KR20100012954A - 롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 광원에 대해 도광판 전체의 휘도값을 균일하게 하여 광효율을 높임과 동시에 광편차를 최소화할 수 있는 반사 패턴을 얻기 위해, 포토리소그라피 공정을 이용하여 도광판 마스터를 제작하고, 이를 이용하여 평면 또는 롤 스탬퍼를 제작하여, 스탬핑 방식 또는 롤투롤 방식으로 투명 필름에 3차원 형상의 패턴을 구현한 다음, 이를 롤투롤 방식으로 도광판에 부착하는 단계를 통해 도광판에 다양한 반사 패턴을 형성할 수 있는, 롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법에 관한 것이다.

본 발명에 따른 도광판은, 기재에 패턴을 형성하여 도광판 마스터를 제작하는 단계; 상기 도광판 마스터를 이용하여 스탬퍼를 제작하는 단계; PET 또는 PC 필름상에 광경화성 몰딩 수지를 공급하면서 상기 스탬퍼를 이용하여 롤투롤 공정으로 상기 광경화성 몰딩 수지상에 상기 패턴을 전사하는 단계; PMMA 판의 한 면에 PSA(압력 감음성 접착제) 나 UV 점착제를 코팅한 다음, 상기 패턴이 전사된 몰딩 수지를 얹고, 롤투롤 방식으로 상하부의 러버 롤에 의해 가압하여 부착하는 단계;에 의해 제조되는 것을 구성적 특징으로 한다.

도광판, 산란패턴, 감광성 수지층, 마스크, 백라이트 유닛

Description

롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조방법{A Method of Manufacturing a Light Guide Plate using roll to roll process}

본 발명은 롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 디스플레이 장치에 광원을 공급하는 백라이트 유닛에 구비되는 광원에 대해 도광판 전체의 휘도값을 균일하게 하여 광효율을 높임과 동시에 광편차를 최소화할 수 있는 반사 패턴을 얻기 위해, 포토리소그라피 공정을 이용하여 도광판 마스터를 제작하고, 이를 이용하여 평면 또는 롤 스탬퍼를 제작한 후, 스탬핑 방식 또는 롤투롤 방식으로 투명 필름에 3차원 형상의 패턴을 구현한 다음, 이를 롤투롤 방식으로 도광판에 부착하는 단계를 통해 도광판에 다양한 반사 패턴을 형성할 수 있는, 롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법에 관한 것이다.

나날이 발전하고 있는 반도체 기술을 중심으로 하여, 소형화되고 경량화되면서 성능은 더욱 향상된 평판 표시장치의 수요가 급속하게 늘어나고 있다. 이러한 평판 표시장치 중에서 최근 주로 사용되고 있는 액정표시장치(liquid crystal display, LCD)는 기존의 CRT 방식의 디스플레이 장치보다 훨씬 박막으로 제조가 가 능하며 무게가 가볍고, 전력 소비 감소 등의 장점을 가지고 있어 기존의 브라운관을 대체하는 수단으로 자리 잡게 되었다.

그러나, 액정 표시장치에서 액정은 스스로 발광하지 못하는 수광소자이므로, 이를 디스플레이에 이용하기 위해서는 별도의 광원을 이용한 조명장치가 필요하게 된다. 이때 사용되는 광원으로는 주로 냉음극 형광램프(Cold Cathode Fluorescent Lamp, CCFL)이 사용되어 왔으며, CCFL이 설치되는 위치에 따라 에지방식과 직하방식 등으로 구분된다.

그러나 CCFL에 내부에는 일정량의 수은과, 아르곤, 네온 등의 혼합 가스가 들어 있어 중금속으로 인한 환경문제를 일으키고, CCLF의 구조상 초박형 디스플레이를 제작하는 데 걸림돌이 되고 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해 최근에는 점광원인 LED를 이용한 디스플레이가 제조되고 있다.

액정을 이용한 디스플레이 장치에서는 디스플레이 전면의 휘도 분포가 매우 일정해야 하는데, 단순히 CCFL이나 LED 조명만으로 고른 휘도를 갖는 디스플레이를 구현하기는 어렵다. 따라서 광원의 분포 및 위치에 따른 휘도 분포를 고르게 변경하는 역할을 하는 도광판이 사용된다. 구체적으로 도광판은 광원에서 입사된 선광원 분포를 갖는 광이나 점광원 분포를 갖는 광을 인가받아 면광원 형태로 변경하는 역할을 한다. 액정 표시장치에서 광 특성은 선이나 점광원을 면광원으로 얼마나 균일하고 효율적으로 변환시켜 줄 수 있는지에 달려있다. 이러한 기능을 위해 도광판 이외에 반사필름, 확산필름, 프리즘 필름 등이 사용되고 있으나 그 중에서도 도광판의 역할이 가장 크다.

종전의 대형 액정 TV는 직하형으로 광원을 배치하여 도광판의 역할이 거의 필요없었으나 발열 및 두께를 줄여 슬림화하려면 광원을 측면으로 배치해야만 한다. 광원을 측면으로 배치하는 에지방식에서, 램프 유닛은 빛을 발산하는 램프, 램프의 양단에 삽입되어 램프를 보호하는 램프 홀더 및 램프의 외주면을 감싸고 일측면이 도광판의 측면에 끼워져 램프에서 발산된 빛을 도광판 쪽으로 반사시켜 주는 램프 반사관을 구비한다. 이와 같은 에지 방식은 빛의 균일성이 좋고, 내구 수명이 길며, 액정표시장치의 박형화에 유리하다. 이에 따라 대형 액정 디스플레이용 도광판의 개발에 대한 요구가 늘어나게 되었으며, 이러한 시장의 요구에 부응하기 위하여 많은 업체에서 다양한 방법으로 빛의 밝기, 균일도 및 생산성이 증가된 대형 도광판 개발을 진행하였다.

도광판은 사출성형법, 캐스팅(casting)법, 압출법 등에 의해 제조될 수 있으며, 도광판 내부로 유입된 광은 반사/전반사/굴절/투과 등의 광학적 과정의 반복으로 불균일한 광분포를 가지는데, 이를 균일한 밝기로 유도하고 광손실을 줄이기 위해 2차원적인 광분산 패턴을 이용하여 면광원을 형성한다.

도광판의 패턴을 형성하는 방법은 크게 인쇄방식과 무인쇄방식으로 분류되며, 각각 제조공정, 생산성, 가격 등에서 장단점을 갖는다.

인쇄방식 패턴 형성방법은 원판을 절단한 후 사출한 쐐기형 도관판 배면에 확산 도트를 실크 스크린법으로 인쇄하는 것으로, 개발 시간 및 제작 시간이 짧고 재현성이 좋으나 인쇄 도광판 제작 공정이 복잡하고 부가 설비가 많이 필요한 단점을 갖는다.

무인쇄방식 패턴 형성방법에는 Sibo 성형방식, 스탬퍼 성형방식, V 커팅 방식, 스탬핑 방식 등이 있는데, Sibo 성형방식은 금형에 부착하는 코어 표면에 샌드 블라스트를 이용하여 미세한 홈을 가공하여 사출 성형하는 방식이며, 스탬퍼 방식은 스테인리스 시트에 에칭 및 레이저가공 등으로 산란 패턴 형상을 가공하고 박판을 금형에 장착하여 사출성형하는 방식이며, V 커팅 방법은 평판 도광판 하단에 다이아몬드 커터를 이용하여 V 홈을 가공하는 방법으로 선의 깊이, 선의 밀집 정도로 관 산란성을 조절하는 방법이며, 스탬핑 방식은 패턴 형상을 Ni 시트에 가공하고 상하단에 장착된 히팅 롤(Heating Roll) 사이로 LGP를 통과시켜 복합형 패턴을 찍어내는 방법이며, 상기와 같은 다양한 패턴 형성방법은 등록특허 제0413837호, 등록특허 제0680569호 등에 개시되어 있다.

그러나 상기와 같은 패턴 형성 방법은 대면적 패턴을 형성하는 방법이 극히 제한적일 뿐만 아니라 생산성이나 면광원으로서의 기능 면에서 부족한 상황이고, 제작 비용 또한 매우 비싼 문제점을 갖는다. 이에 따라 레이저가공이나 NC 등을 이용한 가공 방법 등이 사용되고 있으나 이 또한 높은 설비 투자비가 필요하고 가동 시간이 길다는 단점을 갖는다.

본 발명의 목적은 상기와 같은 패턴 형성방법이 갖는 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 포토리소그라피를 이용하여 도광판 마스터를 제조한 다음에 이 를 이용하여 평면 또는 롤 스탬퍼를 제조한 후, 패턴 롤을 이용한 스탬핑 방식 또는 롤투롤 방식으로 설계한 패턴을 PET 필름에 대량 복제하여 롤투롤 방식으로 도광판에 접착제를 사용하여 부착함으로써 복잡하고 다양한 도광판 패턴을 형성할 수 있고, 설비 투자 비용면에서도 효율적이고, 생산속도 면에서도 개선된 도광판 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 포토리소그라피를 이용하여 대형 마스터를 제작함으로써 대형 패턴 개발이 용이하며, 제작된 마스터를 사용하여 평판 스탬퍼나 패턴 롤을 제작하여 대량 생산이 가능한 도광판 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 도광판의 하부 및 상부에 반사 패턴 및 광확산층을 동시에 부착함으로써 도광판 제조공정을 단순화하고자 하는 것이다.

상기와 같은 문제 해결을 위하여 본 발명에 따른 롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조방법은, 기재에 패턴을 형성하여 도광판 마스터를 제작하는 단계; 상기 도광판 마스터를 이용하여 스탬퍼를 제작하는 단계; PET 또는 PC 필름상에 광경화성 몰딩 수지를 공급하면서 상기 스탬퍼를 이용하여 롤투롤 공정으로 상기 광경화성 몰딩 수지상에 상기 패턴을 전사하는 단계; PMMA 판의 한 면에 PSA(압력 감음성 접착제) 나 UV 점착제를 코팅한 다음, 상기 패턴이 전사된 몰딩 수지를 얹고, 롤투롤 방식으로 상하부의 러버 롤에 의해 가압하여 부착하는 단계;로 구성되는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조방법은, 기재에 패턴을 형성하여 도광판 마스터를 제작하는 단계; 상기 도광판 마스터를 이용하여 스탬퍼를 제작하는 단계; PMMA 판에 UV 경화형 수지를 코팅하는 단계; 상기 UV 경화형 수지상에 상기 스탬퍼를 올려놓고, 상기 스탬퍼 상에서 자외선을 조사하여 경화시키는 단계; UV 경화형 수지를 현상액에 담가 현상한 후, 세척하고 건조하는 단계에 의해 제조되는 것을 구성적 특징으로 한다.

바람직하게는, 도광판 마스터는, 기재에 드라이 필름 레지스트를 라미네이팅하여 부착하는 단계; 상기 드라이 필름 레지스트 상에 패턴 포토 마스크를 얹고 상기 기재 하부에서 자외선을 노광하는 단계; 노광이 끝난 후 기재에 적층된 드라이 필름 레지스트를 현상액에 담가 현상하는 단계; 패턴이 형성된 상기 기재를 상기 현상액에서 꺼내어 불순물을 세척하는 단계; 패턴이 형성된 상기 기재를 드라이 에어 또는 질소로 건조하는 단계; 및 열 또는 자외선을 가하여 완전 경화하는 단계에 의해 제작될 수 있다.

바람직하게는, 스탬퍼는, 상기 마스터에 형성된 패턴 위에 스퍼터링 또는 무전해 도금을 이용하여 금속 씨드층을 올리는 단계; 상기 금속 씨드층에 전주 가공 공정을 이용하여 역상의 금속 패턴을 형성하는 단계; 형성된 상기 역상의 금속 패턴을 상기 금속 씨드층에서 탈형하는 단계; 탈형한 상기 역상의 금속 패턴 표면에 경면처리를 하는 단계;에 의해 제작될 수 있다.

이상에서 설명한 것과 같은 본 발명에 따른 롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조방법은, PET 필름에 광 도파로를 롤투롤 방식으로 형성하여 부착함으로써 작업 속도를 크게 개선하고 생산량을 늘릴 수 있다.

또, 포토리소그라피를 이용하여 대형 마스터를 제작함으로써 대형의 도광판 패턴을 구형할 수 있고, 평판 스탬퍼 또는 패턴 롤을 사용하여 패턴이 구현된 도광판의 대량 생산이 가능하다.

또, 도광판의 하부 및 상부에 도광판 반사 패턴 및 광확산층을 동시에 부착함으로써 BLU(Back Light Unit) 제조공정을 단순화할 수 있다.

도광판 제조 공정에 필요한 마스터 패턴을 제조하기 위해 종래에는 인쇄방식, 레이저 가공, NC가공 등을 이용하였으나, 본 발명에 따르는 롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조방법에서는 드라이 필름 레지스트, 액상 포토레지스트 또는 기타 감광성 UV수지를 이용하여 마스터 패턴을 제조하며, 또한, 금속 평판이나 금속 롤에 마스터 패턴을 직접 가공할 수도 있다.

드라이 필름 레지스트, 액상 포토레지스트 또는 기타 감광성 UV수지로 마스터 패턴을 제작한 경우, 스퍼터링, 무전해 도금 등을 이용해 마스터 패턴 상에 적당한 금속으로 씨드층(seed layer)를 형성하여 전주도금을 이용해 평판 스탬퍼나 롤 스탬퍼로 가공할 수 있는데, 금속 씨드층 대신 실리콘이나 우레탄 몰드로 가공할 수도 있으며, 일정 경도가 있는 재료를 사용하여 소프트 몰드로 제작할 수도 있다.

제작한 평판 스탬퍼, 롤 스탬퍼 또는 소프트 몰드와 적당한 용매로 희석한 UV 수지를 이용하여 변형 패턴을 제작할 수도 있으며, 시뮬레이션을 통하여 제작하고 실제 제작한 결과를 피드백 받아 개선하여 최적의 패턴을 도출할 수 있다. 패턴은 도광판 광원의 위치, 분포 등을 고려하여 패턴의 크기 및 분포도에 변화를 주어 광원이 도광판 전면에 고르게 퍼질 수 있도록 설계되며, 패턴은 원형, 타원형, 직선 등 여러 형상으로 제작될 수 있으며, 도2에 도시된 바와 같이 다양한 패턴이 적용된 도광판을 제작할 수 있다.

이하 본 발명을 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다.

도3은 본 발명에 따르는 도광판 마스터 제조 공정을 순차적으로 나타내는 도면이다.

도광판 패턴 제조에 필요한 마스터 패턴을 제조하기 위해, 감광성 물질로 드 라이 필름 레지스트를 사용할 경우, 일정온도에서 기재상에 드라이필름 레지스트를 라미네이팅하여 부착하고, 액상 포토 레지스트 또는 감광성 UV 수지를 감광성 물질로 사용할 경우에는 기재에 스핀 코팅 또는 스핀리스 코팅한다. 기타 방법으로는 NC 가공, 레이저 가공 및 롤에 직접 패턴을 각인시켜 사용할 수도 있다. 이때 기재에 라미네이팅 또는 코팅되는 패턴은 원형, 타원형, 직선 등의 형태를 갖는 광도파로 역할을 하는 패턴이다. 또한 사용되는 기재의 재질은 금속(SUS304, SUS430, SUS301, Cu, Ni 등) 또는 필름(PET, PC 등)이다.

라미네이팅 또는 코팅 공정후 드라이 필름 레지스트, 액상 포토 레지스트 또는 감광성 UV 수지층 상에 패터닝된 포토 마스크를 올려놓은 후 포토 마스크 상에서 자외선을 노광하여 드라이필름 레지스트, 액상 포토 레지스트 또는 감광성 UV 수지층을 경화시킨 후, 현상 공정을 통해 경화되지 않은 부분을 식각처리하고, 린스, 건조 단계를 거친 다음, 열이나 자외선을 이용하여 완전히 경화시킴으로써 도광판 마스터를 제작한다.

도광판 패턴 제조에 사용되는 드라이 필름 레지스트는 그 두께가 25 ~ 100㎛이며, 액상 포토 레지스트는 네가티브 또는 포지티브 타입을 모두 사용할 수 있는데, 감광성 물질이 네가티브형이면 빛을 받은 부분이 패턴으로 형성되녀, 포지티브형인 경우는 반대로 빛을 받지 못한 부분이 패턴으로 형성되고, 감광성 UV 수지는 에폭시, 우레탄, 아크릴 계열 수지이다. 경화되지 않은 수지층을 식각하기 위한 현상에 사용되는 현상액은 알칼리 현상액 또는 용제 타입 현상액이며, 린스에 사용되는 용액은 이소프로필 알콜(IPA) 또는 순수(Deionized Water, DI)이고, 현상된 마 스턴 판 건조에는 드라이 에어 또는 질소를 사용할 수 있다.

도4는 제작된 마스터 판을 이용하여 스탬퍼를 제작하는 공정을 순차적으로 나타내는 도면이다.

패터닝된 마스터 판을 이용하여 제조되는 스탬퍼에는 하드 몰드 및 소프트 몰드가 있는데, 소프트 몰드는 실리콘, 우레탄, 에폭시 등을 마스터 패턴 상에 코팅한 후 자외선에 노광하여 경화시킴으로써 제작할 수 있다. 하드 몰드는 마스터 표면에 씨드층(Seed Layer)을 올린 후 전주 가공하여 제작할 수 있는데, 전주가공은 전기도금을 이용하여 원형과 똑같은 모양의 것을 복제하기 위한 것이다.

비 금속성 마스터를 사용할 경우에는 표면에 도전성을 주기 위해 흑연 가루, 구리 가루 등을 칠하거나 금, 은의 얇은 막을 입히고, 금속성 마스터(하드 몰드)를 사용할 경우에는 산화물 흑연가루로 얇은 막을 만든 다음 전해조에 넣고 전류를 흘러 금속 씨드층 위에 니켈 등의 전주용 금속으로 전주가공 공정을 통해 역상의 금속 패턴을 전착한 후 역상의 금속 패턴이 일정 두께 이상으로 형성되면 마스터 몰드에서 탈형한 후 표면을 경면처리한다. 표면에 경면처리를 한 후 평판 스탬퍼로 사용하거나 실린더 롤에 부착하여 롤 스템퍼 형태로 사용할 수도 있다.

하드 몰드 제조에 필요한 씨드층은 니켈, 알루미늄, 구리 등이 사용될 수 있으며, 전주로는 니켈이 주로 많이 사용된다.

평판 스탬퍼나 롤 스탬퍼를 이용하여 패턴을 대량 복제하는 방법으로는 도5 에 도시된 바와 같이, 롤투롤 공정을 사용하는데, 광경화성 수지를 주입함과 동시에 평판 스탬퍼나 롤 스탬퍼를 이용하여 가압하면서 하부에서 UV 광을 조사하여 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 평판 스탬퍼나 롤 스탬퍼 모두 패턴을 대량 복제하는 데 사용할 수 있으나, 생산성 및 작업성 면에서는 롤 스탬퍼를 이용한 롤투롤 공정이 더욱 바람직하다.

롤투롤 공정에 의해 PET 필름에 형성된 패턴을 롤 형태로 제작한 후, 도6에 도시된 바와 같이, PMMA 판의 양면에 압력 감응식 접착제(PSA) 또는 UV 접착제를 코팅한 후, 롤 형태의 패턴을 한쪽 면에 얹고, 다른 한 면에 확산 시트나 프리즘 시트를 포함하는 확산층을 얹은 후, 상하부에 있는 고무 재질의 롤을 통과하여 가압함으로써 부착할 수 있다.

이처럼 롤 패턴 및 확산층을 동시에 PMMA 판에 부착할 수 있으므로, BLU 제조공정이 단순화되고, 생산 속도도 향상시킬 수 있다. PMMA 판에 부착되는 패턴의 형태는 프리즘, 마이크로 렌즈, 타원형 등이 있을 수 있으며, 단위 형상이나 선 패턴 형태도 가능하다.

본 발명에 따르는 롤투롤 방법을 이용한 도광판 제조 방법의 다른 실시예에 따르면, 도광판을 제조하기 위해, 상기 실시예처럼 도광판 마스터, 스탬퍼를 이용하여 PET 필름상에 형성한 패턴을 PMMA 판에 PSA(압력 감음성 접착제) 나 UV 점착제를 사용하여 롤투롤 방식으로 부착하는 것과 달리, PMMA 판 상에 직접 UV 경화형 수지를 코팅한 후, 그 위에 상기 방법으로 제작되어 경면처리된 스탬퍼를 올려놓고, 스탬퍼 상에서 자외선을 조사하여 패턴을 형성할 수도 있다.

즉, PMMA 판에 UV 경화형 수지를 코팅하고 코팅된 상기 UV 경화형 수지상에 전술한 방법에 의해 제조된 스탬퍼를 올려놓고, 상기 스탬퍼 상에서 자외선을 조사하여 경화시키고, 상기 UV 경화형 수지를 현상액에 담가 현상한 후, 세척하고 건조하는 단계에 의해 구성될 수 있다.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사항을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이런 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

도1은 본 발명에 따르는 도광판의 단면도이다.

도2는 본 발명에 따르는 도광판의 다양한 패턴을 나타내는 도면이다.

도3은 본 발명에 따르는 도광판 마스터 제조 공정을 순차적으로 나타내는 도면이다.

도4는 본 발명에 따라 제작된 마스터 판을 이용하는 스탬퍼 제조 공정을 순차적으로 나타내는 도면이다.

도5는 본 발명에 따라 평판 스탬퍼를 사용하여 롤투롤 공정으로 패턴을 대량 복제하는 공정을 나태내는 도면이다.

도6은 본 발명에 따라 롤 스탬퍼를 사용하여 롤투롤 공정으로 패턴을 대량 복제하는 공정을 나태내는 도면이다.

도7은 본 발명에 따라 제작되는 도광판 생산 공정을 나타내는 도면이다.

** 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 **

10 : 확산층 20 : PMMA

30 : PET 40 : 도파관 패턴

Claims (16)

1. 기재에 패턴을 형성하여 도광판 마스터를 제작하는 단계;

   상기 도광판 마스터를 이용하여 스탬퍼를 제작하는 단계;

   PET 또는 PC 필름상에 광경화성 몰딩 수지를 공급하면서 상기 스탬퍼를 이용하여 롤투롤 공정으로 상기 광경화성 몰딩 수지상에 상기 패턴을 전사하는 단계;

   PMMA 판의 한 면에 PSA(압력 감음성 접착제) 나 UV 점착제를 코팅한 다음, 상기 패턴이 전사된 몰딩 수지를 얹고, 롤투롤 방식으로 상하부의 러버 롤에 의해 가압하여 부착하는 단계에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는

   롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
2. 기재에 패턴을 형성하여 도광판 마스터를 제작하는 단계;

   상기 도광판 마스터를 이용하여 스탬퍼를 제작하는 단계;

   PMMA 판에 UV 경화형 수지를 코팅하는 단계;

   상기 UV 경화형 수지상에 상기 스탬퍼를 올려놓고, 상기 스탬퍼 상에서 자외선을 조사하여 경화시키는 단계;

   UV 경화형 수지를 현상액에 담가 현상한 후, 세척하고 건조하는 단계;에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는

   롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,

   상기 도광판 마스터는,

   상기 기재에 드라이 필름 레지스트를 라미네이팅하여 부착하는 단계;

   상기 드라이 필름 레지스트 상에 패턴 포토 마스크를 얹고 상기 기재 하부에서 자외선을 노광하는 단계;

   노광이 끝난 후 기재에 적층된 드라이 필름 레지스트를 현상액에 담가 현상하는 단계;

   패턴이 형성된 상기 기재를 상기 현상액에서 꺼내어 불순물을 세척하는 단계;

   패턴이 형성된 상기 기재를 드라이 에어 또는 질소 가스로 건조하는 단계; 및

   열 또는 자외선을 가하여 완전 경화하는 단계에 의해 제작되는 것을 특징으로 하는

   롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
4. 제3항에 있어서,

   상기 기재에 드라이 필름 레지스트를 라미네이팅하여 부착하는 단계는 액상 포토 레지스트 또는 감광성 수지를 상기 기재에 스핀 코팅 또는 스핀리스 코팅하는 단계로 대체될 수 있는 것을 특징으로 하는

   롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
5. 제3항에 있어서,

   상기 기재는 금속 기재(SUS304, SUS430, SUS301, Cu, Ni 등) 또는 필름 기재(PET, PC 등)인 것을 특징으로 하는

   롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
6. 제4항에 있어서,

   상기 액상 포토 레지스트는 네가티브 또는 포지티브 타입일 수 있는 것을 특징으로 하는

   롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
7. 제4항에 있어서,

   상기 감광성 수지는 에폭시, 우레탄 또는 아크릴 계열 수지인 것을 특징으로 하는

   롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
8. 제3항에 있어서,

   상기 현상액은 용제 타입 현상액 또는 알카리 현상액인 것을 특징으로 하는

   롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
9. 제3항에 있어서,

   상기 세척에 사용되는 린스는 이소프로필 알콜(IPA) 또는 순수(Dionized Water) 인 것을 특징으로 하는

   롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
10. 제1항 또는 제2항에 있어서,

    상기 스탬퍼는,

    상기 마스터에 형성된 패턴 위에 스퍼터링 또는 무전해 도금을 이용하여 금속 씨드층을 올리는 단계;

    상기 금속 씨드층에 전주 가공 공정을 이용하여 역상의 금속 패턴을 형성하는 단계;

    형성된 상기 역상의 금속 패턴을 상기 금속 씨드층에서 탈형하는 단계;

    탈형한 상기 역상의 금속 패턴 표면에 경면처리를 하는 단계;에 의해 제작되는 것을 특징으로 하는

    롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
11. 제10항에 있어서,

    경면처리된 상기 역상의 금속 패턴은 평판 스템퍼로 사용되는 것을 특징으로 하는

    롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
12. 제10항에 있어서,

    경면처리된 상기 역상의 금속 패턴은 실린더 롤에 부착되어 롤 스탬퍼로 사용될 수 있는 것을 특징으로 하는

    롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
13. 제10항에 있어서,

    상기 씨드층은 니켈, 알루미늄, 구리 등을 이용하여 구성할 수 있는 것을 특 징으로 하는

    롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
14. 제10항에 있어서,

    상기 전주 가공용 금속으로는 니켈을 사용하는 것을 특징으로 하는

    롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
15. 제1항 또는 제2항에 있어서,

    상기 패턴은 프리즘, 마이크로 렌즈, 타원형, 단위 형상 또는 선패턴 형태 등인 것을 특징으로 하는

    롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.
16. 제1항에 있어서,

    상기 패턴이 전사된 몰딩 수지는 롤 형태로 제작되는 것을 특징으로 하는

    롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조 방법.

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