KR20090060179A

KR20090060179A - 홀로그램 매체 제조 방법, 마스터 홀로그램 매체 제조 방법, 기록 매체, 및 홀로그램 매체 제조 장치

Info

Publication number: KR20090060179A
Application number: KR1020080122827A
Authority: KR
Inventors: 히사유끼 야마쯔; 구니히꼬 하야시; 노리히로 다나베
Original assignee: 소니 가부시끼 가이샤
Priority date: 2007-12-07
Filing date: 2008-12-05
Publication date: 2009-06-11
Also published as: US8238005B2; EP2068313A1; CN101452252A; JP2009139740A; US20090147333A1; TW200941479A; JP4450062B2

Abstract

홀로그램 매체 제조 방법이 개시되며, 이 홀로그램 매체 제조 방법은, 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체를 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치하는 단계; 상기 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 구면파 광 및 참조 광을 이들 광이 상기 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 조사함으로써 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램을 형성하는 단계 -상기 구면파 광과 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 초점을 가짐-; 상기 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 홀로그램 매체를 배치하는 단계; 및 상기 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 참조 광을 조사함으로써 상기 홀로그램 매체 내에 홀로그램을 형성하는 단계를 구비한다.

구면파 광, 참조 광, 평면파 광, 마스터 홀로그램 매체, 홀로그램 매체, 원추형 거울, 교정 판

Description

홀로그램 매체 제조 방법, 마스터 홀로그램 매체 제조 방법, 기록 매체, 및 홀로그램 매체 제조 장치{HOLOGRAM MEDIUM MANUFACTURING METHOD, MASTER HOLOGRAM MEDIUM MANUFACTURING METHOD, RECORDING MEDIUM, AND HOLOGRAM MEDIUM MANUFACTURING APPARATUS}

본 발명은 홀로그램 매체 제조 방법, 마스터 홀로그램 매체 제조 방법, 기록 매체, 및 홀로그램 매체 제조 장치에 관한 것이다.

선도적인 차세대 광 메모리로서, R.R. McLeod 등의 "마이크로홀로그래픽 다층 광 디스크 데이터 스토리지", Appl. Opt., 44호, 2005, p3197(이하, 비특허문헌 1로 지칭함)에 기재된 소위 마이크로홀로그램 시스템이 제안되어 있다.

이 시스템에서는, 정보를 기록할 때, 기록 매체에 대해 그 앞뒷면측으로부터 동시에 가간섭성(coherent) 기록 광선이 두 개의 대물 렌즈를 사용하여 출사되는 바, 동일 위치에 포커싱되어 정교한 홀로그램을 기록하도록 출사된다.

추가로, 기록 광선의 광 포커스 위치는 기록 매체 내에서 3차원적으로 변경되며, 따라서 기록 매체에 정밀한 홀로그램을 3차원적으로 기록한다.

정보의 재생을 위해서는, 기록된 정밀한 홀로그램으로부터 발생되는 재생 광 을 검출하기 위해 대물 렌즈를 통해서 참조 광이 기록 매체 상에 포커싱된다.

전술한 시스템에 따르면, 정보가 기록 매체에 비트 방식으로 3차원적으로 기록된다. 따라서, 종래의 광 디스크에서보다 큰 저장 용량이 기대된다(예를 들면, 비특허문헌 1 참조).

종래 기술에서 제안된 방법은 쓰기가능한(writable) 광 메모리 시스템을 제조하기에 적합하다. 그러나, 이 방법에 의하면, 기록 기간의 관점에서 다량의 동일한 데이터를 복제하는데 필요한 ROM-타입 기록 매체를 제조하기가 극히 어렵다.

또한, 쓰기가능한 기록 매체의 경우에는, 기록 매체에 서보 정보 또는 어드레스 정보를 마이크로홀로그램으로서 미리 3차원 기록하는 것이 극히 바람직하다. 그러나, 이러한 정보를 미리 기록하는 것은 ROM-타입 기록 매체의 경우와 같은 이유로 극히 어렵다.

전술한 환경을 감안하여, 마스터 홀로그램 매체를 사용하여 다량의 정보를 단기간에 홀로그램 매체에 기록할 수 있는 홀로그램 매체 제조 방법, 마스터 홀로그램 매체 제조 방법, 기록 매체, 및 마스터 홀로그램 매체 제조 장치를 제공하는 것이 바람직하다.

본 발명의 일 실시예에 따르면 홀로그램 매체 제조 방법이 제공된다. 이 홀로그램 매체 제조 방법은, 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체를 상호 대면하도록 소정 의 간격으로 배치하는 단계; 상기 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 구면파 광 및 참조 광을 이들 광이 상기 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 조사함으로써 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램을 형성하는 단계 -상기 구면파 광과 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 초점을 가짐-; 상기 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 홀로그램 매체를 배치하는 단계; 및 상기 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 참조 광을 조사함으로써 상기 홀로그램 매체 내에 홀로그램을 형성하는 단계를 포함한다.

본 발명의 상기 실시예에서는, 마스터 홀로그램 매체 쌍이 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치된 상태에서 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성되며, 그 결과 마스터 홀로그램 매체 쌍을 반복적으로 사용함으로써 단기간에 다수의 홀로그램 매체 내에 다수의 홀로그램이 형성될 수 있다. 즉, 일단 제조된 마스터 홀로그램 매체 사이에 홀로그램 매체를 배치하고 마스터 홀로그램에 참조 광을 반복적으로 조사함으로써, 단기간에 다수의 홀로그램 매체 각각에 다수의 홀로그램이 형성될 수 있다.

상기 마스터 홀로그램 매체와 상기 홀로그램 매체의 각각은 디스크 형상을 가질 수 있다. 상기 마스터 홀로그램 매체는 상기 홀로그램 매체의 직경보다 큰 직경을 가질 수 있다.

이 구조는 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성되기 어려운 영역을 제거할 수 있다.

참조 광은 평면파 광인 것이 바람직하다. 이 구조에서, 구면파 광과 참조 광은 상호 확실하게 간섭하게 될 수 있다.

마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 구면파 광이 전파되는 방향과 반대되는 방향으로 마스터 홀로그램 매체에 수직하게 입사되는 것이 바람직하다.

이 구조에서는, 구면파 광 및 참조 광이 마스터 홀로그램에 일 방향으로부터 입사되게 하는 것이 필요할 뿐이다. 따라서, 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램을 형성하기 위한 장치의 부품 수가 감소될 수 있으며, 이는 비용 절감을 실현할 수 있다.

이 경우, 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들 중 하나로부터 마스터 홀로그램 매체에 수직하게 입사하여, 이를 투과하고, 반사 거울에 의해 반사되어, 마스터 홀로그램 매체에 입사하여 투과한다.

이 구조에서는, 참조 광이 마스터 홀로그램 매체에 일 방향으로부터 입사되게 하는 것이 필요할 뿐이다. 따라서, 홀로그램 매체 내에 홀로그램을 형성하기 위한 장치의 부품 수가 감소될 수 있으며, 이는 비용 절감을 실현할 수 있다.

마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들 중 하나로부터 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사할 수 있다.

이 구조에서는, 참조 광이 마스터 홀로그램 매체에 그 외측들 중 하나로부터 조사되게 하는 것이 필요할 뿐이며, 이는 참조 광 조사를 수행하기 위한 구성요소 의 수를 감소시킬 수 있다.

이 경우, 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들로부터 반대 방향으로 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사할 수 있다.

이 구조에서는, 마스터 홀로그램 매체의 각각에 마스터 홀로그램이 형성될 수 있다.

홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때, 참조 광은 원추형 거울의 모선 상의 부분들에 의해 반사될 수 있어서, 마스터 홀로그램 매체 중 하나에 참조 광이 조사될 수 있으며, 참조 광은 역원추형 거울의 모선 상의 부분들에 의해 반사될 수 있어서, 다른 마스터 홀로그램 매체에 참조 광이 조사될 수 있다.

마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들로부터 반대 방향으로 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사할 수 있다.

이 경우, 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들 중 하나로부터 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사할 수 있다.

마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때, 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에는 홀로그램 매체와 동일한 굴절율을 갖는 교정 판이 배치되는 것이 바람직하다.

이 구조에서는, 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때의 구면파 광의 파면(wavefront)과, 마스터 홀로그램 매체 쌍 사이에 홀로그램 매체가 배치될 때의 구면파 광의 파면이 상호 매치될 수 있다.

마스터 홀로그램 매체에는 마스터 홀로그램 매체의 외측들로부터 구면파 광선이 그 초점이 상호 일치하도록 조사될 수 있으며, 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들 중 하나로부터 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사할 수 있다.

이 구조에서는, 참조 광의 조사를 수행하기 위한 장치의 부품 수가 감소될 수 있다.

마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들로부터 그리고 구면파 광이 전파되는 영역에 대해 동일한 측으로부터 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사할 수 있다.

이 경우, 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들로부터 그리고 초점에 대해 동일한 측으로부터 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사할 수 있다.

이 구조에서는, 마스터 홀로그램 매체 각각의 마스터 홀로그램에 구면파 광 이 발생될 수 있으며, 구면파 광의 간섭은 홀로그램 매체 내의 홀로그램 형성을 초래할 수 있다.

홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때, 참조 광은 제1 원추형 거울의 모선 상의 부분들에 의해 반사될 수 있어서, 반사된 참조 광이 마스터 홀로그램 매체 중 하나에 조사될 수 있고, 참조 광은 제2 원추형 거울의 모선 상의 부분들에 의해 반사될 수 있어서, 반사된 참조 광이 다른 마스터 홀로그램 매체에 조사될 수 있다.

마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때, 마스터 홀로그램 매체는 회전되고, 구면파 광이 조사되는 위치는 마스터 홀로그램 매체의 반경 방향으로 시프트되는 것이 바람직하다.

이 구조에서, 마스터 홀로그램은 마스터 홀로그램 매체 내에 나선형으로 형성될 수 있다.

상기 홀로그램 매체 제조 방법은, 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 대신에 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체를 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치하는 단계; 상기 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 구면파 광 및 참조 광을 이들 광이 상기 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 조사함으로써 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체 내에 다른 마스터 홀로그램을 형성하는 단계 -상기 구면파 광과 참조 광은 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이의 다른 위치에 초점을 가짐-; 상기 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 홀로그램 매체를 배치하는 단계; 및 상기 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 참조 광을 조사함으로써 상기 홀로그램 매체 내 에 다른 홀로그램을 형성하는 단계를 더 구비할 수 있다.

이 구조에서는, 홀로그램이 홀로그램 매체의 두께 방향으로 복수의 층에 형성될 수 있다. 그 결과, 홀로그램 매체의 기록 용량이 현저히 증대될 수 있다.

상기 홀로그램 매체 제조 방법은, 상기 마스터 홀로그램 매체에 구면파 광 및 참조 광을 이들 광이 상기 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 조사함으로써 마스터 홀로그램 매체 내에 다른 마스터 홀로그램을 형성하는 단계 -상기 구면파 광과 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에서 그 두께 방향으로 다른 위치에 초점을 가짐-; 및 상기 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 내의 다른 마스터 홀로그램에 참조 광을 조사함으로써 홀로그램 매체 내에 다른 홀로그램을 형성하는 단계를 더 구비한다.

이 구조에서는, 마스터 홀로그램 매체 쌍의 두께 방향으로 상이한 위치에 복수의 마스터 홀로그램이 형성되고, 이들 복수의 마스터 홀로그램에는 참조 광이 조사되며, 그 결과 마스터 홀로그램 매체 쌍을 사용함으로써 두께 방향으로 상이한 위치에 홀로그램이 형성될 수 있다.

상기 홀로그램 매체는 쓰기가능한 매체이며, 상기 홀로그램은 어드레스 정보이다. 따라서, 단기간에 쓰기가능한 홀로그램 매체에 다량의 어드레스 정보를 기록할 수 있다.

상기 홀로그램 매체는 쓰기가능한 매체이며, 상기 홀로그램은 서보 정보이다. 따라서, 단기간에 쓰기가능한 홀로그램 매체에 다량의 서보 정보를 기록할 수 있다.

상기 홀로그램 매체는 읽기-전용(read-only) 매체이다. 따라서, 동일한 내용을 갖는 다량의 데이터의 복제를 요구하는 읽기-전용 홀로그램 매체가 단기간에 제조될 수 있다.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 마스터 홀로그램 매체 제조 방법이 제공된다. 이 마스터 홀로그램 매체 제조 방법은, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체를 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치하는 단계; 및 상기 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 구면파 광 및 참조 광을 이들 광이 상기 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 조사함으로써 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램을 형성하는 단계 -상기 구면파 광과 참조 광은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 초점을 가짐- 를 구비한다.

본 발명의 상기 실시예에서는, 소정의 간격으로 배치된 마스터 홀로그램 매체의 각각에 마스터 홀로그램이 형성될 수 있다. 따라서, 마스터 홀로그램 매체 사이에 홀로그램 매체를 배치하고 마스터 홀로그램에 참조 광을 반복적으로 조사함으로써, 단기간에 다량의 홀로그램 매체에 다량의 홀로그램이 형성될 수 있다.

상기 마스터 홀로그램 매체와 홀로그램 매체의 각각은 디스크 형상을 가질 수 있으며, 마스터 홀로그램 매체는 홀로그램 매체의 직경보다 큰 직경을 가질 수 있다.

참조 광은 구면파 광이 전파되는 방향과 반대되는 방향으로 마스터 홀로그램 매체에 수직하게 입사되는 것이 바람직하다.

이 구조에서는, 구면파 광 및 참조 광이 마스터 홀로그램에 일 방향으로부터 입사되게 하는 것이 필요할 뿐이다. 따라서, 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램을 형성하기 위한 장치의 부품 수가 감소될 수 있으며, 비용 절감이 실현될 수 있다.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기록 매체가 제공된다. 이 기록 매체는, 그 안에 마스터 홀로그램이 형성되는 제1 마스터 홀로그램 매체, 및 상기 제1 마스터 홀로그램 매체와 대면하도록 소정 간격으로 배치될 때 한 점에 대해서 제1 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성되는 위치와 대칭적인 위치에 동일한 마스터 홀로그램이 형성되는 제2 마스터 홀로그램 매체를 구비하며, 제1 및 제2 마스터 홀로그램 매체 내의 점대칭을 갖는 위치에 형성되는 동일한 마스터 홀로그램의 간섭 무늬가 선과 점 중 하나에 대해 상호 대칭적이다.

본 발명의 이 실시예에서는, 전술한 구조를 갖는 마스터 홀로그램 매체 쌍을 사용함으로써, 다량의 홀로그램 매체의 각각에 다량의 마이크로홀로그램이 단기간에 전사될 수 있다.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 홀로그램 매체 제조 장치가 제공된다. 이 홀로그램 매체 제조 장치는, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체를 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치하기 위한 수단; 상기 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 구면파 광 및 참조 광을 이들 광이 상기 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 조사함으로써 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램을 형성하도록 구성된 광학 기구 -상기 구면파 광과 참조 광은 상기 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 초점을 가짐-; 상기 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 홀로그램 매체를 배치하고 고정하기 위한 수단; 및 상기 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 참조 광을 조사함으로써 홀로그램 매체 내에 홀로그램을 형성하기 위한 노광 수단을 구비한다.

본 발명의 상기 실시예에서는, 마스터 홀로그램 매체 쌍이 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치되는 상태에서 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램을 형성함으로써, 마스터 홀로그램 매체 쌍의 반복적인 사용에 의해 단기간에 다수의 홀로그램 매체 내에 다량의 홀로그램이 형성될 수 있다. 즉, 일단 제조된 마스터 홀로그램 매체 사이에 홀로그램 매체를 배치하고 마스터 홀로그램에 참조 광을 반복적으로 조사함으로써, 단기간에 다량의 홀로그램 매체에 다량의 홀로그램이 형성될 수 있다.

전술했듯이, 본 발명의 실시예들에 의하면, 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치되고 그 각각에 마스터 홀로그램이 형성되는 마스터 홀로그램 매체 쌍을 사용함으로써, 단기간에 홀로그램 매체에 다량의 정보가 기록될 수 있다.

본 발명의 상기 및 기타 목적, 특징 및 장점은 첨부도면에 도시하듯이, 후술하는 그 최선의 실시예에 대한 상세한 설명을 참조할 때 더 명백해질 것이다.

이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참조하여 설명할 것이다.

도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스터 홀로그램 제조 방법의 원리를 도시하는 순서도이다.

도1에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체가 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치된다(ST101).

상기 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이의 위치에 포커싱되는 구면파 광 및 참조 광은 각각의 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 출사된다(ST102). 그 결과, 각각의 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성된다.

한 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 홀로그램 매체가 배치된다(ST103).

한 쌍의 마스터 홀로그램 매체 내에 형성된 마스터 홀로그램에 평면파 참조 광이 조사되고, 마스터 홀로그램에서 발생된 구면파 광선들은 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하게 됨으로써 홀로그램 매체 내에 홀로그램을 형성한다(ST104).

이하, 마스터 홀로그램 및 마이크로홀로그램의 기록 원리에 대해 도2 내지 도9를 참조하여 설명할 것이다.

도2는 마스터 홀로그램 기록 원리(1)를 설명하기 위한 도면이다. 도3은 마이크로홀로그램 기록 원리(1)를 설명하기 위한 도면이다.

도2에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)는 그 외주를 매체 고정 부재(3)로 고정함으로써 이들 마스터 홀로그램 매체(1, 2)가 서로 대면하도록 소정의 간격(h)으로 평행하게 배치된다. 이 경우, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에는, 홀로그램 매체(6)(후술됨)와 (거의) 동일한 굴절율 및 두께를 갖는 교정 판(4)이 배치된다. 교정 판(4)은 예를 들어 유리로 만들어진다.

도2에 도시하듯이, 대물 렌즈(5)에는 평면파 광(P)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에는 구면파 광(S)이 입사하게 된다. 참조 광(R)은 구면파 광(S)이 전파되는 방향과 반대되는 방향으로 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 수직으로 입사하게 된다. 참조 광(R)은 구면파 광(S)에 대해 가간섭적이다. 이때, 구면파 광(S)과 참조 광(R)의 광축은 서로 일치하며, 따라서 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 초점(f)이 위치한다. 그 결과, 구면파 광(S)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 내에서 상호 간섭하며, 결과적으로 마스터 홀로그램 매체(1) 내에 마스터 홀로그램(H1)이 형성되고 마스터 홀로그램 매체(2) 내에 마스터 홀로그램(H2)이 형성된다.

도3에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에는 홀로그램 매체(6)가 배치된다. 홀로그램 매체(6)는 예를 들어 쓰기가능한 또는 읽기-전용(ROM) 매체이다. 홀로그램 매체(6) 내에 형성된 홀로그램은 기록 정보, 어드레스 정보, 또는 서보 정보로서 작용한다.

도3에 도시하듯이, 참조 광(R)은 도2에 도시된 구면파 광(S)이 전파되는 방향과 반대되는 방향으로 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 수직하게 입사하게 된다.

참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(2)의 외측으로부터 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 수직하게 입사하며, 거울(M)에 의해 반사된다. 거울(M)에 의해 반사된 참조 광(R2)은 다시 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 입사하여 이를 투과한다. 참조 광(R)과 참조 광(R2)은 서로에 대해 가간섭적이다.

참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(1)의 마스터 홀로그램(H1)을 투과할 때, 구면파 광(S1)이 발생된다. 참조 광(R2)이 마스터 홀로그램 매체(2)의 마스터 홀로그램(H2)을 투과할 때, 구면파 광(S2)이 발생된다. 그 결과, 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)은 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭하며, 따라서 에너지 밀도가 높은 초점(f) 근처에서만 마이크로홀로그램(H3)을 형성한다.

대물 렌즈(5)의 수차는 홀로그램 매체(6)의 두께에 기초하여 교정된다[그 이유는 마이크로홀로그램(H3)이 회절-제한된 광 스폿으로 기록되기 때문이다]. 예를 들어, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)와 홀로그램 매체(6)가 동일한 굴절율을 갖고 마스터 홀로그램 매체[1(2)]의 두께가 홀로그램 매체(6)의 대략 절반일 때, 초점 위치에 발생하는 광 스폿의 수차 교정이 보상된다.

도4는 마스터 홀로그램 기록 원리(2)를 설명하기 위한 도면이다. 도5는 마이크로홀로그램 기록 원리(2)를 설명하기 위한 도면이다.

도4에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)는 그 외주를 매체 고정 부재(3)로 고정함으로써 서로 대면하도록 소정의 간격(h)으로 상호 평행하게 배치된다. 이 경우, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에는, 홀로그램 매체(6)와 (거의) 동일한 굴절율 및 두께를 갖는 교정 판(4)이 배치된다. 교정 판(4)은 예를 들어 유리로 만들어진다.

도4에 도시하듯이, 대물 렌즈(5)에는 평면파 광(P)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(1)에는 구면파 광(S)이 입사하게 된다. 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1)의 외측으로부터 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사하게 된다. 이 때, 초점(f)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 위치한다. 그 결과, 구면파 광(S)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 내에서 상호 간섭하며, 그 결과 마스터 홀로그램 매체(1) 내에 마스터 홀로그램(H1)이 형성되고 마스터 홀로그램 매체(2) 내에 마스터 홀로그램(H2)이 형성된다.

도5에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 홀로그램 매체(6)가 배치된다.

도5에 도시하듯이, 참조 광(R)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 외측들로부터 반대 방향으로 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사하게 된다. 마스터 홀로그램 매체(1)에 입사되는 참조 광(R)과 마스터 홀로그램 매체(2)에 입사되는 참조 광(R)은 서로에 대해 가간섭적이다.

참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(1)의 마스터 홀로그램(H1)에 입사할 때, 구면파 광(S1)이 발생된다. 참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(2)의 마스터 홀로그램(H2)에 입사할 때, 구면파 광(S2)이 발생된다. 그 결과, 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)은 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭하며, 따라서 에너지 밀도가 높은 초점(f) 근처에서만 마이크로홀로그램(H3)을 형성한다.

도6은 마스터 홀로그램 기록 원리(3)를 설명하기 위한 도면이다. 도7은 마이크로홀로그램 기록 원리(3)를 설명하기 위한 도면이다.

도6에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)는 그 외주를 매체 고정 부재(3)로 고정함으로써 서로 대면하도록 소정의 간격(h)으로 상호 평행하게 배치된다. 이 경우, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에는, 홀로그램 매 체(6)와 (거의) 동일한 굴절율 및 두께를 갖는 교정 판(4)이 배치된다.

도6에 도시하듯이, 대물 렌즈(5)에는 평면파 광(P)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에는 구면파 광(S)이 입사하게 된다. 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 외측들로부터 반대 방향으로 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사하게 된다. 이때, 초점(f)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 위치한다. 그 결과, 구면파 광(S)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 내에서 상호 간섭하며, 그 결과 마스터 홀로그램 매체(1) 내에 마스터 홀로그램(H1)이 형성되고 마스터 홀로그램 매체(2) 내에 마스터 홀로그램(H2)이 형성된다.

도7에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 홀로그램 매체(6)가 배치된다.

도7에 도시하듯이, 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1)의 외측으로부터 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 마스터 홀로그램(H1, H2)에 경사 입사하게 된다. 마스터 홀로그램 매체(1)에 입사되는 참조 광(R)과 마스터 홀로그램 매체(2)에 입사되는 참조 광(R)은 서로에 대해 가간섭적이다. 마스터 홀로그램 매체(1)에 입사되는 참조 광(R)과 마스터 홀로그램 매체(2)에 입사되는 참조 광(R)은 동일한 레이저 광원으로부터 출사되는 동일한 광일 수도 있다. 또한, 마스터 홀로그램 매체(1)와 교정 판(4)을 투과한 평면파 참조 광이, 마스터 홀로그램 매체(2)에 출사될 참조 광(R)일 수도 있다.

참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(1)의 마스터 홀로그램(H1)에 입사할 때, 구면파 광(S1)이 발생된다. 참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(2)의 마스터 홀로 그램(H2)에 입사할 때, 구면파 광(S2)이 발생된다. 그 결과, 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)은 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭하며, 따라서 에너지 밀도가 높은 초점(f) 근처에서만 마이크로홀로그램(H3)을 형성한다.

도8은 마스터 홀로그램 기록 원리(4)를 설명하기 위한 도면이다. 도9는 마이크로홀로그램 기록 원리(4)를 설명하기 위한 도면이다.

도8에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)는 그 외주를 매체 고정 부재(3)로 고정함으로써 서로 대면하도록 소정의 간격(h)으로 상호 평행하게 배치된다. 이 경우, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에는 교정 판(4)이 배치된다.

도8에 도시하듯이, 대물 렌즈(5)에는 평면파 광(P1)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(1)에는 구면파 광(S1)이 입사하게 된다. 대물 렌즈(5')에는 평면파 광(P2)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(2)에는 구면파 광(S2)이 입사하게 된다. 참조 광(R)과 구면파 광(S1) 및 구면파 광(S2)은 서로에 대해 가간섭적이다. 이때, 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)의 초점(f)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 위치한다. 즉, 대물 렌즈(5, 5')의 광축은 상호 완전히 일치하게 된다. 또한, 대물 렌즈(5, 5')의 초점(f)은 상호 완전히 일치하게 된다. 참조 광(R)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 외측들로부터 그리고 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)이 전파되는 영역에 대해 동일한 측으로부터[도8에서 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)의 전파 영역의 우측으로부터] 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사하게 된다. 그 결과, 구면파 광(S1)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1) 내에서 상호 간섭하며, 그 결과 마스터 홀로그램 매체(1) 내에 마스터 홀로그램(H1)이 형성된다. 또한, 구면파 광(S2)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(2) 내에서 상호 간섭하며, 그 결과 마스터 홀로그램 매체(2) 내에 마스터 홀로그램(H2)이 형성된다.

도9에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 홀로그램 매체(6)가 배치된다.

도9에 도시하듯이, 참조 광(R)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 외측들로부터 그리고 마스터 홀로그램(H1, H2)에 대해 동일한 측으로부터[도9에서 마스터 홀로그램(H1, H2)의 우측으로부터] 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사하게 된다.

참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(1)의 마스터 홀로그램(H1)에 입사할 때, 구면파 광(S1)이 발생된다. 참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(2)의 마스터 홀로그램(H2)에 입사할 때, 구면파 광(S2)이 발생된다. 그 결과, 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)은 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭하며, 이는 에너지 밀도가 높은 초점(f) 근처에서만 마이크로홀로그램(H3)을 형성한다.

도10은 마스터 홀로그램 기록 원리(5)를 설명하기 위한 도면이다. 도11은 마이크로홀로그램 기록 원리(5)를 설명하기 위한 도면이다.

도10에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)는 그 외주를 매체 고정 부재(3)로 고정함으로써 서로 대면하도록 소정의 간격(h)으로 상호 평행하게 배치된다.

도10에 도시하듯이, 대물 렌즈(5)에는 평면파 광(P1)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(1)에는 구면파 광(S1)이 입사하게 된다. 대물 렌즈(5')에는 평면파 광(P2)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(2)에는 구면파 광(S2)이 입사하게 된다. 이때, 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)의 초점(f)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 위치한다. 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1)의 외측으로부터 그리고 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)이 전파되는 영역에 대해 동일한 측으로부터[도10에서 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)의 전파 영역의 우측으로부터] 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사하게 된다. 마스터 홀로그램 매체(1)에 입사되는 참조 광(R)과 마스터 홀로그램 매체(2)에 입사되는 참조 광(R)은 동일한 레이저 광원으로부터 출사되는 동일한 광일 수 있다. 그 결과, 구면파 광(S1)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1) 내에서 상호 간섭하며, 그 결과 마스터 홀로그램 매체(1) 내에 마스터 홀로그램(H1)이 형성된다. 또한, 구면파 광(S2)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(2) 내에서 상호 간섭하며, 그 결과 마스터 홀로그램 매체(2) 내에 마스터 홀로그램(H2)이 형성된다. 마스터 홀로그램 매체(1)와 교정 판(4)을 투과한 평면파 참조 광이, 마스터 홀로그램 매체(2)에 입사되는 참조 광(R)일 수 있다.

도11에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에는 홀로그램 매체(6)가 배치된다.

도11에 도시하듯이, 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1)의 외측으로부터 그리고 마스터 홀로그램(H1, H2)에 대해 동일한 측으로부터[도11에서 마스터 홀로 그램(H1, H2)의 우측으로부터] 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사하게 된다. 마스터 홀로그램 매체(1)에 입사되는 참조 광(R)과 마스터 홀로그램 매체(2)에 입사되는 참조 광(R)은 동일한 레이저 광원으로부터 출사되는 동일한 광일 수도 있다.

참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(1)의 마스터 홀로그램(H1)에 입사할 때, 구면파 광(S1)이 발생된다. 참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(2)의 마스터 홀로그램(H2)에 입사할 때, 구면파 광(S2)이 발생된다. 그 결과, 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)은 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭하며, 따라서 에너지 밀도가 높은 초점(f) 근처에서만 마이크로홀로그램(H3)을 형성한다. 마스터 홀로그램 매체(1)와 교정 판(4)을 투과한 평면파 참조 광이, 마스터 홀로그램 매체(2)에 입사되는 참조 광(R)일 수도 있다.

도12는 마스터 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도이다. 도13은 마스터 홀로그램 매체(1, 2)가 매체 고정 부재에 의해 고정되어 있는 상태를 도시하는 사시도이다.

도12에 도시하듯이, 마스터 홀로그램 노광 장치(10)는 스핀들(7), 매체 고정 부재(3), 대물 렌즈(5), 및 레이저 광원(8)을 구비한다. 스핀들(7)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2)를 착탈가능하게 부착할 수 있다. 매체 고정 부재(3)는 스핀들(7)에 부착되는 마스터 홀로그램 매체(1, 2)를 위치 고정시킨다. 대물 렌즈(5)는 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 구면파 광(S)을 조사하기 위해 사용된다. 레이저 광원(8)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 참조 광(R)을 조사한다.

도13에 도시하듯이, 매체 고정 부재(3)는 디스크형 마스터 홀로그램 매체(1)의 외주를 가압 및 고정하기 위해 대략 링 형상을 갖는다. 매체 고정 부재(3)에 의해, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)는 상호 대면하도록 소정 간격(h)만큼 이격된 상태로 위치 고정된다. 도13에 도시하듯이, 마스터 홀로그램(H4)은 마스터 홀로그램 매체(1)의 복수의 트랙(T1, T2, T3)을 따라서 나선형으로 형성된다.

스핀들(7)은 디스크형 마스터 홀로그램 매체(1, 2)와 디스크형 교정 판(4)이 부착된 상태로 구동부(도시되지 않음)에 의해 회전될 수 있다. 교정 판(4)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에서 스핀들(7)에 부착된다.

대물 렌즈(5) 및 복수의 렌즈를 구비하는 릴레이 렌즈(9)는 후술하는 광학계의 일부를 구성한다. 대물 렌즈(5)는 릴레이 렌즈(9)로부터의 평면파 광(P)이 구면파 광(S)이 되게 한다. 레이저 광원(도12에는 도시되지 않음)으로부터의 레이저광은 릴레이 렌즈(9)에 입사하고, 릴레이 렌즈(9)는 마스터 홀로그램 매체(1)의 두께 방향으로 구면파 광(S)의 초점(f)의 위치를 조절하기 위해 사용된다.

레이저 광원(8)은 평면파 레이저 광원으로서 기능하며, 평면파로서의 참조 광(R)이 구면파 광(S)의 전파 방향에 반대되는 방향으로 마스터 홀로그램 매체(2)에 수직으로 입사되게 한다.

마스터 홀로그램 노광 장치(10)는 또한 대물 렌즈(5), 릴레이 렌즈(9), 및 레이저 광원(8)을 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 반경방향(r)으로 이동시키기 위한 이동 구동 기구(도시되지 않음)를 구비한다. 이동 구동 기구는 모터 등으로 구성된다.

도14는 홀로그램 노광 장치의 부분 단면도이다.

도14에 도시하듯이, 홀로그램 노광 장치(20)는 광원 레이저(21), 셔터(22), 노광 제어 장치(23), 거울(24), 렌즈(25), 렌즈(26), 및 거울(27)을 구비한다.

광원 레이저(21)는 홀로그램 매체(6) 내에 마이크로홀로그램을 형성하기 위한 평면파 광을 출사하기 위한 레이저 광원으로서 작용한다.

셔터(22)는 광원 레이저(21)로부터 출사되어 셔터(22)를 투과하는 레이저광의 양을 조절한다.

노광 제어 장치(23)는 셔터(22)를 투과하는 레이저광의 양을 제어한다.

거울(24)은 광원 레이저(21)로부터 출사된 레이저광을 렌즈(25)를 향하여 반사시킨다.

렌즈(25)는 거울(24)로부터 입사되는 레이저광을 발산시키며, 발산된 레이저광이 렌즈(26)에 입사되게 한다.

렌즈(26)는 레이저광이 평면파 광이 되게 하고, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 입사되게 한다.

거울(27)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2)를 투과한 레이저광을 반사시키며, 반사된 레이저광이 다시 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 입사되게 한다.

다음으로, 도12에 도시된 마스터 홀로그램 노광 장치(10)를 사용하여 마스터 홀로그램 매체(1, 2)를 제조하는 방법, 및 도14에 도시된 홀로그램 노광 장치(20)를 사용하여 홀로그램 매체(6)를 제조하는 방법에 대해 설명할 것이다.

도15는 홀로그램 매체(6)에 홀로그램을 기록하는 방법을 도시하는 순서도이 다. 도16은 그 각각에 있어서 그 하나의 기록층에 마스터 홀로그램이 기록되는 마스터 홀로그램 매체(1, 2)를 도시하는 부분 단면도이다. 도17은 그 각각에 있어서 다른 기록층에 마스터 홀로그램이 기록되는 마스터 홀로그램 매체를 도시하는 부분 단면도이다. 도18은 마이크로홀로그램이 형성되는 홀로그램 매체를 도시하는 부분 단면도이다.

도12에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)는 스핀들(7)에 부착되고, 그 외주가 매체 고정 부재(3)에 의해 고정되며, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)는 소정 간격(h)만큼 이격된 상태로 상호 평행하게 대면하도록 세팅된다(ST1301).

릴레이 렌즈(9)는 구면파 광(S)의 초점을 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이의 소정 위치에 세팅하도록 제어되며, 레이저 광원(8)은 소정의 위치에 참조 광(R)을 조사한다(ST1302).

대물 렌즈(5)와 레이저 광원(8)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2)가 회전하는 동안 마스터 홀로그램 매체(1)의 반경방향(r)으로 이동된다. 이때, 후술하는 광학 기구(광학계)에 의해 레이저 광원(8)에 대해 온/오프 제어가 수행되며, 이로 인해 평면파 광(P)의 온/오프 제어 및 마스터 홀로그램(H4)이 형성되는 위치를 결정하기 위한 제어가 수행된다. 그 결과, 평면파 광(P)이 조사되는 동안, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)는 참조 광(R)과 간섭하며, 마스터 홀로그램(H4, H5)은 도12, 도13, 도16에 도시하듯이 각각 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 나선형으로 형성된다(ST1303).

한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)는 스핀들(7)로부터 분리된다(ST1304).

도12에 도시하듯이, 다른 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1', 2')가 스핀들(7)에 부착되고, 매체 고정 부재(3)에 의해 상호 평행하게 고정된다(ST1305).

도12에 도시된 릴레이 렌즈(9)의 위치는 구면파 광(S)의 초점(f) 위치를 마스터 홀로그램 매체(1)의 두께 방향으로 위치변경(dislocate)시키도록 조절되며, 스핀들(7)은 회전되고, 대물 렌즈(5)와 레이저 광원(8)은 반경 방향(r)으로 이동된다(ST1306). 그 결과, 도17에 도시하듯이, 마스터 홀로그램(H6, H7)은 마스터 홀로그램 매체(1', 2')의 소정 위치에 각각 나선형으로 형성된다.

마찬가지로, ST1304 내지 ST1306이 소정의 기록 층만큼의 횟수로 반복 수행됨으로써, 여러 쌍의 마스터 홀로그램 매체가 형성되고, 각각의 마스터 홀로그램 매체 쌍에서는 마스터 홀로그램이 소정의 기록층에 나선형으로 형성된다(ST1307).

도14에 도시하듯이, 홀로그램 매체(6)는 홀로그램 노광 장치(20)를 사용하여 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 배치된다(ST1308).

광원 레이저(21)는 레이저광을 출사한다. 출사된 레이저광의 투과량은 셔터(22)에 의해 제어된다. 셔터(22)를 투과한 레이저광은 거울(24)에 의해 반사되어, 렌즈(25)에서 발산되며, 렌즈(26)를 통해서 평면파가 되고, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에는 참조 광(R)으로서 입사하게 된다.

도14에 도시하듯이, 참조 광(R1)은 도12에 도시된 구면파 광(S)이 전파되는 방향과 반대되는 방향으로 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 각각에 수직하게 입사하게 된다. 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 입사하여 이를 투과한 참조 광(R1)은 거 울(27)에 의해 반사되고, 참조 광(R1)이 거울(27)에 의해 반사될 때 발생하는 참조 광(R2)은 다시 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 입사하여 이를 투과한다.

참조 광(R1)이 마스터 홀로그램 매체(1)의 마스터 홀로그램(H4)을 투과할 때, 구면파 광(S4)이 발생된다. 참조 광(R2)이 마스터 홀로그램 매체(2)의 마스터 홀로그램(H5)을 투과할 때, 구면파 광(S5)이 발생된다. 그 결과, 구면파 광(S4)과 구면파 광(S5)은 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭하며, 그 결과 도18에 도시된 마이크로홀로그램(H8)이 형성된다(ST1309).

도16에 도시된 마스터 홀로그램 매체(1, 2)를 홀로그램 노광 장치(20)로부터 분리하고, 도17에 도시된 마스터 홀로그램 매체(1', 2')를 도14에 도시된 홀로그램 노광 장치(20)에 세팅한다(ST1310).

참조 광(R1)이 도17에 도시된 마스터 홀로그램 매체(1')의 마스터 홀로그램(H6)을 투과할 때, 마찬가지로 구면파 광(도시되지 않음)이 발생된다. 참조 광(R2)이 도17에 도시된 마스터 홀로그램 매체(2')의 마스터 홀로그램(H7)을 투과할 때, 마찬가지로 구면파 광이 발생된다. 그 결과, 이들 구면파 광은 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭하며, 그 결과 도18에 도시된 마이크로홀로그램(H9)이 형성된다(ST1311).

ST1310 내지 ST1311을 소정 횟수 반복 수행함으로써, 그 소정 기록층에 홀로그램 그룹이 형성되는 홀로그램 매체(6)가 제조될 수 있다(ST1312).

도19는 본 발명의 실시예에 따른 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 상세 구조를 도시하는 단면도이다.

도19는 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 각각에 예를 들어 두 층의 마스터 홀로그램(h1, h2)이 형성되는 예를 도시한다. 도12에 도시하듯이, 구면파 광(S)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 내에서 상호 간섭하며, 도19에 도시하듯이 간섭 무늬(fringe)가 형성되고, 마스터 홀로그램(h1, h2)은 다른 층에 형성된다.

구체적으로, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)가 도19에 도시하듯이 소정의 간격으로 상호 대면하도록 배치될 때, 본 발명의 실시예에 따른 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 내의 한 지점[한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 중심축 상의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)로부터 등거리에 있는]에 대해 대칭적인 위치에 동일한 마스터 홀로그램이 형성된다. 동일한 마스터 홀로그램은 (한 쌍의 마스터 홀로그램으로부터 등거리에 있는) 라인에 대해 대칭적인 간섭 무늬를 형성한다. 이들 위치에 형성된 마스터 홀로그램은 한 지점(한 쌍의 마스터 홀로그램의 중심축 상의 마스터 홀로그램들로부터 등거리에 있는)에 대해 대칭적인 간섭 무늬일 수 있음을 알아야 한다.

전술한 구조를 갖는 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 사용에 의해, 단기간에 다량의 홀로그램 매체(6)에 다량의 마이크로홀로그램(H3)이 전사될 수 있다.

마이크로홀로그램 매체 제조 방법의 제1 변형예에 대해 설명할 것이다. 제1 변형예 및 후속 변형예에 있어서 상기 실시예의 구성요소와 동일한 구성요소는 동일한 참조부호로 지칭될 것이며, 그 설명은 생략하고 상이한 점을 주로 설명할 것 임에 유의해야 한다.

도20은 제1 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치의 부분 단면도이다.

도20에 도시하듯이, 마스터 홀로그램 노광 장치(30)는 레이저 광원(8) 대신에 레이저 광원(31)을 구비하며, 레이저 광원(31)으로부터 출사된 레이저광이 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사되게 하는 거울(32)을 더 구비한다.

레이저 광원(31)은 레이저광을 출사하고, 레이저광이 거울(32)에 입사되게 한다.

거울(32)은 레이저 광원(31)으로부터 출사된 레이저광이 마스터 홀로그램 매체(1)의 외측으로부터 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 참조 광(R)으로서 경사 입사되게 한다.

도20에 도시하듯이, 대물 렌즈(5)에는 평면파 광(P)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(1)에는 구면파 광(S)이 입사하게 되며, 참조 광(R)은 거울(32)에 의해 반사되어 마스터 홀로그램 매체(1)의 외측으로부터 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사하게 된다. 이때, 초점(f)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 세팅된다. 그 결과, 구면파 광(S)과 참조 광(P)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 내에서 상호 간섭하며, 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 내에는 마스터 홀로그램(H1, H2)이 각각 형성된다.

이 구조에서는, 구면파 광(S)을 형성하기 위해서는 평면파 광(P)을 출사하는 단일 광원(도시되지 않음)을 제공하는 것이 필요할 뿐이다. 따라서, 마스터 홀로그램 노광 장치(30)의 부품 수가 감소될 수 있고 경비 절감이 달성될 수 있다. 또 한, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에는 레이저 광원(31)으로부터 출사된 레이저광이 참조 광(P)으로서 조사될 수 있다. 따라서, 광원 및 렌즈와 같은 부품의 수가 감소될 수 있으며, 추가적인 비용 절감이 달성될 수 있다.

도21은 제1 변형예의 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도이다.

도21에 도시된 홀로그램 노광 장치(40)는 도20에 도시된 마스터 홀로그램 노광 장치(30)가 사용될 때 사용된다.

도21에 도시하듯이, 홀로그램 노광 장치(40)는, 도14에 도시된 홀로그램 노광 장치(20)와 달리, 도14에 도시된 렌즈(26), 거울(27) 등을 대신하여, 원추형 거울(41)과 역원추형 거울(42)을 구비한다.

원추형 거울(41)은 그 모선(母線:generatrix) 상의 부분들에서 평면파 광(P1)을 반사시켜 원추형 광(C1)을 발생시키며, 이렇게 발생된 원추형 광(C1)이 마스터 홀로그램 매체(1)에 참조 광으로서 입사되게 한다. 원추형 거울(41)은 마스터 홀로그램 매체(1)의 중심에 대략 일치하는 위치에, 마스터 홀로그램 매체(1)로부터 이격된 상태로 제공된다.

역원추형 거울(42)은 그 경사 곡면(모선) 상의 부분들에서 평면파 광(P2)을 반사시켜 원추형 광(C2)을 발생시키며, 이렇게 발생된 원추형 광(C2)이 마스터 홀로그램 매체(2)에 참조 광으로서 입사되게 한다. 역원추형 거울(42)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 대해 원추형 거울(41)과 반대되는 측에서 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 외주 밖에 환형으로 배치된다.

도21에 도시된 평면파 광(P1)과 평면파 광(P2)은 예를 들어 도14에 도시된 바와 같이 광원 레이저(21)로부터 출사되고, 렌즈(26)를 투과하여 발생될 것이다. 평면파 광(P1)과 평면파 광(P2)은 상호 가간섭적이다.

도21에 도시하듯이, 참조 광으로서의 원추형 광(C1)과 원추형 광(C2)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 외측으로부터 동시에 반대방향으로 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 마스터 홀로그램(H1, H2)에 경사 입사하게 된다.

참조 광으로서의 원추형 광(C1)이 마스터 홀로그램 매체(1)의 마스터 홀로그램(H1)에 입사할 때, 다수의 구면파 광선(S1)이 발생된다. 참조 광으로서의 원추형 광(C2)이 마스터 홀로그램 매체(2)의 마스터 홀로그램(H2)에 입사할 때, 다수의 구면파 광선(S2)이 발생된다. 그 결과, 다수의 구면파 광선(S1)과 구면파 광선(S2)이 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭하며, 따라서 다수의 마이크로홀로그램(H3)이 동시에 형성된다.

이 구조에서는, 원추형 거울(41)에 평면파 광(P1)이 조사되고, 평면파 광(P1)은 원추형 거울(41)의 모선(b) 상의 부분들에서 반사되며, 다수의 마스터 홀로그램(H1)에 원추형 광(C1)이 동시에 조사된다. 또한, 역원추형 거울(42)에 평면파 광(P2)이 조사되고, 평면파 광(P2)은 역원추형 거울(42)의 경사 곡면 부분들에서 반사되며, 다수의 마스터 홀로그램(H2)에 원추형 광(C2)이 동시에 조사될 수 있다. 따라서, 다량의 마이크로홀로그램(H3)이 동시에 형성될 수 있으며, 그 결과 홀로그램 매체(6)가 단기간에 형성될 수 있다.

도22는 제2 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도이다.

도22에 도시하듯이, 마스터 홀로그램 노광 장치(50)는, 도20에 도시된 마스터 홀로그램 노광 장치(30)와 달리 거울(51)을 구비한다.

거울(32)은 입사되는 참조 광(R)을 반사시키며, 반사된 참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(1)의 외측으로부터 마스터 홀로그램 매체(1)에 경사 입사되게 한다. 입사되는 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1) 내에서 구면파 광(S)과 간섭하며, 그로 인해 마스터 홀로그램(H1)이 형성된다.

거울(51)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 외주 밖에 배치된다. 거울(51)은 입사되는 참조 광(R)을 반사시키며, 반사된 참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(2)에 그 외측으로부터 경사 입사되게 한다. 거울(51)에 의해 반사된 참조 광(R)은 거울(32)에 의해 반사된 참조 광(R)과 반대 방향으로 이동한다. 마스터 홀로그램 매체(2)에 입사한 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(2) 내에서 구면파 광(S)과 간섭하며, 그로 인해 마스터 홀로그램(H2)이 형성된다.

이 구조에서는, 마스터 홀로그램(H1)이 마스터 홀로그램 매체(1) 내에 형성될 수도 있고, 마스터 홀로그램(H2)이 마스터 홀로그램 매체(2) 내에 나선형으로 형성될 수도 있다.

도23은 제2 변형예의 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도이다.

도23에 도시하듯이, 홀로그램 노광 장치(60)는 원추형 거울(61)을 구비한다. 원추형 거울(61)은 그 모선(b) 상의 부분들에서 원추형 거울(61)에 입사되는 평면파 광(P1)을 참조 광으로서 반사시키며, 반사된 원추형 광(C1)이 마스터 홀로그램 매체(1)의 외측으로부터 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사되게 한다.

참조 광으로서의 원추형 광(C1)은 마스터 홀로그램 매체(1)의 마스터 홀로그램(H1)에 입사하여 구면파 광(S1)을 발생시킨다. 또한, 참조 광으로서의 원추형 광(C1)은 마스터 홀로그램 매체(2)의 마스터 홀로그램(H2)에 입사하여 구면파 광(S2)을 발생시킨다. 그 결과, 구면파 광(S1)과 구면파 광(S2)은 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭하며, 따라서 마이크로홀로그램(H3)이 형성된다.

도24는 제3 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도이다.

도24에 도시하듯이, 마스터 홀로그램 노광 장치(70)는, 도22에 도시된 마스터 홀로그램 노광 장치(50)와 달리, 거울(51) 대신에 대물 렌즈(71)와 거울(72)을 더 구비한다.

대물 렌즈(71)는 그것에 입사되는 평면파 광(P2)이 구면파 광(S2)이 되게 한다. 구면파 광(S2)의 초점(f)은 대물 렌즈(5)를 투과한 구면파 광(S)의 초점(f)과 일치한다. 구면파 광(S) 및 구면파 광(S1)의 광축은 예를 들어 마스터 홀로그램 매체(1)에 수직하도록 세팅된다.

거울(72)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 대해 거울(32)과 대칭적인 위치에 배치된다. 거울(72)은 거울(72)에 입사한 참조 광(R)을 반사시키며, 반사된 참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(2)의 외측으로부터 마스터 홀로그램 매체(2)에 경사 입사되게 한다.

도24에 도시하듯이, 대물 렌즈(5)에는 평면파 광(P)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(1)에는 구면파 광(S)이 입사하게 된다. 또한, 대물 렌즈(71)에는 평 면파 광(P2)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(2)에는 구면파 광(S2)이 입사하게 된다. 이때, 구면파 광(S)의 초점(f)과 구면파 광(S2)의 초점(f)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이의 동일 위치에 배치된다. 참조 광(R)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 외측들로부터 그리고 구면파 광(S)과 구면파 광(S2)이 전파되는 영역에 대해 동일한 측으로부터[도24에서 구면파 광(S)과 구면파 광(S2)이 전파되는 영역의 우측으로부터] 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사하게 된다. 그 결과, 구면파 광(S)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1) 내에서 상호 간섭하며, 따라서 마스터 홀로그램 매체(1) 내에 마스터 홀로그램(H1)이 형성된다. 또한, 구면파 광(S2)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(2) 내에서 상호 간섭하며, 따라서 마스터 홀로그램 매체(2) 내에 마스터 홀로그램(H2)이 형성된다.

도25는 제3 변형예의 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도이다.

도25에 도시하듯이, 홀로그램 노광 장치(80)는, 도23에 도시된 홀로그램 노광 장치(60)와 달리, 원추형 거울(81)을 더 구비한다.

원추형 거울(81)은 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 대해 원추형 거울(61)과 대칭이 되도록 배치된다. 원추형 거울(81)은 그 모선 상의 부분들에서 그것에 입사되는 평면파 광(P2)을 반사시켜 원추형 광(C3)을 발생시키며, 이렇게 발생된 원추형 광(C3)이 마스터 홀로그램 매체(2)에 입사되게 한다.

도25에 도시하듯이, 노광이 수행되기 전에, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 홀로그램 매체(6)가 배치된다.

도25에 도시하듯이, 참조 광으로서의 원추형 광(C1)은 마스터 홀로그램 매 체(1)의 외측으로부터 마스터 홀로그램 매체(1)에 경사 입사하게 되며, 참조 광으로서의 원추형 광(C3)은 마스터 홀로그램 매체(2)의 외측으로부터 마스터 홀로그램 매체(2)에 경사 입사하게 된다.

참조 광으로서의 원추형 광(C1)이 마스터 홀로그램 매체(1) 내의 다수의 마스터 홀로그램(H1)에 입사할 때, 다수의 구면파 광선(S1)이 발생된다. 참조 광으로서의 원추형 광(C3)이 마스터 홀로그램 매체(2) 내의 다수의 마스터 홀로그램(H2)에 입사할 때, 다수의 구면파 광선(S2)이 발생된다. 그 결과, 홀로그램 매체(6) 내에서 다수의 구면파 광선(S1) 및 구면파 광선(S2)이 상호 간섭하며, 따라서 다수의 마이크로홀로그램(H3)이 형성된다.

이 구조에서, 원추형 거울(61)에 의해 발생되는 원추형 광(C1)은 마스터 홀로그램 매체(1) 내의 다수의 마스터 홀로그램(H1)에 입사하게 될 수 있으며, 원추형 거울(81)에 의해 발생되는 원추형 광(C3)은 마스터 홀로그램 매체(2) 내의 다수의 마스터 홀로그램(H2)에 입사하게 될 수 있다. 그 결과, 마스터 홀로그램(H1)에 발생되는 구면파 광(S1)과 마스터 홀로그램(H2)에 발생되는 구면파 광(S2)은 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭하며, 그 결과 1회 노광에 의해 다수의 마이크로홀로그램(H3)이 단기간에 형성될 수 있다.

이를 실현하기 위해, 도24에 도시된 마스터 홀로그램 노광 장치(70)의 거울(32, 72)에 의해, 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1)의 중심측으로부터 외측으로 이동하게 될 수 있다. 즉, 참조 광(R)을 거울(72) 쪽으로 출사하는 레이저 광원(도시되지 않음)과 스핀들(7) 사이의 기계적 간섭이 회피될 수 있다.

도26은 제4 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도이다.

도26에 도시하듯이, 마스터 홀로그램 노광 장치(90)는 도24에 도시된 마스터 홀로그램 노광 장치(70)와 달리, 거울(72)을 구비하지는 않지만, 참조 광(R)을 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 쪽으로 반사시키는 거울(32)을 구비한다.

도26에 도시하듯이, 대물 렌즈(5)에는 평면파 광(P)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(1)에는 구면파 광(S)이 입사하게 된다. 대물 렌즈(71)에는 평면파 광(P2)이 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(2)에는 구면파 광(S2)이 입사하게 된다. 이때, 구면파 광(S)의 초점(f)과 구면파 광(S2)의 초점(f)은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에서 상호 일치한다. 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1)의 외측으로부터 그리고 구면파 광(S)과 구면파 광(S2)이 전파되는 영역에 대해 동일한 측으로부터[도26에서 구면파 광(S)과 구면파 광(S2)이 전파되는 영역의 우측으로부터] 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 경사 입사하게 된다. 그 결과, 구면파 광(S)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(1) 내에서 상호 간섭하며, 따라서 마스터 홀로그램 매체(1) 내에 마스터 홀로그램(H1)이 형성된다. 구면파 광(S2)과 참조 광(R)은 마스터 홀로그램 매체(2) 내에서 상호 간섭하며, 따라서 마스터 홀로그램 매체(2) 내에 마스터 홀로그램(H2)이 형성된다.

이 경우, 홀로그램 매체(6) 내에 홀로그램을 형성하기 위해, 도23에 도시된 홀로그램 노광 장치(60)가 사용된다. 그 결과, 마찬가지로 홀로그램 매체(6) 내에 홀로그램이 단기간에 형성될 수 있다.

도27은 제5 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도이다.

도27에 도시하듯이, 마스터 홀로그램 노광 장치(100)는 릴레이 렌즈(91)와 릴레이 렌즈(92)를 구비한다.

릴레이 렌즈(91)는 그 위치를 조절할 수 있는 다수의 렌즈를 구비하며, 마스터 홀로그램 매체(1)의 두께 방향으로 구면파 광(S)의 초점(f) 위치를 조절하기 위해 사용된다. 릴레이 렌즈(91)에 입사되는 평면파 광(P1)은 릴레이 렌즈(91)를 투과하며, 대물 렌즈(5)에 입사하게 된다.

릴레이 렌즈(91, 92)는 마스터 홀로그램 매체(1, 2)에 대해 상호 대칭적이도록 배치된다. 릴레이 렌즈(92)는 그 위치를 조절할 수 있는 다수의 렌즈를 구비하며, 구면파 광(S2)의 초점(f) 위치를 구면파 광(S)의 초점(f)과 매치되도록 마스터 홀로그램 매체(1)의 두께 방향으로 조절하기 위해 사용된다. 릴레이 렌즈(92)에 입사되는 평면파 광(P2)은 이를 투과하며, 대물 렌즈(71)에 입사하게 된다.

도28은 제5 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치의 초점 위치를 설명하기 위한 도면이다.

도27에 도시된 릴레이 렌즈(91)의 다수의 렌즈의 위치를 조절함으로써, 도28에 도시된 평면파 광(P1')이 발생된다. 평면파 광(P1')은 대물 렌즈(5)에 입사하고, 그 초점 위치가 초점(f2)에 대응하는 구면파 광(S1')이 발생된다.

도27에 도시된 릴레이 렌즈(92)의 다수의 렌즈의 위치를 조절함으로써, 도28에 도시된 평면파 광(P2')이 발생된다. 평면파 광(P2')은 대물 렌즈(71)에 입사하 고, 그 초점 위치가 초점(f2)에 대응하는 구면파 광(S2')이 발생된다.

즉, 릴레이 렌즈(91, 92)의 다수의 렌즈의 위치를 조절함으로써, 마스터 홀로그램 매체(1)의 두께 방향으로 구면파 광[S(S1')] 및 구면파 광[S2(S2')]의 초점 위치가 조절되며, 그 결과 초점들은 예를 들어 도28에 도시된 초점(f1 또는 f2)에서 상호 매치될 수 있다.

도29는 도27에 도시된 마스터 홀로그램 노광 장치(100)를 이용한 홀로그램 기록 방법을 도시하는 순서도이다. 도30은 그 안에 마스터 홀로그램이 형성되는 마스터 홀로그램 매체를 도시하는 부분 단면도이다.

도29에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)는 소정의 간격(h)으로 상호 대면하도록 마스터 홀로그램 노광 장치(100)의 스핀들(7)에 세팅되며, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 외주는 매체 고정 부재(3)에 의해 평행하게 고정된다(ST2701).

릴레이 렌즈(91) 및 릴레이 렌즈(92)의 다수의 렌즈의 위치는 조절되며, 구면파 광(S1) 및 구면파 광(S2)의 초점 위치는 초점(f1)에서 매치된다. 또한, 마스터 홀로그램 매체(1)에는 참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(1)의 외측으로부터 거울(32)을 통해서 경사 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(2)에는 참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(2)의 외측으로부터 거울(72)을 통해서 경사 조사된다(ST2702).

구동 모터(도시되지 않음)를 구동함으로써, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)가 회전하며, 대물 렌즈(5, 71) 등은 마스터 홀로그램 매체(1)의 반경 방향(r)으로 이동된다. 그 결과, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)와 참조 광(R)은 상호 간섭하며, 따 라서 도30에 도시하듯이 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 내에 마스터 홀로그램(H1)이 나선형으로 형성된다(ST2703).

릴레이 렌즈(91) 및 릴레이 렌즈(92)의 다수의 렌즈의 위치는 조절되며, 구면파 광(S1) 및 구면파 광(S2)의 초점 위치는 초점(f2)에서 매치되며, 마스터 홀로그램 매체(1)에는 참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(1)의 외측으로부터 거울(32)을 통해서 경사 조사되고, 마스터 홀로그램 매체(2)에는 참조 광(R)이 마스터 홀로그램 매체(2)의 외측으로부터 거울(72)을 통해서 경사 조사된다. 그 결과, 도30에 도시하듯이, 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 내에 마스터 홀로그램(H2)이 나선형으로 형성된다(ST2704). 이 프로세스는 소정 기록 층과 동일한 횟수로 반복되며, 따라서 도30에 도시하듯이 그 내부에서 복수 층에 홀로그램 그룹이 형성되는 홀로그램 매체가 제조된다(ST2705).

도25에 도시하듯이, 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 홀로그램 매체(6)가 배치되며, 그 외주는 매체 고정 부재(3)에 의해 평행하게 고정된다(ST2706).

원추형 거울(61)에 평면파 광(P1)이 입사하게 되며, 원추형 광(C1)이 발생된다. 원추형 거울(81)에 평면파 광(P2)이 입사하게 되며, 원추형 광(C2)이 발생된다.

원추형 광(C1)은 도30에 도시된 마스터 홀로그램 매체(1) 내의 마스터 홀로그램(H1)에 입사하게 되며, 따라서 다수의 구면파 광선(S1)이 발생된다. 원추형 광(C2)은 도30에 도시된 마스터 홀로그램 매체(2) 내의 마스터 홀로그램(H2)에 입 사하게 되며, 따라서 다수의 구면파 광선(S2)이 발생된다. 다수의 구면파 광선(S1, S2)은 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭되며, 따라서 도18에 도시하듯이 다수의 마이크로홀로그램(H8)이 형성된다(ST2707). 마찬가지로, 원추형 광(C1)은 도30에 도시된 마스터 홀로그램 매체(1) 내의 마스터 홀로그램(H2)에 입사하게 되며, 따라서 다수의 구면파 광선이 발생된다. 원추형 광(C2)은 도30에 도시된 마스터 홀로그램 매체(2) 내의 마스터 홀로그램(H2)에 입사하게 되며, 따라서 다수의 구면파 광선이 발생된다. 다수의 구면파 광선은 홀로그램 매체(6) 내에서 상호 간섭되며, 따라서 도18에 도시하듯이 복수 층에 다수의 마이크로홀로그램이 형성된다.

전술했듯이, 릴레이 렌즈(91, 92)의 다수의 렌즈의 위치가 조절되며, 그 결과 도18에 도시된 바와 같이 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 내에 복수 층의 홀로그램 그룹이 제조될 수 있다. 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체(1, 2)를 사용하여, 도25에 도시된 홀로그램 노광 장치(80)의 사용에 의해 한번 노광을 수행함으로써, 도18에 도시하듯이 복수 층의 홀로그램 그룹이 형성되는 홀로그램 매체(6)가 제조될 수 있다. 따라서, 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 내에 마스터 홀로그램을 형성하는 경우에, 마스터 홀로그램 노광 장치에 다른 쌍의 마스터 홀로그램 매체를 세팅할 필요가 없고, 일회의 노광이 다수의 홀로그램을 형성할 수 있으며, 이는 제작 시간을 상당히 단축할 수 있다. 그 결과, 지금까지 그 제조가 어려울 것으로 생각되었지만, 마이크로홀로그램을 사용하는 읽기-전용(ROM) 홀로그램 매체(6)가 대량 제조될 수 있다.

마스터 홀로그램 매체(1, 2) 이외의 추가적인 마스터 홀로그램 매체가 필요치 않으므로, 마스터 홀로그램 매체의 제조 비용이 절감될 수 있다.

전술했듯이 마이크로홀로그램을 사용하여 홀로그램 매체(6)의 다수의 층의 깊이에 대응하는 위치에 어드레스 정보 및 서보 정보가 미리 기록된다. 광학계를 제어하면서 상기 어드레스 정보 및 서보 정보에 기초하여 기록 정보로서 마이크로홀로그램을 형성하는 쓰기가능한 홀로그램 매체(6)가 단기간에 제조될 수 있다.

도31은 다른 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도이다.

도31에 도시하듯이, 홀로그램 노광 장치(110)에 사용되는 마스터 홀로그램 매체(1)의 직경(L1)이 홀로그램 매체(6)의 직경(L2)보다 길다. (마스터 홀로그램 매체(2)에 대해서도 마찬가지이다.)

마스터 홀로그램 매체(1, 2)와 홀로그램 매체(6)의 조합된 두께를 두께d로 표시하고, 마스터 홀로그램 매체(1)에 대한 참조 광(R)의 입사 각도를 θ로 표시하면, 마스터 홀로그램 매체(1)의 직경(L1)은 홀로그램 매체(6)의 직경(L2)보다 길이x(=d*tanθ)의 두배만큼 길다.

이 구조에서, 마스터 홀로그램 매체(1)의 직경(L1)을 홀로그램 매체(6)의 직경(L2)보다 길이x(=d*tanθ)의 두배만큼 길게 세팅함으로써, 홀로그램 매체(6)의 최외주 부분에 홀로그램을 형성할 수 있다.

대물 렌즈(5)의 개구수(NA)가 예를 들어 0.8일 때, 참조 광(R)의 입사 각도(θ)는 최소 약 55도로 세팅될 수 있다. 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 각각의 두께가 200㎛이고 홀로그램 매체(6)의 두께가 600㎛일 때, 두께d는 약 1,000㎛이고 길 이x는 1,428㎛가 된다. 이 경우, 마스터 홀로그램 매체(1, 2)의 길이(L1)가 홀로그램 매체(6)의 직경(L2)보다 길이x(=1,428㎛)의 두배만큼 길게 세팅될 때, 홀로그램은 홀로그램 매체(6)의 최외주 부분까지 형성될 수 있다. 그 결과, 대량 생산될 홀로그램 매체(6)의 노광될 수 없는 부분이 제거될 수 있다. 또한, 홀로그램 노광 장치(40)의 매체 고정 부재(3) 등은 투명한 부재로 형성되며, 이 역시 홀로그램 매체(6)에서 노광될 수 없는 부분을 제거할 수 있다.

도32는 전술한 마스터 홀로그램 노광 장치(10) 등의 광학 서보기구(120)를 도시하는 도면이다.

도32에 도시하듯이, 광학 서보기구(120)는 서보-전용 레이저(201), 렌즈(202), 빔 스플리터(203), 빔 스플리터(204), 집광 렌즈(205), 포커스 서보용 광검출기, 대물렌즈 포커스 서보 장치(207), 및 대물렌즈 액츄에이터(208)를 구비한다.

서보-전용 레이저(201)는 포커스 서보만을 위한 그 파장이 예를 들어 630nm인 포커스 서보 광(F)을 렌즈(202)를 향해 출사한다. 릴레이 렌즈(91)를 투과하는 레이저 광은 예를 들어 405nm의 파장을 가지며, 기록을 위해 사용된다.

렌즈(202)는 포커스 서보 광(F)이 빔 스플리터(203)를 향해 이동하게 한다.

빔 스플리터(203)는 포커스 서보 광(F)을 대물 렌즈(5) 쪽으로 반사시킨다.

빔 스플리터(204)는 빔 스플리터(203)로부터의 포커스 서보 광(F)이 투과되게 한다. 빔 스플리터(204)를 투과한 포커스 서보 광(F)은 대물 렌즈(5)에 의해 집광되며, 마스터 홀로그램 매체(1)의 참조면에 의해 반사된다. 마스터 홀로그램 매체(1)의 참조면은, 포커스 서보 광(F)을 반사시키지만 기록을 위한 레이저 광은 투과시키는 파장-선택적 필름으로서 기능한다. 참조면에 의해 반사된 포커스 서보 광(F)은 대물 렌즈(5)를 투과하고 빔 스플리터(204)에 입사한다. 빔 스플리터(204)는 입사되는 포커스 서보 광(F)을 집광 렌즈(205) 쪽으로 반사시킨다.

집광 렌즈(205)는 빔 스플리터(204)에 의해 반사된 포커스 서보 광(F)을 광검출기(206)에 집광시킨다.

집광 렌즈(205)로부터의 포커스 서보 광(F)에 기초하여, 광검출기(206)는 예를 들어 비점수차법에 의해 대물렌즈 포커스 서보 장치(207)에 신호를 출력한다.

광검출기(206)로부터의 신호에 기초하여, 대물렌즈 포커스 서보 장치(207)는 대물렌즈 액츄에이터(208)를 제어하기 위한 제어 신호를 출력한다.

대물렌즈 포커스 서보 장치(207)로부터의 제어 신호에 기초하여, 대물렌즈 액츄에이터(208)는 대물 렌즈(5)를 포커싱 제어되도록 이동시킨다.

이 구조에서는, 대물 렌즈(5)의 위치가 조절되고, 대물 렌즈(5)와 마스터 홀로그램 매체(1) 사이의 거리가 일정하게 유지되며, 평면파 광에 대한 포커스 서보 제어가 정확하게 수행되고, 마스터 홀로그램이 정확한 위치에 형성될 수 있다. 참조면 상에 미리 그루브 및 피트(grooves and pits)를 기록함으로써, 대물 렌즈(5)에 대해 트랙킹 서보 제어가 수행될 수 있다.

도33은 마스터 홀로그램 노광 장치 등의 광학 서보기구를 도시하는 도면이다.

도33에 도시하듯이, 광학 서보기구(130)는 릴레이 렌즈(92), 대물 렌즈(5'), 거울(209), 집광 렌즈(210), 광검출기(211), 대물렌즈 포커스 서보 장치(212), 및 대물렌즈 액츄에이터(208')를 구비한다.

405nm의 파장을 가지며 레이저 광원(도시되지 않음)으로부터 출사되는 평면파 광이 릴레이 렌즈(92)에 입사된다. 릴레이 렌즈(92)는 대물 렌즈(5')에 의해 형성되는 구면파 광의 초점(f)의 위치를 마스터 홀로그램 매체(2)의 두께 방향으로 조절하기 위해 사용된다.

대물 렌즈(5')는 릴레이 렌즈(92)로부터의 평면파 광을 그 초점(f)이 마스터 홀로그램 매체(1, 2) 사이에 위치하는 구면파 광으로 변경한다.

거울(209)은 대물 렌즈(5'), 마스터 홀로그램 매체(1, 2), 대물 렌즈(5), 빔 스플리터(204, 203), 및 릴레이 렌즈(91)를 투과한 레이저 광(도33의 하부로부터 상방으로 이동하는 레이저 광)을 집광 렌즈(210)를 향해서 반사시킨다.

집광 렌즈(210)는 거울(209)로부터의 레이저 광을 광검출기(211)에 집광시킨다.

광검출기(211)는 집광 렌즈(210)로부터의 레이저 광을 포커스 서보 광으로서 사용한다. 즉, 포커스 서보 광에 기초하여, 광검출기(211)는 예를 들어 비점수차법에 의해 대물렌즈 포커스 서보 장치(212)에 신호를 출력한다.

광검출기(211)로부터의 신호에 기초하여, 대물렌즈 포커스 서보 장치(212)는 대물렌즈 액츄에이터(208')를 제어하기 위해 사용되는 제어 신호를 출력한다.

대물렌즈 포커스 서보 장치(212)로부터의 제어 신호에 기초하여, 대물렌즈 액츄에이터(208')는 대물 렌즈(5')를 포커스 제어되도록 이동시킨다.

이 구조에서, 대물 렌즈(5, 5')의 위치가 조절되고, 대물 렌즈(5)와 대물 렌즈(5') 사이의 상대 거리가 일정하게 유지되며, 대물 렌즈(5)와 마스터 홀로그램 매체(1) 사이의 거리가 일정하게 유지되고, 대물 렌즈(5')와 마스터 홀로그램 매체(2) 사이의 거리가 일정하게 유지된다. 또한, 평면파 광에 대해 포커스 서보 제어가 정확하게 수행될 수 있고, 마스터 홀로그램이 정확한 위치에 형성될 수 있다.

본 발명은 전술한 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 범위 내에서 다양하게 변형될 수 있음을 알아야 할 것이다.

도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스터 홀로그램 제조 방법의 원리를 도시하는 순서도.

도2는 마스터 홀로그램 기록 원리(1)을 설명하기 위한 도면.

도3은 마이크로홀로그램 기록 원리(1)을 설명하기 위한 도면.

도4는 마스터 홀로그램 기록 원리(2)를 설명하기 위한 도면.

도5는 마이크로홀로그램 기록 원리(2)를 설명하기 위한 도면.

도6은 마스터 홀로그램 기록 원리(3)을 설명하기 위한 도면.

도7은 마이크로홀로그램 기록 원리(3)을 설명하기 위한 도면.

도8은 마스터 홀로그램 기록 원리(4)를 설명하기 위한 도면.

도9는 마이크로홀로그램 기록 원리(4)를 설명하기 위한 도면.

도10은 마스터 홀로그램 기록 원리(5)를 설명하기 위한 도면.

도11은 마이크로홀로그램 기록 원리(5)를 설명하기 위한 도면.

도12는 마스터 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도.

도13은 마스터 홀로그램 매체가 매체 고정 부재에 의해 고정되어 있는 상태를 도시하는 사시도.

도14는 홀로그램 노광 장치의 부분 단면도.

도15는 홀로그램 매체에 홀로그램을 기록하는 방법을 도시하는 순서도.

도16은 그 각각에 있어서 그 하나의 기록층에 마스터 홀로그램이 기록되는 마스터 홀로그램 매체를 도시하는 부분 단면도.

도17은 그 각각에 있어서 다른 기록층에 마스터 홀로그램이 기록되는 마스터 홀로그램 매체를 도시하는 부분 단면도.

도18은 마이크로홀로그램이 형성되는 홀로그램 매체를 도시하는 부분 단면도.

도19는 마스터 홀로그램 매체의 상세 구조를 도시하는 단면도.

도20은 제1 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치의 부분 단면도.

도21은 제1 변형예의 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도.

도22는 제2 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도.

도23은 제2 변형예의 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도.

도24는 제3 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도.

도25는 제3 변형예의 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도.

도26은 제4 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도.

도27은 제5 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도.

도28은 제5 변형예의 마스터 홀로그램 노광 장치의 초점 위치를 설명하기 위한 도면.

도29는 도27에 도시된 마스터 홀로그램 노광 장치를 이용한 홀로그램 기록 방법을 도시하는 순서도.

도30은 그 안에 마스터 홀로그램이 형성되는 마스터 홀로그램 매체를 도시하는 부분 단면도.

도31은 다른 홀로그램 노광 장치를 도시하는 부분 단면도.

도32는 마스터 홀로그램 노광 장치 등의 광학 서보기구를 도시하는 도면.

도33은 다른 마스터 홀로그램 노광 장치의 광학 서보기구를 도시하는 도면.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1, 2: 마스터 홀로그램 매체 3: 매체 고정 부재

4: 교정 판 5: 대물 렌즈

6: 홀로그램 매체 7: 스핀들

8: 레이저 광원 9: 릴레이 렌즈

10: 마스터 홀로그램 노광 장치 21: 광원 레이저

22: 셔터 23: 노광 제어 장치

41, 61: 원추형 거울 42: 역원추형 거울

H1, H2, H4, H5, H6, H7: 마스터 홀로그램

H3, H8, H9: 마이크로홀로그램

P: 평면파 광

S: 구면파 광

R: 참조 광

Claims

홀로그램 매체 제조 방법이며,

제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체를 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치하는 단계,

상기 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 구면파 광 및 참조 광을 이들 광이 상기 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 조사함으로써 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램을 형성하는 단계 -상기 구면파 광과 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 초점을 가짐-,

상기 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 홀로그램 매체를 배치하는 단계, 및

상기 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 참조 광을 조사함으로써 상기 홀로그램 매체 내에 홀로그램을 형성하는 단계를 포함하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 마스터 홀로그램 매체와 상기 홀로그램 매체는 각각 디스크 형상을 가지며,

상기 마스터 홀로그램 매체는 각각 상기 홀로그램 매체의 직경보다 큰 직경을 갖는 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 참조 광은 평면파 광인 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 구면파 광이 전파되는 방향과 반대되는 방향으로 마스터 홀로그램 매체에 수직하게 입사되는 홀로그램 매체 제조 방법.
제4항에 있어서, 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들 중 하나로부터 마스터 홀로그램 매체에 수직하게 입사하여, 이를 투과하고, 반사 거울에 의해 반사되어, 마스터 홀로그램 매체에 입사하여 투과하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들 중 하나로부터 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제6항에 있어서, 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들로부터 반대 방향으로 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제7항에 있어서, 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때, 참조 광은 원추형 거울의 모선 상의 부분들에 의해 반사되어, 마스터 홀로그램 매체 중 하나에 참 조 광이 조사되며, 참조 광은 역원추형 거울의 모선 상의 부분들에 의해 반사되어, 다른 마스터 홀로그램 매체에 참조 광이 조사되는 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들로부터 반대 방향으로 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제9항에 있어서, 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들 중 하나로부터 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때, 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에는 홀로그램 매체와 동일한 굴절율을 갖는 교정 판이 배치되는 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 마스터 홀로그램 매체에는 마스터 홀로그램 매체의 외측들로부터 구면파 광선들이 그 초점이 상호 일치하도록 조사되며,

마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들 중 하나로부터 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제12항에 있어서, 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들 중 하나로부터 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들로부터 그리고 구면파 광이 전파되는 영역에 대해 동일한 측으로부터 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제14에 있어서, 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때 출사되는 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체의 외측들로부터 그리고 초점에 대해 동일한 측으로부터 마스터 홀로그램 매체에 경사 입사하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제15항에 있어서, 홀로그램 매체 내에 홀로그램이 형성될 때, 참조 광은 제1 원추형 거울의 모선 상의 부분들에 의해 반사되어, 반사된 참조 광이 마스터 홀로그램 매체 중 하나에 조사되며, 참조 광은 제2 원추형 거울의 모선 상의 부분들에 의해 반사되어, 반사된 참조 광이 다른 마스터 홀로그램 매체에 조사되는 홀로그램 매체 제조 방법.
제2항에 있어서, 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성될 때, 마스터 홀로그램 매체는 회전되고, 구면파 광이 조사되는 위치는 마스터 홀로그램 매체의 반경 방향으로 시프트되는 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 대신에, 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체를 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치하는 단계,

상기 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 구면파 광 및 참조 광을 이들 광이 상기 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 조사함으로써 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체 내에 다른 마스터 홀로그램을 형성하는 단계 -상기 구면파 광과 참조 광은 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이의 다른 위치에 초점을 가짐-,

상기 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 홀로그램 매체를 배치하는 단계, 및

상기 제2 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 참조 광을 조사함으로써 상기 홀로그램 매체 내에 다른 홀로그램을 형성하는 단계를 더 포함하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 마스터 홀로그램 매체에 구면파 광 및 참조 광을 이들 광이 상기 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 조사함으로써 마스터 홀로그램 매체 내에 다른 마스터 홀로그램을 형성하는 단계 -상기 구면파 광과 참조 광은 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에서 그 두께 방향으로 다른 위치에 초점을 가짐-, 및

상기 제1 쌍의 마스터 홀로그램 매체 내의 다른 마스터 홀로그램에 참조 광을 조사함으로써 홀로그램 매체 내에 다른 홀로그램을 형성하는 단계를 더 포함하는 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 홀로그램 매체는 쓰기가능한 매체이며,

상기 홀로그램은 어드레스 정보인 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 홀로그램 매체는 쓰기가능한 매체이며,

상기 홀로그램은 서보 정보인 홀로그램 매체 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 홀로그램 매체는 읽기-전용 매체인 홀로그램 매체 제조 방법.
마스터 홀로그램 매체 제조 방법이며,

한 쌍의 마스터 홀로그램 매체를 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치하는 단계, 및

상기 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 구면파 광 및 참조 광을 이들 광이 상기 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 조사함으로써 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램을 형성하는 단계 -상기 구면파 광과 참조 광은 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 초점을 가짐- 를 포함하는 마스터 홀로그램 매체 제조 방법.
제23항에 있어서, 상기 마스터 홀로그램 매체와 홀로그램 매체는 각각 디스크 형상을 가지며,

상기 마스터 홀로그램 매체는 각각 홀로그램 매체의 직경보다 큰 직경을 갖는 마스터 홀로그램 매체 제조 방법.
제23항에 있어서, 상기 참조 광은 평면파 광인 마스터 홀로그램 매체 제조 방법.
제23항에 있어서, 참조 광은 구면파 광이 전파되는 방향과 반대되는 방향으로 마스터 홀로그램 매체에 수직하게 입사되는 마스터 홀로그램 매체 제조 방법.
기록 매체이며,

그 안에 마스터 홀로그램이 형성되는 제1 마스터 홀로그램 매체, 및

상기 제1 마스터 홀로그램 매체와 대면하도록 소정 간격으로 배치될 때 한 점에 대해 제1 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램이 형성되는 위치와 대칭적인 위치에 동일한 마스터 홀로그램이 형성되는 제2 마스터 홀로그램 매체를 포 함하며,

제1 및 제2 마스터 홀로그램 매체 내의 점대칭을 갖는 위치들에 형성되는 동일한 마스터 홀로그램들의 간섭 무늬들은 선과 점 중 하나에 대해 상호 대칭적인 기록 매체.
홀로그램 매체 제조 장치이며,

한 쌍의 마스터 홀로그램 매체를 상호 대면하도록 소정의 간격으로 배치하기 위한 수단,

상기 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 구면파 광 및 참조 광을 이들 광이 상기 마스터 홀로그램 매체 내에서 상호 간섭하도록 조사함으로써 마스터 홀로그램 매체 내에 마스터 홀로그램을 형성하도록 구성된 광학 기구 -상기 구면파 광과 참조 광은 상기 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 초점을 가짐 -,

상기 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체 사이에 홀로그램 매체를 배치하고 고정하기 위한 수단, 및

상기 한 쌍의 마스터 홀로그램 매체에 참조 광을 조사함으로써 홀로그램 매체 내에 홀로그램을 형성하기 위한 노광 수단을 포함하는 홀로그램 매체 제조 장치.