KR20090117218A - Method of making probe card - Google Patents

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KR20090117218A
KR20090117218A KR1020080043160A KR20080043160A KR20090117218A KR 20090117218 A KR20090117218 A KR 20090117218A KR 1020080043160 A KR1020080043160 A KR 1020080043160A KR 20080043160 A KR20080043160 A KR 20080043160A KR 20090117218 A KR20090117218 A KR 20090117218A
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manufacturing
probe card
hole
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이강석
한정섭
전병일
유정희
주영훈
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윌테크놀러지(주)
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Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing a probe card is provided to suppress the waste of a second substrate by inserting a probe into a first substrate firstly. CONSTITUTION: A first substrate with a plurality of probe holes is prepared(S100). A probe is inserted into the probe holes on the first substrate(S200). A conductive bump is formed on the surface of the probe and the first substrate(S300). The probe is connected to a conductive pattern by bonding the first substrate with the probe in the second substrate with the conductive pattern(S400).

Description

프로브 카드의 제조 방법{METHOD OF MAKING PROBE CARD}Manufacturing method of probe card {METHOD OF MAKING PROBE CARD}

본 발명은 프로브 카드의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 일괄 장착을 이용한 프로브 카드의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a probe card, and more particularly, to a method for manufacturing a probe card using batch mounting.

일반적으로 반도체 디바이스는 웨이퍼(wafer) 상에 회로 패턴 및 검사를 위한 접촉 패드를 형성하는 패브리케이션(fabrication) 공정과 회로 패턴 및 접촉 패드가 형성된 웨이퍼를 각각의 반도체 칩으로 조립하는 어셈블리(assembly) 공정을 통해서 제조된다.In general, semiconductor devices have a fabrication process of forming contact pads for circuit patterns and inspections on a wafer, and an assembly process of assembling wafers having circuit patterns and contact pads into respective semiconductor chips. It is manufactured through.

패브리케이션 공정과 어셈블리 공정 사이에는 웨이퍼 상에 형성된 접촉 패드에 전기 신호를 인가하여 웨이퍼의 전기적 특성을 검사하는 검사 공정이 수행된다. 이 검사 공정은 웨이퍼의 불량을 검사하여 어셈블리 공정 시 불량이 발생한 웨이퍼의 일 부분을 제거하기 위해 수행하는 공정이다.An inspection process is performed between the fabrication process and the assembly process to inspect the electrical characteristics of the wafer by applying an electrical signal to the contact pads formed on the wafer. This inspection process is performed to inspect a defect of a wafer and to remove a portion of a wafer in which a defect occurs during an assembly process.

검사 공정 시에는 웨이퍼에 전기적 신호를 인가하는 테스터라고 하는 검사 장비와 웨이퍼와 테스터 사이의 인터페이스 기능을 수행하는 프로브 카드라는 검사 장비가 주로 이용된다. 이 중에서 프로브 카드는 테스터로부터 인가되는 전기 신호를 수신하는 인쇄 회로 기판 및 웨이퍼 상에 형성된 접촉 패드와 접촉하는 복수의 프로브를 포함한다.In the inspection process, inspection equipment called a tester for applying an electrical signal to a wafer and probe equipment for performing an interface function between the wafer and the tester are mainly used. Among them, the probe card includes a printed circuit board that receives an electrical signal applied from a tester and a plurality of probes in contact with contact pads formed on the wafer.

최근에, 고 집적 칩의 수요가 증가함에 따라서, 패브리케이션 공정에 의해 웨이퍼에 형성되는 회로 패턴 및 회로 패턴과 연결된 접촉 패드가 고 집적으로 형성된다. 즉, 이웃하는 접촉 패드간의 간격이 매우 좁고, 접촉 패드 자체의 크기도 미세하게 형성된다. 이에 의해, 검사 공정 시 사용하는 프로브 카드의 프로브는 접촉 패드와 접촉해야 하기 때문에 접촉 패드에 대응하여 이웃하는 프로브간의 간격이 매우 좁게 형성되어야 하며, 프로브 자체의 크기도 미세하게 형성되어야 한다.In recent years, as the demand for high integrated chips increases, circuit patterns formed on the wafer by the fabrication process and contact pads connected with the circuit patterns are highly integrated. That is, the spacing between neighboring contact pads is very narrow, and the size of the contact pad itself is also finely formed. As a result, since the probe of the probe card used in the inspection process must be in contact with the contact pad, the distance between neighboring probes corresponding to the contact pad must be formed very narrowly, and the size of the probe itself must also be finely formed.

이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 종래의 프로브 카드의 제조 방법에 대하여 살펴본다.Hereinafter, a method of manufacturing a conventional probe card will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

도 1 내지 도 3은 종래의 프로브 카드의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.1 to 3 are diagrams for explaining a conventional method of manufacturing a probe card.

우선, 도 1에 도시된 바와 같이, 희생 기판(10)에 포토리소그래피(photolithography) 기술을 이용해 개구(11)를 형성하고, 상기 개구(11)에 도전성 물질을 채워 프로브(20)를 형성한다.First, as shown in FIG. 1, an opening 11 is formed in a sacrificial substrate 10 using photolithography technology, and a probe 20 is formed by filling a conductive material in the opening 11.

다음, 도 2에 도시된 바와 같이, 각각의 프로브(20)를 기판(30)에 형성된 패드(31)에 본딩함으로써 프로브 카드가 완성된다.Next, as shown in FIG. 2, the probe card is completed by bonding each probe 20 to the pad 31 formed on the substrate 30.

이상과 같은 종래의 프로브 카드의 제조 방법은 각각의 프로브(20)를 기판(30)에 형성된 패드(31)에 각각 본딩하기 때문에, 각각의 프로브(20)를 본딩하는 시간이 증가하게 된다. 이는 제조 시간 및 제조 비용을 증가하는 요인으로 작용한다.The conventional method of manufacturing a probe card as described above bonds each probe 20 to a pad 31 formed on the substrate 30, thereby increasing the time for bonding each probe 20. FIG. This increases the manufacturing time and manufacturing cost.

이하, 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위한 다른 종래의 프로브 카드의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, another conventional method of manufacturing a probe card for solving the above problems will be described.

우선, 도 1에 도시된 바와 같이, 희생 기판(10)에 포토리소그래피(photolithography) 기술을 이용해 개구(11)를 형성하고, 상기 개구(11)에 도전성 물질을 채워 프로브(20)를 형성한다.First, as shown in FIG. 1, an opening 11 is formed in a sacrificial substrate 10 using photolithography technology, and a probe 20 is formed by filling a conductive material in the opening 11.

다음, 도 3에 도시된 바와 같이, 희생 기판(10)에 형성된 프로브(20)를 기판(30)에 형성되어 있는 패드(31)에 본딩한다.Next, as shown in FIG. 3, the probe 20 formed on the sacrificial substrate 10 is bonded to the pad 31 formed on the substrate 30.

다음, 도 2에 도시된 바와 같이, 희생 기판(10)을 프로브(20)로부터 분리함으로써 프로브 카드가 완성된다.Next, as shown in FIG. 2, the probe card is completed by separating the sacrificial substrate 10 from the probe 20.

이상과 같은, 다른 종래의 프로브 카드의 제조 방법은 반도체의 패턴 형성에 사용되는 포토리소그래피 기술을 이용하기 때문에 프로브(20) 자체의 크기를 미세하게 형성할 수 있으며, 이웃하는 프로브(20)간의 간격도 매우 좁게 인쇄 회로 기판(30)에 형성시킬 수 있다.As described above, another conventional method of manufacturing a probe card uses a photolithography technique used to form a pattern of a semiconductor, so that the size of the probe 20 itself can be finely formed, and the interval between neighboring probes 20 can be achieved. It can also be formed in the printed circuit board 30 very narrowly.

그러나, 다른 종래의 프로브 카드의 제조 방법에 따르면, 복수의 프로브(20)를 일괄하여 기판(30)에 형성된 패드(31)에 본딩하므로, 일부 프로브(20) 또는 전체의 프로브(20)가 패드(31) 상에 정확히 정렬되지 않는 불량이 발생할 수 있다. 이 경우, 복수의 프로브(20)를 기판(30)에 본딩한 후, 추가적인 공정에 의해 복수의 프로브(20)의 정렬 상태를 검사하여 정렬 상태가 불량인 프로브(20)가 있을 때에는 이를 제거하여 정렬 상태를 올바르게 재차 본딩해야 하는 문제가 발생한다. 이는 제조 기간 및 제조 비용이 증가하는 요인으로 작용한다.However, according to another conventional method of manufacturing a probe card, the plurality of probes 20 are collectively bonded to the pad 31 formed on the substrate 30, so that some probes 20 or the entire probes 20 are pads. Defects that are not exactly aligned on 31 may occur. In this case, after bonding the plurality of probes 20 to the substrate 30, the alignment state of the plurality of probes 20 is inspected by an additional process to remove the probes 20 when the alignment state is poor. The problem arises in that the alignment must be correctly bonded again. This is a factor that increases the manufacturing period and manufacturing cost.

또한, 희생 기판(10)에 형성된 복수의 프로브(20)를 일괄하여 기판(30)에 본딩하므로, 희생 기판(10)에 형성된 복수의 프로브(20) 중 일부 프로브(20)에 이상이 있는 경우에도 프로브(20)의 표면 상태를 확인할 수 없기 때문에, 이상이 있는 프로브(20)가 그대로 기판(30)에 본딩되는 문제점이 있다. 이로 인해, 추가적인 공정에 의해 이상이 있는 프로브(20)를 이상이 없는 프로브(20)로 일일이 교체하거나, 복수의 프로브(20)를 다시 기판(30)에 본딩해야 하는 번거로움이 발생한다.In addition, since the plurality of probes 20 formed on the sacrificial substrate 10 are collectively bonded to the substrate 30, when some of the probes 20 of the plurality of probes 20 formed on the sacrificial substrate 10 have abnormalities, In addition, since the surface state of the probe 20 cannot be confirmed, there is a problem that the abnormal probe 20 is bonded to the substrate 30 as it is. Therefore, the trouble of having to replace the abnormal probe 20 with the abnormal probe 20 by an additional process or to bond the plurality of probes 20 to the substrate 30 again.

한편, 웨이퍼에 미세하게 형성된 접촉 패드에 대응하기 위해 기판(30)으로서, 고가의 다층 세라믹 기판(multi layer ceramic, MLC)을 사용한다. 그런데, 이 경우, 종래의 프로브 카드의 제조 방법을 이용하여 기판(30)에 복수의 프로브(20)를 본딩할 때, 본딩 불량이 발생하여 불량이 발생한 프로브(20)를 새로운 프로브로 교체하게 되면, 교체 과정에서 기판(30)의 패드(31)에 불량이 발생해 기판(30)을 재활용하지 못하고 폐기하는 경우가 발생한다. 이 경우, 새로운 고가의 다층 세라믹 기판을 사용해야 하기 때문에 제조 비용이 증가하는 요인으로 작용한다.On the other hand, an expensive multi-layer ceramic substrate (MLC) is used as the substrate 30 to correspond to the contact pads formed finely on the wafer. However, in this case, when bonding the plurality of probes 20 to the substrate 30 by using a conventional method of manufacturing a probe card, when a bonding failure occurs and the defective probe 20 is replaced with a new probe, In the replacement process, a failure occurs in the pad 31 of the substrate 30, and thus the substrate 30 may not be recycled and disposed of. In this case, the manufacturing cost increases because a new expensive multilayer ceramic substrate must be used.

본 발명의 일 실시예는 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로써, 프로브를 기판에 본딩할 때 기판에 대한 프로브의 정렬 상태를 올바르게 할 수 있는 프로브 카드의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.One embodiment of the present invention is to solve the above-described problems, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a probe card that can correctly align the probe with respect to the substrate when bonding the probe to the substrate.

또한, 프로브를 기판에 본딩할 때 프로브의 상태를 확인할 수 있는 프로브 카드의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a probe card, which can confirm the state of a probe when bonding the probe to a substrate.

또한, 제조 기간 및 제조 비용을 절감할 수 있는 프로브 카드의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is also an object of the present invention to provide a method for manufacturing a probe card, which can reduce the manufacturing period and manufacturing cost.

또한, 본딩 불량 발생 시, 기판의 폐기를 억제할 수 있는 프로브 카드의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a probe card that can suppress the disposal of a substrate when bonding failure occurs.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본 발명의 일 측면은 프로브 카드의 제조 방법에 있어서, a) 복수의 프로브홀이 형성된 제 1 기판을 마련하는 단계, b) 상기 제 1 기판의 상기 복수의 프로브홀 각각에 프로브를 삽입하는 단계, c) 상기 프로브의 단부 표면과 상기 제 1 기판의 표면에 걸쳐 도전성 범프를 형성하는 단계 및 d) 상기 프로브가 삽입된 상기 제 1 기판을 도전성 패턴이 형성된 제 2 기판에 본딩하여, 상기 프로브와 상기 도전성 패턴 사이를 연결하는 단계를 포함하는 프로브 카드의 제조 방법을 제공한다.As a technical means for achieving the above technical problem, an aspect of the present invention is a method of manufacturing a probe card, a) providing a first substrate having a plurality of probe holes, b) said first substrate Inserting a probe into each of the plurality of probe holes, c) forming conductive bumps between an end surface of the probe and a surface of the first substrate, and d) forming a conductive pattern on the first substrate into which the probe is inserted. Bonding to the formed second substrate, to provide a method of manufacturing a probe card comprising the step of connecting between the probe and the conductive pattern.

상기 도전성 범프는 각 상기 프로브에 대해 복수로 형성될 수 있다.The conductive bumps may be formed in plurality for each of the probes.

상기 a)단계는 절연성 기판을 마련하는 단계 및 상기 절연성 기판에 포토리소그래피(photolithography) 공정을 이용해 상기 복수의 프로브홀을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The step a) may include preparing an insulating substrate and forming the plurality of probe holes in the insulating substrate using a photolithography process.

상기 c)단계는 젯팅(jetting) 공정 또는 스크린 프린팅(screen printing) 공정을 이용해 상기 도전성 범프를 형성할 수 있다.In the step c), the conductive bumps may be formed using a jetting process or a screen printing process.

상기 d)단계는 상기 도전성 범프를 열 또는 레이저를 이용해 녹여서 수행할 수 있다.Step d) may be performed by melting the conductive bumps using heat or a laser.

상기 a)단계는 각각의 상기 프로브홀에 이웃하여 위치하는 하나 이상의 가이드홀을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.Step a) may include forming one or more guide holes positioned adjacent to each of the probe holes.

상기 b)단계는 상기 프로브에 형성된 가이드부를 상기 가이드홀에 장착하고, 상기 프로브에 형성된 신호부를 상기 프로브홀에 장착하여 수행할 수 있다.The step b) may be performed by mounting the guide part formed on the probe to the guide hole, and mounting the signal part formed on the probe to the probe hole.

상기 도전성 범프는 도전성 페이스트(paste) 또는 솔더(solder)일 수 있다.The conductive bumps may be conductive pastes or solders.

상기 제 2 기판은 다층 세라믹 기판(multi layer ceramic, MLC)일 수 있다.The second substrate may be a multi-layer ceramic substrate (MLC).

전술한 본 발명의 과제 해결 수단 중 하나에 의하면, 제 2 기판에 프로브가 삽입된 제 1 기판을 본딩하여 제 2 기판에 대한 프로브의 정렬 상태를 올바르게 할 수 있는 효과가 있다.According to one of the problem solving means of the present invention described above, there is an effect that the alignment state of the probe with respect to the second substrate can be corrected by bonding the first substrate having the probe inserted into the second substrate.

또한, 프로브를 제 1 기판에 삽입하기 때문에 제 2 기판에 프로브를 본딩할 때, 프로브의 상태를 확인할 수 있는 효과가 있다.In addition, since the probe is inserted into the first substrate, there is an effect that the state of the probe can be confirmed when bonding the probe to the second substrate.

또한, 제 1 기판에 복수의 프로브를 삽입하고, 제 1 기판을 제 2 기판에 본 딩하기 때문에 복수의 프로브를 제 2 기판에 일괄 장착하여 제조 기간 및 제조 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.In addition, since a plurality of probes are inserted into the first substrate and the first substrate is bonded to the second substrate, the plurality of probes may be collectively mounted on the second substrate to reduce the manufacturing period and manufacturing cost.

또한, 프로브를 우선적으로 제 1 기판에 삽입하기 때문에, 본딩 불량 발생 시 발생할 수 있는 제 2 기판의 폐기를 억제할 수 있는 효과가 있다.In addition, since the probe is preferentially inserted into the first substrate, there is an effect of suppressing the disposal of the second substrate which may occur when bonding failure occurs.

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and like reference numerals designate like parts throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재와 “상에” 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 “포함” 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a member is located “on” another member, this includes not only when one member is in contact with another member but also when another member exists between the two members. In addition, when a part is said to "include" a certain component, it means that it can further include other components, without excluding other components unless otherwise stated.

이하, 도 4를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법에 의해 제조된 프로브 카드를 설명한다.Hereinafter, a probe card manufactured by the method of manufacturing a probe card according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 4.

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법에 의해 제조된 프로브 카드의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a probe card manufactured by the method of manufacturing a probe card according to the first embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, 프로브 카드(1000)는 인쇄 회로 기판(100), 인터포져(200), 제 2 기판(300), 도전성 범프(400), 프로브(500) 및 제 1 기판(600)을 포함한다.As shown in FIG. 4, the probe card 1000 may include a printed circuit board 100, an interposer 200, a second substrate 300, a conductive bump 400, a probe 500, and a first substrate 600. ).

인쇄 회로 기판(100)은 대략 원판 형상으로 형성되며, 프로브 회로 패턴(미도시)이 형성되어 있다. 인쇄 회로 기판(100)은 검사 공정을 위한 테스터와 연결되어 있을 수 있으며, 연결 시 테스터는 프로브 회로 패턴(미도시)과 연결된다.The printed circuit board 100 is formed in a substantially disk shape, and a probe circuit pattern (not shown) is formed. The printed circuit board 100 may be connected to a tester for an inspection process, and when connected, the tester is connected to a probe circuit pattern (not shown).

인쇄 회로 기판(100)의 하면에는 후술할 인터포져(200)가 연결되어 있는 기판 패드(110)가 형성되어 있다. 인쇄 회로 기판(100)은 고집적 웨이퍼 등의 피검사체를 검사하기 위해 인쇄 회로 기판(100) 내에서 인쇄 회로 기판(100)의 상면으로부터 하면에 형성된 기판 패드(110)까지 배선을 통해 피치 변환이 수행될 수 있다.The lower surface of the printed circuit board 100 is formed with a substrate pad 110 to which the interposer 200 to be described later is connected. The printed circuit board 100 performs pitch conversion through wiring from the upper surface of the printed circuit board 100 to the substrate pad 110 formed on the lower surface of the printed circuit board 100 in order to inspect a test object such as a highly integrated wafer. Can be.

인쇄 회로 기판(100)의 상측 및 하측에는 각각 보강판이 장착될 수 있다.Reinforcement plates may be mounted on upper and lower sides of the printed circuit board 100, respectively.

인쇄 회로 기판(100)의 상측에 위치할 수 있는 보강판은 외부의 충격 또는 검사 공정 시 인쇄 회로 기판(100)에 인가되는 압력으로부터 인쇄 회로 기판(100)을 보호하는 역할을 한다. 또한, 인쇄 회로 기판(100)의 하측에 위치할 수 있는 보강판은 외부의 충격 또는 후술할 제 2 기판(300)의 자체적인 유동을 억제하여, 제 2 기판(300)에 장착되어 있는 후술할 제 1 기판(600) 및 복수의 프로브(500)가 웨이퍼 등의 피검사체에 형성된 접촉 패드에 균일하게 접촉하도록 한다.The reinforcing plate, which may be located above the printed circuit board 100, serves to protect the printed circuit board 100 from pressure applied to the printed circuit board 100 during an external impact or inspection process. In addition, the reinforcing plate which can be positioned below the printed circuit board 100 suppresses external shock or its own flow of the second substrate 300, which will be described later, to be described later mounted on the second substrate 300. The first substrate 600 and the plurality of probes 500 are to make uniform contact with the contact pads formed on the inspection object such as a wafer.

인터포져(200)는 일 단부가 인쇄 회로 기판(100)에 형성되어 있는 기판 패드(110)와 접촉하여, 인쇄 회로 기판(100)에 형성된 프로브 회로 패턴(미도시)과 연결되어 있으며, 타 단부가 제 2 기판(300)에 형성된 제 1 패드(310)와 접촉하고 있다. 인터포져(200)는 검사 공정을 위해 테스터로부터 인쇄 회로 기판(100)을 거친 전기 신호를 제 2 기판(300)로 전달하는 역할을 한다.The interposer 200 is connected to a probe circuit pattern (not shown) formed at the printed circuit board 100 by contacting the substrate pad 110 formed at one end thereof with the printed circuit board 100. Is in contact with the first pad 310 formed on the second substrate 300. The interposer 200 serves to transfer an electrical signal from the tester through the printed circuit board 100 to the second substrate 300 for the inspection process.

제 2 기판(300)은 세라믹, 유리 및 실리콘 등으로 이루어진 절연층과 금, 은, 구리 등으로 이루어진 도전층이 교호적으로 중첩되어 있는 다층 세라믹(Multi Layer Ceramic: MLC)으로 이루어져 있으며, 인쇄 회로 기판(100)과 프로브(500) 사이의 공간 변환을 수행한다. 제 2 기판(300)은 인쇄 회로 기판(100)과 대향하는 상면에 형성된 제 1 패드(310) 및 상면과 대향하는 하면에 형성된 제 2 패드(320)를 포함한다. 제 2 기판(300)의 제 1 패드(310)는 인터포져(200)와 접촉하고 있으며, 제 2 패드(320)에는 후술할 도전성 범프(400)에 의해 프로브(500)가 부착되어 있다.The second substrate 300 is made of a multi-layer ceramic (MLC) in which an insulating layer made of ceramic, glass, silicon, etc., and a conductive layer made of gold, silver, copper, etc. are alternately overlapped, and a printed circuit. Spatial transformation is performed between the substrate 100 and the probe 500. The second substrate 300 includes a first pad 310 formed on an upper surface facing the printed circuit board 100 and a second pad 320 formed on a lower surface facing the upper surface. The first pad 310 of the second substrate 300 is in contact with the interposer 200, and the probe 500 is attached to the second pad 320 by a conductive bump 400 to be described later.

다른 실시예에서, 제 2 기판(300)는 전체적으로 세라믹, 유리 및 실리콘 등으로 이루어진 절연 기판에 스루홀(through hole)을 형성하고, 상기 스루홀에 도전성 물질을 채워 인쇄 회로 기판(100)과 프로브(500) 사이의 공간 변환을 수행할 수 있다.In another embodiment, the second substrate 300 forms a through hole in an insulating substrate made entirely of ceramic, glass, silicon, and the like, and fills the through hole with a conductive material to fill the printed circuit board 100 and the probe. The spatial transformation between 500 may be performed.

또 다른 실시예에서, 제 2 기판(300)는 도전층과 절연층이 교호로 중첩되어 있는 가요성 기판일 수 있다.In another embodiment, the second substrate 300 may be a flexible substrate in which the conductive layer and the insulating layer alternately overlap.

도전성 범프(400)는 도전성 페이스트(paste) 또는 솔더(sorder) 등이며, 제 2 기판(300)의 제 2 패드(320)와 프로브(500) 사이에 위치하고 있다. 도전성 범프(400)는 제 2 패드(320)에 대한 프로브(500)의 부착을 용이하게 하며, 제 2 기판(300)으로부터 프로브(500)로 검사 신호를 전달하는 역할을 한다.The conductive bumps 400 are conductive pastes or solders, and are positioned between the second pads 320 and the probes 500 of the second substrate 300. The conductive bump 400 facilitates the attachment of the probe 500 to the second pad 320 and serves to transfer the test signal from the second substrate 300 to the probe 500.

프로브(500)는 제 2 기판(300)의 제 2 패드(320)에 부착되어 있으며, 후술할 제 1 기판(600)의 프로브홀(610)에 삽입되어 있다. 프로브(500)는 검사 공정 시 웨이퍼 등의 피검사체에 형성되어 있는 접촉 패드와 접촉한다. 프로브(500)는 멤스(MEMS: Micro Electro Mechanical System) 기술을 이용해 제조할 수 있다.The probe 500 is attached to the second pad 320 of the second substrate 300 and inserted into the probe hole 610 of the first substrate 600 which will be described later. The probe 500 is in contact with a contact pad formed on an inspected object such as a wafer during the inspection process. The probe 500 may be manufactured using MEMS (Micro Electro Mechanical System) technology.

예를 들어, 멤스 기술은 포토리소그래피(photolithography)를 이용해 희생 기판에 프로브(500) 형태의 개구부를 형성한 후, 상기 개구부에 니켈 등의 도전성 물질을 도금 방법 등을 이용해 채우고 희생 기판을 제거하여 개구부에 채워진 도전성 물질인 프로브(500)를 제조하는 기술 등을 말한다.For example, MEMS technology forms an opening in the form of a probe 500 on a sacrificial substrate using photolithography, fills the opening with a conductive material such as nickel by using a plating method, and removes the sacrificial substrate. The technique of manufacturing the probe 500, which is a conductive material filled in, is referred to.

다른 실시예에서, 프로브(500)는 인쇄 회로 기판(100)에 직접 연결될 수 있다. 구체적으로, 프로브(500)는 도전성 범프(400)에 의해 인쇄 회로 기판(100)의 기판 패드(110)에 부착될 수 있다.In other embodiments, the probe 500 may be directly connected to the printed circuit board 100. In detail, the probe 500 may be attached to the substrate pad 110 of the printed circuit board 100 by the conductive bump 400.

복수의 프로브(500)는 제 1 기판(600)의 프로브홀(610)에 각각 삽입되어 있다.The plurality of probes 500 are inserted into the probe holes 610 of the first substrate 600, respectively.

제 1 기판(600)은 제 2 기판(300)의 하측에 위치하고 있으며, 복수의 프로브홀(610)이 형성되어 있다. 제 1 기판(600)은 실리콘 또는 세라믹 등으로 이루어진 절연성 기판이다. 프로브홀(610)은 포토리소그래피 공정을 이용해 제 1 기판(600)에 형성할 수 있다.The first substrate 600 is positioned below the second substrate 300, and a plurality of probe holes 610 are formed. The first substrate 600 is an insulating substrate made of silicon or ceramics. The probe hole 610 may be formed in the first substrate 600 using a photolithography process.

이하, 도 5 내지 도 11을 참조하여 본 발명이 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a probe card according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 to 11.

도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법을 나타낸 순 서도이고, 도 6 내지 도 11은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이며, 도 9는 도 8의 Ⅸ-Ⅸ를 따른 단면도이다.5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a probe card according to a first embodiment of the present invention, and FIGS. 6 to 11 are views illustrating a method of manufacturing a probe card according to a first embodiment of the present invention. 9 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII in FIG. 8.

우선, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 제 1 기판(600)을 마련한다(S100).First, as shown in FIGS. 5 and 6, the first substrate 600 is prepared (S100).

구체적으로, 실리콘 또는 세라믹 등으로 이루어진 절연성 기판을 마련한 후, 절연성 기판 상에 포토레지스트 물질을 가지는 포토레지스트층을 형성하고, 이 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 복수의 프로브홀(610)에 대응하는 영역을 개구시킨 후, 개구된 제 1 기판(600)을 습식 에칭 공정 또는 건식 에칭 공정을 이용해 에칭(etching)하여 프로브홀(610)을 형성한다. 절연 기판이 실리콘으로 이루어질 경우, 실리콘의 표면을 산화시켜 형성하는 산화 실리콘층을 이용한 보쉬(bosch) 공정을 이용하여 프로브홀(610)을 형성할 수 있다. 이상과 같은 공정에 의해 복수의 프로브홀(610)이 형성된 제 1 기판(600)을 마련한다.Specifically, after preparing an insulating substrate made of silicon or ceramic, a photoresist layer having a photoresist material is formed on the insulating substrate, and the photoresist layer is exposed and developed to correspond to the plurality of probe holes 610. After opening the region, the opened first substrate 600 is etched using a wet etching process or a dry etching process to form a probe hole 610. When the insulating substrate is made of silicon, the probe hole 610 may be formed using a bosch process using a silicon oxide layer formed by oxidizing a surface of silicon. By the above process, the first substrate 600 having the plurality of probe holes 610 is provided.

다른 실시예에서, 프로브홀(610)은 드릴링(drilling) 공정 등을 이용한 기계적 가공을 이용해 형성될 수 있다.In another embodiment, the probe hole 610 may be formed using mechanical processing using a drilling process or the like.

다음, 도 7에 도시된 바와 같이, 제 1 기판(600)에 프로브(500)를 삽입한다(S200).Next, as shown in FIG. 7, the probe 500 is inserted into the first substrate 600 (S200).

구체적으로, 제 1 기판(600)에 형성된 프로브홀(610) 각각에 프로브(500)를 삽입하여 프로브(500)를 프로브홀(610)에 지지시킨다. 프로브홀(610) 내에 위치하는 프로브(500)의 직경은 프로브홀(610)의 직경보다 작은 것이 바람직하다. 즉, 프로브(500)는 프로브홀(610) 내에 헐겁게 지지되는 것이 바람직하다. 그로 인해, 프로브(500)를 프로브홀(610)에 삽입하는 공정을 용이하게 수행할 수 있다.Specifically, the probe 500 is supported in the probe hole 610 by inserting the probe 500 into each probe hole 610 formed in the first substrate 600. The diameter of the probe 500 located in the probe hole 610 is preferably smaller than the diameter of the probe hole 610. That is, the probe 500 is preferably loosely supported in the probe hole 610. Therefore, the process of inserting the probe 500 into the probe hole 610 can be easily performed.

한편, 프로브(500)의 제조는 포토리소그래피를 사용한 멤스 기술을 이용하여 형성한다. 상술한 바와 같이, 멤스 기술은 포토리소그래피를 이용해 희생 기판에 프로브(500) 형태의 개구부를 형성한 후, 상기 개구부에 니켈 등의 도전성 물질을 도금 방법 등을 이용해 채우고 희생 기판을 제거하여 개구부에 채워진 도전성 물질인 프로브(500)를 제조하는 기술 등을 말한다.On the other hand, the production of the probe 500 is formed using a MEMS technique using photolithography. As described above, the MEMS technique forms an opening in the form of a probe 500 on a sacrificial substrate using photolithography, and then fills the opening with a conductive material such as nickel by using a plating method and removes the sacrificial substrate. The technique of manufacturing the probe 500 which is a conductive material, and the like.

다음, 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 도전성 범프(400)를 형성한다(S300).Next, as shown in FIGS. 8 and 9, the conductive bumps 400 are formed (S300).

구체적으로, 프로브(500)가 프로브홀(610)에 삽입된 제 1 기판(600)의 배면 상에 젯팅(jetting) 장치(2000)를 사용한 젯팅 공정을 이용해 도전성 범프(400)를 형성한다. 이와 같이, 젯팅 공정을 이용하여 제 1 기판(600) 상에 도전성 범프(400)를 형성함으로써, 도전성 범프(400)의 위치 정밀도를 향상시킬 뿐만 아니라, 제조 시간을 단축시킬 수 있다.In detail, the conductive bumps 400 may be formed using a jetting process using a jetting apparatus 2000 on the back surface of the first substrate 600 in which the probes 500 are inserted into the probe holes 610. As such, by forming the conductive bumps 400 on the first substrate 600 using the jetting process, not only the positional accuracy of the conductive bumps 400 can be improved, but also the manufacturing time can be shortened.

다른 실시예에서, 도전성 범프(400)는 스텐실 마스크를 이용한 스크린 프린팅(screen printing)공정을 이용하여 형성할 수 있다.In another embodiment, the conductive bumps 400 may be formed using a screen printing process using a stencil mask.

도전성 범프(400)는 예컨데 솔더이며, 이와 달리 도전성 페이스트일 수도 있다. 또한, 도전성 범프(400)는 프로브홀(610)의 외부로 노출된 프로브(500)의 단부 표면과 제 1 기판(600)의 표면에 걸쳐서 위치하는 것이 바람직하다. 이러한 구성에 의해 도전성 범프(400)는 제 1 기판(600)을 후술할 제 2 기판(300)에 본딩할 때, 본딩 매개체로서 기능할 뿐만 아니라, 제 1 기판(600)에 헐겁게 지지되어 있는 프로브(500)를 제 1 기판(600)에 고정하는 기능을 수행한다.The conductive bump 400 is, for example, solder, or alternatively, may be a conductive paste. In addition, the conductive bumps 400 may be positioned over the end surface of the probe 500 exposed to the outside of the probe hole 610 and the surface of the first substrate 600. With this configuration, when the conductive bump 400 bonds the first substrate 600 to the second substrate 300 to be described later, the probe not only functions as a bonding medium but also is loosely supported by the first substrate 600. A function of fixing the 500 to the first substrate 600 is performed.

또한, 도전성 범프(400)는 한 개 또는 복수로 형성될 수 있으며, 이 중 도전성 범프(400)는 하나의 프로브(500)에 대해 복수로 형성되는 것이 바람직하다. 도전성 범프(400)가 프로브(500)와 제 1 기판(600)에 걸쳐서 복수로 형성되기 때문에, 프로브(500)는 제 1 기판(600)에 보다 견고히 고정된다.In addition, one or more conductive bumps 400 may be formed, and among the conductive bumps 400, a plurality of conductive bumps 400 may be formed. Since the conductive bumps 400 are formed in plural across the probe 500 and the first substrate 600, the probe 500 is more firmly fixed to the first substrate 600.

다음, 도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 제 2 기판(300)에 제 1 기판(600)을 본딩한다(S400).Next, as shown in FIGS. 10 and 11, the first substrate 600 is bonded to the second substrate 300 (S400).

구체적으로, 도 10에 도시된 바와 같이, 다층 세라믹 기판으로 이루어진 제 2 기판(300)의 도전성 패턴인 제 2 패드(320) 상에 도전성 범프(400)를 대응시켜 프로브(500)가 삽입 고정된 제 1 기판(600)을 정렬한 후, 제 1 방향으로 제 1 기판(600)을 하강 시켜 제 2 기판(300)에 제 1 기판(600)을 본딩한다. 제 2 기판(300)에 대한 제 1 기판(600)의 본딩은 도전성 범프(400)의 주변 환경의 온도를 도전성 범프(400)가 녹거나 흐를 수 있는 온도로 상승시켜 도전성 범프(400)를 이용해 프로브(500)의 단부와 제 1 기판(600)의 제 2 패드(320) 사이를 접착한 후, 도전성 범프(400)의 주변 환경의 온도를 도전성 범프(400)가 굳을 수 있는 온도로 하강시켜 수행할 수 있다.Specifically, as shown in FIG. 10, the probe 500 is inserted into and fixed to the conductive bumps 400 on the second pads 320, which are conductive patterns of the second substrate 300 made of a multilayer ceramic substrate. After aligning the first substrate 600, the first substrate 600 is lowered in the first direction to bond the first substrate 600 to the second substrate 300. The bonding of the first substrate 600 to the second substrate 300 increases the temperature of the surrounding environment of the conductive bump 400 to a temperature at which the conductive bump 400 may melt or flow to use the conductive bump 400. After bonding between the end of the probe 500 and the second pad 320 of the first substrate 600, the temperature of the surrounding environment of the conductive bump 400 is lowered to a temperature at which the conductive bump 400 can harden. Can be done.

도 11에 도시된 바와 같이, 제 2 기판(300)에 제 1 기판(600)이 본딩되면, 도전성 범프(400)는 제 2 기판(300)의 제 2 패드(320) 표면 상에서 층 형상으로 넓게 퍼지게 되며, 하나의 프로브(500)에 대해 이웃하는 도전성 범프(400)는 서로 결합하게 된다. 이에 의해, 프로브(500)와 제 2 기판(300)의 제 2 패드(320)는 층 형상으로 넓게 퍼진 도전성 범프(400)에 의해 면 접촉을 하게 된다.As shown in FIG. 11, when the first substrate 600 is bonded to the second substrate 300, the conductive bumps 400 are broadly layered on the surface of the second pad 320 of the second substrate 300. The conductive bumps 400 adjacent to the one probe 500 are coupled to each other. As a result, the probe 500 and the second pad 320 of the second substrate 300 are brought into surface contact by the conductive bumps 400 that are widely spread in a layer shape.

다른 실시예에서, 제 2 기판(300)에 대한 제 1 기판(600)의 본딩은 도전성 범프(400)에 레이저를 조사하여 수행할 수 있다. In another embodiment, bonding of the first substrate 600 to the second substrate 300 may be performed by irradiating a laser to the conductive bumps 400.

이상과 같은 방법에 의해 프로브 카드(1000)가 제조된다.The probe card 1000 is manufactured by the above method.

이와 같이, 제 1 기판(600)에 프로브홀(610)이 형성되어 있고, 프로브홀(610)에 프로브(500)를 삽입한 후, 프로브(500)와 제 1 기판(600)에 걸쳐 복수의 도전성 범프(400)를 형성하기 때문에, 제 1 기판(600)에 대해 프로브(500)의 정렬 상태를 올바르게 할 수 있다. 즉, 프로브(500)가 올바르게 정렬된 제 1 기판(600)을 제 2 기판(300)에 본딩하기 때문에 프로브(500)를 제 2 기판에 본딩할 때 제 2 기판(300)에 대한 프로브(500)의 정렬 상태를 올바르게 할 수 있다.As described above, the probe hole 610 is formed in the first substrate 600, and after the probe 500 is inserted into the probe hole 610, a plurality of probes are provided over the probe 500 and the first substrate 600. Since the conductive bumps 400 are formed, the alignment state of the probe 500 with respect to the first substrate 600 can be corrected. That is, since the probe 500 bonds the first substrate 600 aligned correctly to the second substrate 300, the probe 500 with respect to the second substrate 300 when the probe 500 is bonded to the second substrate. ) Can be aligned correctly.

또한, 복수의 프로브(500) 각각을 제 1 기판(600)의 프로브홀(610)에 삽입하기 때문에, 프로브(500)를 제 2 기판(300)에 본딩하기 전에 프로브(500)의 상태를 확인할 수 있다.In addition, since each of the plurality of probes 500 is inserted into the probe hole 610 of the first substrate 600, the state of the probe 500 may be checked before bonding the probe 500 to the second substrate 300. Can be.

또한, 복수의 프로브(500)가 삽입 고정된 제 1 기판(600)을 이용해 제 2 기판(300)에 복수의 프로브(500)를 일괄 장착하기 때문에, 한 번의 공정을 이용해 일괄적으로 복수의 프로브(500)를 제 2 기판(300) 상에 본딩할 수 있다. 즉, 제조 기간 및 제조 비용이 절감된다.In addition, since the plurality of probes 500 are collectively mounted on the second substrate 300 using the first substrate 600 to which the plurality of probes 500 are inserted and fixed, the plurality of probes may be collectively using one process. The 500 may be bonded onto the second substrate 300. That is, the manufacturing period and manufacturing cost are reduced.

또한, 프로브(500)가 도전성 범프(400)에 의해 제 1 기판(600)에 삽입 고정되어 있기 때문에, 프로브(500)를 제 1 기판(600)에 삽입 고정하는 단계에서 불량이 발생할 경우, 불량이 발생한 프로브(500) 또는 제 1 기판(600)을 교체할 수 있다. 즉, 제 1 기판(600)을 이용해 고가의 다층 세라믹 기판으로 이루어진 제 2 기 판(300)에 프로브(500)를 본딩하기 전에 제 1 기판(600)에 대한 프로브(500)의 본딩을 수행하기 때문에, 고가인 제 2 기판(300)에 대한 부담을 덜 수 있으며, 본딩 불량으로 인해 발생할 수 있는 제 2 기판(300)의 폐기를 억제할 수 있다. 즉, 제조 비용을 절감할 수 있다.In addition, since the probe 500 is inserted into and fixed to the first substrate 600 by the conductive bumps 400, when a defect occurs in the step of inserting and fixing the probe 500 to the first substrate 600, the defect may occur. The generated probe 500 or the first substrate 600 may be replaced. That is, bonding the probe 500 to the first substrate 600 before bonding the probe 500 to the second substrate 300 made of an expensive multilayer ceramic substrate using the first substrate 600. Therefore, the burden on the expensive second substrate 300 can be reduced, and the disposal of the second substrate 300, which may occur due to poor bonding, can be suppressed. That is, the manufacturing cost can be reduced.

이에 의하여, 제조 신뢰성이 향상되며, 제조 기간 및 제조 비용을 절감한 프로브 카드의 제조 방법이 제공된다.Thereby, the manufacturing reliability is improved, and the manufacturing method of the probe card which reduced the manufacturing period and manufacturing cost is provided.

이하, 도 12를 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a probe card according to a second exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 12.

도 12는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.12 is a view for explaining a method of manufacturing a probe card according to a second embodiment of the present invention.

이하, 제 1 실시예와 구별되는 특징적인 부분만 발췌하여 설명하며, 설명이 생략된 부분은 제 1 실시예에 따른다. 그리고, 본 발명의 제 2 실시예에서는 설명의 편의를 위하여 동일한 구성요소에 대하여는 제 1 실시예와 동일한 참조번호를 사용하여 설명한다.Hereinafter, only the characteristic parts distinguished from the first embodiment will be described and described, and the description thereof will be omitted according to the first embodiment. In addition, in the second embodiment of the present invention, for the convenience of description, the same components will be described using the same reference numerals as in the first embodiment.

도 12에 도시된 바와 같이, 우선, 프로브홀(610) 및 가이드홀(650)을 포함하는 제 1 기판(600)을 마련한다.As shown in FIG. 12, first, a first substrate 600 including a probe hole 610 and a guide hole 650 is prepared.

구체적으로, 가이드홀(650)은 프로브홀(610)에 이웃하여 위치할 수 있도록 형성하며, 프로브홀(610) 및 가이드홀(650)은 포토리소그래피 공정을 이용해 형성한다.In detail, the guide hole 650 may be formed adjacent to the probe hole 610, and the probe hole 610 and the guide hole 650 may be formed using a photolithography process.

다른 실시예에서, 프로브홀(610) 및 가이드홀(650)은 드릴링 공정 등을 이용 한 기계적 가공을 이용해 형성할 수 있다.In another embodiment, the probe hole 610 and the guide hole 650 may be formed by mechanical machining using a drilling process or the like.

다음, 제 1 기판(600)에 프로브(500)를 삽입한다.Next, the probe 500 is inserted into the first substrate 600.

구체적으로, 제 1 기판(600)에 형성된 프로브홀(610) 각각에 프로브(500)의 신호부(510)를 삽입하고, 각 프로브홀(610)에 이웃하는 가이드홀(650)에 프로브(500)의 가이드부(550)를 삽입하여 프로브(500)를 프로브홀(610) 및 가이드홀(650)에 지지 시킨다. 프로브홀(610) 및 가이드홀(650) 내에 위치하는 프로브(500)의 직경은 프로브홀(610) 및 가이드홀(650)의 직경보다 작은 것이 바람직하다. 즉, 프로브(500)는 프로브홀(610) 및 가이드홀(650) 내에 헐겁게 지지되는 것이 바람직하다.Specifically, the signal unit 510 of the probe 500 is inserted into each of the probe holes 610 formed in the first substrate 600, and the probe 500 is disposed in the guide hole 650 adjacent to each probe hole 610. Insert the guide portion 550 of the support 500 to support the probe hole 610 and the guide hole 650. The diameter of the probe 500 located in the probe hole 610 and the guide hole 650 is preferably smaller than the diameter of the probe hole 610 and the guide hole 650. That is, the probe 500 may be loosely supported in the probe hole 610 and the guide hole 650.

다음, 프로브(500)의 신호부(510)에 대응하여 복수의 도전성 범프(400)를 형성한다.Next, a plurality of conductive bumps 400 are formed corresponding to the signal unit 510 of the probe 500.

다음, 제 2 기판(300)에 제 1 기판(600)을 본딩한다.Next, the first substrate 600 is bonded to the second substrate 300.

이상과 같은 방법에 의해 프로브 카드가 제조된다.A probe card is manufactured by the above method.

이와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법은 제 1 기판(600)에 형성된 프로브홀(610) 및 가이드홀(650) 각각에 프로브(500)의 신호부(510) 및 가이드부(550)를 삽입하기 때문에, 제 1 기판(600)에 프로브(500)가 더욱 견고하게 지지될 수 있다.As described above, the method of manufacturing the probe card according to the second exemplary embodiment of the present invention includes a signal unit 510 of the probe 500 and a probe hole 610 and a guide hole 650 formed in the first substrate 600. Since the guide part 550 is inserted, the probe 500 may be more firmly supported on the first substrate 600.

또한, 각 프로브(500)가 제 1 기판(600)에 형성된 프로브홀(610) 및 가이드홀(650)에 의해 지지되기 때문에, 검사 공정 시 프로브(500)에 인가되는 압력이 2 방향 이상으로 분산되어, 검사 공정 시 접촉 신뢰성이 향상된다. 즉, 검사 신뢰성 이 향상된다.In addition, since each probe 500 is supported by the probe hole 610 and the guide hole 650 formed in the first substrate 600, the pressure applied to the probe 500 during the inspection process is dispersed in two or more directions. Thus, the contact reliability is improved during the inspection process. That is, inspection reliability is improved.

이에 의하여, 제조 신뢰성 및 검사 신뢰성이 향상되며, 제조 기간 및 제조 비용을 절감한 프로브 카드의 제조 방법이 제공된다.Thereby, manufacturing reliability and inspection reliability are improved, and the manufacturing method of the probe card which reduced the manufacturing period and manufacturing cost is provided.

이하, 도 13을 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a probe card according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 13.

도 13은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.13 is a view for explaining a method of manufacturing a probe card according to a third embodiment of the present invention.

이하, 제 1 실시예와 구별되는 특징적인 부분만 발췌하여 설명하며, 설명이 생략된 부분은 제 1 실시예에 따른다. 그리고, 본 발명의 제 3 실시예에서는 설명의 편의를 위하여 동일한 구성요소에 대하여는 제 1 실시예와 동일한 참조번호를 사용하여 설명한다.Hereinafter, only the characteristic parts distinguished from the first embodiment will be described and described, and the description thereof will be omitted according to the first embodiment. In the third embodiment of the present invention, for the convenience of description, the same components will be described with the same reference numerals as in the first embodiment.

도 13에 도시된 바와 같이, 우선, 프로브홀(610), 제 1 가이드홀(660) 및 제 2 가이드홀(670)을 포함하는 제 1 기판(600)을 마련한다.As shown in FIG. 13, first, a first substrate 600 including a probe hole 610, a first guide hole 660, and a second guide hole 670 is prepared.

구체적으로, 제 1 가이드홀(660) 및 제 2 가이드홀(670)은 프로브홀(610)에 이웃하여 위치할 수 있도록 형성하며, 프로브홀(610), 제 1 가이드홀(660) 및 제 2 가이드홀(670)은 포토리소그래피 공정을 이용해 형성한다.Specifically, the first guide hole 660 and the second guide hole 670 are formed to be adjacent to the probe hole 610, and the probe hole 610, the first guide hole 660 and the second The guide hole 670 is formed using a photolithography process.

다음, 제 1 기판(600)에 프로브(500)를 삽입한다.Next, the probe 500 is inserted into the first substrate 600.

구체적으로, 제 1 기판(600)에 형성된 프로브홀(610) 각각에 프로브(500)의 신호부(510)를 삽입하고, 각 프로브홀(610)에 이웃하는 제 1 가이드홀(660) 및 제 2 가이드홀(670) 각각에 프로브(500)의 제 1 가이드부(560) 및 제 2 가이드부(570) 를 삽입하여 프로브(500)를 프로브홀(610), 제 1 가이드홀(660) 및 제 2 가이드홀(670)에 지지 시킨다. 프로브홀(610), 제 1 가이드홀(660) 및 제 2 가이드홀(670) 내에 위치하는 프로브(500)의 직경은 프로브홀(610), 제 1 가이드홀(660) 및 제 2 가이드홀(670)의 직경보다 작은 것이 바람직하다. 즉, 프로브(500)는 프로브홀(610), 제 1 가이드홀(660) 및 제 2 가이드홀(670) 내에 헐겁게 지지되는 것이 바람직하다.Specifically, the signal unit 510 of the probe 500 is inserted into each of the probe holes 610 formed in the first substrate 600, and the first guide holes 660 and the first neighboring holes of the probe holes 610 are formed. The first guide part 560 and the second guide part 570 of the probe 500 are inserted into each of the two guide holes 670 so that the probe 500 is connected to the probe hole 610, the first guide hole 660, The second guide hole 670 is supported. The diameter of the probe 500 located in the probe hole 610, the first guide hole 660, and the second guide hole 670 may be the probe hole 610, the first guide hole 660, and the second guide hole ( 670 is preferably smaller than the diameter. That is, the probe 500 may be loosely supported in the probe hole 610, the first guide hole 660, and the second guide hole 670.

다음, 프로브(500)의 신호부(510)에 대응하여 복수의 도전성 범프(400)를 형성한다.Next, a plurality of conductive bumps 400 are formed corresponding to the signal unit 510 of the probe 500.

다음, 제 2 기판(300)에 제 1 기판(600)을 본딩한다.Next, the first substrate 600 is bonded to the second substrate 300.

이상과 같은 방법에 의해 프로브 카드가 제조된다.A probe card is manufactured by the above method.

이와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법은 제 1 기판(600)에 형성된 프로브홀(610), 제 1 가이드홀(660) 및 제 2 가이드홀(670) 각각에 프로브(500)의 신호부(510), 제 1 가이드부(560) 및 제 2 가이드부(570)를 삽입하기 때문에, 제 1 기판(600)에 프로브(500)가 더욱 견고하게 지지될 수 있다.As described above, in the method of manufacturing the probe card according to the second embodiment of the present invention, a probe is formed in each of the probe hole 610, the first guide hole 660, and the second guide hole 670 formed in the first substrate 600. Since the signal part 510, the first guide part 560, and the second guide part 570 of the 500 are inserted, the probe 500 may be more firmly supported on the first substrate 600.

또한, 각 프로브(500)가 제 1 기판(600)에 형성된 프로브홀(610), 제 1 가이드홀(660) 및 제 2 가이드홀(670)에 의해 지지되기 때문에, 검사 공정 시 프로브(500)에 인가되는 압력이 3 방향 이상으로 분산되어, 검사 공정 시 접촉 신뢰성이 향상된다. 즉, 검사 신뢰성이 향상된다.In addition, since each probe 500 is supported by the probe hole 610, the first guide hole 660, and the second guide hole 670 formed in the first substrate 600, the probe 500 during the inspection process. The pressure applied to is dispersed in three or more directions, thereby improving contact reliability during the inspection process. That is, inspection reliability is improved.

이에 의하여, 제조 신뢰성 및 검사 신뢰성이 향상되며, 제조 기간 및 제조 비용을 절감한 프로브 카드의 제조 방법이 제공된다.Thereby, manufacturing reliability and inspection reliability are improved, and the manufacturing method of the probe card which reduced the manufacturing period and manufacturing cost is provided.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The foregoing description of the present invention is intended for illustration, and it will be understood by those skilled in the art that the present invention may be easily modified in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the above description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.

도 1 내지 도 3은 종래의 프로브 카드의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고,1 to 3 are views for explaining a conventional method of manufacturing a probe card,

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법에 의해 제조된 프로브 카드의 단면도이고,4 is a cross-sectional view of a probe card manufactured by the method of manufacturing a probe card according to the first embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법을 나타낸 순서도이고,5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a probe card according to a first embodiment of the present invention.

도 6 내지 도 11은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고,6 to 11 are views for explaining a method of manufacturing a probe card according to a first embodiment of the present invention,

도 9는 도 8의 Ⅸ-Ⅸ를 따른 단면도이고,9 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII of FIG. 8;

도 12는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이며,12 is a view for explaining a method of manufacturing a probe card according to a second embodiment of the present invention;

도 13은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브 카드의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.13 is a view for explaining a method of manufacturing a probe card according to a third embodiment of the present invention.

Claims (9)

프로브 카드의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the probe card, a) 복수의 프로브홀이 형성된 제 1 기판을 마련하는 단계,a) preparing a first substrate on which a plurality of probe holes are formed; b) 상기 제 1 기판의 상기 복수의 프로브홀 각각에 프로브를 삽입하는 단계,b) inserting a probe into each of the plurality of probe holes of the first substrate, c) 상기 프로브의 단부 표면과 상기 제 1 기판의 표면에 걸쳐 도전성 범프를 형성하는 단계 및c) forming a conductive bump across the end surface of the probe and the surface of the first substrate, and d) 상기 프로브가 삽입된 상기 제 1 기판을 도전성 패턴이 형성된 제 2 기판에 본딩하여, 상기 프로브와 상기 도전성 패턴 사이를 연결하는 단계d) bonding the first substrate into which the probe is inserted to a second substrate on which a conductive pattern is formed, and connecting the probe to the conductive pattern 를 포함하는 프로브 카드의 제조 방법.Method of manufacturing a probe card comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도전성 범프는 각 상기 프로브에 대해 복수로 형성되는 것인 프로브 카드의 제조 방법.And a plurality of conductive bumps are formed for each of the probes. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 a)단계는,Step a) is 절연성 기판을 마련하는 단계 및Preparing an insulating substrate, and 상기 절연성 기판에 포토리소그래피(photolithography) 공정을 이용해 상기 복수의 프로브홀을 형성하는 단계Forming the plurality of probe holes in the insulating substrate using a photolithography process 를 포함하는 프로브 카드의 제조 방법.Method of manufacturing a probe card comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 c)단계는,Step c) is 젯팅(jetting) 공정 또는 스크린 프린팅(screen printing) 공정을 이용해 상기 도전성 범프를 형성하는 것인 프로브 카드의 제조 방법.A method of manufacturing a probe card, wherein the conductive bumps are formed using a jetting process or a screen printing process. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 d)단계는,In step d), 상기 도전성 범프를 열 또는 레이저를 이용해 녹여서 수행하는 것인 프로브 카드의 제조 방법.Method of manufacturing a probe card that is carried out by melting the conductive bumps using heat or laser. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 a)단계는,Step a) is 각각의 상기 프로브홀에 이웃하여 위치하는 하나 이상의 가이드홀을 형성하 는 단계를 포함하는 프로브 카드의 제조 방법.And forming one or more guide holes positioned adjacent to each of the probe holes. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 b)단계는,Step b), 상기 프로브에 형성된 가이드부를 상기 가이드홀에 장착하고,The guide portion formed in the probe is mounted in the guide hole, 상기 프로브에 형성된 신호부를 상기 프로브홀에 장착하여 수행하는 것인 프로브 카드의 제조 방법.And mounting the signal part formed on the probe to the probe hole. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도전성 범프는 도전성 페이스트(paste) 또는 솔더(solder)인 것인 프로브 카드의 제조 방법.The conductive bump is a conductive paste (paste) or solder (solder) manufacturing method of the probe card. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2 기판은 다층 세라믹 기판(multi layer ceramic, MLC)인 것인 프로브 카드의 제조 방법.And the second substrate is a multi-layer ceramic substrate (MLC).
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