KR20090047107A - 고분자 박막 안에 형성된 반도체 나노 입자를 사용한태양전지의 제조 방법 - Google Patents

고분자 박막 안에 형성된 반도체 나노 입자를 사용한태양전지의 제조 방법 Download PDF

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KR20090047107A
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Abstract

고분자 박막 안에 형성된 반도체 나노 입자를 사용한 태양전지의 제조 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 태양전지 제조 방법에서는, 기판 상에 형성된 양극 위에 반도체 원료 박막을 형성한 다음, 그 위에 고분자 전구체 박막을 스핀코팅한다. 고분자 전구체 박막을 열처리하여 고분자 박막을 형성하는 동안 반도체 원료 박막으로부터 반도체 나노 입자를 형성함으로써, 나노 입자를 포함하는 고분자 박막으로 이루어진 광기전력층을 형성할 수 있다. 이 방법은 태양전지에서 전극과 나노 입자를 제외한 각 층이 저렴한 고분자로 형성되기 때문에 소자 제작이 빠르고 간단하며, 제작 과정에서 증착하는 반도체 원료에 따라 다양한 나노 입자를 형성할 수 있다. 또한 열처리 조건을 변화시킴에 따라 형성되는 나노 입자의 크기와 밀도의 조절이 용이하여 동작 환경에 따른 태양전지의 광기전력 효율을 최적화하기 용이하다.

Description

고분자 박막 안에 형성된 반도체 나노 입자를 사용한 태양전지의 제조 방법 {Fabrication method of solar cell utilizing semiconductor nanoparticles embedded in a polymer layer}
본 발명은 가시광선 영역에서 광기전력 특성을 가지는 태양전지 제조 방법에 관한 것이다.
태양전지는 비정질 실리콘 또는 다결정 실리콘을 사용하여 P-N 접합 구조로 제작하는 것이 일반적이다. 이러한 실리콘 소재의 태양전지는 다른 소재에 비해 높은 광기전력 효율을 나타내기 때문에 일찍부터 상업화가 이루어졌음에도 불구하고, 태양전지를 제조하는 데 고가의 실리콘을 사용함으로써 태양전지의 가격이 상승하여 현재까지 한정된 분야에만 사용하고 있다.
최근에는 실리콘을 대체하는 새로운 소재와 구조의 태양전지가 연구되고 있으며, 그 중에서 나노 입자나 나노 로드와 같은 나노 구조를 사용하여 태양전지를 제작하려는 시도가 활발히 진행되고 있다. 나노 입자를 사용하는 경우 다공성 무기물 안에 나노 입자를 채워 넣고 이렇게 형성된 나노 입자 층을 전력을 생산하는 광기전력층으로 사용하는 방법이 있다. 그러나 이러한 나노 입자를 광기전력층으로 구성하기 위해서 다공성 무기물을 사용한 태양전지는 그러한 다공성 무기물 자체를 제작하는 것이 어려우며 다공성 구조로 제작할 수 있는 소재가 제한되어 있다는 단점이 있다.
이와 유사한 방법으로 유기물 안에 나노 로드를 첨가하여 광기전력층으로 사용하는 방법이 있다. 이 방법은 졸-겔 방법을 사용하여 나노 로드를 전도성 고분자에 혼합시켜 광기전력층을 형성하는 방법으로, 유기물을 사용하므로 다양한 소재를 사용할 수 있다는 장점을 가지고 있다. 그러나 이 방법은 여전히 나노 입자나 나노 로드와 같은 나노 구조를 미리 형성하여 유기물에 혼합하는 방법을 사용하고 있으므로 나노 구조가 존재하지 않는 물질에 대해서는 태양전지로 제작할 수 없다는 한계를 가지고 있다.
한편으로는 나노 입자를 전극으로 사용하여 기존의 광기전력층으로부터 생산된 전력의 손실을 최소화시키는 연구가 진행되고 있다. 그러나 이 방법은 생산된 전력의 손실을 최소화할 뿐 직접적으로 전력을 생산하지 않기 때문에 근본적인 문제를 해결하는 방법이 될 수 없다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 다양한 소재를 이용할 수 있으면서도 나노 입자를 이용한 태양전지를 간단하게 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위해 본 발명에 따른 태양전지 제조 방법은, 기판 상 에 양극을 형성하는 단계; 상기 양극 상에 반도체 원료 박막을 형성하는 단계; 상기 반도체 원료 박막 상에 고분자 전구체 박막을 스핀코팅하는 단계; 상기 고분자 전구체 박막을 열처리하여 고분자 박막을 형성하는 동안 상기 반도체 원료 박막으로부터 반도체 나노 입자를 형성함으로써, 나노 입자를 포함하는 고분자 박막으로 이루어진 광기전력층을 형성하는 단계; 및 상기 광기전력층 상에 음극을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명에 있어서, 상기 나노 입자는 ZnO, Cu2O, Ge, Si, Sn, SiC, AlAs, AlP, AlSb, GaAs, GaN, GaP, GaSb, InAs, InP, InSb, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, PbS, PbTe, AlxGa1-xAs, InxGa1-xAs, InxAl1-xAs, CdxZn1-xTe, CdxMn1-xTe 및 SnO2 중 적어도 어느 하나일 수 있다.
상기 양극 방향으로 전자가 이동하는 것을 방지하기 위하여, 상기 양극과 광기전력층 사이에 PEDOT(Poly-3,4-Ethylenedioxythiophene)로 이루어진 정공수송층을 형성할 수 있으며, 흡수효율과 전자 이동도를 증가시키기 위하여, 상기 광기전력층과 음극 사이에 C60, 단일벽 탄소 나노튜브, 이중벽 탄소 나노튜브, 다중벽 탄소 나노튜브 및 나노튜브의 묶음(bundle) 중에서 선택된 어느 하나로 이루어진 전자수송층을 형성할 수도 있다.
본 발명에서 제시하는 반도체 나노 입자를 사용한 태양전지의 제조 방법은 나노 입자 외의 무기물을 전혀 사용하지 않으며, 고분자 전구체를 경화시키는 과정 에서 나노 입자를 자연스럽게 형성할 수 있기 때문에 미리 나노 입자를 형성하여 혼합할 필요가 없다. 간단한 열처리를 통해 반도체 원료 박막으로부터 직접 반도체 형태의 나노 입자를 자연적으로 형성할 수 있기 때문에 보다 다양한 나노 입자를 태양전지에 사용할 수 있다. 그리고, 스핀코팅이 가능한 저렴한 가격의 고분자만을 사용하기 때문에 소자의 제작 방법이 매우 간단하고 빠르다는 장점을 가지고 있다.
또한 반도체 원료의 증착 및 고분자 전구체의 경화 과정이 기존의 실리콘 기반의 태양전지 공정보다 훨씬 낮은 온도에서 이루어지기 때문에 고온 공정을 위한 장비가 불필요하여 공정비용이 절감되며 태양전지 제조 과정에서 고온에 의한 소재의 손상을 최소화할 수 있다.
뿐만 아니라, 열처리 조건에 따라 형성되는 나노 입자의 크기와 밀도의 조절이 간단하기 때문에 작동 환경에 맞추어 태양전지의 광기전력의 효율을 최적화하는 데 용이하다.
이하, 첨부 도면들을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명의 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 발명의 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
(태양전지 제조 방법의 실시예)
도 1 내지 도 6은 본 발명에 따른 태양전지 제조 방법을 설명하기 위한 공정 순서별 단면도들이고, 도 7은 본 발명에 따라 제조된 태양전지의 개략도이다.
먼저 기판(10)으로서 Al2O3, 유리(glass), 석영(quartz) 등의 투명한 무기물 기판을 사용하거나, 폴리에틸렌테레프탈레이트(줄여서 PET, 다른 말로 폴리테레프탈산에틸렌), 폴리카보네이트(다른 말로 폴리탄산에스테르), 폴리이미드(polyimide : PI), 폴리에틸렌나프탈레이트, PVC, PVP, PE 또는 폴리에테르설폰(PES)과 같은 투명한 유기물 기판을 사용할 수 있다. 유기물 기판을 사용하는 경우에는 구부림이 가능한 태양전지를 제조할 수 있다. 이러한 기판(10)을 준비하여 표면의 먼지, 기름기 등의 불순물을 제거하기 위해 TMC(trichloroethylene) 용액으로 불순물을 제거한 후 탈이온수(de-ionized water)를 사용하여 세척한다.
다음으로, 도 1을 참조하여 기판(10) 위에 투명 전극이 되는 ITO(indium-tin-oxide) 박막을 스퍼터링 공정을 통해 증착한다. ITO 박막은 완성된 태양전지의 양극(20)으로 사용된다. ITO 또는 F 도핑된 이산화주석(FTO)과 같은 투명 전도성 물질을 증착하여도 된다.
그런 다음, 도 2에서와 같이 양극(20) 위에 PEDOT(Poly-3,4-Ethylenedioxythiophene) 용액을 스핀코팅 방법으로 박막 형태로 증착한다. 스핀코팅의 회전수(rpm) 및 회전시간을 조절하여 박막의 두께를 조절할 수 있다. 박막 증착 후에는 오븐에서 135℃에서 30분 동안 열을 가해 용매를 제거한다. 용매를 제거한 PEDOT 박막은 정공수송층(30)의 역할을 하며 양극(20) 방향으로 전자가 이동하 는 것을 억제하는 역할을 한다. 그러나 정공수송층(30)을 반드시 형성해야 하는 것은 아니다.
형성된 정공수송층(30) 위에 도 3을 참조하여 반도체 원료 박막(40)을 형성한다. 예를 들어, 약 5 nm 두께로 Zn 박막을 열증착(thermal evaporation) 공정을 사용하여 증착시킨다. 반도체 원료 박막(40)은 후에 나노 입자의 원료가 되는 것이므로 원하는 조성의 나노 입자를 얻기 위해 기본 원료가 되는 물질을 선택하여 증착하도록 한다.
한편, 폴리이미드의 전구체인 BPDA-PDA(Biphenyltetracarboxylic Dianhydride-p-Phenylenediamine) 형의 폴리아믹산을 용매인 NMP(N-Methyl-2-Pyrrolidone)에 질량비를 1:3으로 하여 용해시킨다. BPDA-PDA가 녹아있는 NMP 용매에 PVK(poly N-vinylcarbazole)를 1:1의 몰(mole)비로 혼합시켜 고분자 전구체를 제조한다. 보다 고르게 혼합시키기 위해 초음파 교반기를 통해 2시간 이상 교반시킨다.
BPDA-PDA와 PVK가 섞여있는 NMP 용매인 고분자 전구체를 반도체 원료 박막(40) 위에 스핀코팅 방법으로 증착하여 폴리아믹산+PVK 박막과 같은 고분자 전구체 박막(50)을 형성한 상태가 도 4에 도시되어 있다. 스핀코팅의 회전수 및 회전시간을 조절하여 형성되는 고분자 전구체 박막(50)의 두께를 조절할 수 있다. 스핀코팅 대신에 동일한 작용효과를 나타낸다면 스프레이 또는 닥터 블레이드법에 의하여 고분자 전구체 박막(50)을 형성하는 것도 본 발명의 변형에 해당한다 할 수 있다. 고분자 전구체 박막(50) 형성 후에는 PEDOT 처리와 동일하게 오븐에서 135℃에서 30분 동안 열을 가해 용매인 NMP를 제거한다.
그 다음 폴리아믹산의 경화 작용을 위해 도 5에서와 같이 N2 환경에서 350℃-360℃로 2시간 동안 열처리(H)를 실시하여 폴리아믹산을 폴리이미드로 경화시킨다. 이 과정에서 반도체 원료 박막(40)은 폴리아믹산의 산소와 결합하여 최종적으로는 PI+PVK 박막인 고분자 박막(55) 안에 ZnO 나노 입자인 반도체 나노 입자(45)로 형성된다. 열처리(H)를 고온에서 장시간하는 경우에는 나노 입자의 크기가 커지는 것과 같이, 열처리(H) 조건에 따라 형성되는 나노 입자의 크기와 밀도의 조절이 간단하다. 따라서, 작동 환경에 맞추어 태양전지의 광기전력의 효율을 최적화하는 데 용이하다.
한편, 나노 입자(45)는 ZnO 이외에도, Cu2O, Ge, Si, Sn, SiC, AlAs, AlP, AlSb, GaAs, GaN, GaP, GaSb, InAs, InP, InSb, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, PbS, PbTe, AlxGa1-xAs, InxGa1-xAs, InxAl1-xAs, CdxZn1-xTe, CdxMn1-xTe 및 SnO2 중 어느 하나일 수 있는데, 그러할 경우 반도체 원료 박막(40)으로서 Zn 대신에 Cu, Ge, Si, Sn, SiC, AlAs, AlP, AlSb, GaAs, GaN, GaP, GaSb, InAs, InP, InSb, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, PbS, PbTe, AlxGa1-xAs, InxGa1-xAs, InxAl1-xAs, CdxZn1-xTe, CdxMn1-xTe 및 Sn 중 어느 하나의 반도체 원료 박막을 형성하면 된다.
다음으로, 도 6을 참조하여 광기전력층(60) 상에 전자수송층(70)을 형성한다. 전자수송층(70)은 C60, 단일벽 탄소 나노튜브, 이중벽 탄소 나노튜브, 다중벽 탄소 나노튜브 및 나노튜브의 묶음(bundle) 중에서 선택된 어느 하나로 이루어지도록 형성할 수 있다. 그러나, 전자수송층(70)을 반드시 형성해야 하는 것은 아니다. 그런 다음, 전자수송층(70) 위에 Al 전극을 열증착 공정을 통해 증착하여 음극(80)을 형성한다.
도 7에 최종적으로 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따라 제조된 태양전지는 나노 입자(45)가 포함된 고분자 박막(55)이 광기전력층(60)으로 사용되는 구조이며, 나노 입자(45)는 미리 따로 준비된 것을 이용하는 것이 아니라, 고분자 박막(55)을 형성하는 열처리 과정에서 자동적으로 형성함에 특징이 있다. 간단한 열처리를 통해 반도체 원료 박막으로부터 직접 반도체 형태의 나노 입자를 자연적으로 형성할 수 있기 때문에 보다 다양한 나노 입자를 태양전지에 사용할 수 있다. 그리고, 스핀코팅이 가능한 저렴한 가격의 고분자만을 사용하기 때문에 소자의 제작 방법이 매우 간단하고 빠르다는 장점을 가지고 있다.
도 8은 본 발명에 따라 제조한 고분자 박막 안에 포함된 ZnO 나노 입자의 전자현미경사진이다.
실시예에서 언급한 바와 같이 5 nm 두께로 Zn 박막을 열증착 공정을 사용하여 증착한 후, BPDA-PDA 형의 폴리아믹산과 PVK가 용매인 NMP에 용해되어 있는 고분자 전구체를 이용하여 고분자 전구체 박막을 형성하였다. 그런 다음, 오븐에서 135℃에서 30분 동안 열을 가해 용매인 NMP를 제거하고 N2 환경에서 350℃로 2시간 동안 열처리하여 폴리아믹산을 폴리이미드로 경화시켰다. 이 과정에서 Zn이 산화되 어 ZnO 나노 입자로 형성되었으며, 사진의 스케일바로부터 알 수 있듯이 형성된 나노 입자의 크기는 10nm 이하이며 매우 균일한 크기와 밀도로 형성되었다.
(제조된 태양전지의 동작법)
본 발명에 따라 제조된 태양전지는 도 9와 같은 에너지 대역도를 형성한다. PI와 PVK는 혼합물 상태이기 때문에 이 경우 금지대역이 큰 PI 안에 그보다 작은 금지대역을 가지는 PVK가 중첩되어 존재하는 모습을 가지게 된다.
외부 광원으로부터의 빛은 양극으로부터 나노 입자로 입사된다. 유리 기판, ITO 전극 및 PEDOT 박막은 모두 투명하기 때문에 빛이 나노 입자로 입사될 수 있다.
입사된 빛을 이루는 광자는 나노 입자에 존재하는 가전자대의 전자와 충돌한다. 가전자대의 전자는 충돌한 광자로부터 광자에 파장에 해당하는 에너지를 받아 도 9와 같이 전도대로 도약하게 된다.
가전자대의 전자가 전도대로 도약함에 따라 가전자대에는 정공이 남게 된다. 나노 입자에 남겨진 정공은 PVK와 PEDOT 박막을 지나 양극인 ITO 전극으로 이동하게 되고, 전도대의 전자는 PVK 층을 지나 음극인 Al 전극으로 이동하게 된다. PI층은 절연체로서 전자와 정공의 이동에 관여하지 않는다.
각 전극을 향해 이동한 전자와 정공에 의해 태양전지는 기전력을 갖게 되어 전원으로 동작하게 된다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 많은 변형이 가능함은 명백하다. 본 발명의 실시예는 예시적이고 비한정적으로 모든 관점에서 고려되었으며, 이는 그 안에 상세한 설명보다는 첨부된 청구범위와, 그 청구범위의 균등 범위와 수단내의 모든 변형예에 의해 나타난 본 발명의 범주를 포함시키려는 것이다.
도 1 내지 도 6은 본 발명에 따른 태양전지 제조 방법을 설명하기 위한 공정 순서별 단면도들이다.
도 7은 본 발명에 따라 제조된 태양전지의 개략도이다.
도 8은 본 발명에 따라 제조한 고분자 박막 안에 포함된 ZnO 나노 입자의 전자현미경사진이다.
도 9는 본 발명에 따라 제조된 태양전지의 에너지 대역도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10...기판 20...양극
30...정공수송층 40...반도체 원료 박막
45...나노 입자 50...고분자 전구체 박막
55...고분자 박막 60...광기전력층
70...전자수송층 80...음극

Claims (6)

  1. 기판 상에 양극을 형성하는 단계;
    상기 양극 상에 반도체 원료 박막을 형성하는 단계;
    상기 반도체 원료 박막 상에 고분자 전구체 박막을 스핀코팅하는 단계;
    상기 고분자 전구체 박막을 열처리하여 고분자 박막을 형성하는 동안 상기 반도체 원료 박막으로부터 반도체 나노 입자를 형성함으로써, 나노 입자를 포함하는 고분자 박막으로 이루어진 광기전력층을 형성하는 단계; 및
    상기 광기전력층 상에 음극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 나노 입자는 ZnO, Cu2O, Ge, Si, Sn, SiC, AlAs, AlP, AlSb, GaAs, GaN, GaP, GaSb, InAs, InP, InSb, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, PbS, PbTe, AlxGa1-xAs, InxGa1-xAs, InxAl1-xAs, CdxZn1-xTe, CdxMn1-xTe 및 SnO2 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 고분자 전구체는 BPDA-PDA(Biphenyltetracarboxylic Dianhydride-p-Phenylenediamine) 형의 폴리아믹산과 PVK(poly N-vinylcarbazole)이 NMP(N-Methyl-2-Pyrrolidone)에 용해되어 있는 것을 특징으로 하는 태양전지 제 조 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 열처리는 N2 환경에서 350℃-360℃로 수행하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 양극과 광기전력층 사이에 PEDOT(Poly-3,4-Ethylenedioxythiophene)로 이루어진 정공수송층을 형성하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 광기전력층과 음극 사이에 C60, 단일벽 탄소 나노튜브, 이중벽 탄소 나노튜브, 다중벽 탄소 나노튜브 및 나노튜브의 묶음(bundle) 중에서 선택된 어느 하나로 이루어진 전자수송층을 형성하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법.
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