KR20100019179A - 페이스트 디스펜서 및 이를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법 - Google Patents

페이스트 디스펜서 및 이를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법 Download PDF

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Abstract

본 발명에서는 헤드유닛에 장착된 단면적센서에 대하여 페이스트 패턴에 대한 기준을 제공하는 참조유닛을 이용하여 교정을 수행함으로써, 단면적센서의 계측정확도를 향상시킬 수 있고, 이에 따라 생산제품의 불량을 방지할 수 있는 페이스트 디스펜서가 제시된다.
페이스트, 디스펜서, 단면적센서

Description

페이스트 디스펜서 및 이를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법 {PASTE DISPENSER AND METHOD FOR FORMING PASTE PATTERN USING THE SAME}
본 발명은 기판상에 페이스트 패턴을 형성하는 페이스트 디스펜서 및 이를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법에 관한 것이다.
페이스트 디스펜서는 각종 평판디스플레이(FPD, Flat Panel Display)의 제조에 있어서 기판들의 접착 또는 씰링을 위하여 기판에 소정의 패턴으로 페이스트를 도포하는 장치이다.
이와 같은 페이스트 디스펜서는, 기판이 탑재되는 스테이지와, 페이스트가 토출되는 노즐이 장착된 헤드유닛과, 헤드유닛이 지지되는 헤드지지대와, 헤드유닛과 헤드지지대의 사이에 개재되어 헤드유닛을 헤드지지대가 연장되는 방향(X축방향)으로 이동시키는 X축구동부를 포함하여 구성된다. 페이스트 디스펜서에는 대면적의 기판에 다수의 페이스트 패턴을 동시에 형성하여 생산성을 향상시킬 수 있도록 다수개의 헤드유닛이 구비된다.
이러한 페이스트 디스펜서는 노즐과 기판 사이의 갭을 조절하면서 기판에 페이스트 패턴을 형성하는데, 이를 위하여 헤드유닛에는 노즐과 기판 사이의 갭데이 터를 측정하는 레이저변위센서와, 노즐 및 레이저변위센서를 Z축방향(상하측방향)으로 이동시키는 Z축구동부가 구비된다. 또한, 헤드유닛에는 기판에 도포된 페이스트 패턴의 단면적을 측정하여 페이스트 패턴의 불량을 검사하기 위한 단면적센서가 구비된다.
레이저변위센서는 레이저를 발광되는 발광부와, 발광부와 소정의 간격으로 이격되어 레이저가 수광되는 수광부로 구성되며, 발광부에서 발광되어 기판에 반사된 레이저의 결상위치에 따른 전기신호를 제어부로 출력하여 기판과 노즐 사이의 갭데이터를 계측하는 역할을 수행한다.
단면적센서는 기판상에 형성된 페이스트 패턴에 레이저를 조사하여 스캔하고 이로부터 반사된 레이저의 수광정보에 따라 페이스트 패턴의 단면적을 계측하는 역할을 수행하며, 단면적센서로부터 계측된 단면적 데이터로부터 페이스트 패턴의 불량여부를 판단할 수 있다.
그러나, 종래의 페이스트 디스펜서는 각각의 단면적센서가 개별적으로 그 측정기준이 상이하기 때문에 일정하게 도포된 페이스트 패턴의 단면적을 측정하는 경우, 각 단면적센서에 따라 각각 다른 단면적이 계측되는 현상이 발생되는 문제가 있다. 이와 같이, 각 단면적센서에 따라 다른 값을 보이는 이유는 외부환경의 변화 또는 피도포체, 즉, 기판 또는 글라스의 종류의 변화 및 단면적센서를 헤드유닛에 설치하는 과정상에서의 오차에 기인하는 것으로 판단될 수 있다.
따라서, 종래의 페이스트 디스펜서는 상기한 바와 같은 단면적센서마다의 계측값의 차이에 의하여 평판디스플레이의 생산에 오차를 야기할 수 있다는 문제점이 있다.
본 발명은 상기한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 페이스트 디스펜서의 페이스트의 도포 전 또는 도포 후에 헤드유닛에 장착된 단면적센서에 대하여 페이스트 패턴의 단면적에 대한 기준을 제공하는 참조유닛을 이용하여 교정이 수행되도록 함으로써, 단면적센서의 계측정확도를 향상시킬 수 있고 이에 따라 생산제품의 불량을 방지할 수 있는 페이스트 디스펜서 및 이를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법을 제공하는 데에 있다.
상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서는, 기판이 안착되는 스테이지와, 페이스트가 토출되는 노즐 및 기판에 형성된 페이스트 패턴의 단면적을 측정하는 단면적센서가 구비되는 헤드유닛과, 단면적센서의 교정을 위하여 페이스트 패턴의 단면적에 대한 기준을 제공하는 참조유닛을 포함하여 구성될 수 있다.
참조유닛은, 평판형의 플레이트와, 플레이트에 도포되며 미리 설정된 단면적을 갖는 적어도 하나의 시편을 포함하여 구성될 수 있다. 여기에서, 참조유닛의 플레이트는 스테이지에 안착되도록 구성되는 것이 바람직하다.
또한, 상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법은 기판이 안착되는 스테이지와, 페이스트가 토출되는 노즐 및 기판에 형성된 페이스트 패턴의 단면적을 측정하는 단면적센서가 구비 되는 헤드유닛과, 단면적센서의 교정을 위하여 페이스트 패턴의 단면적에 대한 기준을 제공하는 참조유닛을 포함하는 페이스트 디스펜서에 있어서, 참조유닛의 페이스트 패턴의 단면적에 대한 기준과 단면적센서의 측정값을 비교하여 측정오차를 검출하는 제1단계와, 제1단계에서 검출된 측정오차를 기준으로 단면적센서를 교정하는 제2단계를 포함하여 구성될 수 있다.
여기에서, 참조유닛은, 평판형의 플레이트와, 플레이트에 도포되며 미리 설정된 단면적을 갖는 적어도 하나의 시편을 포함하여 구성될 수 있으며, 제1단계는, (a) 단면적센서를 이용하여 시편의 단면적을 측정하는 단계와, (b) (a)단계에서 측정된 시편의 단면적과 시편의 설정된 단면적을 비교하는 단계를 포함하여 구성될 수 있다.
또한, (a)단계 이전에, 시편이 도포된 플레이트를 스테이지에 안착시키는 단계와, 플레이트 또는 단면적센서 중 적어도 어느 하나를 측정이 가능한 위치로 이동시키는 단계가 더 포함될 수 있다.
한편, 제2단계의 수행 후 제1단계를 다시 수행하여 단면적센서의 교정여부를 판단하고, 측정오차가 검출된 경우 제2단계를 재 수행하도록 구성되는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 페이스트 디스펜서는 각각의 단면적센서에 대하여 참조유닛을 이용하여 교정이 수행되도록 함으로써, 외부환경의 변화 또는 피도포체 종류와 무관하게 모든 단면적센서에서 일관된 측정값이 나올 수 있도록 할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서는 단면적센서에서 측정된 단면적과 기판상에 실제로 도포된 페이스트 패턴의 단면적을 동일하게 할 수 있으므로, 생산제품의 불량을 방지할 수 있고 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서 및 이를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서가 도시된 사시도이고, 도 2는 도 1의 페이스트 디스펜서의 헤드유닛이 도시된 사시도이며, 도 3은 도 1의 페이스트 디스펜서의 단면적센서가 도시된 개략도이고, 도4는 도 1의 페이스트 디스펜서의 참조유닛이 도시된 사시도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서는, 베이스프레임(10)과, 베이스프레임(10)에 고정되어 기판(20)이 안착되는 스테이지(30)와, 스테이지(30)의 양측에 Y축방향으로 배치되는 한 쌍의 LM가이드(40)와, 한 쌍의 LM가이드(40)에 각각 지지되도록 설치되며 X축방향으로 연장되는 헤드지지대(50)와, 헤드지지대(50)에 설치되는 복수의 헤드유닛(60)과, 헤드유닛(60)을 헤드지지대(50)에 설치함과 아울러 헤드유닛(60)을 X축방향, 즉, 복수의 헤드유닛(60)이 배치된 방향)으로 수평 이동시키는 X축구동부(70)와, 헤드유닛(60) 및 X축구동부(70)의 동작을 제어하는 제어부(미도시)를 포함하여 구성될 수 있다.
베이스프레임(10)에는 스테이지(30)를 베이스프레임(10)의 전후방향(Y축방 향, 복수의 헤드유닛(60)이 배치되는 방향의 수직방향)으로 이동시키는 제1구동장치(미도시)가 구비될 수 있으며, 헤드지지대(50)에는 헤드지지대(50)를 LM가이드(40)를 따라 이동시키는 제2구동장치(59)가 구비될 수 있다. 헤드지지대(50)는 기판(20)이 대면적으로 이루어지는 경우에 페이스트 패턴을 형성하는 공정의 효율을 향상시킬 수 있도록 복수로 설치될 수 있다.
헤드유닛(60)은, 페이스트가 충진되는 시린지(61)와, 시린지(61)와 연통되며 페이스트가 토출되는 노즐(62)과, 노즐(62)에 인접되게 배치되어 노즐(62)과 기판(20) 사이의 갭데이터를 측정하는 레이저변위센서(63)와, 노즐(62) 및 레이저변위센서(63)를 Y축방향으로 이동시키는 Y축구동부(64)와, 노즐(62) 및 레이저변위센서(63)를 Z축방향으로 이동시키는 Z축구동부(65)를 포함하여 구성될 수 있다.
레이저변위센서(63)는 레이저를 발광하는 발광부(631)와, 발광부(631)와 소정의 간격으로 이격되며 기판(20)에서 반사된 레이저가 수광되는 수광부(632)로 구성되며, 발광부(631)에서 발광되어 기판(20)에 반사된 레이저의 결상위치에 따른 전기신호를 제어부로 출력하여 기판(20)과 노즐(62) 사이의 갭데이터를 계측하는 역할을 수행한다.
또한, 헤드유닛(60)에는 기판에 도포된 페이스트 패턴의 단면적을 측정하는 단면적센서(66)가 설치된다. 도 3에 도시된 바와 같이, 단면적센서(66)의 내부에는 일정한 각도로 왕복으로 회전하는 렌즈(661)가 구비되며, 렌즈(661)를 통하여 기판(20)으로 레이저를 연속적으로 방출하여 페이스트 패턴(P)을 스캔하는 것을 통하여 페이스트 패턴(P)의 단면적을 측정한다. 단면적센서(66)으로부터 측정된 페이스 트 패턴(P)의 단면적 데이터는 페이스트 패턴(P)의 불량여부를 판단하는 데에 이용된다.
또한, 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서에는 단면적센서(66)의 교정(calibration)을 위하여 페이스트 패턴(P)의 단면적에 대한 기준을 제공하는 참조유닛(90)이 구비된다. 도 4에 도시된 바와 같이, 참조유닛(90)은 평판형의 플레이트(91)와, 플레이트(91)에 일정하게 도포되며 미리 기준값으로 설정된 단면적을 갖는 적어도 하나의 시편(92)을 포함하여 구성될 수 있다.
이에 따라, 참조유닛(90)의 플레이트(91)에 도포된 시편(92)이 페이스트 패턴(P)의 단면적에 대한 기준이 되며, 단면적센서(66)로 시편(92)의 단면적을 측정하고, 이와 같이 측정된 단면적의 측정값과 시편(92)의 미리 설정된 단면적의 기준값을 비교하는 과정을 통하여 단면적센서(66)가 정확한 단면적을 측정하는지 여부를 판단하고, 단면적센서(66)에서 측정된 단면적의 측정값과 시편(92)의 설정된 단면적의 기준값이 서로 다른 경우에 단면적센서(66)를 교정하는 과정을 통하여 단면적센서(66)의 교정이 진행될 수 있다.
여기에서, 단면적센서(66)의 교정을 별도의 장비를 이용하여 수행하지 않고 참조유닛(90)을 페이스트 디스펜서 바로 적용하여 단면적센서(66)의 교정을 수행할 수 있도록, 참조유닛(90)의 플레이트(91)는 스테이지(30)에 안착되도록 구성되는 것이 바람직하다. 다만, 본 발명은 여기에 한정되지 아니하며, 단면적센서(66)의 교정은 본 발명의 참조유닛(90)이 설치된 별도의 장비를 이용하여 수행될 수 있으며, 이를 위하여 참조유닛(90)의 플레이트(91)는 이와 같은 교정장비에 적합한 구 성으로 이루어질 수 있다. 한편, 플레이트(91)는 실제공정에서의 조건과 동일한 조건을 제공하기 위하여 기판(20)과 동일한 형상 및 재질로 이루어질 수 있다. 또한, 참조유닛(90)은 페이스트 디스펜서에 탈착이 가능하게 일체로 고정될 수 있다.
참조유닛(90)의 시편(92)은 복수로 구비되는 것이 하나의 참조유닛(90)으로 다수의 단면적센서(66)를 동시에 교정하는 데에 바람직하다. 또한, 참조유닛(90)의 시편(92)은 기판(20)에 적용될 수 있는 페이스트 패턴(P) 단면적의 크기 별로 복수로 구비되는 것이 페이스트 디스펜서에 적용되는 페이스트 패턴(P)의 단면적이 달라질 때마다 그에 해당되는 참조유닛(90)을 교체하여야 하는 복잡성을 피할 수 있다. 물론, 본 발명은 참조유닛(90)의 시편(92)의 수에 한정되지 아니하며, 시편(92)은 요구에 따라 적어도 하나 이상의 적절한 수로 구비될 수 있다. 이와 같은 시편(92)은 플레이트(91)에 도포된 후 단면적을 측정하는 센서나 기타 다른 측정장치를 이용하여 단면적이 측정되며, 측정된 시편(92)의 단면적은 참조유닛(90)의 단면적에 관한 기준값으로서의 역할을 한다. 한편, 시편(92)은 실제공정에서의 조건과 동일한 조건을 제공하기 위하여 기판(20)에 도포되는 페이스트와 동일한 재질로 이루어질 수 있다.
이와 같이, 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서는 참조유닛(90)상에 도포된 시편(92)을 단면적센서(66)로 스캔하여 단면적을 측정하고, 이와 같이 단면적센서(66)에 의하여 측정된 단면적의 측정값과 시편(92)의 실제의 단면적인 기준값을 비교하여, 측정오차가 발생한 경우, 측정오차를 기준으로 단면적센서(66)를 교정할 수 있으므로, 단면적센서(66)의 정확도를 향상시킬 수 있다.
이하, 도 5를 참조하여 상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서의 작용 및 효과에 대하여 설명한다. 도 5는 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서의 단면적센서의 교정이 순차적으로 도시된 순서도이다.
먼저, 기판(20)에 페이스트를 도포하는 과정은 헤드유닛(60)이 X축방향 또는 Y축방향으로 수평으로 이동되면서, 시린지(61)에 충전된 페이스트가 노즐(62)을 통하여 기판(20)상으로 토출되는 과정으로 진행된다. 이때, 레이저변위센서(63)를 통하여 측정된 기판(20)과 노즐(62) 사이의 갭데이터를 기준으로 노즐(62)이 Z축방향으로 이동되며, 이에 따라, 기판(20)과 노즐(62) 사이의 갭이 일정하게 유지된다.
그리고, 단면적센서(66)는 기판(20)상에 형성된 페이스트 패턴의 단면적을 측정하며, 이와 같은 단면적센서(66)에서 측정된 페이스트 패턴의 단면적 데이터는 페이스트 패턴의 불량여부의 판단에 이용된다.
여기에서, 상기한 바와 같이, 단면적센서(66)는 피도포체의 종류나 외부환경에 의한 영향에 의하여 그 측정값이 달라질 수 있는바, 이에 따라 기판(20)에 페이스트를 도포하기 이전이나, 기판(20)에 페이스트를 도포한 이후에 단면적센서(66)가 정확한 측정을 하고 있는지를 계측하는 단계가 수행될 수 있으며, 그 계측값에 측정오차가 발생하는 경우에는 단면적센서(66)를 교정하는 단계가 이어질 수 있다.
즉, 참조유닛(90)의 플레이트(91)에 각 단면적 값을 갖는 시편(92)을 도포하고 정확한 측정값을 측정할 수 있는 센서나 기타 단면적을 측정할 수 있는 장치를 이용하여 각 시편(92)의 단면적을 측정한다. 이에 의한 시편(92)의 측정된 단면적은 단면적센서(66)의 교정을 위한 기준으로서의 역할을 한다.
그리고, 참조유닛(90)을 스테이지(30)에 안착한 후, 헤드유닛(60)을 이동하여 단면적센서(66)를 참조유닛(90)의 시편(92)으로 위치시키거나, 스테이지(30)를 이동하거나 참조유닛(90)을 이동하여 시편(92)을 단면적센서(66)로 위치시켜, 단면적센서(66)로 시편(92)의 단면적을 측정할 수 있도록 한다. 이때, 참조유닛(90)의 플레이트(91)에 다양한 크기의 단면적을 갖는 복수의 시편(92)이 구비된 경우에는 실제 기판(20)에 적용되는 크기의 단면적을 갖는 시편(92)이 단면적센서(66)에 의하여 측정될 수 있도록 한다(S10).
그리고, 단면적센서(66)를 작동하여 시편(92)의 단면적을 측정한다(S20). 그리고, 단면적센서(66)가 시편(92)의 단면적을 측정한 후, 제어부는 단면적센서(66)에서 측정한 단면적의 측정값과 해당 시편(92)의 실제 단면적인 기준값을 비교(S30)하여, 단면적센서(66)가 시편(92)의 단면적을 정확하게 측정하는지, 즉, 측정값과 기준값에 측정오차가 발생하는지를 판단(S40)한다.
이때, 단면적센서(66)가 시편(92)의 단면적을 정확하게 측정하지 못하여 측정오차가 발생한 경우에는 단면적센서(66)를 교정한다(S50). 여기에서, 단면적센서(66)를 교정한 후에는 단면적센서(66)가 정확한 단면적을 측정하는지를 확인하기 위하여 시편(92)을 다시 측정(S20)하여 측정값과 기준값을 비교(S30)하고 측정오차가 다시 발생하는지 판단(S40)하는 과정이 추가로 진행될 수 있다.
그리고, 단면적센서(66)가 정확한 측정값을 측정하는 경우, 또는 단면적센서(66)의 측정오차가 정확히 교정된 경우에는 스테이지(30)로부터 참조유닛(90)을 제거하고, 스테이지(30)에 기판(20)을 안착시킨 후 기판(20)에 페이스트 패턴을 도 포하는 과정을 수행하게 된다(S60). 한편, 참조유닛(90)이 페이스트 디스펜서에 고정되는 경우에는 스테이지(30)로부터 참조유닛(90)을 제거하는 과정은 생략될 수 있다.
상기한 바와 같이 구성되고 동작하는 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서는 단면적센서(66)의 교정을 수행할 수 있는 참조유닛(90)을 구비하고, 외부환경 또는 피도포체의 변경에 의하여 단면적센서(66)의 측정기준이 변경되는 경우, 참조유닛(90)을 이용하여 단면적센서(66)가 정확한 값을 측정하도록 함으로써, 생산제품의 불량을 방지하여 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
본 발명의 실시예에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서가 도시된 사시도이다.
도 2는 도 1의 페이스트 디스펜서의 헤드유닛이 도시된 사시도이다.
도 3은 도 1의 페이스트 디스펜서의 단면적센서가 도시된 개략도이다.
도 4는 도 1의 페이스트 디스펜서의 참조유닛이 도시된 사시도이다.
도 5는 본 발명에 따른 페이스트 디스펜서의 단면적센서의 교정방법이 순차적으로 도시된 순서도이다.
*** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ***
20: 기판 30: 스테이지
40: LM가이드 50: 헤드지지대
60: 헤드유닛 62: 노즐
63: 레이저변위센서 66: 단면적센서
90: 참조유닛 91: 플레이트
92: 시편

Claims (7)

  1. 기판이 안착되는 스테이지;
    페이스트가 토출되는 노즐 및 상기 기판에 형성된 페이스트 패턴의 단면적을 측정하는 단면적센서가 구비되는 헤드유닛; 및
    상기 단면적센서의 교정을 위하여 페이스트 패턴의 단면적에 대한 기준을 제공하는 참조유닛을 포함하는 페이스트 디스펜서.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 참조유닛은,
    플레이트; 및
    상기 플레이트에 도포되며 미리 설정된 단면적을 갖는 적어도 하나의 시편을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 페이스트 디스펜서.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 참조유닛의 플레이트는 상기 스테이지에 안착되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 페이스트 디스펜서.
  4. 기판이 안착되는 스테이지와, 페이스트가 토출되는 노즐 및 상기 기판에 형성된 페이스트 패턴의 단면적을 측정하는 단면적센서가 구비되는 헤드유닛과, 상기 단면적센서의 교정을 위하여 페이스트 패턴의 단면적에 대한 기준을 제공하는 참조유닛을 포함하는 페이스트 디스펜서에 있어서,
    상기 참조유닛의 페이스트 패턴의 단면적에 대한 기준과 상기 단면적센서의 측정값을 비교하여 측정오차를 검출하는 제1단계; 및
    상기 제1단계에서 검출된 측정오차를 기준으로 상기 단면적센서를 교정하는 제2단계를 포함하는 페이스트 디스펜서를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 참조유닛은,
    플레이트; 및
    상기 플레이트에 도포되며 미리 설정된 단면적을 갖는 적어도 하나의 시편을 포함하여 구성되고,
    상기 제1단계는,
    (a) 상기 단면적센서를 이용하여 상기 시편의 단면적을 측정하는 단계; 및
    (b) 상기 (a)단계에서 측정된 상기 시편의 단면적과 상기 시편의 설정된 단면적을 비교하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 페이스트 디스펜서를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 (a)단계 이전에,
    상기 시편이 도포된 플레이트를 상기 스테이지에 안착시키는 단계; 및
    상기 플레이트 또는 상기 단면적센서 중 적어도 어느 하나를 측정이 가능한 위치로 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 페이스트 디스펜서를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    상기 제2단계의 수행 후 상기 제1단계를 다시 수행하여 상기 단면적센서의 교정여부를 판단하고, 측정오차가 검출된 경우 상기 제2단계를 재 수행하는 것을 특징으로 하는 페이스트 디스펜서를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170036191A (ko) 2015-09-23 2017-04-03 주식회사 탑 엔지니어링 페이스트의 단면적 측정 방법

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120069139A (ko) * 2010-12-20 2012-06-28 주식회사 탑 엔지니어링 페이스트 디스펜서
CN102085509A (zh) * 2010-12-31 2011-06-08 东莞东聚电子电讯制品有限公司 一种组合式自动涂胶机构
CN102989640B (zh) * 2012-12-14 2015-01-21 浙江天齐电气有限公司 配电箱密封系统精密制造控制系统
CN102989630B (zh) * 2012-12-14 2015-02-04 浙江天齐电气有限公司 配电箱密封系统精密加装设备
CN104874522A (zh) * 2015-05-27 2015-09-02 深圳天珑无线科技有限公司 点胶机及点胶位置测定方法
DE202016103570U1 (de) * 2016-07-04 2017-10-05 Nordson Corp. lnspektionsvorrichtung zum Inspizieren von Klebstoffmustern auf einem Substrat
CN107883884B (zh) * 2016-09-30 2019-10-25 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种光学测量装置和方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7456949B2 (en) * 1999-09-14 2008-11-25 Amo Manufacturing Usa, Llc Methods and systems for laser calibration and eye tracker camera alignment
DE10048749A1 (de) * 2000-09-29 2002-04-11 Josef Schucker Anordnung zum Aufbringen von Klebstoff auf ein Werkstück
JP4162086B2 (ja) * 2003-08-26 2008-10-08 Ｔｄｋ株式会社 液体材料塗布方法
EP1613138A1 (de) * 2004-06-30 2006-01-04 Unaxis International Trading Ltd Vorrichtung zum Auftragen von Klebstoff auf ein Substrat
US7283256B2 (en) * 2004-09-21 2007-10-16 Chapman Instruments, Inc. Method and apparatus for measuring wafer thickness
KR100591692B1 (ko) * 2005-10-31 2006-06-22 주식회사 탑 엔지니어링 페이스트 도포장치의 디스펜스 헤드

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170036191A (ko) 2015-09-23 2017-04-03 주식회사 탑 엔지니어링 페이스트의 단면적 측정 방법

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