KR20100016539A - Anti-dazzling film, anti-dazzling polarizing plate, and image display device - Google Patents

Anti-dazzling film, anti-dazzling polarizing plate, and image display device Download PDF

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성우 조
강용 손
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

This invention provides an anti-dazzling film comprising a transparent support and an anti-dazzling layer having a fine concavoconvex surface provided on the transparent support. The anti-dazzling film satisfies the requirements that the relative scattering light intensity T (20) defined as a relative scattering light intensity when the relative scattering intensity in an anti-dazzling layer side normal direction (12) upon the incidence of light through the transparent support side at an angle of incidence (Φ) (20°) is T (Φ), is 0.0001 to 0.0005%, and the relative scattering light intensity T (30) defined as a relative scattering light intensity for 30° incidence is 0.00004 to 0.00025%.

Description

방현 필름, 방현성 편광판 및 화상 표시 장치{ANTI-DAZZLING FILM, ANTI-DAZZLING POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}Anti-glare film, anti-glare polarizing plate and image display device {ANTI-DAZZLING FILM, ANTI-DAZZLING POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}

본 발명은 우수한 방현 성능을 나타내면서 헤이즈가 낮은 방현[안티-글래어(anti-glare)] 필름, 및 그 방현 필름을 구비한 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an anti-glare (anti-glare) film having a low haze while exhibiting excellent anti-glare performance, and an image display device having the anti-glare film.

본 발명은 우수한 방현 성능을 나타내면서 빛이 바래지 않고, 화상 표시 장치에 적용하였을 때에, 눈부심이 발생하지 않으며 높은 콘트라스트를 발현하고, 양호한 시인성(視認性)을 부여하는 방현(안티-글레어) 필름, 그 방현 필름을 구비한 방현성 편광판 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention is an anti-glare (anti-glare) film that exhibits excellent anti-glare performance, does not fade, does not cause glare when applied to an image display device, expresses high contrast, and imparts good visibility. An anti-glare polarizing plate provided with an anti-glare film and an image display device.

액정 디스플레이나 플라즈마 디스플레이 패널, 브라운관(음극선관: CRT) 디스플레이, 유기 일렉트로 루미네선스(EL) 디스플레이 등의 화상 표시 장치는, 그 표시면에 외광이 반사하면 시인성이 현저히 손상되어 버린다. 이러한 외광의 투영을 방지하기 위해, 화질을 중시하는 텔레비젼이나 퍼스널 컴퓨터, 외광이 강한 옥외에서 사용되는 비디오 카메라나 디지털 카메라, 반사광을 이용하여 표시를 행하는 휴대 전화 등에서는, 종래부터 화상 표시 장치의 표면에 외광의 투영을 방지하는 필름층이 설치되어 있었다. 이 필름층은, 광학 다층막에 의한 간섭을 이용한 무반사 처리가 시행된 필름으로 이루어지는 것과, 표면에 미세한 요철을 형성함으로 써 입사광을 산란시켜 투영상을 바림하는 방현 처리가 시행된 필름으로 이루어지는 것으로 크게 나뉜다. 이 중, 전자의 무반사 필름은, 균일한 광학막 두께의 다층막을 형성할 필요가 있기 때문에, 비용이 비싸진다. 이에 대하여 후자의 방현 필름은, 비교적 저렴하게 제조할 수 있기 때문에, 대형의 퍼스널 컴퓨터나 모니터 등의 용도에 널리 이용되고 있다.In an image display device such as a liquid crystal display, a plasma display panel, a cathode ray tube (cathode ray tube: CRT) display, an organic electroluminescent (EL) display, and the like, when external light is reflected on the display surface, visibility is remarkably impaired. In order to prevent such projection of external light, conventionally, the surface of an image display device has been used in televisions, personal computers, which focus on image quality, video cameras and digital cameras used outdoors with strong external light, and mobile phones which display using reflected light. The film layer which prevents projection of external light was provided in the. This film layer is roughly divided into a film consisting of a film subjected to antireflection treatment using interference by an optical multilayer film and a film subjected to an antiglare treatment that scatters incident light by forming fine irregularities on the surface to apply a projection image. . Among these, the former antireflective film needs to form a multilayer film having a uniform optical film thickness, so that the cost is high. On the other hand, since the latter anti-glare film can be produced relatively inexpensively, it is widely used for applications such as large personal computers and monitors.

이와 같은 방현 필름은 종래부터, 예컨대, 필러를 분산시킨 수지 용액을 기재 시트 상에 도포하고, 도포막 두께를 조정하여 필러를 도포막 표면에 노출시킴으로써 랜덤한 요철을 시트 상에 형성하는 방법 등에 의해 제조되고 있다. 그러나, 이러한 필러를 분산시킴으로써 제조된 방현 필름은, 수지 용액 중의 필러의 분산 상태나 도포 상태 등에 따라 요철의 배치나 형상이 좌우되어 버리기 때문에, 의도한 대로의 요철을 얻기 어렵고, 헤이즈가 낮은 것에서는 충분한 방현 성능을 얻을 수 없었다. 또한, 이러한 종래의 방현 필름을 화상 표시 장치의 표면에 배치한 경우, 산란광에 의해 표시면 전체가 흰 빛을 띠게 되며, 표시가 흐린 색체가 되는, 소위 빛 바램이 발생하기 쉬운 경우가 있었다.Such an anti-glare film is conventionally applied by, for example, a method of forming a random unevenness on a sheet by applying a resin solution obtained by dispersing a filler onto a base sheet, adjusting the coating film thickness and exposing the filler to the coating film surface. Is being manufactured. However, the anti-glare film produced by dispersing such a filler is difficult to obtain the unevenness as intended, because the arrangement and shape of the unevenness depend on the dispersed state, the coated state, and the like of the filler in the resin solution. Sufficient anti-glare performance could not be obtained. Moreover, when such a conventional anti-glare film is arrange | positioned on the surface of an image display apparatus, so-called light fading may arise in which the whole display surface becomes white light by scattered light, and a display becomes a dim color.

또한, 최근의 화상 표시 장치의 고선명화에 따라, 화상 표시 장치의 화소와 방현 필름의 표면 요철 형상이 간섭하고, 결과로서 휘도 분포가 발생하여 잘 보이지 않게 되는, 소위 눈부심 현상이 발생하기 쉬웠다. 눈부심을 해소하기 위해, 바인더 수지와 분산 필러 사이에 굴절률차를 마련하여 빛을 산란시키는 시도도 있지만, 그와 같은 방현 필름을 화상 표시 장치에 적용한 경우에는, 산란광에 의해 흑표시 시의 휘도가 올라가고, 결과로서 콘트라스트가 저하하여 시인성을 현저히 저 하시켰다.Moreover, with the recent sharpening of image display apparatuses, the so-called glare phenomenon which the pixel unevenness of the image display apparatus and the surface unevenness | corrugation shape of an anti-glare film interfere with, and a luminance distribution generate | occur | produces as a result and was hard to see easily was easy to generate | occur | produce. In order to eliminate glare, there is an attempt to scatter light by providing a refractive index difference between the binder resin and the dispersing filler, but when such an anti-glare film is applied to an image display device, the luminance at the time of black display is increased by scattered light. As a result, contrast decreased and the visibility was remarkably reduced.

한편, 필러를 함유시키지 않고, 투명 수지층의 표면에 형성된 미세한 요철만으로 방현성을 발현시키는 시도도 있다. 예컨대, 일본 특허 공개 제2002-189106호 공보(특허문헌 1)에는, 엠보싱 주형과 투명 수지 필름 사이에 전리 방사선 경화성 수지를 끼운 상태로 해당 전리 방사선 경화성 수지를 경화시킴으로써, 삼차원 10점 평균 거칠기 및, 삼차원 거칠기 기준면 상에서의 인접하는 볼록부끼리의 평균 거리가, 각각 소정값을 만족하는 미세한 요철을 형성시키고, 그 요철이 형성된 전리 방사선 경화성 수지층을 상기 투명 수지 필름 상에 마련한 형태의 방현 필름이 개시되어 있다. 이 문헌에는, 바람직하게는 철의 표면에 크롬 도금한 롤러를 이용하고, 샌드 블라스트법이나 비드 쇼트법(beads shot method)에 따라, 엠보싱용의 요철형면을 형성하는 것이 기재되어 있다. 또한, 이와 같이 요철이 형성된 형상의 면에는, 사용 시의 내구성을 향상시킬 목적으로, 크롬 도금 등을 시행하고 나서 사용하는 것이 바람직하며, 그에 따라 경막화 및 부식 방지를 도모할 수 있는 취지의 기재도 있다.On the other hand, there also exists an attempt to express anti-glare property only by the fine unevenness | corrugation formed in the surface of a transparent resin layer, without containing a filler. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-189106 (Patent Document 1) discloses a three-dimensional 10-point average roughness by curing the ionizing radiation curable resin in a state where an ionizing radiation curable resin is sandwiched between an embossed mold and a transparent resin film. The anti-glare film of the form which the average distance of adjacent convex parts on a three-dimensional roughness reference plane respectively forms the fine unevenness which satisfy | fills predetermined value, and provided the ionizing radiation curable resin layer in which the unevenness was formed on the said transparent resin film is disclosed. It is. In this document, it is preferable to form an uneven surface for embossing by using a roller chromium-plated on the surface of iron, preferably by a sand blasting method or a bead shot method. In order to improve the durability at the time of use, it is preferable to use it after surface chromium plating etc. on the surface of the shape in which the unevenness | corrugation was formed in this way, and it is based on the meaning which can aim at hardening and corrosion prevention accordingly. There is also.

이러한 엠보싱롤의 제작법에서는, 경도가 높은 크롬 도금 상에 블러스트나 쇼트를 행하기 때문에, 요철이 형성되기 어렵고, 더구나 형성된 요철의 형상을 정밀히 제어하는 것이 곤란하였다. 또한, 일본 특허 공개 제2004-29672호 공보(특허문헌 2)에도 기재되는 대로, 크롬 도금은, 하지가 되는 재질 및 그 형상에 의존하여 표면이 거칠어지는 경우가 많고, 블러스트에 의해 형성된 요철 상에 크롬 도금에서 생긴 미세한 크랙이 형성되기 때문에, 어떠한 요철이 생길지 설계가 어렵다고 하는 과제가 있었다. 또한, 크롬 도금에서 생기는 미세한 크랙이 있기 때문에, 최종적으로 얻어지는 방현 필름의 산란 특성이 바람직하지 못한 방향으로 변화하는 경우도 있었다.In the manufacturing method of such an embossing roll, since blasting and shot are performed on chromium plating with high hardness, unevenness | corrugation is hard to form and it was also difficult to control the shape of the unevenness | corrugation formed precisely. In addition, as described in Japanese Patent Laid-Open No. 2004-29672 (Patent Document 2), chromium plating often has a rough surface depending on the underlying material and its shape, and an uneven image formed by blasting. Since fine cracks formed in chromium plating are formed on the surface, there is a problem that it is difficult to design what unevenness will occur. Moreover, since there exist the minute crack which arises in chromium plating, the scattering characteristic of the finally obtained antiglare film may change in the undesirable direction.

표면에 요철을 갖는 필름의 제작에 이용되는 롤의 제작 방법을 개시하는 별도의 문헌으로서, 예컨대, 일본 특허 공개 제2004-29240호 공보(특허문헌 3)나 일본 특허 공개 제2004-90187호 공보(특허문헌 4)가 있다. 전자의 문헌에는, 비드 쇼트법에 의해 엠보싱롤을 제작하는 방법이 개시되어 있고, 후자의 문헌에는, 엠보싱롤의 표면에 금속 도금층을 형성하는 공정, 금속 도금층의 표면을 경면 연마하는 공정, 경면 연마한 금속 도금층면에, 세라믹 비드를 이용하여 블러스트 처리를 시행하는 공정, 또한 필요에 따라 피닝(peening) 처리를 하는 공정을 거쳐, 엠보싱롤을 제작하는 방법이 개시되어 있다.As another document which discloses the manufacturing method of the roll used for manufacture of the film which has an unevenness | corrugation on the surface, For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-29240 (Patent Document 3) and Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-90187 ( Patent document 4). The former document discloses a method for producing an embossing roll by the bead short method, and the latter document discloses a step of forming a metal plating layer on the surface of the embossing roll, mirror polishing the surface of the metal plating layer, and mirror polishing. Disclosed is a method of producing an embossing roll through a step of performing a blast treatment using a ceramic bead on a surface of a metal plating layer, and a step of peening as necessary.

이와 같이 엠보싱롤의 표면에 블러스트 처리를 시행한채의 상태에서는, 블러스트 입자의 입자 직경 분포에 기인하는 요철 직경의 분포가 발생하고, 블러스트에 의해 얻어지는 오목부의 깊이를 제어하는 것이 곤란하며, 방현 기능이 우수한 요철 형상을 재현성 좋게 얻는 것에 과제가 있었다.In this state in which the blasting is applied to the surface of the embossing roll, distribution of the uneven diameter caused by the particle diameter distribution of the blast particles occurs, and it is difficult to control the depth of the concave portion obtained by the blast, There was a problem in obtaining reproducible irregularities having excellent antiglare function.

또한, 본 출원인의 출원에 따른 일본 특허 공개 제2006-53371호 공보(특허문헌 5)에는, 연마된 금속의 표면에 미립자를 부딪쳐 요철을 형성하고, 거기에 무전계 니켈 도금을 시행하여 금형으로 하며, 그 금형의 요철면을 투명 수지 필름에 전사함으로써, 저(低)헤이즈이면서 방현 성능이 우수한 방현 필름으로 하는 것이 개시되어 있다.In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-53371 (Patent Document 5) according to the applicant's application forms irregularities by hitting fine particles on the surface of the polished metal, and electroless nickel plating is applied thereto to form a mold. By transferring the uneven surface of the metal mold | die to the transparent resin film, it is disclosed to set it as the anti-glare film excellent in anti-glare performance while being low haze.

또한, 방현 필름의 투과 산란광 강도를 규정한 문헌으로서, 일본 특허 공개 제2003-248101호 공보(특허문헌 6)나 일본 특허 공개 제2004-126495호 공보(특허문헌 7)가 있다. 전자의 문헌에는, 투명 지지체 상에 방현성 하드 코트층을 갖는 필름으로서, 투명 지지체측으로부터 빛을 입사하고, 투과한 빛 중 직진하는 광량(I0)에 대한 5° 기운 방향으로 산란되는 광량(I5)의 비율(I5/I0)이 3.5% 이상이며, I0에 대한 20° 기운 방향으로 산란되는 광량(I20)의 비율(I20/I0)이 O.1% 이하인 방현성 반사 방지 필름이 개시되어 있다. 후자의 문헌에는, 산란광 강도의 극대값을 나타내는 산란각이 0.1°∼10°이고, 전체 광선 투과율이 70%∼100%인 방현성 필름이 개시되어 있다. 이들 문헌에 개시되는 방현 필름에 의해서도, 특히 고선명의 화상 표시 장치에 적용하였을 때에 높은 콘트라스트를 유지하는 것은 어려웠다.Moreover, as a document which prescribed | regulated the transmitted scattered light intensity of an anti-glare film, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-248101 (patent document 6) and Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-126495 (patent document 7) are mentioned. In the former document, as a film having an anti-glare hard coat layer on a transparent support, the amount of light scattered in a direction of 5 ° with respect to the amount of light I 0 which is incident on the transparent support side and passes straight through the transmitted light ( I 5) ratio (I 5 / I 0) is not less than 3.5%, the ratio of the light quantity (I 20) which is scattered in 20 ° direction with respect to the energy I 0 (I 20 / I 0 ) is less than or equal to room O.1% of An anti-reflective film is disclosed. The latter literature discloses an anti-glare film having a scattering angle of 0.1 ° to 10 ° showing a maximum value of scattered light intensity and a total light transmittance of 70% to 100%. Even with anti-glare films disclosed in these documents, it was difficult to maintain high contrast, particularly when applied to high definition image display devices.

본 발명은 우수한 방현 성능을 나타내면서, 빛 바램에 의한 시인성의 저하가 방지되고, 고선명의 화상 표시 장치의 표면에 배치하였을 때에, 눈부심을 발생하지 않고 높은 콘트라스트를 발현하는 방현 필름을 제공하며, 또한, 그 방현 필름을 적용한 방현성 편광판 및 화상 표시 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention provides an anti-glare film that exhibits excellent anti-glare performance, prevents the visibility loss due to light fading, and exhibits high contrast without causing glare when disposed on the surface of a high-definition image display device. An object of this invention is to provide an anti-glare polarizing plate and an image display device to which the anti-glare film is applied.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 연구를 거듭한 결과, 투명 지지체 상에 미세한 요철 표면을 갖는 방현층이 형성되어 이루어지는 방현 필름에서, 투명 지지체측으로부터 입사각 20°로 빛을 입사하였을 때의 방현층측 법선 방향에서의 상대 산란광 강도 T(20)가 특정값을 나타내고, 또한 투명 지지체측으로부터 입사각 30°로 빛을 입사하였을 때의 방현층측 법선 방향에서의 상대 산란광 강 도 T(30)가 특정값을 나타내도록 하면, 눈부심이 충분히 방지되는데다가, 화상 표시 장치에 적용하였을 때에 콘트라스트가 거의 저하하지 않게 되는 것을 발견하였다. 더욱 이 방현 필름에서는, 방현층측으로부터 입사각 30°로 빛을 입사하였을 때에, 반사각 30°의 반사율 R(30), 반사각 40°의 반사율 R(40) 및 반사각 50°의 반사율 R(50)이 각각 특정값을 나타내도록 하면, 우수한 방현성를 나타내면서 빛 바램을 효과적으로 방지하는데 더하여 한층 유효한 것을 발견하였다. 본 발명은 이러한 지견에 기초하여, 추가로 여러가지 검토를 더하여 완성된 것이다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly researching in order to solve the said subject, in the anti-glare film in which the glare-proof layer which has a fine uneven | corrugated surface is formed on a transparent support body, it is anti-glare when light is incident at the incident angle of 20 degrees from the transparent support body side. The relative scattered light intensity T (30) in the layer side normal direction represents a specific value, and the relative scattered light intensity T (30) in the antiglare layer side normal direction when light is incident at an incident angle of 30 ° from the transparent support side is a specified value. It was found that the glare was sufficiently prevented and the contrast hardly decreased when applied to the image display device. Furthermore, in this anti-glare film, when light is incident from the anti-glare layer side at an incident angle of 30 °, the reflectance R (30) with a reflection angle of 30 °, the reflectance R (40) with a reflection angle of 40 °, and the reflectance R (50) with a reflection angle of 50 ° are respectively obtained. When the specific value is indicated, it was found to be more effective in addition to effectively preventing light fading while exhibiting excellent anti-glare property. The present invention has been completed on the basis of these findings, with further studies.

<발명의 개시><Start of invention>

즉, 본 발명에 따른 방현 필름은, 투명 지지체 상에 미세한 요철 표면을 갖는 방현층이 형성되어 이루어지고, 투명 지지체측으로부터 입사각 20°로 빛을 입사하였을 때의 방현층측 법선 방향에서의 상대 산란광 강도 T(20)가 0.0001% 이상 0.0005% 이하이며, 투명 지지체측으로부터 입사각 30°로 빛을 입사하였을 때의 방현층측 법선 방향에서의 상대 산란광 강도 T(30)가 0.00004% 이상 0.00025% 이하인 것을 특징으로 한다.That is, in the anti-glare film according to the present invention, an anti-glare layer having a fine uneven surface is formed on the transparent support, and the relative scattered light intensity in the direction of the anti-glare layer side normal when light is incident at an incident angle of 20 ° from the transparent support side. T (20) is 0.0001% or more and 0.0005% or less, and the relative scattered light intensity T (30) in the anti-glare layer side normal direction when light is incident on the incident angle of 30 ° from the transparent support side is 0.00004% or more and 0.00025% or less do.

이 방현 필름에서는, 방현층측으로부터 입사각 30°로 빛을 입사하였을 때에, 반사각 30°의 반사율 R(30)이 0.05% 이상 2% 이하이고, 반사각 40°의 반사율 R(40)이 0.0001% 이상 0.005% 이하이며, 그리고, 반사각 50°의 반사율 R(50)이 0.00001% 이상 0.0005% 이하인 것이 바람직하다.In this anti-glare film, when light is incident from the anti-glare layer side at an incident angle of 30 °, the reflectance R (30) having a reflection angle of 30 ° is 0.05% or more and 2% or less, and the reflectance R (40) having a reflection angle of 40 ° is 0.0001% or more and 0.005. It is% or less, and it is preferable that reflectance R (50) of 50 degrees of reflection angles is 0.00001% or more and 0.0005% or less.

또한, 이 방현 필름에 수직으로 빛을 입사하였을 때의 표면 헤이즈를 0.1% 이상 5% 이하, 그리고 전체 헤이즈를 5% 이상 25% 이하로 하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to make the surface haze at the time of injecting light perpendicular | vertical to this anti-glare film to 0.1% or more and 5% or less, and to make the whole haze 5% or more and 25% or less.

이 방현 필름은, 암부와 명부의 폭이 0.5 ㎜, 1.0 ㎜ 및 2.0 ㎜인 3종류의 광학 빗(optical comb)을 이용하여 빛의 입사각 45°에서 측정되는 반사 선명도의 합을 40% 이하로 할 수 있다.This anti-glare film uses 40 types of optical combs of 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm in width of the dark part and the root, so that the sum of the reflection sharpness measured at the incidence angle of light at 45 ° is 40% or less. Can be.

또한 이 방현 필름은, 방현층을 구성하는 요철 표면의 단면 곡선에서의 산술 평균 높이(Pa)가 0.05 ㎛ 이상 0.2 ㎛ 이하이고, 최대 단면 높이(Pt)가 0.2 ㎛ 이상 1 ㎛ 이하이며, 그리고 평균 길이(PSm)가 15 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.Moreover, the arithmetic mean height Pa in the cross-sectional curve of the uneven surface which comprises an anti-glare layer is 0.05 micrometer or more and 0.2 micrometer or less, the maximum cross-sectional height Pt is 0.2 micrometer or more and 1 micrometer or less, and this anti-glare film has an average It is preferable that length PSm is 15 micrometers or more and 30 micrometers or less.

방현층을 구성하는 요철 표면은, 200 ㎛×200 ㎛의 영역 내에 50개 이상 100개 이하의 볼록부를 갖는 것이 바람직하고, 또한, 볼록부 정점을 모점으로 하여 그 표면을 보로노이 분할(Voronoi division)하였을 때에 형성되는 다각형의 평균 면적이, 100 ㎛2 이상 1,000 ㎛2 이하인 것이 바람직하다.The uneven surface constituting the antiglare layer preferably has 50 or more 100 convex portions in an area of 200 μm × 200 μm, and the surface of the convex portion has a peak of the convex portion as its mother point. It is preferable that the average area of the polygon formed when it is made is 100 micrometer <2> or more and 1,000 micrometer <2> or less.

이 방현 필름에서의 방현층은 요철면을 갖는 금형으로부터의 전사에 의해 표면 요철을 형성하는 것이 바람직하다. 그리고 이 방현층은 바인더 수지 100 중량부에 대하여, 평균 입자 직경이 5 ㎛ 이상 15 ㎛ 이하이며, 바인더 수지와의 굴절률차가 0.01 이상 0.06 이하인 미립자를 10 중량부∼100 중량부 함유하고 있는 것이 바람직하고, 또한, 이 미립자가 방현층 중에 완전히 매몰되며, 미립자가 표면의 요철 형상에는 영향을 끼치고 있지 않는 것이 바람직하다.It is preferable that the anti-glare layer in this anti-glare film forms surface uneven | corrugated by transfer from the metal mold | die which has an uneven surface. And this anti-glare layer contains 10 weight part-100 weight part of microparticles | fine-particles whose average particle diameters are 5 micrometers or more and 15 micrometers or less with respect to 100 weight part of binder resins, and whose refractive index difference with a binder resin is 0.01 or more and 0.06 or less. In addition, it is preferable that the fine particles are completely embedded in the antiglare layer, and the fine particles do not affect the uneven shape of the surface.

이 방현 필름에서, 방현층의 요철 표면에는 저(低)반사막을 형성할 수 있다.In this antiglare film, a low reflection film can be formed on the uneven surface of the antiglare layer.

본 발명의 방현 필름은, 폴리비닐알코올계 수지로 이루어지는 편광자와 조합하여 방현성 편광판으로 할 수 있다. 이 방현성 편광판은 구체적으로는, 상기 방현 필름의 투명 지지체측을 편광자에 접합시킨 구조가 된다.The anti-glare film of this invention can be set as an anti-glare polarizing plate in combination with the polarizer which consists of polyvinyl alcohol-type resin. This anti-glare polarizing plate becomes a structure which specifically bonded the transparent support side of the said anti-glare film to the polarizer.

또한, 본 발명의 방현 필름 또는 방현성 편광판은, 액정 표시 소자나 플라즈마 디스프레이 패널 등의 화상 표시 소자와 조합하여, 화상 표시 장치로 할 수 있다. 그래서 본 발명에 따른 화상 표시 장치는, 상기 방현 필름 또는 방현성 편광판과 화상 표시 수단을 구비하고, 그 방현 필름 또는 방현성 편광판이 화상 표시 소자의 시인측에 배치되어 있는 것이다.Moreover, the anti-glare film or anti-glare polarizing plate of this invention can be used as an image display apparatus in combination with image display elements, such as a liquid crystal display element and a plasma display panel. Therefore, the image display apparatus which concerns on this invention is equipped with the said anti-glare film or anti-glare polarizing plate, and image display means, and this anti-glare film or anti-glare polarizing plate is arrange | positioned at the visual recognition side of an image display element.

도 1은 방현 필름의 투명 지지체측으로부터 빛을 입사하여 방현층측 법선 방향에서 관측되는 산란광 강도를 구할 때의, 빛의 입사 방향과 투과 산란광 강도 측정 방향을 모식적으로 나타내는 사시도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a perspective view which shows typically the incidence direction of light and the transmission scattered light intensity measurement direction at the time of obtaining the scattered light intensity observed in the anti-glare layer side normal line by injecting light from the transparent support side of an anti-glare film.

도 2는 입사각을 바꾸어 측정되는 상대 산란광 강도(대수 눈금)를 입사각에 대하여 플롯한 그래프의 일례이다.2 is an example of a graph in which relative scattered light intensities (logarithmic scales) measured by changing the incident angle are plotted against the incident angle.

도 3은 반사율을 구할 때의 방현층측으로부터의 빛의 입사 방향과 반사 방향을 모식적으로 나타내는 사시도이다.3 is a perspective view schematically showing an incident direction and a reflection direction of light from the antiglare layer side when obtaining a reflectance.

도 4는 방현 필름의 법선으로부터 30°의 각도로 입사한 빛에 대한 반사광의 반사각과 반사율(반사율은 대수 눈금)을 플롯한 그래프의 일례이다.4 is an example of a graph plotting the reflection angle and reflectance (reflectivity is logarithmic scale) of the reflected light with respect to light incident at an angle of 30 ° from the normal of the antiglare film.

도 5는 방현 필름의 볼록부 판정의 알고리즘을 모식적으로 나타낸 사시도이 다.5 is a perspective view schematically showing an algorithm for determining convex portions of an antiglare film.

도 6은 보로노이 분할의 예를 나타내는 보로노이도이다.6 is a Voronoi diagram illustrating an example of Voronoi splitting.

도 7은 본 발명에 따른 방현 필름을 제작하기 위한 금형의 제조 방법을 공정마다 나타내는 단면 모식도이다.It is a cross-sectional schematic diagram which shows the manufacturing method of the metal mold | die for manufacturing an anti-glare film concerning this invention for every process.

도 8은 크롬 도금 후에 표면을 연마한 상태를 나타내는 단면 모식도이다.It is a cross-sectional schematic diagram which shows the state which grind | polished the surface after chrome plating.

도 9는 눈부심 평가용 패턴의 유닛셀을 나타내는 평면도이다.9 is a plan view showing a unit cell of a glare evaluation pattern.

도 10은 눈부심 평가의 상태를 나타내는 단면 모식도이다.It is a cross-sectional schematic diagram which shows the state of glare evaluation.

도 11은 실시예 1∼4에서 얻어진 방현 필름의 투과 산란 프로파일을 나타내는 그래프이다.It is a graph which shows the transmission scattering profile of the anti-glare film obtained in Examples 1-4.

도 12는 실시예 1∼4에서 얻어진 방현 필름의 반사 프로파일을 나타내는 그래프이다.It is a graph which shows the reflection profile of the anti-glare film obtained in Examples 1-4.

도 13은 비교예 1 및 2에서 얻어진 방현 필름의 투과 산란 프로파일을 나타내는 그래프이다.It is a graph which shows the transmission scattering profile of the anti-glare film obtained by the comparative examples 1 and 2. FIG.

도 14는 비교예 1 및 2에서 얻어진 방현 필름의 반사 프로파일을 나타내는 그래프이다.14 is a graph showing the reflection profile of the antiglare films obtained in Comparative Examples 1 and 2. FIG.

도 15는 비교예 3∼5에서 얻어진 방현 필름의 투과 산란 프로파일을 나타내는 그래프이다.It is a graph which shows the permeation scattering profile of the anti-glare films obtained in Comparative Examples 3-5.

도 16은 비교예 3∼5에서 얻어진 방현 필름의 반사 프로파일을 나타내는 그래프이다.It is a graph which shows the reflection profile of the anti-glare film obtained by the comparative examples 3-5.

도 17은 비교예 6∼9에서 이용한 방현 필름의 투과 산란 프로파일을 나타내 는 그래프이다.It is a graph which shows the permeation scattering profile of the anti-glare film used in Comparative Examples 6-9.

도 18은 비교예 6∼9에서 이용한 방현 필름의 반사 프로파일을 나타내는 그래프이다.It is a graph which shows the reflection profile of the anti-glare film used in Comparative Examples 6-9.

<부호의 설명><Description of the code>

11……방현 필름11... … Antiglare film

12……필름 법선12... … Film normals

13……투과 산란광 강도를 측정할 때의 입사 광선 방향13... … Incident light direction when measuring the transmitted scattered light intensity

14……투과 산란광 강도의 측정 방향(법선 방향)14... … Measurement direction of transmitted scattered light intensity (normal direction)

15……반사율을 측정할 때의 입사 광선 방향15... … Incident light direction when measuring reflectance

16……정반사 방향16... … Specular reflection direction

17……임의의 반사 방향17... … Arbitrary reflection direction

19……입사 광선 방향과 필름 법선을 포함하는 면19... … Face containing incident light direction and film normal

Ø……투과 산란광 강도를 측정할 때의 입사각Ø… … Incidence angle when measuring the transmitted scattered light intensity

θ……반사율을 측정할 때의 반사각? … Reflect angle when measuring reflectance

21……방현 필름 상의 임의의 점21... … Any point on the antiglare film

22……방현 필름 표면22... … Antiglare film surface

23……필름 기준면23... … Film reference plane

24……방현 필름 상의 임의의 점을 중심으로 하는 원의 필름 기준면에의 투영원24... … Projection circle to film reference plane of circle centered on any point on antiglare film

26……볼록부 정점의 투영점(보로노이 분할의 모점)26... … Projection point of convex vertex (parent point of Voronoi split)

27……보로노이 다각형27... … Voronoi polygon

28……평균값에 카운트하지 않는 측정 시야 경계에 접하는 보로노이 다각형28... … Voronoi polygons bordering the measured field of view that do not count to the mean

31……금속 기재31... … Metal substrate

32……구리 또는 니켈 도금층32... … Copper or nickel plated layer

33……연마면33... … Polished surface

34……미립자를 부딪쳐 형성되는 요면34... … Concave

35……구리 도금층35... … Copper plating layer

36a……미립자를 부딪쳐 형성되는 요철면을 에칭에 의해 무디게 한 면36a... … Surface blunted by etching blunted concave and convex surfaces

36b……미립자를 부딪쳐 형성되는 요철면을 구리 도금에 의해 무디게 한 면36b... … The surface which blunted the copper bumps formed by bumping the fine particles.

37……크롬 도금층37... … Chrome plated layer

38……크롬 도금 후에 남는 요철면38... … Uneven surface remaining after chrome plating

39……크롬 도금 후의 표면을 연마하였을 때에 발생하는 평탄면39... … Flat surface generated when the surface after chrome plating is polished

40……포토마스크의 유닛셀40... … Unit cell of photomask

41……포토마스크의 크롬 차광 패턴41... … Chrome shading pattern of photomask

42……포토마스크의 개구부42... … Opening of the photomask

43……포토마스크43.. … Photomask

45……라이트 박스45... … Light box

46……광원46... … Light source

47……유리판47... … Glass plate

49……눈부심의 관찰 위치49... … Location of observation of glare

<발명을 실시하기 위한 최량의 형태>BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION [

이하, 본 발명의 적합한 실시형태에 대해서 상세히 설명한다. 본 발명의 방현 필름은, 투명 지지체 상에, 미세한 요철 표면을 갖는 방현층이 형성된 것이며, 투명 지지체측으로부터 입사각 20°로 빛을 입사하였을 때에 방현층측 법선 방향에서 관측되는 상대 산란광 강도 T(20)가 0.0001% 이상 0.0005% 이하의 값을 나타내고, 투명 지지체측으로부터 입사각 30°로 빛을 입사하였을 때에 방현층측 법선 방향에서 관측되는 상대 산란광 강도 T(30)가 0.00004% 이상 0.00025% 이하의 값을 나타내는 것이다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described in detail. The anti-glare film of the present invention has an anti-glare layer having a fine uneven surface on the transparent support, and has a relative scattered light intensity T (20) observed in the anti-glare layer-side normal direction when light is incident at an incident angle of 20 ° from the transparent support. Represents a value of 0.0001% or more and 0.0005% or less, and the relative scattered light intensity T (30) observed in the antiglare layer side normal direction when the light is incident at an incident angle of 30 ° from the transparent support side represents a value of 0.00004% or more and 0.00025% or less. will be.

또한, 우수한 방현 성능을 나타내면서 빛 바램을 효과적으로 억제하기 위해서는, 방현층측으로부터 입사각 30°로 빛을 입사하였을 때에, 반사각 30°의 반사율 R(30)이 0.05% 이상 2% 이하이고, 반사각 40°의 반사율 R(40)이 0.0001% 이상 0.005% 이하이며, 그리고 반사각 50°의 반사율 R(50)이 0.00001% 이상 0.0005% 이하인 것이 바람직하다.In addition, in order to effectively suppress light fading while exhibiting excellent anti-glare performance, when light is incident from the anti-glare layer side at an incident angle of 30 °, the reflectance R (30) having a reflection angle of 30 ° is 0.05% or more and 2% or less, and has a reflection angle of 40 °. It is preferable that the reflectance R (40) is 0.0001% or more and 0.005% or less, and the reflectance R (50) of 50 degrees of reflection angles is 0.00001% or more and 0.0005% or less.

[상대 산란광 강도]Relative scattered light intensity

우선, 투명 지지체측으로부터 입사각 20°로 빛을 입사하였을 때, 및 입사각 30°로 빛을 입사하였을 때의, 방현층측 법선 방향에서의 상대 산란광 강도 T(20) 및 T(30)에 대해서 설명한다.First, the relative scattered light intensities T (20) and T (30) in the direction of the antiglare layer side normal when light is incident from the transparent support side at an incident angle of 20 ° and when light is incident at an incident angle of 30 ° will be described. .

도 1은 투명 지지체측(요철면과는 반대측)으로부터 빛을 입사하고, 방현층측(요철면측) 법선 방향에서의 산란광 강도를 측정할 때의, 빛의 입사 방향과 투과 산란광 강도 측정 방향을 모식적으로 나타낸 사시도이다. 이 도면을 참조하여, 방현 필름(11)의 투명 지지체측에서 법선(12)으로부터 어떤 각도(Ø)(입사각으로 함)로 입사한 빛(13)에 대하여, 방현층측의 법선 방향(12)으로 투과하는 산란광(14)의 강도를 측정하고, 그 투과 산란광 강도를 광원의 광강도로 나눈 값을 상대 산란광 강도 T(Ø)로 한다. 즉, 방현 필름(11)의 투명 지지체측에서 법선으로부터 20°의 각도로 입사광(13)을 입사하였을 때에, 방현층측 법선 방향(12)에서 관측되는 출사광(14)의 강도를 광원의 광강도로 나눈 값이 T(20)이고, 방현 필름(11)의 투명 지지체측에서 법선(12)으로부터 30°의 각도로 입사광(13)을 입사하였을 때에, 방현층측 법선 방향(12)에서 관측되는 출사광(14)의 강도를 광원의 광강도로 나눈 값이 T(30)이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 schematically illustrates the incident direction of light and the measured direction of transmitted scattered light intensity when light is incident from the transparent support side (the side opposite to the uneven surface) and the scattered light intensity is measured in the antiglare layer side (uneven surface side) normal line direction. It is a perspective view shown by. With reference to this figure, with respect to the light 13 which inject | emitted from the normal line 12 at a certain angle Ø (respective angle) from the transparent support side of the antiglare film 11 in the normal direction 12 on the side of the antiglare layer. The intensity of the transmitted scattered light 14 is measured, and the value obtained by dividing the transmitted scattered light intensity by the light intensity of the light source is taken as the relative scattered light intensity T (Ø). That is, when the incident light 13 is incident on the transparent support side of the antiglare film 11 at an angle of 20 ° from the normal, the intensity of the emitted light 14 observed in the antiglare layer side normal direction 12 is determined by the light intensity of the light source. When the value divided by is T (20) and the incident light 13 is incident at an angle of 30 ° from the normal line 12 on the transparent support side of the antiglare film 11, the emission observed in the antiglare layer side normal direction 12 The value of the light 14 divided by the light intensity of the light source is T (30).

20° 입사 시의 상대 산란광 강도 T(20)가 0.0005%를 상회하는 경우에는, 이 방현 필름을 화상 표시 장치에 적용하였을 때에, 산란광에 의해 흑표시 시의 휘도가 상승하고, 콘트라스트를 저하시키기 때문에, 바람직하지 못하다. 또한, 20° 입사 시의 상대 산란광 강도 T(20)가 0.0001%를 하회하는 경우에는, 산란 효과가 낮고, 고선명인 화상 표시 장치에 적용하였을 때에 눈부심이 발생하기 때문에, 역시 바람직하지 못하다. 마찬가지로, 30° 입사 시의 상대 산란광 강도 T(30)가 0.00025%를 상회하는 경우에도, 이 방현 필름을 화상 표시 장치에 적용하였을 때에, 산란광에 의해 흑표시 시의 휘도가 상승하고, 콘트라스트를 저하시키기 때문에, 바람직하지 못하다. 또한, 30° 입사 시의 상대 산란광 강도 T(30)가 0.00004%를 하회하는 경우에도, 산란 효과가 낮고, 고선명인 화상 표시 장치에 적용하였 을 때에 눈부심이 발생하기 때문에, 바람직하지 못하다. 특히 방현 필름을 자체 발광형이 아닌 액정 디스플레이에 적용하였을 때에는, 흑표시 시의 빛 누출에 기인하는 산란에 의한 휘도 상승 효과가 크기 때문에, 상대 산란광 강도 T(20) 및 T(30)가 본 발명의 규정을 상회하면, 콘트라스트를 현저히 저하시키고, 시인성을 손상하는 결과가 된다.When the relative scattered light intensity T (20) at 20 ° incidence exceeds 0.0005%, when the anti-glare film is applied to the image display device, the luminance at the time of black display is increased due to the scattered light, and the contrast is lowered. , Not preferred. In addition, when the relative scattered light intensity T 20 at 20 ° incidence is less than 0.0001%, glare occurs when the scattering effect is low and is applied to a high definition image display device, which is also undesirable. Similarly, even when the relative scattered light intensity T (30) at 30 ° incidence exceeds 0.00025%, when the antiglare film is applied to the image display device, the scattered light increases the luminance at the time of black display, and the contrast decreases. It is not preferable because it is made. In addition, even when the relative scattered light intensity T (30) at 30 ° incidence is less than 0.00004%, it is not preferable because the scattering effect is low and glare occurs when applied to a high definition image display device. In particular, when the anti-glare film is applied to a liquid crystal display which is not a self-luminous type, the relative scattered light intensity T (20) and T (30) are the present invention because the effect of increasing the luminance due to scattering caused by light leakage during black display is large. If it exceeds the regulation, the contrast is significantly lowered and the visibility is impaired.

지금까지 투과 산란광 강도에 대해서 언급한 문헌으로서, 예컨대, 상기 특허문헌 6(일본 특허 공개 제2003-248101호 공보)이나 특허문헌 7(일본 특허 공개 제2004-126495호 공보) 등이 있지만, 어느 문헌에서도, 본 발명에서 규정하는 산란 특성과는 달리, 화상 표시 장치에 적용하였을 때에 높은 콘트라스트를 달성하며, 눈부심을 억제하는데 반드시 충분한 것이라고는 말할 수 없었다.As the documents mentioned so far about the transmitted scattered light intensity, for example, Patent Document 6 (Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2003-248101) and Patent Document 7 (Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2004-126495), and the like, are mentioned. Also, unlike the scattering characteristics defined in the present invention, it cannot be said that it is necessarily sufficient to achieve high contrast and suppress glare when applied to an image display device.

도 2는 도 1에서의 방현 필름(11)의 투명 지지체측으로부터의 입사각(Ø)을 바꾸어 측정되는 상대 산란광 강도(대수 눈금)를 입사각(Ø)에 대하여 플롯한 그래프의 일례이다.FIG. 2 is an example of a graph in which the relative scattered light intensity (logarithmic scale) measured by changing the incident angle Ø from the transparent support side of the antiglare film 11 in FIG. 1 is plotted against the incident angle Ø.

이러한 입사각과 상대 산란광 강도의 관계를 나타내는 그래프, 또는 그것으로부터 판독되는 입사각마다의 상대 산란광 강도를, 투과 산란 프로파일이라고 부르는 경우가 있다. 이 그래프에 나타내는 바와 같이, 상대 산란광 강도는 입사각 0°에서 피크를 나타내고, 입사광(13)의 법선 방향으로부터의 각도가 어긋날수록, 산란광 강도는 저하하는 경향에 있다. 또한, 입사각의 플러스(+)와 마이너스(-)는, 법선 방향(0°)을 중심으로, 입사광의 방향(13)과 법선(12)을 포함하는 면(19) 내에서의 입사광의 기울기에 의해 정해지는 것이다. 따라서, 투과 산란 프로파일은, 입사각 0°를 중심으로, 좌우 대칭으로 나타나는 것이 통례이다. 도 2에 나타내는 투과 산란 프로파일의 예에서는, 0° 입사 시의 상대 산란광 강도 T(0)가 약 30%로 피크를 나타내고, 20° 입사 시의 상대 산란광 강도 T(20)가 약 0.0002%, 30° 입사 시의 상대 산란광 강도 T(30)가 약 0.00004%로 되어 있다.A graph showing the relationship between the incident angle and the relative scattered light intensity or the relative scattered light intensity for each incident angle read therefrom may be referred to as a transmission scattering profile. As shown in this graph, the relative scattered light intensity shows a peak at the incident angle of 0 °, and the scattered light intensity tends to decrease as the angle from the normal line direction of the incident light 13 is shifted. In addition, the positive (+) and the negative (-) angles of incidence are inclined to the inclination of the incident light in the plane 19 including the direction 13 of the incident light and the normal 12 around the normal direction (0 °). It is decided by. Therefore, it is common for the transmission scattering profile to appear symmetrically around the incident angle of 0 °. In the example of the transmission scattering profile shown in FIG. 2, the relative scattered light intensity T (0) at 0 ° incidence shows a peak at about 30%, and the relative scattered light intensity T (20) at 20 ° incidence is about 0.0002%, 30 The relative scattered light intensity T (30) at the time of incidence is about 0.00004%.

방현 필름의 상대 산란광 강도를 측정하는데 있어서는, 0.001% 이하의 상대 산란광 강도를 정밀도 좋게 측정하는 것이 필요하다. 그래서, 다이나믹 레인지가 넓은 검출기의 사용이 유효하다. 이러한 검출기로서는, 예컨대, 시판의 광파워미터 등을 이용할 수 있고, 이 광파워미터의 검출기 앞에 개구를 설치하고, 방현 필름을 보는 각도가 2°가 되도록 한 변각 광도계를 이용하여 측정을 행할 수 있다.In measuring the relative scattered light intensity of the antiglare film, it is necessary to accurately measure the relative scattered light intensity of 0.001% or less. Therefore, the use of a detector with a wide dynamic range is effective. As such a detector, for example, a commercially available optical power meter or the like can be used, and the measurement can be performed using a variable photometer in which an opening is provided in front of the detector of the optical power meter and the angle of viewing the antiglare film is 2 °. .

입사광에는 380 ㎚∼780 ㎚의 가시 광선을 이용할 수 있고, 측정용 광원으로서는, 할로겐 램프 등의 광원으로부터 나온 빛을 콜리메이트한 것을 이용하여도 좋으며, 레이저 등의 단색 광원으로 평행도가 높은 것을 이용하여도 좋다. 또한, 필름의 휘어짐을 방지하기 위해, 광학적으로 투명한 점착제를 이용하여, 요철면이 표면이 되도록 유리 기판에 접합하고 나서 측정에 제공하는 것이 바람직하다.Visible light of 380 nm to 780 nm can be used for the incident light, and as a light source for measurement, one obtained by collimating light from a light source such as a halogen lamp may be used. Also good. Moreover, in order to prevent curvature of a film, it is preferable to use for an optically transparent adhesive and to provide it for a measurement, after bonding to a glass substrate so that an uneven surface may become a surface.

[30° 입사 시의 반사율][Reflectivity at 30 ° incidence]

다음에, 방현층측으로부터 입사각 30°로 빛을 입사하였을 때의 각도마다의 반사율에 대해서 설명한다. 도 3은 반사율을 구할 때의 방현 필름에 대한 방현층측으로부터의 빛의 입사 방향과 반사 방향을 모식적으로 나타낸 사시도이다. 이 도면을 참조하여, 방현 필름(11)의 방현층측에서 법선(12)으로부터 30°의 각도로 입사한 입사광(15)에 대하여, 반사각 30°의 방향, 즉, 정반사 방향(16)에의 반사광의 반사율(즉 정반사율)을 R(30)로 한다. 또한, 임의의 반사각(θ)에서의 반사광을 부호 17로 표시하고 있고, 반사율을 측정할 때의 반사광의 방향(16, 17)은, 입사광의 방향(15)과 법선(12)을 포함하는 면(19) 내로 한다. 그리고, 반사각 40°의 방향에의 반사율을 R(40), 반사각 50°의 방향에의 반사율을 R(50)로 한다.Next, the reflectance for each angle when light is incident at the incident angle of 30 ° from the antiglare layer side will be described. 3 is a perspective view schematically showing an incident direction and a reflection direction of light from an antiglare layer side with respect to an antiglare film when a reflectance is obtained. With reference to this figure, with respect to the incident light 15 incident on the antiglare layer side of the antiglare film 11 at an angle of 30 ° from the normal line 12, the reflected light in the direction of the reflection angle of 30 °, that is, the specular reflection direction 16 Let reflectance (ie, specular reflectance) be R (30). In addition, the reflected light at arbitrary reflection angles (theta) is denoted by reference numeral 17, and the directions 16 and 17 of the reflected light when measuring the reflectance are planes including the direction 15 and the normal line 12 of the incident light. (19) It is in. The reflectance in the direction of the reflection angle of 40 ° is set to R (40), and the reflectance in the direction of the reflection angle of 50 degrees is set to R (50).

본 발명의 방현 필름에서는, 입사각 30°의 입사광에 대하여, 반사각 30°의 방향의 반사율, 즉 정반사율 R(30)이 0.05% 이상 2% 이하가 되도록 하는 것이 바람직하다. 또한, 반사각 40°의 방향의 반사율 R(40)이 0.0001% 이상 0.005% 이하, 반사각 50°의 방향의 반사율 R(50)이 0.00001% 이상 0.0005% 이하가 되도록 하는 것이 바람직하다.In the anti-glare film of the present invention, it is preferable that the reflectance in the direction of the reflection angle 30 °, that is, the specular reflectance R (30), is 0.05% or more and 2% or less with respect to the incident light having an incident angle of 30 °. The reflectance R (40) in the direction of the reflection angle of 40 ° is preferably 0.0001% or more and 0.005% or less, and the reflectance R (50) in the direction of the reflection angle 50 ° of 0.00001% or more and 0.0005% or less.

정반사율 R(30)이 2%를 넘으면, 충분한 방현 기능을 얻을 수 없고, 시인성이 저하하여 버린다. 한편, 정반사율 R(30)이 너무 지나치게 작아도, 빛 바램이 발생하는 경향을 나타내기 때문에, 0.05% 이상인 것이 바람직하다. 정반사율 R(30)은, 1.5% 이하, 특히 0.7% 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, R(40)이 0.005%를 상회하거나, R(50)이 0.0005%를 상회하거나 하면, 방현 필름에 빛 바램이 발생하여 버려, 시인성을 저하시키게 된다. 즉, 예컨대, 표시 장치의 최전면에 방현 필름을 설치한 상태로 표시면에 검정을 표시한 경우라도, 주위로부터의 빛을 모아 표시면이 전체적으로 하얗게 되는 빛 바램이 발생하여 버리는 경향에 있다. 그 때문에, R(40) 및 R(50)은 너무 커지지 않도록 하는 것이 바람직하다. 한편, 이들 각도에서의 반사율이 너무 지나치게 작아도, 충분한 방현성을 나타내지 않게 되기 때문에, R(40)은 일반적으로 0.0001% 이상인 것이 바람직하고, R(50)은 일반적으로 0.00001% 이상인 것이 바람직하다. R(50)은 보다 바람직하게는 0.0001% 이하이다.When the specular reflectance R (30) exceeds 2%, sufficient anti-glare function cannot be obtained, and the visibility decreases. On the other hand, even if the specular reflectance R (30) is too small, light fading tends to occur, so it is preferably 0.05% or more. The reflectance R (30) is more preferably 1.5% or less, particularly 0.7% or less. Moreover, when R (40) exceeds 0.005% or R (50) exceeds 0.0005%, light fading will generate | occur | produce in an anti-glare film, and visibility will fall. That is, for example, even when black is displayed on the display surface in the state where the antiglare film is provided on the front surface of the display device, there is a tendency that light fading occurs by collecting light from the surroundings and causing the display surface to become white as a whole. Therefore, it is preferable not to make R (40) and R (50) too big. On the other hand, even if the reflectance at these angles is too small, sufficient anti-glare property is not exhibited, so that R (40) is generally preferably 0.0001% or more, and R (50) is generally preferably 0.00001% or more. R (50) is more preferably 0.0001% or less.

도 4는 도 3에서의 방현 필름(11)의 방현층측에서 법선(12)으로부터 30°의 각도로 입사한 입사광(15)에 대한 반사광(17)의, 반사각과 반사율(반사율은 대수 눈금)을 플롯한 그래프의 일례이다. 이러한 반사각과 반사율의 관계를 나타내는 그래프, 또는 그로부터 판독되는 반사각마다의 반사율을, 반사 프로파일이라고 부르는 경우가 있다. 이 그래프에 나타낸 바와 같이, 정반사율 R(30)은 30°로 입사한 입사광(15)에 대한 반사율의 피크이고, 정반사 방향으로부터 각도가 어긋날수록 반사율은 저하하는 경향에 있다. 도 4에 나타내는 반사 프로파일의 예에서는, 정반사율 R(30)이 약 0.2%, R(40)이 약 0.0004%, 그리고 R(50)이 약 0.00005%로 되어 있다.FIG. 4 shows the reflection angle and the reflectance (reflectivity is logarithmic scale) of the reflected light 17 with respect to the incident light 15 incident on the antiglare layer side of the antiglare film 11 in FIG. 3 at an angle of 30 ° from the normal 12. It is an example of a plotted graph. A graph showing the relationship between the reflection angle and the reflectance or the reflectance for each reflection angle read therefrom may be referred to as a reflection profile. As shown in this graph, the specular reflectance R (30) is a peak of the reflectance with respect to the incident light 15 incident at 30 degrees, and the reflectance tends to decrease as the angle shifts from the specular reflection direction. In the example of the reflection profile shown in FIG. 4, the specular reflectance R (30) is about 0.2%, R (40) is about 0.0004%, and R (50) is about 0.00005%.

본 발명자들의 조사에 따르면, 현재 시중에 나돌고 있는 방현 필름의 대부분은, 필러를 분산시킨 타입으로서, 그와 같은 방현 필름에서는, 20° 입사 시의 상대 산란광 강도 T(20)가 0.0001% 이상 0.0005% 이하이고, 30° 입사 시의 상대 산란광 강도 T(30)가 0.00004% 이상 0.00025% 이하인 것은 없었다. 또한, 이러한 투과 산란 특성에 더하여, 정반사율 R(30)이 0.05% 이상 2% 이하, 반사각 40°의 반사율 R(40)이 0.0001% 이상 0.005% 이하, 반사각 50°의 반사율 R(50)이 0.00001% 이상 0.0005% 이하로 되는 것도 존재하지 않았다. 결과로서, 눈부심이 발생하지 않고, 고(高)콘트라스트를 나타내며, 충분한 방현 성능을 나타내면서, 빛 바래지 않는 방현 필름은 없었다. 이에 대하여, 본 발명에서 규정하는 방현 필름 은, 충분한 방현 성능을 나타내면서도, 빛 바램이 억제되어 있어 우수한 것이라는 것을 알 수 있었다.According to the investigation by the present inventors, most of the anti-glare film currently on the market is a type which disperse | distributed the filler, and in such an anti-glare film, the relative scattered light intensity T (20) at 20 degrees incidence is 0.0001% or more and 0.0005% The relative scattered light intensity T (30) at the time of 30 ° incidence was no more than 0.00004% and no less than 0.00025%. In addition to the transmission scattering characteristics, the reflectance R (30) is 0.05% or more and 2% or less, the reflectance R (40) having a reflection angle of 40 ° is 0.0001% or more and 0.005% or less, and the reflectance R (50) having a reflection angle of 50 ° There was no thing which became 0.00001% or more and 0.0005% or less. As a result, there was no glare-proof anti-glare film which showed no glare, showed high contrast, and showed sufficient anti-glare performance. On the other hand, while the anti-glare film prescribed | regulated by this invention showed sufficient anti-glare performance, it turned out that light fading is suppressed and it is excellent.

방현 필름의 반사율을 측정하는데 있어서는, 상대 산란광 강도와 마찬가지로 0.001% 이하의 반사율을 정밀도 좋게 측정하는 것이 필요하다. 그래서, 다이나믹 레인지가 넓은 검출기의 사용이 유효하다. 이러한 검출기로서는, 예컨대, 시판의 광파워미터 등을 이용할 수 있고, 이 광파워미터의 검출기 앞에 개구를 설치하며, 방현 필름을 보는 각도가 2°가 되도록 한 변각 광도계를 이용하여 측정을 행할 수 있다. 입사광으로서는, 380 ㎚∼780 ㎚의 가시 광선을 이용할 수 있고, 측정용 광원으로서는, 할로겐 램프 등의 광원으로부터 나온 빛을 콜리메이트한 것을 이용하여도 좋으며, 레이저 등의 단색 광원으로 평행도가 높은 것을 이용하여도 좋다. 이면이 평활하며 투명한 방현 필름의 경우는, 방현 필름 이면으로부터의 반사가 측정값에 영향을 끼치는 경우가 있기 때문에, 예컨대, 흑색의 아크릴 수지판에 방현 필름의 평활면을 점착제 또는 물이나 글리세린 등의 액체를 이용하여 광학 밀착시킴으로써, 방현 필름 최표면의 반사율만을 측정할 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In measuring the reflectance of an anti-glare film, it is necessary to measure the reflectance of 0.001% or less with high precision similarly to a relative scattered light intensity. Therefore, the use of a detector with a wide dynamic range is effective. As such a detector, a commercially available optical power meter or the like can be used, for example, an opening is provided in front of the detector of the optical power meter, and measurement can be performed using a variable photometer such that the angle of viewing the antiglare film is 2 °. . As incident light, visible light of 380 nm to 780 nm can be used, and as a light source for measurement, one obtained by collimating light from a light source such as a halogen lamp may be used, and one having a high degree of parallelism using a monochromatic light source such as a laser. You may also do it. In the case of a transparent and transparent antiglare film, since the reflection from the back of the antiglare film may affect the measured value, for example, a black acrylic resin plate may be used as an adhesive or water or glycerin. It is preferable to make it possible to measure only the reflectance of the outermost surface of an anti-glare film by optical close contact using a liquid.

[헤이즈][Haze]

또한, 본 발명의 방현 필름은, 빛 바램을 방지하고, 고선명의 화상 표시 장치에 적용하였을 때의 눈부심을 효과적으로 억제하기 위해, 수직 입사광에 대한 표면 헤이즈가 0.1% 이상 5% 이하이며, 전체 헤이즈가 5% 이상 25% 이하인 것이 바람직하다. 방현 필름의 전체 헤이즈는, JIS K 7136에 나타내는 방법에 준거하여 측정할 수 있다. 표면 헤이즈와 내부 헤이즈의 분할은, 전체 헤이즈를 측정한 후, 그 요철 표면에 헤이즈가 거의 0인 투명 필름을 글리세린으로 접착하여 내부 헤이즈를 측정하고, 다음 식에 따라 표면 헤이즈를 구하면 좋다.In addition, the anti-glare film of the present invention has a surface haze of 0.1% or more and 5% or less for vertical incident light in order to prevent light fading and effectively suppress glare when applied to a high-definition image display device. It is preferable that they are 5% or more and 25% or less. The whole haze of an anti-glare film can be measured based on the method shown to JISK7136. After dividing the surface haze and the internal haze, after measuring the total haze, a transparent film having almost zero haze on the uneven surface may be adhered with glycerin to measure the internal haze, and the surface haze may be obtained according to the following equation.

표면 헤이즈=전체 헤이즈-내부 헤이즈Surface haze = total haze-internal haze

방현 필름의 요철 표면에 헤이즈가 거의 0인 투명 필름을 접착한 상태로 측정되는 헤이즈값은, 원래의 요철에 기인하는 표면 헤이즈가 거의 없어지기 때문에, 사실상 내부 헤이즈를 나타낸다고 봐도 좋다. 헤이즈가 거의 0인 투명 필름으로서는, 헤이즈가 작은 것이면 특히 제한되지 않고, 예컨대, 트리아세틸셀룰로오스 필름 등을 사용하면 좋다.Since the haze value measured in the state which adhered the transparent film whose haze was almost 0 to the uneven | corrugated surface of an anti-glare film hardly loses the surface haze resulting from original uneven | corrugated, it may be considered that it shows an internal haze actually. As a transparent film with a haze of almost zero, if a haze is small, it will not specifically limit, For example, a triacetyl cellulose film etc. may be used.

표면 헤이즈가 5%를 상회하는 경우에는 빛 바램이 발생하는 경향이 강하고, 0.1%를 하회하는 경우에는 충분한 방현성을 나타내지 않기 때문에 바람직하지 못하다. 또한, 전체 헤이즈는 5% 이상인 것이, 효과적으로 눈부심을 해소하기 때문에 바람직하다. 그러나, 전체 헤이즈가 25%를 상회하면, 화상 표시 장치에 적용하였을 때에, 결과로서 화면이 어두워지고, 시인성이 손상되기 때문에 바람직하지 못하다.When the surface haze is higher than 5%, light fading tends to occur, and when the surface haze is lower than 0.1%, it is not preferable because it does not exhibit sufficient anti-glare property. In addition, it is preferable that all the haze is 5% or more, since it can effectively eliminate glare. However, if the total haze exceeds 25%, it is not preferable because the screen becomes dark as a result and the visibility is impaired when applied to the image display device.

[반사 선명도][Reflection Sharpness]

본 발명의 방현 필름은 또한, 암부와 명부의 폭이 0.5 ㎜, 1.0 ㎜ 및 2.0 ㎜인 3종류의 광학 빗을 이용하여 빛의 입사각 45°에서 측정되는 반사 선명도의 합이 4O% 이하인 것이 바람직하다. 반사 선명도는, JIS K 7105로 규정되는 방법으로 측정된다. 이 규격에서는, 화상 선명도의 측정에 이용하는 광학 빗으로서, 암부와 명부의 폭의 비가 1:1로, 그 폭이 0.125 ㎜, 0.5 ㎜, 1.0 ㎜ 및 2.0 ㎜인 4종류가 규정되어 있다. 이 중, 폭 0.125 ㎜의 광학 빗을 이용한 경우, 본 발명에서 규정하는 방현 필름에서는, 그 측정값의 오차가 커지기 때문에, 폭 0.125 ㎜의 광학 빗을 이용한 경우의 측정값은 합에 더하지 않는 것으로 하고, 폭이 0.5 ㎜, 1.0 ㎜ 및 2.0 ㎜인 3종류의 광학 빗을 이용하여 측정된 화상 선명도의 합을 가지고 반사 선명도라고 부르기로 한다. 이 정의에 따른 경우의 반사 선명도의 최대값은 300%이다. 이 정의에 따른 반사 선명도가 40%를 넘으면, 광원 등의 화상이 선명하게 투영되게 되고, 방현성이 뒤떨어지기 때문에 바람직하지 못하다.In the anti-glare film of the present invention, it is also preferable that the sum of the reflection clarity measured at an incident angle of 45 ° of light using three types of optical combs of 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm in width of the dark portion and the roll is 40% or less. Reflection sharpness is measured by the method prescribed | regulated to JISK7105. In this standard, as an optical comb used for measuring image sharpness, four types of the ratio of the width | variety of a dark part and a wrist are 1: 1 and the width | variety is 0.125 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm. Among these, when the optical comb of 0.125 mm width is used, since the error of the measured value becomes large in the anti-glare film prescribed | regulated by this invention, the measured value at the time of using the optical comb of width 0.125 mm shall not add to sum, The sum of image clarity measured using three types of optical combs having a width of 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm will be referred to as reflection clarity. The maximum value of the reflection sharpness in the case of following this definition is 300%. When the reflection sharpness according to this definition exceeds 40%, an image such as a light source is clearly projected, which is not preferable because the anti-glare property is inferior.

단, 반사 선명도가 40% 이하가 되면, 반사 선명도만으로부터는 방현성의 우열을 비교하는 것이 어려워진다. 왜냐하면, 상기 정의에 따른 반사 선명도가 40% 이하인 경우, 폭 0.5 ㎜, 1.0 ㎜ 및 2.0 ㎜의 광학 빗을 이용한 각각의 반사 선명도가, 겨우 10% 정도가 되고, 측정 오차 등에 따른 반사 선명도의 디플렉션(deflection)을 무시할 수 없게 되기 때문이다.However, when the reflection sharpness becomes 40% or less, it becomes difficult to compare the superiority of anti-glare property only from reflection sharpness. If the reflection clarity according to the above definition is 40% or less, the respective reflection clarities using optical combs of 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm in width are only about 10%, and the reflection sharpness due to measurement error ( deflection) cannot be ignored.

그래서 본 발명에서는, 반사 선명도가 40% 이하인 방현 필름에 대해서, 상대 산란광 강도를 규정함으로써, 바람직하게는 그것을 30° 입사 시의 반사율과 조합함으로써, 방현 필름의 방현 성능을 적합하게 평가할 수 있는 지표로 하고 있다.Therefore, in the present invention, by defining the relative scattered light intensity for the anti-glare film having a reflection clarity of 40% or less, preferably by combining it with the reflectance at the incidence of 30 °, the anti-glare performance of the anti-glare film can be suitably evaluated as an index. Doing.

[표면 형상][Surface shape]

다음에, 방현 필름의 방현층 요철면에서의 표면 형상에 대해서 설명한다. 본 발명의 방현 필름은, 눈부심을 보다 효과적으로 억제하고, 외관을 육안으로 관찰하였을 때의 질감이 똑같으며 균일한 것으로 하기 위해, 요철 표면 형상 인자로서, 다음의 하나 또는 복수의 요건을 만족하는 것이 바람직하다.Next, the surface shape in the anti-glare layer uneven surface of an anti-glare film is demonstrated. The antiglare film of the present invention preferably satisfies the following one or more requirements as the uneven surface shape factor in order to more effectively suppress the glare and to make the texture uniform and uniform when the appearance is visually observed. Do.

(1) 방현층을 구성하는 요철 표면의 단면 곡선에서, 산술 평균 높이(Pa)가 0.05 ㎛ 이상 0.20 ㎛ 이하이고, 최대 단면 높이(Pt)가 0.2 ㎛ 이상 1.0 ㎛ 이하이며, 평균 길이(PSm)가 15 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하인 것,(1) In the cross-sectional curve of the uneven surface constituting the antiglare layer, the arithmetic mean height Pa is 0.05 µm or more and 0.20 µm or less, the maximum cross-sectional height Pt is 0.2 µm or more and 1.0 µm or less, and the average length PSm Is 15 µm or more and 30 µm or less,

(2) 방현층을 구성하는 요철 표면이 200 ㎛×200 ㎛의 영역 내에 50개 이상 100개 이하의 볼록부를 갖는 것,(2) the uneven surface constituting the antiglare layer has 50 or more and 100 or less convex portions in an area of 200 µm x 200 µm,

(3) 방현층을 구성하는 요철 표면의 볼록부 정점을 모점으로 하여 그 표면을 보로노이 분할하였을 때에 형성되는 다각형의 평균 면적이 100 ㎛2 이상 1,000 ㎛2 이하인 것.(3) The average area of the polygons formed when the surface is divided by Voronoi with the peak of the convex portion of the uneven surface constituting the antiglare layer is 100 µm 2 or more and 1,000 µm 2 or less.

우선, 방현층을 구성하는 요철 표면의 단면 곡선에서의 산술 평균 높이(Pa), 최대 단면 높이(Pt) 및 평균 길이(PSm)에 대해서 설명한다. 이들의 값은, JIS B 0601(=ISO 4287)로 규정되는 것이고, 산술 평균 높이(Pa)는 중심선 평균 거칠기라고 불리는 값과 동일하다.First, arithmetic mean height Pa, maximum cross-sectional height Pt, and average length PSm in the cross-sectional curve of the uneven surface constituting the antiglare layer will be described. These values are prescribed | regulated to JIS B 0601 (= ISO 4287), and an arithmetic mean height Pa is the same as a value called center line average roughness.

요철 표면의 단면 곡선에서의 산술 평균 높이(Pa)가 0.05 ㎛ 미만인 경우에는, 방현 필름 표면이 거의 평탄해지고, 충분한 방현 성능을 나타내지 않게 되기 때문에, 바람직하지 못하다. 또한, 산술 평균 높이(Pa)가 0.2 ㎛보다 큰 경우에는, 표면 형상이 거칠어지고, 빛 바램이 발생하며, 또한, 외관을 육안으로 관찰하였을 때의 질감이 거칠어지기 때문에, 역시 바람직하지 못하다. 요철 표면의 단면 곡선에서의 최대 단면 높이(Pt)가 0.2 ㎛ 미만인 경우에는, 역시 방현 필름 표면이 거의 평탄해지고, 충분한 방현 성능을 나타내지 않게 되기 때문에, 바람직하지 못하 다.When the arithmetic mean height Pa in the cross-sectional curve of the uneven surface is less than 0.05 µm, the surface of the antiglare film is almost flat, and it is not preferable because it does not exhibit sufficient antiglare performance. In addition, when the arithmetic mean height Pa is larger than 0.2 µm, the surface shape becomes rough, light fading occurs, and the texture when the appearance is visually observed becomes rough, which is also undesirable. If the maximum cross-sectional height Pt in the cross-sectional curve of the uneven surface is less than 0.2 µm, the surface of the anti-glare film is also almost flat, which is not preferable because it does not exhibit sufficient anti-glare performance.

또한, 최대 단면 높이(Pt)가 1 ㎛보다 큰 경우에는, 역시 표면 형상이 거칠어지고, 빛 바램이나 질감 저하 등의 문제가 발생하기 때문에, 바람직하지 못하다. 요철 표면의 단면 곡선에서의 평균 길이(PSm)가 15 ㎛ 미만인 경우에는, 충분한 방현성을 얻을 수 없기 때문에, 바람직하지 못하다. 이는, 평균 길이(PSm)가 너무 작으면, 요철의 피크(그곳의 표면 경사 각도가 거의 0°라고 생각됨)가 근접하기 때문에, 육안으로 관찰하였을 때에 결상하기 때문이라고 생각된다. 또한, 평균 길이(PSm)가 20 ㎛보다 큰 경우에는, 외관을 육안으로 관찰하였을 때의 질감이 거칠어지기 때문에, 역시 바람직하지 못하다.In addition, when the maximum cross-sectional height Pt is larger than 1 µm, the surface shape is also rough, and problems such as light fading and texture deterioration occur, which is not preferable. When the average length PSm in the cross-sectional curve of the uneven surface is less than 15 m, sufficient anti-glare property cannot be obtained, which is not preferable. It is thought that this is because if the average length PSm is too small, the peaks of the unevenness (the surface tilt angle thereof is considered to be almost 0 °) are close to each other, and thus they are imaged when visually observed. Moreover, when average length PSm is larger than 20 micrometers, since the texture when the external appearance is observed visually becomes rough, it is also unpreferable.

요철 표면의 단면 곡선에서의 산술 평균 높이(Pa), 최대 단면 높이(Pt) 및 평균 길이(PSm)는, JIS B 0601에 준거하고, 시판의 일반적인 접촉식 표면 거칠기 측정계를 이용하여 측정할 수 있다. 또한, 공초점 현미경, 간섭 현미경, 원자간력 현미경(Atomic Force Microscope: AFM) 등의 장치에 의해 표면 형상을 측정하고, 그 표면 형상의 삼차원 정보로부터 계산에 의해 구하는 것도 가능하다. 또한, 삼차원 정보로부터 계산하는 경우에는, 충분한 기준 길이를 확보하기 위해, 200 ㎛×200 ㎛ 이상의 영역을 3점 이상 측정하여, 그 평균값을 가지고 측정값으로 하는 것이 바람직하다.The arithmetic mean height (Pa), the maximum cross-sectional height (Pt), and the average length (PSm) in the cross-sectional curve of the uneven surface can be measured using a commercially available general contact surface roughness measuring system in accordance with JIS B 0601. . Moreover, it is also possible to measure a surface shape with apparatuses, such as a confocal microscope, an interference microscope, and an atomic force microscope, and to calculate | require it by calculation from the three-dimensional information of the surface shape. In addition, when calculating from three-dimensional information, in order to ensure a sufficient reference length, it is preferable to measure three or more points | pieces of 200 micrometers x 200 micrometers or more, and to make it the measured value with the average value.

다음에, 요철 표면에 관측되는 볼록부의 수에 대해서 설명한다. 요철 표면에서의 볼록부의 수가 적으면, 고선명의 화상 표시 장치와 조합하여 사용한 경우에, 화소와의 간섭에 의해 눈부심이 발생하고, 화상이 보기 어려워지며, 또한 질감도 나빠지기 때문에, 바람직하지 못하다. 또한, 볼록부의 수가 지나치게 많아지면, 결과로서 표면 요철 형상의 경사 각도가 급경사인 것으로 되고, 빛 바램이 발생하기 쉬워진다. 그래서, 요철 표면에서는, 200 ㎛×200 ㎛의 영역 내에 50개 이상 100개 이하의 볼록부를 갖도록 하는 것이 바람직하다.Next, the number of the convex parts observed on the uneven surface is demonstrated. When the number of convex portions on the uneven surface is small, when used in combination with a high-definition image display device, glare occurs due to interference with pixels, the image becomes difficult to see, and the texture is also deteriorated, which is not preferable. In addition, when the number of the convex parts becomes too large, the inclination angle of the surface asperity shape becomes a steep slope as a result, and light fading tends to occur. Therefore, on the uneven surface, it is preferable to have 50 or more and 100 or less convex portions in the region of 200 µm x 200 µm.

방현 필름의 요철면에서의 볼록부의 수를 구하는데 있어서는, 공초점 현미경, 간섭 현미경, 원자간력 현미경(AFM) 등의 장치에 의해 표면 형상을 측정하고, 방현 필름 표면의 각 점의 삼차원적인 좌표값을 구하고 나서, 이하에 나타내는 알고리즘에 의해 볼록부를 판정하고, 그 갯수를 카운트한다. 즉, 방현 필름 표면의 임의의 점에 착안하였을 때에, 그 점의 주위에서, 착안한 점보다도 표고가 높은 점이 존재하지 않고, 또한, 그 점의 요철면에서의 표고가 요철면의 최고점의 표고와 최저점의 표고의 중간보다 높은 경우에, 그 점이 볼록부의 정점이라고 하고, 그와 같이 하여 구한 볼록부의 정점의 수를 카운트하여, 볼록부의 수로 한다.In obtaining the number of the convex parts in the uneven surface of an anti-glare film, surface shape is measured by apparatuses, such as a confocal microscope, an interference microscope, and atomic force microscope (AFM), and the three-dimensional coordinate of each point of an anti-glare film surface After obtaining the value, the convex portion is determined by the algorithm shown below, and the number is counted. That is, when paying attention to any point on the surface of the antiglare film, there is no point higher than the point of focus around the point, and the elevation at the uneven surface of the point is different from the height of the highest point of the uneven surface. When it is higher than the middle of the elevation of the lowest point, the point is called the peak of the convex portion, and the number of the peaks of the convex portion thus obtained is counted to be the number of the convex portions.

보다 구체적으로는, 도 5에 나타내는 바와 같이, 방현 필름 표면의 임의의 점(21)에 착안하고, 그 점(21)을 중심으로하여, 방현 필름 기준면(23)에 평행한 반경 2 ㎛∼5 ㎛의 원을 그렸을 때, 그 원의 투영면(24) 내에 포함되는 방현 필름 표면(22) 상의 점 중에, 착안한 점(21)보다도 표고가 높은 점이 존재하지 않고, 또한, 그 점의 요철면에서의 표고가 요철면의 최고점의 표고와 최저점의 표고의 중간보다 높은 경우에, 그 점(21)이 볼록부의 정점이라고 판정하여, 볼록부의 수를 구한다. 그때, 상기 원(24)의 반경은, 샘플 표면의 미세한 요철을 카운트하지 않고, 또한, 복수의 볼록부를 포함하지 않는 정도의 크기인 것이 요구되며, 3 ㎛ 정도가 바람직하다. 측정에서는, 오차를 적게 하기 위해, 200 ㎛×200 ㎛의 영역을 3점 이상 측정하여, 그 평균값을 가지고 측정값으로 하는 것이 바람직하다.More specifically, as shown in FIG. 5, 2 micrometers-5 radius of attention are paid to arbitrary points 21 of the anti-glare film surface, and are parallel to the anti-glare film reference surface 23 centering on the point 21. When a circle of μm is drawn, there is no point on the antiglare film surface 22 included in the projection surface 24 of the circle, the height of which is higher than the point 21 of interest, and the uneven surface of the point. When the altitude is higher than the middle of the elevation of the highest point of the uneven surface and the elevation of the lowest point, it is determined that the point 21 is the apex of the convex portion, and the number of the convex portions is obtained. In this case, the radius of the circle 24 is not required to count fine irregularities on the sample surface and is required to be of a size that does not include a plurality of convex portions, and is preferably about 3 μm. In measurement, in order to reduce an error, it is preferable to measure the area | region of 200 micrometers x 200 micrometers or more, and to make it a measured value with the average value.

공초점 현미경을 이용하는 경우, 대물 렌즈의 배율은 50배 정도로 하고, 해상도를 떨어뜨려 측정하는 것이 바람직하다. 고해상도로 측정하면, 샘플 표면의 미세한 요철을 측정하여 버려, 볼록부의 카운트에 지장을 초래하기 때문이다. 또한, 대물 렌즈를 저배율로 하면, 높이 방향의 해상도도 저하하기 때문에, 요철이 적은 샘플의 경우는 표면 형상을 측정하기 어려워지는 경우도 있다. 이러한 경우에는, 고배율의 대물 렌즈로 측정을 행한 후, 얻어진 데이터에 로우패스 필터(lowpass filter)를 걸어 공간 주파수가 높은 성분을 떨어뜨리고, 요철 표면에 관찰되는 미세한 거칠음이 보이지 않도록 하고 나서, 볼록부의 갯수를 카운트하여도 좋다.In the case of using a confocal microscope, the magnification of the objective lens is about 50 times, and it is preferable to reduce the resolution and measure it. This is because when the measurement is performed at a high resolution, fine irregularities on the surface of the sample are measured to cause a disturbance in the count of the convex portion. In addition, when the objective lens is set to a low magnification, the resolution in the height direction is also lowered, so that in the case of a sample having few unevenness, it may be difficult to measure the surface shape. In this case, after measuring with a high-magnification objective lens, a lowpass filter is applied to the obtained data to drop a component having a high spatial frequency, so that the fine roughness observed on the uneven surface is not seen, and then the convex portion You may count the number.

다음에, 요철 표면의 볼록부 정점을 모점으로 하여 그 표면을 보로노이 분할하였을 때에 형성되는 다각형의 평균 면적에 대해서 설명한다. 우선, 보로노이 분할에 대해서 설명하면, 평면 상에 몇개의 점(모점이라 함)이 배치되어 있을 때, 그 평면 내의 임의의 점이 어떤 모점에 가장 가까운지에 따라 그 평면을 분할하여 만들어지는 도면을 보로노이도라고 하며, 그 분할을 보로노이 분할이라고 한다. 도 6에, 방현 필름의 표면에서의 볼록부의 정점을 모점으로 하여 그 표면을 보로노이 분할한 예를 나타내지만, 사각의 점(26, 26)이 모점이고, 하나의 모점을 포함하는 개개의 다각형(27, 27)이, 보로노이 분할에 의해 형성되는 영역으로서, 보로노이 영역이나 보로노이 다각형이라 불리는 것이지만, 이하에서는 보로노이 다각형이라고 부른다. 이 도면에서, 주위의 연하게 칠한 부분(28, 28)에 대해서는, 뒤에서 설 명한다. 보로노이도에서는, 모점의 수와 보로노이 영역의 수는 일치한다.Next, the average area of the polygon formed when the surface is divided by Voronoi with the convex apex of the uneven surface as a mother point will be described. First, the Voronoi segmentation is described. When a number of points (called a parent point) are arranged on a plane, a drawing is made by dividing the plane according to which parent point an arbitrary point in the plane is closest to. It is called a noido, and the division is called a Voronoi division. 6 shows an example in which the surface of the antiglare film has the peak of the convex portion as its mother point, and the surface is divided by Voronoi, but the rectangular points 26 and 26 are the mother points, and each polygon includes one mother point. Although (27, 27) is an area | region formed by Voronoi division | segmentation, it is called a Voronoi area | region or a Voronoi polygon, but is called a Voronoi polygon hereafter. In this figure, the surrounding lightly painted portions 28 and 28 will be described later. In Voronoiido, the number of parent points and the number of Voronoi regions coincide.

이렇게 해서, 볼록부의 정점을 모점으로 하여 보로노이 분할하였을 때에 형성되는 보로노이 다각형의 평균 면적은, 100 ㎛2 이상 1,000 ㎛2 이하인 것이 바람직하다. 이때의 평균 면적이 100 ㎛2를 하회하는 경우에는, 방현 필름 표면의 경사 각도가 급경사가 되고, 결과로서 빛 바램이 발생하기 쉬워지기 때문에, 바람직하지 못하다. 또한, 보로노이 다각형의 평균 면적이 1,000 ㎛2보다 큰 경우에는, 요철 표면 형상이 거칠어지고, 눈부심이 발생하기 쉬어지며, 질감도 악화하기 때문에, 바람직하지 못하다.In this way, it is preferable that the average area of the Voronoi polygon formed when the Voronoi dividing is made with the vertex of a convex part as a parent point is 100 micrometer <2> or more and 1,000 micrometer <2> or less. When the average area at this time is less than 100 micrometer <2> , since the inclination angle of the anti-glare film surface becomes steep inclination and light fading tends to occur as a result, it is unpreferable. In addition, when the average area of the Voronoi polygon is larger than 1,000 µm 2 , the uneven surface shape becomes rough, glare is likely to occur, and the texture is also deteriorated, which is not preferable.

방현 필름 표면의 볼록부 정점을 모점으로 한 보로노이 분할을 행함으로써 얻어지는 보로노이 다각형의 평균 면적을 구하는데 있어서는, 공초점 현미경, 간섭 현미경, 원자간력 현미경(AFM) 등의 장치에 의해 표면 형상을 측정하고, 방현 필름 표면의 각 점의 삼차원적인 좌표값을 구하고 나서, 이하에 나타내는 알고리즘에 의해 보로노이 분할을 행하며, 보로노이 다각형의 평균 면적을 구한다. 즉, 먼저 도 5를 참조하여 설명한 알고리즘에 따라 우선 방현 필름 표면 상의 볼록부의 정점을 구하고, 다음에, 방현 필름 기준면에 그 볼록부의 정점을 투영한다. 그 후, 표면 형상 측정에 의해 얻어진 삼차원 좌표 전부를 그 기준면에 투영하며, 이들 투영된 모든 점을 최근접의 모점에 귀속시킴으로써 보로노이 분할을 행하고, 분할되어 얻어지는 다각형의 면적을 구함으로써, 보로노이 다각형의 평균 면적을 구한다. 측정에 있어서는, 오차를 적게 하기 위해, 측정 시야의 경계에 접하는 보로노이 다각형 에 대해서는, 앞의 볼록부의 수로서는 계산하지만, 평균 면적을 구할 때에는 산입하지 않는다. 또한, 측정 오차를 적게 하기 위해, 200 ㎛×200 ㎛ 이상의 영역을 3점 이상 측정하여, 그 평균값을 가지고 측정값으로 하는 것이 바람직하다.In obtaining the average area of the Voronoi polygon obtained by performing Voronoi segmentation with the convex apex on the surface of an antiglare film as a parent point, it is surface shape by apparatuses, such as a confocal microscope, an interference microscope, and an atomic force microscope (AFM). After the measurement, the three-dimensional coordinate value of each point on the anti-glare film surface is calculated, and the Voronoi segmentation is performed by the algorithm shown below to obtain the average area of the Voronoi polygon. That is, first, the vertices of the convex portions on the surface of the antiglare film are obtained according to the algorithm described with reference to FIG. 5, and then the vertices of the convex portions are projected onto the antiglare film reference plane. Subsequently, all three-dimensional coordinates obtained by surface shape measurement are projected on the reference plane, and the Voronoi segmentation is performed by assigning all of these projected points to the nearest parent point, thereby obtaining the area of the polygon obtained by dividing. Find the average area of a polygon. In the measurement, in order to reduce the error, the Voronoi polygons in contact with the boundary of the measurement field of view are calculated as the number of the convex portions in the previous section, but are not calculated when calculating the average area. In addition, in order to reduce a measurement error, it is preferable to measure three or more areas of 200 micrometers x 200 micrometers or more, and to set it as a measured value with the average value.

먼저 일부 설명한 대로, 도 6은 방현 필름의 볼록부 정점을 모점으로 하여 보로노이 분할하였을 때의 예를 나타내는 보로노이도이다. 다수있는 모점(26, 26)은, 방현 필름의 볼록부 정점이고, 보로노이 분할에 의해, 하나의 모점(26)에 대하여 하나의 보로노이 다각형(27)이 할당되어 있다. 이 도면에서, 시야의 경계에 접하며, 연하게 칠해져 있는 보로노이 다각형(28, 28)은, 전술한 대로, 평균 면적의 산출에는 카운트하지 않는다. 또한, 이 도면에서는, 일부의 모점 및 보로노이 다각형에 대해서만 인출선과 부호를 부여하고 있지만, 모점과 보로노이 다각형이 다수 존재하는 것은, 이상의 설명과 이 도면으로부터 용이하게 이해될 것이다.As described first, FIG. 6 is a Voronoi diagram illustrating an example of the Voronoi segmentation using the convex apex of the antiglare film as a parent point. Many parent points 26 and 26 are the convex apex of an anti-glare film, and one Voronoi polygon 27 is assigned with respect to one mother point 26 by Voronoi division | segmentation. In this figure, the Voronoi polygons 28 and 28 that are in light contact with the boundary of the visual field are not counted in calculating the average area as described above. In addition, in this figure, although a leader line and a code | symbol are attached | subjected only to a part of a parent point and a Voronoi polygon, it is easily understood from the above description and this figure that many parent points and Voronoi polygon exist.

[투명 지지체와 방현층][Transparent Support and Anti-glare Layer]

본 발명의 방현 필름은, 투명 지지체 상에 미세한 요철 표면을 갖는 방현층이 형성된 것이다. 투명 지지체는, 요철 표면을 갖는 방현층을 지지하는 것이며, 실질적으로 광학적으로 투명한 수지 필름으로 구성할 수 있다. 투명 지지체의 예로서, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴레메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 노르보넨계 화합물을 모노머로 하는 비정질 환상 폴리올레핀 등의 열가소성 수지로 이루어지는 용제 캐스트 필름이나 압출막 등을 들 수 있다.The anti-glare film of this invention forms the anti-glare layer which has a fine uneven surface on the transparent support body. A transparent support body supports the anti-glare layer which has an uneven surface, and can be comprised by the resin film which is substantially optically transparent. As an example of a transparent support body, the solvent cast film, the extruded film, etc. which consist of thermoplastic resins, such as a tricyclic cellulose, polyethylene terephthalate, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and an amorphous cyclic polyolefin which uses a norbornene-type compound as a monomer, are mentioned. have.

방현층은, 위에서 설명한 바와 같은 투과 산란 특성을 만족하는 표면 요철이 부여된 층으로서, 투명 지지체 상에 형성된다. 이 방현층은, 종래부터 널리 행해지 고 있는 필러를 분산시킨 수지 용액을 투명 지지체 상에 도포하고, 도포막 두께를 조정하여 필러를 도포막 표면에 노출시킴으로써 랜덤한 요철을 투명 지지체 상에 형성하는 방법으로도 제작할 수 있지만, 바람직하게는, 요철면을 갖는 금형으로부터의 전사에 의해 방현층의 표면 요철이 형성된다. 그리고 이 방현층은, 바인더 수지 100 중량부에 대하여, 평균 입자 직경이 5 ㎛ 이상 15 ㎛ 이하이며, 바인더 수지와의 굴절률차가 0.01 이상 0.06 이하인 미립자를 10 중량부∼100 중량부 함유하고 있는 것이 바람직하고, 또한, 이 미립자가 방현층 중에 완전히 매몰되며, 미립자가 표면의 요철 형상에는 영향을 끼치고 있지 않는 것이 바람직하다. 이와 같이, 표면 미세 요철 형상과 방현 필름의 내부 산란을 독립적으로 제어함으로써, 반사 특성을 주로 결정하는 방현 필름의 표면 미세 요철 형상과, 투과 특성을 주로 결정하는 방현층의 조성을 나누어 제어할 수 있다. 그 결과로서, 상기 광학 특성을 용이하게 달성하는 것이 가능해진다. 이러한 방현층의 형성에 대해서는 뒤에서 자세히 설명한다.The anti-glare layer is a layer provided with surface irregularities that satisfy the transmission scattering characteristics as described above, and is formed on the transparent support. This anti-glare layer is a method of forming random irregularities on a transparent support by applying a resin solution obtained by dispersing a filler which has been widely used on a transparent support, adjusting the coating film thickness and exposing the filler to the coating film surface. Although it can also manufacture, it is preferable that the surface unevenness | corrugation of an anti-glare layer is formed by the transfer from the metal mold | die which has an uneven surface. And it is preferable that this anti-glare layer contains 10 weight part-100 weight part of microparticles | fine-particles whose average particle diameters are 5 micrometers or more and 15 micrometers or less with respect to 100 weight part of binder resins, and whose refractive index difference with a binder resin is 0.01 or more and 0.06 or less. In addition, it is preferable that the fine particles are completely embedded in the antiglare layer, and the fine particles do not affect the uneven surface shape. In this way, by independently controlling the surface fine concavo-convex shape and the internal scattering of the anti-glare film, it is possible to divide and control the surface fine concavo-convex shape of the antiglare film mainly determining the reflection characteristic and the composition of the antiglare layer mainly determining the transmission characteristic. As a result, it becomes possible to achieve the said optical characteristic easily. The formation of such an antiglare layer will be described later in detail.

본 발명의 방현 필름은, 그 최표면, 즉 요철면측에 저반사막이 없는 상태라도, 충분한 방현 기능을 발휘하지만, 최표면에 저반사막을 붙인 상태로 이용할 수도 있다. 저반사막은, 방현층 위에, 그것보다도 굴절률이 낮은 저굴절률 재료의 층을 설치함으로써 형성할 수 있다. 그와 같은 저굴절률 재료로서, 구체적으로는, 불화 리튬(LiF), 불화 마그네슘(MgF2), 불화 알루미늄(AlF3), 빙정석(3NaF·AlF3 또는 Na3AlF6) 등의 무기 재료 미립자를, 아크릴계 수지나 에폭시계 수지 등에 함유시킨 무기계 저반사 재료, 또한, 불소계 또는 실리콘계의 유기 화합물, 열가소성 수지, 열경화형 수지, 자외선 경화형 수지 등의 유기 저반사 재료를 들 수 있다.Although the anti-glare film of this invention shows sufficient anti-glare function even in the state which does not have a low reflection film in the outermost surface, ie, the uneven surface side, it can also be used in the state which attached the low reflection film to the outermost surface. The low reflection film can be formed on the antiglare layer by providing a layer of low refractive index material having a lower refractive index than that. As such a low refractive index material, specifically, inorganic material fine particles such as lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum fluoride (AlF 3 ), cryolite (3NaF.AlF 3 or Na 3 AlF 6 ), And inorganic low reflection materials contained in acrylic resins, epoxy resins, and the like, and organic low reflection materials such as fluorine or silicon organic compounds, thermoplastic resins, thermosetting resins, and ultraviolet curable resins.

[방현 필름을 제조하기 위한 금형의 제조 방법][Method for Producing Mold for Producing Anti-glare Film]

다음에, 본 발명에 따른 방현 필름을 적합하게 제조할 수 있는 방법, 및 그 방현 필름을 얻기 위한 표면에 요철이 형성된 금형의 제조 방법에 대해서 설명한다. 본 발명의 방현 필름은, 소정 형상으로 요철이 형성된 금형을 이용하고, 그 금형의 요철면을 투명 수지 필름에 전사하며, 계속해서 요철면이 전사된 투명 수지 필름을 금형으로부터 박리하는 방법에 따라, 유리하게 제조된다. 보다 구체적으로는, 금속의 표면에 구리 도금 또는 니켈 도금을 시행하고, 그 도금 표면을 연마한 후, 그 연마면에 미립자를 부딪쳐 요철을 형성하며, 그 요철 형상을 무디게 하는 가공을 시행한 후, 그 요철면에 크롬 도금을 시행하여 금형으로 하고, 그 금형의 요철면을 투명 지지체 상에 도포된 수지에 전사하며, 계속해서 그 요철이 전사된 수지를 투명 지지체마다 금형으로부터 박리하는 방법에 따라 제조된다. 이 방법에서는, 요철을 갖는 금형을 얻기 위해, 금속 기재의 표면에 구리 도금 또는 니켈 도금을 시행하고, 그 도금 표면을 연마한 후, 그 연마면에 미립자를 부딪쳐 요철을 형성하며, 그 요철 형상을 무디게 하는 가공을 시행한 후, 그 요철면에 크롬 도금을 시행하여, 금형으로 한다.Next, the method which can manufacture the anti-glare film concerning this invention suitably, and the manufacturing method of the metal mold | die with which the unevenness | corrugation was formed in the surface for obtaining this anti-glare film are demonstrated. The anti-glare film of this invention uses the metal mold | die with which the unevenness | corrugation was formed in the predetermined shape, and transfers the uneven surface of the metal mold | die to the transparent resin film, and then, according to the method of peeling off the transparent resin film with which the uneven surface was transferred, from the metal mold | die, It is advantageously produced. More specifically, the surface of the metal is subjected to copper plating or nickel plating, and after the plating surface is polished, the surface is bumped with fine particles to form unevenness, and then subjected to a process of blunting the uneven shape. The uneven surface is subjected to chromium plating to form a mold, and the uneven surface of the mold is transferred to a resin coated on a transparent support, and then the resin having the uneven transfer transferred is produced according to the method of peeling from the mold for each transparent support. do. In this method, in order to obtain a metal mold having irregularities, copper plating or nickel plating is applied to the surface of the metal substrate, and after the plating surface is polished, fine particles are bumped against the polishing surface to form irregularities. After the dulling process is performed, the uneven surface is subjected to chromium plating to obtain a mold.

우선, 미립자를 부딪쳐 요철을 형성하고, 또한 크롬 도금층을 형성하는 금속 기재의 표면에는, 구리 도금 또는 니켈 도금이 시행된다. 이와 같이, 금형을 구성하는 금속의 표면에 구리 도금 또는 니켈 도금을 시행함으로써, 후속 공정에서의 크롬 도금의 밀착성이나 광택성을 높일 수 있다. 철 등의 표면에 크롬 도금을 시행한 경우, 혹은 크롬 도금 표면에 샌드 블라스트법이나 비드 쇼트법 등으로 요철을 형성하고 나서 재차 크롬 도금을 시행한 경우는, 앞에 배경기술에서 서술한 바와 같이, 표면이 거칠어지기 쉽고, 미세한 크랙이 생겨, 방현 필름의 형상에 바람직하지 못한 영향을 끼치는 경우가 있다. 이에 대하여, 표면에 구리 도금 또는 니켈 도금을 시행함으로써, 이러한 문제점이 없어지는 것이 발견되었다. 이는, 구리 도금이나 니켈 도금은, 피복성이 높고, 또한 평활화 작용이 강하기 때문에, 금속 기재의 미소한 요철이나 공동 등을 매립하여 평탄하며 광택이 있는 표면을 형성하기 때문이다. 이들 구리 도금 및 니켈 도금의 특성에 의해, 금속 기재에 존재하고 있던 미소한 요철이나 공동에 기인한다고 생각되는 크롬 도금 표면의 거칠음이 해소되고, 또한, 구리 도금이나 니켈 도금의 피복성의 높이로부터, 미세한 크랙의 발생이 저감되는 것으로 생각된다.First, copper plating or nickel plating is given to the surface of the metal base material which bumps microparticles | fine-particles and forms an unevenness | corrugation and forms a chromium plating layer. Thus, by performing copper plating or nickel plating on the surface of the metal which comprises a metal mold | die, the adhesiveness and glossiness of chromium plating in a subsequent process can be improved. When chromium plating is performed on the surface of iron or the like, or when chromium plating is performed again after the unevenness is formed on the surface of the chromium plating by a sand blasting method or a bead short method, as described in the background art, the surface This roughness tends to be rough and fine cracks may occur, which may adversely affect the shape of the antiglare film. In contrast, it has been found that such problems are eliminated by applying copper plating or nickel plating on the surface. This is because copper plating and nickel plating have a high coating property and a strong smoothing action, and thus form a flat and glossy surface by embedding minute irregularities and cavities of the metal substrate. By the characteristics of these copper plating and nickel plating, the roughness of the chromium plating surface considered to be caused by the minute unevenness | corrugation and the cavity which existed in the metal base material is eliminated, and it is minute from the height of the coating property of copper plating and nickel plating. It is considered that the occurrence of cracks is reduced.

여기서 말하는 구리 또는 니켈은, 각각의 순금속일 수 있으나, 그 외에, 구리를 주체로 하는 합금, 또는 니켈을 주체로 하는 합금이어도 좋다. 따라서, 본 명세서에서 말하는 구리는 구리 및 구리 합금을 포함하는 의미이고, 또한 니켈은 니켈 및 니켈 합금을 포함하는 의미이다. 구리 도금 및 니켈 도금은, 각각 전해 도금으로 행하여도 무전해 도금으로 행하여도 좋지만, 통상은 전해 도금이 채용된다.The copper or nickel herein may be a pure metal, but in addition, an alloy mainly composed of copper or an alloy mainly composed of nickel may be used. Accordingly, copper as used herein is meant to include copper and copper alloys, and nickel is also meant to include nickel and nickel alloys. Copper plating and nickel plating may be performed by electrolytic plating or electroless plating, respectively, but electrolytic plating is usually employed.

금형을 구성하는데 적합한 금속으로서, 비용의 관점에서 알루미늄이나 철 등을 들 수 있다. 또한 취급의 편리성으로부터, 경량인 알루미늄이 보다 바람직하다. 여기서 말하는 알루미늄이나 철도, 각각 순금속일 수 있으나, 그 외에, 알루미늄 또는 철을 주체로 하는 합금이어도 좋다. 이러한 금속 기재의 표면에 구리 도금 또는 니켈 도금을 시행하고, 또한 그 표면을 연마하여, 보다 평활하며 광택이 있는 표면을 얻은 후, 그 표면에 미립자를 부딪쳐 미세한 요철을 형성하고, 그 요철 형상을 무디게 하는 가공을 시행한 후, 거기에 크롬 도금을 더 시행하여, 금형을 구성한다.As a metal suitable for forming a metal mold | die, aluminum and iron etc. are mentioned from a cost viewpoint. Moreover, lightweight aluminum is more preferable from the convenience of handling. The aluminum and the railroad may be pure metals, respectively, but may be an alloy mainly composed of aluminum or iron. The surface of the metal substrate is subjected to copper plating or nickel plating, and the surface is polished to obtain a smoother and more polished surface, and then fine particles are bumped on the surface to form fine irregularities, and the irregularities are blunted. After carrying out the processing to be performed, chromium plating is further applied thereto to form a mold.

구리 도금 또는 니켈 도금을 시행할 때에는, 도금층이 너무 얇으면, 하지 금속의 영향을 배제할 수 없기 때문에, 그 두께는 10 ㎛ 이상인 것이 바람직하다. 도금층 두께의 상한은 임계적이 아니지만, 비용 등과의 관계로부터, 일반적으로는 500 ㎛ 정도까지로 충분하다.When carrying out copper plating or nickel plating, if the plating layer is too thin, since the influence of the underlying metal cannot be excluded, the thickness thereof is preferably 10 µm or more. The upper limit of the thickness of the plating layer is not critical, but from a relationship with cost or the like, it is generally sufficient to be about 500 µm.

금형의 형상은, 평평한 금속판이어도 좋고, 원주형 또는 원통형의 금속롤이어도 좋다. 금속롤을 이용하여 금형을 제작하면, 방현 필름을 연속적인 롤형으로 제조할 수 있다.The shape of the metal mold may be a flat metal plate or a cylindrical or cylindrical metal roll. When a metal mold is manufactured using a metal roll, an anti-glare film can be manufactured in a continuous roll shape.

도 7은 평판을 이용한 경우를 예로, 금형을 얻기 까지의 공정을 모식적으로 나타낸 단면도이다. 도 7의 (A)는 구리 도금 또는 니켈 도금과 경면 연마를 시행한 후의 기재의 단면을 나타내는 것이며, 금속 기재(31)의 표면에는 도금층(32)이 형성되고, 그 표면이 연마면(33)으로 되어 있다. 이러한 경면 연마 후의 도금층(32)의 표면에 미립자를 부딪침으로써, 요철을 형성한다. 도 7의 (B)는 미립자를 부딪친 후의 기재(31)의 단면 모식도이며, 미립자가 부딪쳐짐으로써 부분 구면형의 미세한 요면(34)이 형성되어 있다.7 is a cross-sectional view schematically showing a step up to obtaining a mold by taking a case of using a flat plate as an example. FIG. 7A shows a cross section of the substrate after copper plating or nickel plating and mirror polishing, and a plating layer 32 is formed on the surface of the metal substrate 31, and the surface thereof is the polishing surface 33. It is. Unevenness | corrugation is formed by hitting microparticles | fine-particles on the surface of the plating layer 32 after such mirror polishing. FIG. 7B is a schematic cross-sectional view of the substrate 31 after striking the fine particles, and fine particles 34 having a partial spherical shape are formed when the fine particles collide with each other.

도 7의 (C)는, 이렇게 해서 미립자에 의한 요철이 형성된 면에, 요철 형상을 무디게 하는 가공을 시행한 후의 기재(31)의 단면 모식도이고, (C1)은 에칭 처리에 의해 무뎌진 상태를, 그리고 (C2)는 구리 도금에 의해 무디게 한 상태를, 각각 표시하고 있다. 또한, (C1)에서는, 에칭에 의해 무뎌지기 전의 (B)에 상당하는 부분 구면형 오목면의 상태를 파선으로 나타내고 있다. (C1)의 에칭 처리를 채용하는 예에서는, (B)에 나타낸 요면(34)과 예각적인 돌기가, 에칭에 의해 깎여, 부분 구면 상의 예각적인 돌기가 무뎌진 형상(36a)이 형성되어 있다. 한편, (C2)의 구리 도금을 채용하는 예에서는, (B)에 나타낸 요면(34) 상에 구리 도금층(35)이 형성되고, 이에 따라, 부분 구면 상의 예각적인 돌기가 무뎌진 형상(36b)이 형성되어 있다.FIG. 7C is a schematic cross-sectional view of the base material 31 after the processing for blunting the uneven shape on the surface where the unevenness by the fine particles is formed in this way, and (C1) shows the state blunted by the etching treatment, And (C2) has shown the state dulled by copper plating, respectively. In addition, in (C1), the state of the partial spherical concave surface corresponding to (B) before dulling by etching is shown by the broken line. In the example employ | adopting the etching process of (C1), the concave surface 34 and acute protrusion shown in (B) are shaved by etching, and the shape 36a in which the sharp protrusion on the partial spherical surface was blunted is formed. On the other hand, in the example employing copper plating of (C2), the copper plating layer 35 is formed on the concave surface 34 shown in (B), whereby the shape 36b in which the acute projection on the partial spherical surface is blunted is Formed.

그 후, 크롬 도금을 시행함으로써, 표면의 요철 형상을 더 무디게 한다. 도 7의 (D)는 크롬 도금을 시행한 후의 단면 모식도로서, (D1)은 (C1)에 나타낸 에칭에 의해 무뎌진 요철면(36a) 상에 크롬 도금이 시행된 것, 그리고 (D2)는 (C2)에 나타낸 구리 도금층(35) 상에 크롬 도금이 시행된 것이다.Thereafter, chromium plating is performed to further blunt the surface irregularities. FIG. 7D is a schematic cross-sectional view after chromium plating, in which (D1) is chromium plating on uneven surface 36a blunted by etching shown in (C1), and (D2) is ( Chromium plating was performed on the copper plating layer 35 shown to C2).

(C1)부터 (D1)에 이르는 에칭 처리를 채용하는 예에서는, (C1)에 나타낸 에칭에 의해 무뎌진 상태의 면(36a)의 위에 크롬 도금층(37)이 형성되어 있고, 그 표면(38)은, (C1)의 요철면(36a)에 비해서, 크롬 도금에 의해 더욱 무뎌진 상태, 바꾸어 말하면 요철 형상이 완화된 상태로 되어 있다. 또한, (C2)부터 (D2)에 이르는 구리 도금을 채용하는 예에서는, 기재(31) 상의 구리 또는 니켈 도금층(32)에 형성된 미세한 요면 상에, 구리 도금층(35)이 형성되고, 또한 그 위에 크롬 도금층(37)이 형성되어 있으며, 그 표면(38)은, 크롬 도금에 의해, (C2)의 요철면(36b)에 비해서 더욱 무뎌진 상태, 바꾸어 말하면 요철 형상이 완화된 상태로 되어 있다. 이 와 같이, 구리 또는 니켈 도금층(32)의 표면에 미립자를 부딪쳐 요철을 형성한 후, 그 요철 형상을 무디게 하는 가공을 시행한 표면(36)(36a 또는 36b)에, 크롬 도금을 시행함으로써, 실질적으로 평탄부가 없는 금형을 얻을 수 있다. 또한, 그와 같은 금형이, 바람직한 광학 특성을 나타내는 방현 필름을 얻는데 적합하다.In the example which employs the etching process from (C1) to (D1), the chromium plating layer 37 is formed on the surface 36a of the state dulled by the etching shown to (C1), and the surface 38 is Compared to the uneven surface 36a of (C1), the surface is further blunted by chromium plating, that is, the uneven shape is relaxed. In addition, in the example which employ | adopts copper plating from (C2) to (D2), the copper plating layer 35 is formed on the fine concave surface formed in the copper or nickel plating layer 32 on the base material 31, and on it The chromium plating layer 37 is formed, and the surface 38 is in a state that is more dull than the uneven surface 36b of (C2), in other words, the uneven shape is relaxed by chrome plating. Thus, after bumping microparticles | fine-particles to the surface of the copper or nickel plating layer 32, and forming an uneven | corrugated surface, chromium plating is performed to the surface 36 (36a or 36b) which performed the process which blunted the uneven | corrugated shape, It is possible to obtain a mold having substantially no flat portion. Moreover, such a metal mold | die is suitable for obtaining the anti-glare film which shows preferable optical characteristic.

기재 상의 구리 또는 니켈로 이루어지는 도금층에는, 표면이 연마된 상태로, 미립자가 부딪쳐지는 것이지만, 특히, 경면에 가까운 상태로 연마되어 있는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 기재가 되는 금속판이나 금속롤은, 원하는 정밀도로 하기 위해, 절삭이나 연삭 등의 기계 가공이 시행되고 있는 경우가 많고, 이에 따라 기재 표면에 가공 텍스쳐가 남아 있기 때문이다.Although the fine particle collides with the plating layer which consists of copper or nickel on a base material in the state in which the surface was polished, it is preferable to grind especially in the state near a mirror surface. This is because a metal plate or a metal roll serving as a base material is often subjected to machining such as cutting or grinding in order to achieve a desired precision, and thus a processed texture remains on the surface of the base material.

구리 도금 또는 니켈 도금이 시행된 상태라도, 이들의 가공 텍스쳐가 남는 경우가 있고, 또한, 도금한 상태로, 표면이 완전히 평활하게 되는 것은 아니다. 깊은 가공 텍스쳐 등이 남은 상태에서는, 미립자를 부딪쳐 기재 표면을 변형시켜도, 미립자에 의해 형성되는 요철보다도 가공 텍스쳐 등의 요철 쪽이 깊은 경우가 있어, 가공 텍스쳐 등의 영향이 남을 가능성이 있다.Even in the state of copper plating or nickel plating, these processed textures may remain, and the surface is not completely smoothed in the plated state. In a state in which deep processed textures and the like remain, even when the fine particles collide with each other to deform the surface of the substrate, unevennesses such as processed textures may be deeper than unevenness formed by the fine particles, and the influence of the processed textures may remain.

그와 같은 금형을 이용하여 방현 필름을 제조한 경우에는, 광학 특성에 예기할 수 없는 영향을 끼치는 경우가 있다.When manufacturing an anti-glare film using such a metal mold | die, it may have an unexpected effect on an optical characteristic.

도금이 시행된 기재 표면을 연마하는 방법에 특별한 제한은 없고, 기계 연마법, 전해 연마법, 화학 연마법 모두 사용할 수 있다. 기계 연마법으로서는, 슈퍼피니싱법, 랩핑, 유체 연마법, 버프 연마법 등이 예시된다. 연마 후의 표면 조도(粗度)는, 중심선 평균 거칠기 Ra로 표시하여, 0.5 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1 ㎛ 이하이다. Ra가 너무 커지면, 미립자를 부딪쳐 금속의 표면을 변형시켜도, 변형 전의 표면 조도의 영향이 남을 가능성이 있기 때문에 바람직하지 못하다. 또한, Ra의 하한에 대해서는 특별히 제한되지 않고, 가공 시간이나 가공 비용의 관점에서, 당연히 한계가 있기 때문에, 특별히 지정할 필요성은 없다.There is no particular limitation on the method of polishing the substrate surface subjected to the plating, and both mechanical polishing, electrolytic polishing and chemical polishing can be used. As the mechanical polishing method, a super finishing method, a lapping, a fluid polishing method, a buff polishing method, and the like are exemplified. The surface roughness after grinding | polishing is represented by center line average roughness Ra, and it is preferable that it is 0.5 micrometer or less, More preferably, it is 0.1 micrometer or less. If Ra is too large, it is not preferable because the surface roughness before deformation may remain even if the surface of the metal is deformed by hitting the fine particles. The lower limit of Ra is not particularly limited, and since there is a limitation in terms of processing time and processing cost, there is no need to specify it in particular.

기재의 도금이 시행된 표면에 미립자를 부딪치는 방법으로서는, 분사 가공법이 적합하게 이용된다. 분사 가공법에는, 샌드 블라스트법, 쇼트 블라스트법, 액체 호닝법 등이 있다. 이들 가공에 이용되는 입자로서는, 예리한 각이 있는 형상보다는, 구형에 가까운 형상인 쪽이 바람직하고, 또한 가공 중에 파쇄되어 예리한 각이 나오지 않을 것 같은, 딱딱한 재질의 입자가 바람직하다. 이들 조건을 만족하는 입자로서, 세라믹스계의 입자에서는, 구형 지르코니아의 비드나, 알루미나의 비드가 바람직하게 이용된다. 또한 금속계의 입자에서는, 스틸이나 스테인레스스틸제의 비드가 바람직하다. 또한, 수지 바인더에 세라믹스나 금속의 입자를 담지시킨 입자를 이용하여도 좋다.As a method of striking the fine particles to the surface on which the plating of the substrate is applied, a spray processing method is suitably used. The spray processing method includes a sand blasting method, a shot blasting method, a liquid honing method and the like. As the particles to be used for these processing, a shape closer to a spherical shape is preferable to a shape having a sharp angle, and particles of a hard material that are likely to be broken during processing and that sharp angles do not come out are preferable. As the particles satisfying these conditions, in the ceramic particles, spherical zirconia beads and alumina beads are preferably used. Moreover, in metal particle | grains, the bead made from steel or stainless steel is preferable. Moreover, you may use the particle which carried the particle | grains of ceramics and a metal in the resin binder.

기재의 도금이 시행된 표면에 부딪치는 미립자로서, 평균 입자 직경이 10 ㎛∼150 ㎛인 것, 특히 구형의 미립자를 이용하는 것이 바람직하고, 이에 따라, 우수한 방현 성능을 나타내는 방현 필름을 제작할 수 있다. 미립자의 평균 입자 직경이 10 ㎛보다 작으면, 도금이 시행된 표면에 충분한 요철을 형성하는 것이 곤란하게 되고, 충분한 방현 성능을 얻기 어려워진다. 한편, 미립자의 평균 입자 직경이 150 ㎛보다 크면, 표면 요철이 거칠어지고, 눈부심이 발생하거나 질감이 저하하거나 하기 쉽다. 여기서, 평균 입자 직경이 15 ㎛ 이하인 미립자를 이용하여 가공할 때에 는, 입자가 정전기 등으로 응집하지 않도록, 적당한 분산매에 분산시켜 가공하는 습식 블러스트법을 채용하는 것이 바람직하다.As microparticles | fine-particles which hit the surface in which the plating of the base material was performed, it is preferable to use the thing whose average particle diameter is 10 micrometers-150 micrometers, especially spherical microparticles | fine-particles, and, thereby, the anti-glare film which shows the outstanding anti-glare performance can be produced. When the average particle diameter of microparticles | fine-particles is smaller than 10 micrometers, it becomes difficult to form sufficient unevenness | corrugation on the surface in which plating was performed, and it becomes difficult to obtain sufficient anti-glare performance. On the other hand, when the average particle diameter of microparticles | fine-particles is larger than 150 micrometers, surface unevenness | corrugation will become rough, a glare will arise and a texture will fall easily. Here, when processing using the microparticles | fine-particles whose average particle diameter is 15 micrometers or less, it is preferable to employ the wet blasting method which disperse | distributes to a suitable dispersion medium and processes so that particle | grains may not aggregate by static electricity or the like.

또한, 미립자를 부딪칠 때의 압력, 미립자의 사용량, 미립자를 분사하는 노즐로부터 금속 표면까지의 거리 등도, 가공 후의 요철 형상, 나아가서는 방현 필름의 표면 형상에 영향을 끼치지만, 일반적으로는, 0.05 ㎫∼O.4 ㎫ 정도의 게이지 압력, 처리되는 금속의 표면적 1 ㎠당 4 g∼12 g 정도의 미립자량, 또한 미립자를 분사하는 노즐로부터 금속 표면까지 200 ㎜∼600 ㎜ 정도의 거리로부터, 이용하는 미립자의 종류나 입자 직경, 금속의 종류, 미립자를 분사하는 노즐의 형상, 원하는 요철 형상 등에 따라, 적절하게 선택하면 좋다.In addition, the pressure at the time of hitting the fine particles, the amount of the fine particles used, the distance from the nozzle for injecting the fine particles to the metal surface also affect the uneven shape after processing, and furthermore, the surface shape of the antiglare film. From a gauge pressure of about MPa to 0.4 MPa, an amount of particles of about 4 g to 12 g per cm 2 of surface area of the metal to be treated, and a distance of about 200 mm to 600 mm from the nozzle for injecting the particles to the metal surface What is necessary is just to select suitably according to the kind of particle | grains, particle diameter, a kind of metal, the shape of the nozzle which injects microparticles, a desired uneven | corrugated shape, etc.

기재의 도금이 시행된 표면에 미립자를 부딪침으로써 형성된 요철 형상은, 단면 곡선에서의 산술 평균 높이(Pa)가 0.1 ㎛ 이상 1 ㎛ 이하이고, 그 단면 곡선에서의 산술 평균 높이(Pa)와 평균 길이(PSm)의 비(Pa/PSm)가 0.02 이상 0.1 이하인 것이 바람직하다. 산술 평균 높이(Pa)가 0.1 ㎛보다 작거나, 또는 비(Pa/PSm)가 0.02보다 작은 경우에는, 크롬 도금 가공 전에 요철 형상을 무디게 하는 가공을 시행하였을 때에, 요철 표면이 거의 평탄면이 되어 버려, 원하는 표면 형상의 금형을 얻기 어렵다. 또한, 산술 평균 높이(Pa)가 1 ㎛보다 크거나, 또는 비(Pa/PSm)가 0.1보다 큰 경우에는, 크롬 도금 가공 전의 요철 형상을 무디게 하는 가공을 강한 조건에서 행하지 않으면 안되고, 표면 형상의 제어가 곤란한 것이 되기 쉽다.As for the uneven | corrugated shape formed by striking microparticles | fine-particles on the surface in which the base material was plated, the arithmetic mean height Pa in a cross section curve is 0.1 micrometer or more and 1 micrometer or less, and the arithmetic mean height Pa and average length in the cross section curve are It is preferable that ratio (Pa / PSm) of (PSm) is 0.02 or more and 0.1 or less. If the arithmetic mean height (Pa) is less than 0.1 µm or the ratio (Pa / PSm) is less than 0.02, the uneven surface becomes almost flat when the uneven surface is blunted before chrome plating. It is difficult to obtain a mold having a desired surface shape. In addition, when arithmetic mean height Pa is larger than 1 micrometer or ratio Pa / PSm is larger than 0.1, the process which blunts the uneven shape before chrome plating process must be performed on strong conditions, and the surface shape It is easy to control.

이와 같이 하여 구리 도금 또는 니켈 도금 표면에 요철이 형성된 기재에, 요철 형상을 무디게 하는 가공을 시행한다. 요철 형상을 무디게 하는 가공으로서는, 앞에 도 7의 (C) 및 (D)를 참조하여 설명한 바와 같이, 에칭 처리 또는 구리 도금이 바람직하다. 에칭 처리를 행함으로써, 미립자를 부딪쳐 제작한 요철 형상의 예리한 부분이 없어진다. 이에 따라, 금형으로서 사용하였을 때에 제작되는 방현 필름의 광학 특성이 바람직한 방향으로 변화한다. 또한, 구리 도금은 평활화 작용이 강하기 때문에, 크롬 도금보다 요철 형상을 무디게 하는 효과가 강하다. 이에 따라, 금형으로서 사용하였을 때에 제작되는 방현 필름의 광학 특성이 바람직한 방향으로 변화한다.In this way, a process of blunting the uneven shape is applied to the base material on which the unevenness is formed on the surface of copper plating or nickel plating. As a process to blunt uneven | corrugated shape, etching process or copper plating is preferable as demonstrated previously with reference to FIG.7 (C) and (D). By performing an etching process, the uneven | sharpened part of the uneven | corrugated shape which produced the particle | grains hitting the particle | grains disappears. Thereby, the optical characteristic of the anti-glare film produced when using as a metal mold | die changes to a preferable direction. Moreover, since copper plating has a strong smoothing effect, the effect of blunting the uneven shape is stronger than that of chromium plating. Thereby, the optical characteristic of the anti-glare film produced when using as a metal mold | die changes to a preferable direction.

에칭 처리는 통상, 염화 제2철(FeCl3) 수용액, 염화 제2구리(CuCl2) 수용액, 알칼리에칭액(Cu(NH3)4Cl2) 등을 이용하여, 표면을 부식시킴으로써 행해지지만, 염산이나 황산 등의 강산을 이용할 수도 있고, 전해 도금 시와 반대의 전위를 거는 것에 의한 역전해 에칭을 이용할 수도 있다. 에칭 처리를 시행한 후의 요철의 무딘 상태는, 하지 금속의 종류, 블러스트 등의 방법에 의해 얻어진 요철의 사이즈와 깊이 등에 의해 다르기 때문에, 일률적으로는 말할 수 없지만, 무딘 상태를 제어하는데 있어서 가장 큰 인자는, 에칭량이다. 여기서 말하는 에칭량이란, 에칭에 의해 깎이는 도금층의 두께이다. 에칭량이 작으면, 블러스트 등의 방법에 의해 얻어진 요철의 표면 형상을 무디게 하는 효과가 불충분하고, 그 요철 형상을 투명 필름에 전사하여 얻어지는 방현 필름의 광학 특성이 그다지 좋아지지 않는다. 한편, 에칭량이 지나치게 크면, 요철 형상이 거의 없어져 버려, 거의 평탄한 금형이 되어 버리기 때문에, 방현성을 나타내지 않게 되어 버린다. 그래서, 에칭량은 1 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하가 되도록 하는 것이 바람직하고, 또한 2 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.The etching treatment is usually carried out by etching the surface using an aqueous ferric chloride (FeCl 3 ) solution, a cupric chloride (CuCl 2 ) solution, an alkaline etching solution (Cu (NH 3 ) 4 Cl 2 ), or the like, but with hydrochloric acid. Strong acids such as sulfuric acid and sulfuric acid may be used, or reverse electrolytic etching may be used by applying a potential opposite to that of electrolytic plating. Since the blunt state of the unevenness after the etching treatment is different depending on the size and depth of the unevenness obtained by the type of the base metal, the blasting method, etc., it cannot be said uniformly, but it is the largest in controlling the blunt state. The factor is the etching amount. Etching amount here is the thickness of the plating layer cut by etching. If the etching amount is small, the effect of blunting the surface shape of the unevenness obtained by a blast or the like is insufficient, and the optical properties of the antiglare film obtained by transferring the unevenness shape to the transparent film are not very good. On the other hand, if the etching amount is too large, the uneven shape is almost eliminated, and the mold becomes almost flat. Therefore, the anti-glare property is not exhibited. Therefore, it is preferable to make etching amount into 1 micrometer or more and 20 micrometers or less, and it is more preferable that they are 2 micrometers or more and 10 micrometers or less.

무디게 하는 가공으로서 구리 도금을 채용하는 경우, 요철의 무딘 상태는, 하지 금속의 종류, 블러스트 등의 방법에 따라 얻어진 요철의 사이즈와 깊이, 또한 도금의 종류나 두께 등에 따라 다르기 때문에, 일률적으로는 말할 수 없지만, 무딘 상태를 제어하는데 있어서 가장 큰 인자는 도금 두께이다. 구리 도금층의 두께가 얇으면, 블러스트 등의 방법에 따라 얻어진 요철의 표면 형상을 무디게 하는 효과가 불충분하고, 그 요철 형상을 투명 필름에 전사하여 얻어지는 방현 필름의 광학 특성이 그다지 좋아지지 않는다. 한편 도금 두께가 너무 두꺼우면, 생산성이 나빠지는데다가, 요철 형상이 거의 없어져 버리기 때문에, 방현성을 나타내지 않게 되어 버린다. 그래서, 구리 도금의 두께는 1 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하가 되도록 하는 것이 바람직하고, 또한 4 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.In the case of adopting copper plating as a dull process, the dull state of the unevenness varies according to the size and depth of the unevenness obtained by the method of the base metal, the blast, etc., and the type and thickness of the plating, and so on Needless to say, the biggest factor in controlling the dull state is the plating thickness. When the thickness of a copper plating layer is thin, the effect of blunting the surface shape of the uneven | corrugated obtained by methods, such as a blast, is inadequate, and the optical characteristic of the anti-glare film obtained by transferring the uneven | corrugated shape to a transparent film does not improve very much. On the other hand, if the plating thickness is too thick, the productivity will be deteriorated, and since the uneven shape will almost disappear, the anti-glare property will not be exhibited. Therefore, it is preferable to make thickness of copper plating into 1 micrometer or more and 20 micrometers or less, and it is more preferable that they are 4 micrometers or more and 10 micrometers or less.

이와 같이 하여, 구리 도금 또는 니켈 도금 표면에 요철이 형성된 기재의 표면 형상을 무디게 한 후, 크롬 도금을 더 시행함으로써, 요철의 표면을 보다 한층 더 무디게 할 수 있으며, 그 표면 경도를 높인 금속판을 만든다. 이때의 요철의 무딘 상태도, 하지 금속의 종류, 블러스트 등의 방법에 따라 얻어진 요철의 사이즈와 깊이, 또한 도금의 종류나 두께 등에 따라 다르기 때문에, 일률적으로는 말할 수 없지만, 무딘 상태를 제어하는데 있어서 가장 큰 인자는, 역시 도금 두께이다. 크롬 도금층의 두께가 얇으면, 크롬 도금 가공 전에 얻어진 요철의 표면 형상을 무디게 하는 효과가 불충분하고, 그 요철 형상을 투명 필름에 전사하여 얻어지는 방현 필름의 광학 특성이 그다지 좋아지지 않는다. 한편, 도금 두께가 너무 두꺼우면, 생산성이 나빠지는데다가, 노듈이라고 불리는 돌기형의 도금 결함이 발생하여 버린다. 그래서, 크롬 도금의 두께는 1 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 되도록 하는 것이 바람직하고, 또한 2 ㎛ 이상 6 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.Thus, after blunting the surface shape of the base material on which the unevenness is formed on the surface of copper plating or nickel plating, by further performing chromium plating, the surface of the unevenness can be further blunted and a metal plate having a high surface hardness is made. . The dull state of the unevenness at this time also varies depending on the size and depth of the unevenness obtained according to the type of the base metal, the blast, etc., and the type and thickness of the plating. The biggest factor is also the plating thickness. When the thickness of the chromium plating layer is thin, the effect of blunting the surface shape of the unevenness obtained before the chrome plating process is insufficient, and the optical properties of the antiglare film obtained by transferring the uneven shape to the transparent film are not very good. On the other hand, when plating thickness is too thick, productivity will worsen and a protrusion type plating defect called a nodule will generate | occur | produce. Therefore, the thickness of the chromium plating is preferably set to 1 µm or more and 10 µm or less, and more preferably 2 µm or more and 6 µm or less.

크롬 도금은, 광택이 있으며, 경도가 높고, 마찰 계수가 작으며, 양호한 이형성을 부여하는 것이다. 크롬 도금의 종류는 특별히 제한되지 않지만, 소위 광택 크롬 도금이나 장식용 크롬 도금 등으로 불리는, 양호한 광택을 발현하는 크롬 도금을 이용하는 것이 바람직하다. 크롬 도금은 통상, 전해에 의해 행해지고, 그 도금욕(plating bath)으로서는, 무수크롬산(CrO3)과 소량의 황산을 포함하는 수용액이 이용된다. 전류 밀도와 전해 시간을 조절함으로써, 크롬 도금의 두께를 제어할 수 있다.Chromium plating is one which gives gloss, high hardness, low coefficient of friction, and good release properties. Although the kind of chromium plating is not specifically limited, It is preferable to use the chromium plating which expresses favorable gloss called so-called gloss chrome plating, decorative chromium plating, etc. Chromium plating is usually performed by electrolysis, and an aqueous solution containing chromic anhydride (CrO 3 ) and a small amount of sulfuric acid is used as the plating bath. By adjusting the current density and the electrolysis time, the thickness of the chromium plating can be controlled.

크롬 도금이 시행된 금형 표면은, 그 비커스 경도가 800 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1,000 이상이다. 비커스 경도가 낮으면, 금형 사용 시의 내구성이 저하하는데다가, 크롬 도금에서 경도가 저하하는 것은, 도금 처리 시에 도금욕 조성이나 전해 조건 등에 이상이 발생하고 있을 가능성이 높고, 결함의 발생 상황에 대해서도 바람직하지 못한 영향을 끼칠 가능성이 높다.It is preferable that the Vickers hardness of the metal mold | die surface to which chrome plating was given is 800 or more, More preferably, it is 1,000 or more. When the Vickers hardness is low, the durability at the time of use of the mold decreases, and the decrease in hardness in chromium plating is likely to cause an abnormality in the plating bath composition, electrolytic conditions, etc. during the plating treatment, It is highly likely to have an undesirable effect.

배경기술로서 앞에 게재한 특허문헌 1(일본 특허 공개 제2002-189106호 공보)이나 특허문헌 4(일본 특허 공개 제2004-90187호 공보)에는, 금형이 되는 금속 기재 표면에 크롬 도금하는 것이 개시되어 있지만, 금형의 도금 전의 하지(下地)와 크롬 도금의 종류에 따라서는, 도금 후에 표면이 거칠어지거나, 크롬 도금에 의한 미소한 크랙이 다수 발생하거나 하는 경우가 많고, 그 결과, 제작되는 방현 필름의 광학 특성이 바람직하지 못한 방향으로 진행된다. 도금 표면이 거칠어진 상태의 것은, 방현 필름용의 금형에 적합하지 않다. 왜냐하면, 일반적으로 거칠음을 없애기 위해 크롬 도금 후에 도금 표면을 연마하는 것이 행해지고 있지만, 후술하는 바와 같이, 본 발명에서는 도금 후의 표면의 연마가 바람직하지 못하기 때문이다. 본 발명에서는, 하지 금속에 구리 도금 또는 니켈 도금을 시행함으로써, 크롬 도금에서 생기기 쉬운 이러한 문제점을 해소하고 있다.As background art, Patent Document 1 (Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-189106) and Patent Document 4 (Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2004-90187) published above disclose chromium plating on the surface of a metal substrate to be a die. However, depending on the type of base and chromium plating before plating of the mold, the surface may be rough after plating or a large number of minute cracks due to chromium plating may occur. As a result, the antiglare film produced Optical properties proceed in undesirable directions. The thing whose plating surface was rough is not suitable for the metal mold | die for anti-glare film. This is because, in general, polishing of the plating surface after chrome plating is performed in order to eliminate roughness, but as described later, polishing of the surface after plating is not preferable in the present invention. In the present invention, copper plating or nickel plating is applied to the base metal to solve such a problem that is likely to occur in chromium plating.

크롬 도금을 시행하기 전에 요철 형상을 무디게 하는 가공을 시행하지 않은 경우에는, 미립자를 부딪쳐 제작한 요철 형상의 예리한 부분을 충분히 무디게 하기 위해, 크롬 도금을 두껍게 하지 않으면 안된다. 그러나, 크롬 도금의 두께를 너무 두껍게 하면, 노듈이 발생하기 쉬워지기 때문에, 바람직하지 못하다. 또한, 크롬 도금의 두께를 얇게 한 경우에는, 미립자를 부딪쳐 제작한 요철 형상을 충분히 무디게 할 수 없고, 원하는 표면 형상의 금형을 얻을 수 없기 때문에, 그 금형을 이용하여 제작한 방현 필름도 우수한 방현 성능을 나타내지 않는다.If the process of blunting the uneven shape is not performed before the chromium plating, the chromium plating must be thickened to sufficiently blunt the sharp part of the uneven shape produced by bumping the fine particles. However, when the thickness of chromium plating is made too thick, nodule will become easy to generate | occur | produce, and it is unpreferable. In addition, when the thickness of the chromium plating is thinned, since the uneven shape produced by hitting the fine particles cannot be blunted sufficiently and a mold having a desired surface shape cannot be obtained, the anti-glare film produced by using the mold also has excellent anti-glare performance. Does not indicate.

상기한 특허문헌 1(일본 특허 공개 제2002-189106호 공보)에는, 철의 표면에 크롬 도금한 롤러에 샌드 블라스트법이나 비드 쇼트법에 따라 요철형면을 형성한 후, 크롬 도금을 시행하는 것이 기재되고, 또한, 특허문헌 3(일본 특허 공개 제2004-29240호 공보) 및 특허문헌 4(일본 특허 공개 제2004-90187호 공보)에는, 롤 표면에 비드 쇼트법이나 블러스트 처리를 시행하는 것이 기재되어 있다. 그러나, 미립자를 부딪쳐 요철 형상을 형성한 후에 표면 형상을 적극적으로 무디게 하는 가공을 시행한 뒤에, 크롬 도금 가공을 시행하여 표면 요철 형상을 무디게 하는 방법에 대해서 언급한 것은 없고, 본 발명자들의 검토에 따르면, 위에서 설명한 바와 같이 적극적으로 표면 형상을 무디게 하는 가공을 시행하지 않으면, 우수한 방현 성능을 나타내는 방현 필름을 제조할 수 없었다.In Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-189106), it is described that chrome plating is performed after forming an uneven surface on a roller chromium plated by iron sandblasting method or bead short method. In addition, Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 2004-29240) and Patent Document 4 (Japanese Patent Laid-Open No. 2004-90187) disclose that the bead short method or the blast treatment is applied to the roll surface. It is. However, there is no mention of a method of blunting the surface irregularities by subjecting the fine particles to form an uneven shape and then performing a process of actively blunting the surface shape, followed by chrome plating. As described above, an antiglare film exhibiting excellent antiglare performance could not be produced unless a process of actively blunting the surface shape was performed.

또한, 요철을 만든 금속 표면에 크롬 도금 이외의 도금을 시행하는 것은 바람직하지 못하다. 왜냐하면, 크롬 이외의 도금에서는, 경도나 내마모성이 낮아지기 때문에, 금형으로서의 내구성이 저하하고, 사용 중에 요철이 닳거나, 금형이 손상되거나 한다. 그와 같은 금형으로부터 얻어진 방현 필름에서는, 충분한 방현 기능을 얻을 수 없을 가능성이 높고, 또한, 필름 상에 결함이 발생할 가능성도 높아진다.Moreover, it is not preferable to apply plating other than chromium plating to the metal surface which made uneven | corrugated. Because in plating other than chromium, hardness and abrasion resistance are lowered, so that durability as a mold decreases, irregularities are worn out during use, and the mold is damaged. In the anti-glare film obtained from such a metal mold | die, the possibility of not being able to acquire sufficient anti-glare function is high, and also the possibility of a defect generate | occur | producing on a film becomes high.

크롬 도금 후는, 표면을 연마하지 않고, 그대로 크롬 도금면을 금형의 요철면으로서 이용하는 것이 유리하다. 상기 특허문헌 4(일본 특허 공개제2004-90187호 공보)에는, 도금 후의 표면을 연마하는 것이 기재되어 있지만, 이와 같이 크롬 도금면을 연마하는 것은, 본 발명에서는 바람직하지 못하다. 연마함으로써, 최표면에 평탄한 부분이 생기기 때문에, 광학 특성의 악화를 초래할 가능성이 있는 것, 형상의 제어 인자가 증가하기 때문에, 재현성이 좋은 형상 제어가 곤란해지는 것 등의 이유 때문이다. 도 8은 미립자를 부딪쳐 얻어진 요철 형상을 무디게 하는 가공, 여기서는, 도 7의 (C1)에 나타낸 에칭 처리를 시행한 후, 동일하게 (D1)에 나타낸 크롬 도금을 시행한 면을 연마한 경우에, 평탄면이 생긴 금속판의 단면 모식도이다. 연마에 의해, 구리 또는 니켈 도금층(32)의 표면에 형성된 크롬 도금층(37)의 표면 요철(38) 중, 일부의 볼록이 깎이고, 평탄면(39)이 생기고 있다. 도 8에는, 도 7의 (D1)에 나타낸 에칭 후 크롬 도금한 표면을 연마한 경우의 예를 나타냈지만, 도 7의 (D2)에 나타낸 구리 도금 후 크롬 도금한 경우도, 그 표면을 연마하면, 마찬가지로 평탄면이 생기게 된다.After chrome plating, it is advantageous to use a chromium plating surface as an uneven surface of a metal mold as it is, without polishing the surface. Although it is described in the said patent document 4 (Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-90187) to grind the surface after plating, it is unpreferable in this invention to grind the chromium plating surface. The reason for this is that, by polishing, flat portions are formed on the outermost surface, which may cause deterioration of the optical characteristics, and because the shape control factor increases, making shape control with good reproducibility difficult. FIG. 8 shows a process of blunting the concave-convex shape obtained by hitting the fine particles, in this case, after performing the etching treatment shown in FIG. 7 (C1), and then polishing the surface subjected to chromium plating shown in (D1) in the same manner. It is a cross-sectional schematic diagram of the metal plate with a flat surface. By polishing, some convexities of the surface unevenness 38 of the chromium plating layer 37 formed on the surface of the copper or nickel plating layer 32 are shaved, and a flat surface 39 is formed. 8 shows an example of the case where the chromium plated surface is polished after etching shown in FIG. 7 (D1). However, even when the chrome plated after copper plating shown in FIG. Similarly, a flat surface is created.

[방현 필름의 제조 방법][Method for Producing Anti-glare Film]

다음에, 이와 같이 하여 얻어지는 금형을 이용하여, 방현 필름을 제조하는 공정에 대해서 설명한다. 위에서 설명한 것과 같은 방법으로 얻어지는 금형의 형상을 투명 수지 필름에 전사함으로써, 방현 필름을 얻을 수 있다. 금형 형상의 필름에의 전사는, 엠보싱에 의해 행하는 것이 바람직하다. 엠보싱으로서는, 광경화성 수지를 이용하는 UV 엠보싱법, 열가소성 수지를 이용하는 핫엠보싱법이 예시된다.Next, the process of manufacturing an anti-glare film is demonstrated using the metal mold | die obtained in this way. An anti-glare film can be obtained by transferring the shape of the metal mold | die obtained by the method similar to the above to a transparent resin film. It is preferable to perform transfer to the film of a mold shape by embossing. As embossing, the UV embossing method using a photocurable resin and the hot embossing method using a thermoplastic resin are illustrated.

UV 엠보싱법에서는, 투명 지지체의 표면에 광경화성 수지층을 형성하고, 그 광경화성 수지층을 금형의 요철면에 압박하면서 경화시킴으로써, 금형의 요철면이 광경화성 수지층에 전사된다. 구체적으로는, 투명 지지체 상에 자외선 경화형 수지를 코팅하고, 코팅한 자외선 경화형 수지를 금형의 요철면에 밀착시킨 상태로, 투명 지지체측으로부터 자외선을 조사하여 자외선 경화형 수지를 경화시키고, 이어서, 경화 후의 자외선 경화형 수지층이 형성된 지지체를 금형으로부터 박리함으로써, 금형의 형상을 자외선 경화형 수지에 전사한다. 자외선 경화형 수지의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 또한, 자외선 경화형 수지라고 하는 표현을 하고 있지만, 광개시제를 적절하게 선정함으로써, 자외선보다 파장이 긴 가시광으로 경화가 가능 한 수지로 할 수도 있다. 즉, 여기서 말하는 자외선 경화형 수지란, 이러한 가시광 경화형의 수지도 포함시킨 총칭이다. 한편, 핫엠보싱법에서는, 투명한 열가소성 수지 필름을 가열 상태로 금형에 압박하여, 금형의 표면 형상을 열가소성 수지 필름에 전사한다. 이들 엠보싱법 중에서도, 생산성의 관점에서, UV 엠보싱법이 바람직하다.In the UV embossing method, the photocurable resin layer is formed on the surface of the transparent support, and the photocurable resin layer is cured while pressing the concave and convex surface of the mold, thereby transferring the concave and convex surface to the photocurable resin layer. Specifically, the ultraviolet curable resin is coated on the transparent support, and the coated ultraviolet curable resin is brought into close contact with the uneven surface of the mold, and the ultraviolet curable resin is irradiated from the transparent support side to cure the ultraviolet curable resin. The shape of the mold is transferred to the ultraviolet curable resin by peeling the support from which the ultraviolet curable resin layer is formed from the mold. The kind of ultraviolet curable resin is not specifically limited. In addition, although expressed as an ultraviolet curable resin, by selecting a photoinitiator suitably, it can also be set as resin which can be hardened | cured by visible light which has a wavelength longer than an ultraviolet-ray. That is, the ultraviolet curable resin here is a general term which also included such visible-light curable resin. On the other hand, in the hot embossing method, the transparent thermoplastic resin film is pressed onto the mold in a heated state, and the surface shape of the mold is transferred to the thermoplastic resin film. Among these embossing methods, from the viewpoint of productivity, the UV embossing method is preferable.

방현 필름의 제작에 이용되는 투명 지지체는, 실질적으로 광학적으로 투명한 수지 필름이면 좋고, 예컨대, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 노르보넨계 화합물을 모노머로 하는 비정질 환상 폴리올레핀 등의 열가소성 수지로 이루어지는 용제 캐스트 필름이나 압출 필름 등을 이용할 수 있다.The transparent support used for the production of the antiglare film may be a substantially optically transparent resin film, for example, an amorphous ring containing triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and norbornene-based compound as a monomer. A solvent cast film, an extruded film, etc. which consist of thermoplastic resins, such as a polyolefin, can be used.

자외선 경화형 수지로서는, 시판되어 있는 것을 이용할 수 있다. 예컨대, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트 등의 다관능 아크릴레이트를 각각 단독으로, 혹은 이들 2종 이상을 혼합하여 이용하고, 그리고, "이가큐어(Irgacure) 907", "이가큐어 184"(이상, 치바·스페샬티·케미컬사 제조), "루시린 TPO"(BASF사 제조) 등의 광중합 개시제를 혼합한 것을, 자외선 경화형 수지로 할 수 있다.As ultraviolet curing resin, a commercially available thing can be used. For example, polyfunctional acrylates, such as trimethylolpropane triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate, may be used alone or in combination of two or more thereof, and may be used as "Irgacure 907" and "Igacure". What mix | blended photoinitiators, such as 184 "(above, Chiba Specialty Chemical Co., Ltd. product) and" Lucirine TPO "(made by BASF Corporation), can be made into ultraviolet curable resin.

핫엠보싱법에 이용하는 열가소성의 투명 수지 필름으로서는, 실질적으로 투명한 것이면 어떠한 것이라도 좋고, 예컨대, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 트리아세틸셀룰로오스, 노르보넨계 화합물을 모노머로 하는 비정질 환상 폴리올레핀 등의 열가소성 수지의 용제 캐스트 필름이나 압출 필름 등을 이용할 수 있다. 이들 투명 수지 필름은 또한, 위에서 설명한 UV 엠보싱법을 채용하는 경우의 투명 지지체로도 될 수 있다.The thermoplastic transparent resin film used in the hot embossing method may be any transparent material, as long as it is substantially transparent. For example, an amorphous ring containing polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, and norbornene-based compound as a monomer. A solvent cast film, an extruded film, etc. of thermoplastic resins, such as a polyolefin, can be used. These transparent resin films can also be used as a transparent support body in the case of employing the UV embossing method described above.

본 발명의 방현 필름은, 소정 형상으로 요철이 형성된 금형을 이용하고, 그 금형의 요철면을 투명 지지체 상에 도포한 수지에 전사하며, 계속해서 요철면이 전사된 수지를 금형으로부터 박리하는 방법에 따라, 표면 미세 요철 형상을 형성하는 것이 바람직하고, 전사에 이용하는 수지 중에는 평균 입자 직경이 5 ㎛ 이상 15 ㎛ 이하이며, 바인더 수지와의 굴절률차가 0.01 이상 0.06 이하인 미립자를 바인더 수지 100 중량부에 대하여, 10 중량부∼100 중량부 함유하고 있는 것이 바람직하다.The anti-glare film of this invention uses the metal mold | die with which the unevenness | corrugation was formed in the predetermined shape, transfers to the resin which apply | coated the uneven | corrugated surface of the metal mold | die on the transparent support body, and then peels off the resin from which the uneven | corrugated surface was transferred from the metal mold | die Therefore, it is preferable to form a surface fine uneven | corrugated shape, and in resin used for transcription | transfer, microparticles whose average particle diameters are 5 micrometers or more and 15 micrometers or less, and whose refractive index difference with a binder resin are 0.01 or more and 0.06 or less with respect to 100 weight part of binder resins, It is preferable to contain 10 weight part-100 weight part.

바인더 수지에 배합하는 미립자의 평균 입자 직경이 5 ㎛를 하회하는 경우에는, 투과 산란 프로파일의 광각측의 값이 상승하고, 결과로서, 화상 표시 장치에 적용하였을 때에 콘트라스트를 저하시키기 때문에 바람직하지 못하다. 반대로, 그 평균 입자 직경이 15 ㎛를 상회하는 경우에는, 후술하는 바와 같이 입자는 완전히 바인더 수지 중에 매몰시키는 것이 바람직한 관점에서, 입자를 매몰시키기 위해 막 두께가 두꺼워지는 경향이 된다. 그 결과로서, 수지 코팅 시에 컬이나 응집 등의 문제점이 생기기 쉽다.When the average particle diameter of the microparticles | fine-particles mix | blended with binder resin is less than 5 micrometers, since the value of the wide angle side of a transmission scattering profile rises and, as a result, reduces contrast when it applies to an image display apparatus, it is unpreferable. On the contrary, when the average particle diameter exceeds 15 micrometers, as mentioned later, it becomes a tendency for the film thickness to become thick in order to bury particle | grains from a viewpoint in which it is preferable to fully immerse particle | grains in binder resin. As a result, problems such as curling and agglomeration are likely to occur during resin coating.

또한, 미립자와 바인더 수지의 굴절률차가 0.01을 하회하는 경우에는, 미립자에 의한 내부 산란 효과가 작아지기 때문에, 소정의 산란 특성과 헤이즈를 방현층에 부여하여 눈부심을 해소하기 위해서는 대량의 미립자를 바인더 수지에 첨가할 필요가 있고, 바인더 수지 중에 미립자를 완전히 매몰시킨다고 하는 관점에서 바람직하지 못하다. 한편, 이 굴절률차가 0.06을 상회하는 경우에는, 굴절률차가 크기 때문에 바인더 수지와 미립자의 계면에서의 반사율이 증대하고, 결과로서 후방 산란이 상승하며, 전체 광선 투과율이 저하하기 때문에 바람직하지 못하다. 전술한 것과 같은 자외선 경화형 수지는, 그 경화물이 1.50 전후의 굴절률을 나타내는 것이 많기 때문에, 미립자는, 그 굴절률이 1.40∼1.60 정도의 것으로부터, 방현 필름의 설계에 맞추어 적절하게 선택할 수 있다. 미립자로서는, 수지 비드, 그것도 거의 구형의 것이 바람직하게 이용된다. 이러한 적합한 수지 비드의 예를 이하에 게재한다.In addition, when the difference in refractive index between the fine particles and the binder resin is less than 0.01, the internal scattering effect by the fine particles is reduced, so that a large amount of fine particles are added to the binder resin in order to give a predetermined scattering characteristic and haze to the antiglare layer and to eliminate glare. It is necessary to add to and not preferable from the viewpoint of completely embedding the fine particles in the binder resin. On the other hand, when this refractive index difference exceeds 0.06, since the refractive index difference is large, the reflectance in the interface of a binder resin and microparticles | fine-particles increases, as a result, backscatter rises and the total light transmittance falls, and it is unpreferable. Since the hardened | cured material shows many refractive indexes before and after 1.50, as for the ultraviolet curable resin as mentioned above, microparticles | fine-particles can be suitably selected from the thing whose refractive index is about 1.40-1.60 according to the design of an anti-glare film. As microparticles | fine-particles, a resin bead and also an almost spherical thing are used preferably. Examples of such suitable resin beads are listed below.

멜라민 비드(굴절률 1.57),Melamine beads (refractive index 1.57),

폴리메타크릴산메틸 비드(굴절률 1.49),Polymethyl methacrylate beads (refractive index 1.49),

메타크릴산메틸/스티렌 공중합체 수지 비드(굴절률 1.50∼1.59),Methyl methacrylate / styrene copolymer resin beads (refractive index 1.50-1.59),

폴리카보네이트 비드(굴절률 1.55),Polycarbonate beads (refractive index 1.55),

폴리에틸렌 비드(굴절률 1.53),Polyethylene beads (refractive index 1.53),

폴리스틸렌 비드(굴절률 1.6),Polystyrene beads (refractive index 1.6),

폴리염화비닐 비드(굴절률 1.46),Polyvinyl chloride beads (refractive index 1.46),

실리콘수지 비드(굴절률 1.46) 등.Silicone resin beads (refractive index 1.46) and the like.

또한, 이들 미립자는 표면의 요철 형상에 영향을 끼치지 않는다, 즉, 입자를 완전히 바인더 수지 중에 매몰시키는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 미립자가 표면에 돌출하고 있는 경우에는 미립자의 형상에 따라 표면 요철 형상이 변화하고, 방현 필름의 반사 특성(방현 성능이나 빛 바램 등)에 영향을 끼치게 되기 때문이다. 이와 같이 미립자가 표면에 돌출하는 경우에는, 전술한 금형의 표면 형상 이외에, 입 자의 형상, 농도, 분산성 등도 고려에 넣어 표면 형상의 설계를 행하지 않으면 안되기 때문에, 표면 형상의 설계·제어가 번잡 또한 곤란해지고, 예견한 특성을 얻는 것이 어려워진다. 그러므로, 주로 반사 특성에 영향을 끼치는 표면 형상은 금형에 의해서만 제어하고, 산란 특성은 독립적으로 수지와 입자의 조합으로 제어하는 것이 바람직하다.In addition, these fine particles do not affect the uneven shape of the surface, that is, it is preferable to embed the particles completely in the binder resin. This is because, when the fine particles protrude from the surface, the surface irregularities are changed in accordance with the shape of the fine particles, which affects the reflection characteristics (antiglare performance, light fading, etc.) of the antiglare film. In this way, when the fine particles protrude to the surface, in addition to the surface shape of the mold described above, the shape, concentration, dispersibility, etc. of the particles must be taken into consideration, so that the surface shape must be designed, and the design and control of the surface shape is complicated. It becomes difficult and it becomes difficult to obtain the predicted characteristic. Therefore, it is preferable that the surface shape mainly affecting the reflection characteristics is controlled only by the mold, and the scattering characteristics are independently controlled by a combination of resin and particles.

[방현성 편광판][Antiglare Polarizer]

이상과 같이 구성되는 본 발명의 방현 필름은, 방현 효과가 우수하고, 빛 바램도 유효하게 방지되며, 눈부심의 발생 및 콘트라스트의 저하를 효과적으로 억제할 수 있기 때문에, 화상 표시 장치에 장착하였을 때에 시인성이 우수한 것이 된다. 화상 표시 장치가 액정 디스플레이인 경우에는, 이 방현 필름을 편광판에 적용할 수 있다. 즉, 편광판은 일반적으로, 요오드 또는 이색성 염료가 흡착 배향된 폴리비닐알코올계 수지 필름으로 이루어지는 편광자의 적어도 편면에 보호 필름이 접합된 형태의 것이 많지만, 그 한쪽의 보호 필름을 본 발명의 방현 필름으로 구성하고, 편광자와, 본 발명의 방현 필름을, 그 방현 필름의 투명 지지체측에서 접합시킴으로써, 방현성 편광판으로 할 수 있다. 이 경우, 편광자의 다른쪽의 면은, 그대로도 좋고, 별도의 보호 필름 또는 광학 필름이 적층되어 있어도 좋으며, 또한 액정셀에 접합하기 위한 점착제층이 형성되어 있어도 좋다. 또한, 편광자의 적어도 편면에 보호 필름이 접합된 편광판에, 본 발명의 방현 필름을 그 투명 지지체측에서 접합하여, 방현성의 편광판으로 할 수도 있다. 또한, 보호 필름이 접합된 편광판에서, 그 편면 보호 필름의 표면에 상기와 같은 방현성의 요철을 부여함으로써, 방현성의 편광판으로 할 수도 있다.The anti-glare film of the present invention configured as described above has excellent anti-glare effect, effectively prevents fading of light, and can effectively suppress the occurrence of glare and lowering of contrast, and therefore has excellent visibility when mounted on an image display device. It becomes. When an image display apparatus is a liquid crystal display, this anti-glare film can be applied to a polarizing plate. That is, although the polarizing plate generally has the thing in which the protective film was bonded to at least one side of the polarizer which consists of a polyvinyl alcohol-type resin film in which the iodine or a dichroic dye was adsorption-oriented, the anti-glare film of this invention It can be set as the anti-glare polarizing plate by comprising this, and bonding a polarizer and the anti-glare film of this invention on the transparent support side of this anti-glare film. In this case, the other surface of a polarizer may be as it is, another protective film or an optical film may be laminated | stacked, and the adhesive layer for bonding to a liquid crystal cell may be formed. Moreover, the anti-glare film of this invention can be bonded by the transparent support body side to the polarizing plate which the protective film was bonded to at least one side of the polarizer, and can also be set as an anti-glare polarizing plate. Moreover, in the polarizing plate with which the protective film was bonded, it can also be set as an anti-glare polarizing plate by providing the above-mentioned anti-glare unevenness to the surface of this single-sided protective film.

[화상 표시 장치][Image display device]

본 발명의 화상 표시 장치는, 이상 설명한 것과 같은 특정한 표면 형상을 갖는 방현 필름 또는 방현성 편광판을 화상 표시 소자와 조합한 것이다. 여기서 화상 표시 소자는, 상하 기판간에 액정이 봉입된 액정셀을 구비하고, 전압 인가에 의해 액정의 배향 상태를 변화시켜 화상의 표시를 행하는 액정 패널이 대표적이지만, 그 외, 플라즈마 디스플레이 패널, CRT 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등, 공지의 각종 디스플레이에 대해서도, 본 발명의 방현 필름을 적용할 수 있다. 그리고, 상기한 방현 필름을 화상 표시 소자보다도 시인측에 배치함으로써, 화상 표시 장치가 구성된다. 이때, 방현 필름의 요철면, 즉 방현층측이 외측(시인측)이 되도록 배치된다. 방현 필름은, 화상 표시 소자의 표면에 직접 접합하여도 좋고, 액정 패널을 화상 표시 수단으로 하는 경우는, 예컨대 전술한 바와 같이, 편광자를 통해 액정 패널의 표면에 접합할 수도 있다. 이와 같이, 본 발명의 방현 필름을 구비한 화상 표시 장치는, 방현 필름이 갖는 표면의 요철에 의해 입사광을 산란하여 투영상을 바림할 수 있고, 우수한 시인성을 부여하는 것이 된다.The image display apparatus of this invention combines the anti-glare film or anti-glare polarizing plate which has a specific surface shape as demonstrated above with an image display element. Here, the image display element includes a liquid crystal cell in which liquid crystal is enclosed between upper and lower substrates, and a liquid crystal panel which displays an image by changing the alignment state of the liquid crystal by applying a voltage is typical. In addition, other plasma display panels and CRT displays The anti-glare film of the present invention can also be applied to various known displays such as an organic EL display. And an image display apparatus is comprised by arrange | positioning said anti-glare film at the visual recognition side rather than an image display element. At this time, it is arrange | positioned so that the uneven surface of an anti-glare film, ie, an anti-glare layer side, may become an outer side (viewing side). The antiglare film may be directly bonded to the surface of the image display element, and when the liquid crystal panel is used as the image display means, for example, as described above, the antiglare film may be bonded to the surface of the liquid crystal panel. Thus, the image display apparatus provided with the anti-glare film of this invention can scatter an incident light by the unevenness | corrugation of the surface which an anti-glare film has, and can apply a projected image, and will provide the outstanding visibility.

또한, 본 발명의 방현 필름을 고선명의 화상 표시 장치에 적용한 경우에도, 종래의 방현 필름에 보였던 눈부심이 발생하는 일도 없고, 충분한 투영 방지, 빛 바램의 방지, 눈부심의 억제, 콘트라스트의 저하 억제라고 하는 성능을 겸비한 것이 된다.In addition, even when the anti-glare film of the present invention is applied to a high-definition image display device, the glare seen in the conventional anti-glare film does not occur, and sufficient projection prevention, prevention of light fading, suppression of glare, and suppression of decrease in contrast It combines performance.

<실시예><Example>

이하에 실시예를 나타내어, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것이 아니다. 예 중, 함유량 내지 사용량을 나타내는 % 및 부는, 특기하지 않는 한 중량 기준이다. 또한, 이하의 예에서의 금형 또는 방현 필름의 평가 방법은, 다음과 같다.Although an Example is shown to the following and this invention is demonstrated to it further more concretely, this invention is not limited by these examples. In the example,% and part which show content-usage-amount are a basis of weight unless it mentions specially. In addition, the evaluation method of the metal mold | die or anti-glare film in the following examples is as follows.

1. 금형의 비커스 경도의 측정1.Measuring Vickers Hardness of Mold

Krautkramer사 제조의 초음파 경도계 "MIC10"을 이용하여, JIS Z 2244에 준거한 방법으로 비커스 경도를 측정하였다. 측정은 금형 자체의 표면에서 행하였다.Vickers hardness was measured by the method based on JISZ2244 using the ultrasonic hardness tester "MIC10" by the Krautkramer company. The measurement was performed on the surface of the mold itself.

2. 방현 필름의 광학 특성의 측정2. Measurement of optical properties of antiglare film

(산란 프로파일)(Scattering profile)

방현 필름을, 그 요철면이 표면이 되도록 유리 기판에 접합하고, 그 유리면측에서 필름 법선에 대하여 소정의 각도로 경사한 방향으로부터, He-Ne 레이저로부터의 평행광을 조사하고, 방현 필름 요철면측에서 필름 법선 방향의 투과 산란광 강도를 측정하였다. 반사율의 측정에는, 모두 요코카와덴키(주) 제조의 "3292 03 옵티컬 파워 센서" 및 "3292 옵티컬 파워 미터"를 이용하였다.The antiglare film is bonded to the glass substrate so that the uneven surface becomes the surface, and the parallel light from the He-Ne laser is irradiated from the direction inclined at a predetermined angle with respect to the film normal from the glass surface side, and the antiglare film uneven surface side The transmitted scattered light intensity in the film normal direction was measured at. Both the "3292 03 optical power sensor" and the "3292 optical power meter" by Yokokawa Denki Co., Ltd. were used for the measurement of a reflectance.

(반사 프로파일)(Reflection profile)

방현 필름의 요철면에, 필름 법선에 대하여 30° 경사한 방향으로부터, He-Ne 레이저로부터의 평행광을 조사하고, 필름 법선과 조사 방향을 포함하는 평면 내에서의 반사율의 각도 변화의 측정을 행하였다. 반사율의 측정에는, 모두 요코카와덴키(주) 제조의 "3292 03 옵티컬 파워 센서" 및 "3292 옵티컬 파워 미터"를 이용하였다.The uneven surface of the antiglare film is irradiated with parallel light from the He-Ne laser from a direction inclined at 30 ° to the film normal, and the angle change of reflectance in the plane including the film normal and the irradiation direction is measured. It was. Both the "3292 03 optical power sensor" and the "3292 optical power meter" by Yokokawa Denki Co., Ltd. were used for the measurement of a reflectance.

(헤이즈)(Haze)

JIS K 7136에 준거한 (주)무라카미시키사이기쥬츠켄큐쇼 제조의 헤이즈 미터 "HM-150"형을 이용하여 방현 필름의 헤이즈를 측정하였다. 샘플의 휘어짐을 방지하기 위해, 광학적으로 투명한 점착제를 이용하여 요철면이 표면이 되도록 유리 기판에 접합하고, 그 상태로 전체 헤이즈를 측정하였다. 내부 헤이즈를 측정할 때는, 방현 필름 요철 표면에 헤이즈가 거의 0인 트리아세틸셀룰로오스 필름을 글리세린으로 접착하여 행하였다.The haze of the anti-glare film was measured using the haze meter "HM-150" type made by Murakami Shikisaiki Jutsu Kenkyu Sho Co., Ltd. based on JIS K 7136. In order to prevent curvature of a sample, it bonded to the glass substrate so that the uneven surface might be surface using the optically transparent adhesive agent, and the whole haze was measured in that state. When the internal haze was measured, a triacetyl cellulose film having almost zero haze was adhered to the antiglare film uneven surface with glycerin.

(반사 선명도)(Reflection sharpness)

JIS K 7105에 준거한 스가시켄키(주) 제조의 사상(寫像)성 측정기 "ICM-1DP"를 이용하여, 방현 필름의 반사 선명도를 측정하였다. 이 경우도, 샘플의 휘어짐을 방지하기 위해, 광학적으로 투명한 점착제를 이용하여 요철면이 표면이 되도록 유리 기판에 접합하고 나서, 측정에 제공하였다. 또한, 이면 유리면으로부터의 반사를 방지하기 위해, 방현 필름을 붙인 유리판의 유리면에 2 ㎜ 두께의 흑색 아크릴 수지판을 물로 밀착시켜 접착하고, 이 상태로 샘플(방현 필름)측으로부터 빛을 입사시켜, 측정을 행하였다. 여기서의 측정값은, 전술한 대로, 암부와 명부의 폭이 각각 0.5 ㎜, 1.0 ㎜ 및 2.0 ㎜인 3종류의 광학 빗을 이용하여 측정된 값의 합계값이다.The reflection sharpness of the anti-glare film was measured using the fissure measuring instrument "ICM-1DP" manufactured by Sugashi Kenki Co., Ltd. in accordance with JIS K 7105. Also in this case, in order to prevent curvature of a sample, it bonded to the glass substrate so that an uneven surface might become a surface using the optically transparent adhesive, and used for the measurement. In addition, in order to prevent reflection from the back glass surface, a black acrylic resin plate having a thickness of 2 mm is adhered to water and adhered to the glass surface of the glass plate with the antiglare film, and light is incident from the sample (antiglare film) side in this state. The measurement was performed. As mentioned above, the measured value here is the sum total of the value measured using the three types of optical combs whose width | variety of a arm part and a wrist is 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm, respectively.

3. 방현 필름의 표면 형상의 측정3. Measurement of surface shape of antiglare film

Sensofar사 제조의 공초점 현미경 "PLμ2300"을 이용하여, 방현 필름의 표면 형상을 측정하였다. 이 경우도, 샘플의 휘어짐을 방지하기 위해, 광학적으로 투명 한 점착제를 이용하여 요철면이 표면이 되도록 유리 기판에 접합하고 나서, 측정에 제공하였다. 측정 시, 대물 렌즈의 배율은 50배로 하고, 해상도를 떨어뜨려 측정을 행하였다. 고해상도로 측정하면, 샘플 표면의 미세한 요철을 측정하여 버려, 볼록부의 카운트에 지장을 초래하기 때문이다.The surface shape of the anti-glare film was measured using the confocal microscope "PLμ2300" manufactured by Sensofar. Also in this case, in order to prevent the bending of a sample, it bonded to the glass substrate so that the uneven surface might become the surface using the optically transparent adhesive, and used for the measurement. At the time of measurement, the magnification of the objective lens was 50 times, and the measurement was carried out by reducing the resolution. This is because when the measurement is performed at a high resolution, fine irregularities on the surface of the sample are measured to cause a disturbance in the count of the convex portion.

(단면 곡선에서의 산술 평균 높이(Pa), 최대 단면 높이(Pt) 및 평균 길이(PSm))(Arithmetic mean height in section curve (Pa), maximum section height (Pt) and mean length (PSm))

위에서 얻어진 측정 데이터를 바탕으로, JIS B 0601에 준거한 계산에 의해, 산술 평균 높이(Pa), 최대 단면 높이(Pt) 및 평균 길이(PSm)를 구하였다.Based on the measurement data obtained above, arithmetic mean height Pa, maximum cross-sectional height Pt, and average length PSm were calculated | required by calculation based on JISB0601.

(볼록부의 수)(Number of convexities)

위의 측정에서 얻어진 방현 필름 표면 각 점의 삼차원적인 좌표값을 바탕으로, 먼저 도 5를 참조하여 설명한 알고리즘에 따라, 200 ㎛×200 ㎛의 영역 내에 존재하는 볼록부의 수를 구하였다.Based on the three-dimensional coordinate values of each surface of the antiglare film obtained in the above measurement, the number of the convex portions existing in the region of 200 μm × 200 μm was determined according to the algorithm described with reference to FIG. 5.

(보로노이 분할하였을 때의 보로노이 다각형의 평균 면적)(Average Area of Voronoi Polygons when Voronoi Divided)

위의 측정에서 얻어진 방현 필름 표면 각 점의 삼차원적인 좌표값을 바탕으로, 먼저 도 5 및 도 6을 참조하여 설명한 알고리즘에 기초하여 계산하고, 보로노이 다각형의 평균 면적을 구하였다.Based on the three-dimensional coordinate values of each surface of the antiglare film obtained in the above measurement, the calculation was first performed based on the algorithm described with reference to FIGS. 5 and 6 to obtain an average area of the Voronoi polygon.

4. 방현 필름의 방현 성능의 평가4. Evaluation of antiglare performance of antiglare film

(투영, 빛 바램 및 질감의 육안 평가)(Visual evaluation of projection, light fading and texture)

방현 필름의 이면으로부터의 반사를 방지하기 위해, 요철면이 표면이 되도록 흑색 아크릴 수지판에 방현 필름을 접합하고, 형광등이 켜진 밝은 실내에서 요철면 측으로부터 육안으로 관찰하여, 형광등의 투영의 유무, 빛 바램의 정도 및 질감을 육안으로 평가하였다. 투영, 빛 바램 및 질감은, 각각 1부터 3의 3단계로 다음 기준에 의해 평가하였다.In order to prevent reflection from the back surface of the antiglare film, the antiglare film is bonded to the black acrylic resin plate so that the uneven surface becomes the surface, and visually observed from the uneven surface side in the bright room where the fluorescent lamp is turned on, and whether or not the projection of the fluorescent lamp is present, The degree and texture of the light fading were visually evaluated. Projection, light fading, and texture were evaluated according to the following criteria in three steps of 1 to 3, respectively.

투영 1: 투영이 관찰되지 않는다.Projection 1: No projection is observed.

2: 투영이 조금 관찰된다.     2: The projection is slightly observed.

3: 투영이 명료하게 관찰된다.     3: The projection is clearly observed.

빛 바램 1: 빛 바램이 관찰되지 않는다.Light fading 1: No light fading is observed.

2: 빛 바램이 조금 관찰된다.        2: A little light fading is observed.

3: 빛 바램이 명료하게 관찰된다.        3: The fading of light is clearly observed.

질감 1: 텍스쳐가 미세하고, 질감이 좋다.Texture 1: The texture is fine and the texture is good.

2: 텍스쳐가 약간 거칠고, 질감이 조금 나쁘다.     2: The texture is slightly rough and the texture is slightly bad.

3: 텍스쳐가 명백하게 거칠고, 질감이 나쁘다.     3: The texture is obviously rough and the texture is bad.

(눈부심의 평가)(Evaluation of the glare)

눈부심은, 이하의 방법으로 평가하였다. 즉, 우선 도 9에 평면도로 나타내는 바와 같은 유닛셀의 패턴을 갖는 포토 마스크를 준비하였다. 이 도면에서, 유닛셀(40)은, 투명한 기판 상에, 선폭 10 ㎛이며 갈고리형의 크롬 차광 패턴(41)이 형성되고, 그 크롬 차광 패턴(41)이 형성되어 있지 않은 부분이 개구부(42)로 되어 있다. 여기서는, 유닛셀의 치수가 254 ㎛×84 ㎛(도면의 세로×가로), 따라서 개구부의 치수가 244 ㎛×74 ㎛(도면의 세로×가로)인 것을 이용하였다. 도시하는 유닛셀이 종횡에 다수 늘어서서, 포토 마스크를 형성한다.Glare was evaluated by the following method. That is, first, the photomask which has the pattern of a unit cell as shown by the top view in FIG. 9 was prepared. In this figure, the unit cell 40 has a line width of 10 占 퐉 and a hook-shaped chromium light shielding pattern 41 formed on a transparent substrate, and a portion where the chromium light shielding pattern 41 is not formed is an opening 42. ) Here, a unit cell having a size of 254 μm × 84 μm (vertical × horizontal in the drawing), and thus an opening dimension of 244 μm × 74 μm (vertical × horizontal in the drawing) was used. The unit cells shown in figure are lined up in the vertical and horizontal direction, and form a photo mask.

그리고, 도 10에 모식적인 단면도로 나타내는 바와 같이, 포토 마스크(43)의 크롬 차광 패턴(41)을 위로 하여 라이트 박스(45)에 놓고, 유리판(47)에 점착제로 방현 필름(11)을 그 요철면이 표면이 되도록 접합한 샘플을 포토 마스크(43) 상에 놓는다. 라이트 박스(45)의 안에는, 광원(46)이 배치되어 있다. 이 상태로, 샘플로부터 약 30 ㎝ 떨어진 위치(49)에서 육안으로 관찰함으로써, 눈부심의 정도를 7단계로 관능 평가하였다. 레벨 1은 눈부심이 전혀 인지되지 않는 상태, 레벨 7은 심하게 눈부심이 관찰되는 상태에 해당하고, 레벨 3은 극히 조금 눈부심이 관찰되는 상태이다.And as shown in a typical cross section in FIG. 10, the chrome light shielding pattern 41 of the photomask 43 is put up in the light box 45, and the antiglare film 11 is attached to the glass plate 47 with an adhesive. The bonded sample is placed on the photo mask 43 so that the uneven surface becomes a surface. In the light box 45, the light source 46 is disposed. In this state, the degree of glare was sensory evaluated in seven steps by visual observation at a position 49 about 30 cm away from the sample. Level 1 is a state in which no glare is recognized at all, level 7 corresponds to a state in which severe glare is observed, and level 3 is a state in which very little glare is observed.

(콘트라스트의 평가)(Evaluation of contrast)

시판의 액정 텔레비젼〔샤프(주) 제조의 "LC-42GX1W"〕으로부터 표리 양면의 편광판을 박리하였다. 이들 오리지널 편광판 대신에, 배면측 및 표시면측 모두, 스미토모카가쿠(주) 제조의 편광판 "스미카란 SRDB831E"를, 각각의 흡수축이 오리지널 편광판의 흡수축과 일치하도록 점착제를 통하여 접합하고, 또한 표시면측 편광판의 위에는, 이하의 각 예에 나타내는 방현 필름을 요철면이 표면이 되도록 점착제를 통하여 접합하였다. 이렇게 해서 얻어진 액정 텔레비젼을 암실 내에서 기동하고, (주)탑콘 제조의 휘도계 "BM5A"형을 이용하여, 흑표시 상태 및 백표시 상태에서의 휘도를 측정하고, 콘트라스트를 산출하였다. 여기서 콘트라스트는, 흑표시 상태의 휘도에 대한 백표시 상태의 휘도의 비로 나타낸다.The polarizing plate of both front and back was peeled from the commercially available liquid crystal television ("LC-42GX1W" by Sharp Corporation). Instead of these original polarizing plates, the polarizing plate "Sumikaran SRDB831E" manufactured by Sumitomo Kagaku Co., Ltd. was bonded to each other through the pressure-sensitive adhesive so that each absorption axis coincides with the absorption axis of the original polarizing plate, and also the display was performed. On the surface side polarizing plate, the anti-glare film shown in each of the following examples was bonded through the adhesive so that the uneven surface may be a surface. The liquid crystal television obtained in this way was started in the dark room, the brightness | luminance in the black display state and the white display state was measured using the luminance meter "BM5A" type from Topcon Co., Ltd., and the contrast was computed. The contrast is expressed by the ratio of the luminance of the white display state to the luminance of the black display state.

[실시예 1]Example 1

(A) 엠보싱용 금형의 제작(A) Production of embossing mold

직경 200 ㎜의 철롤(JIS에 따른 STKM13A)의 표면에 구리 발라드 도금이 시행된 것을 준비하였다. 구리 발라드 도금은, 구리 도금층/얇은 은도금층/표면 구리 도금층으로 이루어지는 것이며, 도금층 전체의 두께는 약 200 ㎛였다. 그 구리 도금 표면을 경면 연마하고, 또한 그 연마면에, 블러스트 장치[(주)후지세이사쿠쇼 제조]를 이용하여, 토소(주) 제조의 지르코니아 비드 "TZ-B53"(상품명, 평균 입자 직경 53 ㎛)을, 비드 사용량 8 g/㎠(롤의 표면적당), 블러스트 압력 0.15 ㎫(게이지압), 미립자를 분사하는 노즐로부터 금속 표면까지의 거리 450 ㎜의 조건으로 블러스트하고, 표면에 요철을 만들었다. 얻어진 요철을 갖는 구리 도금 철롤에 대하여, 염화 제2구리 수용액으로 에칭을 행하였다. 그때의 에칭량은 8 ㎛가 되도록 설정하였다. 그 후, 크롬 도금 가공을 행하고, 엠보싱용의 금형을 제작하였다. 이때, 크롬 도금 두께가 4 ㎛가 되도록 설정하였다. 얻어진 금형은, 표면의 비커스 경도가 1,000이었다.It was prepared that copper ballad plating was performed on the surface of an iron roll (STKM13A according to JIS) having a diameter of 200 mm. Copper ballad plating consists of a copper plating layer / thin silver plating layer / surface copper plating layer, and the thickness of the whole plating layer was about 200 micrometers. The copper-plated surface was mirror-polished, and the zirconia bead "TZ-B53" manufactured by Tosoh Corporation was used on the polished surface using a blast device (manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd.) (brand name, average particle) 53 micrometers in diameter) is blasted on condition of bead consumption of 8 g / cm <2> (per surface area of a roll), blast pressure 0.15 Mpa (gauge pressure), and the distance of 450 mm from the nozzle which injects microparticles to a metal surface, Made irregularities in The obtained copper plating iron roll having the unevenness was etched with a cupric chloride aqueous solution. The etching amount at that time was set to be 8 micrometers. Then, the chrome plating process was performed and the metal mold for embossing was produced. At this time, the chromium plating thickness was set to 4 µm. The Vickers hardness of the obtained metal mold | die was 1,000.

(B) 방현 필름의 제작(B) Production of antiglare film

이하의 각 성분이 초산 에틸에 고형분 농도 60%로 용해되어 있고, 경화 후에 1.53의 굴절률을 나타내는 자외선 경화성 수지 조성물을 입수하였다.Each of the following components was dissolved in ethyl acetate at a solid content concentration of 60%, and an ultraviolet curable resin composition having a refractive index of 1.53 was obtained after curing.

펜타에리트리톨트리아크릴레이트 60부Pentaerythritol triacrylate 60 parts

다관능 우레탄화 아크릴레이트 40부40 parts of polyfunctional urethane acrylate

(헥사메틸렌디이소시아네이트와 펜타에리트리톨트리아크릴레이트의 반응 생성물)(Reaction product of hexamethylene diisocyanate and pentaerythritol triacrylate)

레벨링제 있음With leveling agent

이 자외선 경화성 수지 조성물에, 평균 입자 직경이 8 ㎛이며 굴절률이 1.565인 메타크릴산 메틸/스틸렌 공중합체 수지 비드를, 상기 자외선 경화성 수지 100부당 25부 첨가한 후, 고형분(수지 비드를 포함함)의 농도가 50%가 되도록 초산 에틸을 첨가하여 도포액을 조제하였다.Solid content (including resin beads) was added to this ultraviolet curable resin composition after 25 parts of methyl methacrylate / styrene copolymer resin beads having an average particle diameter of 8 µm and a refractive index of 1.565 were added per 100 parts of the ultraviolet curable resin. Ethyl acetate was added so that the density | concentration of might be 50%, and the coating liquid was prepared.

두께 80 ㎛의 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름 상에, 상기 도포액을 건조 후의 도포막 두께가 10 ㎛가 되도록 도포하고, 60℃로 설정한 건조기 속에서 3분간 건조시켰다. 건조 후의 필름을, (A)에서 제작한 금형의 요철면에, 자외선 경화성 수지 조성물층이 금형측이 되도록 고무롤로 압박하여 밀착시켰다. 이 상태로 TAC 필름측으로부터, 강도 20 ㎽/㎠의 고압 수은등으로부터의 빛을 h선 환산 광량으로 200 mJ/㎠가 되도록 조사하여, 자외선 경화성 수지 조성물층을 경화시켰다. 이 후, TAC 필름을 경화 수지마다 금형으로부터 박리하여, 표면에 요철을 갖는 경화 수지와 TAC 필름의 적층체로 이루어지는 투명한 방현 필름을 얻었다.On the 80-micrometer-thick triacetyl cellulose (TAC) film, the said coating liquid was apply | coated so that the coating film thickness after drying might be set to 10 micrometers, and it dried for 3 minutes in the dryer set to 60 degreeC. The film after drying was pressed and adhered to the uneven surface of the metal mold | die produced by (A) with a rubber roll so that an ultraviolet curable resin composition layer might become a metal mold | die side. In this state, the light from the high-pressure mercury lamp of 20 MW / cm <2> of intensity | strength was irradiated so that it might become 200 mJ / cm <2> by h-ray-converted light quantity, and the ultraviolet curable resin composition layer was hardened. Thereafter, the TAC film was peeled from the mold for each cured resin to obtain a transparent antiglare film made of a laminate of a cured resin having a concave-convex surface and a TAC film.

(C) 방현 필름의 평가(C) evaluation of antiglare film

얻어진 방현 필름에 대해서, 광학 특성, 요철 표면 형상 및 방현 성능을 상기한 방법에 따라 평가하고, 그 결과를, 금형의 제작 조건, 방현층 제작에 이용한 미립자의 종류 및 양과 함께 표 1에 나타냈다. 또한, 투과 산란 프로파일의 그래프를 도 11에, 반사 프로파일의 그래프를 도 12에 각각 나타냈다. 또한, 표 1에서, (A)는 금형 제작 시의 에칭량과 방현층 제작에 이용한 미립자의 종류 및 양을 정리한 것, (B)는 방현 필름의 광학 특성을 정리한 것, 그리고 (C)는 방현 필름의 표면 형상과 방현 성능을 정리한 것이다. 그리고, 표 1의 (B) 중 반사 선명도의 내역은 다음과 같다.About the obtained anti-glare film, optical characteristic, uneven surface shape, and anti-glare performance were evaluated in accordance with the above-mentioned method, and the result was shown in Table 1 with the manufacturing conditions of a metal mold | die, the kind and quantity of microparticles | fine-particles used for anti-glare layer preparation. In addition, the graph of the transmission scattering profile is shown in FIG. 11, and the graph of the reflection profile is shown in FIG. In addition, in Table 1, (A) summarizes the etching amount at the time of metal mold manufacture, the kind and quantity of microparticles | fine-particles used for anti-glare layer preparation, (B) summarizes the optical characteristics of an anti-glare film, and (C) Summarizes the surface shape and anti-glare performance of the anti-glare film. In addition, the detail of reflection sharpness in (B) of Table 1 is as follows.

반사 선명도Reflection sharpness

0.5 ㎜ 광학 빗 : 1.4%0.5 mm optical comb: 1.4%

1.0 ㎜ 광학 빗 : 5.4%1.0 mm optical comb: 5.4%

2.0 ㎜ 광학 빗 : 9.6%2.0 mm optical comb: 9.6%

합계 16.4%16.4% in total

[실시예 2][Example 2]

금형 제작 시의 에칭량을 표 1과 같이 변경하고, 그 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 표면에 요철을 갖는 엠보싱용의 금형을 제작하였다. 얻어진 금형은, 표면의 비커스 경도가 1,000이었다. 이 금형을 이용하여, 실시예 1과 동일하게 하여, 표면에 요철을 갖는 경화 수지와 TAC 필름의 적층체로 이루어지는 투명한 방현 필름을 제작하였다.The etching amount at the time of metal mold | die manufacture was changed like Table 1, except having carried out similarly to Example 1, the metal mold | die for embossing which has an unevenness | corrugation on the surface was produced. The Vickers hardness of the obtained metal mold | die was 1,000. Using this metal mold | die, it carried out similarly to Example 1, and produced the transparent anti-glare film which consists of a laminated body of cured resin which has unevenness | corrugation on the surface, and a TAC film.

[실시예 3 및 4]EXAMPLES 3 AND 4

실시예 1과 동일한 금형을 이용하며, 방현층 제작에 이용한 미립자의 종류 및/또는 자외선 경화성 수지 100 중량부에 대한 첨가량을 표 1과 같이 변경하고, 그 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 표면에 요철을 갖는 경화 수지와 TAC 필름의 적층체로 이루어지는 투명한 방현 필름을 제작하였다. 또한, 실시예 3에서 이용한 미립자는, 실시예 1과 동일한 메타크릴산 메틸/스티렌 공중합체 수지 비드이고, 실시예 4에서 이용한 미립자는, 평균 입자 직경이 8 ㎛이며 굴절률이 1.490인 폴리메타크릴산 메틸 비드이다.The same mold as in Example 1 was used, and the amount of the fine particles used for preparing the antiglare layer and / or the amount of addition to 100 parts by weight of the ultraviolet curable resin was changed as shown in Table 1, except that the same as in Example 1, The transparent anti-glare film which consists of a laminated body of cured resin and uneven | corrugated TAC film which has an unevenness | corrugation was produced. In addition, the microparticles | fine-particles used in Example 3 are the same methyl methacrylate / styrene copolymer resin beads as Example 1, The microparticles | fine-particles used in Example 4 are polymethacrylic acid whose average particle diameter is 8 micrometers, and refractive index is 1.490. Methyl beads.

실시예 2∼4에서 얻어진 방현 필름은 모두, 이들 방현 필름의 광학 특성, 표면 형상 및 방현 성능을, 실시예 1의 데이터와 함께 표 1에 나타냈다. 또한, 이들 방현 필름의 투과 산란 프로파일 및 반사 프로파일의 그래프는, 실시예 1의 데이터와 함께 도 11 및 도 12에 각각 나타냈다.All of the anti-glare films obtained in Examples 2 to 4 show the optical properties, the surface shape, and the anti-glare performance of these anti-glare films in Table 1 together with the data of Example 1. In addition, the graph of the transmission scattering profile and the reflection profile of these anti-glare films was shown to FIG. 11 and FIG. 12 with the data of Example 1, respectively.

[비교예 1 및 2][Comparative Examples 1 and 2]

비교예 1에서는 실시예 1과 동일한 금형을, 또한 비교예 2에서는 실시예 2와 동일한 금형을 이용하고, 모두 수지 비드를 함유하지 않는 자외선 경화성 수지 조성물을 이용하며, 그 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 표면에 요철을 갖는 경화 수지와 TAC 필름의 적층체로 이루어지는 투명한 방현 필름을 제작하였다. 얻어진 방현 필름의 광학 특성, 표면 형상 및 방현 성능을, 실시예 1의 데이터와 함께 표 1에 나타냈다. 또한, 이들 방현 필름의 투과 산란 프로파일의 그래프를 도 13에, 그리고 반사 프로파일의 그래프를 도 14에 각각 나타냈다.In Comparative Example 1, the same mold as in Example 1 was used, and in Comparative Example 2, the same mold as in Example 2 was used, and all of the ultraviolet curable resin compositions containing no resin beads were used. The transparent anti-glare film which consists of a laminated body of cured resin and a TAC film which have an unevenness | corrugation on the surface was produced. The optical characteristic, surface shape, and anti-glare performance of the obtained anti-glare film were shown in Table 1 together with the data of Example 1. In addition, the graph of the transmission scattering profile of these anti-glare films was shown in FIG. 13, and the graph of the reflection profile was shown in FIG.

Figure 112009069841438-PCT00001
Figure 112009069841438-PCT00001

표 1에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 요건을 만족한 실시예 1 및 2는 우수한 방현 성능(낮은 투영과 양호한 질감)을 나타내면서, 눈부심이나 빛 바램이 발생하지 않고, 화상 표시 장치에 적용하였을 때에도 높은 콘트라스트를 나타냈다. 또한, 내부 헤이즈를 증가시킨 실시예 3 및 4에서는, 콘트라스트가 실시예 1 및 2와 비교하여 조금 저하하였지만, 눈부심이 보다 효과적으로 억제되는 것을 알 수 있었다.As shown in Table 1, Examples 1 and 2 satisfying the requirements of the present invention exhibit excellent anti-glare performance (low projection and good texture), and do not cause glare or light fading, and are high even when applied to an image display device. Contrast was shown. In addition, in Examples 3 and 4 in which the internal haze was increased, the contrast decreased slightly compared with Examples 1 and 2, but it was found that glare was more effectively suppressed.

이에 대하여, 비교예 1 및 2는, 표면 형상이 각각 실시예 1 및 2와 거의 동일하기 때문에, 우수한 방현 성능을 나타내면서, 빛 바램이 발생하지 않고, 콘트라스트도 높은 값을 나타냈지만, 상대 산란광 강도 T(20) 및 T(30)의 적어도 한쪽이 본 발명의 규정을 하회하기 때문에, 눈부심이 강하여, 화상 표시 장치에 적용하였을 때에는 시인성을 현저히 저하시키게 되었다.On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, since the surface shape is almost the same as in Examples 1 and 2, respectively, while showing excellent anti-glare performance, no light fading occurred and a high contrast value was shown, but the relative scattered light intensity T Since at least one of (20) and T (30) is less than the provision of the present invention, the glare is strong, and when applied to an image display device, the visibility is significantly reduced.

여기서, 실시예 1, 3 및 4와 비교예 1은 동일한 금형을 이용하여 방현 필름을 제작하고 있고, 또한 실시예 2와 비교예 2도 동일한 금형을 이용하여 방현 필름을 제작하고 있다. 그리고, 이들 동일한 금형을 이용하여 제작한 방현 필름의 반사 특성은 거의 동등하고, 이 결과로부터, 첨가한 미립자가 표면 형상에 영향을 끼치고 있지 않는 것을 알 수 있다.Here, Example 1, 3, and 4 and Comparative Example 1 produced the anti-glare film using the same mold, and Example 2 and Comparative Example 2 also produced the anti-glare film using the same mold. And the reflection characteristic of the anti-glare film produced using these same metal molds is almost equivalent, and it turns out that the added microparticles | fine-particles do not affect the surface shape.

[비교예 3∼5]Comparative Examples 3 to 5

실시예 1에서 이용한 것과 동일한 자외선 경화성 수지 조성물(수지 비드 첨가 전)에, 평균 입자 직경이 약 10 ㎛이며 굴절률이 1.46인 다공질 실리카 미립자를 자외선 경화성 수지 100부당 10부 첨가하고, 또한 비교예 4 및 5에서는, 평균 입자 직경이 3 ㎛이며 굴절률이 1.57인 메타크릴산 메틸/스틸렌 공중합체 수지 비드를 자외선 경화성 수지 100부당 표 2에 나타내는 양 첨가하여 분산시키고, 그 후 고형분(실리카 미립자 및 수지 비드를 포함함)의 농도가 30%가 되도록 초산 에틸을 첨가하여, 도포액을 조제하였다.To the same ultraviolet curable resin composition (before the addition of the resin beads) as used in Example 1, 10 parts of porous silica fine particles having an average particle diameter of about 10 µm and a refractive index of 1.46 were added per 100 parts of the ultraviolet curable resin, and also in Comparative Example 4 and In 5, methyl methacrylate / styrene copolymer resin beads having an average particle diameter of 3 µm and a refractive index of 1.57 were added and dispersed in the amounts shown in Table 2 per 100 parts of the ultraviolet curable resin, and then the solid content (silica fine particles and resin beads Ethyl acetate was added so that the density | concentration of (included) may be 30%, and the coating liquid was prepared.

두께 80 ㎛의 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름 상에, 상기 도포액을 건조 후의 도포막 두께가 4 ㎛가 되도록 도포하고, 60℃로 설정한 건조기 속에서 3분간 건조시켰다. 건조 후의 필름의 광경화성 수지 조성물층측으로부터, 강도 20 ㎽/㎠의 고압 수은등으로부터의 빛을 h선 환산 광량으로 200 mJ/㎠가 되도록 조사하고, 자외선 경화성 수지 조성물층을 경화시켜, 표면에 요철을 갖는 경화 수지와 TAC 필름의 적층체로 이루어지는 투명한 방현 필름을 얻었다. 이 방현 필름에서는, 실리카 미립자의 입자 직경(약 10 ㎛)과 도포막 두께(4 ㎛)의 관계로부터도 알 수 있듯이, 실리카 미립자가 방현층 표면에 돌출하고 있다.On the 80-micrometer-thick triacetyl cellulose (TAC) film, the said coating liquid was apply | coated so that the coating film thickness after drying might be 4 micrometers, and it dried for 3 minutes in the dryer set to 60 degreeC. From the photocurable resin composition layer side of the film after drying, the light from the high pressure mercury lamp of 20 kW / cm <2> intensity | strength is irradiated so that it may become 200 mJ / cm <2> by h-ray-converted light quantity, harden an ultraviolet curable resin composition layer, and the unevenness may be made to the surface The transparent anti-glare film which consists of a laminated body of cured resin which has and TAC film was obtained. In this anti-glare film, as can be seen from the relationship between the particle diameter (about 10 μm) of the silica fine particles and the coating film thickness (4 μm), the silica fine particles protrude on the surface of the anti-glare layer.

얻어진 방현 필름에 대해서, 광학 특성, 요철 표면 형상 및 방현 성능을 상기한 방법에 따라 평가하고, 그 결과를 수지의 조성과 함께 표 2에 나타냈다. 표 2에서, (A)는 경화성 수지에 배합한 미립자를 정리한 것, (B)는 방현 필름의 광학 특성을 정리한 것, 그리고 (C)는 방현 필름의 표면 형상과 방현 성능을 정리한 것이다. 또한, 투과 산란 프로파일의 그래프를 도 15에, 그리고 반사 프로파일의 그래프를 도 16에 각각 나타냈다.About the obtained anti-glare film, optical characteristic, uneven surface shape, and anti-glare performance were evaluated in accordance with the above-mentioned method, and the result was shown in Table 2 with the composition of resin. In Table 2, (A) summarizes the microparticles | fine-particles mix | blended with curable resin, (B) summarizes the optical characteristics of an anti-glare film, and (C) summarizes the surface shape and anti-glare performance of an anti-glare film. . In addition, the graph of the transmission scattering profile is shown in FIG. 15, and the graph of the reflection profile is shown in FIG.

Figure 112009069841438-PCT00002
Figure 112009069841438-PCT00002

표 2에 나타내는 바와 같이, 비교예 3에서는, 상대 산란광 강도 T(20) 및 T(30)가 본 발명의 규정을 하회하기 때문에, 콘트라스트는 저하하지 않았지만, 눈부심이 강하고, 화상 표시 장치에 적용하였을 때에 현저히 시인성을 손상시키는 것이었다. 비교예 4에서는, 20° 입사의 상대 산란광 강도 T(20)가 본 발명의 규정을 상회하였기 때문에, 콘트라스트가 1,800 이하로 저하하며, 시인성을 손상시키는 것이었다. 또한, 표면 형상 중, 평균 길이(PSm)가 크고, 볼록부의 수가 적고, 보로노이 다각형의 평균 면적이 크고, 전체로서는 본 발명에서 규정하는 것보다도 큰 형상으로 되었기 때문에, 산란광이 강함에도 불구하고, 눈부심이 충분히 억제되지 않았다. 비교예 5에서는, 상대 산란광 강도 T(20) 및 T(30)가 본 발명의 규정을 크게 상회하고 있었기 때문에, 눈부심은 발생하지 않았지만, 콘트라스트가 대폭 저하하게 되었다. 또한 비교예 3∼5는, 평균 길이(PSm)가 대체로 크고, 보로노이 다각형의 평균 면적이 본 발명의 규정을 상회하며, 또한 볼록부의 수가 본 발명의 규정을 하회하고 있어, 결과로서 질감이 거칠고, 도톨도톨한 미관이었다.As shown in Table 2, in Comparative Example 3, since the relative scattered light intensities T (20) and T (30) are less than the provisions of the present invention, the contrast did not decrease, but the glare was strong and applied to the image display device. At the time, the visibility was impaired. In Comparative Example 4, since the relative scattered light intensity T (20) of 20 ° incidence exceeded the definition of the present invention, the contrast was lowered to 1,800 or less, thereby impairing visibility. In addition, despite the fact that the average length PSm is large in the surface shape, the number of convex portions is small, the average area of the Voronoi polygon is large, and as a whole, the shape is larger than that specified in the present invention. Glare was not sufficiently suppressed. In Comparative Example 5, since the relative scattered light intensities T (20) and T (30) greatly exceeded the provisions of the present invention, glare did not occur, but contrast was greatly reduced. In Comparative Examples 3 to 5, the average length (PSm) was generally large, the average area of the Voronoi polygons exceeded the definition of the present invention, and the number of the convex portions was less than the provision of the present invention, resulting in a rough texture. It was a beautiful appearance.

[비교예 6∼9][Comparative Examples 6-9]

스미토모카가쿠(주)가 판매하는 편광판 "스미카란"에 방현층으로서 사용되고 있고, 자외선 경화 수지 중에 필러가 분산되어 이루어지는 방현 필름 "AG3", "AG5", "SL6", "CV2"(각각 비교예 6∼9로 함)에 대해서, 각각의 광학 특성, 표면 형상 및 방현 성능을 전술한 방법에 따라 평가하고, 그 결과를 표 3에 나타냈다. 표 3에서, (B)는 방현 필름의 광학 특성을 정리한 것, 그리고 (C)는 방현 필름의 표면 형상과 방현 성능을 정리한 것이다. 또한, 투과 산란 프로파일의 그래프를 도 17에, 그리고 반사 프로파일의 그래프를 도 18에 각각 나타냈다.Antiglare films "AG3", "AG5", "SL6", "CV2", which are used as antiglare layers in the polarizing plate "Sumikaran" sold by Sumitomo Chemical Co., Ltd. Examples 6-9), each optical characteristic, surface shape, and anti-glare performance were evaluated in accordance with the method mentioned above, and the result was shown in Table 3. In Table 3, (B) summarizes the optical characteristics of an anti-glare film, and (C) summarizes the surface shape and anti-glare performance of an anti-glare film. In addition, the graph of the transmission scattering profile is shown in FIG. 17, and the graph of the reflection profile is shown in FIG.

Figure 112009069841438-PCT00003
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비교예 6에서는, 상대 산란광 강도 T(20) 및 T(30)가 본 발명의 규정을 하회하기 때문에, 콘트라스트는 저하하지 않았지만, 눈부심이 강하여 시인성이 현저히 저하하였다. 또한, 표면 형상의 요건이 전부 본 발명의 규정으로부터 벗어나기 때문에, 질감이 나쁘고, 도톨도톨한 미관이었다. 비교예 7에서는, 30° 입사의 상대 산란광 강도 T(30)가 본 발명의 규정을 하회하기 때문에, 눈부심이 발생하는 결과가 되었다. 비교예 8 및 9에서는, 상대 산란광 강도 T(20) 및 T(30)가 대체로 크기 때문에, 눈부심은 생기지 않았지만, 콘트라스트를 크게 저하시키게 되었다. 또한 비교예 8에서는, 반사율 R(40) 및 R(50)의 값도 본 발명의 규정을 상회하고 있기 때문에, 화면이 전체적으로 흰 빛을 띠는 빛 바램이 발생하였다.In Comparative Example 6, since the relative scattered light intensities T (20) and T (30) were less than those specified in the present invention, the contrast did not decrease, but the glare was strong and the visibility was remarkably decreased. In addition, since all the requirements of the surface shape deviate from the provisions of the present invention, the texture is poor and the appearance is tolerated. In the comparative example 7, since the relative scattered light intensity T 30 of 30 degrees incidence was less than the prescription | regulation of this invention, it became the result which a glare generate | occur | produced. In Comparative Examples 8 and 9, since the relative scattered light intensities T (20) and T (30) were large, glare did not occur, but the contrast was greatly reduced. In Comparative Example 8, since the values of the reflectances R (40) and R (50) also exceeded the provisions of the present invention, the screen faded to a white light as a whole.

이상의 결과로부터, 본 발명에서 규정하는 요건을 밸런스 좋게 구비하는 것이, 본 발명의 목적으로 하는 광학 특성을 달성하는데 중요한 것을 알 수 있다.From the above result, it turns out that it is important to equip well-balanced requirements prescribed | regulated by this invention in order to achieve the optical characteristic made into the objective of this invention.

본 발명의 방현 필름은, 우수한 방현 성능을 나타내면서, 빛 바램에 의한 시인성의 저하가 방지되고, 또한, 고선명의 화상 표시 장치의 표면에 배치하였을 때에, 눈부심을 발생시키지 않으며 높은 콘트라스트를 발현하게 된다. 이 방현 필름을 편광자와 조합한 방현성 편광판도, 동일한 효과를 발현한다. 그리고, 본 발명의 방현 필름 또는 방현성 편광판을 배치한 화상 표시 장치는, 방현 성능이 높고, 시인성이 우수한 것이 된다.When the anti-glare film of the present invention exhibits excellent anti-glare performance, deterioration of visibility due to light fading is prevented, and when disposed on the surface of a high-definition image display device, glare does not occur and high contrast is expressed. The anti-glare polarizing plate which combined this anti-glare film with a polarizer also expresses the same effect. And the image display apparatus which arrange | positioned the anti-glare film or anti-glare polarizing plate of this invention is high in anti-glare performance, and becomes excellent in visibility.

본 발명의 방현 필름을, 액정 패널, 플라즈마 디스플레이 패널, CRT 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 각종 디스플레이에 대하여, 그 방현 필름이 화상 표시 소자보다도 시인측이 되도록 배치함으로써, 빛 바램 및 눈부심을 발생시키는 일 없이, 투영상을 바림할 수 있고, 우수한 시인성을 부여하는 것이 된다.Arranging the antiglare film of the present invention with respect to various displays such as a liquid crystal panel, a plasma display panel, a CRT display, an organic EL display, and the like so that the antiglare film is more visible than an image display element, thereby generating light fading and glare. Without this, the projected image can be applied, thereby providing excellent visibility.

Claims (12)

투명 지지체 상에, 미세한 요철 표면을 갖는 방현층이 형성되어 이루어지는 방현 필름으로서,As an antiglare film in which an antiglare layer having a fine uneven surface is formed on a transparent support, 투명 지지체측으로부터 입사각 20°로 빛을 입사하였을 때의 방현층측 법선 방향에서의 상대 산란광 강도 T(20)가 0.0001% 이상 0.0005% 이하이고,The relative scattered light intensity T (20) in the anti-glare layer side normal line direction when light is incident at an incident angle of 20 ° from the transparent support side is 0.0001% or more and 0.0005% or less, 투명 지지체측으로부터 입사각 30°로 빛을 입사하였을 때의 방현층측 법선 방향에서의 상대 산란광 강도 T(30)가 0.00004% 이상 0.00025% 이하인 방현 필름.An anti-glare film having a relative scattered light intensity T (30) of 0.00004% or more and 0.00025% or less in the antiglare layer-side normal line direction when light is incident from the transparent support side at an incident angle of 30 °. 제1항에 있어서, 방현층측으로부터 입사각 30°로 빛을 입사하였을 때에,The light incident on the incident angle of 30 ° according to claim 1, 반사각 30°의 반사율 R(30)이 0.05% 이상 2% 이하이고,The reflectance R (30) of 30 degrees of reflection angles is 0.05% or more and 2% or less, 반사각 40°의 반사율 R(40)이 0.0001% 이상 0.005% 이하이며,The reflectance R (40) of 40 degrees of reflection angles is 0.0001% or more and 0.005% or less, 반사각 50°의 반사율 R(50)이 0.00001% 이상 0.0005% 이하인 방현 필름.Anti-glare film whose reflectance R (50) of reflectance angle 50 degrees is 0.00001% or more and 0.0005% or less. 제1항에 있어서, 수직 입사광에 대한 표면 헤이즈가 0.1% 이상 5% 이하이고,The surface haze of the vertical incident light is 0.1% or more and 5% or less, 전체 헤이즈가 5% 이상 25% 이하인 방현 필름.Anti-glare film whose total haze is 5% or more and 25% or less. 제1항에 있어서, 암부와 명부의 폭이 0.5 ㎜, 1.0 ㎜ 및 2.0 ㎜인 3종류의 광학 빗(optical comb)을 이용하여 빛의 입사각 45°에서 측정되는 반사 선명도의 합이 40% 이하인 방현 필름.The antiglare according to claim 1, wherein a sum of reflection sharpness measured at an angle of incidence of 45 ° of light using three types of optical combs having a width of 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm of a dark portion and a ridge is 40% or less. film. 제1항에 있어서, 방현층을 구성하는 요철 표면의 단면 곡선에서,The cross-sectional curve of the uneven surface constituting the antiglare layer according to claim 1, 산술 평균 높이(Pa)가 0.05 ㎛ 이상 0.2 ㎛ 이하이고,Arithmetic mean height Pa is 0.05 micrometer or more and 0.2 micrometer or less, 최대 단면 높이(Pt)가 0.2 ㎛ 이상 1 ㎛ 이하이며,Maximum cross-sectional height Pt is 0.2 micrometer or more and 1 micrometer or less, 평균 길이(PSm)가 15 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하인 방현 필름.Anti-glare film whose average length (PSm) is 15 micrometers or more and 30 micrometers or less. 제1항에 있어서, 방현층을 구성하는 요철 표면은, 200 ㎛×200 ㎛의 영역 내에 50개 이상 100개 이하의 볼록부를 갖는 방현 필름.The anti-glare film of Claim 1 which has 50 or more 100 convex parts in the area | region of 200 micrometers x 200 micrometers in the uneven surface which comprises an anti-glare layer. 제1항에 있어서, 방현층을 구성하는 요철 표면의 볼록부 정점을 모점으로 하여 그 표면을 보로노이 분할(Voronoi division)하였을 때에 형성되는 다각형의 평균 면적이 100 ㎛2 이상 1,000 ㎛2 이하인 방현 필름.The antiglare film according to claim 1, wherein the average area of the polygons formed when the surface is voronoi divided with the convex apexes of the uneven surface constituting the antiglare layer as a parent point is 100 µm 2 or more and 1,000 µm 2 or less. . 제1항에 있어서, 방현층의 표면 요철은 요철면을 갖는 금형으로부터의 전사에 의해 형성되어 있고, 또한, 상기 방현층은 바인더 수지 100 중량부에 대하여, 평균 입자 직경이 5 ㎛ 이상 15 ㎛ 이하이며, 바인더 수지와의 굴절률차가 0.01 이상 0.06 이하인 미립자를 10 중량부∼100 중량부 함유하고 있는 방현 필름.The surface irregularities of the antiglare layer are formed by transfer from a mold having an uneven surface, and the antiglare layer has an average particle diameter of 5 µm or more and 15 µm or less with respect to 100 parts by weight of the binder resin. The anti-glare film which contains 10 weight part-100 weight part of fine particles whose refractive index difference with binder resin is 0.01 or more and 0.06 or less. 제8항에 있어서, 상기 미립자는, 방현층 중에 완전히 매몰되고, 표면 형상에 영향을 끼치고 있지 않는 방현성 필름.The anti-glare film according to claim 8, wherein the fine particles are completely embedded in the anti-glare layer and do not affect the surface shape. 제1항에 있어서, 방현층의 요철 표면에 저반사막이 형성되어 있는 방현 필름.The antiglare film according to claim 1, wherein a low reflection film is formed on the uneven surface of the antiglare layer. 편광자와, 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 방현 필름이, 상기 방현 필름의 투명 지지체측에서 접합되어 있는 것을 특징으로 하는 방현성 편광판.A polarizer and the antiglare film as described in any one of Claims 1-10 are bonded by the transparent support body side of the said antiglare film, The anti-glare polarizing plate characterized by the above-mentioned. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에에 기재된 방현 필름 또는 제11항에 기재된 방현성 편광판과, 화상 표시 소자를 구비하고, 상기 방현 필름 또는 방현성 편광판이 그 방현층측을 외측으로 하여 화상 표시 소자의 시인(視認)측에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.The anti-glare film of any one of Claims 1-10 or the anti-glare polarizing plate of Claim 11, and an image display element are provided, The said anti-glare film or anti-glare polarizing plate is an image with the anti-glare layer side outside. It is arrange | positioned at the visual recognition side of a display element, The image display apparatus characterized by the above-mentioned.
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