KR20090093546A - 기판처리장치 - Google Patents

기판처리장치

Info

Publication number
KR20090093546A
KR20090093546A KR1020080019113A KR20080019113A KR20090093546A KR 20090093546 A KR20090093546 A KR 20090093546A KR 1020080019113 A KR1020080019113 A KR 1020080019113A KR 20080019113 A KR20080019113 A KR 20080019113A KR 20090093546 A KR20090093546 A KR 20090093546A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chamber
cover
processing apparatus
substrate processing
lower groove
Prior art date
Application number
KR1020080019113A
Other languages
English (en)
Inventor
하수철
박우종
Original Assignee
주식회사 에이디피엔지니어링
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에이디피엔지니어링 filed Critical 주식회사 에이디피엔지니어링
Priority to KR1020080019113A priority Critical patent/KR20090093546A/ko
Publication of KR20090093546A publication Critical patent/KR20090093546A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67201—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the load-lock chamber
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • H01L2224/751—Means for controlling the bonding environment, e.g. valves, vacuum pumps
    • H01L2224/75101—Chamber
    • H01L2224/75102—Vacuum chamber

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명에 의하면, 기판처리장치는 챔버; 그리고 상기 챔버의 개방된 일측을 개폐하는 커버를 포함하며, 상기 챔버는 상기 일측 및 상기 챔버의 내측 가장자리에 위치하여 상기 커버의 일면과 기설정된 각도를 이루도록 상기 챔버의 내측을 향하여 하향경사진 경사면을 구비한다.

Description

기판처리장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 챔버의 개방된 일측을 개폐하는 커버를 구비하는 기판처리장치에 관한 것이다.
일반적으로, 평판표시소자 제조장치는 내부에 LCD, PDP, OLED 등과 같은 평판표시소자 기판을 반입시켜 플라즈마 가스 등을 이용하여 식각 등의 처리를 실시하며 상기 평판표시소자 제조장치는 일반적으로 로드락(Load lock) 챔버, 반송 챔버 및 한 개 이상의 공정 챔버로 구성된다.
여기서, 상기 로드락 챔버는 외부에 구비되며 다수개의 처리 전 기판을 적재한 카세트에서 운송수단에 의해 기판을 받아들이거나 처리가 끝난 기판을 외부로 반출하는 역할을 하고, 상기 반송 챔버는 기판을 로드락 챔버 또는 공정 챔버들 간에 반송하기 위한 반송 로봇이 구비되어 있어서 처리할 기판을 로드락 챔버에서 공정 챔버로 전달하거나 처리가 완료된 기판을 공정 챔버에서 로드락 챔버로 전달하는 역할을 하며, 상기 공정 챔버는 진공 상태에서 플라즈마 등을 이용하여 기판상에 막을 성막하거나 에칭을 수행하는 역할을 각각 한다.
여기서, 상기 로드락 챔버는 계속하여 대기압 분위기와 진공 분위기를 오가면서 기판의 반입과 반출을 담당하므로 그 내부를 진공으로 형성하기 위한 진공 형성 장치와, 다시 대기 분위기로 만들기 위한 대기압 형성 장치가 쉴 틈 없이 작동하다보면 여러 가지 고장이 발생할 수 있다.
이에 상기 진공 형성 장치 및 대기압 형성 장치와 같은 내부 구성물의 유지 보수 및 교체를 할 때 그 내부를 개폐할 수 있도록 별도의 커버가 마련된다.
본 발명의 목적은 챔버 내부의 진공형성시 커버의 변형으로 인하여 챔버가 파손되는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 챔버 내부의 진공형성시 커버의 변형으로 인하여 챔버 내부의 진공이 파괴되는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 또 다른 목적들은 다음의 상세한 설명과 첨부한 도면으로부터 보다 명확해질 것이다.
본 발명에 의하면, 기판처리장치는 챔버; 그리고 상기 챔버의 개방된 일측을 개폐하는 커버를 포함하며, 상기 챔버는 상기 일측 및 상기 챔버의 내측 가장자리에 위치하여 상기 커버의 일면과 기설정된 각도를 이루도록 상기 챔버의 내측을 향하여 하향경사진 경사면을 구비한다.
상기 챔버는 상기 경사면의 외측에 위치하여 상기 커버의 일면과 대체로 나란한 상부면을 더 구비할 수 있다.
또한, 상기 챔버는 상기 경사면의 외측에 위치하여 상기 커버의 일면과 기설정된 각도를 이루도록 상기 챔버의 외측을 향하여 상향경사진 상부면을 더 구비할 수 있다. 상기 커버는 상기 일측과 대응되는 위치에 형성되어 상기 경사면 및 상기 상부면과 각각 대응되는 접촉면을 구비할 수 있다.
한편, 상기 상부면 상에는 씰링부재가 삽입되는 하부홈이 형성되며, 상기 커버의 상기 일면 상에는 상기 하부홈과 대응되도록 상부홈이 형성될 수 있다.
또한, 상기 경사면 상에는 보조씰링부재가 삽입되는 보조하부홈이 형성되며, 상기 커버의 상기 일면 상에는 상기 보조하부홈과 대응되도록 보조하부홈이 형성될 수 있다.
상기 챔버는 로드락 챔버일 수 있다.
본 발명에 의하면, 챔버 내부의 진공형성시 커버의 변형으로 인하여 챔버가 파손되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 챔버 내부의 진공형성시 커버의 변형으로 인하여 챔버 내부의 진공이 파괴되는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판처리장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판처리장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
100 : 기판처리장치 110 : 챔버
110a : 하부홈 110b : 보조하부홈
110c : 경사면 112 : 커버
112a : 상부홈 112b : 보조상부홈
114a : 씰링부재 114b : 보조씰링부재
이하, 본 발명의 바람직한 실시예들을 첨부된 도 1 내지 도 3을 참고하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예들은 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 설명하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예들은 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 상세하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에 나타난 각 요소의 형상은 보다 분명한 설명을 강조하기 위하여 과장될 수 있다.
한편, 이하에서는 로드락 챔버를 예로 들어 설명하나, 본 발명은 다양한 챔버에 응용될 수 있다. 또한, 이하에서는 기판을 예로 들어 설명하나, 본 발명은 다양한 피처리체에 응용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치(100)를 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 1에 도시한 바와 같이, 챔버(110)의 내부에는 기판에 대한 공정을 수행하는 내부공간이 제공되며, 양측벽에 형성되어 기판이 반입반출되는 반입구 및반출구는 각각 게이트 밸브에 의해 개폐된다. 챔버(110)의 상부는 개방되며, 개방된 상부는 커버(112)에 의해 개폐된다. 커버(112)는 상부 챔버(110)의 면적과 대체로 동일하며, 적정한 두께를 가진다. 챔버(110)는 로드락 챔버를 포함하며, 챔버(110) 내부에는 기판(도면에 미도시)이 적재되는 기판 적재대가 구비될 수 있다.
커버(112)의 일면과 대향되는 챔버(110)의 일측 중 외측 가장자리부에는 커버(112)의 일면과 대체로 나란한 상부면이 제공된다. 상부면 상에는 적정 깊이로 하부홈(110a)이 형성되며, 하부홈(110a) 내에는 씰링부재(114a)가 하부홈(110a)으로부터 적정 높이만큼 돌출되도록 삽입설치된다. 씰링부재(114a)는 챔버(110) 내부의 기밀을 유지한다. 한편, 커버(112) 상에는 하부홈(110a)과 대응되는 위치에 상부홈(112a)이 형성되며, 씰링부재(114a)의 돌출된 상부는 상부홈(112a)에 삽입된다. 즉, 씰링부재(114a)의 하부는 하부홈(110a)에 삽입설치되며, 씰링부재(114a)의 상부는 상부홈(112a)에 삽입설치되어, 챔버(110) 내부의 기밀을 확실하게 유지할 수 있다.
또한, 챔버(110)의 일측 중 내측 가장자리에는 커버(112)의 일면과 기설정된 각도(θ1)를 이루는 경사면(110b)이 제공된다. 상부면과 달리, 경사면(110b)이 기설정된 각도(θ1)를 가지는 것은 챔버(110) 내부에 진공이 형성되어 챔버의 내외간에 압력차가 형성되면 이로 인하여 커버(112)의 중심부가 챔버(110)의 내측을 향하는 형상으로 변형되며(도 2b 참고), 커버(112)의 변형은 챔버(110)의 내측 가장자리에 응력을 집중시켜 챔버(110)의 내측 가장자리를 파손시킬 수 있기 때문이다. 따라서, 챔버(110)의 내측 가장자리에 경사면을 제공하여 챔버(110)의 내측 가장자리와 커버(112)의 일면 사이에 간극을 제공한다. 이와 같은 내용은 아래의 실시예를 통해 더욱 분명하게 설명할 수 있다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판처리장치(100)를 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 2a에 도시한 바와 같이, 경사면(110c) 상에는 적정 깊이로 보조하부홈(110b)이 형성되며, 보조하부홈(110b) 내에는 보조씰링부재(114b)가 보조하부홈(110b)으로부터 적정 높이만큼 돌출되도록 삽입설치된다. 보조씰링부재(114b)는 씰링부재(114a)와 함께 챔버(110) 내부의 기밀을 더욱 완전하게 유지한다. 한편, 커버(112) 상에는 보조하부홈(110b)과 대응되는 위치에 보조상부홈(112b)이 형성되며, 보조씰링부재(114b)의 돌출된 상부는 보조상부홈(112b)에 삽입된다. 즉, 보조씰링부재(114b)의 하부는 보조하부홈(110b)에 삽입설치되며, 보조씰링부재(114b)의 상부는 보조상부홈(112b)에 삽입설치된다. 이때, 앞서 살펴본 바와 같이, 경사면(110c)과 커버(112)의 일면 사이에는 간극이 형성되므로, 보조씰링부재(1140b)의 상부는 보조상부홈(112b)에 완전하게 삽입되지 않으며, 도 2a에 도시한 바와 같이, 커버(112)로부터 약간 이격되어 설치된다.
챔버(110) 내부에 진공이 형성되면, 도 2b에 도시한 바와 같이, 커버(112)의 중심부는 아래를 향하여 변형되며, 이로 인해 커버(112)의 가장자리도 함께 변형된다. 이와 같은 변형으로 인해, 커버(112)는 경사면(110c)에 밀착되어, 경사면(110c)과 커버(112)의 일면 사이에 형성된 간극은 제거된다. 이를 위해, 경사면(110c)의 기설정된 각도(θ1)는 조절될 수 있다. 또한, 커버(112)가 경사면(110c)에 밀착됨에 따라, 보조씰링부재(114b)의 돌출된 상부는 보조상부홈(112b)에 완전하게 삽입설치되어, 챔버(110) 내부의 기밀을 더욱 확실하게 유지한다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판처리장치(100)를 개략적으로 나타내는 도면이다. 이하에서는 도 1 내지 도 2b와 구별되는 구성에 대해서만 상세하게 설명하기로 한다. 앞서 본 실시예와 달리, 챔버(110)의 외측 가장자리에 형성된 상부면은 커버(112)의 일면과 기설정된 각도(θ2)를 이룰 수 있으며, 챔버(110)의 외측을 향하여 상향경사질 수 있다. 또한, 커버(112)는 상향경사진 상부면 및 경사면(110b)과 대응되는 접촉면을 가질 수 있다. 즉, 앞서 본 실시예에서는 챔버(110)의 내측 가장자리와 커버(112)의 일면 사이에 간극을 제공하여, 챔버(110)의 파손을 방지하였으나, 이와 달리, 커버(112)의 일면에 경사면(110b)과 대응되는 접촉면을 형성하여 챔버(110)의 내측 가장자리와 커버(112)의 일면 사이에 형성된 간극을 제공한다 할지라도, 경사면(110b)으로 인하여 응력집중을 방지할 수 있으며, 챔버(110)의 내측 가장자리가 파손되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명을 바람직한 실시예들을 통하여 상세하게 설명하였으나, 이와 다른 형태의 실시예들도 가능하다. 그러므로, 이하에 기재된 청구항들의 기술적 사상과 범위는 바람직한 실시예들에 한정되지 않는다.

Claims (7)

  1. 챔버; 및
    상기 챔버의 개방된 일측을 개폐하는 커버를 포함하며,
    상기 챔버는 상기 일측 및 상기 챔버의 내측 가장자리에 위치하여 상기 커버의 일면과 기설정된 각도를 이루도록 상기 챔버의 내측을 향하여 하향경사진 경사면을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 챔버는 상기 경사면의 외측에 위치하여 상기 커버의 일면과 대체로 나란한 상부면을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 챔버는 상기 경사면의 외측에 위치하여 상기 커버의 일면과 기설정된 각도를 이루도록 상기 챔버의 외측을 향하여 상향경사진 상부면을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 커버는 상기 일측과 대응되는 위치에 형성되어 상기 경사면 및 상기 상부면과 각각 대응되는 접촉면을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 상부면 상에는 씰링부재가 삽입되는 하부홈이 형성되며,
    상기 커버의 상기 일면 상에는 상기 하부홈과 대응되도록 상부홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 경사면 상에는 보조씰링부재가 삽입되는 보조하부홈이 형성되며,
    상기 커버의 상기 일면 상에는 상기 보조하부홈과 대응되도록 보조하부홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  7. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 챔버는 로드락 챔버인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
KR1020080019113A 2008-02-29 2008-02-29 기판처리장치 KR20090093546A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080019113A KR20090093546A (ko) 2008-02-29 2008-02-29 기판처리장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080019113A KR20090093546A (ko) 2008-02-29 2008-02-29 기판처리장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20090093546A true KR20090093546A (ko) 2009-09-02

Family

ID=41302018

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080019113A KR20090093546A (ko) 2008-02-29 2008-02-29 기판처리장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20090093546A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101641505B1 (ko) * 2016-02-23 2016-07-21 이재웅 목재 건조 기능을 갖는 수액 채취 장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101641505B1 (ko) * 2016-02-23 2016-07-21 이재웅 목재 건조 기능을 갖는 수액 채취 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI743246B (zh) 製造電子裝置的裝載端口設備、系統及方法
US8070408B2 (en) Load lock chamber for large area substrate processing system
US6764265B2 (en) Erosion resistant slit valve
TWI634612B (zh) 負載腔室及其使用該負載腔室之多腔室處理系統
CN101005013A (zh) 减压容器和减压处理装置
JP2015135881A (ja) 基板収納容器
WO2018084214A1 (ja) 真空処理装置
JP5379589B2 (ja) 真空吸着パッド、搬送アーム及び基板搬送装置
KR20100061214A (ko) 진공차단 슬롯밸브 및 이를 구비한 진공차단 도어
KR20140041419A (ko) 기판 중계 장치, 기판 중계 방법, 기판 처리 장치
US10672593B2 (en) Plasma processing apparatus and plasma processing method
KR20090093546A (ko) 기판처리장치
KR101099603B1 (ko) 챔버 및 이를 이용한 기판 처리 방법
KR100915156B1 (ko) 평판표시소자 제조장치
KR100974856B1 (ko) 로드락 챔버
JP2008235800A (ja) ロードロック装置および基板の処理システム
KR102100032B1 (ko) 게이트 밸브 장치 및 기판 처리 시스템
JP2009218505A (ja) アンロードチャンバ及びその運転方法
US20070227660A1 (en) Plasma treatment apparatus
WO2019138702A1 (ja) 真空装置
JP2009071214A (ja) 基板処理装置
JP6671034B2 (ja) プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
KR100898019B1 (ko) 기판처리장치
JP2001077172A (ja) 基板の処理装置、基板の搬送体、並びに電子部品の製造方法
JP7478969B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application