KR20090061389A - Tft-lcd 글라스 에칭용 회전 롤 브러쉬와 이를이용한 에칭방법 - Google Patents

Tft-lcd 글라스 에칭용 회전 롤 브러쉬와 이를이용한 에칭방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20090061389A
KR20090061389A KR1020070128389A KR20070128389A KR20090061389A KR 20090061389 A KR20090061389 A KR 20090061389A KR 1020070128389 A KR1020070128389 A KR 1020070128389A KR 20070128389 A KR20070128389 A KR 20070128389A KR 20090061389 A KR20090061389 A KR 20090061389A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
tft
etching
cleaning
lcd
roll brush
Prior art date
Application number
KR1020070128389A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100912884B1 (ko
Inventor
김종호
김동규
Original Assignee
에스피텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스피텍 주식회사 filed Critical 에스피텍 주식회사
Priority to KR1020070128389A priority Critical patent/KR100912884B1/ko
Publication of KR20090061389A publication Critical patent/KR20090061389A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100912884B1 publication Critical patent/KR100912884B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041Cleaning
    • H01L21/02043Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67712Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1316Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor

Abstract

본 발명은 TFT-LCD 글라스 에칭공정에 사용되는 회전 롤 브러쉬와 에칭방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 TFT-LCD 글라스 에칭함에 있어서, 에칭 전 세정을 하는 수직 반송 TFT-LCD 글라스 전처리 챔버에 장착되는 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬를 제공하며, 이를 이용한 세정공정을 수행하는 것을 그 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, TFT-LCD 글라스 에칭 공정을 위해서 수행되는 수평반송식 세정작업과 수직 반송식 에칭 공정, 그리고 수평반송방식의 세정공정으로 이어지는 일련의 공정에서 상기 에칭 전 세정공정을 원통형 회전 롤 브러쉬를 장착하여 수행함으로써, 전 공정이 글라스에 대한 수직반송방식의 에칭 공정에서 수행이 가능하도록 하여, 에칭 작업전 별도의 세정공정을 거치지 않고 하나의 프로세스로 처리함으로써, 공정의 연결성의 효율화를 통해 택 타임을 줄이고, TFT-LCD 패널의 파손으로 인한 불량율을 현저하게 줄일 수 있는 효과가 있다.
TFT-LCD 글라스 에칭, 회전 롤 브러쉬

Description

TFT-LCD 글라스 에칭용 회전 롤 브러쉬와 이를 이용한 에칭방법{Etching method for TFT-LCD Glass Using Turnicg-Roll blush}
본 발명은 TFT-LCD 에칭공정의 세정공정에 사용되는 브러쉬에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 TFT-LCD 글라스 에칭공정을 위해서 수행되는 수평반송식 세정작업과 수직반송식 에칭공정, 그리고 수평반송방식의 세정공정으로 이어지는 일련의 공정에서 상기 에칭 전 세정공정을 원통형 회전 롤 브러쉬를 장착하여 수행함으로써, 전 공정이 글라스에 대한 수직반송방식의 에칭 공정에서 수행 가능하도록 하여, 에칭 작업전 별도의 세정공정을 거치지 않고 하나의 프로세스로 처리함으로써, 공정의 연결성의 효율화를 통해 택타임을 줄이고, TFT-LCD 패널의 파손으로 인한 불량율을 현저하게 줄일 수 있는 회전 롤 브러쉬에 관한 것이다.
LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electroluminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display)등 여러 가지 평판표시장치가 연구되고 있다. 그 중에서도 LCD가 화질이 우수하며 저전력을 사용한다는 점에서 활발히 연구되고 있다.
특히, FPD(flat panel display)용으로 사용되는 TFT(thin film transistor) LCD(liquid crystal display)는 하판에 해당하는 TFT와 상판에 해당하는 CF(color filter)사이에 액정이 삽입되어 셀(cell) 형태로 제조된다. LCD의 크기나 무게를 줄이기 위해서는 여러 가지 방법이 적용될 수 있지만, 그 구조나 현재 기술상 LCD의 필수 구성요소의 중량이나 크기를 줄이는 것은 한계가 있다. 반면에 LCD의 가장 기본적인 구성요소인 유리기판은 기술이 진전되어 감에 따라 그 중량을 줄일 수 있는 여지가 남아 있다. 특히, 유리기판은 LCD를 구성하는 구조 중에서 가장 중량이 크기 때문에 그 중량을 줄이기 위한 연구가 계속되고 있다.
TFT-LCD의 경량화를 위하여 글라스의 평면을 얇게 가공할 필요가 있다. 즉 TFT와 CF가 합착된 셀(cell) 글라스를 에칭하여야 할 필요가 있다. 이제까지 행해지고 있는 글라스의 에칭 방법이나 그 장치는 여러 가지 문제점을 내포하고 있다.
구체적으로 살펴보면, 도 1을 참조하여 보면, 일반적으로 TFT-LCD 글라스 에칭을 위해서는 글라스의 수평방식의 세정공정작업을 수행하게 된다(R1, R2). 이는 에칭 전 이물질과 오염원을 사전에 제거하는 작업으로 글라스를 수평으로 배치하고 세정을 수행하게 된다. 또한, 세정이 끝난 경우에는 별도의 에칭장비로 이송하고, 이후 수직으로 글라스를 세운 상태에서 에칭 공정을 수행하게 된다(R3). 이 경우 상기 에칭 후에 세정하는 공정을 위해서는 수평반송방식으로 수행되는 글라스 반송(R4)이 이루어지게 된다.
이러한 TFT-LCD 패널의 반송방식의 차이에 따라 공정의 연결작업이 매끄럽게 연결되지 못하여 별개의 공정으로 수행되는 것이 일반적이며, 특히 이처럼 별개의 공정으로 수행됨으로 인해 작업시간이 길어지고 동일 TFT-LCD 패널을 여러 번 취급 을 하게 되어 얼룩이나 파손 등의 불량이 발생하게 된다.
또한, 수평반송 방식의 세종공정에서 블러쉬를 사용하여 세정을 이용하는 경우에도 기술적인 문제로 그 한계가 있었으며, 특히 수직 반송방식에의 블러쉬의 적용에의 기술적인 난제로 인해 하나의 에칭 프로세스 내로 상기 세정공정을 도입하기 어려워, 에칭 공정과 세정공정의 연결작업성이 떨어지는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 TFT-LCD의 에칭공정을 형성하는 에칭 전 세정, 에칭, 에칭 후 세정공정에서 에칭 전 세정공정을 수직으로 설치된 회전 롤 브러쉬를 설치하여 에칭 공정에서 바로 수직으로 세운 상태에서 세정작업의 수행이 가능하도록 함으로써, 에칭 작업전 별도의 세정공정을 거치지 않고 하나의 프로세스로 처리함으로써, 공정의 연결성의 효율화를 통해 택타임을 줄이고, TFT-LCD 패널의 파손으로 인한 불량율을 현저하게 줄이는 데 있다.
상술한 과제 해결을 위해, 본 발명은 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 TFT-LCD 글라스 에칭함에 있어서, 에칭 전 세정을 하는 수직 반송 TFT-LCD 글라스 전처리 챔버에 장착되는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공한다. 특히 상기 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬는 원통형 구조를 구비하되, 수직으로 분리되어 단면이 반원형상으로 분할되어 가공하여 조립의 용이성을 도우며, 회전 롤 브러쉬의 재질을 열경화성 수지를 이용하고, 특히 브러쉬 구동축의 상단에 구동모터를 설치하여 원통형 회전 롤 브러쉬의 회전 속도를 가변할 수 있도록 하고, 양면 대칭 블러쉬의 유격 조정을 자유롭게 조절할 수 있도록 하여 발명의 효율성을 높일 수 있도록 하였다.
본 발명에 따르면, TFT-LCD 글라스 에칭공정을 위해서 수행되는 수평반송식 세정작업과 수직반송식 에칭공정, 그리고 수평반송방식의 세정공정으로 이어지는 일련의 공정에서 상기 에칭 전 세정공정을 원통형 회전 롤 브러쉬를 장착하여 수행함으로써, 전 공정이 글라스에 대한 수직반송방식의 에칭공정에서 수행이 가능하도록 하여, 에칭 작업전 별도의 세정공정을 거치지 않고 하나의 프로세스로 처리함으로써, 공정의 연결성의 효율화를 통해 택타임을 줄이고, TFT-LCD 패널의 파손으로 인한 불량율을 현저하게 줄일 수 있는 효과가 있다.
본 발명은 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 TFT-LCD 글라스 에칭함에 있어서, 에칭 전 세정을 하는 수직 반송 TFT-LCD 글라스 전처리 챔버에 장착되는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공하여, TFT-LCD용 글라스 에칭 공정 전 공정인 세정공정에 수직 설치된 회전롤 브러쉬를 통해 글라스를 수직으로 세운 상태에서 곧바로 세정을 수행할 수 있도록 함으로써, 하나의 에칭공정에서 세정과 에칭이 동시에 이루어질 수 있도록 하여, 공정연결성의 단축으로 인한 작업시간을 절약하고, 글라스의 파손을 방지하는 효과를 구현할 수 있도록 한다.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 원통형인 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공하여, 원활한 회전운동으로 글라스와의 마찰을 최소한으로 줄여 글라스의 파손을 방지할 수 있도록 한다.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 열경화성 수지로 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공함이 바람직하다.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 폴리프로핀렌 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공함이 바람직하다.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 롤 브러쉬 외면에 0.1 ~ 1.0mm 인 블러쉬모를 구비한 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공하여, 글라스의 훼손을 최소화하면서도 오염물의 제거의 효율성을 증진 시킬 수 있도록 한다.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 수직 반송 TFT-LCD 글라스 전처리 챔버에 장착되되 구동축이 수직으로 형성되어 장착되며, 구동모토에 의해 구동되어 회전속도를 가변할 수 있는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공하여, 세정작업의 다양성을 보장할 수 있도록 한다.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 서로 대향되는 구조로 이격되어 적어도 2이상 구비되며, 상기 이격된 간격이 조절 가능하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬를 제공하여 세정의 강약을 조절할 수 있도록 한다.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 원통형상의 그 단면이 반원이 되도록 분리 제작되어, 조립 가능한 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬를 제공하여, 분리와 조립이 용이하도록 하여 사용상의 편의성을 증진할 수 있도록 한다.
또한, 본 발명은 TFT-LCD 글라스 에칭 공정에 있어서, 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 수행하되, 상기 에칭 전 세정공정은 상술한 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD의 에칭방법을 제공한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다.
도 2를 참조하면, 도 2는 본 발명에 따른 세정공정과 에칭 공정을 하나로 처리하는 장비의 개략도면이다.
본 발명에 따른 공정의 순서로서 우선 에칭을 위한 TFT-LCD 글라스를 에칭 장비로 로딩한다(S1). 로딩 후 버퍼공정을 거쳐 안정적인 장착이 이루어진 뒤(S2), 에칭 전 세정단계를 수행하게 된다(S3). 이 에칭 전 세정단계에서는 수직으로 세워진 TFT-LCD 글라스를 세워진 상태로 세정이 이루어지게 되며, 상기 세정단계 이후에 화학적 에칭 등의 에칭 공정이 수행되게 된다(S4). 에칭이 수행되는 경우에도 상기 TFT-LCD 글라스는 수직정렬로 각 단계별로 이송하게 된다. 또한, 상기 에칭공정이 수행된 후에는 에칭 후 세정단계(S5)를 거치게 되며, 상기 에칭 후 세정단계 이후에는 에칭 공정의 약품을 충분히 제거할 수 있는 중화공정(S6)을 수행하게 된다. 이후에는 초 순수 세정(S7)단계를 거치며, 이후에는 건조와 버퍼공정 및 언로딩공정을 거쳐서 에칭 공정을 완료하게 된다(S8 ~ S10). 상기 에칭 전 세정단계(S3)에서 세정이 이루어지는 챔버 내에 수직으로 장착되는 본 발명에 따른 TFT- LCD 세정용 회전 롤 브러쉬를 장착하게 된다.
도 3을 참조하여 보면, 상기 회전 롤 블러쉬(10)는 세정을 수행하는 챔버(100) 내에 구동축(40)을 중심으로 수직방향으로 배치된다. 이 경우 상기 회전 롤 블러쉬는 원통형으로 제조됨이 바람직하며, 특히 상기 원통형 구조는 수직으로 2 분할하여 단면이 반원형이 되도록 분할 조립 가능한 구조로 제작됨이 바람직하다. 상기 회전 롤 블러쉬(10)의 조립과 분리가 용이하게 함이다. 또한, 상기 회전 롤 블러쉬(10)는 열경화성 수지, 더욱 바람직하게는 폴리프로필렌의 재질로 형성됨이 바람직하다. 이는 강산 등의 화학약품에 견딜 수 있는 내구성을 구비하기 위함이다.
상기 회전롤 블러쉬에는 0.1~1.0mm의 블러쉬 모를 형성하여 세정의 효율성을 증진할 수 있도록 함과 동시에 글라스의 스크레치를 최소화하는 구조로 형성시킴이 바람직하다.
또한, 상기 회전롤 블러쉬 일단에는 구동모터를 설치하여 상기 원통형 회전 롤블러쉬의 회전속도를 가변함으로써, 세정의 강약을 조절할 수 있도록 함이 바람직하다. 또한, 패널을 중심으로 한 양면 대칭구조의 블러쉬를 설치하여 상기 TFT-LCD 글라스를 양면에서 세정함은 물론 양면 대칭 블러쉬의 유격조정을 통하여 TFT-LCD 글라스의 크기에 따른 범용적 사용이 가능하도록 함이 바람직하다.
특히 상기 구동방식은 강산의 약품에도 견딜 수 있도록 마그네틱(30)방식을 상요하여 용액의 누수를 근본적으로 차단할 수 있도록 함이 바람직하다.
상술한 원통형 회전 롤 블러쉬를 이용하면, 상술한 TFT-LCD 글라스 에칭 공 정에 있어서, 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 수행하되, 상기 에칭 전 세정공정을 글라스를 수직으로 세운 상태에서 한 프로세스로 수행이 가능하여 공정의 단순화와 효율성을 구현할 수 있는 장점이 있게 된다.
전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다. 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 기술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
도 1은 종래의 TFT-LCD 글래스 에칭시의 글라스 반송방식에 대한 흐름도이다.
도 2는 본 발명에 따른 TFT-LCD 글래스 에칭공정을 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 TFT-LCD 글래스 에칭공정 내의 세정공정에 사용되는 회전 롤 블러쉬가 장착된 구조를 도시한 도면이다.

Claims (9)

  1. 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 TFT-LCD 글라스 에칭함에 있어서,
    에칭 전 세정을 하는 수직 반송 TFT-LCD 글라스 전 처리 챔버에 장착되는 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 회전 롤 브러쉬는 원통형인 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 회전 롤 브러쉬는 열경화성 수지로 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 회전 롤 브러쉬는 폴리프로핀렌 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 회전 롤 브러쉬는 롤 브러쉬 외면에 0.1 ~ 1.0mm 인 브러쉬 모를 구비한 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 회전 롤 브러쉬는 수직 반송 TFT-LCD 글라스 전 처리 챔버에 장착되되 구동축이 수직으로 형성되어 장착되며, 구동모터에 의해 구동되어 회전속도를 가변할 수 있는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 회전 롤 브러쉬는 서로 대향되는 구조로 이격되어 적어도 2 이상 구비되며, 상기 이격된 간격이 조절 가능하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 회전 롤 브러쉬는 원통 형상의 그 단면이 반원이 되도록 분리 제작되어, 조립 가능한 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬.
  9. TFT-LCD 글라스 에칭 공정에 있어서, 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 수행하되, 상기 에칭 전 세정공정은 청구항 1 내지 8 중 어느 한 항의 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD의 에칭방법.
KR1020070128389A 2007-12-11 2007-12-11 Tft-lcd 글라스 에칭용 회전 롤 브러쉬와 이를이용한 에칭방법 KR100912884B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070128389A KR100912884B1 (ko) 2007-12-11 2007-12-11 Tft-lcd 글라스 에칭용 회전 롤 브러쉬와 이를이용한 에칭방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070128389A KR100912884B1 (ko) 2007-12-11 2007-12-11 Tft-lcd 글라스 에칭용 회전 롤 브러쉬와 이를이용한 에칭방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090061389A true KR20090061389A (ko) 2009-06-16
KR100912884B1 KR100912884B1 (ko) 2009-08-20

Family

ID=40990864

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070128389A KR100912884B1 (ko) 2007-12-11 2007-12-11 Tft-lcd 글라스 에칭용 회전 롤 브러쉬와 이를이용한 에칭방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100912884B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190074453A (ko) * 2017-12-20 2019-06-28 주식회사 포스코 마그넷 구동을 이용한 금속 표면 에칭 장치

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10440A (ja) * 1996-06-12 1998-01-06 Fukuju Miyamoto ガラス板洗浄装置
JP3448844B2 (ja) 2000-08-25 2003-09-22 株式会社石井表記 基板洗浄装置
KR20050011888A (ko) * 2003-07-24 2005-01-31 밍 홍 쿠오 수직형 박형 회로 기판 에칭 기기를 위한 이송 장치
KR20070037878A (ko) * 2005-10-04 2007-04-09 삼성전자주식회사 액정 표시 장치의 기판 식각 인라인 시스템 및 이를 이용한기판 식각 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190074453A (ko) * 2017-12-20 2019-06-28 주식회사 포스코 마그넷 구동을 이용한 금속 표면 에칭 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR100912884B1 (ko) 2009-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11462423B2 (en) Method and apparatus for cleaning semiconductor wafer
US9529262B2 (en) Cleaning device and linear coating machine
KR20130135651A (ko) 액정표시장치 제조라인
KR101023727B1 (ko) 액정표시소자 제조용 기판 반전장치 및 그 구동방법
TWI380856B (zh) Glass substrate cleaning apparatus and method
JP2007047351A (ja) 液晶パネルの洗浄装置、及び液晶装置の製造方法
KR100912884B1 (ko) Tft-lcd 글라스 에칭용 회전 롤 브러쉬와 이를이용한 에칭방법
KR100595302B1 (ko) 액정표시소자 제조를 위한 유리기판 식각장치
JP4343500B2 (ja) 液晶表示装置の製造方法
KR20080022377A (ko) 기판이송장치
US7736461B2 (en) Cassette for preventing breakage of glass substrate
JP2007047353A (ja) 電気光学装置の製造方法、及び電気光学パネルの洗浄装置
KR20090061399A (ko) Tft-lcd 글라스 에칭방법
KR100652040B1 (ko) 유리기판 식각장치
KR101289050B1 (ko) 진공챔버 정렬 장치
KR101310091B1 (ko) 박막 세정장치
CN214718758U (zh) 一种lcd减薄前清洗机
US10688537B2 (en) Display panel cleaning machine
JP2007322633A (ja) 表示パネル基板の異物除去方法およびその装置
KR20080002368A (ko) 액정표시장치의 액정기판 세척용 롤러 브러시
KR20060028283A (ko) 기판의 보호필름 제거장치 및 이를 이용한 필름 제거방법
JP2008093739A (ja) 基板研磨装置及びそれを用いた基板研磨方法
KR101349330B1 (ko) 기판 합착기 및 기판 합착기의 클리닝방법
KR20050070780A (ko) 드라이 에치용 전극 제조장치 및 이를 이용한 요철전극제조방법
KR200306926Y1 (ko) 액정 패널의 단면세정장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120813

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee