JP4844254B2 - Anti-glare film and image display device - Google Patents
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
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Description
本発明は、優れた防眩性能を示しながらヘイズの低い防眩(アンチグレア)フィルム、及びその防眩フィルムを備えた画像表示装置に関するものである。 The present invention relates to an antiglare (antiglare) film having a low haze while exhibiting excellent antiglare performance, and an image display device including the antiglare film.
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、ブラウン管(陰極線管:CRT)ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイ等の画像表示装置は、その表示面に外光が写り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。このような外光の映り込みを防止するために、画質を重視するテレビやパーソナルコンピュータ、外光の強い屋外で使用されるビデオカメラやデジタルカメラ、反射光を利用して表示を行う携帯電話等においては、従来から画像表示装置の表面に外光の映り込みを防止するフィルム層が設けられていた。このフィルム層は、光学多層膜による干渉を利用した無反射処理が施されたフィルムからなるものと、表面に微細な凹凸を形成することにより入射光を散乱させて映り込み像をぼかす防眩処理が施されたフィルムからなるものとに大別される。このうち、前者の無反射フィルムは、均一な光学膜厚の多層膜を形成する必要があるため、コスト高になる。これに対して後者の防眩フィルムは、比較的安価に製造することができるため、大型のパーソナルコンピュータやモニタ等の用途に広く用いられている。 In an image display device such as a liquid crystal display, a plasma display panel, a cathode ray tube (CRT) display, and an organic electroluminescence (EL) display, visibility is significantly impaired when external light is reflected on the display surface. In order to prevent such reflection of external light, TVs and personal computers that emphasize image quality, video cameras and digital cameras used outdoors with strong external light, mobile phones that display using reflected light, etc. In the conventional art, a film layer for preventing the reflection of external light has been provided on the surface of the image display device. This film layer consists of a film that has been subjected to anti-reflection treatment using interference by the optical multilayer film, and anti-glare treatment that scatters incident light by blurring the incident light by forming fine irregularities on the surface. It is divided roughly into the thing which consists of the film which was given. Among these, the former non-reflective film needs to form a multilayer film having a uniform optical film thickness, and thus increases the cost. On the other hand, since the latter anti-glare film can be produced at a relatively low cost, it is widely used in applications such as large personal computers and monitors.
このような防眩フィルムは従来から、例えば、フィラーを分散させた樹脂溶液を基材シート上に塗布し、塗布膜厚を調整してフィラーを塗布膜表面に露出させることでランダムな凹凸をシート上に形成する方法などにより製造されている。しかしながら、このようなフィラーを分散させることにより製造された防眩フィルムは、樹脂溶液中のフィラーの分散状態や塗布状態等によって凹凸の配置や形状が左右されてしまうため、意図したとおりの凹凸を得ることが困難であり、ヘイズが低いものでは十分な防眩性能が得られないという問題があった。さらに、このような従来の防眩フィルムを画像表示装置の表面に配置した場合、散乱光によって表示面全体が白っぽくなり、表示が濁った色になる、いわゆる白ちゃけが発生しやすいという問題があった。また、最近の画像表示装置の高精細化に伴って、画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸形状が干渉し、結果として輝度分布が発生して見にくくなる、いわゆるギラツキ現象が発生しやすいという問題もあった。 Conventionally, such an antiglare film has, for example, a resin solution in which a filler is dispersed is applied on a base sheet, and the coating film thickness is adjusted to expose the filler on the surface of the coating film, thereby causing random unevenness on the sheet. It is manufactured by the method of forming on top. However, the antiglare film produced by dispersing such a filler has an unevenness as intended because the arrangement and shape of the unevenness depends on the dispersion state and application state of the filler in the resin solution. There is a problem that it is difficult to obtain, and sufficient anti-glare performance cannot be obtained if the haze is low. Furthermore, when such a conventional anti-glare film is disposed on the surface of an image display device, there is a problem that the entire display surface becomes whitish due to scattered light, and the display becomes cloudy, so-called whitening is likely to occur. It was. In addition, with recent high-definition image display devices, the pixels of the image display device and the surface irregularity shape of the antiglare film interfere with each other, and as a result, a so-called glare phenomenon that the luminance distribution is generated and is difficult to see easily occurs. There was also a problem.
一方、フィラーを含有させずに、透明樹脂層の表面に形成された微細な凹凸だけで防眩性を発現させる試みもある。例えば、特開 2002-189106号公報(特許文献1)には、エンボス鋳型と透明樹脂フィルムとの間に電離放射線硬化性樹脂を挟んだ状態で当該電離放射線硬化性樹脂を硬化させることにより、三次元10点平均粗さ及び、三次元粗さ基準面上における隣接する凸部どうしの平均距離が、それぞれ所定値を満足する微細な凹凸を形成させ、その凹凸が形成された電離放射線硬化性樹脂層を前記透明樹脂フィルム上に設けた形の防眩フィルムが開示されている。 On the other hand, there is also an attempt to develop anti-glare properties only by fine irregularities formed on the surface of the transparent resin layer without containing a filler. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-189106 (Patent Document 1) discloses that the ionizing radiation curable resin is cured in a state where the ionizing radiation curable resin is sandwiched between an embossing mold and a transparent resin film. An ionizing radiation curable resin in which fine irregularities are formed in which the average distance between adjacent convex portions on the original 10-point average roughness and the three-dimensional roughness reference surface satisfies predetermined values, respectively, and the irregularities are formed. An antiglare film having a layer provided on the transparent resin film is disclosed.
また、表示装置の表示面に配置される防眩フィルムではなく、液晶表示装置の背面側に配置される光拡散層として、表面に微細な凹凸が形成されたフィルムを用いることも、例えば、特開平 6-34961号公報(特許文献2)、特開 2004-45471 号公報(特許文献3)、特開 2004-45472 号公報(特許文献4)などに開示されている。 In addition, it is also possible to use a film having fine irregularities formed on the surface as a light diffusion layer disposed on the back side of the liquid crystal display device, instead of an antiglare film disposed on the display surface of the display device. It is disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 6-34961 (Patent Document 2), Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2004-45471 (Patent Document 3), Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2004-45472 (Patent Document 4), and the like.
フィルムの表面に凹凸を形成する手法として、上記特許文献3や特許文献4には、凹凸を反転させた形状を有するエンボスロールに電離放射線硬化性樹脂液を充填し、充填された樹脂にロール凹版の回転方向に同期して走行する透明基材を接触させ、透明基材がロール凹版に接触しているときに、ロール凹版と透明基材との間にある樹脂を硬化させ、硬化と同時に硬化樹脂と透明基材とを密着させた後、硬化後の樹脂と透明基材との積層体をロール凹版から剥離する方法が開示されている。 As a method for forming irregularities on the surface of the film, in Patent Document 3 and Patent Document 4 described above, an embossing roll having a shape obtained by inverting the irregularities is filled with an ionizing radiation curable resin liquid, and the filled resin is subjected to roll intaglio. The transparent base material that runs in synchronization with the rotation direction of the roller is brought into contact, and when the transparent base material is in contact with the roll intaglio, the resin between the roll intaglio and the transparent base material is cured and cured simultaneously with the curing. A method is disclosed in which after the resin and the transparent substrate are brought into close contact with each other, the laminate of the cured resin and the transparent substrate is peeled off from the roll intaglio.
このような手法では、用いることのできる電離放射線硬化性樹脂液の組成が限られ、また溶媒で希釈して塗布したときのようなレベリングが期待できないことから、膜厚の均一性に課題があることが予想される。さらに、エンボスロール凹版に直接樹脂液を充填する必要があることから、凹凸面の均一性を確保するためには、エンボスロール凹版に高い機械精度が要求され、エンボスロールの作製が難しいという課題があった。 In such a method, the composition of the ionizing radiation curable resin liquid that can be used is limited, and leveling as when applied by diluting with a solvent cannot be expected, so there is a problem in film thickness uniformity. It is expected that. Furthermore, since it is necessary to directly fill the embossing roll intaglio with the resin liquid, in order to ensure the uniformity of the uneven surface, the embossing roll intaglio requires high mechanical accuracy, and it is difficult to produce the embossing roll. there were.
次に、表面に凹凸を有するフィルムの作製に用いられるロールの作製方法として、例えば、前記特許文献2には、金属等を用いて円筒体を作り、その表面に、電子彫刻、エッチング、サンドブラストなどの手法により凹凸を形成する方法が開示されている。また、特開 2004-29240 号公報(特許文献5)には、ビーズショット法によってエンボスロールを作製する方法が開示されており、特開 2004-90187 号公報(特許文献6)には、エンボスロールの表面に金属めっき層を形成する工程、金属めっき層の表面を鏡面研磨する工程、鏡面研磨した金属めっき層面に、セラミックビーズを用いてブラスト処理を施す工程、さらに必要に応じてピーニング処理をする工程を経て、エンボスロールを作製する方法が開示されている。 Next, as a method for producing a roll used for producing a film having irregularities on the surface, for example, in Patent Document 2, a cylindrical body is made using a metal or the like, and electronic engraving, etching, sandblasting, or the like is formed on the surface. A method of forming irregularities by the above method is disclosed. Japanese Patent Laid-Open No. 2004-29240 (Patent Document 5) discloses a method for producing an emboss roll by a bead shot method, and Japanese Patent Laid-Open No. 2004-90187 (Patent Document 6) discloses an emboss roll. Forming a metal plating layer on the surface of the metal, mirror polishing the surface of the metal plating layer, blasting the mirror-plated metal plating layer with ceramic beads, and peening if necessary A method for producing an embossing roll through the steps is disclosed.
このようにエンボスロールの表面にブラスト処理を施したままの状態では、ブラスト粒子の粒径分布に起因する凹凸径の分布が生じるとともに、ブラストにより得られるくぼみの深さを制御することが困難であり、防眩機能に優れた凹凸の形状を再現性良く得ることに課題があった。 Thus, in the state where the surface of the embossing roll has been subjected to blasting, the uneven diameter distribution resulting from the particle size distribution of the blast particles occurs, and it is difficult to control the depth of the indentation obtained by blasting. In addition, there is a problem in obtaining an uneven shape having an excellent antiglare function with good reproducibility.
また、前記特許文献1には、好ましくは鉄の表面にクロムめっきしたローラーを用い、サンドブラスト法やビーズショット法により凹凸型面を形成することが記載されている。さらに、このように凹凸が形成された型面には、使用時の耐久性を向上させる目的で、クロムめっきなどを施してから使用することが好ましく、それにより硬膜化及び腐食防止を図ることができる旨の記載もある。一方、前記特許文献3や特許文献4のそれぞれ実施例には、鉄芯表面にクロムめっきし、#250の液体サンドブラスト処理をした後に、再度クロムめっき処理して、表面に微細な凹凸形状を形成することが記載されている。 Further, Patent Document 1 describes that a concavo-convex surface is formed by a sandblasting method or a bead shot method, preferably using a chrome-plated roller on the surface of iron. Furthermore, it is preferable to use the mold surface with the unevenness after applying chrome plating for the purpose of improving durability during use, thereby achieving hardening and corrosion prevention. There is also a statement that it is possible. On the other hand, in each of the examples of Patent Document 3 and Patent Document 4, the surface of the iron core is chrome-plated, subjected to # 250 liquid sandblasting, and then chrome-plated again to form a fine uneven shape on the surface. It is described to do.
このようなエンボスロールの作製法では、硬度の高いクロムめっき上にブラストやショットを行うため、凹凸が形成されにくく、しかも形成された凹凸の形状を精密に制御することが困難であった。また、特開 2004-29672 号公報(特許文献7)にも記載されるとおり、クロムめっきは、下地となる材質及びその形状に依存して表面が荒れることが多く、ブラストにより形成された凹凸上にクロムめっきで生じた細かいクラックが形成されるため、どのような凹凸ができるのか設計が難しいという課題があった。さらに、クロムめっきで生じる細かいクラックがあるため、最終的に得られる防眩フィルムの散乱特性が好ましくない方向に変化するという課題もあった。さらには、エンボスロール母材表面の金属種とめっき種の組合せにより、仕上がりのロール表面が多種多様に変化するため、必要とする表面凹凸形状を精度良く得るためには、適切なロール表面の金属種と適切なめっき種を選択しなければならないという課題もあった。さらにまた、望む表面凹凸形状が得られたとしても、めっき種によっては使用時の耐久性が不十分となることもあった。 In such an embossing roll manufacturing method, since blasting or shot is performed on chromium plating with high hardness, it is difficult to form unevenness and it is difficult to precisely control the shape of the formed unevenness. Further, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-29672 (Patent Document 7), the surface of chrome plating is often rough depending on the material and shape of the base, and the surface of the unevenness formed by blasting Since fine cracks generated by chrome plating are formed on the surface, there is a problem that it is difficult to design what kind of irregularities can be formed. Furthermore, since there are fine cracks generated by chrome plating, there is also a problem that the scattering characteristics of the finally obtained antiglare film change in an unfavorable direction. Furthermore, since the finished roll surface changes in various ways depending on the combination of the metal type and plating type on the surface of the embossing roll base material, in order to obtain the required surface irregularities with high accuracy, the metal on the appropriate roll surface is required. There was also a problem that a seed and an appropriate plating type had to be selected. Furthermore, even if the desired surface irregularity shape is obtained, the durability during use may be insufficient depending on the type of plating.
特開 2000-284106号公報(特許文献8)には、基材にサンドブラスト加工を施した後、エッチング工程及び/又は薄膜の積層工程を施すことが記載されている。また特開 2006-53371 号公報(特許文献9)には、研磨された金属の表面に微粒子をぶつけて凹凸を形成し、そこに無電界ニッケルメッキを施して金型とし、その金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写することにより、低ヘイズでありながら防眩性能に優れた防眩フィルムとすることが記載されている。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-284106 (Patent Document 8) describes performing an etching process and / or a thin film laminating process after sandblasting a base material. JP-A-2006-53371 (Patent Document 9) describes the formation of irregularities by hitting fine particles against a polished metal surface, and applying electroless nickel plating there to form a mold. It is described that by transferring the surface to a transparent resin film, the antiglare film has excellent antiglare performance while having low haze.
本発明は、優れた防眩性能を示しながら、低ヘイズであり、白ちゃけによる視認性の低下が防止され、高精細の画像表示装置の表面に配置したときにギラツキの発生しない防眩フィルムを提供し、さらには、その防眩フィルムを適用した画像表示装置を提供することを課題とする。 The present invention is an anti-glare film that exhibits excellent anti-glare performance, has low haze, prevents deterioration of visibility due to whitishness, and does not cause glare when placed on the surface of a high-definition image display device Furthermore, it is an object to provide an image display device to which the antiglare film is applied.
本出願人による2005年12月6日出願の特願 2005-351617号において、研磨された金属の表面に平均粒径が15〜35μm の範囲にある微粒子をぶつけて凹凸を形成し、その凹凸面に無電解ニッケルめっきを施して金型とし、その金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写する方法により、優れた防眩性能を示す防眩フィルムが得られることを提案している。同じく2006年3月8日出願の特願 2006-62440 号において、基材表面に銅めっき又はニッケルめっきを施し、そのめっき面を研磨し、その研磨面に微粒子をぶつけて凹凸を形成し、その凹凸形状を鈍らせる加工を施した後、その凹凸面にクロムめっきを施す方法により、低ヘイズで防眩性能に優れた防眩フィルムを製造するのに有効な金型が得られることを提案している。これらの方法、特に後者の方法をベースに、さらに研究を重ねた結果、例えば、微粒子をぶつける際の条件などを適切に選択すれば、正反射率が比較的小さく、反射プロファイルに広がりを持つ防眩フィルムが得られ、この防眩フィルムは、より一層優れた防眩性能を示し、特に視角を変化させていっても表示画像の変化が少ないものとなることを見出した。そして、その防眩性能を好適に評価できる指標も見出した。本発明は、かかる知見に基づき、さらに種々の検討を加えて完成されたものである。 In Japanese Patent Application No. 2005-351617 filed on Dec. 6, 2005 by the present applicant, fine particles having an average particle size in the range of 15 to 35 μm are applied to the polished metal surface to form irregularities, and the irregular surface It has been proposed that an anti-glare film exhibiting excellent anti-glare performance can be obtained by applying electroless nickel plating to a mold and transferring the uneven surface of the mold to a transparent resin film. Similarly, in Japanese Patent Application No. 2006-62440 filed on Mar. 8, 2006, the surface of the substrate is subjected to copper plating or nickel plating, the plated surface is polished, and fine particles are applied to the polished surface to form irregularities. Proposed that after the process of dulling the uneven shape, by applying chrome plating to the uneven surface, a mold effective for producing an anti-glare film with low haze and excellent anti-glare performance can be obtained. ing. As a result of further research based on these methods, especially the latter method, for example, if the conditions for hitting fine particles are appropriately selected, the regular reflectance is relatively small and the reflection profile has a wide spread. It was found that a dazzling film was obtained, and this antiglare film exhibited even better antiglare performance, and in particular, the change in display image was small even when the viewing angle was changed. And the index which can evaluate the anti-glare performance suitably was also found. The present invention has been completed based on such findings and further various studies.
すなわち、本発明による防眩フィルムは、表面に凹凸が形成されてなり、入射角30゜で入射した光に対し、反射角30゜の反射率R(30)が0.04%以上0.2%以下で、反射角40゜の反射率R(40)が 0.005%以上 0.02%以下で、反射角50゜の反射率R(50)が 0.0015%以下であり、かつ、次の(1)〜(7)のいずれかの要件を満たすものである。 That is, the antiglare film according to the present invention has irregularities on the surface, and the reflectance R (30) at a reflection angle of 30 ° is 0.04% or more and 0.2 with respect to light incident at an incident angle of 30 °. %, The reflectance R (40) at a reflection angle of 40 ° is 0.005% or more and 0.02% or less, the reflectance R (50) at a reflection angle of 50 ° is 0.0015% or less, and It satisfies any one of the following requirements (1) to (7).
(1)入射角30゜で入射した光に対する反射角35°の方向の反射率をR(35)として、R(35)/R(30)の値が0.4以上0.8以下であること、
(2)フィルム凹凸表面の任意の断面曲線における算術平均高さPa が 0.09μm 以上0.21μm以下であること、
(3)フィルム凹凸表面の任意の断面曲線における最大断面高さPtが0.5μm以上1.2μm以下であること、
(4)フィルム凹凸表面の任意の断面曲線における平均長さPSm が12μm以上20μm以下であること、
(5)フィルムの凹凸表面における各点の標高をヒストグラムで表したときに、ヒストグラムのピークが、最高点(高さ100%)と最低点(高さ0%)の中間点(高さ50%)を中心に±10%以内の範囲に存在すること、
(6)200μm×200μmの領域内に150個以上350個以下の凸部を有すること、
(7)フィルム表面凹凸の凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割したときに形成される多角形の平均面積が100μm2以上300μm2以下であること。
(1) The value of R (35) / R (30) is not less than 0.4 and not more than 0.8, where R (35) is the reflectance in the direction of a reflection angle of 35 ° with respect to light incident at an incident angle of 30 °. thing,
(2) Arithmetic mean height Pa in an arbitrary cross-sectional curve of the film uneven surface is from 0.09 μm to 0.21 μm,
(3) The maximum cross-sectional height Pt in an arbitrary cross-sectional curve on the film uneven surface is 0.5 μm or more and 1.2 μm or less,
(4) The average length PSm in an arbitrary cross-sectional curve of the film uneven surface is 12 μm or more and 20 μm or less,
(5) When the elevation of each point on the uneven surface of the film is represented by a histogram, the peak of the histogram is the midpoint (50% height) between the highest point (height 100%) and the lowest point (height 0%). ) Around ± 10%
(6) having 150 to 350 convex portions in a 200 μm × 200 μm region;
(7) The average area of the polygon formed when the surface is Voronoi-divided with the vertex of the convex portion of the film surface unevenness as the base point is 100 μm 2 or more and 300 μm 2 or less.
これらのうち、二つ又はそれ以上を満たすことは一層有効であり、さらには、これらの要件全てを満たすことも有効である。これらの中でも、(1)のR(35)/R(30)の値が0.4以上0.8以下であるという要件は、重要である。 It is more effective to satisfy two or more of these, and it is also effective to satisfy all of these requirements. Among these, the requirement that the value of R (35) / R (30) in (1) is 0.4 or more and 0.8 or less is important.
この防眩フィルムは、垂直入射光に対するヘイズを3%以上20%以下にすることができる。またこの防眩フィルムは、暗部と明部の幅が0.5mm、1.0mm及び2.0mm である3種類の光学くしを用いて光の入射角45°で測定される反射鮮明度の和を30%以下とすることができる。 This anti-glare film can make haze with respect to perpendicular incident light 3% or more and 20% or less. This anti-glare film is a sum of reflection sharpness measured at a light incident angle of 45 ° using three types of optical combs having a dark portion and a bright portion width of 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm. Can be made 30% or less.
この防眩フィルムは、金属の表面に銅めっき又はニッケルめっきを施し、そのめっき表面を研磨した後、その研磨面に微粒子をぶつけて凹凸を形成し、その凹凸形状を鈍らせる加工を施した後、その凹凸面にクロムめっきを施して金型とし、その金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写し、次いでその凹凸が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がす方法により、有利に製造される。 This anti-glare film is subjected to copper plating or nickel plating on the surface of the metal, and after polishing the plated surface, bumps are formed on the polished surface to form irregularities and the irregularities are dulled. It is manufactured advantageously by applying chromium plating to the uneven surface to make a mold, transferring the uneven surface of the mold to a transparent resin film, and then peeling the transparent resin film with the uneven surface transferred from the mold. The
この金型の作製にあたり、研磨された銅又はニッケルめっき表面にぶつける微粒子は、平均粒径が10〜50μm のもの、特に球形のものが好ましく、微粒子をぶつける際の圧力は、ゲージ圧で0.1〜0.4MPa 程度とするのが好ましい。また、微粒子をぶつけることにより形成された凹凸形状を鈍らせる加工には、エッチング処理又は銅めっきを採用するのが有利である。エッチング処理を採用する場合、エッチング量は1μm 以上20μm 以下、さらには2μm 以上10μm 以下であることが好ましい。一方、銅めっきを採用する場合、その厚みは1μm 以上20μm 以下、さらには4μm 以上10μm 以下であることが好ましい。 In the production of this mold, the fine particles hitting the polished copper or nickel plating surface are preferably those having an average particle diameter of 10 to 50 μm, particularly spherical, and the pressure at the time of hitting the fine particles is 0 in gauge pressure. It is preferably about 1 to 0.4 MPa. Moreover, it is advantageous to employ an etching process or copper plating for the process of dulling the uneven shape formed by hitting the fine particles. When the etching process is employed, the etching amount is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 10 μm or less. On the other hand, when copper plating is employed, the thickness is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 4 μm or more and 10 μm or less.
この方法において、クロムめっき後に表面を研磨せず、そのままクロムめっき面を金型の凹凸面として用いるのが有利である。クロムめっきの厚みは、1μm以上10μm以下、さらには2μm以上8μm以下であることが好ましい。金型の凹凸面を転写する透明樹脂フィルムは、透明基材フィルムの表面に光硬化性樹脂層が形成されたもので構成し、その光硬化性樹脂層を金型の凹凸面に押し付けながら硬化させることにより、金型の凹凸面を光硬化性樹脂層に転写することができる。 In this method, it is advantageous to use the chrome-plated surface as the uneven surface of the mold without polishing the surface after chrome plating. The thickness of the chromium plating is preferably 1 μm or more and 10 μm or less, more preferably 2 μm or more and 8 μm or less. The transparent resin film that transfers the uneven surface of the mold consists of a transparent base film with a photocurable resin layer formed on it, and is cured while pressing the photocurable resin layer against the uneven surface of the mold. By doing so, the uneven surface of the mold can be transferred to the photocurable resin layer.
本発明の防眩フィルムは、液晶表示素子、プラズマディスプレイパネルなどの画像表示手段と組み合わせて、画像表示装置とすることができる。そこで本発明による画像表示装置は、前記の防眩フィルムと画像表示手段とを備え、その防眩フィルムが画像表示手段の視認側に配置されているものである。 The antiglare film of the present invention can be combined with an image display means such as a liquid crystal display element or a plasma display panel to form an image display device. Therefore, an image display apparatus according to the present invention includes the above-described antiglare film and image display means, and the antiglare film is disposed on the viewing side of the image display means.
本発明の防眩フィルムは、十分な映り込み防止や反射防止性能を示しながらも、ヘイズが低く、表示画像の明るさを保ちながら、白ちゃけ及びギラツキの抑制など、防眩性能に優れたものとなる。そして、本発明の防眩フィルムを配置した画像表示装置は、明るさや防眩性能、視認性に優れている。 The anti-glare film of the present invention is excellent in anti-glare performance such as suppression of whitish and glare while maintaining a brightness of a display image while having a low haze and exhibiting sufficient anti-reflection and anti-reflection performance. It will be a thing. And the image display apparatus which has arrange | positioned the anti-glare film of this invention is excellent in brightness, anti-glare performance, and visibility.
以下、本発明の好適な実施形態について、詳細に説明する。本発明の防眩フィルムは、表面に微細な凹凸が形成されてなり、入射角30゜で入射した光に対して、反射角30゜の反射率R(30)が0.04%以上0.2%以下で、反射角40゜の反射率R(40)が0.005%以上0.02%以下で、反射角50゜の反射率R(50)が 0.0015%以下であり、かつ次の(1)〜(7)のうち少なくとも一つの要件を満たすものである。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. The antiglare film of the present invention has fine irregularities formed on the surface, and the reflectance R (30) at a reflection angle of 30 ° with respect to light incident at an incident angle of 30 ° is 0.04% or more and 0.0. 2% or less, the reflectance R (40) at a reflection angle of 40 ° is 0.005% or more and 0.02% or less, the reflectance R (50) at a reflection angle of 50 ° is 0.0015% or less, and It satisfies at least one of the following (1) to (7).
(1)入射角30゜で入射した光に対する反射角35°の方向の反射率をR(35)として、R(35)/R(30)の値が0.4以上0.8以下であること、
(2)フィルム凹凸表面の任意の断面曲線における算術平均高さPa が 0.09μm 以上0.21μm以下であること、
(3)フィルム凹凸表面の任意の断面曲線における最大断面高さPtが0.5μm以上1.2μm 以下であること、
(4)フィルム凹凸表面の任意の断面曲線における平均長さPSm が12μm以上20μm以下であること、
(5)フィルムの凹凸表面における各点の標高をヒストグラムで表したときに、ヒストグラムのピークが、最高点(高さ100%)と最低点(高さ0%)の中間点(高さ50%)を中心に±10%以内の範囲に存在すること、
(6)200μm×200μmの領域内に150個以上350個以下の凸部を有すること、
(7)フィルム表面凹凸の凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割したときに形成される多角形の平均面積が100μm2以上300μm2 以下であること。
(1) The value of R (35) / R (30) is not less than 0.4 and not more than 0.8, where R (35) is the reflectance in the direction of a reflection angle of 35 ° with respect to light incident at an incident angle of 30 °. thing,
(2) Arithmetic mean height Pa in an arbitrary cross-sectional curve of the film uneven surface is from 0.09 μm to 0.21 μm,
(3) The maximum cross-sectional height Pt in an arbitrary cross-sectional curve on the film uneven surface is 0.5 μm or more and 1.2 μm or less,
(4) The average length PSm in an arbitrary cross-sectional curve of the film uneven surface is 12 μm or more and 20 μm or less,
(5) When the elevation of each point on the uneven surface of the film is represented by a histogram, the peak of the histogram is the midpoint (50% height) between the highest point (height 100%) and the lowest point (height 0%). ) Around ± 10%
(6) having 150 to 350 convex portions in a 200 μm × 200 μm region;
(7) The average area of the polygon formed when the surface is Voronoi-divided with the vertex of the convex portion of the film surface unevenness as the base point is 100 μm 2 or more and 300 μm 2 or less.
これらのうち、(1)は、反射率特性に関する第四の因子であり、また(2)〜(7)は、表面凹凸の形状に関する因子である。 Among these, (1) is a fourth factor related to the reflectance characteristic, and (2) to (7) are factors related to the shape of the surface unevenness.
まず、防眩性能を好適に評価できる指標について説明する。図1は、防眩フィルムに対する光の入射方向と反射方向とを模式的に示した斜視図である。本発明では、防眩フィルム11の法線12から30°の角度で入射した入射光13に対し、反射角30°の方向、すなわち正反射方向15における反射率(つまり正反射率)をR(30)、反射角35゜の方向における反射率をR(35)、反射角40゜の方向における反射率をR(40)、反射角50゜の方向における反射率をR(50)としたときに、R(30)が 0.04%以上 0.2%以下で、R(40)が 0.005%以上 0.02%以下で、R(50)が
0.0015%以下となるようにし、かつ一つの形態では、R(35)/R(30)の値が0.4以上0.8以下となるようにする。これらの要件を満たすことによって、十分な防眩性を示しながら低ヘイズであり、白ちゃけ及びギラツキの抑えられた防眩フィルムが得られることがわかった。図1では、任意の反射角θでの反射光を符号16で表しており、反射率を測定するときの反射光の方向15,16は、入射光の方向13と法線12とを含む面18内とする。
First, an index that can favorably evaluate the antiglare performance will be described. FIG. 1 is a perspective view schematically showing an incident direction and a reflection direction of light with respect to the antiglare film. In the present invention, with respect to incident light 13 incident at an angle of 30 ° from the normal 12 of the antiglare film 11, the reflectance (that is, the regular reflectance) in the direction of the reflection angle of 30 °, that is, the regular reflection direction 15 is R ( 30) When the reflectance in the direction of the reflection angle of 35 ° is R (35), the reflectance in the direction of the reflection angle of 40 ° is R (40), and the reflectance in the direction of the reflection angle of 50 ° is R (50). R (30) is 0.04% or more and 0.2% or less, R (40) is 0.005% or more and 0.02% or less, and R (50) is 0.0015% or less. In one embodiment, the value of R (35) / R (30) is 0.4 or more and 0.8 or less. By satisfying these requirements, it was found that an anti-glare film having a low haze while exhibiting sufficient anti-glare properties and with reduced whiteness and glare was obtained. In FIG. 1, the reflected light at an arbitrary reflection angle θ is represented by reference numeral 16, and the directions 15 and 16 of the reflected light when the reflectance is measured are planes including the incident light direction 13 and the normal 12. 18.
図2は、図1における防眩フィルム11の法線12から30゜の角度で入射した入射光13に対する反射光16の、反射角と反射率(反射率は対数目盛)をプロットしたグラフの一例である。このような反射角と反射率の関係を表すグラフ、又はそれから読み取られる反射角毎の反射率を、反射プロファイルと呼ぶことがある。このグラフに示した如く、正反射率R(30)は30゜で入射した入射光13に対する反射率のピークであり、正反射方向から角度がずれるほど反射率は低下する傾向にある。 FIG. 2 is an example of a graph in which the reflection angle and the reflectance (the reflectance is a logarithmic scale) of the reflected light 16 with respect to the incident light 13 incident at an angle of 30 ° from the normal line 12 of the antiglare film 11 in FIG. It is. Such a graph representing the relationship between the reflection angle and the reflectance, or the reflectance for each reflection angle read from the graph may be referred to as a reflection profile. As shown in this graph, the regular reflectance R (30) is a reflectance peak with respect to incident light 13 incident at 30 °, and the reflectance tends to decrease as the angle deviates from the regular reflection direction.
正反射率R(30)が0.04%以上0.2%以下で、反射角40゜の反射率R(40)が 0.005%以上 0.02%以下で、反射角50゜の反射率R(50)が 0.0015%以下で、かつR(35)/R(30)の値が0.4以上0.8以下であるという点について説明すると、これらの要件を満たす反射プロファイルの形状は、正反射率R(30)が低く、正反射角近傍での傾きが小さく、正反射率に対して1/10程度の反射率となる角度が正反射方向から±10°程度の広がりを持ちながらも、広角側での反射率が低く抑えられたものとなる。反射プロファイルをこのような形状にすることによって、低ヘイズでありながら優れた防眩性を示す防眩フィルムとなる。反射プロファイルがこのような形状を示さない場合、すなわち、正反射角近傍での傾きが大きく、正反射率に対して1/10程度の反射率となる角度が正反射方向から±10°程度の広がりを持たない場合には、正反射方向からわずかに角度が変化することにより急激に反射率が低下することを意味し、結果として反射像が映り込むことになりやすい。 Reflection with regular reflectance R (30) of 0.04% or more and 0.2% or less, reflectance R (40) with a reflection angle of 40 ° of 0.005% or more and 0.02% or less, and reflection angle of 50 ° The point that the rate R (50) is 0.0015% or less and the value of R (35) / R (30) is 0.4 or more and 0.8 or less will be described. The shape is such that the regular reflectance R (30) is low, the inclination near the regular reflection angle is small, and the angle at which the reflectance is about 1/10 of the regular reflectance is spread about ± 10 ° from the regular reflection direction. The reflectance on the wide-angle side is kept low while holding. By setting the reflection profile to such a shape, an antiglare film exhibiting excellent antiglare properties while having a low haze is obtained. When the reflection profile does not show such a shape, that is, the inclination near the regular reflection angle is large, and the angle at which the reflectance is about 1/10 of the regular reflectance is about ± 10 ° from the regular reflection direction. When there is no spread, it means that the reflectivity is drastically decreased due to a slight change in angle from the regular reflection direction, and as a result, a reflected image tends to appear.
具体的には、本発明の防眩フィルムに対して任意の光源を反射させた場合に、正反射角±10°程度の範囲において正反射光に近い反射光量が得られ、結果として光源の像を十分に散乱させ、ぼかすことができる。一方、正反射角近傍での傾きが大きく、広がった反射プロファイルを示さない防眩フィルムに任意の光源を反射させた場合には、正反射方向からわずかに角度を変化させることによって、急激に光源からの反射光が減少する。これは正反射光と周辺の区別が明確に行えること、すなわち、反射光が結像して映り込むことを意味する。 Specifically, when an arbitrary light source is reflected on the antiglare film of the present invention, a reflected light amount close to regular reflection light is obtained in a range of regular reflection angle of ± 10 °, and as a result, an image of the light source Can be sufficiently scattered and blurred. On the other hand, when an arbitrary light source is reflected on an anti-glare film that has a large inclination near the regular reflection angle and does not show a widened reflection profile, the light source is drastically changed by slightly changing the angle from the regular reflection direction. The reflected light from the is reduced. This means that the regular reflection light can be clearly distinguished from the surroundings, that is, the reflected light is imaged and reflected.
正反射率R(30)については、それが 0.2%を超えると、十分な防眩機能が得られず、視認性が低下してしまう。一方、正反射率R(30)が小さすぎると白ちゃけが発生する傾向を示すことから、 0.04%以上とする。R(40)については、それが大きすぎると白ちゃけが起こりやすくなるので、 0.02%以下とする。一方、R(40)が小さすぎると十分な防眩性を示さなくなることから、 0.005%以上とする。R(50)については、それが大きすぎると白ちゃけが起こりやすくなるため、 0.0015%以下とする。白ちゃけの観点からは、R(50)は小さければ小さいほど好ましいが、現実的には下限は 0.00001%程度となる。R(35)/R(30)の値は、図1における30°付近の傾き、すなわち正反射角近傍での傾きに対応している。なぜなら、図1において、反射率は対数目盛で示されているためである。反射プロファイルの正反射角近傍での傾きが急峻である場合、すなわち、R(35)/R(30)の値が0.4 を下回る場合には、光源の反射が正反射角近傍で急激に低下することを意味し、結果として反射像が映り込んで、防眩性が低下することになる。映り込み防止効果のみに着目すれば、正反射角近傍での傾きが略0であること、すなわちR(35)/R(30)の値が略1であることが好ましいが、R(35)/R(30)の値が 0.8を上回ると白ちゃけが発生しやすくなるため、この値は 0.8以下とするのが好ましい。 About regular reflectance R (30), when it exceeds 0.2%, sufficient anti-glare function will not be obtained and visibility will fall. On the other hand, if the regular reflectance R (30) is too small, it tends to cause whitening, so the content is set to 0.04% or more. About R (40), if it is too large, whitening tends to occur. Therefore, the content is set to 0.02% or less. On the other hand, if R (40) is too small, sufficient antiglare properties will not be exhibited, so the content is made 0.005% or more. About R (50), if it is too large, whitening tends to occur, so the content is set to 0.0015% or less. From the viewpoint of whitishness, R (50) is preferably as small as possible, but practically the lower limit is about 0.0001%. The value of R (35) / R (30) corresponds to the inclination near 30 ° in FIG. 1, that is, the inclination near the regular reflection angle. This is because the reflectance is shown on a logarithmic scale in FIG. When the inclination of the reflection profile near the regular reflection angle is steep, that is, when the value of R (35) / R (30) is less than 0.4, the reflection of the light source is abruptly reflected near the regular reflection angle. As a result, the reflected image is reflected and the antiglare property is lowered. Focusing only on the anti-reflection effect, it is preferable that the inclination in the vicinity of the regular reflection angle is approximately 0, that is, the value of R (35) / R (30) is approximately 1, but R (35). When the value of / R (30) exceeds 0.8, whitening is likely to occur. Therefore, this value is preferably set to 0.8 or less.
図2に示す反射プロファイルの例においては、正反射率R(30)が約 0.074%、R(40)が約 0.013%、R(50)が約 0.0004%となっている。そして、R(35)/R(30)の値は約 0.6である。 In the example of the reflection profile shown in FIG. 2, the regular reflectance R (30) is about 0.074%, R (40) is about 0.013%, and R (50) is about 0.0004%. . The value of R (35) / R (30) is about 0.6.
本発明者らの調査によれば、現在市中に出回っている防眩フィルムの大部分は、フィラーを分散させたタイプであり、そのようなタイプでは、正反射率R(30)が 0.04%以上 0.2%以下、反射角40゜の反射率R(40)が0.005%以上0.02%以下、反射角50゜の反射率R(50)が 0.0015%以下で、かつR(35)/R(30)の値が0.4以上0.8以下であるものは存在せず、結果として十分な防眩性能と低いヘイズを兼備する防眩フィルムはなかった。これに対し、本発明で規定する防眩フィルムは、十分な防眩性能を示しながらも、ヘイズが低く、白ちゃけ及びギラツキの抑制という性能を兼ね備えるものであることがわかった。 According to the present inventors' investigation, most of the antiglare films currently on the market are of a type in which filler is dispersed, and in such a type, the regular reflectance R (30) is 0. 04% or more and 0.2% or less, reflectance R (40) at a reflection angle of 40 ° is 0.005% or more and 0.02% or less, and reflectance R (50) at a reflection angle of 50 ° is 0.0015% or less. Moreover, there was no film having a value of R (35) / R (30) of 0.4 or more and 0.8 or less, and as a result, there was no antiglare film having sufficient antiglare performance and low haze. On the other hand, it has been found that the antiglare film defined in the present invention has a low haze and a function of suppressing whitening and glare while exhibiting sufficient antiglare performance.
防眩フィルムの反射率を測定するにあたっては、 0.001%以下の反射率を精度良く測定することが必要である。そこで、ダイナミックレンジの広い検出器の使用が有効である。このような検出器としては、例えば、市販の光パワーメーターなどを用いることができ、この光パワーメーターの検出器前にアパーチャーを設け、防眩フィルムを見込む角度が2°になるようにした変角光度計を用いて測定を行うことができる。入射光としては、380〜780nmの可視光線を用いることができ、測定用光源としては、ハロゲンランプ等の光源から出た光をコリメートしたものを用いてもよいし、レーザーなどの単色光源で平行度の高いものを用いてもよい。裏面が平滑で透明な防眩フィルムの場合は、防眩フィルム裏面からの反射が測定値に影響を及ぼすことがあるため、例えば、黒色のアクリル樹脂板に防眩フィルムの平滑面を粘着剤又は水やグリセリン等の液体を用いて光学密着させることにより、防眩フィルム最表面の反射率のみが測定できるようにするのが好ましい。 In measuring the reflectance of the antiglare film, it is necessary to accurately measure the reflectance of 0.001% or less. Therefore, it is effective to use a detector with a wide dynamic range. As such a detector, for example, a commercially available optical power meter can be used, and an aperture is provided in front of the detector of the optical power meter so that the angle at which the antiglare film is viewed is 2 °. Measurements can be made using an angle photometer. As incident light, visible light of 380 to 780 nm can be used, and as a measurement light source, collimated light emitted from a light source such as a halogen lamp may be used, or a monochromatic light source such as a laser is used in parallel. A high degree may be used. In the case of an antiglare film having a smooth and transparent back surface, reflection from the back surface of the antiglare film may affect the measured value. For example, the smooth surface of the antiglare film is adhered to a black acrylic resin plate with an adhesive or It is preferable that only the reflectance on the outermost surface of the antiglare film can be measured by optical adhesion using a liquid such as water or glycerin.
また、本発明の防眩フィルムは、正反射率R(30)が0.04%以上0.2%以下で、R(40)が0.005%以上0.02%以下で、R(50)が 0.0015%以下であることに加えて、先の(2)〜(7)に示した形状因子のうち少なくとも一つを満たすようにすることによっても達成することが可能である。 The antiglare film of the present invention has a regular reflectance R (30) of 0.04% to 0.2%, R (40) of 0.005% to 0.02%, and R (50 ) Is 0.0015% or less, and can be achieved by satisfying at least one of the shape factors shown in the above (2) to (7).
まず、(2)のフィルム凹凸表面の任意の断面曲線における算術平均高さPaが0.09μm 以上0.21μm以下であるという要件、(3)の同じく任意の断面曲線における最大断面高さPt が0.5μm以上1.2μm以下であるという要件、及び(4)の同じく任意の断面曲線における平均長さPSm が12μm以上20μm以下であるという要件について説明する。これらの算術平均高さPa、最大断面高さPt及び平均長さPSm は、JIS B 0601(=ISO 4287)に規定されるものであり、算術平均高さPa は、中心線平均粗さと呼称されていた値と同じである。 First, the requirement that the arithmetic average height Pa in an arbitrary cross-sectional curve of the film uneven surface of (2) is 0.09 μm or more and 0.21 μm or less, and the maximum cross-sectional height Pt in the same arbitrary cross-sectional curve of (3) The requirement that it is 0.5 μm or more and 1.2 μm or less and the requirement that the average length PSm in the same arbitrary sectional curve in (4) is 12 μm or more and 20 μm or less will be described. These arithmetic average height Pa, maximum section height Pt, and average length PSm are defined in JIS B 0601 (= ISO 4287), and arithmetic average height Pa is called centerline average roughness. It is the same as the previous value.
凹凸表面の断面曲線における算術平均高さPa が0.09μm未満である場合には、防眩フィルム表面がほぼ平坦となり、十分な防眩性能を示さなくなるので、好ましくない。また、算術平均高さPa が0.21μmより大きい場合には、表面形状が粗くなり、白ちゃけやギラツキなどの問題が発生するので、やはり好ましくない。凹凸表面の断面曲線における最大断面高さPt が0.5μm未満である場合には、やはり防眩フィルム表面がほぼ平坦となり、十分な防眩性能を示さなくなるので、好ましくない。また、最大断面高さPt が1.2μmより大きい場合には、やはり表面形状が粗くなり、白ちゃけやギラツキなどの問題が発生するので、好ましくない。凹凸表面の断面曲線における平均長さPSmが12μm未満である場合には、表面形状が粗くなり、白ちゃけやギラツキなどの問題が発生するので、好ましくない。また、平均長さPSmが20μmより大きい場合には、やはり防眩フィルム表面がほぼ平坦となり、十分な防眩性能を示さなくなるので、好ましくない。 When the arithmetic average height Pa in the cross-sectional curve of the uneven surface is less than 0.09 μm, the antiglare film surface becomes almost flat and does not exhibit sufficient antiglare performance, which is not preferable. Further, when the arithmetic average height Pa is larger than 0.21 μm, the surface shape becomes rough, and problems such as whitening and glare occur, which is also not preferable. When the maximum cross-sectional height Pt in the cross-sectional curve of the uneven surface is less than 0.5 μm, the anti-glare film surface is still almost flat and does not exhibit sufficient anti-glare performance, which is not preferable. On the other hand, when the maximum cross-sectional height Pt is larger than 1.2 μm, the surface shape becomes too rough and problems such as whitening and glare occur, which is not preferable. When the average length PSm in the cross-sectional curve of the uneven surface is less than 12 μm, the surface shape becomes rough and problems such as whitening and glare occur, which is not preferable. On the other hand, when the average length PSm is larger than 20 μm, the surface of the antiglare film becomes substantially flat and does not exhibit sufficient antiglare performance, which is not preferable.
凹凸表面の断面曲線における算術平均高さPa 、平均長さPSm 及び最大断面高さPt は、 JIS B 0601 に準拠し、市販の一般的な接触式表面粗さ計を用いて測定することができる。また、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope :AFM)などの装置により表面形状を測定し、その表面形状の三次元情報から計算により求めることも可能である。なお、三次元情報から計算する場合には、十分な基準長さを確保するために、200μm ×200μm 以上の領域を3点以上測定し、その平均値をもって測定値とすることが好ましい。 The arithmetic average height Pa, average length PSm, and maximum cross-sectional height Pt in the cross-sectional curve of the uneven surface can be measured using a commercially available general contact surface roughness meter in accordance with JIS B 0601. . It is also possible to measure the surface shape with an apparatus such as a confocal microscope, an interference microscope, or an atomic force microscope (AFM), and obtain the value by calculation from the three-dimensional information of the surface shape. In addition, when calculating from three-dimensional information, in order to ensure sufficient reference length, it is preferable to measure three or more areas of 200 μm × 200 μm or more and use the average value as a measurement value.
次に、(5)のフィルム凹凸表面における各点の標高をヒストグラムで表したときに、ヒストグラムのピークが、最高点(高さ100%)と最低点(高さ0%)の中間点(高さ50%)を中心に±10%以内の範囲に存在するという要件について説明する。この要件は、ヒストグラムのピークが、最高点の標高と最低点の標高との差(最大標高)に対して40%から60%の範囲にあることを意味する。中間点から±10%以内にピークが存在しない場合、換言すれば、ピークが、最大標高に対して60%より大きい位置又は40%より小さい位置に現れる場合には、結果として表面形状が粗くなり、ギラツキが発生しやすくなるので、好ましくない。また、外観の質感も低下する傾向にある。 Next, when the altitude of each point on the film uneven surface of (5) is represented by a histogram, the peak of the histogram is an intermediate point (high) between the highest point (height 100%) and the lowest point (height 0%). The requirement of being within a range of ± 10% centering on 50%) will be described. This requirement means that the peak of the histogram is in the range of 40% to 60% relative to the difference between the highest and lowest points (maximum elevation). If there is no peak within ± 10% from the midpoint, in other words, if the peak appears at a position greater than 60% or less than 40% relative to the maximum elevation, the surface shape will be rough as a result. Since glare is likely to occur, it is not preferable. In addition, the texture of the appearance tends to be reduced.
標高のヒストグラムを求めるにあたっては、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡(AFM)などの装置により表面形状を測定し、防眩フィルム表面の各点の三次元的な座標値を求めてから、以下に示すアルゴリズムにより決定する。すなわち、防眩フィルム表面の標高の最高点と最低点を求めた後、測定点の標高と最低点の標高との差(その点の高さ)を、最高点と最低点の差(最大標高)で除することによって、各点の相対的な高さを求める。求められた相対的な高さを、最高点を100%、最低点を0%としたヒストグラムで表すことによって、ヒストグラムのピーク位置を求める。ヒストグラムは、ピーク位置がデータの誤差の影響を受けない程度に分割する必要があり、10〜30程度に分割して表示することが好ましい。なお測定に際しては、誤差を少なくするため、200μm ×200μm 以上の領域を3点以上測定し、その平均値をもって測定値とすることが好ましい。 In determining the elevation histogram, the surface shape is measured with a confocal microscope, interference microscope, atomic force microscope (AFM), etc., and the three-dimensional coordinate values of each point on the surface of the antiglare film are obtained. It is determined by the algorithm shown below. That is, after obtaining the highest and lowest elevations on the antiglare film surface, the difference between the elevation of the measurement point and the lowest point (the height of that point) is the difference between the highest and lowest points (maximum elevation). ) To obtain the relative height of each point. The peak position of the histogram is obtained by expressing the obtained relative height as a histogram with the highest point being 100% and the lowest point being 0%. The histogram needs to be divided so that the peak position is not affected by the data error, and is preferably divided into about 10 to 30 for display. In measurement, in order to reduce an error, it is preferable to measure three or more regions of 200 μm × 200 μm or more and use the average value as a measured value.
図3に標高のヒストグラムの例を示す。この図において、横軸は、上述した最高点の標高と最低点の標高との差(最大標高)に対する測定点の高さの割合(単位%)であって、5%刻みで分割してある。例えば、一番左の縦棒は、高さの割合が0〜5%の範囲にある集合の分布を示し、以下、右へ行くにつれて高さの割合が5%ずつ大きくなっている。図では、横軸の3区切り毎に目盛を表示している。縦軸は、高さの分布を表し、積分すれば1になる値である。この例では、ピーク位置は最大標高に対して45%〜50%の位置に現れている。なお、後述する実施例及び比較例のヒストグラムを示す図11、図13、図15、図17及び図19も、表示のし方は図3と同様である。 FIG. 3 shows an example of an elevation histogram. In this figure, the horizontal axis represents the ratio (unit%) of the height of the measurement point to the difference (maximum elevation) between the above-mentioned highest and lowest points, and is divided in increments of 5%. . For example, the leftmost vertical bar indicates the distribution of a set whose height ratio is in the range of 0 to 5%, and the ratio of height increases by 5% as it goes to the right. In the figure, a scale is displayed every three divisions on the horizontal axis. The vertical axis represents the height distribution and is a value that becomes 1 when integrated. In this example, the peak position appears at a position of 45% to 50% with respect to the maximum altitude. 11, 13, 15, 17, and 19, which show histograms of examples and comparative examples described later, are displayed in the same manner as in FIG. 3.
次に、(6)の200μm ×200μm の領域内に150個以上350個以下の凸部を有するという要件について説明する。凹凸表面における凸部の数が少ないと、高精細の画像表示装置と組み合わせて使用した場合に、画素との干渉によるギラツキが発生し、画像が見えにくくなるので、好ましくない。また、凸部の数が多くなりすぎると、結果として表面凹凸形状の傾斜角度が急峻なものとなり、白ちゃけが発生しやすくなる。 Next, the requirement of having 150 to 350 convex portions in the 200 μm × 200 μm region of (6) will be described. If the number of convex portions on the concave / convex surface is small, glare due to interference with pixels occurs and the image becomes difficult to see when used in combination with a high-definition image display device. Moreover, when the number of convex parts increases too much, as a result, the inclination angle of the surface irregularity shape becomes steep, and whitening tends to occur.
防眩フィルムの凹凸面における凸部の数を求めるにあたっては、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡(AFM)などの装置により表面形状を測定し、防眩フィルム表面の各点の三次元的な座標値を求めてから、以下に示すアルゴリズムにより凸部を判定し、その個数をカウントする。すなわち、防眩フィルム表面の任意の点に着目したときに、その点の周囲において、着目した点よりも標高の高い点が存在せず、かつ、その点の凹凸面における標高が凹凸面の最高点の標高と最低点の標高との中間より高い場合に、その点が凸部の頂点であるとし、そのようにして求めた凸部の頂点の数をカウントし、凸部の数とする。より具体的には、図4に示すように、防眩フィルム表面の任意の点21に着目し、その点21を中心として、防眩フィルム基準面23に平行な半径2μm〜5μmの円を描いたとき、その円の投影面24内に含まれる防眩フィルム表面22上の点の中に、着目した点21よりも標高の高い点が存在せず、かつ、その点の凹凸面における標高が凹凸面の最高点の標高と最低点の標高との中間より高い場合に、その点21が凸部の頂点であると判定し、凸部の数を求める。その際、上記円24の半径は、サンプル表面の細かい凹凸をカウントせず、また、複数の凸部を含まない程度の大きさであることが求められ、3μm 程度が好ましい。測定に際しては、誤差を少なくするために、200μm ×200μm の領域を3点以上測定し、その平均値をもって測定値とすることが好ましい。 In determining the number of protrusions on the concavo-convex surface of the antiglare film, the surface shape is measured with an apparatus such as a confocal microscope, an interference microscope, an atomic force microscope (AFM), etc. After obtaining a coordinate value, a convex portion is determined by the following algorithm, and the number of the convex portions is counted. That is, when an arbitrary point on the surface of the antiglare film is focused on, there is no point higher than the focused point around that point, and the altitude on the uneven surface of that point is the highest of the uneven surface. When the altitude of the point is higher than the middle of the lowest point, the point is assumed to be the vertex of the convex portion, and the number of convex vertices thus obtained is counted to obtain the number of convex portions. More specifically, as shown in FIG. 4, paying attention to an arbitrary point 21 on the surface of the antiglare film, a circle having a radius of 2 μm to 5 μm parallel to the reference surface 23 of the antiglare film is drawn around the point 21. The point on the antiglare film surface 22 included in the projection surface 24 of the circle does not have a point higher than the point 21 of interest, and the height of the uneven surface of the point is When the altitude is higher than the midpoint between the highest point and the lowest point, the point 21 is determined to be the apex of the convex portion, and the number of convex portions is obtained. At this time, the radius of the circle 24 is required to be a size that does not count fine irregularities on the sample surface and does not include a plurality of convex portions, and is preferably about 3 μm. At the time of measurement, in order to reduce errors, it is preferable to measure three or more areas of 200 μm × 200 μm and use the average value as a measured value.
共焦点顕微鏡を用いる場合、対物レンズの倍率は50倍程度とし、解像度を落として測定するのが好ましい。高解像度で測定すると、サンプル表面の細かい凹凸を測定してしまい、凸部のカウントに支障をきたすためである。なお、対物レンズを低倍率にすると、高さ方向の解像度も低下するため、凹凸の少ないサンプルの場合は表面形状が測定しにくくなることもある。このような場合には、高倍率の対物レンズで測定を行った後、得られたデータにローパスフィルターをかけて空間周波数の高い成分を落とし、凹凸表面に観察される細かいざらつきが見えなくなるようにしてから、凸部の個数をカウントしてもよい。 In the case of using a confocal microscope, it is preferable that the objective lens has a magnification of about 50 times and is measured with a reduced resolution. This is because if the measurement is performed at a high resolution, fine irregularities on the surface of the sample are measured, and the counting of the convex portions is hindered. Note that when the objective lens is set to a low magnification, the resolution in the height direction is also reduced, so that the surface shape may be difficult to measure in the case of a sample with few irregularities. In such a case, after measuring with a high-magnification objective lens, a low-pass filter is applied to the obtained data to remove high spatial frequency components so that the fine roughness observed on the uneven surface cannot be seen. Then, the number of convex portions may be counted.
最後に、(7)のフィルム表面凹凸の凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割したときに形成される多角形の平均面積が100μm2 以上300μm2 以下であるという要件について説明する。まず、ボロノイ分割について説明すると、平面上にいくつかの点(母点という)が配置されているとき、その平面内の任意の点がどの母点に最も近いかによってその平面を分割してできる図をボロノイ図といい、その分割のことをボロノイ分割という。図5に、防眩フィルムの表面における凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割した例を示すが、四角の点26,26が母点であり、一つの母点を含む個々の多角形27,27が、ボロノイ分割により形成される領域であって、ボロノイ領域とかボロノイ多角形とか呼ばれるものであるが、以下ではボロノイ多角形と呼ぶ。この図において、周囲の薄く塗りつぶしてある部分28,28については、後で説明する。ボロノイ図においては、母点の数とボロノイ領域の数は一致する。 Finally, the requirement that the average area of the polygon formed when the surface is voronoi-divided with the vertex of the convex part of the film surface unevenness in (7) as the base point is 100 μm 2 or more and 300 μm 2 or less will be described. First, the Voronoi division will be explained. When several points (called mother points) are arranged on a plane, the plane can be divided depending on which mother point is closest to any point in the plane. The figure is called Voronoi diagram, and the division is called Voronoi division. FIG. 5 shows an example in which the vertex of the convex portion on the surface of the antiglare film is used as a base point, and the surface is Voronoi divided. Square points 26 and 26 are base points, and each of the multiple points including one base point is shown in FIG. The squares 27 and 27 are regions formed by Voronoi division, which are called Voronoi regions or Voronoi polygons, but are hereinafter called Voronoi polygons. In this figure, the peripherally thinned portions 28, 28 will be described later. In the Voronoi diagram, the number of generating points coincides with the number of Voronoi regions.
凸部の頂点を母点としてボロノイ分割したときに形成されるボロノイ多角形の平均面積が100μm2を下回る場合には、防眩フィルム表面の傾斜角度が急峻なものとなり、結果として白ちゃけが発生しやすくなるので、好ましくない。また、ボロノイ多角形の平均面積が300μm2より大きい場合には、凹凸表面形状が粗くなり、ギラツキが発生しやすくなるので、好ましくない。 When the average area of the Voronoi polygon formed when the Voronoi is divided with the vertex of the convex portion as the base point is less than 100 μm 2 , the inclination angle of the antiglare film surface becomes steep, resulting in whitening Since it becomes easy to do, it is not preferable. Further, when the average area of the Voronoi polygon is larger than 300 μm 2 , the uneven surface shape becomes rough and glare is likely to occur, which is not preferable.
防眩フィルム表面の凸部の頂点を母点としたボロノイ分割を行うことにより得られるボロノイ多角形の平均面積を求めるにあたっては、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡(AFM)などの装置により表面形状を測定し、防眩フィルム表面の各点の三次元的な座標値を求めてから、以下に示すアルゴリズムによりボロノイ分割を行い、ボロノイ多角形の平均面積を求める。すなわち、先に図4を参照して説明したアルゴリズムに従ってまず防眩フィルム表面上の凸部の頂点を求め、次に、防眩フィルム基準面にその凸部の頂点を投影する。その後、表面形状の測定によって得られた三次元座標全てをその基準面に投影し、それら投影された全ての点を最近接の母点に帰属させることによってボロノイ分割を行い、分割されて得られる多角形の面積を求めることにより、ボロノイ多角形の平均面積を求める。測定に際しては、誤差を少なくするために、測定視野の境界に接するボロノイ多角形については、先の凸部の数としては数えるが、平均面積を求めるときには算入しない。また、測定誤差を少なくするために、200μm ×200μm 以上の領域を3点以上測定し、その平均値をもって測定値とすることが好ましい。 Equipment such as confocal microscope, interference microscope, atomic force microscope (AFM) is used to determine the average area of Voronoi polygons obtained by performing Voronoi division using the top of the convex part of the antiglare film as a generating point. After measuring the surface shape and obtaining the three-dimensional coordinate value of each point on the surface of the antiglare film, Voronoi division is performed by the following algorithm to obtain the average area of the Voronoi polygon. That is, according to the algorithm described above with reference to FIG. 4, first, the vertex of the convex portion on the surface of the antiglare film is obtained, and then the vertex of the convex portion is projected onto the reference surface of the antiglare film. After that, all the three-dimensional coordinates obtained by measuring the surface shape are projected onto the reference plane, and all the projected points are assigned to the nearest base point to perform Voronoi division and obtained by division. By determining the area of the polygon, the average area of the Voronoi polygon is determined. In the measurement, in order to reduce the error, the Voronoi polygons that contact the boundary of the measurement field are counted as the number of the convex portions, but are not included when obtaining the average area. Moreover, in order to reduce a measurement error, it is preferable to measure three or more areas of 200 μm × 200 μm or more and use the average value as a measured value.
先に一部説明したとおり、図5は、防眩フィルムの凸部頂点を母点としてボロノイ分割したときの例を示すボロノイ図である。多数ある母点26,26は、防眩フィルムの凸部頂点であり、ボロノイ分割により、一つの母点26に対して一つのボロノイ多角形27が割り当てられている。この図において、視野の境界に接し、薄く塗りつぶされているボロノイ多角形28,28は、前述のとおり、平均面積の算出にはカウントしない。なお、この図においては、一部の母点及びボロノイ多角形に対してのみ引き出し線と符号を付しているが、母点とボロノイ多角形が多数存在することは、以上の説明とこの図から容易に理解されるであろう。 As described above in part, FIG. 5 is a Voronoi diagram showing an example when Voronoi division is performed with the convex vertex of the antiglare film as a base point. A large number of generating points 26 and 26 are the vertices of the convex portions of the antiglare film, and one Voronoi polygon 27 is assigned to one generating point 26 by Voronoi division. In this figure, the Voronoi polygons 28 and 28 that are in contact with the boundary of the visual field and are thinly painted are not counted in the calculation of the average area as described above. In this figure, only some of the generating points and Voronoi polygons are provided with leading lines and symbols. However, the fact that there are a large number of generating points and Voronoi polygons is explained above and this figure. Will be easily understood.
さて、本発明の防眩フィルムは、垂直入射光に対するヘイズが3%以上20%以下であることが好ましい。ヘイズが高いと、その防眩フィルムを液晶パネルに適用したときの正面コントラストが低下することから、ヘイズは20%以下であるのが好ましい。一方、ヘイズが3%を下回ると、防眩性が不十分となり、視認性が低下する傾向にある。防眩フィルムのヘイズは、 JIS K 7136 に示される方法に準拠して測定することができる。 Now, the anti-glare film of the present invention preferably has a haze of 3% or more and 20% or less with respect to normal incident light. When the haze is high, the front contrast when the antiglare film is applied to a liquid crystal panel is lowered, so that the haze is preferably 20% or less. On the other hand, when the haze is less than 3%, the antiglare property is insufficient and the visibility tends to be lowered. The haze of the antiglare film can be measured according to the method shown in JIS K 7136.
また本発明の防眩フィルムは、暗部と明部の幅が0.5mm、1.0mm及び2.0mm である3種類の光学くしを用いて光の入射角45°で測定される反射鮮明度の和が30%以下であることが好ましい。反射鮮明度は、 JIS K 7105 に規定される方法で測定される。この規格では、像鮮明度の測定に用いる光学くしとして、暗部と明部の幅の比が1:1で、その幅が0.125mm、0.5mm、1.0mm及び2.0mmである4種類が規定されている。このうち、幅0.125mm の光学くしを用いた場合、本発明で規定する防眩フィルムにおいては、その測定値の誤差が大きくなることから、幅0.125mm の光学くしを用いた場合の測定値は和に加えないこととし、幅が0.5mm、1.0mm及び2.0mm である3種類の光学くしを用いて測定された像鮮明度の和をもって反射鮮明度と呼ぶことにする。この定義による場合の反射鮮明度の最大値は300%である。この定義による反射鮮明度が30%を超えると、光源などの像が鮮明に映り込むことになり、防眩性に劣るため好ましくない。 Further, the antiglare film of the present invention has a reflection sharpness measured at a light incident angle of 45 ° using three types of optical combs in which the width of the dark part and the bright part is 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm. Is preferably 30% or less. Reflection sharpness is measured by the method specified in JIS K 7105. In this standard, the ratio of the width of the dark part to the bright part is 1: 1 and the width is 0.125 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm as an optical comb used for measuring the image definition. The type is specified. Among these, when an optical comb with a width of 0.125 mm is used, the measurement error when using an optical comb with a width of 0.125 mm is large because an error in the measured value becomes large in the antiglare film defined in the present invention. The value is not added to the sum, and the sum of image sharpness measured using three types of optical combs having widths of 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm is referred to as reflection sharpness. In this definition, the maximum value of the reflection definition is 300%. When the definition of reflection definition exceeds 30%, an image of a light source or the like is clearly reflected, which is not preferable because of poor antiglare property.
ただし、反射鮮明度が30%以下になると、反射鮮明度だけからでは防眩性の優劣を比較することが難しくなる。なぜならば、上記定義による反射鮮明度が30%以下の場合、幅0.5mm、1.0mm及び2.0mm の光学くしを用いたそれぞれの反射鮮明度が、たかだか10%程度になり、測定誤差等による反射鮮明度の振れが無視できなくなるからである。そこで本発明者らは、後述するような製造方法により得られた反射鮮明度が30%以下の防眩フィルムにつき、目視により防眩性の優劣比較を行った。目視による防眩性の評価結果と先に説明した反射プロファイルを比較検討することにより、防眩フィルムの防眩性能を好適に評価できる指標を見出した。 However, when the reflection definition is 30% or less, it is difficult to compare the superiority and inferiority of the antiglare property only from the reflection definition. This is because if the reflection definition according to the above definition is 30% or less, the reflection definition using optical combs with widths of 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm is only about 10%, resulting in measurement errors. This is because the fluctuation of the reflection definition due to the above cannot be ignored. Therefore, the present inventors visually compared the antiglare film with respect to the antiglare film having a reflection definition of 30% or less obtained by a production method as described later. By comparing and examining the evaluation result of the antiglare property by visual observation and the reflection profile described above, an index that can suitably evaluate the antiglare performance of the antiglare film was found.
本発明の防眩フィルムでは、組み合わせて使用する高精細の画像表示素子の画素密度で100ppi(pixel per inch) までぎらつかないほうが好ましい。これ以下の画素密度でギラツキが見える場合には、高精細の画像表示素子と組み合わせて使用することが難しくなるので、好ましくない。 In the antiglare film of the present invention, it is preferable that the pixel density of a high-definition image display element used in combination does not glare up to 100 ppi (pixel per inch). When glare is visible at a pixel density lower than this, it is difficult to use in combination with a high-definition image display element, which is not preferable.
ギラツキは、以下の方法で評価することができる。まず、図6に平面図で示すようなユニットセルのパターンを有するフォトマスクを用意する。この図において、ユニットセル30は、透明な基板上に、線幅10μm でカギ形のクロム遮光パターン31が形成され、そのクロム遮光パターン31の形成されていない部分が開口部32となっている。後述する実施例では、ユニットセルの寸法が254μm ×84μm (図の縦×横)、したがって開口部の寸法が244μm ×74μm (図の縦×横)のものを用いた。図示するユニットセルが縦横に多数並んで、フォトマスクを形成する。 Glare can be evaluated by the following method. First, a photomask having a unit cell pattern as shown in a plan view in FIG. 6 is prepared. In this figure, the unit cell 30 has a key-shaped chrome light-shielding pattern 31 with a line width of 10 μm formed on a transparent substrate, and a portion where the chrome light-shielding pattern 31 is not formed is an opening 32. In the examples to be described later, a unit cell having a size of 254 μm × 84 μm (vertical × horizontal in the figure), and thus an opening having a dimension of 244 μm × 74 μm (vertical × horizontal in the figure) was used. A large number of unit cells shown in the figure are arranged vertically and horizontally to form a photomask.
そして、図7に模式的な断面図で示すように、フォトマスク33のクロム遮光パターン31を上にしてライトボックス35に置き、ガラス板37に粘着剤で防眩フィルム11を貼合したサンプルをフォトマスク33上に置く。ライトボックス35の中には、光源36が配置されている。この状態で、サンプルから約30cm離れた位置39から目視観察することにより、ギラツキの官能評価を行う。 Then, as shown in a schematic cross-sectional view in FIG. 7, a sample in which the chrome light-shielding pattern 31 of the photomask 33 is placed in the light box 35 and the antiglare film 11 is bonded to the glass plate 37 with an adhesive. Place on photomask 33. A light source 36 is disposed in the light box 35. In this state, the sensory evaluation of glare is performed by visually observing from a position 39 about 30 cm away from the sample.
次に、本発明に係る防眩フィルムを好適に製造しうる方法、及びその防眩フィルムを得るための表面に凹凸が形成された金属金型の製造方法について説明する。本発明の防眩フィルムは、所定形状で凹凸が形成された金属金型を用い、その金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写し、次いで凹凸面が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がす方法により、有利に製造される。この方法においては、凹凸を有する金属金型を得るために、金属基材の表面に銅めっき又はニッケルめっきを施し、そのめっき表面を研磨した後、その研磨面に微粒子をぶつけて凹凸を形成し、その凹凸形状を鈍らせる加工を施した後、その凹凸面にクロムめっきを施して、金型とする。 Next, a method for suitably producing the antiglare film according to the present invention and a method for producing a metal mold having irregularities formed on the surface for obtaining the antiglare film will be described. The antiglare film of the present invention uses a metal mold with irregularities formed in a predetermined shape, transfers the irregular surface of the mold to a transparent resin film, and then transfers the transparent resin film with the irregular surface transferred from the mold. It is advantageously manufactured by the peeling method. In this method, in order to obtain a metal mold having irregularities, copper plating or nickel plating is applied to the surface of the metal substrate, and after polishing the plated surface, fine particles are applied to the polished surface to form irregularities. After performing the process of dulling the uneven shape, the uneven surface is subjected to chrome plating to obtain a mold.
まず、微粒子をぶつけて凹凸を形成し、さらにクロムめっき層を形成する金属基材の表面には、銅めっき又はニッケルめっきが施される。このように、金型を構成する金属の表面に銅めっき又はニッケルめっきを施すことにより、後工程におけるクロムめっきの密着性や光沢性を上げることができる。鉄などの表面にクロムめっきを施した場合、あるいはクロムめっき表面にサンドブラスト法やビーズショット法などで凹凸を形成してから再度クロムめっきを施した場合は、先に背景技術の項で述べた如く、表面が荒れやすく、細かいクラックが生じて、防眩フィルムの形状に好ましくない影響を与えることがある。これに対して、表面に銅めっき又はニッケルめっきを施すことにより、このような不都合がなくなることが見出された。これは、銅めっきやニッケルめっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いために、金属基材の微小な凹凸や巣などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成するためである。これらの銅めっき及びニッケルめっきの特性によって、金属基材に存在していた微小な凹凸や巣に起因すると思われるクロムめっき表面の荒れが解消され、また、銅めっきやニッケルめっきの被覆性の高さから、細かいクラックの発生が低減されるものと考えられる。 First, the surface of the metal substrate on which the fine particles are hit to form irregularities and further the chrome plating layer is formed is subjected to copper plating or nickel plating. Thus, by performing copper plating or nickel plating on the surface of the metal constituting the mold, it is possible to improve the adhesion and gloss of chrome plating in the subsequent process. When chrome plating is applied to the surface of iron, etc., or when chrome plating is applied again after forming irregularities on the chrome plating surface by the sandblasting method or the bead shot method, as described in the background section above. The surface tends to be rough, and fine cracks are generated, which may adversely affect the shape of the antiglare film. On the other hand, it has been found that such inconvenience is eliminated by applying copper plating or nickel plating to the surface. This is because copper plating and nickel plating have a high covering property and a strong smoothing action, so that a flat and glossy surface is formed by filling minute irregularities and nests of the metal substrate. These copper plating and nickel plating characteristics eliminate the rough surface of the chromium plating that appears to be due to minute irregularities and nests that existed on the metal substrate, and the high coverage of copper plating and nickel plating. Therefore, it is considered that the occurrence of fine cracks is reduced.
ここでいう銅又はニッケルは、それぞれの純金属であることができるほか、銅を主体とする合金、又はニッケルを主体とする合金であってもよい。したがって、本明細書でいう銅は、銅及び銅合金を含む意味であり、またニッケルは、ニッケル及びニッケル合金を含む意味である。銅めっき及びニッケルめっきは、それぞれ電解めっきで行っても無電解めっきで行ってもよいが、通常は電解めっきが採用される。 Copper or nickel as used herein may be a pure metal of each, or may be an alloy mainly composed of copper or an alloy mainly composed of nickel. Therefore, the term “copper” as used herein means to include copper and a copper alloy, and nickel means to include nickel and a nickel alloy. Copper plating and nickel plating may be performed by electrolytic plating or electroless plating, respectively, but electrolytic plating is usually employed.
金型を構成するのに好適な金属として、コストの観点からアルミニウムや鉄などが挙げられる。さらに取扱いの利便性から、軽量なアルミニウムがより好ましい。ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属であることができるほか、アルミニウム又は鉄を主体とする合金であってもよい。このような金属基材の表面に銅めっき又はニッケルめっきを施し、さらにその表面を研磨して、より平滑で光沢のある表面を得た後、その表面に微粒子をぶつけて微細な凹凸を形成し、その凹凸形状を鈍らせる加工を施した後、さらにそこにクロムめっきを施して、金型を構成する。 Examples of suitable metals for forming the mold include aluminum and iron from the viewpoint of cost. Furthermore, lightweight aluminum is more preferable from the convenience of handling. The aluminum and iron here may be pure metals, respectively, or may be an alloy mainly composed of aluminum or iron. After copper plating or nickel plating is applied to the surface of such a metal substrate, and the surface is further polished to obtain a smoother and more glossy surface, fine irregularities are formed by hitting the surface with fine particles. After performing the process of blunting the uneven shape, chrome plating is further applied thereto to form a mold.
銅めっき又はニッケルめっきを施す際には、めっき層があまり薄いと、下地金属の影響が排除しきれないことから、その厚みは10μm 以上であるのが好ましい。めっき層厚みの上限は臨界的でないが、コスト等とのからみから、一般には500μm 程度までで十分である。 When copper plating or nickel plating is performed, if the plating layer is too thin, the influence of the base metal cannot be completely eliminated. Therefore, the thickness is preferably 10 μm or more. The upper limit of the plating layer thickness is not critical, but generally about 500 μm is sufficient from the viewpoint of cost and the like.
金属金型の形状は、平らな金属板であってもよいし、円柱状又は円筒状の金属ロールであってもよい。金属ロールを用いて金型を作製すれば、防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができる。 The shape of the metal mold may be a flat metal plate or a columnar or cylindrical metal roll. If a metal mold | die is produced using a metal roll, an anti-glare film can be manufactured in a continuous roll shape.
図8は、平板を用いた場合を例に、金属金型を得るまでの工程を模式的に示した断面図である。図8の(A)は、銅めっき又はニッケルめっきと鏡面研磨を施した後の基板の断面を示すものであって、基板41の表面にはめっき層42が形成され、その表面が研磨面43となっている。このような鏡面研磨後のめっき層42の表面に微粒子をぶつけることにより、凹凸を形成する。図8の(B)は、微粒子をぶつけた後の基板41の断面模式図であり、微粒子がぶつけられることで、部分球面状の微細な凹面44が形成されている。図8の(C)は、こうして微粒子による凹凸が形成された面に、凹凸形状を鈍らせる加工を施した後の基板41の断面模式図であり、(C1)はエッチング処理により鈍らされた状態を、そして(C2)は銅めっきにより鈍らせた状態を、それぞれ表している。なお、(C1)では、エッチングにより鈍らされる前の(B)に相当する部分球面状凹面の状態を破線で示している。(C1)のエッチング処理を採用する例では、(B)に示した凹面44と鋭角的な突起が、エッチングにより削られて、部分球面上の鋭角的な突起が鈍らされた形状46aが形成されている。一方、(C2)の銅めっきを採用する例では、(B)に示した凹面44上に銅めっき層45が形成され、これによって、部分球面上の鋭角的な突起が鈍らされた形状46bが形成されている。 FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a process until a metal mold is obtained, taking a case where a flat plate is used as an example. FIG. 8A shows a cross section of the substrate after copper plating or nickel plating and mirror polishing, and a plating layer 42 is formed on the surface of the substrate 41, and the surface is a polished surface 43. It has become. Concavities and convexities are formed by hitting fine particles against the surface of the plated layer 42 after such mirror polishing. FIG. 8B is a schematic cross-sectional view of the substrate 41 after hitting the fine particles. The fine concave surface 44 having a partial spherical shape is formed by hitting the fine particles. FIG. 8C is a schematic cross-sectional view of the substrate 41 after the surface on which the unevenness due to the fine particles is formed is subjected to the process of dulling the uneven shape, and FIG. 8C1 is a state in which the surface is blunted by the etching process. And (C2) show the state of being dulled by copper plating. In (C1), the state of the partially spherical concave surface corresponding to (B) before being blunted by etching is indicated by a broken line. In the example employing the etching process of (C1), the concave surface 44 and the acute protrusion shown in (B) are etched away to form a shape 46a in which the acute protrusion on the partial spherical surface is blunted. ing. On the other hand, in the example adopting the copper plating of (C2), the copper plating layer 45 is formed on the concave surface 44 shown in (B), and thereby the shape 46b in which the acute protrusion on the partial spherical surface is blunted is formed. Is formed.
その後、クロムめっきを施すことによって、表面の凹凸形状をさらに鈍らせる。図8の(D)は、クロムめっきを施した後の断面模式図であって、(D1)は、(C1)に示したエッチングによって鈍らされた凹凸面46a上にクロムめっきが施されたもの、そして(D2)は、(C2)に示した銅めっき層45上にクロムめっきが施されたものである。(C1)から(D1)に至るエッチング処理を採用する例では、(C1)に示したエッチングにより鈍らされた状態の面46aの上にクロムめっき層47が形成されており、その表面48は、(C1)の凹凸面46aに比べて、クロムめっきによりさらに鈍った状態、換言すれば凹凸形状が緩和された状態になっている。また、(C2)から(D2)に至る銅めっきを採用する例では、基板41上の銅又はニッケルめっき層42に形成された微細な凹面上に、銅めっき層45が形成され、さらにその上にクロムめっき層47が形成されており、その表面48は、クロムめっきにより、(C2)の凹凸面46bに比べてさらに鈍った状態、換言すれば凹凸形状が緩和された状態になっている。このように、銅又はニッケルめっき層42の表面に微粒子をぶつけて凹凸を形成した後、その凹凸形状を鈍らせる加工を施した表面46(46a又は46b)に、クロムめっきを施すことにより、実質的に平坦部がない金属金型を得ることができる。また、そのような金型が、好ましい光学特性を示す防眩フィルムを得るのに好適である。 Then, the uneven | corrugated shape of the surface is further blunted by giving chromium plating. (D) in FIG. 8 is a schematic cross-sectional view after the chrome plating, and (D1) is a chrome plating on the uneven surface 46a blunted by the etching shown in (C1). (D2) is obtained by applying chromium plating to the copper plating layer 45 shown in (C2). In the example employing the etching process from (C1) to (D1), the chrome plating layer 47 is formed on the surface 46a that has been blunted by the etching shown in (C1), and the surface 48 is Compared to the concave / convex surface 46a of (C1), the concave / convex shape is further relaxed by chrome plating, in other words, the concave / convex shape is relaxed. Moreover, in the example which employ | adopts the copper plating from (C2) to (D2), the copper plating layer 45 is formed on the fine concave surface formed in the copper or nickel plating layer 42 on the board | substrate 41, and also on it. A chrome plating layer 47 is formed on the surface 48, and the surface 48 is duller than the concavo-convex surface 46b of (C2) by chrome plating, in other words, the concavo-convex shape is relaxed. In this way, after the bumps are formed on the surface of the copper or nickel plating layer 42 to form irregularities, the surface 46 (46a or 46b) subjected to the process of dulling the irregularities is subjected to chromium plating, thereby substantially Thus, a metal mold having no flat portion can be obtained. In addition, such a mold is suitable for obtaining an antiglare film exhibiting preferable optical characteristics.
基材上の銅又はニッケルからなるめっき層には、表面が研磨された状態で、微粒子がぶつけられるのであるが、特に、鏡面に近い状態に研磨されていることが好ましい。なぜなら、基材となる金属板や金属ロールは、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っているためである。銅めっき又はニッケルめっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあるし、また、めっきした状態で、表面が完全に平滑になるとは限らない。深い加工目などが残った状態では、微粒子をぶつけて基材表面を変形させても、微粒子により形成される凹凸よりも加工目などの凹凸のほうが深いことがあり、加工目などの影響が残る可能性がある。そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。 The plating layer made of copper or nickel on the substrate is hit with fine particles in a state where the surface is polished, but it is particularly preferable that the plating layer is polished close to a mirror surface. This is because the metal plate or metal roll as the base material is often subjected to machining such as cutting or grinding in order to obtain the desired accuracy, and as a result, the processing surface remains on the base material surface. It is. Even in the state where copper plating or nickel plating is applied, those processed marks may remain, and the surface may not be completely smooth in the plated state. In the state where deep processed eyes remain, even if the surface of the substrate is deformed by hitting the fine particles, the unevenness such as the processed eyes may be deeper than the unevenness formed by the fine particles, and the effects of the processed eyes remain. there is a possibility. When an antiglare film is produced using such a mold, the optical properties may be unexpectedly affected.
めっきが施された基材表面を研磨する方法に特別な制限はなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などが例示される。研磨後の表面粗度は、中心線平均粗さRa で表して、Ra が0.5μm 以下であることが好ましく、より好ましくはRa が0.1μm 以下である。Ra があまり大きくなると、微粒子をぶつけて金属の表面を変形させても、変形前の表面粗度の影響が残る可能性があるので好ましくない。また、Ra の下限については特に制限されず、加工時間や加工コストの観点から、おのずと限界があるので、特に指定する必要性はない。 There is no particular limitation on the method of polishing the surface of the substrate on which plating has been performed, and any of mechanical polishing, electrolytic polishing, and chemical polishing can be used. Examples of the mechanical polishing method include super finishing, lapping, fluid polishing, and buff polishing. The surface roughness after polishing is represented by a center line average roughness Ra, and Ra is preferably 0.5 μm or less, and more preferably Ra is 0.1 μm or less. If Ra is too large, even if the metal surface is deformed by hitting fine particles, the influence of the surface roughness before deformation may remain, which is not preferable. Also, the lower limit of Ra is not particularly limited, and there is no need to specify it because there is a natural limit from the viewpoint of processing time and processing cost.
基材のめっきが施された表面に微粒子をぶつける方法としては、噴射加工法が好適に用いられる。噴射加工法には、サンドブラスト法、ショットブラスト法、液体ホーニング法などがある。これらの加工に用いられる粒子としては、鋭い角があるような形状よりは、球形に近い形状であるほうが好ましく、また加工中に破砕されて鋭い角が出ないような、硬い材質の粒子が好ましい。これらの条件を満たす粒子として、セラミックス系の粒子では、球形ジルコニアのビーズや、アルミナのビーズが好ましく用いられる。また金属系の粒子では、スチールやステンレススチール製のビーズが好ましい。さらには、樹脂バインダーにセラミックスや金属の粒子を担持させた粒子を用いてもよい。 As a method for hitting the surface of the substrate plated with fine particles, an injection processing method is preferably used. Examples of the injection processing method include a sand blast method, a shot blast method, and a liquid honing method. The particles used in these processes are preferably in a shape close to a sphere rather than a shape having sharp corners, and particles of a hard material that are crushed during processing and do not produce sharp corners are preferable. . As particles satisfying these conditions, spherical zirconia beads and alumina beads are preferably used for ceramic particles. For metal particles, beads made of steel or stainless steel are preferred. Furthermore, particles in which ceramic or metal particles are supported on a resin binder may be used.
基材のめっきが施された表面にぶつける微粒子として、平均粒径が10〜50μm のもの、特に球形の微粒子を用いることにより、優れた防眩性能を示す防眩フィルムを作製することができる。微粒子の平均粒径が10μm より小さいと、めっきが施された表面に十分な凹凸を形成することが困難となり、十分な防眩性能が得られにくくなる。一方、微粒子の平均粒径が50μm より大きいと、表面凹凸が粗くなり、ギラツキが発生したり質感が低下したりしやすい。ここで、平均粒径が15μm 以下の微粒子を用いて加工する際には、粒子が静電気等で凝集しないよう、適当な分散媒に分散させて加工する湿式ブラスト法を採用することが好ましい。 By using fine particles having an average particle diameter of 10 to 50 μm, particularly spherical fine particles, as the fine particles that strike the surface of the substrate plated, an anti-glare film exhibiting excellent anti-glare performance can be produced. If the average particle size of the fine particles is smaller than 10 μm, it becomes difficult to form sufficient irregularities on the plated surface, and it becomes difficult to obtain sufficient antiglare performance. On the other hand, if the average particle size of the fine particles is larger than 50 μm, the surface irregularities become rough, and glare is likely to occur or the texture is liable to deteriorate. Here, when processing using fine particles having an average particle size of 15 μm or less, it is preferable to employ a wet blasting method in which the particles are processed by being dispersed in a suitable dispersion medium so that the particles do not aggregate due to static electricity or the like.
また、微粒子をぶつける際の圧力、微粒子の使用量、微粒子を噴射するノズルから金属表面までの距離も、加工後の凹凸形状、延いては防眩フィルムの表面形状に影響するが、一般には、ゲージ圧で0.1〜0.4MPa 程度の圧力、また処理される金属の表面積1cm2 あたり4〜12g程度の微粒子量、微粒子を噴射するノズルから金属表面まで200mm〜600mm程度の距離から、用いる微粒子の種類や粒径、金属の種類、微粒子を噴射するノズルの形状、所望の凹凸形状などに応じて、適宜選択すればよい。 Also, the pressure when hitting the fine particles, the amount of fine particles used, the distance from the nozzle that sprays the fine particles to the metal surface also affects the uneven shape after processing, and eventually the surface shape of the antiglare film, The pressure is about 0.1 to 0.4 MPa in gauge pressure, the amount of fine particles is about 4 to 12 g per 1 cm 2 of the surface area of the metal to be treated, and the distance from the nozzle for spraying the fine particles to the metal surface is about 200 mm to 600 mm. What is necessary is just to select suitably according to the kind and particle diameter of a microparticle, the kind of metal, the shape of the nozzle which injects a microparticle, a desired uneven | corrugated shape, etc.
基材のめっきが施された表面に微粒子をぶつけることによって形成された凹凸形状は、任意の断面曲線の算術平均高さPa が0.1μm以上1μm 以下であり、その断面曲線における算術平均高さPa と平均長さPSmの比Pa/PSm が0.02以上0.1以下であることが好ましい。算術平均高さPa が0.1μmより小さいか、又は比Pa/PSm が0.02より小さい場合には、クロムめっき加工前に凹凸形状を鈍らせる加工を施した際に、凹凸表面がほぼ平坦面となってしまい、望む表面形状の金型が得られにくい。また、算術平均高さPaが1μm より大きいか、又は比Pa/PSmが0.1より大きい場合には、クロムめっき加工前の凹凸形状を鈍らせる加工を強い条件で行わなければならず、表面形状の制御が困難なものとなりやすい。 The concavo-convex shape formed by hitting fine particles on the surface of the substrate plated has an arithmetic average height Pa of any cross-sectional curve of 0.1 μm or more and 1 μm or less, and the arithmetic average height of the cross-sectional curve The ratio Pa / PSm between Pa and the average length PSm is preferably 0.02 or more and 0.1 or less. When the arithmetic average height Pa is less than 0.1 μm or the ratio Pa / PSm is less than 0.02, the uneven surface is substantially flat when the uneven shape is blunted before the chrome plating process. It becomes difficult to obtain a mold having the desired surface shape. In addition, when the arithmetic average height Pa is greater than 1 μm or the ratio Pa / PSm is greater than 0.1, the process of dulling the concavo-convex shape before chrome plating must be performed under strong conditions. It tends to be difficult to control the shape.
このようにして銅めっき又はニッケルめっき表面に凹凸が形成された基材に、凹凸形状を鈍らせる加工を施す。凹凸形状を鈍らせる加工としては、先に図8の(C)及び(D)を参照して説明したように、エッチング処理又は銅めっきが好ましい。エッチング処理を行うことによって、微粒子をぶつけて作製した凹凸形状の鋭利な部分がなくなる。それにより、金型として使用した際に作製される防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化する。また、銅めっきは平滑化作用が強いため、クロムめっきより凹凸形状を鈍らせる効果が強い。それにより、金型として使用した際に作製される防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化する。 Thus, the process which blunts an uneven | corrugated shape is given to the base material with which the unevenness | corrugation was formed in the copper plating or nickel plating surface. As the process for dulling the uneven shape, as described above with reference to FIGS. 8C and 8D, etching treatment or copper plating is preferable. By performing the etching process, the sharp portion of the uneven shape produced by hitting the fine particles is eliminated. Thereby, the optical characteristic of the anti-glare film produced when it uses as a metal mold | die changes in a preferable direction. Moreover, since the copper plating has a strong smoothing action, the effect of dulling the uneven shape is stronger than that of the chromium plating. Thereby, the optical characteristic of the anti-glare film produced when it uses as a metal mold | die changes in a preferable direction.
エッチング処理は通常、塩化第二鉄(FeCl3)水溶液、塩化第二銅(CuCl2)水溶液、アルカリエッチング液(Cu(NH3)4Cl2) などを用い、表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した後の凹凸のなまり具合は、下地金属の種類、ブラストなどの手法により得られた凹凸のサイズと深さなどによって異なるため、一概には言えないが、なまり具合を制御するうえで最も大きな因子は、エッチング量である。ここでいうエッチング量とは、エッチングにより削られる基材(めっき層)の厚さである。エッチング量が小さいと、ブラストなどの手法により得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、エッチング量が大きすぎると、凹凸形状がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。そこで、エッチング量は1μm 以上20μm 以下となるようにするのが好ましく、さらには2μm 以上10μm 以下であるのがより好ましい。 Etching is usually performed by corroding the surface using an aqueous ferric chloride (FeCl 3 ) solution, an aqueous cupric chloride (CuCl 2 ) solution, an alkaline etchant (Cu (NH 3 ) 4 Cl 2 ), or the like. However, a strong acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid can be used, or reverse electrolytic etching by applying a potential opposite to that during electrolytic plating can be used. The degree of unevenness after etching is different depending on the type of underlying metal and the size and depth of the unevenness obtained by blasting techniques. The largest factor is the etching amount. The etching amount here is the thickness of the base material (plating layer) to be cut by etching. If the etching amount is small, the effect of dulling the surface shape of the unevenness obtained by a technique such as blasting is insufficient, and the optical characteristics of the antiglare film obtained by transferring the uneven shape to a transparent film are not so good. . On the other hand, when the etching amount is too large, the uneven shape is almost lost and the die is almost flat, so that the antiglare property is not exhibited. Therefore, the etching amount is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 10 μm or less.
鈍らせる加工として銅めっきを採用する場合、凹凸のなまり具合は、下地金属の種類、ブラストなどの手法により得られた凹凸のサイズと深さ、まためっきの種類や厚みなどによって異なるため、一概には言えないが、なまり具合を制御するうえで最も大きな因子はめっき厚みである。銅めっき層の厚みが薄いと、ブラストなどの手法により得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方でめっき厚みが厚すぎると、生産性が悪くなるうえ、凹凸形状がほとんどなくなってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。そこで、銅めっきの厚みは1μm 以上20μm 以下となるようにするのが好ましく、さらには4μm 以上10μm 以下であるのがより好ましい。 When copper plating is used as the dulling process, the unevenness of the unevenness varies depending on the type of base metal, the size and depth of the unevenness obtained by techniques such as blasting, and the type and thickness of the plating. Although it cannot be said, the greatest factor in controlling the degree of rounding is the plating thickness. If the thickness of the copper plating layer is thin, the effect of dulling the surface shape of the unevenness obtained by techniques such as blasting is insufficient, and the optical properties of the antiglare film obtained by transferring the uneven shape to a transparent film are insufficient. It doesn't get much better. On the other hand, when the plating thickness is too thick, the productivity is deteriorated and the uneven shape is almost lost, so that the antiglare property is not exhibited. Therefore, the thickness of the copper plating is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 4 μm or more and 10 μm or less.
このようにして銅めっき又はニッケルめっき表面に凹凸が形成された基材の表面形状を鈍らせた後、さらにクロムめっきを施すことにより、凹凸の表面をより一層鈍らせるとともに、その表面硬度を高めた金属版を作る。この際の凹凸のなまり具合も、下地金属の種類、ブラストなどの手法により得られた凹凸のサイズと深さ、まためっきの種類や厚みなどによって異なるため、一概には言えないが、なまり具合を制御するうえで最も大きな因子は、やはりめっき厚みである。クロムめっき層の厚みが薄いと、クロムめっき加工前に得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、めっき厚みが厚すぎると、生産性が悪くなるうえに、ノジュールと呼ばれる突起状のめっき欠陥が発生してしまう。そこで、クロムめっきの厚みは1μm 以上10μm 以下となるようにするのが好ましく、さらには2μm 以上6μm 以下であるのがより好ましい。 In this way, after dulling the surface shape of the substrate on which the unevenness is formed on the copper plating or nickel plating surface, the surface of the unevenness is further dulled and further the surface hardness is increased by applying chrome plating. Make a metal plate. The degree of unevenness at this time also differs depending on the type of base metal, the size and depth of the unevenness obtained by techniques such as blasting, and the type and thickness of the plating. The greatest factor in controlling is the plating thickness. If the thickness of the chrome plating layer is thin, the effect of dulling the surface shape of the unevenness obtained before the chrome plating process is insufficient, and the optical characteristics of the antiglare film obtained by transferring the uneven shape to a transparent film are It doesn't get much better. On the other hand, when the plating thickness is too thick, productivity is deteriorated and a protruding plating defect called a nodule is generated. Therefore, the thickness of the chrome plating is preferably 1 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 6 μm or less.
本発明では、平板やロールなどの表面に、光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を与えうるクロムめっきを採用する。クロムめっきの種類は特に制限されないが、いわゆる光沢クロムめっきや装飾用クロムめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するクロムめっきを用いることが好ましい。クロムめっきは通常、電解によって行われ、そのめっき浴としては、無水クロム酸(CrO3 )と少量の硫酸を含む水溶液が用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、クロムめっきの厚みを制御することができる。 In the present invention, a chrome plating that has a glossy surface, a high hardness, a low friction coefficient, and good releasability is employed on the surface of a flat plate or a roll. The type of chrome plating is not particularly limited, but it is preferable to use a chrome plating that expresses a good gloss, so-called gloss chrome plating or decorative chrome plating. Chromium plating is usually performed by electrolysis, and an aqueous solution containing chromic anhydride (CrO 3 ) and a small amount of sulfuric acid is used as the plating bath. By adjusting the current density and electrolysis time, the thickness of the chromium plating can be controlled.
クロムめっきが施された金型表面は、そのビッカース硬度が800以上であることが好ましく、より好ましくは1000以上である。ビッカース硬度が低いと、金型使用時の耐久性が低下するうえに、クロムめっきで硬度が低下することは、めっき処理時にめっき浴組成や電解条件等に異常が発生している可能性が高く、欠陥の発生状況についても好ましくない影響を与える可能性が高い。 The surface of the mold on which chromium plating is applied preferably has a Vickers hardness of 800 or more, more preferably 1000 or more. If the Vickers hardness is low, the durability when using the mold is reduced, and the decrease in hardness due to chrome plating is likely to cause abnormalities in the plating bath composition and electrolytic conditions during the plating process. There is a high possibility that the occurrence of defects will also have an undesirable effect.
背景技術の項で掲げた特許文献1、特許文献4、特許文献6などには、クロムめっきを採用することが開示されているが、金型のめっき前の下地とクロムめっきの種類によっては、めっき後に表面が荒れたり、クロムめっきによる微小なクラックが多数発生したりすることが多く、その結果、作製される防眩フィルムの光学特性が好ましくない方向へと進む。めっき表面が荒れた状態のものは、防眩フィルム用の金属金型に向いていない。なぜならば、一般的にざらつきを消すためにクロムめっき後にめっき表面を研磨することが行われているが、後述するように、本発明ではめっき後の表面の研磨が好ましくないからである。本発明では、下地金属に銅めっき又はニッケルめっきを施すことにより、クロムめっきで生じやすいこのような不都合を解消している。 Patent Document 1, Patent Document 4, Patent Document 6 and the like listed in the Background Art section disclose the use of chrome plating, but depending on the type of the base and the chrome plating before the metal plating, In many cases, the surface is roughened after plating or a lot of minute cracks are generated by chrome plating, and as a result, the optical characteristics of the produced antiglare film proceed in an unfavorable direction. Those having a rough plated surface are not suitable for metal molds for anti-glare films. This is because the plating surface is generally polished after chrome plating in order to eliminate roughness, but as described later, polishing of the surface after plating is not preferable in the present invention. In the present invention, such inconvenience that is likely to occur in chromium plating is eliminated by applying copper plating or nickel plating to the base metal.
クロムめっきを施す前に凹凸形状を鈍らせる加工を施さない場合には、微粒子をぶつけて作製した凹凸形状の鋭利な部分を十分に鈍らせるために、クロムめっきを厚くしなくてはならない。しかしながら、クロムめっきの厚みを厚くしすぎると、ノジュールが発生しやすくなるので、好ましくない。また、クロムめっきの厚みを薄くした場合には、微粒子をぶつけて作製した凹凸形状を十分に鈍らせることができず、望む表面形状の金型が得られないことから、その金型を用いて作製した防眩フィルムも優れた防眩性能を示さない。 In the case where the process of dulling the concavo-convex shape is not performed before the chrome plating, the chrome plating must be thickened in order to sufficiently dull the sharp portion of the concavo-convex shape produced by hitting fine particles. However, if the thickness of the chrome plating is too thick, nodules are likely to be generated, which is not preferable. In addition, when the thickness of the chrome plating is reduced, the uneven shape produced by hitting the fine particles cannot be sufficiently dulled, and a mold having the desired surface shape cannot be obtained. The produced anti-glare film does not exhibit excellent anti-glare performance.
特許文献1には、鉄の表面にクロムめっきしたローラーにサンドブラスト法やビーズショット法により凹凸型面を形成した後、クロムめっきを施すことが記載され、特許文献2には、金属表面にエッチングやサンドブラストなどの手法によって凹凸を形成することが記載され、また特許文献5及び特許文献6には、ロール表面にビーズショット法やブラスト処理を施すことが記載されている。しかし、本発明に示した方法のように、微粒子をぶつけて凹凸形状を形成した後に表面形状を積極的に鈍らせる加工を施したうえで、クロムめっき加工を施して表面凹凸形状を鈍らせる方法について言及したものはなく、本発明者らの検討によれば、本発明に示した方法のように積極的に表面形状を鈍らせる加工を施さなければ、優れた防眩性能を示す防眩フィルムを製造することはできなかった。 Patent Document 1 describes that a chrome-plated roller is formed on a surface of iron by forming a concavo-convex surface by a sandblasting method or a bead shot method, and Patent Document 2 describes that a metal surface is etched or etched. It is described that irregularities are formed by a technique such as sand blasting, and Patent Document 5 and Patent Document 6 describe that a bead shot method or a blasting process is performed on the roll surface. However, like the method shown in the present invention, after forming a concavo-convex shape by hitting fine particles, the surface shape is actively blunted, and then a chrome plating process is performed to dull the surface concavo-convex shape According to the study by the present inventors, an anti-glare film exhibiting excellent anti-glare performance unless the surface shape is actively dulled as in the method shown in the present invention. Could not be manufactured.
なお、凹凸をつけた金属表面にクロムめっき以外のめっきを施すことは好ましくない。なぜなら、クロム以外のめっきでは、硬度や耐摩耗性が低くなるため、金型としての耐久性が低下し、使用中に凹凸が磨り減ったり、金型が損傷したりする。そのような金型から得られた防眩フィルムでは、十分な防眩機能が得られにくい可能性が高く、また、フィルム上に欠陥が発生する可能性も高くなる。 In addition, it is not preferable to apply plating other than chromium plating to the metal surface with unevenness. This is because plating other than chromium has low hardness and wear resistance, so that the durability as a mold is lowered, and unevenness is worn away during use or the mold is damaged. In an antiglare film obtained from such a mold, there is a high possibility that a sufficient antiglare function cannot be obtained, and there is a high possibility that defects will occur on the film.
前記特許文献6などに開示されているような、めっき後の表面を研磨することも、やはり本発明では好ましくない。研磨することにより、最表面に平坦な部分が生じるため、光学特性の悪化を招く可能性があること、形状の制御因子が増えるため、再現性の良い形状制御が困難になることなどの理由からである。図9は、微粒子をぶつけて得られた凹凸形状を鈍らせる加工、ここでは、図8の(C1)に示したエッチング処理を施した後、同じく(D1)に示したクロムめっきを施した面を研磨した場合に、平坦面が生じた金属板の断面模式図である。研磨により、銅又はニッケルめっき層42の表面に形成されたクロムめっき層47の表面凹凸48のうち、一部の凸が削られて、平坦面49が生じている。図9には、図8の(D1)に示したエッチング後クロムめっきした表面を研磨した場合の例を示したが、図8の(D2)に示した銅めっき後クロムめっきした場合も、その表面を研磨すれば、同様に平坦面が生じることになる。 Polishing the surface after plating as disclosed in Patent Document 6 is also not preferable in the present invention. By polishing, a flat portion is generated on the outermost surface, which may cause deterioration of optical characteristics, and because shape control factors increase, it becomes difficult to control the shape with good reproducibility. It is. FIG. 9 shows a process of dulling the uneven shape obtained by hitting fine particles, here, the surface subjected to the chrome plating shown in (D1) after performing the etching process shown in (C1) of FIG. It is a cross-sectional schematic diagram of the metal plate in which the flat surface was produced when the surface was polished. By polishing, some of the surface irregularities 48 of the chrome plating layer 47 formed on the surface of the copper or nickel plating layer 42 are shaved, resulting in a flat surface 49. FIG. 9 shows an example in which the post-etching chrome-plated surface shown in FIG. 8D1 is polished, but also in the case of chrome-plating after copper plating shown in FIG. If the surface is polished, a flat surface is similarly generated.
次に、このようにして得られる金属金型を用いて、防眩フィルムを製造する工程について説明する。上で説明したような方法で得られる金属金型の形状を透明樹脂フィルムに転写することにより、防眩フィルムが得られる。金型形状のフィルムへの転写は、エンボスにより行うことが好ましい。エンボスとしては、光硬化性樹脂を用いるUVエンボス法、熱可塑性樹脂を用いるホットエンボス法が例示される。 Next, the process of manufacturing an anti-glare film using the metal mold obtained in this way will be described. An antiglare film is obtained by transferring the shape of the metal mold obtained by the method described above to a transparent resin film. The transfer to the mold-shaped film is preferably performed by embossing. Examples of embossing include a UV embossing method using a photocurable resin and a hot embossing method using a thermoplastic resin.
UVエンボス法では、透明基材フィルムの表面に光硬化性樹脂層を形成し、その光硬化性樹脂層を金型の凹凸面に押し付けながら硬化させることで、金型の凹凸面が光硬化性樹脂層に転写される。具体的には、透明な基材フィルム上に紫外線硬化型樹脂を塗工し、塗工した紫外線硬化型樹脂を金属金型に密着させた状態で、透明基材フィルム側から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、その後金属金型から、硬化後の紫外線硬化型樹脂層が形成された透明基材フィルムを剥離することにより、金属金型の形状を紫外線硬化型樹脂に転写する。紫外線硬化型樹脂の種類は特に制限されない。また、紫外線硬化型樹脂という表現をしているが、光開始剤を適宜選定することにより、紫外線より波長の長い可視光でも硬化が可能な樹脂とすることもできる。すなわち、ここでいう紫外線硬化型樹脂とは、このような可視光硬化型の樹脂も含めた総称である。一方、ホットエンボス法では、透明な熱可塑性樹脂フィルムを加熱状態で金属金型に押し付け、金型の表面形状を熱可塑性樹脂フィルムに転写する。これらのエンボス法の中でも、生産性の観点から、UVエンボス法が好ましい。 In the UV embossing method, a photocurable resin layer is formed on the surface of a transparent substrate film, and the photocurable resin layer is cured while pressing the photocurable resin layer against the metal surface. Transferred to the resin layer. Specifically, an ultraviolet curable resin is applied on a transparent base film, and the applied ultraviolet curable resin is in close contact with a metal mold, and ultraviolet rays are irradiated from the transparent base film side. The shape of the metal mold is transferred to the ultraviolet curable resin by curing the ultraviolet curable resin and then peeling the transparent substrate film on which the cured ultraviolet curable resin layer is formed from the metal mold. The kind of ultraviolet curable resin is not particularly limited. Moreover, although expressed as an ultraviolet curable resin, a resin that can be cured even by visible light having a wavelength longer than that of ultraviolet rays can be obtained by appropriately selecting a photoinitiator. That is, the term “ultraviolet curable resin” as used herein is a generic name including such a visible light curable resin. On the other hand, in the hot embossing method, a transparent thermoplastic resin film is pressed against a metal mold in a heated state, and the surface shape of the mold is transferred to the thermoplastic resin film. Among these embossing methods, the UV embossing method is preferable from the viewpoint of productivity.
防眩フィルムの作製に用いることのできる透明基材フィルムは、実質的に光学的に透明であればよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどの樹脂フィルムが挙げられる。 The transparent substrate film that can be used for the production of the antiglare film may be substantially optically transparent, and examples thereof include resin films such as a triacetyl cellulose film and a polyethylene terephthalate film.
紫外線硬化型樹脂としては、市販されているものを用いることができる。例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等の多官能アクリレートをそれぞれ単独で、あるいはそれら2種以上を混合して用い、それと、“イルガキュアー 907”、“イルガキュアー 184”(以上、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)、“ルシリン TPO”(BASF社製)等の光重合開始剤とを混合したものを、紫外線硬化型樹脂とすることができる。 A commercially available product can be used as the ultraviolet curable resin. For example, polyfunctional acrylates such as trimethylolpropane triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate are used alone or in admixture of two or more thereof, and “Irgacure 907”, “Irgacure 184” (above, Ciba A product obtained by mixing a photopolymerization initiator such as “Specialty Chemicals” or “Lucirin TPO” (BASF) can be used as an ultraviolet curable resin.
ホットエンボス法に用いる熱可塑性の透明樹脂フィルムとしては、実質的に透明なものであればいかなるものであってもよく、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィン等の熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどを用いることができる。これらの透明樹脂フィルムはまた、上で説明したUVエンボス法を採用する場合の透明基材フィルムともなりうる。 The thermoplastic transparent resin film used in the hot embossing method may be any film as long as it is substantially transparent. For example, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, norbornene compounds A solvent cast film or an extruded film of a thermoplastic resin such as amorphous cyclic polyolefin as a monomer can be used. These transparent resin films can also be transparent substrate films when the UV embossing method described above is employed.
以上のように構成される本発明の防眩フィルムは、防眩効果に優れ、白ちゃけも有効に防止されるため、画像表示装置に装着したときに視認性に優れたものとなる。画像表示装置が液晶ディスプレイである場合には、この防眩フィルムを偏光フィルムに積層することができる。すなわち、偏光フィルムは一般に、ヨウ素又は二色性染料が吸着配向されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムからなる偏光子の少なくとも片面に保護フィルムが積層された形のものが多いが、このような偏光フィルムの一方の面に、上記のような凹凸が付与された防眩フィルムを貼合すれば、防眩性の偏光フィルムとなる。また、上記のような防眩性の凹凸が付与されたフィルムを、保護フィルム兼防眩層として用い、その凹凸面が外側となるように偏光子の片面に貼合することによっても、防眩性の偏光フィルムとすることができる。さらには、保護フィルムが積層された偏光フィルムにおいて、その片面保護フィルムの表面に上記のような防眩性の凹凸を付与することにより、防眩性の偏光フィルムとすることもできる。 The antiglare film of the present invention configured as described above has an excellent antiglare effect and effectively prevents whitening, and therefore has excellent visibility when mounted on an image display device. When the image display device is a liquid crystal display, this antiglare film can be laminated on a polarizing film. That is, in general, a polarizing film is often in a form in which a protective film is laminated on at least one surface of a polarizer made of a polyvinyl alcohol-based resin film on which iodine or a dichroic dye is adsorbed and oriented. If an antiglare film with the above irregularities is bonded to one surface, an antiglare polarizing film is obtained. In addition, the above-described anti-glare uneven film is used as a protective film and anti-glare layer, and the anti-glare layer is bonded to one side of the polarizer so that the uneven surface is on the outside. It can be set as a polarizing film. Furthermore, in the polarizing film in which the protective film is laminated, the antiglare polarizing film can be obtained by providing the antiglare unevenness as described above on the surface of the single-sided protective film.
本発明の画像表示装置は、以上説明したような特定の表面形状を有する防眩フィルムを画像表示手段と組み合わせたものである。ここで画像表示手段は、上下基板間に液晶が封入された液晶セルを備え、電圧印加により液晶の配向状態を変化させて画像の表示を行う液晶パネルが代表的であるが、その他、プラズマディスプレイパネル、CRTディスプレイ、有機ELディスプレイなど、公知の各種ディスプレイに対しても、本発明の防眩フィルムを適用することができる。そして、上記した防眩フィルムを画像表示手段よりも視認側に配置することで、画像表示装置が構成される。この際、防眩フィルムの凹凸面が外側(視認側)となるように配置される。防眩フィルムは、画像表示手段の表面に直接貼合してもよいし、液晶パネルを画像表示手段とする場合は、例えば先述のように、偏光フィルムを介して液晶パネルの表面に貼合することもできる。このように本発明の防眩フィルムを備えた画像表示装置は、防眩フィルムの有する表面の凹凸により入射光を散乱して映り込み像をぼかすことができ、優れた視認性を与えるものとなる。 The image display device of the present invention is a combination of an antiglare film having a specific surface shape as described above and an image display means. Here, the image display means is typically a liquid crystal panel that includes a liquid crystal cell in which liquid crystal is sealed between upper and lower substrates and displays an image by changing the alignment state of the liquid crystal by applying a voltage. The antiglare film of the present invention can also be applied to various known displays such as panels, CRT displays, and organic EL displays. And an image display apparatus is comprised by arrange | positioning an above-described anti-glare film to the visual recognition side rather than an image display means. Under the present circumstances, it arrange | positions so that the uneven surface of an anti-glare film may become an outer side (viewing side). The antiglare film may be directly bonded to the surface of the image display means. When the liquid crystal panel is used as the image display means, for example, as described above, the antiglare film is bonded to the surface of the liquid crystal panel via the polarizing film. You can also Thus, the image display device provided with the antiglare film of the present invention can scatter incident light due to the unevenness of the surface of the antiglare film, blur the reflected image, and give excellent visibility. .
また、本発明の防眩フィルムを高精細の画像表示装置に適用した場合でも、従来の防眩フィルムに見られたようなギラツキが発生することもなく、低ヘイズでありながら、十分な映り込み防止、白ちゃけの防止、ギラツキの抑制という性能を兼備したものとなる。 In addition, even when the antiglare film of the present invention is applied to a high-definition image display device, the glare as seen in the conventional antiglare film does not occur, and although it has low haze, sufficient reflection It has the functions of prevention, prevention of whitishness, and suppression of glare.
以下に実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。以下の例における金型又は防眩フィルムの評価方法は、次のとおりである。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples. The evaluation method of the metal mold | die or anti-glare film in the following examples is as follows.
1.金型のビッカース硬度の測定
Krautkramer 社製の超音波硬度計“MIC10”を用いて、 JIS Z 2244 に準拠した方法でビッカース硬度を測定した。測定は、金型自体の表面にて行った。
1. Measurement of Vickers hardness of mold
Vickers hardness was measured by a method based on JIS Z 2244 using an ultrasonic hardness tester “MIC10” manufactured by Krautkramer. The measurement was performed on the surface of the mold itself.
2.防眩フィルムの光学特性の測定
(反射率)
防眩フィルムの凹凸面に、フィルム法線に対して30゜傾斜した方向から、He−Neレーザーからの平行光を照射し、フィルム法線と照射方向を含む平面内における反射率の角度変化の測定を行った。反射率の測定には、いずれも横河電機(株)製の“3292 03 オプティカルパワーセンサー”と“3292 オプティカルパワーメーター”を用いた。
2. Measurement of optical properties of antiglare film (reflectance)
The uneven surface of the antiglare film is irradiated with parallel light from a He—Ne laser from a direction inclined by 30 ° with respect to the film normal, and the angle change of reflectance in a plane including the film normal and the irradiation direction is changed. Measurements were made. In the measurement of reflectance, both “3292 03 Optical Power Sensor” and “3292 Optical Power Meter” manufactured by Yokogawa Electric Corporation were used.
(ヘイズ)
JIS K 7136 に準拠した(株)村上色彩技術研究所製のヘイズメーター“HM-150”型を用いて防眩フィルムのヘイズを測定した。測定にあたっては、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合し、その状態で測定に供した。
(Haze)
The haze of the antiglare film was measured using a haze meter “HM-150” manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd. based on JIS K 7136. In the measurement, in order to prevent the sample from warping, it was bonded to a glass substrate using an optically transparent pressure-sensitive adhesive so that the concavo-convex surface became the surface, and the measurement was performed in that state.
(透過鮮明度)
JIS K 7105 に準拠したスガ試験機(株)製の写像性測定器“ICM-1DP” を用いて、防眩フィルムの透過鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。この状態でガラス側から光を入射させ、測定を行った。ここでの測定値は、暗部と明部の幅がそれぞれ 0.125mm、0.5mm、1.0mm及び2.0mm である4種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。この場合の透過鮮明度の最大値は400%となる。
(Transparency definition)
The transmission clarity of the antiglare film was measured using an image clarity measuring device “ICM-1DP” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. in accordance with JIS K 7105. Also in this case, in order to prevent the sample from warping, it was subjected to measurement after being bonded to a glass substrate using an optically transparent adhesive so that the concavo-convex surface became the surface. In this state, light was incident from the glass side and measurement was performed. The measured value here is a total value of values measured using four types of optical combs in which the widths of the dark portion and the bright portion are 0.125 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm, respectively. In this case, the maximum value of the transmission clarity is 400%.
(反射鮮明度)
上と同じ写像性測定器“ICM-1DP” を用いて、防眩フィルムの反射鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。また、裏面ガラス面からの反射を防止するために、防眩フィルムを貼ったガラス板のガラス面に2mm厚みの黒色アクリル樹脂板を水で密着させて貼り付け、この状態でサンプル(防眩フィルム)側から光を入射させ、測定を行った。ここでの測定値は、前述したとおり、暗部と明部の幅がそれぞれ0.5mm、1.0mm及び2.0mm である3種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。
(Reflection sharpness)
The reflection clarity of the antiglare film was measured using the same image clarity measuring device “ICM-1DP” as above. Also in this case, in order to prevent the sample from warping, it was subjected to measurement after being bonded to a glass substrate using an optically transparent adhesive so that the concavo-convex surface became the surface. In addition, in order to prevent reflection from the back glass surface, a 2 mm thick black acrylic resin plate is adhered to the glass surface of the glass plate on which the antiglare film is pasted, and the sample (antiglare film in this state) is attached. ) Side was used for measurement. As described above, the measured value here is a total value of values measured using three types of optical combs in which the widths of the dark part and the bright part are 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm, respectively.
3.防眩フィルムの表面形状の測定
Sensofar 社製の共焦点顕微鏡“PLμ2300”を用いて、防眩フィルムの表面形状を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。測定の際、対物レンズの倍率は50倍とし、解像度を落として測定を行った。高解像度で測定すると、サンプル表面の細かい凹凸を測定してしまい、凸部のカウントに支障をきたすためである。
3. Measurement of surface shape of antiglare film
The surface shape of the antiglare film was measured using a confocal microscope “PLμ2300” manufactured by Sensofar. Also in this case, in order to prevent the sample from warping, it was subjected to measurement after being bonded to a glass substrate using an optically transparent adhesive so that the concavo-convex surface became the surface. At the time of measurement, the magnification of the objective lens was 50 times, and the measurement was performed with a reduced resolution. This is because if the measurement is performed at a high resolution, fine irregularities on the surface of the sample are measured, and the counting of the convex portions is hindered.
(断面曲線における算術平均高さPa、最大断面高さPt及び平均長さPSm)
上で得られた測定データをもとに、 JIS B 0601 に準拠した計算により、算術平均高さPa、最大断面高さPt、及び平均長さPSm を求めた。
(Arithmetic mean height Pa, maximum cross section height Pt, and mean length PSm in the section curve)
Based on the measurement data obtained above, the arithmetic average height Pa, the maximum cross-sectional height Pt, and the average length PSm were obtained by calculation based on JIS B 0601.
(標高ヒストグラム)
上の測定で得られた防眩フィルム表面各点の三次元的な座標値をもとに、先述のアルゴリズムに従って最高点(高さ100%)と最低点(高さ0%)の間を5%刻みで分割し、ヒストグラムを作成して、そのピーク位置を求めた。
(Elevation histogram)
Based on the three-dimensional coordinate values of each point on the surface of the antiglare film obtained in the above measurement, 5 points between the highest point (height 100%) and the lowest point (height 0%) according to the algorithm described above. The peak position was obtained by dividing by% increments and creating a histogram.
(凸部個数)
上の測定で得られた防眩フィルム表面各点の三次元的な座標値をもとに、先に図4を参照して説明したアルゴリズムに従って、200μm×200μmの領域内に存在する凸部の数を求めた。
(Number of convex parts)
Based on the three-dimensional coordinate value of each point on the surface of the antiglare film obtained by the above measurement, according to the algorithm described above with reference to FIG. 4, the convex portions existing in the region of 200 μm × 200 μm I asked for a number.
(ボロノイ分割したときのボロノイ多角形平均面積)
上の測定で得られた防眩フィルム表面各点の三次元的な座標値をもとに、先に図5を参照して説明したアルゴリズムに基づいて計算し、ボロノイ多角形の平均面積を求めた。
(Voronoi polygon average area when Voronoi is divided)
Based on the three-dimensional coordinate values of each point on the antiglare film surface obtained in the above measurement, calculation is made based on the algorithm described above with reference to FIG. 5, and the average area of the Voronoi polygon is obtained. It was.
4.防眩フィルムの防眩性能の評価
(映り込み、白ちゃけ及び質感の目視評価)
防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で凹凸面側から目視で観察し、蛍光灯の映り込みの有無、白ちゃけの程度及び質感を目視で評価した。映り込み、白ちゃけ及び質感は、それぞれ1から3の3段階で次の基準により評価した。
4). Evaluation of anti-glare performance of anti-glare film (visual evaluation of reflection, whitishness and texture)
In order to prevent reflection from the back surface of the antiglare film, the antiglare film is bonded to the black acrylic resin plate so that the uneven surface becomes the surface, and visually observed from the uneven surface side in a bright room with a fluorescent lamp. Then, the presence or absence of reflection of a fluorescent lamp, the degree of whitishness, and the texture were visually evaluated. Reflection, whitishness and texture were evaluated according to the following criteria in three stages of 1 to 3, respectively.
映り込み 1:映り込みが観察されない、
2:映り込みが少し観察される、
3:映り込みが明瞭に観察される。
Reflection 1: Reflection is not observed,
2: Reflection is slightly observed,
3: Reflection is clearly observed.
白ちゃけ 1:白ちゃけが観察されない、
2:白ちゃけが少し観察される、
3:白ちゃけが明瞭に観察される。
White 1: The white is not observed,
2: A little whitish is observed,
3: The whitish is clearly observed.
質感 1:目が細かく、質感が良い、
2:目がやや粗く、質感が少し悪い、
3:目が明らかに粗く、質感が悪い。
Texture 1: Fine eyes, good texture,
2: The eyes are slightly rough and the texture is a little bad.
3: The eyes are clearly rough and the texture is poor.
(ギラツキの評価)
ギラツキは、先に図6及び図7を参照して説明した方法により評価した。すなわち、図6に示すユニットセルのパターンを有するフォトマスクを作製し、これを図7に示すように、フォトマスク33のクロム遮光パターン31を上にしてライトボックス35に置き、1.1mm厚のガラス板37に20μm厚みの粘着剤で防眩フィルム21を貼合したサンプルをフォトマスク33上に置き、サンプルから約30cm離れた位置39から目視観察することにより、ギラツキの程度を7段階で官能評価した。レベル1はギラツキが全く認められない状態、レベル7はひどくギラツキが観察される状態に該当し、レベル3はごくわずかにギラツキが観察される状態である。なお、フォトマスクのユニットセルは、図6におけるユニットセル縦×ユニットセル横が254μm×84μm、したがって同図における開口部縦×開口部横が244μm×74μmのものを用いた。
(Evaluation of glare)
Glare was evaluated by the method described above with reference to FIGS. That is, a photomask having the unit cell pattern shown in FIG. 6 is prepared, and this is placed in the light box 35 with the chrome light-shielding pattern 31 of the photomask 33 facing up, as shown in FIG. A sample in which the antiglare film 21 is bonded to a glass plate 37 with an adhesive having a thickness of 20 μm is placed on a photomask 33, and visually observed from a position 39 that is about 30 cm away from the sample, so that the degree of glare is controlled in seven stages. evaluated. Level 1 corresponds to a state where no glare is recognized, level 7 corresponds to a state where severe glare is observed, and level 3 refers to a state where only slight glare is observed. Note that the unit cell of the photomask has a unit cell length × unit cell width in FIG. 6 of 254 μm × 84 μm, and thus the opening length × opening width in the figure is 244 μm × 74 μm.
[実施例1]
直径200mmの鉄ロール(JIS による STKM13A)の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層/薄い銀めっき層/表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚さは約200μm であった。その銅めっき表面を鏡面研磨し、さらにその研磨面に、ブラスト装置((株)不二製作所製)を用いて、東ソー(株)製のジルコニアビーズ“TZ-SX-17”(商品名、平均粒径20μm )を、ビーズ使用量8g/cm2(ロールの表面積1cm2あたりの使用量、以下「ブラスト量」とする)、ブラスト圧力0.25MPa(ゲージ圧、以下同じ)、微粒子を噴射するノズルから金属表面までの距離300mm(以下「ブラスト距離」とする)でブラストし、表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つき銅めっき鉄ロールに対し、塩化第二銅水溶液でエッチングを行った。その際のエッチング量は4μm となるように設定した。その後、クロムめっき加工を行い、金属金型を作製した。このとき、クロムめっき厚みが4μm となるように設定した。得られた金型は、表面のビッカース硬度が1,000であった。
[Example 1]
A 200 mm diameter iron roll (JIS STKM13A) with a copper ballad plated surface was prepared. The copper ballad plating consists of a copper plating layer / thin silver plating layer / surface copper plating layer, and the total thickness of the plating layer was about 200 μm. The copper-plated surface is mirror-polished, and blasting equipment (manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd.) is used on the polished surface. The zirconia beads “TZ-SX-17” (trade name, average) manufactured by Tosoh Corporation Particle size 20 μm), beads are used 8 g / cm 2 (the amount used per 1 cm 2 of the surface area of the roll, hereinafter referred to as “blast amount”), blast pressure 0.25 MPa (gauge pressure, the same applies hereinafter), fine particles are sprayed Blasting was performed at a distance of 300 mm from the nozzle to the metal surface (hereinafter referred to as “blasting distance”), and the surface was uneven. The obtained copper-plated iron roll with unevenness was etched with an aqueous cupric chloride solution. The etching amount at that time was set to 4 μm. Thereafter, chrome plating was performed to produce a metal mold. At this time, the chromium plating thickness was set to 4 μm. The obtained mold had a surface Vickers hardness of 1,000.
別途、大日本インキ化学工業(株)製の光硬化性樹脂組成物“GRANDIC 806T”(商品名)を酢酸エチルに溶解して、50重量%濃度の溶液とし、さらに、光重合開始剤である“ルシリン TPO”(BASF社製、化学名:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド)を、硬化性樹脂成分100重量部あたり5重量部添加して塗布液を調製した。厚さ80μm のトリアセチルセルロース(TAC)フィルム上に、この塗布液を乾燥後の塗布厚みが5μm となるように塗布し、60℃に設定した乾燥機中で3分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、上で作製した金属金型の凹凸面に、光硬化性樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でTACフィルム側より、強度20mW/cm2 の高圧水銀灯からの光をh線換算光量で200mJ/cm2 となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。この後、TACフィルムを硬化樹脂ごと金型から剥離して、表面に凹凸を有する硬化樹脂とTACフィルムとの積層体からなる透明な防眩フィルムを得た。 Separately, a photocurable resin composition “GRANDIC 806T” (trade name) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. is dissolved in ethyl acetate to obtain a 50% strength by weight solution, which is a photopolymerization initiator. “Lucirin TPO” (manufactured by BASF, chemical name: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide) was added at 5 parts by weight per 100 parts by weight of the curable resin component to prepare a coating solution. This coating solution was applied onto a triacetylcellulose (TAC) film having a thickness of 80 μm so that the coating thickness after drying was 5 μm, and dried in a drier set at 60 ° C. for 3 minutes. The dried film was brought into close contact with the uneven surface of the metal mold produced above with a rubber roll so that the photocurable resin composition layer was on the mold side. In this state, light from a high-pressure mercury lamp having an intensity of 20 mW / cm 2 was irradiated from the TAC film side so that the amount of light in terms of h-line was 200 mJ / cm 2 to cure the photocurable resin composition layer. Thereafter, the TAC film was peeled from the mold together with the cured resin to obtain a transparent antiglare film comprising a laminate of the cured resin having irregularities on the surface and the TAC film.
得られた防眩フィルムについて、光学特性、凹凸表面形状、及び防眩性能を上記した手法により評価し、その結果を、金型の作製条件とともに表1に示した。また、反射率測定の際に得られた反射光の散乱特性(反射プロファイルのグラフ)を図10に、標高のヒストグラムを図11にそれぞれ示した。なお、表1(A)中の反射鮮明度及び透過鮮明度の内訳は、次のとおりである。 About the obtained anti-glare film, the optical characteristics, the uneven surface shape, and the anti-glare performance were evaluated by the method described above, and the results are shown in Table 1 together with the mold production conditions. Further, FIG. 10 shows a scattering characteristic (reflection profile graph) of reflected light obtained in the reflectance measurement, and FIG. 11 shows an altitude histogram. In addition, the breakdown of the reflection definition and the transmission definition in Table 1 (A) is as follows.
反射鮮明度 透過鮮明度
0.125mm 光学くし: − 22.7%
0.5mm 光学くし : 3.0% 19.7%
1.0mm 光学くし : 6.3% 20.8%
2.0mm 光学くし : 9.4% 28.6%
合計 18.7% 91.8%
Reflection sharpness Transmission sharpness 0.125 mm Optical comb: −22.7%
0.5mm optical comb: 3.0% 19.7%
1.0mm optical comb: 6.3% 20.8%
2.0mm optical comb: 9.4% 28.6%
Total 18.7% 91.8%
[実施例2〜3及び比較例1〜2]
金型作製の際のブラスト圧力を表1のように変更し、その他は実施例1と同様にして、表面に凹凸を有する金属金型を作製した。いずれの例でも、得られた金型は、表面のビッカース硬度が 1,000であった。それぞれの金型を用い、実施例1と同様にして、表面に凹凸を有する硬化樹脂とTACフィルムとの積層体からなる透明な防眩フィルムを作製した。得られた防眩フィルムの光学特性、表面形状及び防眩性能を、金型の作製条件とともに表1に示した。表1において、(A)は金型作製条件と防眩フィルムの光学特性をまとめたもの、そして(B)は防眩フィルムの表面形状と防眩性能をまとめたものである。
[Examples 2-3 and Comparative Examples 1-2]
The blast pressure at the time of mold production was changed as shown in Table 1, and the others were the same as in Example 1 to produce a metal mold having irregularities on the surface. In any of the examples, the obtained mold had a surface Vickers hardness of 1,000. Using each mold, a transparent antiglare film comprising a laminate of a cured resin having irregularities on the surface and a TAC film was produced in the same manner as in Example 1. The optical properties, surface shape, and antiglare performance of the obtained antiglare film are shown in Table 1 together with the mold production conditions. In Table 1, (A) summarizes the mold preparation conditions and the optical properties of the antiglare film, and (B) summarizes the surface shape and antiglare performance of the antiglare film.
また、実施例2及び3については、防眩フィルムの反射プロファイルのグラフを実施例1の結果とともに図10に、そして標高のヒストグラムを実施例1の結果とともに図11にそれぞれ示した。比較例1及び2については、防眩フィルムの反射プロファイルのグラフを図12に、そして標高のヒストグラムを図13にそれぞれ示した。 Moreover, about Example 2 and 3, the reflection profile graph of the anti-glare film was shown in FIG. 10 with the result of Example 1, and the histogram of the altitude was shown in FIG. 11 with the result of Example 1, respectively. For Comparative Examples 1 and 2, a reflection profile graph of the antiglare film is shown in FIG. 12, and an altitude histogram is shown in FIG.
[実施例4]
金型作製の際のブラスト圧力を0.3MPa、ブラスト距離を450mmに変更する以外は、実施例1と同様にしてロール表面のブラスト加工を行い、その後、凹凸形状を鈍らせる加工として銅めっきを採用し、その際のめっき厚みを8μm に設定し、その他は実施例1と同様にして、表面に凹凸を有する金属金型を作製した。得られた金型は、表面のビッカース硬度が 1,000であった。その金型を用い、実施例1と同様にして、表面に凹凸を有する硬化樹脂とTACフィルムとの積層体からなる透明な防眩フィルムを作製した。得られた防眩フィルムの光学特性、表面形状及び防眩性能を、金型の作製条件とともに表1に示した。また、防眩フィルムの反射プロファイルのグラフを比較例1及び2の結果とともに図12に、標高のヒストグラムを比較例1及び2の結果とともに図13にそれぞれ示した。
[Example 4]
The roll surface is blasted in the same manner as in Example 1 except that the blast pressure at the time of mold production is changed to 0.3 MPa and the blast distance is changed to 450 mm, and then copper plating is performed as a process for dulling the uneven shape. Adopting and setting the plating thickness at that time to 8 μm, the others were made in the same manner as in Example 1 to produce a metal mold having irregularities on the surface. The obtained mold had a surface Vickers hardness of 1,000. Using the mold, a transparent antiglare film made of a laminate of a cured resin having irregularities on the surface and a TAC film was produced in the same manner as in Example 1. The optical properties, surface shape, and antiglare performance of the obtained antiglare film are shown in Table 1 together with the mold production conditions. In addition, a graph of the reflection profile of the antiglare film is shown in FIG. 12 together with the results of Comparative Examples 1 and 2, and an altitude histogram is shown in FIG. 13 together with the results of Comparative Examples 1 and 2.
表1に示すように、比較例1は、正反射率R(30)が 0.2%を上回っており、またR(40)が 0.005%を下回っているために、十分な防眩性が発現されなかった。比較例2は、正反射率R(30)が 0.04%を下回っているために、白ちゃけが激しかった。また比較例1及び2は、その他の本発明で規定する要件も一部満たしておらず、結果として、十分な防眩性を示しながら低ヘイズであるという性能を兼備していなかった。 As shown in Table 1, in Comparative Example 1, the regular reflectance R (30) is more than 0.2%, and R (40) is less than 0.005%. Sex was not expressed. In Comparative Example 2, since the regular reflectance R (30) was less than 0.04%, the whitening was severe. Further, Comparative Examples 1 and 2 did not satisfy some of the other requirements defined in the present invention, and as a result, they did not have the performance of low haze while exhibiting sufficient antiglare properties.
これに対し、反射プロファイル及び表面形状が本発明の規定を満たす実施例1〜4のサンプルは、映り込みが観察されず、白ちゃけも少なく、ギラツキもほとんど観察されず、優れた防眩性能を示すものであった。 On the other hand, in the samples of Examples 1 to 4 whose reflection profile and surface shape satisfy the provisions of the present invention, reflection is not observed, whiteness is little, glare is hardly observed, and excellent antiglare performance Was shown.
[比較例3及び4]
ブラスト加工に用いる微粒子を、東ソー(株)製のジルコニアビーズ“TZ-B125” (商品名、平均粒径125μm )に変更し、ブラスト量、ブラスト圧力、ブラスト距離、及び表面形状を鈍らせる加工を表2に示すとおりとし、その他は実施例1と同様にして、表面に凹凸を有する金属金型を作製した。得られた金型は、いずれも表面のビッカース硬度が1,000 であった。それぞれの金型を用い、実施例1と同様にして、表面に凹凸を有する硬化樹脂とTACフィルムとの積層体からなる透明な防眩フィルムを作製した。得られた防眩フィルムの光学特性、表面形状及び防眩性能を、金型の作製条件とともに表2に示した。表2において、(A)は金型作製条件と防眩フィルムの光学特性をまとめたもの、そして(B)は防眩フィルムの表面形状と防眩性能をまとめたものである。また、防眩フィルムの反射プロファイルのグラフを図14に、そして、標高のヒストグラムを図15にそれぞれ示した。
[Comparative Examples 3 and 4]
The fine particles used for blasting are changed to the zirconia beads “TZ-B125” (trade name, average particle size 125 μm) manufactured by Tosoh Corporation, and the blasting amount, blasting pressure, blasting distance, and surface shape are blunted. A metal mold having irregularities on the surface was prepared in the same manner as in Example 1 except that it was as shown in Table 2. All of the obtained molds had a surface Vickers hardness of 1,000. Using each mold, a transparent antiglare film comprising a laminate of a cured resin having irregularities on the surface and a TAC film was produced in the same manner as in Example 1. The optical properties, surface shape and antiglare performance of the obtained antiglare film are shown in Table 2 together with the mold production conditions. In Table 2, (A) summarizes the mold preparation conditions and the optical properties of the antiglare film, and (B) summarizes the surface shape and antiglare performance of the antiglare film. Further, a graph of the reflection profile of the antiglare film is shown in FIG. 14, and an altitude histogram is shown in FIG.
比較例3及び4は本発明で規定する要件を満たしておらず、比較例3においては映り込みが観察され、比較例4においては高いレベルのギラツキ及び質感の低下が観察された。ブラスト加工において、平均粒経の大きい微粒子を用いた場合には、ブラスト圧力が弱いか、ブラスト距離が遠いときに、低ヘイズではあるが、映り込みが発生しやすくなる傾向が認められた。一方、ブラスト圧力が強いか、ブラスト距離が近いときには、十分な映り込み防止性能を備えているが、ギラツキが著しく高いレベルになり、また質感が悪くなる傾向が認められた。本発明で規定する優れた防眩性を示しながらヘイズの低い防眩フィルムを得るには、適切な金型作製条件を採用する必要がある。 Comparative Examples 3 and 4 did not satisfy the requirements defined in the present invention, and reflection was observed in Comparative Example 3, and a high level of glare and a decrease in texture were observed in Comparative Example 4. In the blasting process, when fine particles having a large average particle size were used, when the blast pressure was weak or the blasting distance was long, although there was a low haze, there was a tendency that reflection was likely to occur. On the other hand, when the blast pressure is strong or the blast distance is short, it has sufficient anti-reflection performance, but the glare is remarkably high and the texture tends to be poor. In order to obtain an antiglare film having a low haze while exhibiting the excellent antiglare property defined in the present invention, it is necessary to employ appropriate mold preparation conditions.
[比較例5及び6]
直径300mmのアルミニウムロール(JIS による A5056)の表面を鏡面研磨した。得られた鏡面研磨アルミニウムロールの表面に、実施例1で用いたのと同じジルコニアビーズ“TZ-SX-17”を、ブラスト量8g/cm2 、ブラスト圧力0.1MPa、ブラスト距離450mmでブラストし、表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つきアルミニウムロールに2種類の条件で無電解光沢ニッケルめっき加工を行い、金属金型を作製した。めっき厚みは、めっき終了後にβ線膜厚測定器(商品名“フィッシャースコープ MMS”、(株)フィッシャー・インストルメンツから入手)を用いて実測した。これらの金型を用い、実施例1と同様にして、表面に凹凸を有する硬化樹脂とTACフィルムとの積層体からなる透明な防眩フィルムを作製した。得られた防眩フィルムの光学特性、表面形状及び防眩性能を、金型作製の際の無電解ニッケルめっき厚とともに、表3に示した。この表において、(A)は金型作製条件と防眩フィルムの光学特性をまとめたもの、そして(B)は防眩フィルムの表面形状と防眩性能をまとめたものである。また、この防眩フィルムの反射プロファイルを図16に、そして標高のヒストグラムを図17に、それぞれ示した。
[Comparative Examples 5 and 6]
The surface of a 300 mm diameter aluminum roll (JIS A5056) was mirror-polished. The same zirconia beads “TZ-SX-17” as used in Example 1 were blasted on the surface of the obtained mirror polished aluminum roll at a blasting amount of 8 g / cm 2 , a blasting pressure of 0.1 MPa, and a blasting distance of 450 mm. The surface was uneven. The obtained aluminum roll with unevenness was subjected to electroless bright nickel plating under two conditions to produce a metal mold. The plating thickness was measured using a β-ray film thickness measuring device (trade name “Fischerscope MMS”, obtained from Fisher Instruments Co., Ltd.) after the plating was completed. Using these molds, in the same manner as in Example 1, a transparent antiglare film made of a laminate of a cured resin having irregularities on the surface and a TAC film was produced. The optical characteristics, surface shape and antiglare performance of the obtained antiglare film are shown in Table 3 together with the electroless nickel plating thickness at the time of mold production. In this table, (A) summarizes the mold preparation conditions and the optical characteristics of the antiglare film, and (B) summarizes the surface shape and antiglare performance of the antiglare film. Further, the reflection profile of the antiglare film is shown in FIG. 16, and the altitude histogram is shown in FIG.
表3に示すように、比較例5及び6のサンプルは、正反射率R(30)がともに 0.2%を上回り、また、R(40)が 0.005%を下回っているために、十分な映り込み防止性能を発現しなかった。また、ギラツキも発生した。 As shown in Table 3, in the samples of Comparative Examples 5 and 6, the regular reflectance R (30) is both higher than 0.2% and R (40) is lower than 0.005%. It did not exhibit sufficient anti-reflection performance. Glare also occurred.
[比較例7〜12]
住友化学(株)が販売する偏光板“スミカラン”に防眩層として使用されており、紫外線硬化樹脂中にフィラーが分散されてなる防眩フィルム “AG1”、 “AG3”、 “AG5”、“AG6”、“AG8”、“SL6” (それぞれ比較例7から比較例12とする)について、それぞれの光学特性、表面形状及び防眩性能を前述した手法により評価し、その結果を表4に示した。表4において、(A)は防眩フィルムの光学特性をまとめたもの、そして(B)は防眩フィルムの表面形状と防眩性能をまとめたものである。また、反射プロファイルのグラフを図18に、標高のヒストグラムを図19にそれぞれ示した。図18及び図19において、それぞれ(A)は比較例7〜9の結果であり、(B)は比較例10〜12の結果である。
[Comparative Examples 7-12]
Anti-glare films “AG1,” “AG3,” “AG5”, “AG5” are used as an antiglare layer in the polarizing plate “Sumikaran” sold by Sumitomo Chemical Co., Ltd. For AG6 "," AG8 ", and" SL6 "(respectively referred to as Comparative Example 7 to Comparative Example 12), the respective optical characteristics, surface shape, and antiglare performance were evaluated by the above-described methods, and the results are shown in Table 4. It was. In Table 4, (A) summarizes the optical characteristics of the antiglare film, and (B) summarizes the surface shape and antiglare performance of the antiglare film. Further, a reflection profile graph is shown in FIG. 18, and an altitude histogram is shown in FIG. In FIG.18 and FIG.19, (A) is a result of Comparative Examples 7-9, respectively, (B) is a result of Comparative Examples 10-12.
表4に示すように、比較例7〜12の中に本発明で規定する要件を満たすものはなく、結果として、十分な映り込み防止、低ヘイズ、白ちゃけ防止、及びギラツキ防止の全てを兼ね備えた防眩フィルムは存在しなかった。比較例7及び8の防眩フィルムは、正反射率R(30)が0.2%を上回り、またR(40)が0.005%を下回るために、十分な映り込み防止性能を示さなかった。また、ギラツキも顕著であった。比較例9及び11の防眩フィルムは、R(40)が 0.005%を下回るために、映り込み防止性能が十分ではなかった。比較例10の防眩フィルムは、R(50)が 0.0015%を上回るために、白ちゃけが発生していた。比較例12の防眩フィルムは、R(30)、R(40)及びR(50)においては本発明の規定を満たしていたが、その他の要件を満たさないために、結果として、十分な映り込み防止、低ヘイズ、白ちゃけ防止、及びギラツキ防止の全てを兼ね備えてはいなかった。 As shown in Table 4, none of the Comparative Examples 7 to 12 satisfies the requirements defined in the present invention, and as a result, sufficient reflection prevention, low haze, whitening prevention, and glare prevention are all achieved. There was no anti-glare film. The anti-glare films of Comparative Examples 7 and 8 do not exhibit sufficient anti-reflection performance because the regular reflectance R (30) is more than 0.2% and R (40) is less than 0.005%. It was. Also, glare was noticeable. Since the anti-glare films of Comparative Examples 9 and 11 had R (40) of less than 0.005%, the anti-reflection performance was not sufficient. In the antiglare film of Comparative Example 10, R (50) exceeded 0.0015%, and thus whitening occurred. The antiglare film of Comparative Example 12 satisfied the provisions of the present invention in R (30), R (40) and R (50), but did not satisfy the other requirements. It did not have all of prevention of jamming, low haze, whitening prevention, and glare prevention.
以上の結果より、本発明で規定する要件をバランスよく備えていることが、本発明の目的とする光学特性を達成するのに必要であることがわかった。 From the above results, it was found that having the requirements defined in the present invention in a well-balanced manner is necessary for achieving the optical characteristics aimed by the present invention.
本発明の防眩フィルムを、液晶パネル、プラズマディスプレイパネル、CRTディスプレイ、有機ELディスプレイなどの各種ディスプレイに対し、その防眩フィルムが画像表示素子よりも視認側となるように配置することで、白ちゃけ及びギラツキを発生させることなく、映り込み像をぼかすことができ、優れた視認性を与えるものとなる。 By disposing the antiglare film of the present invention on various displays such as a liquid crystal panel, a plasma display panel, a CRT display, and an organic EL display so that the antiglare film is closer to the viewing side than the image display element. It is possible to blur the reflected image without generating a blur and a glare, and to provide excellent visibility.
11……防眩フィルム、
12……フィルム法線、
13……入射光線方向、
15……正反射方向、
16……任意の反射方向、
18……入射光線方向とフィルム法線を含む面、
θ……反射角、
21……防眩フィルム上の任意の点、
22……防眩フィルム表面、
23……フィルム基準面、
24……防眩フィルム上の任意の点を中心とする円のフィルム基準面への投影円、
26……凸部頂点の投影点(ボロノイ分割の母点)、
27……ボロノイ多角形、
28……平均値にカウントしない測定視野境界に接するボロノイ多角形、
30……フォトマスクのユニットセル、
31……フォトマスクのクロム遮光パターン、
32……フォトマスクの開口部、
33……フォトマスク、
35……ライトボックス、
36……光源、
37……ガラス板、
39……ギラツキの観察位置、
41……金属基材、
42……銅又はニッケルめっき層、
43……研磨面、
44……微粒子をぶつけて形成される凹面、
45……銅めっき層、
46a……微粒子をぶつけて形成される凹凸面をエッチングによって鈍らせた面、
46b……微粒子をぶつけて形成される凹凸面を銅めっきによって鈍らせた面、
47……クロムめっき層、
48……クロムめっき後に残る凹凸面、
49……クロムめっき後の表面を研磨したときに発生する平坦面。
11 ... Anti-glare film,
12 ... Film normal,
13: Incident light direction,
15 …… Specular reflection direction,
16 …… Any reflection direction,
18 …… Surface including incident light direction and film normal,
θ …… Reflection angle,
21 …… Any point on the antiglare film,
22 …… Anti-glare film surface,
23 …… Film reference plane,
24 …… A projected circle of a circle centered on an arbitrary point on the antiglare film on the film reference plane,
26 …… Projection point of convex part vertex (voron point of Voronoi division),
27 …… Voronoi polygon,
28 ...... Voronoi polygon that touches the measurement field boundary not counted as an average value,
30 …… Photomask unit cell,
31 …… Photomask chrome shading pattern,
32 …… Photomask opening,
33 …… Photomask,
35 …… Light box,
36 …… Light source,
37 …… Glass plate,
39 …… Glazing observation position,
41 …… Metal substrate,
42 …… Copper or nickel plating layer,
43 …… Polished surface,
44. Concave surface formed by hitting fine particles,
45 …… Copper plating layer,
46a: a surface obtained by etching an uneven surface formed by hitting fine particles,
46b: a surface in which the uneven surface formed by hitting the fine particles is dulled by copper plating,
47 …… Chrome plating layer,
48 .. Uneven surface remaining after chrome plating,
49. Flat surface generated when the surface after chromium plating is polished.
Claims (4)
入射角30゜で入射した光に対し、反射角30゜の反射率R(30)が0.04%以上0.2%以下で、反射角40゜の反射率R(40)が0.005%以上0.02%以下で、反射角50゜の反射率R(50)が0.0015%以下であり、かつ
入射角30゜で入射した光に対し、反射角35°の方向における反射率をR(35)として、R(35)/R(30)の値が0.4以上0.8以下であり、
フィルム凹凸表面の任意の断面曲線における算術平均高さPaが0.09μm以上0.21μm以下であり、
フィルム凹凸表面の任意の断面曲線における最大断面高さPtが0.5μm以上1.2μm以下であり、
フィルム凹凸表面の任意の断面曲線における平均長さPSmが12μm以上20μm以下であり、
フィルム凹凸表面における各点の標高をヒストグラムで表したときに、ヒストグラムのピークが、最高点(高さ100%)と最低点(高さ0%)の中間点(高さ50%)を中心に±10%以内の範囲に存在し、
200μm×200μmの領域内に150個以上350個以下の凸部を有し、
フィルム表面凹凸の凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割したときに形成される多角形の平均面積が100μm 2 以上300μm 2 以下であることを特徴とする防眩フィルム。 It is an antiglare film in which fine irregularities are formed on the surface,
For light incident at an incident angle of 30 °, the reflectance R (30) at a reflection angle of 30 ° is 0.04% or more and 0.2% or less, and the reflectance R (40) at a reflection angle of 40 ° is 0.005. The reflectance R (50) at a reflection angle of 50 ° is 0.0015% or less at a reflection angle of 35 ° to 0.02%, and the reflectance in the direction of a reflection angle of 35 ° with respect to light incident at an incidence angle of 30 °. as R (35), R (35 ) / the value of R (30) is Ri der 0.4 to 0.8,
Arithmetic mean height Pa in an arbitrary cross-sectional curve of the film uneven surface is 0.09 μm or more and 0.21 μm or less,
The maximum cross-sectional height Pt in an arbitrary cross-sectional curve of the film uneven surface is 0.5 μm or more and 1.2 μm or less,
The average length PSm in an arbitrary cross-sectional curve of the film uneven surface is 12 μm or more and 20 μm or less,
When the elevation of each point on the uneven film surface is represented by a histogram, the peak of the histogram is centered on the middle point (height 50%) between the highest point (height 100%) and the lowest point (height 0%). Exists within ± 10%,
150 to 350 convex portions in a 200 μm × 200 μm region,
An anti-glare film, wherein an average area of a polygon formed when a surface is Voronoi-divided with a vertex of a convex portion of the film surface unevenness being a base point is 100 μm 2 or more and 300 μm 2 or less .
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