KR101048497B1 - Probe card and method for manufacturing the same - Google Patents

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KR101048497B1
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조용호
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조용호
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Abstract

PURPOSE: A probe card and a manufacturing method thereof are provided to reduce a fabrication time of a space transformer and to make it possible to replace a high priced ceramic multi layered substrate. CONSTITUTION: A probe(40) is formed in an upper side of a base substrate and is electrically connected to a semiconductor wafer. A conductive solder(36) is formed in a bottom surface of the base substrate and is electrically connected to the probe. A probe module(30) includes a plurality of probes and a plurality of conductive solders. A space transformer is bonded in a bottom surface of the probe module after being manufactured independently of the probe module. An upper plating layer made of a conductive type metal is electrically connected to a base contact.

Description

프로브 카드 및 그 제조방법{PROBE CARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}PROBE CARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

본 발명은 반도체 검사 장비로 사용되는 프로브 카드 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 공용기판 위에 MEMS 방식으로 프로브를 형성하는 프로브 카드 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a probe card used as a semiconductor inspection equipment and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a probe card and a method for manufacturing the probe on the common substrate in a MEMS method.

일반적으로 프로브 카드는 반도체 메모리, 평면 디스플레이(FPD) 등의 반도체 소자의 제작 중 또는 제작 후에, 그 결함 유무를 테스트하기 위하여 웨이퍼와 반도체 검사 장비를 전기적으로 연결시킴으로서, 검사 장비의 전기적 신호를 웨이퍼에 형성된 반도체 다이(die)에 전달하여 주고, 반도체 다이로부터 돌아오는 신호를 반도체 검사 장비에 전달하는 장치이다.In general, a probe card electrically connects a wafer and a semiconductor inspection device to test for defects during or after the manufacture of a semiconductor device such as a semiconductor memory or a flat panel display (FPD), thereby transmitting an electrical signal from the inspection device to the wafer. It is a device for transmitting to the formed semiconductor die (die), and transmits a signal from the semiconductor die to the semiconductor inspection equipment.

종래의 일반적인 프로브 카드는, 반도체 검사 장비에 전기적으로 연결되는 인쇄회로기판에 인터포져(interposer)를 통해 연결되는 공간 변환기(space transformer), 그리고 공간 변환기 위에 장착되어 웨이퍼에 접속하는 프로브의 구조로 이루어진다.The conventional general probe card has a structure of a space transformer connected to a printed circuit board electrically connected to a semiconductor inspection equipment through an interposer, and a probe mounted on the space converter and connected to a wafer. .

상기 공간 변환기는 미세 피치의 접촉 패드를 검사하기 위해 프로브와 인쇄회로기판 사이에서 피치 변환의 기능을 수행하는 것으로써, 통상 그린 시트(Green sheet)를 다층으로 형성한 MLC(Multi Layer Ceramic)의 형태로 제작되는데, 이러한 공간 변환기는 그 제조 공정이 복잡하여 공정 시간이 증가할 뿐만 아니라 제조 비용이 고가이다.The spatial transducer performs a function of pitch conversion between the probe and the printed circuit board to inspect a fine pitch contact pad, and is typically in the form of a multi layer ceramic (MLC) in which a green sheet is formed in multiple layers. Such a space converter has a complicated manufacturing process, which increases processing time and is expensive to manufacture.

본 발명은 상술한 바와 같은 종래 기술상의 제반 문제점들을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 공간 변환기의 제조 공정 시간을 획기적으로 단축할 수 있는 방법을 제공하는 것을 주요한 해결 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems in the prior art, and a main problem is to provide a method that can drastically shorten the manufacturing process time of the space transducer.

또한 본 발명은, 고가의 세라믹 다층 기판을 대체하여 비교적 저가이면서도 세라믹과 성능이 유사한 새로운 재질의 공간 변환기를 제공하는 것을 또 다른 해결 과제로 한다.Another object of the present invention is to provide a spatial converter of a new material having a relatively low cost and similar performance to that of a ceramic by replacing an expensive ceramic multilayer substrate.

상기 과제를 해결하기 위한 수단으로서 본 발명에 따른 프로브 카드는, 인쇄회로기판에 전기적으로 연결되는 공간 변환기, 그리고 공간 변환기 위에 장착되어 웨이퍼에 접속하는 프로브를 포함하여 구성되는 프로브 카드에 있어서, 상기 공간 변환기는, 미리 설정된 패턴으로 도전성 금속 재질의 베이스 컨택이 형성된 공용기판과; 상기 공용기판의 상면에 MEMS 방식으로 형성되고, 베이스 컨택과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 상부 도금층; 상기 공용기판의 상면에 MEMS 방식으로 형성되는 PI 재질의 상부 절연층; 상기 상부 절연층 내부에 MEMS 방식으로 형성되고, 상부 도금층과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 상부 컨택;을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the probe card according to the present invention as a means for solving the above problems, the probe card comprises a space converter electrically connected to the printed circuit board, and a probe mounted on the space converter to connect to the wafer, the space The converter includes: a common substrate having a base contact made of a conductive metal material in a predetermined pattern; An upper plating layer formed of a conductive metal material on the upper surface of the common substrate and electrically connected to the base contact; An upper insulating layer of PI material formed on the upper surface of the common substrate in a MEMS manner; And an upper contact formed in the upper insulating layer in a MEMS manner and electrically connected to the upper plating layer.

또한 상기 공간 변환기는, 상기 공용기판의 저면에 MEMS 방식으로 형성되고, 베이스 컨택과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 도금층; 상기 공용기판의 저면에 MEMS 방식으로 형성되는 PI 재질의 하부 절연층; 상기 하부 절연층 내부에 MEMS 방식으로 형성되고, 하부 도금층과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 컨택;을 더 포함하여 구성될 수 있다.The space converter may further include a lower plating layer of a conductive metal material formed on the bottom surface of the common substrate in a MEMS manner and electrically connected to the base contact; A lower insulating layer of PI material formed on the bottom surface of the common substrate in a MEMS manner; The lower contact layer is formed in the lower insulating layer in the MEMS method, the lower contact of the conductive metal material electrically connected to the lower plating layer; may be configured to further include.

그리고 상기 프로브는, 상부 절연층의 상면에 형성되어 상부 컨택과 통전하는 기단부와; 상기 기단부의 상면에 일측 단부가 고정되고 측 방향으로 연장되는 빔; 상기 빔의 타측 단부에서 수직하게 돌출 형성되는 프로브 팁;을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The probe may include: a proximal end formed on an upper surface of the upper insulating layer to conduct electricity to the upper contact; A beam having one end fixed to an upper surface of the proximal end and extending in a lateral direction; And a probe tip protruding vertically from the other end of the beam.

또한 본 발명에 따른 프로브 카드는, 베이스 기판, 베이스 기판의 상면에 형성되어 반도체 웨이퍼에 전기 접속하는 다수의 프로브, 베이스 기판의 저면에 형성되어 프로브에 전기적으로 연결되는 다수의 도전성 솔더를 구비하는 프로브 모듈과; 상기 공간 변환기의 상면에 형성되어 상부 컨택에 전기적으로 연결되고, 상기 프로브 모듈과 공간 변환기의 접합 과정에서 각각의 도전성 솔더에 열적 융합되는 다수의 패드;를 더 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.In addition, the probe card according to the present invention is a probe having a base substrate, a plurality of probes formed on the upper surface of the base substrate and electrically connected to the semiconductor wafer, and a plurality of conductive solder formed on the bottom surface of the base substrate and electrically connected to the probe A module; And a plurality of pads formed on an upper surface of the space transducer and electrically connected to an upper contact, and thermally fused to respective conductive solders during bonding of the probe module and the space transducer.

또한 본 발명에 따른 프로브 카드는, 공간 변환기의 상면에 형성되는 제1 얼라인 키와; 프로브 모듈과 공간 변환기의 접합 과정에서 각각의 패드 위에 도전성 솔더가 정렬될 수 있도록, 프로브 모듈의 저면에서 상기 제1 얼라인 키에 대응되는 위치에 형성되는 제2 얼라인 키;를 더 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the probe card according to the present invention, the first alignment key formed on the upper surface of the space transducer; And a second alignment key formed at a position corresponding to the first alignment key on the bottom surface of the probe module so that the conductive solder may be aligned on each pad during the bonding of the probe module and the space transducer. Can be.

여기서, 상기 제1 얼라인 키와 제2 얼라인 키 중 하나는 돌기 구조로 이루어지고, 나머지 하나는 돌기 구조가 수용될 수 있는 안착홈 구조로 이루어지는 것이 더욱 바람직하다.Here, it is more preferable that one of the first alignment key and the second alignment key is made of a protrusion structure, and the other is made of a seating groove structure in which the protrusion structure can be accommodated.

또한 본 발명에 따른 프로브 카드는, 도전성 솔더의 중심부는 하측으로 돌출 형성되고, 패드의 중심부는 상기 돌출 형성된 도전성 솔더의 중심부를 수용할 수 있도록 오목하게 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the probe card according to the present invention is characterized in that the center of the conductive solder protrudes downward, the center of the pad is formed concave to accommodate the center of the protruding conductive solder.

아울러, 본 발명에 따른 프로브 카드는, 도전성 솔더와 패드의 열적 융합 과정에서 용융되지 않는 재질로 이루어지고, 도전성 솔더의 내부에 삽입되어 프로브 모듈을 지지하는 솔더 지지부;를 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the probe card according to the present invention is preferably made of a material that does not melt during the thermal fusion process of the conductive solder and the pad, the solder support portion inserted into the conductive solder to support the probe module; preferably further comprises a.

그리고 본 발명에 따른 프로브 카드 제조방법은, 인쇄회로기판에 전기적으로 연결되는 공간 변환기를 제조하는 공정, 그리고 공간 변환기에 전기적으로 연결되는 프로브를 형성하는 공정을 포함하여 구성되는 프로브 카드의 제조방법에 있어서, 상기 공간 변환기의 제조 공정은, 미리 설정된 패턴으로 도전성 금속 재질의 베이스 컨택이 형성된 공용기판을 제조하는 제1단계; 공용기판의 상면에 상기 베이스 컨택과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 상부 도금층을 MEMS 방식으로 형성하는 제2단계; 공용기판의 상면에 PI 재질의 상부 절연층을 MEMS 방식으로 형성하는 제3단계; 상부 절연층 내부에 상기 상부 도금층과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 상부 컨택을 MEMS 방식으로 형성하는 제4단계;를 포함하여 구성된다.The method of manufacturing a probe card according to the present invention includes a process of manufacturing a space transducer electrically connected to a printed circuit board, and a process of forming a probe electrically connected to the space transducer. The manufacturing method of the space converter may include: a first step of manufacturing a common substrate having a base contact made of a conductive metal material in a predetermined pattern; A second step of forming an upper plating layer of a conductive metal material electrically connected to the base contact on an upper surface of a common substrate by a MEMS method; A third step of forming an upper insulating layer of PI material on the upper surface of the common substrate by a MEMS method; And a fourth step of forming an upper contact of a conductive metal material electrically connected to the upper plating layer in the upper insulating layer by MEMS.

그리고 상기 제3단계는, 공용기판의 상면에 액상 PI 소재를 도포 후 소성시켜서 상부 절연층을 형성하거나, 또는 공용기판의 상면에 고상 PI 소재를 압착하여 상부 절연층을 형성하는 방식으로 이루어질 수 있다.The third step may be performed by applying a liquid PI material on the upper surface of the common substrate and baking the liquid PI material to form an upper insulating layer, or by pressing a solid PI material on the upper surface of the common substrate to form an upper insulating layer. .

또한 본 발명에 따른 프로브 카드 제조방법은, 공용기판의 저면에 상기 베이스 컨택과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 도금층을 MEMS 방식으로 형성하는 제5단계; 공용기판의 저면에 PI 재질의 하부 절연층을 MEMS 방식으로 형성하는 제6단계; 하부 절연층 내부에 상기 하부 도금층과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 컨택을 MEMS 방식으로 형성하는 제7단계;를 더 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the probe card manufacturing method according to the present invention, the fifth step of forming a lower plating layer of a conductive metal material electrically connected to the base contact on the bottom surface of the common substrate by MEMS method; A sixth step of forming a lower insulating layer of PI material on the bottom surface of the common substrate by a MEMS method; And forming a lower contact of a conductive metal material electrically connected to the lower plating layer inside the lower insulating layer by using a MEMS method.

또한 본 발명에 따른 프로브 카드 제조방법은, 상기 공간 변환기의 제조 공정은, 공간 변환기의 상면에 상부 컨택에 전기적으로 연결되는 다수의 패드를 형성하는 제8단계;를 더 포함하여 구성되고, 베이스 기판, 베이스 기판의 상면에 형성되어 반도체 웨이퍼에 전기 접속하는 다수의 프로브, 베이스 기판의 저면에 형성되어 프로브에 전기적으로 연결되는 다수의 도전성 솔더를 구비하는 프로브 모듈을 제조하는 공정과; 각각의 도전성 솔더를 패드에 열적 융합시킴으로써, 상기 프로브 모듈과 공간 변환기를 접합시키는 공정;을 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the method of manufacturing a probe card according to the present invention further includes the eighth step of forming a plurality of pads electrically connected to an upper contact on an upper surface of the space transducer. Manufacturing a probe module including a plurality of probes formed on an upper surface of the base substrate and electrically connected to the semiconductor wafer, and a plurality of conductive solders formed on the bottom surface of the base substrate and electrically connected to the probes; Thermally fusion each conductive solder to a pad, thereby bonding the probe module and the space transducer.

본 발명에 따르면, 공용기판 위에 MEMS 방식으로 PI 소재를 적층함으로써 공간 변환기의 제조 시간을 획기적으로 단축할 수 있게 된다.According to the present invention, it is possible to significantly reduce the manufacturing time of the space transducer by laminating PI material on the common substrate by MEMS method.

또한 본 발명에 의하면, 고가의 세라믹 다층 기판을 대체하여 비교적 저가이면서도 세라믹과 성능이 유사한 PI 재질의 공간 변환기를 제공할 수 있게 된다.In addition, according to the present invention, it is possible to provide a spatial converter of a PI material having a relatively low cost and similar performance to that of a ceramic by replacing an expensive ceramic multilayer substrate.

또한 본 발명에 의하면, PI 재질의 공간 변환기와 프로브 모듈을 접합하는 과정에서, 상호 대응되는 얼라인 키 및 도전성 솔더의 구조로 인해 각각의 솔더를 패드 위에 정확하게 정렬할 수 있게 된다.In addition, according to the present invention, in the process of bonding the space transducer and the probe module of the PI material, due to the structure of the corresponding alignment key and the conductive solder, it is possible to accurately align each solder on the pad.

또한 본 발명에 의하면, 도전성 솔더 내부에 삽입되는 솔더 지지부에 의해 프로브 모듈의 수평 상태를 보다 효율적으로 유지할 수 있게 된다.
In addition, according to the present invention, it is possible to more efficiently maintain the horizontal state of the probe module by the solder support portion inserted into the conductive solder.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 프로브 카드를 나타내는 단면도.
도 2는 본 발명의 제2실시예에 따른 프로브 카드를 나타내는 단면도.
도 3은 본 발명의 제3실시예에 따른 프로브 카드를 나타내는 단면도.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제3실시예에 따른 공간 변환기를 나타내는 측단면도 및 저면도.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 제3실시예에 따른 프로브 모듈을 나타내는 측단면도 및 저면도.
도 6은 본 발명에 따른 도전성 솔더를 나타내는 단면도.
도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 프로브 카드 제조방법을 나타내는 단면도.
도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 프로브 카드 제조방법을 나타내는 단면도.
도 9는 본 발명의 제3실시예에 따른 프로브 카드 제조방법을 나타내는 단면도.
1 is a cross-sectional view showing a probe card according to a first embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing a probe card according to a second embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing a probe card according to a third embodiment of the present invention.
4A and 4B are side cross-sectional and bottom views of a space converter according to a third embodiment of the present invention.
Figures 5a and 5b is a side cross-sectional view and a bottom view showing a probe module according to a third embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view showing a conductive solder according to the present invention.
7 is a cross-sectional view showing a method of manufacturing a probe card according to the first embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a probe card according to a second embodiment of the present invention.
9 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing a probe card according to a third embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 프로브 카드 및 그 제조방법에 대한 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of a probe card and a manufacturing method according to the present invention.

도 1 내지 도 3에는 본 발명의 제1 내지 제3실시예에 따른 프로브 카드 구조가 도시되어 있다. 그리고 도 4a 및 도 4b, 그리고 도 5a 및 도 5b에는 본 발명의 제3실시예에 따른 공간 변환기와 프로브 모듈의 구성이 도시되어 있고, 도 6에는 본 발명에 따른 도전성 솔더의 구조 도시되어 있다.1 to 3 illustrate a probe card structure according to the first to third embodiments of the present invention. 4A and 4B, and FIGS. 5A and 5B show the configuration of the space transducer and the probe module according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 6 shows the structure of the conductive solder according to the present invention.

우선, 도 1을 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 프로브 카드에 대해 살펴본다.First, a probe card according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1.

도 1을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 프로브 카드는, 반도체 검사 장비에 전기적으로 연결되는 인쇄회로기판에 전기적으로 연결되는 공간 변환기(10), 그리고 공간 변환기(10) 위에 장착되어 웨이퍼에 접속하는 프로브(40)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1, a probe card according to a first embodiment of the present invention is mounted on a space converter 10 and a space converter 10 electrically connected to a printed circuit board electrically connected to a semiconductor inspection equipment. It is comprised including the probe 40 connected to a wafer.

여기서, 상기 인쇄회로기판은 반도체 검사 장비로부터 송신된 전기 신호를 수신하며, 수신된 전기 신호는 공간 변환기(10)를 통하여 프로브(40)로 전달하는 한편, 프로브(40)로부터 전달된 신호를 역방향으로 반도체 검사 장비로 전달하는 회로를 포함한다.Here, the printed circuit board receives an electrical signal transmitted from the semiconductor inspection equipment, and the received electrical signal is transmitted to the probe 40 through the space converter 10, while the signal transmitted from the probe 40 is reversed. It includes a circuit for transferring to the semiconductor inspection equipment.

그리고 상기 프로브(40)는 반도체 웨이퍼에 전기 접속하기 위한 탐침 구조로 이루어지고, 공간 변환기(10)의 상면에 형성된다.The probe 40 has a probe structure for electrically connecting to a semiconductor wafer, and is formed on an upper surface of the space transducer 10.

그리고 상기 공간 변환기(space transformer)(10)는 공용기판(1)과, 공용기판(1)의 상면에서 MEMS 방식으로 형성되는 상부 도금층(11), 상부 절연층(12), 그리고 상부 컨택(13)을 포함하여 구성된다.The space transformer 10 includes a common substrate 1, an upper plating layer 11, an upper insulating layer 12, and an upper contact 13 formed on the upper surface of the common substrate 1 by a MEMS method. It is configured to include).

여기서, 상기 공용기판(1)은 미리 설정된 패턴으로 도전성 금속 재질의 베이스 컨택(2)이 내부에 다수 형성되는 기판을 나타낸다. 즉, 설계자의 의도에 따라 미리 정해진 패턴으로 베이스 컨택(2)이 내부에 형성되는 공용기판(1)을 별도로 제작하여 준비함으로써, 공간 변환기(10)의 제조 공정을 단축할 수 있게 된다.The common substrate 1 is a substrate in which a plurality of base contacts 2 made of a conductive metal material are formed therein in a predetermined pattern. That is, by separately preparing and preparing the common substrate 1 having the base contact 2 formed therein in a predetermined pattern according to the intention of the designer, it is possible to shorten the manufacturing process of the space converter 10.

그리고 상기 상부 도금층(11)은 공용기판의 상면에서 MEMS 방식으로 형성되고, 공용기판(1)의 베이스 컨택(2)과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질로 이루어진다. 이러한 상부 도금층(11)의 소재로는 Cu 또는 Au 등의 도전성 금속 소재가 이용되는 것이 바람직하다.The upper plating layer 11 is formed of a MEMS method on the upper surface of the common board, and is made of a conductive metal material electrically connected to the base contact 2 of the common board 1. It is preferable that a conductive metal material such as Cu or Au is used as the material of the upper plating layer 11.

그리고 상기 상부 절연층(12)은 공용기판(1)의 상면에서 MEMS 방식으로 형성되고, PI 재질로 이루어진다. 이러한 PI(Polyimide; 폴리이미드)는 주쇄에 이미드 결합(-CO-NH-CO-)을 가지는 내열성 수지의 총칭을 나타내는데, 이러한 PI 재질의 특징은 높은 내열성에 있으며, 엔니지니어링 플라스틱 중에서도 가장 높은 부류에 속하고, 특히 고온에서 장기간 사용해도 특성이 노화되지 않는 장점을 가진다.The upper insulating layer 12 is formed in the MEMS method on the upper surface of the common substrate 1 and is made of a PI material. The PI (Polyimide) represents a general term for a heat resistant resin having an imide bond (-CO-NH-CO-) in its main chain. The PI material is characterized by high heat resistance and is the highest among engineering plastics. It belongs to the class and has the advantage that a characteristic does not age even if it uses for a long time especially at high temperature.

종래에는 공간 변환기(10)의 절연층 형성을 위해 세라믹 재질이 주로 이용되었으나, 이러한 세라믹 재질을 이용하여 공간 변환기(10)를 제조하게 되면, 공간 변환기(10)의 제조 시간이 증가하고 고가의 세라믹 재질로 인해 가격 부담이 증가하는 문제점이 있었다.Conventionally, a ceramic material is mainly used to form an insulation layer of the space converter 10. However, when the space converter 10 is manufactured using the ceramic material, the manufacturing time of the space converter 10 is increased and expensive ceramics are manufactured. There was a problem that the price burden increases due to the material.

이러한 문제를 해결하기 위해, 본 발명에서는 세라믹 재질과 거의 유사한 성능을 나타내면서도 제조 시간을 크게 단축할 수 있고 가격도 상대적으로 저렴한 PI 재질로 공간 변환기(10)의 절연층을 제조하도록 구성된다. 특히, 종래의 세라믹 재질은 반도체 웨이퍼와 열팽창 계수가 달라서 공간 변환기(10)를 반도체 웨이퍼에 대응시키는데 어려움이 있었으나, 본 발명에서 적용하는 PI 재질은 높은 내열성으로 인해 상기와 같은 문제점을 극복할 수 있다.In order to solve this problem, the present invention is configured to manufacture the insulating layer of the space converter 10 from the PI material, which exhibits substantially similar performance as that of the ceramic material and can greatly shorten the manufacturing time and the price is relatively low. In particular, the conventional ceramic material has a difficulty in coping with the semiconductor wafer because the thermal expansion coefficient is different from that of the semiconductor wafer, but the PI material applied in the present invention can overcome the above problems due to high heat resistance. .

그리고 상기 상부 컨택(13)은 상부 절연층(12) 내부에서 MEMS 방식으로 형성되고, 상부 도금층(11)과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질로 이루어진다. 이러한 상부 컨택(13)과 상부 도금층(11)을 통해 프로브(40)와 베이스 컨택(2)이 상호 전기적으로 연결된다. 그리고 상기 상부 컨택(13)의 소재로는 Cu 또는 Au 등의 도전성 금속 소재가 이용되는 것이 바람직하다.The upper contact 13 is formed in the upper insulating layer 12 by a MEMS method, and is made of a conductive metal material electrically connected to the upper plating layer 11. The probe 40 and the base contact 2 are electrically connected to each other through the upper contact 13 and the upper plating layer 11. As the material of the upper contact 13, a conductive metal material such as Cu or Au is preferably used.

그리고 상기 공용기판(1)의 상면에는 전술한 상부 도금층(11)과, 상부 절연층(12) 및 상부 컨택(13)의 형성 과정이 반복적으로 수행되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the above-described upper plating layer 11, the upper insulating layer 12, and the upper contact 13 be formed on the upper surface of the common substrate 1 repeatedly.

다음으로, 도 2를 참조하여 본 발명의 제2실시예에 따른 프로브 카드에 대해 살펴본다.Next, a probe card according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 2.

도 2를 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 프로브 카드는, 전술한 제1실시예와 마찬가지로 공용기판(1)의 상면에 상부 도금층(11), PI 재질의 상부 절연층(12), 상부 컨택(13)이 형성된다. 2, the probe card according to the second embodiment of the present invention, the upper plating layer 11, the upper insulating layer 12 of the PI material on the upper surface of the common substrate 1 as in the first embodiment described above The upper contact 13 is formed.

그리고 상기 공용기판(1)의 저면에는 베이스 컨택(2)과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 도금층(21)이 MEMS 방식으로 형성되고, 또한 PI 재질의 하부 절연층(22)이 MEMS 방식으로 형성된다. 그리고 상기 하부 절연층(22) 내부에는 하부 도금층(21)과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 컨택(23)이 MEMS 방식으로 형성된다.In addition, a lower plating layer 21 of a conductive metal material electrically connected to the base contact 2 is formed on the bottom surface of the common substrate 1 by a MEMS method, and the lower insulating layer 22 of a PI material is a MEMS method. Is formed. In addition, a lower contact 23 made of a conductive metal material electrically connected to the lower plating layer 21 is formed in the lower insulating layer 22 by a MEMS method.

최근 점점 미세한 회로 구조로 이루어지는 웨이퍼의 검사를 위해 프로브(40)의 간격도 미세하게 배치되고 있고, 그에 따라 프로브(40)의 피치 변환을 위해서는 공간 변환기(20)에 더 많은 수의 절연층이 적층되어야 한다.Recently, the interval of the probe 40 is also minutely arranged to inspect the wafer having a finer circuit structure. Accordingly, a larger number of insulating layers are stacked on the space transducer 20 for pitch conversion of the probe 40. Should be.

그러나 전술한 제1실시예의 공간 변환기(10)와 같이 공용기판(1)의 상면에만 다수의 절연층(12)을 적층하는 것은 한계가 있다. 따라서 이러한 문제를 보완하기 위해, 상기 제2실시예의 공간 변환기(20)에서는 공용기판(1)의 상면과 하면 모두에 절연층(12, 22)을 형성함으로써, 안정적으로 프로브(40)의 피치 변환을 더욱 넓게 적용할 수 있게 된다.However, there is a limit to stacking a plurality of insulating layers 12 only on the upper surface of the common substrate 1 as in the space converter 10 of the first embodiment described above. Therefore, to solve this problem, in the space transducer 20 of the second embodiment, the insulating layers 12 and 22 are formed on both the upper and lower surfaces of the common substrate 1, thereby stably converting the pitch of the probe 40. Can be applied more widely.

그리고 상기 공용기판(1)의 저면에도 전술한 하부 도금층(21)과, 하부 절연층(22) 및 하부 컨택(23)의 형성 과정이 반복적으로 수행될 수 있다.The lower plating layer 21, the lower insulating layer 22, and the lower contact 23 may be repeatedly formed on the bottom surface of the common substrate 1.

한편, 전술한 제1 및 제2실시예에서는 공간 변환기(10, 20)의 상면에 MEMS 방식으로 프로브(40)가 형성된다.Meanwhile, in the above-described first and second embodiments, the probe 40 is formed on the upper surfaces of the space transducers 10 and 20 by the MEMS method.

이러한 프로브(40)는, 공간 변환기(10, 20)의 상면에 형성되는 기단부(42)와, 상기 기단부(42)의 상면에서 측 방향으로 연장되는 빔(44), 빔(44)의 타측 단부에서 수직하게 돌출 형성되는 프로브 팁(46)을 포함하여 구성된다.The probe 40 has a proximal end 42 formed on the upper surface of the space transducers 10 and 20, a beam 44 extending laterally from the upper surface of the proximal end 42, and the other end of the beam 44. It is configured to include a probe tip 46 protruding from the vertical.

상기 기단부(42)는 공간 변환기(10, 20)의 상부에 임의의 높이로 돌출되고, 도전성 금속 재질로 이루어진다.The proximal end 42 protrudes to a predetermined height on the space transducers 10 and 20 and is made of a conductive metal material.

그리고 상기 빔(44)은 기단부(42)의 상면에서 측 방향으로 연장되는 구조로 이루어지는데, 그 일측 단부가 상기 기단부(42)의 상면에 고정 부착된다. 이러한 빔(44)은 프로브 팁(46)을 탄력 지지할 수 있도록 측 방향으로 임의의 길이를 가지고, 상기 기단부(42)와 마찬가지로 도전성 금속 재질로 이루어진다.The beam 44 has a structure extending in the lateral direction from the upper surface of the base end 42, one end is fixedly attached to the upper surface of the base end (42). The beam 44 has an arbitrary length in the lateral direction so as to elastically support the probe tip 46, and is made of a conductive metal material similarly to the base end 42.

그리고 상기 빔(44)의 타측 단부에는 반도체 웨이퍼에 전기 접속하는 프로브 팁(46)이 수직하게 돌출 형성된다.At the other end of the beam 44, a probe tip 46 electrically connected to the semiconductor wafer protrudes vertically.

다음으로, 도 3을 참조하여 본 발명의 제3실시예에 따른 프로브 카드에 대해 살펴본다.Next, a probe card according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 3.

도 3을 참조하면, 본 발명의 제3실시예에 따른 프로브 카드는, 전술한 제1실시예 또는 제2실시예와 마찬가지로 공용기판(1)의 상면에 상부 도금층(11)과 상부 절연층(12) 및 상부 컨택(13)이 차례로 반복해서 형성되고, 필요에 따라 공용기판(1)의 저면에도 하부 도금층(21)과 하부 절연층(22) 및 하부 컨택(23)이 차례로 형성되는 공간 변환기(10)를 제작한다.Referring to FIG. 3, the probe card according to the third embodiment of the present invention may have an upper plating layer 11 and an upper insulating layer on the upper surface of the common substrate 1 as in the above-described first or second embodiment. 12) and the upper contact 13 are formed repeatedly in sequence, and the space converter in which the lower plating layer 21, the lower insulating layer 22, and the lower contact 23 are sequentially formed on the bottom surface of the common substrate 1 as necessary. Produce 10.

그리고 전술한 제1 및 제2실시예와 달리, 공간 변환기(10)의 상면에 프로브(40)가 직접 형성되는 것이 아니라, 프로브(40)가 형성된 프로브 모듈(30)을 공간 변환기(10)와 별도로 제작한다.Unlike the first and second embodiments described above, the probe 40 is not directly formed on the upper surface of the space transducer 10, but the probe module 30 on which the probe 40 is formed may be connected to the space transducer 10. Make it separately.

이러한 프로브 모듈(30)은, 베이스 기판(32)과, 베이스 기판(32)의 상면에 형성되어 반도체 웨이퍼에 전기 접속하는 다수의 프로브(40), 그리고 베이스 기판(32)의 저면에 형성되어 프로브(40)에 전기적으로 연결되는 다수의 도전성 솔더(36)를 구비하는 구조로 이루어진다.The probe module 30 is formed on the base substrate 32, the plurality of probes 40 formed on the top surface of the base substrate 32 and electrically connected to the semiconductor wafer, and the bottom surface of the base substrate 32. And a plurality of conductive solders 36 electrically connected to 40.

또한 상기 공간 변환기(10)의 상면에서 각 도전성 솔더(36)와 대응하는 위치에서 상부 컨택(13)에 전기적으로 연결되는 다수의 패드(16)가 형성된다.In addition, a plurality of pads 16 are formed on the upper surface of the space transducer 10 and electrically connected to the upper contacts 13 at positions corresponding to the respective conductive solders 36.

그리고 상기 프로브 모듈(30)을 공간 변환기(10)의 상면에 접합시키는데, 이때 각각의 도전성 솔더(36)가 대응되는 패드(16)에 열적 융합됨으로써 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)가 통전 가능하게 접합된다.In addition, the probe module 30 is bonded to the upper surface of the space converter 10, wherein each of the conductive solders 36 is thermally fused to the corresponding pad 16 so that the probe module 30 and the space converter 10 are connected to each other. Joining is possible.

한편, 상기 제3실시예에서 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)를 접합시키는 과정에서 각각의 도전성 솔더(36)와 패드(16)가 정확하게 정렬될 수 있도록 하는 것이 중요하다.Meanwhile, in the third embodiment, it is important to ensure that the respective conductive solders 36 and the pads 16 are accurately aligned in the process of bonding the probe module 30 and the space transducer 10.

이를 위해, 도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3실시예에 따른 공간 변환기(10)의 상면에는, 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)의 접합 과정에서 각각의 도전성 솔더(36)와 패드(16) 사이의 정렬을 맞추기 위한 제1 얼라인 키(18)가 형성될 수 있다. 이때, 상기 제1 얼라인 키(18)는 후술하는 프로브 모듈(30)의 제2 얼라인 키(38)가 수용될 수 있는 안착홈 구조로 이루어질 수 있다.To this end, as shown in Figures 4a and 4b, the upper surface of the space transducer 10 according to the third embodiment of the present invention, each conductive in the bonding process of the probe module 30 and the space transducer 10 A first alignment key 18 may be formed to align the alignment between the solder 36 and the pad 16. In this case, the first alignment key 18 may have a mounting groove structure in which the second alignment key 38 of the probe module 30 to be described later may be accommodated.

또한, 상기 패드(16)는 통상의 평탄 구조로 이루어질 수도 있으나, 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)의 접합 과정에서 각각의 도전성 솔더(36)와 패드(16) 사이의 정렬을 보다 정확하게 맞추기 위해, 상기 패드(16)의 중심부에는 도전성 솔더(36)가 삽입될 수 있도록 오목한 홈이 형성되도록 구성될 수도 있다.In addition, the pad 16 may have a conventional flat structure, but more precisely the alignment between the conductive solder 36 and the pad 16 during the bonding process of the probe module 30 and the space transducer 10. In order to fit, a concave groove may be formed in the center of the pad 16 so that the conductive solder 36 can be inserted.

그리고 도 5a 및 도 5b를 참조하면, 본 발명의 제3실시예에 따른 프로브 모듈(30)의 저면에는 상기 제1 얼라인 키(18)에 대응되는 위치에 도전성 솔더(36)와 패드(16) 사이의 정렬을 맞추기 위한 제2 얼라인 키(38)가 형성될 수 있다. 즉, 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)의 접합 과정에서 각각의 도전성 솔더(36)가 패드(16)의 상면에 정확하게 정렬될 수 있도록, 상기 제1 얼라인 키(18)와 제2 얼라인 키(38)는 상호 대응되는 위치에 형성된다.5A and 5B, the conductive solder 36 and the pad 16 are disposed on the bottom surface of the probe module 30 according to the third embodiment of the present invention at a position corresponding to the first alignment key 18. A second align key 38 can be formed to align the alignment between In other words, the first alignment key 18 and the second alignment key 18 may be accurately aligned with the top surface of the pad 16 during the bonding process between the probe module 30 and the space transducer 10. The align key 38 is formed at a position corresponding to each other.

또한 상기 제2 얼라인 키(38)는 베이스 기판(32)의 저면에서 하측으로 돌출 형성되는 돌기 구조로 이루어지고, 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)의 접합 과정에서 전술한 안착홈 구조의 제1 얼라인 키(18)에 삽입되도록 구성될 수 있다. 반대로, 상기 제1 얼라인 키(18)가 돌기 구조로 이루어지고, 상기 제2 얼라인 키(38)는 제1 얼라인 키(18)를 수용할 수 있는 안착홈 구조로 이루어지도록 구성할 수도 있다. In addition, the second alignment key 38 has a protrusion structure protruding downward from the bottom surface of the base substrate 32, and the seating groove structure described above in the bonding process between the probe module 30 and the space transducer 10. It may be configured to be inserted into the first alignment key 18 of the. On the contrary, the first alignment key 18 may have a protrusion structure, and the second alignment key 38 may have a seating groove structure for accommodating the first alignment key 18. have.

또한 상기 제2 얼라인 키(38)는 "+" 형태의 십자형 돌기 구조로 이루어지고, 이에 대응하는 제1 얼라인 키(18) 역시 십자형 안착홈 구조로 이루어지도록 구성함으로서, 제1 얼라인 키(18)와 제 얼라인 키(38)의 체결을 용이하게 하는 것이 바람직하다.In addition, the second alignment key 38 has a cross-shaped protrusion structure of "+" shape, and the first alignment key 18 corresponding thereto is also configured to have a cross-shaped seating groove structure. It is preferable to facilitate the fastening of the 18 and the align key 38.

그리고 상기 도전성 솔더(36)는 통상의 평탄 구조 또는 볼 구조로 이루어질 수도 있으나, 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)의 접합 과정에서 각각의 도전성 솔더(36)와 패드(16) 사이의 정렬을 보다 정확하게 맞추기 위해, 상기 도전성 솔더(36)의 중심부에는 전술한 패드(16)의 오목한 중심부에 삽입되기 위한 돌기가 돌출 형성되도록 구성될 수도 있다. 따라서 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)의 접합 과정에서, 도전성 솔더(36)의 돌출된 중심부가 패드(16)의 오목한 중심부에 삽입됨으로써, 각각의 도전성 솔더(36)와 패드(16) 사이의 정렬이 보다 정확하게 이루어질 수 있게 된다.The conductive solder 36 may be formed of a conventional flat structure or a ball structure, but is aligned between the respective conductive solder 36 and the pad 16 during the bonding process of the probe module 30 and the space transducer 10. In order to more precisely fit, the center of the conductive solder 36 may be configured to protrude to form a projection for insertion into the concave center of the above-described pad (16). Accordingly, in the process of bonding the probe module 30 and the space transducer 10, the protruding center portion of the conductive solder 36 is inserted into the concave center portion of the pad 16, thereby providing the respective conductive solder 36 and the pad 16. The alignment between can be made more accurately.

한편, 본 발명에 따른 도전성 솔더(36)는 열에 의해 표면이 용융될 수 있는 재질로 이루어져야 하는데, 다수의 도전성 솔더(36) 모두가 동일한 수준으로 용융되지 않을 수 있다. 즉, 외부의 열에 의해 도전성 솔더(36)가 용융되면서 패드(16)에 접합하는 과정에서 일부 도전성 솔더(36)가 더욱 많이 용융되는 경우, 해당 도전성 솔더(36)의 두께가 낮아지면서 프로부 모듈(30)의 수평 상태가 유지되지 않는 문제점이 발생할 수도 있다.On the other hand, the conductive solder 36 according to the present invention should be made of a material that can melt the surface by heat, a plurality of conductive solder 36 may not all melt to the same level. That is, when some of the conductive solder 36 is further melted in the process of bonding the conductive solder 36 to the pad 16 while the conductive solder 36 is melted by external heat, the thickness of the conductive solder 36 is lowered and the pro-module module is lowered. There may be a problem that the horizontal state of 30 is not maintained.

이러한 문제를 방지하기 위해, 도 6에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 도전성 솔더(36)는, 도전성 솔더(36)와 패드(16)의 열적 융합 과정에서 용융되지 않는 재질로 이루어지는 솔더 지지부(35)가 내부에 삽입되는 구조로 이루어지도록 구성된다. 따라서 일부 도전성 솔더(36)가 필요 이상으로 용융되더라도, 그 내부에 삽입된 솔더 지지부(35)가 용융되지 않은 상태에서 프로브 모듈(30)을 지지할 수 있기 때문에, 프로브 모듈(30)의 수평 상태가 유지될 수 있게 된다.In order to prevent such a problem, the conductive solder 36 according to the present invention, as shown in Figure 6, the solder support 35 made of a material that does not melt during the thermal fusion process of the conductive solder 36 and the pad 16 ) Is configured to have a structure that is inserted therein. Therefore, even if some of the conductive solder 36 is melted more than necessary, because the solder support 35 inserted therein can support the probe module 30 in the unmelted state, the horizontal state of the probe module 30 Can be maintained.

이하에서는, 전술한 본 발명의 각 실시예에 따른 프로브 카드의 제조방법에 대해 살펴본다.Hereinafter, a description will be given of a method of manufacturing a probe card according to each embodiment of the present invention described above.

도 7에는 본 발명의 제1실시예에 따른 프로브 카드의 제조 공정이 도시되어 있다.7 shows a manufacturing process of the probe card according to the first embodiment of the present invention.

본 발명의 제1실시예에 따른 프로브 카드 제조방법은, 크게 반도체 검사 장비에 전기적으로 연결되는 인쇄회로기판에 전기적으로 연결되는 공간 변환기(10)를 제조하는 공정, 그리고 공간 변환기(10)에 전기적으로 연결되는 프로브(40)를 형성하는 공정을 포함하여 구성된다.The method of manufacturing a probe card according to the first embodiment of the present invention includes a process of manufacturing a space converter 10 electrically connected to a printed circuit board electrically connected to a semiconductor inspection equipment, and electrically connected to the space converter 10. It is configured to include a process of forming a probe 40 connected to.

그리고 도 7을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 프로브 카드 제조방법에서 공간 변환기(10)의 제조 공정은 다음과 같은 순서로 이루어진다.7, the manufacturing process of the space transducer 10 in the method of manufacturing a probe card according to the first embodiment of the present invention is performed in the following order.

우선, 미리 설정된 패턴으로 도전성 금속 재질의 베이스 컨택(2)이 형성된 공용기판(1)을 제조한다(a).First, a common substrate 1 on which a base contact 2 of a conductive metal material is formed in a predetermined pattern is manufactured (a).

그리고 상기 공용기판(1)의 상면에 상기 베이스 컨택(2)과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 상부 도금층(11)을 MEMS 방식으로 형성한다(b).In addition, an upper plating layer 11 of a conductive metal material electrically connected to the base contact 2 is formed on the upper surface of the common substrate 1 by a MEMS method (b).

예를 들어, 공용기판(1)의 상면에 Cu 혹은 Au 등의 도전성 금속 소재를 증착하여 시드층을 형성하고, 시드층 위에 도트 패턴으로 포토 레지스트를 도포하여 포토 레지스트층을 형성한 후, 마스크 패턴에 따라 상부 도금층(11)을 형성할 부분을 제외한 나머지 시드층을 에칭하여 제거함으로써, 도트 패턴의 시드층을 형성한다. 이후, 상기 도트 패턴의 시드층 위에 금속 소재를 도금함으로써 상부 도금층(11)이 형성된다.For example, a seed layer is formed by depositing a conductive metal material such as Cu or Au on the upper surface of the common substrate 1, and after forming a photoresist layer by applying a photoresist in a dot pattern on the seed layer, a mask pattern is formed. As a result, the seed layer of the dot pattern is formed by etching and removing the remaining seed layers except for the portion where the upper plating layer 11 is to be formed. Thereafter, the upper plating layer 11 is formed by plating a metal material on the seed layer of the dot pattern.

그리고 공용기판(1)의 상면에 PI 재질의 상부 절연층(12)을 MEMS 방식으로 형성한다(c).Then, the upper insulating layer 12 of PI material is formed on the upper surface of the common substrate 1 by the MEMS method (c).

예를 들어, 상부 도금층(11)이 형성된 공용기판(1)의 상면에 액상 PI 소재를 도포 후 소성시키는 방식, 또는 고상 PI 소재를 공용기판(1)의 상면에 압착하는 방식으로 상부 절연층(12)을 형성할 수 있다.For example, the upper insulating layer may be formed by coating a liquid PI material on the upper surface of the common substrate 1 on which the upper plating layer 11 is formed and then firing or compressing the solid PI material on the upper surface of the common substrate 1. 12) can be formed.

이후, 상부 절연층(12) 내부에 상기 상부 도금층(11)과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 상부 컨택(13)을 MEMS 방식으로 형성한다(d).Thereafter, an upper contact 13 of a conductive metal material electrically connected to the upper plating layer 11 is formed in the upper insulating layer 12 by a MEMS method (d).

예를 들어, 포토 레지스트층을 형성 및 마스크 패터닝을 통해 상부 도금층(11)과 연통되는 비아 홀을 상부 절연층(12) 내부에 형성하고, 상기 비아 홀에 Cu 혹은 Au 등의 도전성 금속 소재를 도금함으로써, 상부 도금층(11)과 전기적으로 연결되는 상부 컨택(13)을 상부 절연층(12) 내부에 형성한다.For example, a via hole communicating with the upper plating layer 11 is formed in the upper insulating layer 12 by forming a photoresist layer and mask patterning, and plating a conductive metal material such as Cu or Au in the via hole. As a result, an upper contact 13 electrically connected to the upper plating layer 11 is formed in the upper insulating layer 12.

그리고 상기와 같이 형성된 상부 절연층(12) 위에, 상부 도금층(11)과 상부 절연층(12) 및 상부 컨택(13)의 형성 공정을 수 회에 걸쳐 반복 수행하여 공간 변환기(10)를 완성한다(e).On the upper insulating layer 12 formed as described above, the formation process of the upper plating layer 11, the upper insulating layer 12, and the upper contact 13 is repeated several times to complete the space converter 10. (e).

한편, 도면부호 14는 공간 변환기(10)를 인쇄회로기판에 전기적으로 연결시키기 위한 LGA 패드를 나타낸다.Meanwhile, reference numeral 14 denotes an LGA pad for electrically connecting the space converter 10 to the printed circuit board.

도 8에는 본 발명의 제2실시예에 따른 프로브 카드의 제조 공정이 도시되어 있다.8 shows a manufacturing process of a probe card according to a second embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 프로브 카드 제조방법에서 공간 변환기(20)의 제조 공정은 다음과 같은 순서로 이루어진다.Referring to FIG. 8, the manufacturing process of the space transducer 20 in the method of manufacturing a probe card according to the second embodiment of the present invention is performed in the following order.

우선, 전술한 제1실시예와 동일한 방식으로, 공용기판(1)의 상면에 상부 도금층(11)과 상부 절연층(12) 및 상부 컨택(13)을 차례로 형성한다.First, in the same manner as in the first embodiment, the upper plating layer 11, the upper insulating layer 12, and the upper contact 13 are sequentially formed on the upper surface of the common substrate 1.

이후, 상기 공용기판(1)의 저면에 상기 베이스 컨택(2)과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 도금층(21)을 MEMS 방식으로 형성한다(a). 이러한 하부 도금층(21)의 형성 방식은 상기 상부 도금층(11)과 동일한 MEMS 방식으로 형성될 수 있다.Thereafter, a lower plating layer 21 made of a conductive metal material electrically connected to the base contact 2 is formed on the bottom surface of the common substrate 1 by using a MEMS method (a). The lower plating layer 21 may be formed by the same MEMS method as the upper plating layer 11.

그리고 공용기판(1)의 저면에 PI 재질의 하부 절연층(22)을 MEMS 방식으로 형성한다(b).Then, the lower insulating layer 22 of PI material is formed on the bottom surface of the common substrate 1 by the MEMS method (b).

예를 들어, 하부 도금층(21)이 형성된 공용기판(1)의 저면에 액상 PI 소재를 도포 후 소성시키는 방식, 또는 고상 PI 소재를 공용기판(1)의 저면에 압착하는 방식으로 하부 절연층(22)을 형성할 수 있다.For example, the lower insulating layer may be formed by coating a liquid PI material on the bottom surface of the common substrate 1 on which the lower plating layer 21 is formed and then firing or compressing a solid PI material on the bottom surface of the common substrate 1. 22) can be formed.

이후, 하부 절연층(22) 내부에 상기 하부 도금층(21)과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 컨택(23)을 MEMS 방식으로 형성한다(c). 이러한 하부 컨택(23)의 형성 방식은 상기 상부 컨택(13)과 동일한 MEMS 방식으로 형성될 수 있다.Thereafter, a lower contact 23 of a conductive metal material electrically connected to the lower plating layer 21 is formed in the lower insulating layer 22 by using a MEMS method (c). The lower contact 23 may be formed in the same MEMS method as the upper contact 13.

한편, 도면부호 24는 공간 변환기(20)를 인쇄회로기판에 전기적으로 연결시키기 위한 LGA 패드를 나타낸다.Meanwhile, reference numeral 24 denotes an LGA pad for electrically connecting the space converter 20 to the printed circuit board.

그리고 상기 제1 또는 제2실시예에 의한 방식으로 공간 변환기(10, 20)를 제조한 후, 다음과 같이 상기 공간 변환기(10, 20)의 상면에 MEMS 방식으로 프로브(40)를 형성한다.After manufacturing the space transducers 10 and 20 according to the first or second embodiment, the probe 40 is formed on the top surface of the space transducers 10 and 20 by MEMS.

우선, 공간 변환기 위에 기단부(42)를 형성한다. 예를 들어, 공간 변환기(10, 20) 위에 포토 레지스트를 도포하여 포토 레지스트층을 형성한 후 마스크 패턴에 따라 기단부(42)가 형성될 부분을 노광으로 현상하여 노출시킨 후, 노출된 부분에 도전성 금속을 도포하여 적층시킴으로써 기단부(42)를 형성한다.First, the base end 42 is formed on the space transducer. For example, after the photoresist is formed on the space transducers 10 and 20 to form a photoresist layer, a portion where the base end portion 42 is to be formed is exposed by exposure to a mask pattern, and then exposed to conductive. The base end part 42 is formed by apply | coating and laminating | stacking metal.

이러한 MEMS 방식으로 기단부(42)를 제조할 경우, 포토 레지스트 도포 및 도전성 금속의 적층 공정을 반복 수행함으로써, 기단부(42)의 높이를 적절하게 조절할 수 있다.When the base end portion 42 is manufactured by the MEMS method, the height of the base end portion 42 may be appropriately adjusted by repeating the photoresist coating and the lamination process of the conductive metal.

그리고 상기 기단부(42)의 상면에 일측 단부가 고정 부착되고, 측 방향으로 연장되는 빔(44)을 형성한다. 예를 들어, 포토 레지스트를 도포하여 포토 레지스트층을 형성한 후 마스크 패턴에 따라 빔(44)이 형성될 부분을 노광으로 현상하여 노출시킨 후, 노출된 부분에 도전성 금속을 도포하여 빔(44)을 형성한다.And one end is fixedly attached to the upper surface of the base end 42, and forms a beam 44 extending in the lateral direction. For example, after the photoresist is applied to form a photoresist layer, the portion on which the beam 44 is to be formed is exposed by exposure under a mask pattern, and then a conductive metal is applied to the exposed portion to apply the beam 44. To form.

마지막으로, 반도체 웨이퍼에 전기 접속하는 프로브 팁(46)을 빔(44)의 타측 단부에서 수직하게 돌출 형성되도록 형성한다. 예를 들어, 빔(44)의 타측 단부 위에 포토 레지스트를 도포하여 포토 레지스트층을 형성한 후 마스크 패턴에 따라 프로브 팁(46)이 형성될 부분을 노광으로 현상하여 노출시키는 공정과, 노출된 부분에 도전성 금속을 도포하여 적층시키는 공정을 반복 수행함으로써, 적절한 높이의 프로브 팁(46)을 형성한다.Finally, the probe tip 46, which is electrically connected to the semiconductor wafer, is formed to protrude perpendicularly from the other end of the beam 44. For example, a process of applying photoresist on the other end of the beam 44 to form a photoresist layer, and then developing and exposing a portion where the probe tip 46 is to be formed according to a mask pattern by exposure; By repeating the process of applying and laminating a conductive metal on the surface, a probe tip 46 having an appropriate height is formed.

도 9에는 본 발명의 제3실시예에 따른 프로브 카드의 제조 공정이 도시되어 있다.9 shows a manufacturing process of the probe card according to the third embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, 본 발명의 제3실시예에 따른 프로브 카드 제조방법은, 전술한 제1 또는 제2실시예와 동일한 방식으로 공간 변환기(10)를 제조하고, 프로브(40)가 형성되는 프로브 모듈(30)을 별도로 제조한 후, 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)를 통전 가능하게 접합시키는 방식으로 이루어진다.Referring to FIG. 9, in the method of manufacturing a probe card according to the third embodiment of the present invention, the space transducer 10 is manufactured in the same manner as the above-described first or second embodiment, and the probe 40 is formed. After the probe module 30 is separately manufactured, the probe module 30 and the space transducer 10 are electrically connected to each other.

즉, 전술한 제1실시예 또는 제2실시예와 마찬가지로 공용기판(1)의 상면에 상부 도금층(11)과 상부 절연층(12) 및 상부 컨택(13)이 차례로 반복해서 형성되고, 필요에 따라 공용기판(1)의 저면에도 하부 도금층(21)과 하부 절연층(22) 및 하부 컨택(23)이 차례로 형성되는 공간 변환기(10)를 제작한다.That is, similarly to the first or second embodiment described above, the upper plating layer 11, the upper insulating layer 12, and the upper contact 13 are sequentially formed on the upper surface of the common substrate 1 in succession. Accordingly, a space converter 10 in which the lower plating layer 21, the lower insulating layer 22, and the lower contact 23 are sequentially formed on the bottom surface of the common substrate 1 is manufactured.

그리고 프로브(40)가 형성된 프로브 모듈(30)을 공간 변환기(10)와 별도로 제작하는데, 이러한 프로브 모듈(30)은 베이스 기판(32)과, 베이스 기판(32)의 상면에 형성되어 반도체 웨이퍼에 전기 접속하는 다수의 프로브(40), 그리고 베이스 기판(32)의 저면에 형성되어 프로브(40)에 전기적으로 연결되는 다수의 도전성 솔더(36)를 구비하는 구조로 이루어진다.The probe module 30 having the probe 40 formed thereon is manufactured separately from the space transducer 10. The probe module 30 is formed on the base substrate 32 and the upper surface of the base substrate 32 to form a semiconductor wafer. A plurality of probes 40 to be electrically connected and a plurality of conductive solders 36 formed on the bottom surface of the base substrate 32 and electrically connected to the probes 40 are formed.

또한 상기 공간 변환기(10)의 상면에서 각 도전성 솔더(36)와 대응하는 위치에 상부 컨택(13)에 전기적으로 연결되는 다수의 패드(16)가 형성된다.In addition, a plurality of pads 16 electrically connected to the upper contact 13 are formed at positions corresponding to the respective conductive solders 36 on the upper surface of the space transducer 10.

그리고 상기 프로브 모듈(30)을 공간 변환기(10)의 상면에 접합시키는데, 이때 각각의 도전성 솔더(36)가 대응되는 패드(16)에 열적 융합됨으로써 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)가 통전 가능하게 접합된다.In addition, the probe module 30 is bonded to the upper surface of the space converter 10, wherein each of the conductive solders 36 is thermally fused to the corresponding pad 16 so that the probe module 30 and the space converter 10 are connected to each other. Joining is possible.

이처럼 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)의 접합 과정에서는, 프로브 모듈(30)의 저면에 형성되는 도전성 솔더(36)와 공간 변환기(10)의 상면에 형성되는 패드(16) 사이의 정렬을 맞추는 것이 가장 중요하다. 만일, 일부 도전성 솔더(36)와 패드(16) 사이에 정렬이 제대로 이루어지지 않으면, 프로브(40)와 인쇄회로기판 사이의 전기 신호 전송이 이루어지지 않게 되어, 프로브 카드의 불량으로 이어질 수 있기 때문이다.As such, in the bonding process between the probe module 30 and the space transducer 10, the alignment between the conductive solder 36 formed on the bottom surface of the probe module 30 and the pad 16 formed on the top surface of the space transducer 10 is performed. The most important thing is to meet. If the alignment is not performed properly between some of the conductive solder 36 and the pad 16, the electrical signal transmission between the probe 40 and the printed circuit board is not made, which may lead to a defect of the probe card. to be.

이를 위해, 본 발명의 제3실시예에 따른 프로브 카드의 제조방법은, 프로브 모듈(30)과 공간 변환기(10)의 대응되는 위치에 형성되는 제1 얼라인 키(18) 및 제2 얼라인 키(38)를 이용하여, 도전성 솔더(36)와 패드(16) 사이의 정렬을 맞추게 된다.To this end, in the method of manufacturing a probe card according to the third embodiment of the present invention, the first alignment key 18 and the second alignment formed at corresponding positions of the probe module 30 and the space transducer 10 are provided. The key 38 is used to align the alignment between the conductive solder 36 and the pad 16.

또는, 프로브 모듈(30)의 저면에 형성된 돌기 구조의 제2 얼라인 키(38)가 공간 변환기(10)의 상면에 형성된 안착홈 구조의 제1 얼라인 키(18)에 수용될 수 있도록 프로브 모듈(30)을 공간 변환기(10)의 상면에 접촉시키는 방식으로 수행될 수도 있다.Alternatively, the probe may be accommodated in the first alignment key 18 of the seating groove structure formed on the upper surface of the space transducer 10, the second alignment key 38 of the protrusion structure formed on the bottom surface of the probe module 30. It may also be carried out by bringing the module 30 into contact with the top surface of the space transducer 10.

이처럼 제2 얼라인 키(38)가 제1 얼라인 키(18)에 수용되면, 각각의 도전성 솔더(36)가 대응되는 위치의 패드(16) 위에 접촉하는 상태가 되는데, 이때 도전성 솔더(36)의 돌출된 중심부가 패드(16)의 오목한 중심부에 삽입된다.When the second alignment key 38 is received in the first alignment key 18 as described above, each of the conductive solders 36 is in contact with the pads 16 at the corresponding positions, where the conductive solders 36 The protruding center of the pad is inserted into the concave center of the pad 16.

이처럼 각각의 도전성 솔더(36)가 대응되는 패드(16) 위에 접촉하는 상태에서, 도전성 솔더(36)에 열을 가하면 도전성 솔더(36)의 표면이 용융되면서 패드(16)에 열적 융착되고, 결국 도 4b에 도시된 바와 같이 프로브 모듈(30)이 공간 변환기(10)에 통전 가능하게 접합된 프로브 카드가 완성될 수 있게 된다.As such, in the state where each conductive solder 36 is in contact with the corresponding pad 16, when the conductive solder 36 is heated, the surface of the conductive solder 36 is melted and thermally fused to the pad 16. As shown in FIG. 4B, a probe card in which the probe module 30 is electrically connected to the space transducer 10 may be completed.

이상의 설명에서 본 발명은 특정의 실시 예와 관련하여 도시 및 설명하였지만, 특허청구범위에 의해 나타난 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 개조 및 변화가 가능하다는 것을 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 쉽게 알 수 있을 것이다.While the invention has been shown and described with respect to the specific embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. Anyone with it will know easily.

1; 공용기판 2; 베이스 컨택
10, 20; 공간 변환기 11; 상부 도금층
12; 상부 절연층 13; 상부 컨택
16; 패드 18; 제1 얼라인 키
21; 하부 도금층 22; 하부 절연층
23; 하부 컨택 30; 프로브 모듈
32; 베이스 기판 36; 도전성 솔더
38; 제2 얼라인 키 40; 프로브
One; Common substrate 2; Base contact
10, 20; Space converter 11; Upper plating layer
12; Upper insulating layer 13; Upper contact
16; Pad 18; First alignment key
21; Lower plating layer 22; Lower insulation layer
23; Bottom contact 30; Probe module
32; Base substrate 36; Conductive solder
38; Second alignment key 40; Probe

Claims (17)

베이스 기판, 베이스 기판의 상면에 형성되어 반도체 웨이퍼에 전기 접속하는 다수의 프로브, 베이스 기판의 저면에 형성되어 프로브에 전기적으로 연결되는 다수의 도전성 솔더를 구비하는 프로브 모듈과;
상기 프로브 모듈과 별도로 제작된 후 프로브 모듈의 저면에 접합되는 공간 변환기;를 포함하여 구성되고,
상기 공간 변환기는,
미리 설정된 패턴으로 도전성 금속 재질의 베이스 컨택이 형성된 공용기판과;
상기 공용기판의 상면에 MEMS 방식으로 형성되고, 베이스 컨택과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 상부 도금층;
상기 공용기판의 상면에 MEMS 방식으로 형성되는 PI 재질의 상부 절연층;
상기 상부 절연층 내부에 MEMS 방식으로 형성되고, 상부 도금층과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 상부 컨택;
상면에 형성되어 상부 컨택에 전기적으로 연결되고, 상기 프로브 모듈과의 접합 과정에서 각각의 도전성 솔더에 열적 융합되는 다수의 패드;를 포함하며,
공간 변환기의 상면에 형성되는 안착홈 구조의 제1 얼라인 키와;
프로브 모듈과 공간 변환기의 접합 과정에서 각각의 패드 위에 도전성 솔더가 정렬될 수 있도록, 프로브 모듈의 저면에서 상기 제1 얼라인 키에 대응되는 위치에 형성되고, 상기 안착홈 구조의 제1 얼라인 키에 수용되는 돌기 구조의 제2 얼라인 키;
를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 프로브 카드.
A probe module having a base substrate, a plurality of probes formed on an upper surface of the base substrate and electrically connected to the semiconductor wafer, and a plurality of conductive solders formed on the bottom surface of the base substrate and electrically connected to the probes;
And a space transducer manufactured separately from the probe module and bonded to a bottom surface of the probe module.
The space converter,
A common substrate having a base contact made of a conductive metal material in a preset pattern;
An upper plating layer formed of a conductive metal material on the upper surface of the common substrate and electrically connected to the base contact;
An upper insulating layer of PI material formed on the upper surface of the common substrate in a MEMS manner;
An upper contact formed in the upper insulating layer by a MEMS method and electrically connected to the upper plating layer;
And a plurality of pads formed on an upper surface thereof and electrically connected to upper contacts, and thermally fused to respective conductive solders in a bonding process with the probe module.
A first align key of a seating groove structure formed on an upper surface of the space transducer;
The first alignment key of the mounting recess structure is formed at a position corresponding to the first alignment key on the bottom surface of the probe module so that the conductive solder may be aligned on each pad during the bonding process of the probe module and the space transducer. A second alignment key of the protrusion structure accommodated in the;
Probe card, characterized in that comprising a.
제1항에 있어서,
상기 공간 변환기는,
상기 공용기판의 저면에 MEMS 방식으로 형성되고, 베이스 컨택과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 도금층;
상기 공용기판의 저면에 MEMS 방식으로 형성되는 PI 재질의 하부 절연층;
상기 하부 절연층 내부에 MEMS 방식으로 형성되고, 하부 도금층과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 컨택;
을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 프로브 카드.
The method of claim 1,
The space converter,
A lower plating layer formed of a conductive metal material on a bottom surface of the common substrate and electrically connected to the base contact;
A lower insulating layer of PI material formed on the bottom surface of the common substrate in a MEMS manner;
A lower contact made of a conductive metal material formed in the lower insulating layer in a MEMS manner and electrically connected to the lower plating layer;
Probe card further comprising.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 프로브는,
상부 절연층의 상면에 형성되어 상부 컨택과 통전하는 기단부와;
상기 기단부의 상면에 일측 단부가 고정되고 측 방향으로 연장되는 빔;
상기 빔의 타측 단부에서 수직하게 돌출 형성되는 프로브 팁;
을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 프로브 카드.
The method of claim 1 or 2, wherein the probe is
A proximal end formed on an upper surface of the upper insulating layer to conduct electricity with the upper contact;
A beam having one end fixed to an upper surface of the proximal end and extending in a lateral direction;
A probe tip protruding vertically from the other end of the beam;
Probe card, characterized in that comprising a.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
도전성 솔더의 중심부는 하측으로 돌출 형성되고, 패드의 중심부는 상기 돌출 형성된 도전성 솔더의 중심부를 수용할 수 있도록 오목하게 형성되는 것을 특징으로 하는 프로브 카드.
The method of claim 1,
And a center portion of the conductive solder protrudes downward, and a center portion of the pad is concave to receive the center portion of the protruding conductive solder.
제1항에 있어서,
도전성 솔더와 패드의 열적 융합 과정에서 용융되지 않는 재질로 이루어지고, 도전성 솔더의 내부에 삽입되어 프로브 모듈을 지지하는 솔더 지지부;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 프로브 카드.
The method of claim 1,
A solder support portion formed of a material that is not melted during thermal fusion of the conductive solder and the pad and inserted into the conductive solder to support the probe module;
Probe card further comprising.
베이스 기판, 베이스 기판의 상면에 형성되어 반도체 웨이퍼에 전기 접속하는 다수의 프로브, 베이스 기판의 저면에 형성되어 프로브에 전기적으로 연결되는 다수의 도전성 솔더를 구비하는 프로브 모듈을 제조하는 공정과;
미리 설정된 패턴으로 도전성 금속 재질의 베이스 컨택이 형성된 공용기판을 제조하는 제1단계, 공용기판의 상면에 상기 베이스 컨택과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 상부 도금층을 MEMS 방식으로 형성하는 제2단계, 공용기판의 상면에 PI 재질의 상부 절연층을 MEMS 방식으로 형성하는 제3단계, 그리고 상부 절연층 내부에 상기 상부 도금층과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 상부 컨택을 MEMS 방식으로 형성하는 제4단계를 포함하고, 상면에 상부 컨택에 전기적으로 연결되는 다수의 패드가 형성되는 공간 변환기의 제조 공정;
각각의 도전성 솔더를 패드에 열적 융합시킴으로써, 상기 프로브 모듈과 공간 변환기를 통전 가능하게 접합시키는 공정;을 포함하여 구성되고,
상기 공간 변환기의 상면에는 안착홈 구조의 제1 얼라인 키가 형성되고,
프로브 모듈과 공간 변환기의 접합 과정에서 각각의 패드 위에 도전성 솔더가 정렬될 수 있도록, 프로브 모듈의 저면에는 상기 제1 얼라인 키에 수용되는 돌기 구조의 제2 얼라인 키가 형성되며,
제1 얼라인 키에 제2 얼라인 키가 삽입될 수 있도록 프로브 모듈을 공간 변환기 위에 정렬시킨 상태에서, 도전성 솔더에 열을 가하여 도전성 솔더를 패드에 접합시키는 것을 특징으로 하는 프로브 카드 제조방법.
Manufacturing a probe module including a base substrate, a plurality of probes formed on an upper surface of the base substrate and electrically connected to the semiconductor wafer, and a plurality of conductive solders formed on the bottom surface of the base substrate and electrically connected to the probes;
A first step of manufacturing a common substrate on which a base contact of a conductive metal material is formed in a predetermined pattern, a second step of forming an upper plating layer of a conductive metal material electrically connected to the base contact on an upper surface of the common substrate by a MEMS method, A third step of forming an upper insulating layer of PI material on the upper surface of the common substrate by a MEMS method, and a fourth step of forming an upper contact of conductive metal material electrically connected to the upper plating layer on the upper insulating layer by a MEMS method A manufacturing method of a space transducer including a plurality of pads formed on the upper surface thereof and electrically connected to the upper contact;
Thermally fusing each conductive solder to a pad, thereby electrically connecting the probe module and the space transducer.
The first alignment key of the seating groove structure is formed on the upper surface of the space transducer,
A second alignment key having a protrusion structure accommodated in the first alignment key is formed on the bottom of the probe module so that the conductive solder may be aligned on each pad during the bonding of the probe module and the space transducer.
A method of manufacturing a probe card, comprising: bonding a conductive solder to a pad by applying heat to the conductive solder while the probe module is aligned on the space transducer so that the second alignment key can be inserted into the first alignment key.
제9항에 있어서,
상기 제3단계는,
공용기판의 상면에 액상 PI 소재를 도포 후 소성시켜서 상부 절연층을 형성하는 것을 특징으로 하는 프로브 카드 제조방법.
10. The method of claim 9,
In the third step,
Probe card manufacturing method characterized in that the upper insulating layer is formed by applying a liquid PI material on the upper surface of the common substrate and firing.
제9항에 있어서,
상기 제3단계는,
공용기판의 상면에 고상 PI 소재를 압착하여 상부 절연층을 형성하는 것을 특징으로 하는 프로브 카드 제조방법.
10. The method of claim 9,
In the third step,
Probe card manufacturing method characterized in that the upper insulating layer is formed by pressing a solid state PI material on the upper surface of the common substrate.
제9항에 있어서,
공용기판의 저면에 상기 베이스 컨택과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 도금층을 MEMS 방식으로 형성하는 제5단계;
공용기판의 저면에 PI 재질의 하부 절연층을 MEMS 방식으로 형성하는 제6단계;
하부 절연층 내부에 상기 하부 도금층과 전기적으로 연결되는 도전성 금속 재질의 하부 컨택을 MEMS 방식으로 형성하는 제7단계;
를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 프로브 카드 제조방법.
10. The method of claim 9,
A fifth step of forming a lower plating layer of a conductive metal material electrically connected to the base contact on a bottom surface of a common substrate by a MEMS method;
A sixth step of forming a lower insulating layer of PI material on the bottom surface of the common substrate by a MEMS method;
A seventh step of forming a lower contact of a conductive metal material electrically connected to the lower plating layer in the lower insulating layer by MEMS;
Probe card manufacturing method characterized in that it further comprises.
제9항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 프로브 형성 공정은,
상부 컨택과 통전하는 기단부를 상부 절연층의 상면에 형성하는 단계;
상기 기단부의 상면에 일측 단부가 고정되고 측 방향으로 연장되는 빔을 형성하는 단계;
상기 빔의 타측 단부에서 수직하게 돌출 형성되는 프로브 팁을 형성하는 단계;
를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 프로브 카드 제조방법.
The method according to any one of claims 9 to 12, wherein the probe forming step,
Forming a proximal end portion on which the upper contact is energized, the upper surface of the upper insulating layer;
Forming a beam having one end fixed to the upper surface of the proximal end and extending in a lateral direction;
Forming a probe tip protruding vertically from the other end of the beam;
Probe card manufacturing method characterized in that it comprises a.
삭제delete 삭제delete 제9항에 있어서,
도전성 솔더의 중심부는 하측으로 돌출 형성되고,
패드의 중심부는 상기 돌출 형성된 도전성 솔더의 중심부를 수용할 수 있도록 오목하게 형성되며,
프로브 모듈과 공간 변환기의 접합 과정에서 도전성 솔더의 돌출된 중심부가 패드의 오목한 중심부에 삽입되는 것을 특징으로 하는 프로브 카드 제조방법.
10. The method of claim 9,
The center of the conductive solder protrudes downward,
The center of the pad is concave to receive the center of the protruding conductive solder,
And a protruding center portion of the conductive solder is inserted into the concave center portion of the pad during the bonding of the probe module and the space transducer.
제9항에 있어서,
도전성 솔더와 패드의 열적 융합 과정에서 용융되지 않는 재질로 이루어지는 솔더 지지부가, 도전성 솔더의 내부에 삽입되어 프로브 모듈을 지지하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 프로브 카드 제조방법.
10. The method of claim 9,
And a solder support portion made of a material which is not melted during thermal fusion of the conductive solder and the pad is inserted into the conductive solder to support the probe module.
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