KR20100057633A - 전기화학적 처리를 위한 장치 및 방법 - Google Patents

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엑스투르데 호네 게임베하
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Abstract

본 발명은 적어도 하나의 부품(3)의 전기화학적 처리를 위한 방법 및 장치(1)에 관한 것으로, 상기 장치는 처리 공간(2)과 상기 처리 공간(2)에 전해액(25)을 공급하기 위한 적어도 하나의 공급 장치를 가지며, 상기 전해액(8)의 pH 값을 셋팅하기 위한 적어도 하나의 셋팅 수단이 상기 처리 공간(2)의 앞에 구비된다.

Description

전기화학적 처리를 위한 장치 및 방법{Device and Method For Electrochemical Treatment}
본 발명은 적어도 하나의 부품의 전기화학적 처리를 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 부품들의 상기 전기화학적 처리는 전기 전도성이 있으며 따라서 금속성인 부품들의 특히 정확한 처리를 하는 것을 가능하게 만든다. 처리는 사실상 마모 없이 그리고 상기 재료에 대한 특별한 주의로 일어난다. 본 발명은, 특히, 산업 부문에 그리고 대량 생산이 관련된 곳에 사용된다.
전기화학적 처리는 전기 부식의 원리로 작용을 한다. 이를 위하여, 예를 들어, 상기 부품은 양극으로 접촉되며 공구는 음극으로 접촉된다. 또한 전해액으로 표시되는 전도성 액체는 상기 부품과 상기 공구 사이에 있는 작동 간극(working gap)을 통해 펌핑된다. 전압이 상기 부품과 공구 사이에 가해질 때, 전류가 흘러서, 금속 이온들이 전기분해에 의해 상기 부품으로부터 방출되는 상기 전기 분해를 시작한다. 이 경우에, 상기 재료의 한정된 부식이 이루어진다. 전기화학적 처리의 도움으로, 반경들 및 외형들이 심지어 접근이 어려운 위치들에서도 높은 정밀도로 제작될 수 있다. 더구나, 다양한 부품 위치들을 동시에 처리하는 것이 가능하다. 상기 공구와 상기 부품 사이에 직접 접촉이 발생하지 않기 때문에, 처리는 사실상 마모 없이 일어나며, 높고 일정한 공정 품질이 보장된다. 더구나, 기계적 응력들 또는 열적 영향들이 처리되는 상기 부품에 유발되지 않는다. 심지어 절단하기 어려운 재료들도 상기 처리 방법에 의해 어려움 없이 처리될 수 있다. 수초에 이를 수 있는, 짧은 사이클 타임들 때문에, 고도의 공정 신뢰성으로 상당한 양을 처리하는 것이 가능하다. 이 방법은 분사 노즐들의 덕트들의 재가공에 특히 널리 사용되고 있다.
부품들의 전기화학적 처리를 위한 장치들이 작동 중일 때, 침전물들이 특정의 환경들 하에 생성될 수 있다는 단점이 있는 것으로 증명되었다. 따라서, 전기화학적 처리 중에 방출된 금속들은, 예를 들어, 금속 수산화물들을 형성할 수 있다. 상기 금속 수산화물들은 예를 들어, 이들이, 특히 가공대상물들과 음극들의 위에 층들의 형태로, 침전물들을 형성한다는 점에 있어서, 문제점들을 야기할 수 있다. 때로는, 예를 들어, 매우 얇은 음극관들 및 다른 상대적으로 작은 오리피스들의 경우에 이들이 이와 같은 침전물들에 의해 완전하게 또는 부분적으로 폐쇄되며 그에 따라 전해액이 차단되는 것이 또한 일어날 수 있다.
그러므로, 본 발명의 목적은 선행기술로부터 발생한 상기 문제점들을 적어도 부분적으로 해결하는 것이며, 특히, 장치와 방법의 도움으로 이와 같은 침전물들이, 완전히 회피될 수 없다면, 적어도 감소될 수 있는 상기 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적들은 특허 청구항 1의 특징들에 따른 방법과 특허 청구항 10의 특징들에 다른 장치에 의해 달성된다. 본 발명의 다른 유익한 개량들은 종속적으로 표현된 특허 청구항들에 특정된다. 상기 종속적으로 표현된 특허 청구항들에 개별적으로 나열된 상기 특징들은 어떤 기술적으로 편리한 방식으로 상호 결합될 수 있으며 본 발명의 다른 개량들을 한정할 수 있다는 것에 주목해야 한다. 더구나, 상기 특허 청구항들에 특정된 상기 특징들은 상세한 설명에서 보다 구체적으로 상술되어 설명되며, 본 발명의 다른 바람직한 실시예들이 설명된다.
이 경우에, 상기 목적은 적어도 하나의 부품의 전기화학적 처리를 위한 방법에 의해 달성되며, 상기 부품은 전해액에 의해 적어도 부분적으로 둘러싸이며, 상기 방법은 다음의 단계들을 포함한다:
a) 상기 전해액의 pH 값의 적어도 하나의 변화의 생성;
b) 상기 적어도 하나의 부품에 상기 pH 값-변경 전해액의 공급.
여기에서 언급된 상기 방법은, 특히, 가공대상물 상의 재료의 부식을 위한 전기화학적 처리 방법이며, 전압이 상기 가공대상물과 공구 사이에 가해지며, 전해액은 상기 가공대상물과 공구의 중간 영역(틈)에 적어도 일시적으로 공급된다. 전해액의 "생성"이라는 용어는, 특히, 상기 요구된 pH 값이 획득되도록 상기 전해액의 상응하는 조성물이 활발히 셋팅되고, 혼합되고/되거나 모여지는 것을 의미한다. (만약 적절하다면, 간단하게 중간으로 저장된) 상기 전해액의 양은 그 후에 지시된 방식으로 상기 미리 결정된 처리 공정에 공급된다. 이 경우에, 상기 pH 값은 기본적으로 변경될 수 있으며/있거나 또한 상기 부품의 상기 전기화학적 처리를 위한 상기 방법 중에 (일시적으로) 일정하게 유지될 수 있다. "생성"이 가장 특별하게 의미하는 것은 상기 전해액이 단지 만들어지는 것이며, 즉 단지 현존하는 전해액에 첨가제를 간단하게 첨가하는 문제가 아니다는 것이다.
산성 전해액에서, 상기 방출된 금속들은 금속 수산화물들을 형성하지 않는다는 것이 놀랍게도 명백해졌다. 그러므로, 만약 상기 전해액의 상기 pH 값의 변화가, 예를 들어, 상기 pH 값의 저하를 수반한다면, 이에 따라서 변경된 상기 전해액은 전기화학적 처리를 위한 처리 공간으로 유입될 수 있다. 그 이후의 전기화학적 처리 중에, 이 경우에 위에 설명되었으며 종래기술에서 요구되지 않는 상기 침전물들이 기계 장치의 상기 처리 공간 또는 다른 곳의 내부에서 생성되지 않는다. 그러나, 상기 유익한 pH 값 감소에 추가하여, 상기 전해액의 상기 pH 값이 또한 증가될 수 있다. 대안으로, 상기 pH 값은 동시에 상기 전해액의 일 부분에서 증가될 수 있으며 상기 전해액의 다른 부분에서 감소될 수 있다. 이를 위하여, 그러므로, 상기 전해액은, 적절한 곳에서, 모니터링되거나, 적절한 곳에서, 상기 pH 값이라는 관점에서 (일정하게 그리고, 적절하다면, 제자리에서) 조정 또는 제어되며, 그 결과, 주어진 처리 상황에 대해, 특히, 금속 수산화물들의 형성이 두드러지게 감소되며, 예를 들어, 최소 값 이하로 정확하게 유지된다.
이는 유리하게도 상기 pH 값이 상기 전해액의 적어도 제1 부분 흐름에서 감소되고/되거나 상기 전해액의 적어도 하나의 제2 부분 흐름에서 증가되는 것이 일어날 수 있다. 그 결과로서 전기화학적 처리를 위해 상기 처리 공간을 통해 상기 pH 값-감소 부분의 흐름을 유도하며 상기 처리 공간을 통하지 않고 상기 전해액의 상기 pH 값-증가 부분의 흐름을 유도하는 것이 가능하게 된다. 따라서, 예를 들어, 본래 pH 값-중성인 전해액이 사용될 수 있으며, 동시에 본 발명에 따라 상기 설정된 목적이 달성될 수 있다.
상기 연관된 부분 흐름들이 서로 중화될 수 있도록 만약 상기 감소된 pH 값과 상기 증가된 pH 값이 선택된다면 이 경우에 가장 두드러지게 유익하다. 더구나, 본 발명에 따른 상기 방법의 수행에서, 처리되는 상기 부품들의 위와 상기 처리 공간에 있는 상기 침전물들이 그에 의해 회피되기 때문에, 만약 상기 감소된 pH 값을 가지는 상기 제1 부분 흐름이 상기 적어도 하나의 부품으로 유도된다면 유익하다는 것이 증명되었다.
더구나, 만약 상기 증가된 pH 값을 가지는 상기 부분 흐름이 상기 적어도 하나의 부품을 통하지 않고 유도된다면 유리하다. 본래 중성인 전해액은 이 경우에 상이한 pH 값들을 가지는 부분 흐름들로 나누어진다. 이미 위에서 설명된 바와 같이, 부분 흐름들은 그 다음에 상기 처리 공간을 통해 또는 이를 통하지 않고 상응하게 유도될 수 있다.
더구나, 상기 두 개의 부분 흐름들이 중화를 위해, 상기 적어도 하나의 부품의 하류에서, 합쳐지면 또한 유리하다. 한편으로는, 그렇지 않다면 특히 높거나 낮은 pH 값들을 가지는 전해액들에 대해 필요했을 것과는 달리, 내산성이 되거나 내염기성이 되도록, 상기 중화 지점의 하류에 있는 영역에서, 상기 장치를 설계하는 것이 더 이상 필요하지 않다. 특히, 만약에 상기 전해액이 상기 부분 영역들에서 다시 중화된다면, 상기 처리 플랜트의 특정한 부분들에서, 예를 들어, 파이프라인들 및 펌프들과 같은, 내산성 또는 내염기성 부품들이 생략될 수 있다. 더구나, 중화 중에, 상기 방출된 금속들이 수산화물들로 알려진 것을 형성하며, 예를 들어, 필터 시스템들과 같은, 알려진 수단에 의해 상기 전해액으로부터 분리되거나 침전될 수 있다는 것이 명백해졌다.
연속적인 작동 중에, 만약 상기 전해액이 폐쇄회로로 순환된다면 유익하다는 것을 증명했다. 결과적으로, 상기 요구되는 전해액의 체적은 최소한으로 감소되며 소비되는 전해액의 불필요한 발생이 회피된다.
더구나, 본 발명의 또 다른 가장 두드러지게 바람직한 실시예에서, 상기 pH 값을 셋팅하기 위해 사용되는 전기 투석 방법을 제공하고 있다. 이와 같은 전기 투석 방법은, 예를 들어, 전기 투석 셀에 의해 수행될 수 있다. 전기 투석은 이온성 성분들을 분리시키기 위해 이온 교환기 멤브레인들(ion exchanger membranes)이 전위차와 조합하여 사용되는 전기화학적으로 구동되는 멤브레인 공정이다. 상기 전기 투석 셀들의 도움으로, 전해액을 산과 염기 성분으로 분리시키는 것이 가능하다. 각각의 상기 성분들은 본 발명에 따른 상기 방법의 범위 내에서 사용될 수 있는 본 발명에 따른 부분 흐름을 형성할 수 있다. 특히, 1과 3 사이의 pH 값을 가지는 산성 부분 흐름 및 11 내지 13의 pH 값을 가지는 염기성 부분 흐름을 사용하는 것이 적합하다는 것을 증명했다. 더구나, 전기화학적 처리가 일어난 후에, 상기 산성 부분 흐름의 상기 pH 값이 상기 염기성 부분 흐름의 첨가에 의해 상기 방출된 금속 부분들이 수산화물들을 형성할 정도까지 증가될 수 있다는 것이 보여졌다. 이는 7과 9 사이의 pH 값의 범위에서, 특히 8의 pH 값에서 특별히 유리하게 수행될 수 있다.
더구나, 본 발명의 목적들은 또한 적어도 하나의 부품의 전기화학적 처리를 위한 장치에 의해 달성될 수 있으며, 상기 장치는 적어도 하나의 처리 공간과 상기 처리 공간에 전해액을 공급하기 위한 적어도 하나의 공급 장치를 가진다. 이 경우에, 상기 전해액의 상기 pH 값을 변경시키기 위한 적어도 하나의 셋팅 수단이 상기 처리 공간의 상류에 구비된다. 상기 셋팅 수단은, 예를 들어, 산 또는 염기를 위한 저장조나 계량 장치로 이루어질 수 있으며, 이에 의해 상기 산 또는 염기가 요구되는 양으로 상기 전해액에 첨가된다. 이런 방식으로 구성된 셋팅 수단으로, 상기 전해액의 상기 pH 값이 선택적으로 그리고 (예를 들어, 시점, 양, 작은 허용오차 범위 내에 있는 평균 pH 값, 등등) 직접적인 방식으로 낮춰지거나 상승될 수 있다. 그러나, 대안으로, 예를 들어, 하나의 부분 흐름에서 상기 pH 값을 감소시키며 다른 하나의 부분 흐름에서 상기 pH 값을 증가시키기 위해서, 적어도 두 개의 셋팅 수단의 사용이 또한 제공될 수 있다.
여기에서 언급된 상기 장치는 특히 본 발명에 따라 설명된 상기 방법을 수행하기에 적합하며, 그에 따라 상응하는 설명들에 대한 참조가 여기에 전부 이루어진다.
상기 pH 값을 증가 및/또는 감소시키는데 적합하도록 상기 셋팅 수단을 선택하는 것이 특히 바람직하다. 이를 위해, 본 발명의 가장 두드러지게 바람직한 실시예에서, 전기 투석 셀인 상기 셋팅 수단을 제공하고 있다. 상기 전기 투석 셀은 현존하는 전해액을 나눌 수 있다. 상기 전해액의 하나의 부분의 상기 pH 값은 이 경우에 감소되며, 반면에 상기 전해액의 다른 부분의 상기 pH 값은 증가된다. 상기 전기 투석 셀에 의해 나누어진 상기 전해액의 상기 부분의 양들은 상기 전기 투석 셀로부터 분리된 부분 흐름들로 배출될 수 있다. 정확하게 말해서 상기 낮춰진 pH 값을 가지는, 하나의 부분 흐름은 이를 위해 바람직하게는 상기 처리 공간을 통해 유도되며, 반면에, 정확하게 말해서 상기 증가된 pH 값을 가지는, 상기 제2의 부분 흐름은 바람직하게는 상기 처리 공간을 통하지 않고서 유도된다.
유리하게도, 이를 위해, 상기 장치에 있는 상기 공급 장치가 감소된 pH 값을 가지는 전해액을 위한 제1 유도 수단을 가지도록 설계된다. 상기 제1 유도 수단은 상기 셋팅 수단으로부터 상기 처리 공간으로 pH 값-변경 전해액을 안내한다.
더구나, 유리하게도 증가된 pH 값을 가지는 전해액을 위한 제2 유도 수단을 가지는 상기 공급 장치를 제공하고 있다. 상기 제2 유도 수단은 상기 셋팅 수단으로부터 나와서 상기 처리 공간을 통하지 않도록 상기 전해액을 유도한다.
위에 설명된 상기 방법과 관련하여 이미 언급된 바와 같이, 본 발명에 따른 상기 장치는 유리하게도 상기 공급 수단이 폐쇄회로로 설계되도록 설계된다. 결과적으로, 사용되는 상기 전해액은 상기 처리 장치의 내부에서 순환할 수 있으며 끊임없이 배출되거나 새로운 전해액에 의해 대체될 필요가 없다.
본 발명에 따른 상기 방법과 본 발명에 따른 상기 장치 양쪽 모두에 대해, 연속적인 작동의 경우에, 상기 전해액이 필터 장치의 수단을 통해 필터링된다면 유리하다. 결과적으로, 상기 전해액에 용해된 금속들 또는, 예를 들어, 현탁 물질들로서 존재할 수 있는, 형성된 화학 화합물들이, 상기 전해액으로부터 필터링될 수 있다. 특히, 챔버-타입 필터 프레스들이 필터 장치로서 사용된다.
더구나, 본 발명의 범위 내에서, 유리하게도 나누어지며 감소된 pH 값을 가지는 상기 부분 흐름에 상기 회로의 상이한 위치들에서 혼합되는 하나의 부분 흐름, 특히 증가된 pH 값을 가지는 부분 흐름을 제공할 수 있다.
게다가, 또한, 부분 영역들에서, 특히 상기 처리 공간의 하류에 놓여 있는 영역들에서, 상기 처리 공간으로부터 배출된 상기 부분 흐름의 상기 pH 값이 상기 pH 값 7과 9 사이의 범위까지 증가된다면 유리할 수 있다. 그에 의해 상기 금속 수산화물들의 형성이 특히 효율적인 방식으로 달성될 수 있으며, 이들은 그 후에, 예를 들어, 상기 필터 시스템들에 의해 상기 전해액으로부터 제거된다. 이 경우에, 예를 들어, 전기 투석 셀로서 설계된 상기 셋팅 수단은, 어떤 환경들 하에, 염기성 전해액 또는 다른 염기성 물질들의 계량된 첨가에 의해 추가적으로 도움을 받을 수 있다.
더구나, 본 발명의 범위 내에서, 유리하게도 적어도 하나의 중화 탱크를 상기 처리 공간의 하류에 배열하는 것을 제공할 수 있으며, 여기서 감소된 pH 값 및 증가된 pH 값을 가지는 상기 부분 흐름들이 완전하게 또는 적어도 부분적으로 중화된 형태로 저장조로 더 유도되기 전에 결합된다. 바람직하게는, 제공된 상기 필터 장치들은 상기 저장조의 상류에 배열되며, 그 결과 다른 순환을 위해 준비된 단지 새로운 전해액만이 상기 저장조에 수용된다.
본 발명에 의하여, 선행기술로부터 발생한 문제점들이 적어도 부분적으로 해결되며, 특히, 침전물들이 적어도 감소될 수 있게 하는 장치 및 방법이 제공된다.
본 발명 및 기술적 배경은 도면에 의해 아래에서 보다 상세하게 설명된다. 상기 도면이 본 발명의 특히 바람직한 설계 변형을 보이지만, 이 변형에 한정되지 않는다는 것에 주목해야 한다. 개략적인 도면에서:
도 1은 셋팅 수단과 두 개의 부분 흐름들을 가지는 본 발명에 따른 처리 장치를 보인다.
도 1은 전기화학적 처리를 위한 본 발명에 따른 처리 장치(1)를 도시하고 있다. 네 개의 부품들(3)이 전기화학적 처리를 위해 배열되는 처리 공간(2)이 도면의 오른쪽 위에 도시된다. 상기 부품들(3)은 양극(5)에 고정된다. 상기 부품들(3)의 위에는 상기 처리를 위해 상응하여 구비되는 음극(4)이 위치된다. 게다가, 전해액(6)이 상기 처리 공간(2)의 내부에 저장되며 상기 부품들(3)을 적시고 그 주위를 세척한다.
도시된 상기 처리 장치의 기능은, 저장조(7)에서 시작하여, 아래에서 설명된다. 상기 저장조(7)는 pH 값-중성인 전해액(8)이 들어 있다. 중성은 이 경우에 대략 7의 pH 값을 의미하는 것으로 이해된다. 그러나, 응용에 따라, 다른 pH 값을 가지는 전해액이 시작 점으로 선택될 수 있다. 상기 중성 전해액(8)은 상기 pH 값의 변화가 일어나는 전기 투석 셀(10)로 제1 펌프(9)에 의해 펌핑된다. 상기 전기 투석 셀(10)은 이 경우에 상기 요구되는 pH 값을 셋팅하기 위한 셋팅 수단(21)을 형성한다.
pH 값의 변화는 본 발명의 범위 내에서, 특히, 연속적으로 생성된 pH 값의 변동을 의미하는 것으로 이해된다. 이는 상기 pH 값이 셋팅 또는 변경 수단에서 값의 급증을 경험하는 것을 의미한다. 상기 변동은 전기화학적 처리 중에 계속되며 그에 의해, 예를 들어, pH 값을 가지는 처리 장치(1)의 충전 중에 한번 수행된 것과 같은, 오직 한번 만의 셋팅의 상기 pH 값과 다르다.
상기 전기 투석 셀(10)은 처음의 중성 전해액(8)을 나눈다. 이 경우에, 일부분의 상기 전해액의 pH 값은 낮아지며 일부분의 상기 전해액의 pH 값은 증가된다. 상기 pH 값-감소 부분의 전해액(25)은 이 경우에 바람직하게는 1과 3 사이의 pH 값을 가지며, 반면에 상기 pH 값-증가 부분의 전해액(24)은 11과 13 사이의 pH 값을 가진다. 상기 pH 값-감소 부분의 전해액(25)은 제2 펌프(12)에 의해 제1 부분 흐름(11)을 거쳐 제1 유도 수단(22)을 거쳐 상기 처리 공간(2)으로 이송된다. 그 결과로서, 단지 산성의 pH 값-감소 전해액(25)이 상기 처리 공간(2)에 들어 있게 된다. 상기 전해액이 상기 부품들(3)의 주위를 세척한 후에, 상기 전해액은 상기 제1 부분 흐름(11)을 통해 중화 탱크(13)로 좀더 배출된다.
상기 pH 값이 상기 전기 투석 셀(10)에서 증가되는 상기 부분의 전해액(24)은 제3 펌프(15)에 의해 상기 처리 공간(2)을 통하지 않고 제2 부분 흐름(14)을 거치고 제2 유도 수단(23)을 통하여 상기 중화 탱크(13)로 이송된다. 상기 중화 탱크(13)에서, 상기 제1 부분 흐름(11)과 상기 제2 부분 흐름(14)은 혼합되며, 중화가 일어난다. 이 경우에, 어떤 전제 조건들 하에서, 상기 처리 공간(2)에서 상기 부품들(3)로부터 방출된 재료의 부분이 반응할 수 있다. 특히, 상기 제1 부분 흐름(11)의 상기 전해액(25)에 용해된 금속들은 금속 수산화물들을 형성하기 위해 상기 중화 탱크에서 반응할 수 있으며 상기 중화 탱크(13)의 하부에 고형물들(16)로 침전될 수 있다. 상기 중화된 전해액(17)은 상기 중화 탱크(13)로부터 필터 장치(19)를 통해 상기 저장조(7)로 제4 펌프(18)에 의해 더 이송된다.
상기 필터 장치(19)에 의해, 상기 전해액(17)에 존재하는 잔류 현탁 물질들이 필터링되어 제거되며, 그 결과 단지 정제된 중성의 전해액(8)이 상기 처리 장치(1)의 회로의 다른 순환을 위해 상기 저장조(7)에 준비된다.
따라서 본 발명에 따라 구성된 상기 처리 장치(1)는 결과적으로 부품들 또는, 음극(4)과 양극(5)과 같은, 전극들 위에 침전물들이 형성되는 것을 효율적으로 방지한다.
본 발명에 따른 상기 처리 장치(1)의 전기화학적 처리는 결과적으로 침전물들이 없이 수행될 수 있다. 게다가, 특히 긴 작동 시간들에 걸쳐 상기 전해액(8)의 순환과 그에 따른 다수의 이용이 가능하며, 그에 따라 처리 비용이 또한 하락한다.
더구나, 본 발명은 도시된 상기 실시예들에 한정되지 않는다. 오히려, 특허 청구항들의 범위 내에 있는 본 발명의 수많은 변형들이 가능하다. 따라서, 예를 들어, 도 1에 보여지는, 상기 전기 투석 셀(10)과 상기 중화 탱크(13) 사이의 직접 연결 대신에, 상기 전해액(24)의 pH 값-증가 양이 또한 다수의 부분 흐름들로 나누어질 수 있으며 상이한 위치들에서, 말하자면 다수의 합치점들에서, 상기 제1 부분 흐름(11)에 혼합될 수 있다.
더구나, 셋팅 수단으로 상기 전기 투석 셀을 사용하는 것에 더하여, 거기에서 상기 요구되는 pH 값 변동들을 수행하기 위해, 상기 전해액 회로(20)의 다양한 위치들에서, 예를 들어, 계량 장치들의 형태와 같은, 추가적인 또는 다른 셋팅 수단을 배열하는 것이 또한 가능하다.
1 처리 장치
2 처리 공간
3 부품
4 음극
5 양극
6 전해액
7 저장조
8 중성이며 정제된 전해액
9 제1 펌프
10 전기 투석 셀
11 제1 부분 흐름
12 제2 펌프
13 중화 탱크
14 제2 부분 흐름
15 제3 펌프
16 고형물
17 중화된 전해액
18 제4 펌프
19 필터 장치
20 회로
21 셋팅 수단
22 제1 유도 수단
23 제2 유도 수단
24 pH 값-증가된 전해액
25 pH 값-감소된 전해액

Claims (15)

  1. 전해액(25)에 의해 적어도 부분적으로 둘러싸이는 적어도 하나의 부품(component; 3)의 전기화학적 처리를 위한 방법으로서,
    a) 상기 전해액(8)의 pH 값을 셋팅하는 단계;
    b) 상기 적어도 하나의 부품에 상기 pH 값-변경 전해액(pH value-modified electrolyte; 25)을 공급하는 단계;를 포함하는, 전기화학적 처리를 위한 방법.
  2. 앞선 청구항에 있어서,
    상기 pH 값은 셋팅(setting)을 위해 감소되는, 전기화학적 처리를 위한 방법.
  3. 앞선 청구항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 pH 값은 전해액(24)의 적어도 하나의 부분의 양에서 감소되며/되거나 적어도 하나의 다른 부분의 양에서 증가되는, 전기화학적 처리를 위한 방법.
  4. 앞선 청구항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 감소된 pH 값과 상기 증가된 pH 값은 상기 연관된 부분의 양들이 상호 중화될 수 있도록 선택되는, 전기화학적 처리를 위한 방법.
  5. 앞선 청구항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 감소된 pH 값을 가지는 상기 부분의 양들은 적어도 하나의 제1 부분 흐름(11)에서 상기 적어도 하나의 부품(3)으로 유도되는, 전기화학적 처리를 위한 방법.
  6. 앞선 청구항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 증가된 pH 값을 가지는 상기 부분의 양은 적어도 하나의 제2 부분 흐름(14)에서 상기 적어도 하나의 부품(3)을 통하지 않고 유도되는, 전기화학적 처리를 위한 방법.
  7. 앞선 청구항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 두 개의 부분의 양들(11, 14)은, 중화를 위해, 상기 적어도 하나의 부품(3)의 하류에서 합쳐지는, 전기화학적 처리를 위한 방법.
  8. 앞선 청구항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전해액(8)은 폐쇄회로(20)에서 순환되는, 전기화학적 처리를 위한 방법.
  9. 앞선 청구항들 중 어느 한 항에 있어서,
    전기 투석 방법이 상기 pH 값을 셋팅하기 위해 사용되는, 전기화학적 처리를 위한 방법.
  10. 적어도 하나의 부품(3)의 전기화학적 처리를 위한 장치(1)로서,
    처리 공간(2)과 상기 처리 공간(2)에 전해액(25)을 공급하기 위한 적어도 하나의 공급 장치를 가지며, 상기 전해액(8)의 pH 값을 셋팅하기 위한 적어도 하나의 셋팅 수단이 상기 처리 공간(2)의 상류에 구비되는, 전기화학적 처리를 위한 장치(1).
  11. 앞선 청구항에 있어서,
    상기 셋팅 수단은 상기 pH 값을 증가시키고/거나 감소시키는데 적합한, 전기화학적 처리를 위한 장치(1).
  12. 앞선 청구항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 셋팅 수단(21)은 전기 투석 셀(electrodialysis cell; 10)인, 전기화학적 처리를 위한 장치(1).
  13. 앞선 청구항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공급 장치는 감소된 pH 값을 가지는 전해액(25)을 위해 제1 유도 수단(first conduction means; 22)을 가지는, 전기화학적 처리를 위한 장치(1).
  14. 앞선 청구항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공급 장치는 증가된 pH 값을 가지는 전해액(24)을 위해 제2 유도 수단(23)을 가지는, 전기화학적 처리를 위한 장치(1).
  15. 앞선 청구항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공급 수단은 폐쇄회로(closed circuit; 20)로서 설계되는, 전기화학적 처리를 위한 장치(1).
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