KR20090053150A - Substrate oscillating apparatus for rapid thermal process - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 급속열처리용 기판요동장치는, 승하강수단(101)에 의하여 승하강 되는 요동모터(102)를 이용하여 요동판(140)을 요동시킨다. 요동모터(102)는 회전축이 하측중심회전측(103a), 편심축(103b), 및 상측중심회전축(103c)으로 구분되며, 하측중심회전축(103a)과 상측중심회전축(103c)은 모터 중심축(R1) 상에 있으며 편심축(103b)은 하측중심회전축(103a)과 상측중심회전축(103c) 사이에 모터 중심축(R1)에서 편심되어 위치한다. 편심축(103b)에는 요동캠(105)이 설치된다. 요동판(140)에는 요동캠(105)이 끼워지는 요동용 구멍(305)이 형성된다. 요동캠(105)이 편심축(103b)에 대해서 독립적으로 회전할 수 있도록 요동캠(105)과 편심축(103b) 사이에는 베어링(105a)이 설치된다. 본 발명에 의하면, 기판을 수평회전시킴과 동시에 사방으로 수평요동시킬 수 있으므로 기판을 균일하게 가열할 수 있다. In the rapid thermal processing substrate rocking device according to the present invention, the rocking plate 140 is rocked using the rocking motor 102 which is lifted and lowered by the lifting means 101. The swinging motor 102 has a rotation axis divided into a lower center rotation side 103a, an eccentric shaft 103b, and an upper center rotation shaft 103c, and the lower center rotation shaft 103a and the upper center rotation shaft 103c are the motor center shaft. It is on R1 and the eccentric shaft 103b is eccentrically located in the motor central shaft R1 between the lower center rotary shaft 103a and the upper center rotary shaft 103c. The oscillation cam 105 is installed in the eccentric shaft 103b. The swinging plate 140 is formed with a swinging hole 305 into which the swinging cam 105 is fitted. A bearing 105a is installed between the swinging cam 105 and the eccentric shaft 103b so that the swinging cam 105 can rotate independently about the eccentric shaft 103b. According to the present invention, since the substrate can be rotated horizontally and can be horizontally swinged in all directions, the substrate can be uniformly heated.

급속열처리, 요동, 회전, 편심, LM 가이드 Rapid Heat Treatment, Oscillation, Rotation, Eccentricity, LM Guide

Description

급속열처리용 기판요동장치 {Substrate oscillating apparatus for rapid thermal process}Substrate oscillating apparatus for rapid thermal process

도 1은 종래의 기판회전방식 급속열처리장치를 설명하기 위한 도면;1 is a view for explaining a conventional substrate rotation type rapid heat treatment apparatus;

도 2는 기판을 수평회전시킴과 동시에 본 발명에 따라 기판을 사방으로 수평요동시켰을 때 기판이 균일하게 가열되는 것을 설명하기 위한 개념도;2 is a conceptual view illustrating that the substrate is uniformly heated when the substrate is horizontally rotated and the substrate is horizontally swinged in all directions according to the present invention;

도 3은 기판을 수평회전만 시키는 경우와 수평회전과 자유수평요동을 함께 시키는 경우의 열중첩구간을 비교하여 나타낸 도면;3 is a view showing a comparison of heat overlapping intervals in a case where only the horizontal rotation of the substrate and the horizontal rotation and free horizontal fluctuation together;

도4는 본 발명에 따른 급속열처리용 기판요동장치를 설명하기 위한 도면;4 is a view for explaining a substrate rocking apparatus for rapid heat treatment according to the present invention;

도5는 도4의 급속열처리용 기판요동장치의 동작과정을 설명하기 위한 도면;5 is a view for explaining an operation process of the substrate rocking apparatus for rapid heat treatment of FIG.

도 6은 도 5를 위에서 내려다 본 도면;6 is a view from above of FIG. 5;

도 7은 도 5의 요동판(140)의 이동궤적을 나타낸 도면;7 is a view showing a movement trajectory of the rocking plate 140 of FIG.

도 8은 4방향 수평자유이동수단(130)을 설명하기 위한 도면;8 is a view for explaining the four-way horizontal free movement means 130;

도 9는 본 발명에 따른 요동수단이 요동판(140)의 가운데에 설치되는 경우를 설명하기 위한 도면이다. 9 is a view for explaining the case where the rocking means according to the present invention is installed in the middle of the rocking plate (140).

<도면의 주요부분에 대한 참조번호의 설명><Description of reference numbers for the main parts of the drawings>

10: 가열램프 15a, 15b: 열중첩구간10: heating lamp 15a, 15b: heat overlapping section

17a, 17b: 산화막 20: 기판17a, 17b: oxide film 20: substrate

101: 승하강수단 102: 요동모터101: lifting means 102: swing motor

103a: 하측중심회전축 103b: 편심축103a: lower center pivot 103b: eccentric shaft

103c: 상측중심회전축 105: 요동캠103c: upper center pivot 105: rocking cam

105a, 106a: 베어링 106: 중심잡이 캠105a, 106a: Bearing 106: Centering Cam

110: 기판회전수단 120: 기저판110: substrate rotating means 120: base plate

130: 4방향 수평자유이동수단 131, 133: LM 가이드130: four-way horizontal movement means 131, 133: LM guide

131a, 133a: LM 레일 131b, 133b: LM 블록131a, 133a: LM rails 131b, 133b: LM block

140: 요동판 305: 요동용 구멍140: rocking plate 305: rocking hole

306: 중심잡이용 구멍306: centering hole

본 발명은 급속열처리용 기판요동장치에 관한 것으로서, 특히 기판을 사방으로 수평 요동(random oscillation)시키는 기판요동장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate oscillation apparatus for rapid heat treatment, and more particularly to a substrate oscillation apparatus for horizontal oscillation of a substrate in all directions.

급속열처리(RTP) 장치에서 가장 중요한 관건은 빠른 시간 내에 기판을 원하는 온도까지 가열하는 것이다. 그러나 이 때 반드시 수반되어야 하는 것이 기판의 균일 가열이다. 특히 기판이 대형화되면서 이러한 균일 가열이 제대로 이루어지지 않아 많은 고심들을 하고 있다. The most important issue in a rapid heat treatment (RTP) apparatus is heating the substrate to the desired temperature in a short time. However, it must be accompanied by uniform heating of the substrate at this time. In particular, as the substrate is enlarged, such uniform heating is not properly performed, which causes a lot of troubles.

이러한 기판의 균일가열문제를 해결하기 위하여 급속열처리가 이루어지는 동안에 기판을 수평회전시키는 장치가 제안된 바 있다. 도 1은 종래의 기판회전방식 급속열처리장치를 설명하기 위한 도면이다. In order to solve the problem of uniform heating of the substrate, an apparatus for horizontally rotating the substrate during the rapid heat treatment has been proposed. 1 is a view for explaining a conventional substrate rotation type rapid heat treatment apparatus.

도 1a에 도시된 바와 같이 급속열처리장치에서의 가열램프(10)는 기판(20)의 상부에 기판(20)과 비교적 가깝게 인접하여 복수개가 설치된다. 기판(20)의 균일가열을 위해서 가열램프(10)의 배열도 다양한 형태가 제안되고 있지만 어떠한 배열을 하더라도 도시된 바와 같이 빛의 조사가 중첩되어 기판(10)에 열중첩구간이 생기는 문제가 발생한다. As shown in FIG. 1A, a plurality of heating lamps 10 in the rapid thermal processing apparatus are disposed adjacent to the substrate 20 relatively close to the upper portion of the substrate 20. Various types of arrangements of the heating lamps 10 have been proposed for uniform heating of the substrate 20. However, no matter what arrangement, the irradiation of light is overlapped as shown in the drawing, resulting in a problem of a heat overlapping section of the substrate 10. do.

따라서 기판(20)을 수평회전시키면 도 1b와 같이 환형의 열중첩구간(15a)이 생기게 된다. 만약 이러한 급속열처리장치로 기판(20) 상에 산화막을 성장시킨다면 도 1c에 도시된 바와 같이 열중첩구간(15a)의 궤적을 따라 산화막(17a)의 두께가 더 두껍게 되어 전체적으로 불균일한 두께의 산화막(17a)이 성장된다. Therefore, when the substrate 20 is rotated horizontally, an annular thermal overlapping section 15a is formed as shown in FIG. 1B. If the oxide film is grown on the substrate 20 by the rapid thermal processing apparatus, the thickness of the oxide film 17a becomes thicker along the trajectory of the thermal overlapping section 15a as shown in FIG. 17a) is grown.

상술한 바와 같이 기판을 단순히 수평회전시키는 것으로서는 기판이 불균일하게 가열되는 것을 방지할 수 없다. 따라서 기판이 움직일 수 있는 자유도를 더 부여하여 기판 상에 열중첩구간과 비열중첩구간이 구분되어 나타나는 것을 방지할 필요가 있다. As described above, simply rotating the substrate horizontally does not prevent the substrate from being heated unevenly. Therefore, it is necessary to further provide freedom of movement of the substrate to prevent the thermal overlapping section and the non-thermal overlapping section from appearing separately on the substrate.

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 기판을 사방으로 수평요동 시킴으로서 기판이 불균일하게 가열되는 문제를 해결할 수 있는 급속열처리용 기판요동장치를 제공하는 데 있다. Accordingly, a technical object of the present invention is to provide a rapid thermal processing substrate rocking device that can solve the problem that the substrate is unevenly heated by horizontally swinging the substrate in all directions.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 급속열처리용 기판요동장치는, In accordance with another aspect of the present invention, there is provided a substrate thermal device for rapid thermal treatment.

회전축이 하측중심회전측, 편심축, 및 상측중심회전축으로 구분되며, 상기 하측중심회전축과 상측중심회전축은 모터 중심축 상에 있으며 상기 편심축은 상기 하측중심회전축과 상측중심회전축 사이에 상기 모터 중심축에서 편심되어 위치하는 요동모터;The rotating shaft is divided into a lower center rotation side, an eccentric shaft, and an upper center rotation shaft, wherein the lower center rotation shaft and the upper center rotation shaft are on a motor center axis, and the eccentric shaft is between the lower center rotation axis and the upper center rotation axis. Oscillating motor located eccentrically in the;

상기 요동모터를 승하강시키는 승하강수단;Elevating means for elevating the oscillating motor;

상기 편심축에 설치되는 요동캠; 및A rocking cam installed on the eccentric shaft; And

상기 요동캠이 끼워지는 요동용 구멍이 형성되어 있으며 궁극적으로 기판지지대와 연결되는 요동판;을 구비하는 것을 특징으로 한다. And a rocking plate in which a rocking hole into which the rocking cam is fitted is formed and is ultimately connected to the substrate support.

상기 요동캠이 상기 편심축에 대해서 독립적으로 회전할 수 있도록 상기 요동캠과 상기 편심축 사이에는 베어링이 설치되는 것이 바람직하다. It is preferable that a bearing is installed between the swinging cam and the eccentric shaft so that the swinging cam can rotate independently with respect to the eccentric shaft.

상기 요동캠과 상기 요동용 구멍은 위로 갈수록 폭이 좁아지는 원뿔대 형태를 하는 것이 바람직하다. The rocking cam and the rocking hole are preferably in the form of a truncated cone that narrows upward.

상기 상측중심회전축에는 중심잡이용 캠이 설치되는 것이 바람직하며, 이 경우 상기 요동판에는 상기 중심잡이용 캠이 끼워질 수 있도록 상기 요동용 구멍에서 위쪽으로 연장되어 중심잡이용 구멍이 형성된다. A centering cam is preferably installed at the upper center rotation shaft, and in this case, the rocking plate extends upwardly from the rocking hole so that the centering cam can be fitted to form a centering hole.

상기 중심잡이용 캠과 중심잡이용 구멍은 아래로 갈수록 폭이 좁아지는 역원뿔대 형태를 하는 것이 바람직하다. Preferably, the centering cam and the centering hole have a shape of an inverted truncated cone that is narrowed downward.

상기 중심잡이용 캠이 상기 상측중심회전축에 대해서 독립적으로 회전할 수 있도록 상기 중심잡이용 캠과 상기 상측중심회전축 사이에는 베어링이 설치되는 것이 바람직하다. It is preferable that a bearing is installed between the centering cam and the upper center rotating shaft so that the centering cam can rotate independently with respect to the upper center rotating shaft.

상기 요동캠이 상승하여 상기 요동용 구멍에 끼워지면 상기 중심잡이 캠은 상기 중심잡이용 구멍의 위로 이탈하고, 상기 중심잡이 캠이 하강하여 상기 중심잡이용 구멍에 끼워지면 상기 요동캠은 상기 요동용 구멍의 밑으로 이탈하도록 상기 요동캠과 중심잡이 캠이 설치된다. When the swinging cam is raised and inserted into the swinging hole, the centering cam moves away from the centering hole, and when the centering cam descends and is inserted into the centering hole, the swinging cam is used for the swinging. The rocking cam and the centering cam are installed to be separated under the hole.

기저판에 수평자유이동수단이 설치되고, 상기 요동판은 상기 수평자유이동수단 상에 얹혀져서 수평방향으로 병진운동하도록 설치되는 것이 바람직하다. The horizontal free moving means is installed on the base plate, and the oscillating plate is preferably mounted on the horizontal free moving means to translate in the horizontal direction.

상기 수평자유이동수단은, The horizontal free moving means,

LM 레일 위쪽에 LM 블록이 올려 놓여지는 하측 LM 가이드;A lower LM guide on which the LM block is placed above the LM rail;

LM 레일 아래쪽에 LM 블록이 놓여지며 상기 하측 LM 가이드와 직교하는 방향으로 직선운동을 안내하는 상측 LM 가이드; 및An upper LM guide having an LM block disposed below the LM rail and guiding linear movement in a direction orthogonal to the lower LM guide; And

상기 하측 LM 가이드의 LM 블록과 상기 상측 LM 가이드의 LM 블록이 세트로 함께 움직이도록 상기 하측 LM 가이드의 LM 블록과 상기 상측 LM 가이드의 LM 블록을 연결하는 커낵터;를 포함하여 이루어질 수 있다. And a connector connecting the LM block of the lower LM guide and the LM block of the upper LM guide so that the LM block of the lower LM guide and the LM block of the upper LM guide move together as a set.

이하에서, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 아래의 실시예는 본 발명의 내용을 이해하기 위해 제시된 것일 뿐이며 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상 내에서 많은 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명의 권리범위가 이러한 실시예에 한정되는 것으로 해석돼서는 안 된다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. The following examples are only presented to understand the content of the present invention, and those skilled in the art will be capable of many modifications within the technical spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as limited to these embodiments.

도 2는 기판을 수평회전시킴과 동시에 본 발명에 따라 기판을 사방으로 수평요동시켰을 때 기판이 균일하게 가열되는 것을 설명하기 위한 개념도이다. 도 2a와 같이 기판(20)을 단순히 수평회전시키는 경우에는 환형의 열중첩구간(15a)이 발생한다. 그러나 도 2b와 같이 기판(20)을 수평회전시키면서 사방으로 수평요동(random oscillation)시키면 열중첩이 균일하게 일어나게 되어 균일한 열중첩구간(15b)이 얻어진다. 2 is a conceptual view illustrating that the substrate is uniformly heated when the substrate is rotated horizontally and the substrate is horizontally swinged in all directions according to the present invention. When the substrate 20 is simply horizontally rotated as shown in FIG. 2A, an annular thermal overlapping section 15a is generated. However, as shown in FIG. 2B, when the substrate 20 is horizontally rotated and random oscillation occurs, thermal overlap occurs uniformly, thereby obtaining a uniform thermal overlapping section 15b.

도 3은 기판을 수평회전만 시키는 경우와 수평회전과 자유수평요동을 함께 시키는 경우의 열중첩구간을 비교하여 나타낸 도면이다. 도 3a와 같이 수평회전만시키는 경우에는 환형의 열중첩구간(15a)이 얻어지고 따라서 불균일한 두께의 산화막(17a)이 성장된다. 그러나 도 3b와 같이 수평회전과 자유수평요동을 함께 시키는 경우에는 균일한 열중첩구간(15b)이 얻어지고 따라서 균일한 두께의 산화막(17b)이 성장된다. FIG. 3 is a view showing a comparison between thermal overlapping sections in a case where the substrate is rotated only horizontally and when both horizontal rotation and free horizontal fluctuation are combined. In the case of only horizontal rotation as shown in Fig. 3A, an annular thermal overlapping section 15a is obtained, and thus an oxide film 17a having a non-uniform thickness is grown. However, when the horizontal rotation and the free horizontal fluctuation are combined as shown in FIG. 3B, a uniform thermal overlapping section 15b is obtained, and thus an oxide film 17b having a uniform thickness is grown.

도4는 본 발명에 따른 급속열처리용 기판요동장치를 설명하기 위한 도면이다. 4 is a view for explaining a substrate rocking apparatus for rapid heat treatment according to the present invention.

도 4를 참조하면, 기저판(support base plate, 120) 상에 4방향 수평자유이동수단(4-direction free motion LM block, 130)이 설치되며, 4방향 수평자유이동 수단(130)상에 요동판(oscillation plate, 140)이 올려 놓여진다. Referring to FIG. 4, a 4-direction free motion LM block 130 is installed on a support base plate 120, and a swing plate is disposed on the 4-direction horizontal free movement means 130. (oscillation plate, 140) is placed.

요동판(140) 상에는 R3 축을 중심으로 하여 기판을 수평회전시키는 기판회전수단(110)이 설치된다. 기판회전수단(110)은 궁극적으로 기판지지수단(미도시)에 연결되어 상기 기판지지수단을 회전시킴으로서 기판을 수평회전시킨다.On the swinging plate 140, a substrate rotating means 110 for horizontally rotating the substrate about the R3 axis is provided. The substrate rotating means 110 is ultimately connected to the substrate supporting means (not shown) to rotate the substrate supporting means to rotate the substrate horizontally.

기판회전수단(110)으로는 대한민국특허 제523674호(2005.10.18)로서 이미 등록받은 다극착자 마그네트 방식의 기판회전장치를 사용할 수도 있고, 자기부상모터(maglev motor)를 사용하는 기판회전장치를 사용할 수 있으며, 이외에도 일반모터, 서보모터, 스텝모터, 에어모터 등 기판을 회전시킬 수 있는 수단이면 되고 특별히 제한되지 않는다. The substrate rotating means 110 may be a substrate rotating apparatus of a multi-pole magnetized magnet method already registered as Korean Patent No. 523674 (October 18, 2005), or a substrate rotating apparatus using a maglev motor. In addition, other means may be used as long as it can rotate a substrate such as a general motor, a servo motor, a step motor, and an air motor.

요동모듈은 승하강수단(101), 요동모터(102), 요동캠(oscillation CAM, 105), 및 중심잡이 캠(centering CAM, 106) 등을 포함한다. 요동모터(102)는 승하강수단(101)에 의하여 승하강된다. The swinging module includes a lifting means 101, a swinging motor 102, an oscillation CAM 105, a centering cam 106, and the like. The swinging motor 102 is lifted up and down by the lifting means 101.

상기 요동모듈에 의하여 요동판(140)이 수평요동되면 기판회전수단(110) 전체가 따라서 수평요동하게 되고, 따라서 기판회전수단(110)에 연결되어 있는 기판이 수평요동하게 된다. 본 실시예는 기판이 수평회전됨과 함께 수평요동되는 과정을 설명하기 위한 것이므로 기판회전수단(110)이 요동판(140) 상에 설치되고, 기판지지대가 기판회전수단(110)에 연결되는 것으로 설명하고 있다. 하지만 수평회전없이 단지 수평요동되는 경우도 본 발명의 범주에 해당되며, 이 경우 요동판(140) 상에 기판회전수단(110)이 설치될 필요가 없고 요동판(140)이 바로 기판지지수단에 연결되게 된다. When the rocking plate 140 is horizontally oscillated by the rocking module, the entire substrate rotation means 110 is horizontally oscillated, and thus the substrate connected to the substrate rotation means 110 is horizontally oscillated. Since the present embodiment is for explaining a process in which the substrate is horizontally rotated and horizontally swinged, the substrate rotating means 110 is installed on the swinging plate 140, and the substrate support is connected to the substrate rotating means 110. Doing. However, the horizontal swing only without the horizontal rotation also falls within the scope of the present invention, in which case it is not necessary to install the substrate rotating means 110 on the swinging plate 140 and the swinging plate 140 is directly on the substrate support means. Will be connected.

요동모터(102)의 회전축은 하측중심회전축(103a), 편심축(103b), 상측중심회전축(103c)으로 구분되며, 편심축(103b)은 하측중심회전축(103a)과 상측중심회전축(103c) 사이에 위치한다. 하측중심회전축(103a)과 상측중심회전축(103c)은 모터의 중심축 R1 상에 위치하지만, 편심축(103b)은 모터의 중심축 R1에서 약간 편심되는 편심선 R2 상에 위치한다. The rotation shaft of the swinging motor 102 is divided into a lower center rotation shaft 103a, an eccentric shaft 103b, and an upper center rotation shaft 103c, and the eccentric shaft 103b is the lower center rotation shaft 103a and the upper center rotation shaft 103c. Located in between. The lower center rotation shaft 103a and the upper center rotation shaft 103c are located on the center axis R1 of the motor, but the eccentric shaft 103b is located on the eccentric line R2 which is slightly eccentric from the center axis R1 of the motor.

요동캠(105)은 편심축(103b)에 설치되며, 중심잡이 캠(106)은 상측중심회전축(103c)에 설치된다. 요동캠(105)이 편심축(103b)에 대해서 독립적으로 회전할 수 있도록 요동캠(105)과 편심축(103b) 사이에는 베어링(105a)이 설치된다. 또한 중심잡이 캠(106)이 상측중심회전축(103c)에 대해서 독립적으로 회전할 수 있도록 중심잡이 캠(106)과 상측중심회전축(103c) 사이에도 베어링(106a)이 설치된다. The swinging cam 105 is installed on the eccentric shaft 103b, and the centering cam 106 is installed on the upper center rotary shaft 103c. A bearing 105a is installed between the swinging cam 105 and the eccentric shaft 103b so that the swinging cam 105 can rotate independently about the eccentric shaft 103b. In addition, a bearing 106a is also provided between the center cam 106 and the upper center rotary shaft 103c so that the center cam 106 can rotate independently with respect to the upper center rotary shaft 103c.

요동판(140)에는 요동캠(105)이 끼워질 수 있는 요동용 구멍(305)과 중심잡이 캠(106)이 끼워질 수 있는 중심잡이용 구멍(306)이 요동판(140)에 수직하게 뚫려진다. 중심잡이용 구멍(306)과 요동용 구멍(305)은 서로 연결되며 중심잡이용 구멍(306)이 요동용 구멍(305)의 위쪽에 위치한다. In the swinging plate 140, the swinging hole 305 into which the swinging cam 105 can be fitted and the centering hole 306 into which the centering cam 106 is fitted are perpendicular to the swinging plate 140. Pierced The centering hole 306 and the swinging hole 305 are connected to each other, and the centering hole 306 is located above the swinging hole 305.

요동캠(105)은 위로 갈수록 폭이 좁아지는 원뿔대형태를 하며, 요동용 구멍(305)도 요동캠(105)이 합치되어 끼워질 수 있도록 원뿔대 형태를 한다. 중심잡이 캠(106)은 밑으로 갈수록 폭이 좁아지는 역원뿔대형태를 하며, 중심잡이용 구멍(306)도 중심잡이 캠(106)이 합치되어 끼워질 수 있도록 역원뿔대형태를 한다. The swinging cam 105 has a truncated conical shape that becomes narrower in the upward direction, and the swinging hole 305 also has a truncated truncated shape so that the swinging cam 105 can be fitted together. The centering cam 106 is in the form of an inverted truncated cone narrowing downward, and the centering hole 306 also has the shape of an inverted truncated cone so that the centering cam 106 can be fitted together.

요동캠(150)이 상승하여 요동용 구멍(105)에 끼워지면 중심잡이 캠(106)은 중심잡이용 구멍(306)의 위로 이탈하고, 중심잡이 캠(106)이 하강하여 중심잡이용 구멍(306)에 끼워지면 요동캠(105)은 요동용 구멍(105)의 밑으로 이탈하도록 요동캠(105)과 중심잡이 캠(106)이 설치된다. When the swinging cam 150 is raised and fitted into the swinging hole 105, the centering cam 106 is separated from the top of the centering hole 306, and the centering cam 106 descends to lower the centering hole ( When fitted to the 306, the swinging cam 105 is provided with a swinging cam 105 and the centering cam 106 so as to be separated from the bottom of the swinging hole 105.

도5는 도4의 급속열처리용 기판요동장치의 동작과정을 설명하기 위한 도면이다. FIG. 5 is a view for explaining an operation process of the rapid thermal processing substrate rocking apparatus of FIG.

처음에는 도 5a의 참조부호 A로 표시한 바와 같이 중심잡이 캠(106)이 중심잡이용 구멍(306)에 끼워진 상태이며, 따라서 요동캠(105)은 요동용 구멍(305)의 밑으로 이탈된다. 이 때 기판회전수단(110)과 요동모터(102)는 동작되고 있다.Initially, as indicated by reference numeral A in FIG. 5A, the centering cam 106 is fitted into the centering hole 306, and thus the swinging cam 105 is separated below the swinging hole 305. . At this time, the substrate rotating means 110 and the swinging motor 102 are operated.

요동캠(105)은 요동용 구멍(305)의 밑으로 이탈된 상태이기 때문에 요동판(140)의 움직임에 기여하지 못한다. 상측중심회전축(103c)과 중심잡이 캠(106) 사이에 베어링(106a)이 설치되어 있어 중심잡이 캠(106)이 상측중심회전축(103c)과는 독립적으로 회전하게 되므로, 중심잡이 캠(106)이 중심잡이용 구멍(306)에 끼워진 상태에서 요동모터(102)가 회전하더라도 중심잡이 캠(106) 역시 요동판(140)의 움직임에 기여하지 못한다. 따라서 도 5a의 상태에서는 기판회전수단(110)에 의해 기판이 수평회전운동만 하게 된다. The swing cam 105 does not contribute to the movement of the swing plate 140 because the swing cam 105 is separated below the swing hole 305. Since the bearing 106a is installed between the upper center rotation shaft 103c and the center grip cam 106, the center grip cam 106 rotates independently of the upper center rotation shaft 103c, so that the center grip cam 106 is rotated. Even if the swinging motor 102 rotates in the state of being fitted in the centering hole 306, the centering cam 106 also does not contribute to the movement of the swinging plate 140. Accordingly, in the state of FIG. 5A, the substrate is rotated only by the substrate rotating means 110.

다음에는 도 5b에서와 같이 승하강수단(101)에 의하여 요동모터(102)의 승강이 일어난다. 그러면 참조부호 B로 표시한 바와 같이 요동캠(105)이 요동용 홈(305)에 끼워지고 대신에 중심잡이 캠(106)이 중심잡이용 홈(306)의 위로 이탈된다. Next, lifting and lowering of the swinging motor 102 occurs by the lifting means 101 as shown in FIG. 5B. Then, as indicated by the reference B, the swing cam 105 is fitted into the swing groove 305, and instead, the center cam 106 is separated above the center catch groove 306.

요동캠(105)과 요동용 홈(305)은 모두 위로 갈수록 폭이 좁아지는 원뿔대형태이므로 어느 정도의 승강이 일어나면 요동캠(105)이 요동용 홈(305)의 상측에 걸 려서 더 이상의 승강은 일어나지 않는다. 승하강수단(101)의 지나친 상승으로 인하여 요동캠(105)과 요동판(140) 사이에 서로 미는 힘이 과도하게 걸릴 수 있기 때문에 이를 염두에 두어 승하강수단(101)에 탄성체를 이용하여 완충장치(미도시)를 설치하면 좋다. 이러한 완충장치는 승하강수단(101)과 요동모터(102) 사이에 설치될 수도 있다. Since the swinging cam 105 and the swinging groove 305 are all in the shape of a truncated cone, the upper and lower widths of the swinging cam 105 are caught by the upper side of the swinging groove 305 so that no further lifting occurs. Do not. Due to the excessive rise of the lifting means 101, the pushing force between the swinging cam 105 and the swinging plate 140 may be excessively taken into consideration, so that the lifting means 101 is cushioned by using an elastic body. What is necessary is just to install an apparatus (not shown). Such a shock absorber may be installed between the lifting means 101 and the swinging motor 102.

도 5a의 상태에서는 중심잡이 캠(106)이 중심잡이용 홈(306)에 끼워진 상태이기 때문에 요동판(140)이 모터의 중심축 R1을 기준으로 정렬된 상태이다. 그러나 도 5b와 같이 중심잡이 캠(106)이 중심잡이용 홈(306)에서 이탈되면서 그 대신에 요동캠(150)이 요동용 홈(105)에 끼워지면 요동판(140)이 편심선 R2를 기준으로 정렬된다. 따라서 요동반경 T1만큼 요동판(140)이 수평이동한다. 요동반경 T1은 중심축 R1과 편심선 R2 사이의 간격이 될 것이다. In the state of FIG. 5A, since the centering cam 106 is fitted into the centering groove 306, the swing plate 140 is aligned with respect to the center axis R1 of the motor. However, as shown in FIG. 5B, when the centering cam 106 is separated from the centering groove 306 and the swinging cam 150 is inserted into the swinging groove 105, the swinging plate 140 may be eccentric line R2. Sorted by criteria. Therefore, the rocking plate 140 moves horizontally by the rocking radius T1. The swing radius T1 will be the distance between the central axis R1 and the eccentric line R2.

편심축(103b)과 요동캠(106) 사이에 베어링(105a)이 설치되어 있어 요동캠(160)은 편심축(103b)과는 겉돌고 있는 상태가 된다. 따라서 요동판(140)은 요동모터(102)의 회전에 의해서는 수평회전운동을 하지 않고, 단지 수평으로 요동반경 T1만큼만 이동하게 된다. The bearing 105a is provided between the eccentric shaft 103b and the swinging cam 106, so that the swinging cam 160 is out of the eccentric shaft 103b. Therefore, the swinging plate 140 does not move horizontally by the rotation of the swinging motor 102, but only moves the swinging radius T1 horizontally.

이러한 상태에서 요동모터(102)의 회전이 계속 이루어지면, 도 5b의 참조부호 B로 표시한 바와 같이 편심축(103b)이 오른쪽에 있다가 도 5c의 참조부호 C로 표시한 바와 같이 편심축(103c)이 왼쪽으로 이동하게 된다. 그러면 요동판(140)이 왼쪽으로 이동하게 된다. When the swing motor 102 continues to rotate in such a state, the eccentric shaft 103b is on the right side, as indicated by reference B in FIG. 5B, and then as indicated by reference C in FIG. 5C. 103c) moves to the left. Then the rocking plate 140 is moved to the left.

도 5b와 도 5c는 구분동작을 설명하기 위한 것이어서 단지 좌우로만 수평이 동하는 것처럼 보이지만 이들 사이의 연속동작을 고려하면 사실은 후술하는 바와 같이 사방으로 수평요동운동을 하게 된다. 5B and 5C are for explaining the division operation, it seems to move horizontally only to the left and right, but considering the continuous operation therebetween, in fact, the horizontal swing motion in all directions as will be described later.

열처리가 다 이루어졌으면 도 5d에서와 같이 승하강수단(101)을 하강시킨다. 그러면 중심잡이 캠(106)이 중심잡이용 홈(306)에 끼워지고 요동캠(105)은 요동용 홈(305)의 밑으로 이탈된다. 그러면 편심축(103b)의 회전이 요동판(140)의 수평요동에 관여하지 못하게 되어 기판의 요동은 끝나며 도 5a의 상태로 복귀된다. 즉 요동과정에서 요동판(140)이 모터 중심축 R1에서 벗어나 있다가 중심잡이용 홈(306)에 중심잡이 캠(106)이 끼워짐으로써 다시 모터 중심축 R1에 맞춰지게 된다. When the heat treatment is completed, the lifting means 101 is lowered as shown in FIG. 5D. The centering cam 106 is then fitted into the centering groove 306 and the swinging cam 105 is separated below the swinging groove 305. Then, the rotation of the eccentric shaft 103b does not participate in the horizontal swing of the swinging plate 140, so that the swing of the substrate ends and returns to the state of FIG. 5A. That is, while the swinging plate 140 deviates from the motor central axis R1 in the swinging process, the centering cam 106 is fitted into the center catching groove 306 to be matched with the motor center axis R1 again.

물론, 이 때 열처리가 끝났으므로 기판회전수단(110)의 회전은 이루어지지 않는다. 중심잡이 캠(106)과 중심잡이용 홈(306)은 모두 역원뿔대형태이므로 어느 정도의 하강이 일어나면 중심잡이 캠(105)이 중심잡이용 홈(305)의 하측에 걸려서 원하지 않게 더 이상 하강되는 것이 방지된다. Of course, since the heat treatment is finished at this time, the rotation of the substrate rotating means 110 is not performed. Since the centering cam 106 and the centering groove 306 are both inverted truncated conical shapes, the centering cam 105 is caught on the lower side of the centering groove 305 and undesirably lowered when a certain amount of descending occurs. Is prevented.

도 5a 내지 도 5d를 참조하면, 요동판이 수평방향으로 병진운동하는 수평자유이동 거리는 편심량에 의해 조절됨을 알 수 있다.5A to 5D, it can be seen that the horizontal free movement distance in which the rocking plate translates in the horizontal direction is controlled by the amount of eccentricity.

도 6은 요동모터(102)의 회전에 의하여 요동판(140)이 수평요동하는 것을 설명하기 위하여 도 5의 경우를 위에서 내려다 본 도면이고, 도 7은 요동판(140)의 이동궤적을 도시한 것이다. FIG. 6 is a view looking down from the top of FIG. 5 in order to explain that the rocking plate 140 is horizontally swinged by the rotation of the rocking motor 102, and FIG. will be.

도 5, 도 6, 및 도 7의 대응관계를 보면, 도 6a는 도 5a에 대응되고, 도 6b는 도 5b 및 S1상태에 대응되고, 도 6d는 도 5c 및 S3 상태에 대응되고, 도 6c는 도 5b와 도 5c 사이의 상태 즉 S2 상태에 대응된다. 즉, 요동모터(102)가 반시계 방향으로 한바퀴 회전하면 요동판(140)이 S1 -> S2 -> S3 -> S4의 궤적을 따라 요동한다. Referring to the correspondence of FIGS. 5, 6, and 7, FIG. 6A corresponds to FIG. 5A, FIG. 6B corresponds to FIGS. 5B and S1, FIG. 6D corresponds to FIGS. 5C and S3, and FIG. 6C. Corresponds to a state between the states of FIGS. 5B and 5C, that is, the S2 state. That is, when the swinging motor 102 rotates one turn counterclockwise, the swinging plate 140 swings along the trajectory of S1-> S2-> S3-> S4.

요동판(140)의 요동반경 T1은 도 2a에서 도시된 환형의 열중첩구간(15a)들 사이의 간격보다 커야 도 2b에서와 같이 열중첩구간 사이의 빈 공간(thermal void)을 커버하는데 유리하다. The swing radius T1 of the swinging plate 140 is larger than the gap between the annular thermal overlapping sections 15a shown in FIG. 2A, which is advantageous to cover the thermal voids between the thermal overlapping sections as in FIG. 2B. .

요동모터(102)의 회전은 기판 자체의 수평회전에는 기여하지 않으며 단지 기판을 수평으로 요동시키는데 기여한다. 요동캠(106)과 편심축(103b) 사이에 베어링(105a)을 설치하는 것은 이러한 요동 운동시에 요동캠(106)과 요동판(140) 사이의 미끄럼 운동을 자연스럽게 하기 위한 것이다. The rotation of the swinging motor 102 does not contribute to the horizontal rotation of the substrate itself but merely to swing the substrate horizontally. The provision of the bearing 105a between the rocking cam 106 and the eccentric shaft 103b is for smoothing the sliding motion between the rocking cam 106 and the rocking plate 140 during this rocking motion.

도 8은 4방향 수평자유이동수단(130)을 설명하기 위한 도면으로서, 도 7a는 단면도이고 도 7b는 평면도이며, 도 7c는 4방향 수평자유이동수단(130)의 이동궤적을 설명하기 위한 것이다. 8 is a view for explaining the four-way horizontal movement means 130, Figure 7a is a cross-sectional view, Figure 7b is a plan view, Figure 7c is for explaining the movement trajectory of the four-way horizontal freedom movement means 130. .

4방향 수평자유이동수단(130)은 서로 수직하게 이동할 수 있게 설치되는 두 개의 LM 가이드(131, 133)가 커넥터(132)를 사이에 두고 적층된 구조를 갖는다. The four-way horizontal freedom moving means 130 has a structure in which two LM guides 131 and 133 installed to move vertically with each other are stacked with the connector 132 interposed therebetween.

하측 LM 가이드(131)는 LM 레일(131a) 위쪽에 LM 블록(131b)이 올려 놓여지는 구조를 하고, 상측 LM 가이드(133)는 LM 레일(133a)의 아래쪽으로 LM 블록(133b)이 놓여지는 구조를 한다. 커넥터(132)는 하측 LM 가이드의 LM 블록(131b)과 상측 LM 가이드의 LM 블록(133b)이 세트로 함께 움직이도록 하측 LM 가이드의 LM 블록(131b)과 상측 LM 가이드의 LM 블록(133b) 사이에 설치되어 이들을 연결 고정한다. The lower LM guide 131 has a structure in which the LM block 131b is placed on the LM rail 131a, and the upper LM guide 133 has the LM block 133b placed below the LM rail 133a. Rescue. The connector 132 is provided between the LM block 131b of the lower LM guide and the LM block 133b of the upper LM guide so that the LM block 131b of the lower LM guide and the LM block 133b of the upper LM guide move together in sets. Are installed in and fixed connecting them.

따라서 하측 LM 가이드(131)의 LM 블록(131b)이 X축방향으로 수평이동하고, 상측 LM 가이드(133)의 LM 레일(133a)이 Y축방향으로 수평이동함으로써 XY 방향의 2차원 수평운동이 일어난다. Therefore, the LM block 131b of the lower LM guide 131 moves horizontally in the X-axis direction, and the LM rail 133a of the upper LM guide 133 moves horizontally in the Y-axis direction so that two-dimensional horizontal motion in the XY direction is achieved. Happens.

4방향 수평자유이동수단(130)을 통하여 요동판(140)을 참조번호 135a와 같은 궤적으로 수평이동시키면 사실상 가상의 원운동(135b)을 하게 된다. 그러면 요동 판(140)은 가상의 원운동 궤적(135b)을 따라 병진 이동하면서 수평요동(135c)을 하게 된다. 따라서 요동판(140)은 병진운동하면서 요동할 수 있게 되어 더욱 균일한 열처리가 가능하게 된다. When the rocking plate 140 is horizontally moved with the same trajectory as the reference numeral 135a through the four-way horizontal free moving means 130, virtual circular motion 135b is performed. Then, the swinging plate 140 performs horizontal swinging 135c while translationally moving along the virtual circular motion trajectory 135b. Therefore, the swinging plate 140 can swing while being translated, thereby enabling a more uniform heat treatment.

본 발명에 있어서의 요동수단은 도 4에서와 같이 요동판(140)의 가장자리에 설치되어야만 하는 것은 아니며 도 9에 도시된 바와 같이 요동판(140)의 가운데에 설치되어도 무방하다. The rocking means in the present invention does not have to be installed at the edge of the rocking plate 140 as shown in FIG. 4 and may be provided in the middle of the rocking plate 140 as shown in FIG. 9.

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 기판을 수평회전시킴과 동시에 사방으로 수평요동시킬 수 있으므로 기판을 균일하게 가열할 수 있다. As described above, according to the present invention, since the substrate can be horizontally rotated and can be horizontally swinged in all directions, the substrate can be uniformly heated.

Claims (13)

회전축이 하측중심회전측, 편심축, 및 상측중심회전축으로 구분되며, 상기 하측중심회전축과 상측중심회전축은 모터 중심축 상에 있으며 상기 편심축은 상기 하측중심회전축과 상측중심회전축 사이에 상기 모터 중심축에서 편심되어 위치하는 요동모터;The rotating shaft is divided into a lower center rotation side, an eccentric shaft, and an upper center rotation shaft, wherein the lower center rotation shaft and the upper center rotation shaft are on a motor center axis, and the eccentric shaft is between the lower center rotation axis and the upper center rotation axis. Oscillating motor located eccentrically in the; 상기 요동모터를 승하강시키는 승하강수단;Elevating means for elevating the oscillating motor; 상기 편심축에 설치되는 요동캠; 및A rocking cam installed on the eccentric shaft; And 상기 요동캠이 끼워지는 요동용 구멍이 형성되어 있으며 궁극적으로 기판지지대와 연결되는 요동판;을 구비하는 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치. And a rocking plate on which a rocking hole into which the rocking cam is fitted is formed, and which is ultimately connected to the substrate support. 제1항에 있어서, 상기 요동캠이 상기 편심축에 대해서 독립적으로 회전할 수 있도록 상기 요동캠과 상기 편심축 사이에 베어링이 설치되는 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치. The apparatus of claim 1, wherein a bearing is installed between the oscillating cam and the eccentric shaft so that the oscillating cam can rotate independently of the eccentric shaft. 제1항에 있어서, 상기 요동캠이 위로 갈수록 폭이 좁아지는 원뿔대 형태를 하며, 상기 요동용 구멍도 상기 요동캠이 합치되어 끼워질 수 있도록 원뿔대 형태를 하는 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치.The apparatus of claim 1, wherein the swinging cam has a truncated conical shape that becomes narrower in width, and the swinging hole has a truncated conical shape so that the swinging cam is fitted with the swinging cam. . 제1항에 있어서, 상기 상측중심회전축에 중심잡이용 캠이 설치되며, 상기 요동판에는 상기 중심잡이용 캠이 끼워질 수 있도록 상기 요동용 구멍에서 위쪽으로 연장되어 중심잡이용 구멍이 형성되는 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치. According to claim 1, wherein the centering cam is installed on the upper center rotation shaft, the oscillating plate extending upward from the swinging hole so that the centering cam can be fitted to form a centering hole A substrate swinging device for rapid thermal processing. 제4항에 있어서, 상기 중심잡이용 캠이 아래로 갈수록 폭이 좁아지는 역원뿔대 형태를 하며, 상기 중심잡이용 구멍도 상기 중심잡이용 캠이 합치되어 끼워질 수 있도록 역원뿔대 형태를 하는 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치. 5. The method of claim 4, wherein the centering cam is in the form of an inverted truncated cone becomes narrower toward the bottom, the centering hole is also characterized in that the inverted truncated cone shape so that the centering cam can be fitted to fit. A substrate swinging device for rapid thermal processing. 제4항에 있어서, 상기 중심잡이용 캠이 상기 상측중심회전축에 대해서 독립적으로 회전할 수 있도록 상기 중심잡이용 캠과 상기 상측중심회전축 사이에 베어링이 설치되는 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치. 5. The substrate swing apparatus of claim 4, wherein a bearing is provided between the center cam and the upper center pivot so that the center cam can rotate independently of the upper center pivot. 6. . 제4항에 있어서, 상기 요동캠이 상승하여 상기 요동용 구멍에 끼워지면 상기 중심잡이 캠은 상기 중심잡이용 구멍의 위로 이탈하고, 상기 중심잡이 캠이 하강하여 상기 중심잡이용 구멍에 끼워지면 상기 요동캠은 상기 요동용 구멍의 밑으로 이탈하도록 상기 요동캠과 중심잡이 캠이 설치되는 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치. 5. The method of claim 4, wherein when the swinging cam is raised and fitted into the swinging hole, the centering cam moves away from the centering hole, and when the centering cam descends and is inserted into the centering hole, The swinging cam is a substrate swinging device for rapid thermal processing, characterized in that the swinging cam and the centering cam is installed so as to be separated under the swinging hole. 제1항에 있어서, 기저판과 상기 기저판 상에 설치되는 수평자유이동수단을 더 포함하며, 상기 요동판은 상기 수평자유이동수단 상에 얹혀져서 수평방향으로 병진운동하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치. The method of claim 1, further comprising a base plate and a horizontal free moving means installed on the base plate, wherein the swinging plate is mounted on the horizontal free moving means to be installed to translate in a horizontal direction, rapid heat treatment Substrate rocking device for 제8항에 있어서, 상기 수평자유이동수단은, The method of claim 8, wherein the horizontal free movement means, LM 레일 위쪽에 LM 블록이 올려 놓여지는 하측 LM 가이드;A lower LM guide on which the LM block is placed above the LM rail; LM 레일 아래쪽에 LM 블록이 놓여지며 상기 하측 LM 가이드와 직교하는 방향으로 직선운동을 안내하는 상측 LM 가이드; 및An upper LM guide having an LM block disposed below the LM rail and guiding linear movement in a direction orthogonal to the lower LM guide; And 상기 하측 LM 가이드의 LM 블록과 상기 상측 LM 가이드의 LM 블록이 세트로 함께 움직이도록 상기 하측 LM 가이드의 LM 블록과 상기 상측 LM 가이드의 LM 블록을 연결하는 커낵터;를 포함하는 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치.And a connector connecting the LM block of the lower LM guide and the LM block of the upper LM guide so that the LM block of the lower LM guide and the LM block of the upper LM guide move together in a set. Substrate rocking device for heat treatment. 제1항에 있어서, 상기 요동판 상에 기판회전수단이 설치되며, 상기 기판 지지대는 상기 기판 회전수단에 연결되어 상기 기판의 수평회전이 상기 기판회전수단에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치.The substrate for rapid thermal processing according to claim 1, wherein a substrate rotating means is provided on the rocking plate, and the substrate support is connected to the substrate rotating means so that horizontal rotation of the substrate is performed by the substrate rotating means. Rocking device. 제10항에 있어서, 상기 기판회전수단이 자기부상모터 방식의 회전수단이거나 다극착자 마그네트 방식의 회전수단인 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치.12. The apparatus of claim 10, wherein the substrate rotating means is a magnetic levitation motor rotating means or a multipolar magnet magnet rotating means. 제10항에 있어서, 상기 기판회전수단이 일반모터, 서보모터, 스텝모터 및 에어모터로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나로서 중심축을 중심으로 회전하는 것임을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치. The apparatus of claim 10, wherein the substrate rotating means rotates about a central axis as any one selected from the group consisting of a general motor, a servo motor, a step motor, and an air motor. 제8항에 있어서, 상기 요동판이 수평방향으로 병진운동하는 수평자유이동 거리를 편심량에 의해 조절하는 것을 특징으로 하는 급속열처리용 기판요동장치. 10. The apparatus of claim 8, wherein the horizontal free movement distance at which the rocking plate translates in the horizontal direction is adjusted by an eccentric amount.
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