KR20090113393A - Structure of photomask case - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A structure of a photomask case is provided to prevent the physical damage which is caused by the injection of foreign materials, the deformation of a photomask and an external shock. CONSTITUTION: A structure of a photomask case includes a guide, a lower case, an upper case, a conveying unit, and a sealing member. In the outer circumference of the guide(13), a plurality of latches(11) are formed. In the rest portion of the guide where the latches are not formed, a plurality of first reinforcements are formed. The guide is extended from the external circumference. Inside the lower case(1), a photomask is installed. In the upper case(2), a hooked piece(21) corresponding to a latch is formed. The upper case is coupled with the lower case by comprising the second reinforcement(22) which comes in contact with the first reinforcement.

Description

포토마스크 케이스의 구조{STRUCTURE OF PHOTOMASK CASE}Structure of photomask case {STRUCTURE OF PHOTOMASK CASE}

본 발명은 포토마스크 케이스의 구조에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 LCD모니터의 제조에 사용되는 고밀도 회로기판과 액정이 내장된 포토마스크를 보관하거나 이송하기 위한 포토마스크 케이스의 구조에 관한 것이다.The present invention relates to a structure of a photomask case, and more particularly, to a structure of a photomask case for storing or transporting a high-density circuit board and a liquid crystal-embedded photomask used in the manufacture of an LCD monitor.

LCD모니터의 제조에 사용되는 포토마스크는 일반적으로 유리재질이기 때문에 이송 및 보관시에 쉽게 파손될 우려가 있다. 취성이 강하고 강도가 약한 포토마스크를 이송하거나 보관할 때에는 포토마스크의 크기에 부합하는 케이스를 사용한다. 즉, 포토마스크의 케이스는 일반적으로 상부케이스와 하부케이스로 구성되며, 상기 상부 및 하부케이스는 적절한 체결기구로써 고정된다.Photomasks used in the manufacture of LCD monitors are generally made of glass and can easily break during transport and storage. When transporting or storing photomasks with high brittleness and low strength, use cases that match the size of the photomask. That is, the case of the photomask is generally composed of an upper case and a lower case, the upper and lower cases are fixed with a suitable fastening mechanism.

일반적인 포토마스크 케이스의 구조을 설명하면 다음과 같다. The structure of a general photomask case is as follows.

일면이 개방된 직육면체로서, 외측둘레를 따라 복수의 걸쇠가 단속적으로 형성되어 있고, 상기 걸쇠를 제외한 나머지 외측둘레에는 케이스의 강도를 보강하기 위한 제1보강부가 형성되어 있으며, 내부의 모서리 및 구석에는 포토마스크를 안치시키기 위한 복수의 지지대가 설치된 하부케이스와; 일면이 개방된 직육면체로서, 외측둘레를 따라 상기 하부케이스의 걸쇠에 대응하는 걸림편이 형성되어 있고, 상 기 걸림편을 제외한 나머지 외측둘레에는 상기 하부케이스의 제1보강부와 맞닿도록 형성된 제2보강부가 형성되며, 하면에는 상기 케이스를 지면을 통해 이송할 수 있도록 구성된 이송부를 포함하는 상부케이스;를 포함하되, 상기 하부 및 상부케이스 사이에 개재되는 씰링부재를 더 포함하고, 상기 제1보강부 및/또는 제2보강부의 일부에는 파지부가 형성된 포토마스크의 케이스가 사용되고 있다.As an open rectangular parallelepiped, a plurality of clasps are formed intermittently along the outer circumference, and the outer circumference except for the clasp is provided with a first reinforcing part for reinforcing the strength of the case. A lower case provided with a plurality of supports for placing the photomask; A rectangular parallelepiped with one side open, a locking piece corresponding to the latch of the lower case is formed along the outer circumference, and the second reinforcement is formed to contact the first reinforcing part of the lower case on the outer circumference except for the locking piece. The upper case includes an upper case including a transfer unit configured to transfer the case through the ground, and further including a sealing member interposed between the lower and upper cases, wherein the first reinforcement unit and The case of the photomask in which the holding part was formed is used for the part of 2nd reinforcement part.

위와 같은 포토마스크의 케이스는 상기 하부케이스와 상기 상부케이스 사이에서 형성되는 공간부에 포토마스크를 안치시키고, 상기 케이스 사이에 상기 씰링부재를 개재시킨 후, 상기 케이스의 외측에 형성된 상기 걸쇠 및 걸림편을 결합시킨 다음 이송하거나 보관하게 된다. In the case of the photomask as described above, the photomask is placed in a space formed between the lower case and the upper case, and the sealing member is interposed between the cases, and the latch and the engaging piece formed on the outside of the case. Are combined and then transported or stored.

통상적으로, 씰링부재는 고무로 되어 있으므로 자체로서 유동이 일어날 수 있기 때문에 하부케이스의 단면으로부터 연장된 부분을 형성함으로써 씰링부재의 유동을 방지하기도 한다. In general, since the sealing member is made of rubber, since the flow may occur by itself, the sealing member may be prevented from being formed by forming a portion extending from the cross section of the lower case.

그러나, 종래의 포토마스크케이스는, 하부케이스와 상부케이스가 결합되는 과정에서 기밀성이 담보되지 못하여 케이스의 내부로 이물질이 투입될 가능성이 있고, 또한, 외부환경으로부터 완전히 차단되지 못하여 온도나 습도 등의 여러 외부환경으로 인해 포토마스크의 물성치가 변화되는 문제가 있다.However, in the conventional photomask case, the airtightness may not be secured in the process of combining the lower case and the upper case, and foreign matter may be introduced into the case, and also, such as temperature or humidity may not be completely blocked from the external environment. There is a problem that the physical properties of the photomask is changed due to various external environments.

또한, 하부케이스의 내부에 형성되는 지지대가 포토마스크를 안전하게 지지하지 못하고 포토마스크가 유동하게 됨으로써 포토마스크에 외형적인 결함을 발생 시키는 문제가 발생했으며, 특히, 매우 민감하고 취성이 강한 포토마스크는 유리재질이기 때문에 응력이 집중되는 모서리 또는 모퉁이부분에 파손이 자주 일어났다.In addition, the support formed inside the lower case does not securely support the photomask and the photomask is flowed, causing a problem of appearance defects in the photomask. In particular, a very sensitive and brittle photomask is a glass. Because of the material, breakages frequently occurred at corners or corners where stress is concentrated.

또한, 여러 크기의 포토마스크가 존재하기 때문에 포토마스크의 크기에 따라 안치되는 지지부의 규격을 그때그때 조절할 필요성이 있음에도 적절한 조절기구가 존재하지 않았다.In addition, since there are photomasks of various sizes, there is no appropriate adjustment mechanism even though it is necessary to adjust the size of the support portion placed according to the size of the photomask at that time.

그 외에도, 포토마스크는 기압에도 영향을 받을 정도로 민감한 부분임에도 포토마스크를 항공 등을 통해 운송할 경우, 기압의 변화에 능동적으로 대처하지 못하여 악영향을 미칠 수 있는 문제도 있었다. In addition, even though the photomask is sensitive enough to be affected by air pressure, when the photomask is transported through air, there is a problem that it may not be able to proactively cope with the change in air pressure, thereby adversely affecting the photomask.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명에 따른 포토마스크 케이스의 구조는, The present invention has been made to solve the above problems, the structure of the photomask case according to the present invention,

외측둘레에는 복수의 걸쇠가 단속적으로 형성되고 상기 걸쇠가 형성되지 않은 외측둘레에는 복수의 제1보강부가 형성되며 상기 외측둘레로부터 연장된 가이드부를 포함하며 내부의 공간에 포토마스크가 안치되는 하부케이스와, 상기 걸쇠에 대응하는 걸림편이 형성되고 상기 제1보강부와 맞닿도록 형성된 제2보강부가 형성되어 상기 하부케이스와 체결되는 상부케이스와, 상기 하부 및 상부케이스의 하면에 형성된 이송부, 및 상기 하부 및 상부케이스 사이에 개재되고 상기 가이드부에 탈착가능하게 설치되는 씰링부재를 포함하는 포토마스크 케이스의 구조에 있어서, 상기 하부케이스는, 포토마스크가 안치된 상태에서 상기 포토마스크의 크기에 따라 이동가능하며 별도의 조임부재를 갖는 복수개의 제1지지부와; 상기 포토마스크를 지지하고 충격을 흡수하기 위한 완충부재를 갖는 복수개의 제2지지부; 및 상기 하부케이스의 외측하면과 연통된 필터홀과 상기 필터홀에 삽입된 필터를 갖는 에어필터부;를 포함하고, 상기 상부케이스의 내부에는 상기 하부케이스에 형성된 상기 제1 및 제2지지부에 대응하여 상기 포토마스크를 협지하는 공간을 형성하고 완충부재가 포함된 복수의 제3지지부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The outer case is formed with a plurality of clasps intermittently, the outer circumference without the clasp is formed a plurality of first reinforcement portion and includes a guide portion extending from the outer circumference and the lower case and the photomask is placed in the interior space and A second reinforcing part is formed to correspond to the clasp, and a second reinforcing part formed to contact the first reinforcing part is formed to be fastened to the lower case; In the structure of the photomask case including a sealing member interposed between the upper case and detachably installed in the guide portion, the lower case is movable in accordance with the size of the photomask in the state that the photomask is placed A plurality of first support portions having separate tightening members; A plurality of second supporting parts having buffer members for supporting the photomask and absorbing shocks; And an air filter unit having a filter hole communicating with an outer bottom surface of the lower case and a filter inserted into the filter hole, wherein the inside of the upper case corresponds to the first and second support parts formed on the lower case. To form a space for sandwiching the photomask and to include a plurality of third support parts including a buffer member.

이때, 상기 하부케이스의 제1지지부의 조임부재는 복수개의 볼트인 것이 바람직하며, 포토마스크의 두께가 테이퍼진 경우를 대비하여 조임부재가 형성된 제1지지부에는 포토마스크의 외측면을 보호하기 위한 2개 이상의 측면보호대가 형성되는 것이 바람직하다. 이때, 측면보호대는 실리콘재질일 수 있다.In this case, the fastening member of the first support part of the lower case is preferably a plurality of bolts, and in order to protect the outer surface of the photomask on the first support part in which the fastening member is formed in case the thickness of the photomask is tapered. It is preferred that at least two side protectors are formed. In this case, the side guard may be made of silicon.

또한, 상기 하부케이스의 제2지지부 및 상기 상부케이스의 제3지지부의 완충부재는 고무재질로 된 호스형상인 것이 바람직하며, 특히, 케이스의 하면모서리부분에 설치되는 제2지지부 및 제3지지부의 완충부재는 포토마스크의 중력방향으로의 하중을 지지하기 위해 추가완충부재를 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the buffer member of the second support portion of the lower case and the third support portion of the upper case is preferably in the shape of a hose made of a rubber material, in particular, the second support portion and the third support portion installed on the bottom edge of the case Preferably, the shock absorbing member further includes an additional shock absorbing member to support the load in the gravity direction of the photomask.

또한, 상기 하부케이스의 외측하면에 형성되는 필터 홀내에 장착되는 필터는 흡착성이 있는 다공성필터일 수 있다. In addition, the filter mounted in the filter hole formed on the outer lower surface of the lower case may be a porous filter having adsorption.

상기와 같은 구성을 가진 본 발명에 의한 포토마스크 케이스의 구조에 의해 포토마스크의 이송이나 보관시에 발생할 수 있는 이물질의 투입, 환경에 따른 포토마스크의 변질 및 외부충격으로 인한 물리적 손상 등을 막을 수 있다.By the structure of the photomask case according to the present invention having the configuration as described above, it is possible to prevent the introduction of foreign matters that may occur during the transfer or storage of the photomask, physical damage due to deterioration of the photomask according to the environment and external impact, and the like. have.

이하, 본 발명에 따른 포토마스크 케이스의 구조의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의거하여 설명한다. Hereinafter, a preferred embodiment of the structure of the photomask case according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 포토마스크 케이스의 구조를 보여주는 사시도이다. 본 발명의 실시예에 따른 포토마스크 케이스는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 각각의 외측면에 걸쇠(본체와 고리로 구성됨)(11)가 단속적으로 2개씩 형성되어 있고, 위 걸쇠(11)가 형성되지 아니한 나머지 외측면에는 케이스의 강도를 보강하기 위한 제1보강부들(12)이 형성되어 있으며, 외부의 테두리면으로부터 연장되어 돌출된 가이드부(13)가 형성된 하부케이스(1)와; 상기 하부케이스(1)의 걸쇠(11)가 걸리도록 각각의 외측면에 2개씩 장착된 걸림편(21)과, 상기 하부케이스(1)의 제1보강부들(12)과 맞닿도록 형성되어 케이스의 강도를 보강하기 위한 제2보강부들(22)이 형성된 상부케이스(2)와; 상기 하부케이스(1)의 상기 가이드부(13)에 장착되어 상기 하부케이스(1)와 상기 상부케이스(2) 사이에 개재되는 씰링부재(3); 및 각각의 상기 하부케이스(1)와 상기 상부케이스(2)의 하면에 형성된 바퀴로 된 이송부(4)로 구성되어 있다.1 is a perspective view showing the structure of a photomask case according to a preferred embodiment of the present invention. In the photomask case according to the embodiment of the present invention, as illustrated in FIG. 1, two clasps (consisting of the main body and the ring) 11 are formed intermittently on each outer surface, and the upper clasp 11 is formed. The lower outer case (1) is formed on the remaining outer surface is not formed, the first reinforcing parts 12 for reinforcing the strength of the case, the guide portion 13 protruding from the outer edge surface; The case is formed so as to be in contact with the first engaging portion 12 of the lower case (1) and the engaging pieces 21 mounted on each of the outer surface so that the latch 11 of the lower case (1) An upper case 2 having second reinforcing parts 22 formed therein to reinforce the strength thereof; A sealing member (3) mounted to the guide part (13) of the lower case (1) and interposed between the lower case (1) and the upper case (2); And a transfer unit 4 made of wheels formed on the lower surface of each of the lower case 1 and the upper case 2.

이때, 상기 제1 및 제2보강부(12,22) 각각은 단차진 형태로서, 두꺼운 보조보강부(12a,22a))를 가진다. 또한, 복수의 보강부(12,22) 중 일부는 운반자의 손이 파지될 수 있는 손잡이(12b)가 형성될 수 있음을 보여준다.In this case, each of the first and second reinforcing parts 12 and 22 has a stepped shape and has thick auxiliary reinforcing parts 12a and 22a. In addition, some of the plurality of reinforcements 12 and 22 show that a handle 12b may be formed on which the hand of the carrier can be gripped.

또한, 상기 하부케이스(1)의 테두리면으로부터 연장되어 돌출된 가이드부(13)는 씰링부재(3)를 가이드하여 하부케이스(1)와 상부케이스(2) 사이로 유입될 수 있는 이물질의 투과를 방지한다. 다만, 상기 가이드부(13)가 평면이라면 씰링부재(3)가 유동할 수 있기 때문에 이러한 씰링부재(3)의 유동을 방지하기 위해 가이드부(13)의 일부에 요홈형태의 유동방지부(13a)가 형성되어 있다.In addition, the guide portion 13 extending from the edge surface of the lower case 1 protrudes to guide the sealing member 3 to permeate foreign substances that may flow between the lower case 1 and the upper case 2. prevent. However, since the sealing member 3 may flow if the guide part 13 is flat, a flow preventing part 13a having a recessed shape in a part of the guide part 13 to prevent the flow of the sealing member 3. ) Is formed.

이러한 보강부(12,22), 걸쇠(11) 및 걸림편(21) 등은 케이스의 4개의 외측면에 단속적으로 형성되어 있다.These reinforcement parts 12 and 22, the clasp 11, the locking piece 21, and the like are intermittently formed on four outer surfaces of the case.

또한, 하부케이스(1)와 상부케이스(2)의 외측하면에는 지면을 통해 케이스를 운반하기 위한 바퀴형상의 이송부(4)가 구비되어 있다.In addition, the outer case of the lower case 1 and the upper case 2 is provided with a wheel-shaped transfer portion 4 for carrying the case through the ground.

이하, 도 2를 참조하여, 하부케이스(1) 내부의 구조를 설명한다.Hereinafter, the structure inside the lower case 1 will be described with reference to FIG. 2.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 포토마스크 하부케이스(1)의 내부 구조를 보여주는 정면도이다.2 is a front view showing the internal structure of the photomask lower case 1 according to a preferred embodiment of the present invention.

하부케이스(1)의 저면에는 케이스의 강도를 보강하기 위한 프레임(F)이 격벽부재로서 형성되어 있다. 또한, 하부케이스(1) 내부의 2개의 윗 모퉁이부분과, 2개의 양측면에는 볼트로 된 조임부재(111a)가 설치된 제1지지부(111)가 있고, 하부케이스(1) 내부의 윗면과 아랫면에는 각각 3개와 4개의 제2지지부(112)가 형성되어 있다. On the bottom of the lower case 1, a frame F for reinforcing the strength of the case is formed as a partition member. In addition, there are two upper corner portions inside the lower case 1 and first support portions 111 on which two fastening members 111a made of bolts are installed, and on both upper and lower surfaces of the lower case 1. Three and four second support parts 112 are formed, respectively.

상기 프레임(F)은 포토마스크를 안치하는데는 관여하지 않으며 단지 넓은 단면적을 가진 케이스의 전면에 작용하는 외력에 의한 변형을 방지하는 역할을 한다.The frame F is not involved in placing the photomask and serves to prevent deformation due to external force acting only on the front surface of the case having a large cross-sectional area.

도 3은 하부케이스(1)의 제1지지부(111)의 부분확대사시도이다.3 is a partially enlarged perspective view of the first support part 111 of the lower case 1.

상기 제1지지부(111)는, 포토마스크를 안치할 경우에 있어서, 포토마스크의 윗면 및 옆면을 확실히 지지하기 위해 상하 또는 좌우로 이동할 수 있도록 구성된 다. 즉, 처음에 포토마스크를 하부케이스에 안치시킨 후 포토마스크의 폭과 길이에 맞도록 제1지지부를 이동시킨 다음, 제1지지부에 있는 조임부재(111a)로 고정시키는 것이다. The first support part 111 is configured to be movable up and down or left and right in order to securely support the top and side surfaces of the photomask when the photomask is placed therein. That is, after first placing the photomask in the lower case, the first support portion is moved to match the width and length of the photomask, and then fixed by the fastening member 111a in the first support portion.

이때, 제1지지부(111)에는 포토마스크의 측면을 보호하기 위해 외관상 2줄로 보이는 측면보호대(111b)가 설치된다. 만일, 측면보호대(111b)가 1개라면 포토마스크의 두께가 테이퍼진 경우 측면보호대(111b)가 포토마스크의 측면에 닿지 않을 수도 있기 때문에 이를 대비하여 2줄의 측면보호대(111b)가 사용되었다. At this time, in order to protect the side of the photomask, the first support part 111 is provided with side guards 111b, which appear in two lines in appearance. If the side guard 111b is one, when the thickness of the photomask is tapered, since the side guard 111b may not touch the side of the photomask, two rows of side guards 111b were used.

측면보호대(111b)는 충격을 흡수하기 적당하고 마찰계수가 상대적으로 큰 실리콘재질로 되어 있다.The side guard 111b is made of a silicon material suitable for absorbing shock and having a relatively large coefficient of friction.

이하, 도 4를 참조하여, 하부케이스(1)의 윗 모서리에 위치하고 있는 제2지지부(112)에 대해 설명한다. 도 4는, 하부케이스(1)와 상부케이스(2)가 겹쳐진 상태(상부케이스의 겉면은 생략함)에서 케이스의 윗 모서리부분에 위치하는 3개의 제2지지부(112)를 부분적으로 확대한 사시도이다.Hereinafter, referring to FIG. 4, the second support part 112 positioned at the upper edge of the lower case 1 will be described. 4 is a partially enlarged perspective view of the three second support parts 112 positioned at the upper corners of the case in a state where the lower case 1 and the upper case 2 overlap (the outer surface of the upper case is omitted). to be.

제2지지부(112)는 포토마스크가 평면유리재질이기 때문에 모서리부분에서 발생할 수 있는 휨을 방지하기 위해 포토마스크를 지지하는 역할을 하며, 윗부분에 있는 3개의 제2지지부(112)는 상부케이스(2)에 형성된 제3지지부(222)와 함께 포토마스크의 모서리부분을 협지하게 된다. 즉, 3개의 제2지지부(112)와, 이에 대응하는 상부케이스(2)의 제3지지부(222)에는 1개씩의 완충부재(113)가 있어 하부케이스(1)와 상부케이스(2)가 겹쳐지면 포토마스크의 측면을 양쪽으로 지지하게 되는 것이다. 따라서, 포토마스크의 모서리부분은 제2지지부(112)와 제3 지지부(222) 사이에 형성된 간격으로 삽입되고, 제2지지부(112)와 제3지지부(222) 각각에 설치된 완충부재(113)에 의해 안정적으로 지지되는 것이다.Since the second support part 112 is a flat glass material, the second support part 112 serves to support the photomask in order to prevent warpage that may occur at the corners, and the three second support parts 112 at the upper part of the upper case 2 The edge portion of the photomask is sandwiched together with the third support part 222 formed on the back cover. That is, the three second support parts 112 and the third support part 222 of the upper case 2 corresponding thereto have one buffer member 113, so that the lower case 1 and the upper case 2 are When overlapping, the sides of the photomask are supported on both sides. Therefore, the edge portion of the photomask is inserted at intervals formed between the second support portion 112 and the third support portion 222, the buffer member 113 provided in each of the second support portion 112 and the third support portion 222. It is supported by stable.

완충부재(113)은 고무재질의 호스형태가 바람직하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 외부의 충격으로부터 포토마스크를 보호할 수 있는 연질이면 무방하다.The shock absorbing member 113 is preferably in the form of a rubber hose, but is not necessarily limited thereto, and may be a soft material that can protect the photomask from external shock.

도 4에 나타낸 바와 같이, 제2지지부(112) 및 제3지지부(222)는 각각 호스형태의 완충부재(113)가 삽입될 수 있도록 소정크기의 홈이 형성되어 있다. 여기서, 이 홈은 완충부재(113)가 장착되어 포토마스크를 보호하기에 적당한 높이와 깊이를 가진다. 위 홈의 깊이는 포토마스크의 모서리부분이 완충부재(113)에 안치될 수 있도록 완충부재(113)의 높이보다 조금 짧게 형성되어 완충부재(113)가 포토마스크의 양면을 향해 돌출되도록 설치하는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 4, each of the second support part 112 and the third support part 222 is provided with a groove having a predetermined size so that the buffer member 113 having a hose shape can be inserted therein. Here, the groove has a height and depth suitable for protecting the photomask to the buffer member 113 is mounted. The depth of the groove is formed a little shorter than the height of the buffer member 113 so that the edge portion of the photomask can be placed in the buffer member 113 is installed so that the buffer member 113 protrudes toward both sides of the photomask. desirable.

도 5는 하부케이스(1)와 상부케이스(2)가 겹쳐진 상태(상부케이스의 겉면은 생략함)에서 케이스의 아래 모서리부분에 위치하는 4개의 제2지지부(112)를 부분적으로 확대한 사시도이다.FIG. 5 is a partially enlarged perspective view of four second support parts 112 positioned at the lower corners of the case in a state where the lower case 1 and the upper case 2 overlap (the outer surface of the upper case is omitted). .

도 5에 나타낸 제2지지부(113)는, 도 4의 지지부와 마찬가지로 제2지지부(112) 및 제3지지부(222) 사이에 형성된 간격으로 포토마스크가 삽입되고, 제2지지부(112) 및 제3지지부(222) 각각에 설치된 완충부재(113)에 의해 협지됨은 같으나, 케이스를 직립시킬 경우, 포토마스크의 중량으로 인해 중력방향으로 힘이 가해지므로 포토마스크의 하단면의 파손이 예상되기 때문에 포토마스크의 하단면을 지지하는 완충부재(113)가 더 포함된 것이 특징이다. 즉, 하부케이스(1)와 상부케 이스(2)가 겹쳐진 상태에서 보면, 케이스의 최하단면에 설치되는 완충부재(13)는 총 3개가 된다.In the second support part 113 illustrated in FIG. 5, a photomask is inserted at intervals formed between the second support part 112 and the third support part 222, similarly to the support part of FIG. 4, and the second support part 112 and the first support part 112 are formed. The same is held by the buffer member 113 installed in each of the three support parts 222, but when the case is upright, since the force is applied in the direction of gravity due to the weight of the photomask, damage to the bottom surface of the photomask is expected. Characterized in that the buffer member 113 for supporting the lower surface of the mask is further included. That is, when the lower case 1 and the upper case 2 are overlapped, the total number of shock absorbing members 13 installed on the lower end surface of the case is three.

도 6은 하부케이스(1)의 겉면의 하부에 형성되는 필터홀(300)과, 상기 필터홀(300)에 삽입되는 필터(300a)의 구조를 보여주는 분해사시도이다.6 is an exploded perspective view showing the structure of the filter hole 300 formed on the lower surface of the lower case 1 and the filter 300a inserted into the filter hole 300.

포토마스크는 환경조건, 특히, 기압이나 습도 및 온도의 변화에 매우 민감하다. 따라서, 외부의 환경조건의 변화에 능동적으로 대처할 뿐만 아니라 이물질 등의 투과를 방지하기 위해서는 일정한 성능을 가진 필터어셈블리가 필요하다.Photomasks are very sensitive to changes in environmental conditions, particularly atmospheric pressure, humidity and temperature. Therefore, in order to actively cope with changes in external environmental conditions and to prevent permeation of foreign matters, a filter assembly having a certain performance is required.

필터홀(300)에 삽입장착되는 필터(300a)는 흡착력을 가진 다공성재료인 것이 바람직하다.The filter 300a inserted into the filter hole 300 is preferably a porous material having adsorption force.

또한, 필터홀(300)은 케이스의 내부와 연통되도록 구성되지만 완전한 원통모양은 아니며, 필터(300a)가 삽입되는데 필요한 일정한 깊이에서 단차가 형성되어 있으며, 상기 단차면에는 필터(300a)와 케이스가 체결될 수 있도록 하는 체결공이 형성되어 있어 볼트 등의 체결구에 의해 필터(300a)가 필터홀(300)에 삽입장착된다. In addition, the filter hole 300 is configured to communicate with the inside of the case, but is not a complete cylindrical shape, and a step is formed at a constant depth necessary for the filter 300a to be inserted, and the filter 300a and the case are formed on the step surface. The fastening hole is formed to be fastened so that the filter 300a is inserted into the filter hole 300 by a fastener such as a bolt.

이상, 본 발명의 포토마스크 케이스의 구조를 바람직한 실시예에 따라 설명하였으나, 이는 본 발명의 이해를 돕고자 하는 목적일 뿐 본 발명의 기술적 범위를 이에 한정하고자 하는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 범위는 청구범위에 의해서만 정하여 지는 것은 당연하다.The structure of the photomask case of the present invention has been described above according to a preferred embodiment, but this is only for the purpose of helping the understanding of the present invention, and the technical scope of the present invention is not limited thereto. Naturally, it is decided only by the claims.

본 발명의 포토마스크 케이스의 구조에 있어서, 동일한 기술적 사상의 범위 내에 있는 한 당업자의 입장에서 다양한 변형이나 개조가 가능함은 물론이다. 예를 들어, 하부케이스와 상부케이스에 형성되는 지지부의 개수나 수치, 필터홀이 형성되는 위치, 상기 지지부에 장착되는 완충부재의 재질이나 개수 등은 얼마든지 수정 내지 변경할 수 있는 것이다. In the structure of the photomask case of the present invention, various modifications or modifications can be made to those skilled in the art as long as they are within the same technical scope. For example, the number or value of the support portion formed in the lower case and the upper case, the position where the filter hole is formed, the material or the number of the cushioning member mounted on the support portion can be modified or changed as much as possible.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 포토마스크 케이스의 결합구조를 보여주는 사시도,1 is a perspective view showing a coupling structure of a photomask case according to an embodiment of the present invention;

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 포토마스크 케이스의 하부케이스의 내부를 보여주는 정면도,Figure 2 is a front view showing the inside of the lower case of the photomask case according to an embodiment of the present invention,

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 포토마스크 케이스의 하부케이스의 내부 중에서 제1지지부를 확대한 부분분해사시도,3 is an enlarged partial exploded perspective view of a first support part in an interior of a lower case of a photomask case according to an embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 포토마스크 케이스의 하부케이스의 윗부분에 위치한 3개의 제2지지부를 확대한 부분사시도,4 is an enlarged partial perspective view of three second supporting parts positioned on an upper portion of a lower case of a photomask case according to an exemplary embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 포토마스크 케이스의 하부케이스의 아래부분에 위치한 4개의 제2지지부를 확대한 부분사시도,FIG. 5 is an enlarged partial perspective view of four second support parts located at a lower portion of a lower case of a photomask case according to an exemplary embodiment of the present invention; FIG.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 포토마스크 케이스의 하부케이스의 겉면에 형성된 에어필터홀 및 필터를 확대한 부분사시도이다.6 is an enlarged partial perspective view of the air filter hole and the filter formed on the outer surface of the lower case of the photomask case according to an embodiment of the present invention.

**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**** Description of the symbols for the main parts of the drawings **

1:하부케이스 2;상부케이스1: lower case 2; upper case

3:씰링부재 4:이송부3: sealing member 4: transfer part

11:걸쇠 12:제1보강부11: Clasp 12: first reinforcement

13:가이드부 21:걸림편13: Guide part 21: Jam

22:제2보강부 111:제1지지부22: second reinforcing portion 111: first supporting portion

112:제2지지부 113:완충부재112: second support portion 113: buffer member

222:제3지지부 300:필터홀222: third support portion 300: filter hole

Claims (6)

외측둘레에는 복수의 걸쇠가 단속적으로 형성되고 상기 걸쇠가 형성되지 않A plurality of clasps are formed intermittently on the outer circumference and the clasps are not formed. 은 외측둘레에는 복수의 제1보강부가 형성되며 상기 외측둘레로부터 연장된 가이드The outer periphery is formed with a plurality of first reinforcing portion and the guide extending from the outer periphery 부를 포함하며 내부의 공간에 포토마스크가 안치되는 하부케이스와, 상기 걸쇠에 A lower case including a portion and having a photomask placed therein, and the clasp 대응하는 걸림편이 형성되고 상기 제1보강부와 맞닿도록 형성된 제2보강부가 형성A corresponding reinforcing piece is formed and a second reinforcing part is formed to be in contact with the first reinforcing part. 되어 상기 하부케이스와 체결되는 상부케이스와, 상기 하부 및 상부케이스의 하면An upper case coupled to the lower case, and a lower surface of the lower and upper cases 에 형성된 이송부, 및 상기 하부 및 상부케이스 사이에 개재되고 상기 가이드부에 A conveying part formed in the lower part and the upper case and interposed between the guide part and the guide part. 탈착가능하게 설치되는 씰링부재를 포함하는 포토마스크 케이스의 구조에 있어서, In the structure of the photomask case including a sealing member detachably installed, 상기 하부케이스는, 포토마스크가 안치된 상태에서 상기 포토마스크의 크기The lower case is the size of the photomask in the photomask is placed 에 따라 이동가능하며 별도의 조임부재를 갖는 복수개의 제1지지부와; A plurality of first support portions movable in accordance with the plurality of first supporting members; 상기 포토마스크를 지지하고 충격을 흡수하기 위한 완충부재를 갖는 복수개A plurality of buffer members for supporting the photomask and absorb the shock 의 제2지지부; 및 A second support of the; And 상기 하부케이스의 외측하면과 연통된 필터홀과 상기 필터홀에 삽입된 필터A filter hole communicating with an outer surface of the lower case and a filter inserted into the filter hole 를 갖는 에어필터부;를 포함하고, It includes; Air filter unit having; 상기 상부케이스의 내부에는 상기 하부케이스에 형성된 상기 제1 및 제2지지The first and second support formed in the lower case inside the upper case 부에 대응하여 상기 포토마스크를 협지하는 공간을 형성하고 완충부재가 포함된 복A space in which the space between the photomasks is sandwiched corresponding to the portion and a buffer member is included; 수의 제3지지부를 포함하여 구성된 포토마스크 케이스의 구조.A structure of a photomask case comprising a third support portion. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 하부케이스의 제1지지부의 조임부재는 복수개의 볼트인 것을 특징으로 The fastening member of the first support part of the lower case is characterized in that a plurality of bolts 하는 포토마스크 케이스의 구조.The structure of the photomask case. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 조임부재가 형성된 제1지지부에는 포토마스크의 외측면을 보호하기 위The first support portion in which the fastening member is formed to protect the outer surface of the photomask 한 2개 이상의 실리콘 재질로 된 측면보호대가 형성된 것을 특징으로 하는 포토마A photoma characterized by the formation of one or more side guards made of silicone 스크 케이스의 구조.The structure of the scour case. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 하부케이스의 제2지지부 및 상기 상부케이스의 제3지지부의 완충부재는 The buffer member of the second support portion of the lower case and the third support portion of the upper case 고무재질로 된 호스형상인 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스의 구조.The structure of a photomask case characterized by the shape of a hose made of rubber material. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 케이스의 하면모서리부분에 설치되는 제2지지부 및 제3지지부의 완충부재는 The cushioning member of the second support part and the third support part installed at the bottom edge of the case is 포토마스크의 중력방향으로의 하중을 지지하기 위해 추가완충부재가 더 포함된 것Additional buffer members are further included to support the load in the direction of gravity of the photomask. 을 특징으로 하는 포토마스크 케이스의 구조.The structure of the photomask case, characterized in that. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 하부케이스의 외측하면에 형성되는 필터 홀내에 장착되는 필터는 흡착The filter mounted in the filter hole formed on the outer bottom surface of the lower case is adsorbed 성이 있는 다공성필터인 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스의 구조.The structure of the photomask case, characterized in that the porous filter.
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