KR20090073455A - 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치와 이를이용한 마스크 세정방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 마스크 세정장치에 관한 것으로, 특히 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치와 이를 이용한 마스크 세정방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정장치는 마스크 전체 또는 일부가 디핑(dipping)되도록 내부에 소정 공간이 마련되는 세정조와, Polyosyethylene Alkyl PhenylEther, Alkyl Benzene Sulfonate, Potassium Hydroxide, Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait, 초순수(Deionized Water)가 혼합되어 구성되는 세정액과, 상기 세정액이 상기 세정조 내부로 유입되는 것을 제어하는 세정액 공급 밸브와, 상기 세정액의 배출을 제어함과 아울러 상기 세정조 바닥에 침전된 슬러지 등의 이물질을 배출시키는 하부 밸브와, 상기 세정조에서 오버플로우(overflow)된 세정액 또는 세정액 상부에 부유하는 슬러지 등의 이물질을 배출시키는 상부 밸브와, 초음파를 발생시켜 상기 세정조 내부에 초음파를 인가시키는 초음파 발생장치와, 상기 세정조에 담겨진 세정액을 가열하는 가열히터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정방법은 세정액 공급 밸브를 이용하여 내부에 소정 공간이 마련된 세정조에 Polyosyethylene Alkyl PhenylEther, Alkyl Benzene Sulfonate, Potassium Hydroxide, Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait, 초순수(Deionized Water)로 구성된 세정액을 공급하는 단계와, 가열히터를 이용하여 상기 세정조 내부에 담겨진 세정액을 40℃∼50℃의 온도를 가 지도록 가열하는 단계와, 상기 세정조 내부에 유기물질이 증착되어 있는 마스크를 담지시키고 상기 세정조 내부에 초음파를 인가하여 10분 동안 마스크를 1차 세정하는 단계와, 상기 1차 세정이 완료된 상기 마스크를 건조시키는 단계와, 건조가 완료된 상기 마스크의 표면에서 유기물질(이물질)의 잔존 여부를 1차 검사하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정장치를 이용한 마스크 세정방법은 유기물과 무기물이 혼합되어 구성되는 세정액을 이용한 화학적 및 물리적 세정을 실시하여 마스크 표면에 증착 및 잔존하는 유기물질(이물질)을 완전히 제거할 수 있다. 이를 통해, 세정된 마스크를 통해 제조되는 유기발광 표시소자의 제조효율을 향상시킬 수 있다.
OLED, 마스크, 세정장치, 세정액
Description
본 발명은 마스크 세정장치에 관한 것으로, 특히 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치와 이를 이용한 마스크 세정방법에 관한 것이다.
최근 정보화 사회가 발전함에 따라 영상 정보를 출력하는 표시장치에 대한 요구도 다양한 형태로 증가되고 있으며, 이에 따라 종래에 널리 사용되던 CRT(Cathode Ray Tube)를 대신하여 LCD(Liquid Crystal Display, 이하 액정 표시 장치)나 PDP(Plasma Display Panel), OLED(Organic Luminescent Emission Diode, 이하 유기발광 표시소자), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등의 여러 가지 평판 표시 장치가 연구 개발되어 활용되고 있다.
이러한 평판 표시 장치 가운데에서도, 유기발광 표시소자는 전자와 정공의 재결합(recombination)으로 형광체를 발광시키는 자발광 소자인 유기 발광층을 이용한 것으로, 콘트라스트 비(Contrast Ratio)와 응답 속도(response time) 등의 표시 특성이 우수하며, 플렉서블 디스플레이(Flexible Display)의 구현이 용이하여 가장 이상적인 차세대 디스플레이로 주목받고 있다.
유기발광 표시소자는 다수의 화소 영역이 매트릭스 형태로 배열되어 구성되며, 각각의 화소 영역에는 각 화소를 구동하기 위한 구동 소자와 같은 마이크로 패턴이 형성되어져 있다.
이때, 빛을 발광하는 유기 발광층의 경우, 내화학성이 취약한 유기 물질로 이루어지기 때문에 종래와 같은 노광 및 식각을 이용하는 포토리소그래피 방법이 아닌 유기 물질을 기화시킨 후, 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 이용하여 선택적으로 기판에 증착하여 형성한다.
그러나, 증착 과정에서 기판을 선택적으로 스크리닝(screening)하는 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 표면에도 유기 물질이 증착되기 때문에, 일정한 공정 횟수가 지난 이후에는 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 세정하는 것이 필수적으로 요구되어 진다.
도 1은 종래의 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치의 구성을 나타낸 도면이다. (a)는 종래의 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 위에서 내려다 본 평면도이고, (b) 및 (c)는 측면도이다.
도1 에 도시된 바와 같이 있듯이, 종래의 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치(1)는, 마스크(50) 전체 또는 일부가 디핑(dipping)될 수 있는 세정조(10)와, 외부로부터 공급되는 세정액이 상기 세정조 내부로 유입되는 것을 제어하는 세정액 공급 밸브(20)와, 상기 세정액의 교환 시 세정액을 배출시키는 것을 제어함과 아울러 세정조 바닥에 침전된 슬러지 등의 이물질을 제거하기 위한 하부 밸브(40)와, 상기 세정조에서 오버플로우(overflow)된 세정액 또는 세정액 상부에 부유하는 이물질을 제거하기 위한 상부 밸브(30)로 구성된다.
또한, 상기 세정액의 경우 주로 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 표면에 증착된 유기 물질을 제거하기 위하여 통상적으로 유기 세정액이 사용된다.
도 2는 유기 물질이 잔류하고 있는 유기발광 표시소자 증착용 마스크(50)의 일부를 확대한 사진이다.
도 2를 참조하면, 이러한, 세정장치(1) 및 유기 세정액을 이용하여 마스크(50)에 증착된 유기물의 세정을 실시하나, 마스크(50)에 증착된 유기물이 모두 제거되지 않는 경우가 있음을 알 수 있다.
유기발광 표시소자 증착용 마스크(50)에서 하나의 유기발광 표시소자에 증착되는 유기 발광층에 대응되는 마스크 셀 영역(52)에 유기 물질이 제거된 영역은 도 2에서와 같이 깨끗한 표면 상태를 유지하고 있으나, 유기 물질이 잔류하고 있는 영역(54)은 표면 상태가 오염되어 있음을 알 수 있다.
이와 같이, 유기 물질이 잔류하여 표면 상태가 오염된 마스크(50)를 사용할 경우, 유기 발광층의 증착 과정에서 잔류하는 유기 물질 상부에 유기 물질이 증착되면서 흄(fume)성 불량과 같이 이물에 의한 불량 등이 발생하거나, 증착 상태가 불량해지는 문제점이 발생되어 도 3에 도시된 바와 같이, 제조가 완료된 유기발광 표시소자의 유기 발광층(60)에 불량이 발생되는 단점이 있다.
여기서, 도 3은 제조된 유기발광 표시소자의 전체 발광 셀 중에서 녹색(green)의 발광 셀의 일부를 도시하고 있다.
종래 기술에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치의 경우에, 유기 세정액을 이용하여 마스크의 세정을 실시하지만, 마스크의 표면에서 유기 물질을 완전히 제거되지 않는 경우가 있다. 이로 인해, 제조된 유기발광 표시소자에 불량이 발생되는 문제점이 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정장치는 마스크 전체 또는 일부가 디핑(dipping)되도록 내부에 소정 공간이 마련되는 세정조와, Polyosyethylene Alkyl PhenylEther, Alkyl Benzene Sulfonate, Potassium Hydroxide, Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait, 초순수(Deionized Water)가 혼합되어 구성되는 세정액과, 상기 세정액이 상기 세정조 내부로 유입되는 것을 제어하는 세정액 공급 밸브와, 상기 세정액의 배출을 제어함과 아울러 상기 세정조 바닥에 침전된 슬러지 등의 이물질을 배출시키는 하부 밸브와, 상기 세정조에서 오버플로우(overflow)된 세정액 또는 세정액 상부에 부유하는 슬러지 등의 이물질을 배출시키는 상부 밸브와, 초음파를 발생시켜 상기 세정조 내부에 초음파를 인가시키는 초음파 발생장치와, 상기 세정조에 담겨진 세정액을 가열하는 가열히터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정방법은 세정액 공급 밸브를 이용하여 내부에 소정 공간이 마련된 세정조에 Polyosyethylene Alkyl PhenylEther, Alkyl Benzene Sulfonate, Potassium Hydroxide, Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait, 초순수(Deionized Water)로 구성된 세정액을 공급하는 단계와, 가열히터를 이용하여 상기 세정조 내부에 담겨진 세정액을 40℃∼50℃의 온도를 가지도록 가열하는 단계와, 상기 세정조 내부에 유기물질이 증착되어 있는 마스크를 담지시키고 상기 세정조 내부에 초음파를 인가하여 10분 동안 마스크를 1차 세정하는 단계와, 상기 1차 세정이 완료된 상기 마스크를 건조시키는 단계와, 건조가 완료된 상기 마스크의 표면에서 유기물질(이물질)의 잔존 여부를 1차 검사하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정장치를 이용한 마스크 세정방법에 적용되는 세정액은 Polyosyethylene Alkyl PhenylEther가 2%∼4%, Alkyl Benzene Sulfonate가 2%∼4%, Potassium Hydroxide가 1%∼4%, Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait가 1.5%∼4.5%, 초순수(Deionized Water)가 83.5% ∼93.5% 혼합되어 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정장치를 이용한 마스크 세정방법은 유기물질과 무기물질이 혼합되어 구성되는 세정액을 이용한 화학적 세정 및 물리적 세정을 실시하여 마스크 표면에 증착 및 잔존하는 유기물질(이물질)을 제거시키는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정장치를 이용한 마스크 세정방법은 유기물과 무기물이 혼합되어 구성되는 세정액을 이용한 화학적 및 물리적 세정을 실 시하여 마스크 표면에 증착 및 잔존하는 유기물질(이물질)을 완전히 제거할 수 있다. 이를 통해, 세정된 마스크를 통해 제조되는 유기발광 표시소자의 제조효율을 향상시킬 수 있다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치의 구성을 나타낸 도면이다. (a)는 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 위에서 내려다 본 평면도이고, (b) 및 (c)는 측면도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치(100)는 마스크(150) 전체 또는 일부가 디핑(dipping)될 수 있는 세정조(110)와, 외부로부터 공급되는 세정액이 상기 세정조(110) 내부로 유입되는 것을 제어하는 세정액 공급 밸브(120)와, 상기 세정액의 교환 시 세정액을 배출시키는 것을 제어함과 아울러 세정조(110) 바닥에 침전된 슬러지 등의 이물질을 제거하기 위한 하부 밸브(140)와, 상기 세정조(110)에서 오버플로우(overflow)된 세정액 또는 세정액 상부에 부유하는 이물질을 제거하기 위한 상부 밸브(130)와, 초음파를 발생시켜 세정조(110) 내부에 초음파를 인가시키는 초음파 발생장치(170)와, 세정조(110)에 담겨진 세정액을 가열하는 가열히터(미도시)를 포함하여 구성된다.
또한, 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정장치(100)는 종래 기술에 따른 세정장치에서 사용되던 유기 세정액을 대체하여 아래의 표 1과 같이, 유기물, 무기물 및 초순수가 혼합된 세정액을 이용하여 마스크 상에 잔류하는 유기물질을 제거한다.
| 물질명 | 화학식 | CAS No | 함유량 |
| Polyosyethylene Alkyl PhenylEther | C2H4O23C12H26O | 9002-92-0 | 2% ∼4% |
| Alkyl Benzene Sulfonate | C7H8O3S·Na | 657-84-1 | 2% ∼4% |
| Potassium Hydroxide | KOH | 1310-58-3 | 1% ∼4% |
| Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait | C10H16N2O8 | 64-02-8 | 1.5 ∼4.5% |
| Deionized Water | 7732-18-5 | 83.5% ∼93.5% |
또한, 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정장치(100)는 위의 표 1의 세정액이 담겨진 세정조(110)에 유기물질이 증착된 마스크(150)를 담지하여 세정한 후, 마스크(150) 표면의 세정 상태를 검사하기 위하여 도시되지 않은 검사장치를 포함하며, 세정액을 이용한 화학적 세정을 실시한 후, 마스크(150) 표면에 잔존하는 이물질을 물리적으로 제거하기 위하여 도 5에 도시된 바와 같이, 브러시(brush)(180)를 포함하여 구성된다. 여기서, 브러시(180)는 나일론 재질로 형성되며 브러시(180)의 올(strand, yarn)은 5㎛의 굵기를 가지도록 형성된다.
본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정장치(100)를 이용한 세정방법은 세정 공정의 효율성을 높이기 위하여 도 4에 도시된 세정장치(100)를 다수개 구비하여 1차 내지 3차의 세정 공정을 실시하며, 각각의 세정장비(100)는 수행되는 세정 공정에 알맞도록 세정조(110)에 담겨지는 세정액의 양 및 온도, 초음파 발생장치의 출력 세기 등과 공정조건이 셋팅된다.
이와 같은 구성을 가지는 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정장치(100)를 이용한 마스크(150)의 세정방법을 설명하기로 한다.
먼저, 도 4에 도시된 바와 같이, 세정액 공급 밸브(120)를 이용하여 세정조(110)에 표 1과 같이, Polyosyethylene Alkyl PhenylEther(2%∼4%), Alkyl Benzene Sulfonate(2%∼4%), Potassium Hydroxide(1%∼4%), Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait(1.5%∼4.5%), Deionized Water(83.5% ∼93.5%)로 구성된 세정액을 공급하여, 세정액을 상부 밸브(130)의 높이까지 채운다. 이때, 구비된 가열히터를 이용하여 세정조(110) 내부에 담겨진 세정액을 40℃∼50℃(바람직하게는 45℃)의 온도를 가지도록 가열한다.
이후, 세정조(110) 내부에 유기물질이 증착되어 있는 마스크(150)를 담지시키고, 초음파 발생장치(170)를 이용하여 세정조(110) 내부에 초음파를 인가한다.
이때, 초음파 발생장치(170)는 514W의 출력을 가지며, 40℃∼50℃의 온도로 가열된 세정액과 초음파를 이용하여 10분 동안 마스크(150)를 1차 세정한다.
1차 세정이 진행되면, 마스크(150) 표면에 증착되어있던 유기물질이 마스크(150) 표면으로부터 분리된다. 이때, 침전되어 세정조(110)의 바닥으로 가라앉은 유기물질은 세정조(110)의 하부에 위치한 하부 밸브(140)를 통해 외부로 배출된다. 또한, 부유된 유기물질은 세정조(110)의 상부에 위치한 상부 밸브(130)를 통해 외부로 배출된다. 이를 위하여 마스크(150)의 크기(size)에 따른 세정조(110)의 내부 용량에 따라서 일정량의 세정액을 지속적으로 세정조(110)에 공급한다.
1차 세정을 실시한 후, 세정된 마스크(150)를 세정조(110)에서 꺼내고, N2 가스 또는 공기를 분사하여 마스크를 건조시킨다. 이후, 검사장비를 이용하여 마스크(150) 표면이 세정 상태를 1차 검사한다.
1차 검사를 통해, 마스크(150) 표면에서 이물질이 완전히 제거되었으면 세정된 마스크(150)를 증착공정에 사용되도록 분류시킨다. 그러나, 1차 검사를 통해 마스크(150) 표면에 유기물질(이물질)의 잔존이 확인되면 도 5에 도시된 브러시(180)를 이용하여 마스크(150) 표면에 잔존하는 이물질을 물리적으로 제거시키는 2차 세정을 실시한다. 이후, 검사장비를 이용하여 마스크(150) 표면 상태를 확인하기 위하여 2차 검사를 실시한다. 2차 검사를 통해, 마스크(150) 표면에서 이물질이 완전히 제거되었으면 세정된 마스크(150)를 증착공정에 사용되도록 분류시킨다.
그러나, 브러시(180)를 이용한 2차 세정에서도 마스크(150) 표면에서 유기물질이 완전히 제거되지 않았다면, 1차 세정과 같이, 세정액이 담겨진 세정조(110)에 마스크(150)를 담지하여 화학적 세정공정을 추가적으로 실시한다.
이때, 세정조(110)에는 1차 세정 공정과 동일한 세정액이 공급되며, 세정조(110) 내부에 담겨진 세정액을 20℃∼30℃(바람직하게는 25℃)의 온도를 가지도록 가열한다. 이후, 세정조(110) 내부에 유기물질(이물질)이 잔존하는 마스크(150)를 담지시키고, 초음파 발생장치(170)를 이용하여 세정조(110) 내부에 초음파를 인가한다.
이때, 초음파 발생장치(170)는 117W의 출력을 가지며, 20℃∼30℃의 온도로 가열된 세정액과 초음파를 이용하여 3분 내지 9분 동안 3분 단위의 시간 동안 순차적으로 3차 세정을 실시한다.
3차 세정 공정을 보다 자세히 설명하면, 세정조(110)에 마스크(150)를 담지하여 3분 동안 세정을 실시한 후, 마스크(150)를 세정조(110)에서 꺼내 건조시킨 후, 검사장비를 이용하여 마스크(150) 표면의 상태를 확인한다.
마스크(150) 표면에서 유기물질(이물질)이 완전히 제거되었으면, 앞에서 설명한 바와 같이, 세정된 마스크(150)를 증착공정에 사용되도록 분류시킨다. 그러나, 마스크(150) 표면에 유기물질(이물질)이 잔존하면, 마스크(150)를 세정조(110)에 담지하여 6분 동안 세정을 실시한 후, 앞의 공정과 동일하게 마스크(150)의 표면을 검사하고, 추가적으로 세정이 필요한 경우, 세정조(110)에 마스크(150) 담지한 후, 9분 동안 세정을 실시하여 마스크(150) 표면에서 유기물질(이물질)이 완전히 제거시킨다. 이후, 세정이 완료된 마스크(150)를 증착공정에 사용되도록 분류시킨다.
본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정장치(100)와 이를 이용한 세정방법을 이용하여, 앞에서 설명한 바와 같이 1차 내지 3차의 세정 공정을 실시할 경우 도 6에 도시된 바와 같이, 마스크(150)의 도든 셀 영역(52)에 유기물질(이물질)이 완전히 제거됨을 확인할 수 있다.
도 1은 종래의 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치의 구성을 나타낸 도면이다. (a)는 종래의 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 위에서 내려다 본 평면도이고, (b) 및 (c)는 측면도이다.
도 2는 유기 물질이 잔류하고 있는 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 일부를 확대한 사진이다.
도 3은 마스크에 잔류하는 이물질로 인한 유기발광 소자의 불량 발생을 나타내는 도면.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치의 구성을 나타낸 도면이다. (a)는 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 위에서 내려다 본 평면도이고, (b) 및 (c)는 측면도이다.
도 5는 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 세정 및 건조한 후, 마스크의 표면에 잔류하는 이물질의 제거에 사용되는 브러쉬를 나타내는 도면.
도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 세정기와 이를 이용한 세정방법을 통해 이물질이 완전히 제거된 마스크를 나타내는 도면.
<도면 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1, 100 : 세정장치 10, 110 : 세정조
20, 120 : 세정액 공급 밸브 30, 130 : 상부 밸브
40, 140 : 하부 밸브 50, 150 : 마스크
170 : 초음파 발생장치 180 : 브러쉬
Claims (12)
- 마스크 전체 또는 일부가 디핑(dipping)되도록 내부에 소정 공간이 마련되는 세정조와,Polyosyethylene Alkyl PhenylEther, Alkyl Benzene Sulfonate, Potassium Hydroxide, Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait, 초순수(Deionized Water)가 혼합되어 구성되는 세정액과,상기 세정액이 상기 세정조 내부로 유입되는 것을 제어하는 세정액 공급 밸브와,상기 세정액의 배출을 제어함과 아울러 상기 세정조 바닥에 침전된 슬러지 등의 이물질을 배출시키는 하부 밸브와,상기 세정조에서 오버플로우(overflow)된 세정액 또는 세정액 상부에 부유하는 슬러지 등의 이물질을 배출시키는 상부 밸브와,초음파를 발생시켜 상기 세정조 내부에 초음파를 인가시키는 초음파 발생장치와,상기 세정조에 담겨진 세정액을 가열하는 가열히터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 세정장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 세정액 공급 밸브를 통해 상기 세정조 내부에 Polyosyethylene Alkyl PhenylEther가 2%∼4%,Alkyl Benzene Sulfonate가 2%∼4%,Potassium Hydroxide가 1%∼4%,Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait가 1.5%∼4.5%,초순수(Deionized Water)가 83.5% ∼93.5%가 혼합되어 구성되는 세정액이 유입되는 것을 특징으로 하는 마스크 세정장치.
- 제 1 항에 있어서,세정이 실시된 마스크를 건조시키기 위한 건조기와,상기 마스크 표면의 세정 상태를 검사하기 위한 검사장치와,상기 마스크 표면에 잔존하는 유기물질(이물질)을 물리적으로 제거하기 위한 브러시를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 브러시는 나일론 재질로 형성되며 브러시의 올은 5㎛의 굵기를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 세정장치.
- 세정액 공급 밸브를 이용하여 내부에 소정 공간이 마련된 세정조에 Polyosyethylene Alkyl PhenylEther, Alkyl Benzene Sulfonate, Potassium Hydroxide, Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait, 초순 수(Deionized Water)로 구성된 세정액을 공급하는 단계와,가열히터를 이용하여 상기 세정조 내부에 담겨진 세정액을 40℃∼50℃의 온도를 가지도록 가열하는 단계와,상기 세정조 내부에 유기물질이 증착되어 있는 마스크를 담지시키고 상기 세정조 내부에 초음파를 인가하여 10분 동안 마스크를 1차 세정하는 단계와,상기 1차 세정이 완료된 상기 마스크를 건조시키는 단계와,건조가 완료된 상기 마스크의 표면에서 유기물질(이물질)의 잔존 여부를 1차 검사하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 세정방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 세정조에 공급되는 상기 세정액은 Polyosyethylene Alkyl PhenylEther가 2%∼4%,Alkyl Benzene Sulfonate가 2%∼4%,Potassium Hydroxide가 1%∼4%,Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait가 1.5%∼4.5%,초순수(Deionized Water)가 83.5% ∼93.5%로 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 세정방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 1차 세정이 진행되는 동안 상기 세정조의 내부에 상기 세정액을 지속적 으로 공급하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 1차 검사 결과에 따라 상기 마스크 표면에 유기물질(이물질)의 잔존이 확인되면 브러시를 이용하여 상기 마스크 표면에 잔존하는 이물질을 제거시키는 2차 세정 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 세정방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 2차 세정이 완료된 상기 마스크의 표면에서 유기물질(이물질)의 잔존 여부를 2차 검사하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 세정방법.
- 제 9 항에 있어서,상기 2차 검사 결과에 따라 상기 마스크 표면에 유기물질(이물질)의 잔존이 확인되면 20℃∼30℃의 온도로 가열된 상기 세정액에 상기 마스크를 담지하여 3분 내지 9분 동안 적어도 1회 이상 3차 세정을 실시하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 세정방법.
- 제 10 항에 있어서,상기 3차 세정이 완료된 상기 마스크를 건조시키는 단계와,건조가 완료된 상기 마스크의 표면에서 유기물질(이물질)의 잔존 여부를 3차 검사하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 세정방법.
- 제 5 항, 제 9 항, 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 검사 결과에 따라 상기 마스크 표면에서 이물질이 완전히 제거되었으면 상기 세정된 마스크를 증착공정에 사용되도록 분류시키는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 세정방법.
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- 2007-12-31 KR KR1020070141407A patent/KR20090073455A/ko not_active Application Discontinuation
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