KR20090127650A - 화학 기상 증착 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반응 챔버의 챔버 덮개와 커버부재가 분리되어 있는 구조를 가지도록 함으로써, 반응 챔버의 개방시 발생하는 진동에 의해 상기 커버부재에 부착된 불순물이 웨이퍼로 낙하하는 것을 방지하고, 상기 커버부재가 파손되는 것을 방지할 수 있는 화학 기상 증착 장치를 제공한다.
화학 기상 증착, 반응 챔버, 커버부재, 석영

Description

화학 기상 증착 장치{Apparatus for Chemical Vapor Deposition}
본 발명은 화학 기상 증착 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는 내부 부품의 파손을 방지하여 작동의 신뢰성을 향상시킬 수 있도록 하는 화학 기상 증착 장치에 관한 것이다.
최근 다양한 산업분야에서 반도체 소자의 미세화와 고효율, 고출력 LED 개발등의 요구가 점차 많아짐에 따라서 품질이나 성능의 저하 없이 대량으로 생산할 수 있는 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition; CVD) 장비가 요구되고 있는 실정이다.
일반적으로 화학 기상 증착은 반응 챔버내로 공급된 반응가스가 가열된 웨이퍼의 상부표면에서 화학반응을 일으켜 박막을 성장시키는 것이다.
이러한 박막 성장법은 액상 성장법에 비해서 성장시킨 결정의 품질이 뛰어나지만, 결정의 성장 속도가 상대적으로 느린 단점이 있다. 이것을 극복하기 위해 한 번의 성장 싸이클에서 여러 장의 기판상에 동시에 성장을 실행하는 방법이 널리 채택되고 있다.
일반적인 화학 기상 증착 장치는 소정 크기의 내부공간을 갖는 반응 챔버와, 그 내부공간에 설치되어 증착 대상물인 웨이퍼를 탑재하는 서셉터와, 상기 서셉터와 인접하도록 구비되어 소정의 열을 가하는 가열수단 등을 포함하며, 상기 챔버의 중심부에는 챔버 내부를 유동하는 반응가스가 배출되도록 배출구가 마련된다.
특히, 서셉터의 경우 웨이퍼가 상기 서셉터의 상부면에 탑재되도록 상방향 지향(face up)되어 상기 반응 챔버의 하부측에 배치되는 것이 일반적이다. 따라서, 성막(成膜) 후 상기 반응 챔버를 개방하여 웨이퍼를 교체하게 되는 것이다.
한편, 상기 반응 챔버는 진공상태를 유지하기 위해 챔버 본체와 챔버 덮개가 O링(O-ring) 등을 매개로 단단히 밀착되어 있기 때문에, 챔버의 개방을 위해 과도한 힘이 요구되며, 이는 챔버 본체와 챔버 덮개가 분리되는 순간 챔버에 진동을 발생시키는 원인으로 작용한다.
이러한 진동은 상기 챔버 덮개 및 챔버 본체에 기생증착으로 발생한 불순물이 하부측에 위치하는 서셉터와 웨이퍼 측으로 낙하되도록 하여 웨이퍼를 오염시키는 문제를 발생시킨다.
또한, 상기 챔버 덮개의 내측면에 일체로 부착된 석영과 같은 커버부재를 파손시켜 장치의 잦은 유지보수가 필요하고, 이에 따른 생산성이 저하됨은 물론 작동의 신뢰성을 저하시키는 문제가 발생한다.
본 발명은 반응 챔버의 챔버 덮개와 커버부재가 분리되어 있는 구조를 가지도록 함으로써, 반응 챔버의 개방시 진동발생에 의해 상기 커버부재에 부착된 불순물이 웨이퍼로 낙하하는 것을 방지하고, 커버부재가 파손되는 것을 방지할 수 있는 화학 기상 증착 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 화학 기상 증착 장치는, 상부에 반응가스가 유동하는 반응유로부가 마련되는 반응 챔버; 상기 반응 챔버 내의 상기 반응유로부 아래에 구비되며, 적어도 하나의 웨이퍼를 상부면에 수용하여 상기 반응유로부에 노출되도록 하는 서셉터; 상기 반응유로부로 상기 반응가스를 유입시키도록 구비되는 가스 도입부; 반응 후 가스를 배기하도록 상기 반응유로부의 중심부에 마련되는 가스배출부; 및 상기 반응 챔버의 상부 내측면과 소정의 거리만큼 이격되어 상기 반응 챔버 내의 상기 반응유로부의 위에 구비되는 커버부재;를 포함한다.
또한, 상기 서셉터 아래에 구비되어 상기 웨이퍼에 열을 제공하는 가열수단을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 반응 챔버는, 상기 서셉터를 수용하고 상기 반응유로부를 형성하는 챔버 본체와, 상기 챔버 본체를 밀봉하여 기밀을 유지하도록 하는 챔버 덮개를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 챔버 덮개는 상기 챔버 본체에 대해 개폐 가능하도록 구비되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 커버부재가 상기 챔버 덮개와 분리되어 상기 반응유로부 위에 구비되도록 지지하며, 상기 반응 챔버를 개방시 상기 커버부재가 상기 챔버 본체로부터 분리되도록 하는 분리수단을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 커버부재와 상기 챔버 덮개는 소정 거리만큼 이격되어 상기 커버부재의 상부면과 상기 챔버 덮개의 하부면 사이에 에어 절연층을 형성하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 분리수단은 상기 챔버 본체의 내부에 구비되며, 상기 커버부재의 일측면과 결합되는 실린더부재인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 분리수단은 상기 챔버 덮개에 구비되며, 상기 커버부재가 관통결합하여 걸림고정되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 분리수단에 관통결합된 커버부재가 서셉터와 일정한 간격을 유지하도록 지지하는 지지부재를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 가스 도입부는, 상기 반응 챔버의 측단부 둘레에 구비되어 외부로부터 도입되는 반응가스를 저장하는 적어도 하나의 리저버와, 상기 리저버와 상기 반응유로부를 연통하며, 상기 리저버에 저장된 반응가스를 상기 반응유로부로 분사되도록 하는 분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 화학 기상 증착 장치는 반응 챔버의 개방시 발생하는 진동에 의해 낙하하는 불순물로부터 웨이퍼가 오염되는 것을 방지하고, 진동에 의해 챔버 덮개 내의 커버부재가 파손되는 것을 방지하도록 하여 작동의 신뢰성을 향상시키는 효과를 갖는다.
본 발명에 따른 화학 기상 증착 장치의 실시예에 관한 구체적인 사항을 도면을 참조하여 설명한다.
먼저, 도 1 및 도 2를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 화학 기상 증착 장치에 관하여 설명한다.
도 1(a)는 본 발명의 일 실시예에 따른 화학 기상 증착 장치의 성막공정시 상태를 나타내는 단면도이고, 도 1(b)는 도 1(a)에 도시된 화학 기상 증착 장치의 성막공정 후 챔버 덮개를 분리한 상태를 나타내는 단면도이며, 도 1(c)는 도 1(b)에 도시된 화학 기상 증착 장치의 챔버 덮개 분리 후 커버부재를 분리한 상태를 나타내는 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 화학 기상 증착 장치의 분리수단과 가스 도입부를 나타내는 절개 사시도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 화학 기상 증착 장치는 반응 챔버(100), 서셉터(110), 가스 도입부(120), 가스배출부(130), 커버부재(140), 및 분리수단(150)을 포함하여 이루어진다.
상기 반응 챔버(100)는 중공형의 공간을 형성하는 것으로서, 도면에서와 같 이 적어도 하나의 웨이퍼가 장착되는 서셉터(110) 및 가열수단(131)을 내부에 구비하며, 상기 서셉터(110)와 마주하는 상부측에는 반응가스가 유동하는 반응유로부(160)가 마련된다.
또한, 상기 챔버(100)는 상기 반응유로부(160)를 형성하는 챔버 본체(102)와 상기 챔버 본체(102)를 밀봉하여 기밀을 유지하도록 하는 챔버 덮개(101)를 포함하며, 상기 챔버 덮개(101)가 상기 챔버 본체(102)에 대해 개폐 가능한 구조로 구비된다.
그리고, 상기 챔버 덮개(101)와 결합하는 상기 챔버 본체(102)의 상단부에는 확실한 밀봉을 유지하기 위해 오링(O-ring)(105)과 같은 밀봉부재를 구비하는 것이 바람직하다.
따라서, 증착 공정을 위해 웨이퍼(S)를 장착하거나 공정이 끝난 웨이퍼(S)를 제거하는 경우 상기 반응 챔버(100)의 챔버 덮개(101)와 챔버 본체(102)를 분리하여 교체작업을 수행하는 것이 용이해진다.
아울러, 장치의 이상유무에 대한 점검이나 부품교체 등의 유지보수 작업 및 기생증착으로 인한 불순물의 제거작업을 수행하는 경우에도 용이하게 작업을 수행할 수 있다.
여기서, 상기 반응 챔버(100)는 내마모성 및 내부식성이 우수한 메탈 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.
한편, 상기 챔버 본체(102)와 서셉터(110) 사이로 반응가스가 흘러들어가 상기 챔버 본체(102) 내부로 반응가스가 유입되는 것을 방지하기 위해 차단부(103)가 상기 서셉터(110)의 상부면과 실질적으로 동일한 수평면을 유지하며 상기 챔버 본체(102)의 내주면을 따라 연속하여 구비된다.
상기 차단부(103)는 상기 서셉터(110)의 지름과 형상에 대응하는 크기의 중앙홀(106)을 가지는 원반형상으로, 석영과 같은 내열성 및 내부식성 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 서셉터(110)는 상기 반응 챔버(100)의 중심부에 위치하여 상기 반응 챔버(100)의 중심축과 상기 서셉터(110)의 중심축이 실질적으로 일치하도록 하며, 상기 차단부(103)의 중앙홀(106)에 삽입되어 상부면이 상기 차단부(103)와 동일한 수평면을 유지하도록 구비된다.
그리고, 상기 커버부재(140)는 상기 반응 챔버(100)의 상부 내측면을 이루는 상기 챔버 덮개(101)의 하부단과 소정의 거리만큼 이격되어 상기 서셉터(110)와 마주하도록 배치된다.
이러한 커버부재(140)는 상기 반응 챔버(100) 내부의 고온분위기로부터 상기 챔버 덮개(101)를 보호하기 위한 것으로, 고온에 의해 상기 챔버 덮개(101)가 열변형을 일으키지 않도록 열을 차단하는 역할을 한다.
특히, 본 발명에서는 상기 커버부재(140)와 상기 챔버 덮개(101)가 소정의 거리만큼 이격되도록 하여 상기 커버부재(140)의 상부면과 상기 챔버 덮개(101)의 하부면 사이에 에어 절연층(air insulation layer)(170)을 형성하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 증착 공정을 위해 고온분위기를 형성하는 상기 반응 챔버(100) 내부의 고온의 열이 상기 커버부재(140)로부터 상기 챔버 덮개(101)로 직접 전도되는 것을 차단할 수 있다.
또한, 종래의 커버부재(140)가 챔버 덮개(101)와 맞닿아 일체를 이루는 구조에서 고온분위기에 노출되는 상기 커버부재(140)의 하단부와 상대적으로 저온분위기에 노출되는 상기 커버부재(140)의 상단부 사이의 온도차이에 의해 발생하는 열팽창율의 차이에 의해 상기 커버부재(140)가 파손되는 것을 방지하는 것이 가능하다.
여기서, 상기 커버부재(140)는 내열성이 우수한 재질로 형성되도록 하며, 바람직하게는 석영(quartz)으로 이루어지는 것이 바람직하나 이에 한정하는 것은 아니다.
한편, 상기 반응유로부(160)는 도면에서와 같이 상기 서셉터(110)와 상기 커버부재(140) 사이에 형성된다. 즉, 상기 서셉터(110)의 상단부와 상기 커버부재(140)의 하단부 사이에 형성되는 공간이 상기 반응유로부(160)에 해당하는 것이다.
그리고, 상기 서셉터(110)는 적어도 하나의 웨이퍼(S)를 상부단에 수용하여 상기 웨이퍼(S)의 표면이 상기 챔버 본체(102)의 상부에 마련되는 상기 반응유로부()에 노출되도록 상기 반응유로부(160)와 마주하여 배치된다.
또한, 상기 서셉터(110)는 상단부에 적어도 하나의 웨이퍼(S)를 수용하여 장착하기 위한 웨이퍼 포켓(111)이 적어도 하나 구비하며, 하부에 가열수단(131)을 구비하여 상기 웨이퍼 포켓(111)에 장착된 웨이퍼(S)에 열을 제공하도록 한다.
바람직하게, 상기 웨이퍼 포켓(111)은 회전구동시 그 내부에 안착된 웨이퍼(S)가 이탈하지 않고 고정되도록 하기 위한 고정클립(미도시)을 적어도 하나 구비하도록 한다.
상기 가스 도입부(120)는 상기 반응유로부(160)로 외부의 반응가스를 공급하기 위해 상기 챔버 덮개(101)와 결합하는 상기 챔버 본체(102)의 상단부를 따라서 구비되는 유성형(planetary)의 구조를 이룬다.
상기 반응가스는 AlGaInN, 원료가스(source gas)로 NH3, MO 등을 포함하고, 캐리어가스(carrier gas)로 N2, H2 등을 포함하며, 상기 MO는 NH3, TMGa, TMAI, Cp2Mg, SiH4, TMIn 등을 포함한다.
상기 가스 도입부(120)는 외부로부터 가스 도입관(121)을 통해 도입되는 소정의 가스를 저장하는 리저버(122)를 적어도 하나 상기 챔버 본체(102)의 상단부 둘레 내측에 구비하며, 상기 리저버(122)에 저장된 가스를 상기 반응유로부(160)로 분사하는 분사노즐(123)을 상기 리저버(122)와 상기 반응유로부(160)를 연통하여 구비한다.
따라서, 상기 리저버(122)가 하나인 단일의 리저버(122)로 구비되는 경우에는 상기 리저버(122)를 따라 원료가스 및 캐리어가스가 혼합된 상태로 저장되어 분사되거나, 원료가스만을 분사하게 된다.
또한, 상기 리저버(122) 내에는 분리막(미도시)을 적어도 하나 구비하여 상기 리저버(122)를 복수개의 영역으로 구분할 수 있으며, 이 경우 반응가스가 일정한 압력으로 분사되도록 하는 것이 가능하다.
그리고, 상기 가스 도입부(120)로부터 분사되어 상기 반응유로부(160)로 유입되는 반응가스는 상기 서셉터(110)의 중심부에 구비되는 가스배출부(130)를 통해 다시 외부로 배기된다.
상기 분리수단(150)은 상기 커버부재(140)가 상기 챔버 덮개(101)와 분리되어 상기 반응유로부(160) 위에 구비되도록 지지하며, 상기 반응 챔버(100)를 개방하는 경우 상기 커버부재(140)가 상기 챔버 본체(102)로부터 분리되도록 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 화학 기상 증착 장치에서 상기 분리수단(150)은 도면에서와 같이 상기 챔버 본체(102) 내부에 구비되는 실린더부재(151)로 구성되며, 상기 커버부재(140)의 하부면과 결합되어 상하 이동하는 실린더 로드(152)를 구비한다.
그리고, 상기 실린더 로드(152)는 상기 차단부(103)에 구비되는 홀(104)을 관통하여 상기 커버부재(140)와 결합한다.
따라서, 상기 분리수단(150)을 통해 상기 커버부재(140)는 상기 챔버 덮개(101)와 분리된 상태로 상기 서셉터(110)와 마주하여 상기 반응유로부(160) 위에 구비될 수 있도록 지지되는 것이다.
그리고, 증착 공정 후 밀봉부재를 통해 밀봉되어 기밀성을 유지하는 반응 챔 버(100)를 개방하는 경우 상기 챔버 덮개(101)의 진동이 상기 커버부재(140)로 전달되지 않아 상기 커버부재(140)에 기생증착된 불순물이 진동에 의해 웨이퍼 위로 낙하하는 것을 방지하게 된다.
상기 챔버 덮개(101)를 상기 챔버 본체(102)로부터 분리한 후 상기 분리수단()을 통해 상기 커버부재(140)를 상기 챔버 본체(102)로부터 분리하게 되는데, 상기 실린더부재(151)의 유압작용에 의해 상기 실린더 로드(152)를 상승시켜 상기 커버부재(140)를 상기 챔버 본체(102)에서 분리하는 것이다.
이와 같은 방식을 통해 안정적으로 웨이퍼를 교체할 수 있으며, 상기 커버부재(140)에 대한 용이한 유지보수가 가능하다.
한편, 도 3 및 도 4를 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 화학 기상 증착 장치에 관하여 설명한다.
도 3(a)는 본 발명의 다른 실시예에 따른 화학 기상 증착 장치의 성막공정시 상태를 나타내는 단면도이고, 도 3(b)는 도 3(a)에 도시된 화학 기상 증착 장치의 성막공정 후 챔버 덮개를 분리한 상태를 나타내는 단면도이며, 도 3(c)는 도 3(b)에 도시된 화학 기상 증착 장치의 챔버 덮개 분리 후 커버부재를 분리한 상태를 나타내는 단면도이고, 도 4은 도 3에 도시된 화학 기상 증착 장치의 지지부재와 가스 도입부를 나타내는 절개 사시도이다.
도 3 및 도 4에 도시된 실시예에 있어서 화학 기상 증착 장치를 구성하는 구성요소는 상기 도 1 및 도 2에 도시된 실시예의 경우와 실질적으로 동일하다.
다만, 커버부재 및 분리수단의 구체적인 구성에 있어서는 도 3 및 도 4에 도시된 실시예가 도 1 및 도 2에 도시된 실시예의 경우와 다르기 때문에 이하에서는 앞서 설명한 실시예와 중복되는 구성에 관한 설명은 생략하고 커버부재 및 분리수단에 관한 구성을 위주로 설명한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 화학 기상 증착 장치의 커버부재(140)는 도 1에서와 같이 상기 반응 챔버(100')의 상부 내측면을 이루는 상기 챔버 덮개(101)의 하부단과 소정의 거리만큼 이격되어 상기 서셉터(110)와 마주하도록 배치된다.
또한, 상기 커버부재(140)와 상기 챔버 덮개(101)가 소정의 거리만큼 이격되도록 하여 상기 커버부재(140)의 상부면과 상기 챔버 덮개(101)의 하부면 사이에 에어 절연층(170)을 형성한다.
상기 커버부재(140)는 상기 챔버 본체(102) 내에서 상하 이동가능하도록 상기 챔버 본체(102)의 내주면 지름보다 다소 작은 크기의 지름과 수평단면의 형상과 대응하는 형상을 가지는 구조로 형성된다.
그리고, 상기 커버부재(140)는 수평 중심축을 기준으로 대칭을 이루며 복수개의 관통공(141)을 구비한다.
한편, 상기 분리수단(150')은 상기 챔버 덮개(101)의 하부면에 구비되며, 상기 커버부재(140)의 관통공(141)을 관통하여 결합되는 소정 길이의 수직부(151')와 상기 수직부(151')의 끝단에서 수평방향으로 절곡되어 상기 커버부재(140)가 걸림고정되는 수평부(152')로 구성된다.
따라서, 상기 커버부재(140)는 상기 챔버 덮개(101)와 분리된 상태로 상기 분리수단(150')의 상기 수직부(151')와 관통결합되고, 상기 커버부재(140)는 상기 수직부(151')를 따라 상하 이동하며, 상기 분리수단(150')의 상기 수평부(152')에 의해 걸림고정되어 상기 분리수단(150')으로부터 분리되지 않도록 한다.
상기 커버부재(140)가 상기 서셉터(110)와 소정 거리만큼 이격되어 상기 반응유로부(160) 위에 배치될 수 있도록 상기 챔버 본체(102)의 상기 차단부(103)에는 지지부재(153)가 적어도 하나 구비된다.
상기 지지부재(153)는 상기 반응유로부(160)의 높이에 대응하는 높이를 가지도록 형성되는 것이 바람직하며, 상기 챔버 본체(102)의 내주면을 따라 상기 차단부(103) 위에 구비되도록 한다.
따라서, 상기 커버부재(140)는 상기 지지부재(153)에 의해 지지되어 상기 챔버 덮개(101)와 분리된 상태로 상기 반응유로부(160) 위에 구비되며, 상기 챔버 덮개(101)를 상기 챔버 본체(102)에서 분리하는 경우 상기 분리수단(150')에 의해 걸림고정되어 상기 챔버 본체(102)로부터 분리되게 된다.
이와 같은 방식을 통해 안정적으로 웨이퍼를 교체할 수 있으며, 상기 커버부재(140)에 대한 용이한 유지보수가 가능하다.
도 1(a)는 본 발명의 일 실시예에 따른 화학 기상 증착 장치의 성막공정시 상태를 나타내는 단면도이다.
도 1(b)는 도 1(a)에 도시된 화학 기상 증착 장치의 성막공정 후 챔버 덮개를 분리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 1(c)는 도 1(b)에 도시된 화학 기상 증착 장치의 챔버 덮개 분리 후 커버부재를 분리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 화학 기상 증착 장치의 분리수단과 가스 도입부를 나타내는 절개 사시도이다.
도 3(a)는 본 발명의 다른 실시예에 따른 화학 기상 증착 장치의 성막공정시 상태를 나타내는 단면도이다.
도 3(b)는 도 3(a)에 도시된 화학 기상 증착 장치의 성막공정 후 챔버 덮개를 분리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 3(c)는 도 3(b)에 도시된 화학 기상 증착 장치의 챔버 덮개 분리 후 커버부재를 분리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 4은 도 3에 도시된 화학 기상 증착 장치의 지지부재와 가스 도입부를 나타내는 절개 사시도이다.

Claims (10)

  1. 상부에 반응가스가 유동하는 반응유로부가 마련되는 반응 챔버;
    상기 반응 챔버 내의 상기 반응유로부 아래에 구비되며, 적어도 하나의 웨이퍼를 상부면에 수용하여 상기 반응유로부에 노출되도록 하는 서셉터;
    상기 반응유로부로 상기 반응가스를 유입시키도록 구비되는 가스 도입부;
    반응 후 가스를 배기하도록 상기 반응유로부의 중심부에 마련되는 가스배출부; 및
    상기 반응 챔버의 상부 내측면과 소정의 거리만큼 이격되어 상기 반응 챔버 내의 상기 반응유로부의 위에 구비되는 커버부재;를 포함하는 화학 기상 증착 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 서셉터 아래에 구비되어 상기 웨이퍼에 열을 제공하는 가열수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 반응 챔버는,
    상기 서셉터를 수용하고 상기 반응유로부를 형성하는 챔버 본체와,
    상기 챔버 본체를 밀봉하여 기밀을 유지하도록 하는 챔버 덮개를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 챔버 덮개는 상기 챔버 본체에 대해 개폐 가능하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 커버부재가 상기 챔버 덮개와 분리되어 상기 반응유로부 위에 구비되도록 지지하며, 상기 반응 챔버를 개방시 상기 커버부재가 상기 챔버 본체로부터 분리되도록 하는 분리수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 커버부재와 상기 챔버 덮개는 소정 거리만큼 이격되어 상기 커버부재의 상부면과 상기 챔버 덮개의 하부면 사이에 에어 절연층을 형성하는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 분리수단은 상기 챔버 본체의 내부에 구비되며, 상기 커버부재의 일측면과 결합되는 실린더부재인 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 분리수단은 상기 챔버 덮개에 구비되며, 상기 커버부재가 관통결합하여 걸림고정되는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 분리수단에 관통결합된 커버부재가 서셉터와 일정한 간격을 유지하도록 지지하는 지지부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 가스 도입부는,
    상기 반응 챔버의 측단부 둘레에 구비되어 외부로부터 도입되는 반응가스를 저장하는 적어도 하나의 리저버와, 상기 리저버와 상기 반응유로부를 연통하며, 상기 리저버에 저장된 반응가스를 상기 반응유로부로 분사되도록 하는 분사노즐을 포 함하는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
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