KR20100054458A - 초음파 노즐 및 이를 포함하는 기판 세정 장치 - Google Patents
초음파 노즐 및 이를 포함하는 기판 세정 장치 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (4)
- 초음파 노즐 및 이를 포함하는 기판 세정 장치에 있어서,반도체 기판이 안착되는 스핀헤드와,상기 스핀헤드의 둘레에 구비된 보울과,상기 반도체 기판의 표면에 세정액을 공급하기 위한 세정액 노즐과상기 세정액에 다중 주파수의 초음파 진동을 인가하는 초음파 노즐을 포함하는 초음파 기판 세정 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 초음파 노즐은, 하우징에 결합되도록 플랜지가 상단에 형성되어 있고 하단에는 테이퍼형으로 넓게 발진부가 형성된 트랜스미터와, 상기 트랜스미터의 양측에 대향되도록 설치됨과 아울러 서로 다른 주파수의 초음파가 발진되도록 구성된 제1, 2진동자와, 상기 제1, 2진동자에서 초음파가 발진될 때 주파수가 간섭되지 않도록 구성된 기판 세정 장치.
- 제 2항에 있어서,상기 차단수단은 트랜스미터의 중간 부분에 형성되어 초음파가 전달되지 않도록 구성된 차단홈으로 구성되는 기판 세정 장치.
- 제 1항 내지 3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 초음파 노즐은하우징에 결합되도록 플랜지가 상단에 형성되어 있고 하단에는 테이퍼형으로 넓게 발진부가 형성된 트랜스미터와,상기 트랜스미터의 양측에 대향되도록 설치됨과 아울러 서로 다른 주파수의 초음파가 발진되도록 구성된 제1, 2진동자와,상기 제1, 2진동자에서 초음파가 발진될 때 주파수가 간섭되지 않도록 형성된 차단홈을 포함하는 기판 세정 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080113401A KR101017104B1 (ko) | 2008-11-14 | 2008-11-14 | 초음파 노즐 및 이를 포함하는 기판 세정 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080113401A KR101017104B1 (ko) | 2008-11-14 | 2008-11-14 | 초음파 노즐 및 이를 포함하는 기판 세정 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100054458A true KR20100054458A (ko) | 2010-05-25 |
KR101017104B1 KR101017104B1 (ko) | 2011-02-25 |
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ID=42279183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080113401A KR101017104B1 (ko) | 2008-11-14 | 2008-11-14 | 초음파 노즐 및 이를 포함하는 기판 세정 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101017104B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8857334B2 (en) | 2012-03-05 | 2014-10-14 | Samsung Electronics Co., Ltd | Cleaning apparatuses for printing plates and printing apparatuses including the same |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101662287B1 (ko) | 2014-12-04 | 2016-10-14 | 주식회사 듀라소닉 | 초음파 세정장치 |
KR20240054760A (ko) | 2022-10-19 | 2024-04-26 | 주식회사 듀라소닉 | 진동 전달 부재의 두께와 주파수 변화를 이용한 초음파 세정 장치 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3444574B2 (ja) * | 1996-01-17 | 2003-09-08 | 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 | 基板洗浄ノズル |
KR100473475B1 (ko) * | 2002-08-09 | 2005-03-10 | 삼성전자주식회사 | 기판 세정 장치 |
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US8857334B2 (en) | 2012-03-05 | 2014-10-14 | Samsung Electronics Co., Ltd | Cleaning apparatuses for printing plates and printing apparatuses including the same |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR101017104B1 (ko) | 2011-02-25 |
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