있으며, 또한 구동부(426)에 의해 회전될 수도 있다.The light emitting device 420 is disposed above the support plate 110 and emits light toward the upper surface of the support plate 110. The light emitting device 420 may be provided perpendicular to the top surface of the support plate 110 so that light is emitted perpendicularly to the top surface of the support plate 110. The light emitting device 420 is connected to one end of the support 422, and the support 442 is disposed in a horizontal direction to maintain a right angle with the light emitting device 420. The other end of the support 442 is coupled to the vertical rod 424 disposed in the vertical direction to maintain a right angle with the support 442. The vertical rod 424 may be fixed and may also be rotated by the drive 426.

수광 소자(440)는 지지판(110)의 하부에 배치되며, 광을 수광한다. 수광 소 자(440)는 수광되는 광이 지지판(110)의 하면에 수직하도록 지지판(110) 하면에 대해 수직한 방향으로 제공될 수 있으며, 구동기(124)를 지지하는 프레임(126)에 설치될 수 있다.The light receiving element 440 is disposed under the support plate 110 and receives light. The light receiving element 440 may be provided in a direction perpendicular to the bottom surface of the support plate 110 so that the received light is perpendicular to the bottom surface of the support plate 110, and may be installed in the frame 126 supporting the driver 124. Can be.

광 전달부(460)는 지지판(110)에 설치되며, 발광 소자(420)에서 방출된 광을 수광 소자(440)로 전달한다. 광 전달부(460)는 발광 소자(420)와 마주보도록 지지판(110)의 상면에 설치되는 제 1 광 전달 소자(461)와, 수광 소자(440)와 마주보도록 지지판(110)의 하면에 설치되는 제 2 광 전달 소자(462)를 가진다. 제 1 및 제 2 광 전달 소자(461,462)는 광 이동 모듈(463)에 의해 연결될 수 있다. 광 이동 모듈(463)은 광 섬유로 제공될 수 있으며, 제 1 광 전달 소자(461)와 제 2 광 전달 소자(462) 간의 광 이동 경로를 제공한다. The light transmitting unit 460 is installed on the support plate 110 and transmits the light emitted from the light emitting element 420 to the light receiving element 440. The light transmitting unit 460 is provided on the first light transmitting element 461 provided on the upper surface of the support plate 110 so as to face the light emitting element 420, and on the lower surface of the support plate 110 so as to face the light receiving element 440. Has a second light transmitting element 462. The first and second light transmitting elements 461 and 462 may be connected by the light moving module 463. The light transfer module 463 may be provided as an optical fiber and provide a light movement path between the first light transfer element 461 and the second light transfer element 462.

제 1 및 제 2 광 전달 소자(461,462)는 동일 연직선 상에 위치할 수 있으며, 또한 도 3에 도시된 바와 같이, 동일 연직선 상에 위치하지 않도록 제공될 수도 있다. 제 1 및 제 2 광 전달 소자(461,462)가 동일 연직선 상에 위치하지 않도록 제공되면, 제 1 및 제 2 광 전달 소자(461,462)와 마주보도록 설치된 발광 소자(420)와 수광 소자(440)도 동일 연직선 상에 위치하지 않는다.The first and second light transmitting elements 461 and 462 may be located on the same vertical line, or may be provided so as not to be located on the same vertical line, as shown in FIG. 3. If the first and second light transmitting elements 461 and 462 are provided so as not to be located on the same vertical line, the light emitting element 420 and the light receiving element 440 provided to face the first and second light transmitting elements 461 and 462 are also the same. It is not located on the vertical line.

제 1 광 전달 소자(461)는 지지판(110)의 상면에 형성된 홈(110a)에 삽입 설치되고, 제 2 광 전달 소자(462)는 지지판(110)의 하면에 형성된 홈(110b)에 삽입 설치될 수 있다. 그리고, 제 1 및 제 2 광 전달 소자(461,462)가 삽입된 홈들(110a,100b)은 투명한 내부식성 합성 수지 재질의 커버들(464,465)로 밀폐될 수 있다. 커버들(464,465)은 기판 처리 공정의 진행 중 약액이 제 1 및 제 2 광 전달 소자들(461,462)로 침투하는 것을 방지한다. The first light transmitting element 461 is inserted into the groove 110a formed on the upper surface of the support plate 110, and the second light transmitting element 462 is inserted into the groove 110b formed on the lower surface of the support plate 110. Can be. In addition, the grooves 110a and 100b into which the first and second light transmitting elements 461 and 462 are inserted may be sealed by covers 464 and 465 made of transparent corrosion resistant synthetic resin. The covers 464 and 465 prevent chemicals from penetrating into the first and second light transmitting elements 461 and 462 during the substrate processing process.

도 4 및 도 5는 기판의 유무에 따른 감지 부재의 동작 상태를 보여주는 도면들이다. 도 4 및 도 5를 참조하면, 발광 소자(420)는 지지판(110)을 향해 광을 방출한다. 지지판(110)에 로딩된 기판(W)이 정상적으로 지지판(110) 상에 안착되어 있을 경우, 도 4에 도시된 바와 같이, 발광 소자(420)로부터 방출된 광은 기판(W)에 의해 반사되기 때문에, 수광 소자(440)로는 광이 수광되지 않는다.4 and 5 are views showing an operating state of the sensing member according to the presence or absence of a substrate. 4 and 5, the light emitting device 420 emits light toward the support plate 110. When the substrate W loaded on the support plate 110 is normally seated on the support plate 110, the light emitted from the light emitting element 420 is reflected by the substrate W as shown in FIG. 4. Therefore, light is not received by the light receiving element 440.

이와 반대로, 지지판(110)에 로딩된 기판(W)이 지지판(110)으로부터 이탈된 경우, 도 5에 도시된 바와 같이, 발광 소자(420)로부터 방출된 광은 커버(464)를 통해 제 1 광 전달 소자(461)로 입사된다. 제 1 광 전달 소자(461)로 입사된은 광 이동 모듈(463)에 의해 제 2 광 전달 소자(462)로 전달된다. 제 2 광 전달 소자(462)로 전달된 광은 커버(465)를 통해 수광 소자(440)로 전달된다. 수광 소자(440)로 광이 전달되면, 제어부(미도시)는 기판(W)이 지지판(110)으로부터 이탈되었다고 판단하여, 알람을 발생할 수 있다.On the contrary, when the substrate W loaded on the support plate 110 is separated from the support plate 110, as shown in FIG. 5, the light emitted from the light emitting element 420 is first passed through the cover 464. Incident on the light transmitting element 461. The incident light into the first light transmitting element 461 is transmitted to the second light transmitting element 462 by the light transfer module 463. Light transmitted to the second light transmitting element 462 is transmitted to the light receiving element 440 through the cover 465. When light is transmitted to the light receiving element 440, the controller (not shown) may determine that the substrate W is separated from the support plate 110, and generate an alarm.

기판의 이탈 여부를 검출하는 과정을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다. 발광 소자(420)는 지지판(110)을 향해 연속적으로 광을 방출하고, 지지판(110)은 회전된다. 지지판(110)이 회전되면, 도 6에 도시된 바와 같이, 지지판(110)에 구비된 제 1 및 제 2 광 전달 소자(461,462)가 회전하고, 제 1 및 제 2 광 전달 소자(461,462)는 360도 회전한 후 원 위치로 복귀하는 과정을 반복한다. 제 1 및 제 2 광 전달 소자(461,462)는 회전하는 동안 주기적으로 발광 소자(420) 및 수광 소 자(440)와 마주보는 위치를 통과하면서 발광 소자(420)에서 방출된 광을 수광 소자(440)로 전달한다. 수광 소자(440)로 광이 전달되는 주기(단위 시간당 수광 회수)가 지지판(110)의 회전 주기(단위 시간당 회전수)와 동일하면, 제어부(미도시)는 기판이 지지판(110)으로부터 이탈되었다고 판단하고, 알람을 발생할 수 있으며, 이와 동시에 지지판(110)을 회전시키는 구동기(124)의 동작을 정지시킬 수 있다.The process of detecting the departure of the substrate will be described in more detail as follows. The light emitting device 420 continuously emits light toward the support plate 110, and the support plate 110 is rotated. When the supporting plate 110 is rotated, as shown in FIG. 6, the first and second light transmitting elements 461 and 462 provided on the supporting plate 110 rotate, and the first and second light transmitting elements 461 and 462 are rotated. After rotating 360 degrees, the process of returning to the original position is repeated. The first and second light transmitting elements 461 and 462 periodically receive light emitted from the light emitting element 420 while passing through positions facing the light emitting element 420 and the light receiving element 440 while being rotated. To pass). If the period of light transmission to the light receiving element 440 (the number of light receptions per unit time) is the same as the rotation period (the number of revolutions per unit time) of the support plate 110, the controller (not shown) indicates that the substrate is separated from the support plate 110. Judgment, and may generate an alarm, and at the same time can stop the operation of the driver 124 to rotate the support plate 110.

이와 같은 방법에 의해, 공정 진행 중 회전하는 지지판(110)으로부터의 기판 이탈 여부를 확인할 수 있으며, 이를 통해 이탈된 기판에 의한 지지판(110)이나 용기(20) 등의 주변 장치의 손상을 방지할 수 있다.By such a method, it is possible to check whether the substrate is separated from the supporting plate 110 which rotates during the process, thereby preventing damage to peripheral devices such as the supporting plate 110 or the container 20 by the separated substrate. Can be.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

이하에 설명된 도면들은 단지 예시의 목적을 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.The drawings described below are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention.

도 1은 매엽식 기판 세정 설비의 레이아웃을 보여주는 도면이다.1 shows the layout of a sheet type substrate cleaning facility.

도 2는 도 1의 공정 챔버의 내부 구성을 보여주는 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view illustrating an internal configuration of the process chamber of FIG. 1.

도 3은 도 2의 기판 지지 유닛와 용기의 구성 및 약액 공급 배관 계통을 보여주는 측단면도이다.3 is a side cross-sectional view showing the structure of the substrate supporting unit and the container of FIG. 2 and the chemical liquid supply piping system.

도 4 및 도 5는 기판의 유무에 따른 감지 부재의 동작 상태를 보여주는 도면들이다.4 and 5 are views showing an operating state of the sensing member according to the presence or absence of a substrate.

도 6은 도 5의 평면도이다.6 is a plan view of FIG. 5.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

110 : 지지판 400 : 감지 부재110: support plate 400: sensing member

420 : 발광 소자 440 : 수광 소자420: light emitting element 440: light receiving element

460 : 광 전달부 461, 462 : 광 전달 소자460: light transmission unit 461, 462: light transmission element

463 : 광 이동 모듈 464,465 : 커버463: light transfer module 464,465: cover

Claims (18)

기판이 놓이는 지지판; 및A support plate on which the substrate is placed; And 상기 지지판 상의 상기 기판의 유무를 검출하는 감지 부재를 포함하되,It includes a sensing member for detecting the presence of the substrate on the support plate, 상기 감지 부재는,The sensing member, 상기 지지판의 상부에 배치되며, 상기 지지판의 상면을 향해 광을 방출하는 발광 소자;A light emitting element disposed above the support plate and emitting light toward an upper surface of the support plate; 상기 지지판의 하부에 배치되며, 광을 수광하는 수광 소자; 및A light receiving element disposed under the support plate and receiving light; And 상기 지지판에 설치되며, 상기 발광 소자에서 방출된 상기 광을 상기 수광 소자로 전달하는 광 전달부A light transmission part installed on the support plate and transferring the light emitted from the light emitting element to the light receiving element; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 유닛.Substrate support unit comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광 전달부는,The light transmission unit, 상기 발광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 상면에 설치되는 제 1 광 전달 소자;A first light transmitting element provided on an upper surface of the support plate so as to face the light emitting element; 상기 수광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 하면에 설치되는 제 2 광 전달 소자; 및A second light transmitting element disposed on a lower surface of the support plate so as to face the light receiving element; And 상기 제 1 광 전달 소자와 상기 제 2 광 전달 소자 간의 광 이동 경로를 제공하는 광 이동 모듈An optical movement module providing an optical movement path between the first and second light transmitting elements 을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 유닛.Substrate support unit comprising a. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 발광 소자는 방출되는 상기 광이 상기 지지판의 상면에 수직하도록 상기 지지판 상면에 대해 수직한 방향으로 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 유닛.And the light emitting element is provided in a direction perpendicular to the upper surface of the support plate such that the emitted light is perpendicular to the upper surface of the support plate. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 수광 소자는 수광되는 상기 광이 상기 지지판의 하면에 수직하도록 상기 지지판 하면에 대해 수직한 방향으로 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 유닛. And the light receiving element is provided in a direction perpendicular to the lower surface of the support plate such that the light received is perpendicular to the lower surface of the support plate. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 발광 소자와 상기 수광 소자는 동일 연직선 상에 위치하지 않도록 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 유닛.And the light emitting element and the light receiving element are provided so as not to be positioned on the same vertical line. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 광 이동 모듈은 광 섬유인 것을 특징으로 하는 기판 지지 유닛.And the optical transfer module is an optical fiber. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 지지판의 상면과 하면에는 상기 제 1 및 제 2 광 전달 소자가 삽입 설치되는 홈이 형성되고,Grooves in which the first and second light transmitting elements are inserted are formed on the upper and lower surfaces of the support plate. 상기 각각의 홈은 투명한 내부식성 합성 수지 재질의 커버로 밀폐되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 유닛.And each of the grooves is sealed by a transparent corrosion-resistant synthetic resin cover. 내부에 기판 처리 공정이 진행되는 공간을 제공하는 용기;A container providing a space therein for the substrate processing process to proceed; 상기 용기의 내측에 설치되며, 기판을 지지하는 기판 지지 유닛; 및A substrate support unit installed inside the container and supporting the substrate; And 상기 기판 지지 유닛에 지지된 상기 기판으로 처리 유체를 공급하여 상기 기판을 처리하는 처리 유체 공급 유닛을 포함하되,A processing fluid supply unit for supplying a processing fluid to the substrate supported by the substrate supporting unit to process the substrate, 상기 기판 지지 유닛은,The substrate support unit, 기판이 놓이는 지지판;A support plate on which the substrate is placed; 상기 지지판의 상부에 배치되며, 상기 지지판의 상면을 향해 광을 방출하는 발광 소자;A light emitting element disposed above the support plate and emitting light toward an upper surface of the support plate; 상기 지지판의 하부에 배치되며, 광을 수광하는 수광 소자; 및A light receiving element disposed under the support plate and receiving light; And 상기 지지판에 설치되며, 상기 발광 소자에서 방출된 상기 광을 상기 수광 소자로 전달하는 광 전달부A light transmission part installed on the support plate and transferring the light emitted from the light emitting element to the light receiving element; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.Substrate processing apparatus comprising a. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 광 전달부는,The light transmission unit, 상기 발광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 상면에 설치되는 제 1 광 전달 소자;A first light transmitting element provided on an upper surface of the support plate so as to face the light emitting element; 상기 수광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 하면에 설치되는 제 2 광 전달 소자; 및A second light transmitting element disposed on a lower surface of the support plate so as to face the light receiving element; And 상기 제 1 광 전달 소자와 상기 제 2 광 전달 소자 간의 광 이동 경로를 제공하는 광 이동 모듈An optical movement module providing an optical movement path between the first and second light transmitting elements 을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.Substrate processing apparatus comprising a. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 발광 소자는 방출되는 상기 광이 상기 지지판의 상면에 수직하도록 상기 지지판 상면에 대해 수직한 방향으로 제공되고,The light emitting device is provided in a direction perpendicular to the upper surface of the support plate so that the emitted light is perpendicular to the upper surface of the support plate, 상기 수광 소자는 수광되는 상기 광이 상기 지지판의 하면에 수직하도록 상기 지지판 하면에 대해 수직한 방향으로 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. And the light receiving element is provided in a direction perpendicular to the lower surface of the support plate such that the light received is perpendicular to the lower surface of the support plate. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 발광 소자와 상기 수광 소자는 동일 연직선 상에 위치하지 않도록 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And the light emitting element and the light receiving element are provided so as not to be positioned on the same vertical line. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 광 이동 모듈은 광 섬유인 것을 특징으로 하는 기판 지지 유닛.And the optical transfer module is an optical fiber. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 지지판의 상면과 하면에는 상기 제 1 및 제 2 광 전달 소자가 삽입 설치되는 홈이 형성되고,Grooves in which the first and second light transmitting elements are inserted are formed on the upper and lower surfaces of the support plate. 상기 각각의 홈은 투명한 내부식성 합성 수지 재질의 커버로 밀폐되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.Wherein each of the grooves is sealed by a transparent corrosion resistant synthetic resin cover. 기판을 지지판 상에 로딩하고,Load the substrate onto the support plate, 상기 지지판의 회전에 의해 상기 기판을 회전시키면서 상기 기판에 대한 처리 공정을 진행하되,While the substrate is rotated by the rotation of the support plate to proceed with the process for the substrate, 상기 기판 처리 공정의 진행시 상기 기판의 상기 지지판으로부터의 이탈 여부를 감지하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.And detecting whether the substrate is separated from the support plate during the substrate processing process. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 기판의 이탈 여부 감지는,Detect whether the substrate is separated, 상기 지지판의 상부에 배치된 발광 소자가 회전하는 상기 지지판을 향해 광을 방출하고,The light emitting element disposed above the support plate emits light toward the rotating support plate, 상기 지지판에 설치된 광 전달부가 상기 발광 소자에서 방출된 상기 광을 상기 지지판의 하부에 배치된 수광 소자로 전달하면서 진행되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.And a light transmitting unit provided on the support plate while transferring the light emitted from the light emitting element to a light receiving element disposed below the support plate. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 광 전달부는 상기 발광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 상면에 설치되는 제 1 광 전달 소자; 상기 수광 소자와 마주보도록 상기 지지판의 하면에 설치되는 제 2 광 전달 소자; 및 상기 제 1 광 전달 소자와 상기 제 2 광 전달 소자 간의 광 이동 경로를 제공하는 광 이동 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.The first light transmitting element is provided on the upper surface of the support plate to face the light emitting element; A second light transmitting element disposed on a lower surface of the support plate so as to face the light receiving element; And an optical movement module for providing a light movement path between the first light transmission element and the second light transmission element. 제 16 항에 있어서,The method of claim 16, 상기 발광 소자는 연속적으로 광을 방출하고,The light emitting device continuously emits light, 상기 제 1 및 제 2 광 전달 소자는 상기 지지판의 회전에 의해 주기적으로 상기 발광 소자 및 상기 수광 소자와 마주보는 위치를 통과하면서 상기 광을 상기 수광 소자로 전달하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.And the first and second light transmitting elements transmit the light to the light receiving element while passing through the position facing the light emitting element and the light receiving element periodically by the rotation of the support plate. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 단위 시간 당 상기 수광 소자로의 광 전달 회수가 단위 시간 당 상기 지지판의 회전 수와 동일하면, 알람을 발생하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.And generating an alarm if the number of times of light transmission to the light receiving element per unit time is equal to the number of rotations of the support plate per unit time.
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