KR20090041023A - 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1에이치-벤즈이미다졸의 제조방법 - Google Patents

2-(2-피리딜메틸)설피닐-1에이치-벤즈이미다졸의 제조방법 Download PDF

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KR20090041023A
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윤진영
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Abstract

본 발명은 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 2-(2-피리딜메틸티오)-1H-벤즈이미다졸을 적절한 염기의 존재하에서 0.3 내지 0.45 몰당량의 트리클로로이소시아누르산을 산화제로 사용하여 산화반응시킴으로서 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸을 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명은 인체에 무해하면서 취급과 보관이 쉽고, 안전하며 경제적인 트리클로로이소시아누르산을 사용함으로써 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸을 높은 수율과 순도로 효율적이며 경제적이고, 대량생산이 용이한 제조방법을 제공한다.
Figure 112007075661242-PAT00001
(화학식 중 R1는 수소원자, 메톡시기, 피롤기 또는 디플루오로메톡시기를, R2는 수소원자, 메틸기 또는 메톡시기를, R3는 3-메톡시프로폭시기, 메톡시 또는 2,2,2-트 리플루오로에톡시기를, R4는 수소원자 또는 메틸기로 이루어진 군에서 선택되어진다)
벤즈이미다졸 유도체, 트리클로로이소시아누르산

Description

2-(2-피리딜메틸)설피닐-1에이치-벤즈이미다졸의 제조방법{process for preparing 2-(2-pyridylmethyl)sulfinyl-1H-benzimidazole}
본 발명은 화학식 (I)로 표시되는 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 화학식 (II)로 표시되는 2-(2-피리딜메틸티오)-1H-벤즈이미다졸을 적절한 염기의 존재하에서 트리클로로이소시아누르산으로 산화하여 화학식 (I)로 표시되는 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸을 제조하는 방법에 관한 것이다.
Figure 112007075661242-PAT00002
상기식에서 R1는 수소원자, 메톡시기, 피롤기 또는 디플루오로메톡시기를, R2는 수 소원자, 메틸기 또는 메톡시기를, R3는 3-메톡시프로폭시기, 메톡시 또는 2,2,2-트리플루오로에톡시기를, R4는 수소원자 또는 메틸기이다.
상기화학식 (I)로 표시되는 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸유도체 중에는 위산 분비 억제작용과 위점막보호작용, 항궤양 작용을 가지고 있는 오메프라졸(유럽특허 제5129호), 란소프라졸(유럽특허 제174726호), 판토프라졸(유럽특허 제134400호), 및 라베프라졸(유럽특허 제268956호) 등이 있다.
현재까지, 상기화합물 (II)로 표시되는 2-(2-피리딜메틸티오)-1H-벤즈이미다졸을 산화시켜 목적하는 상기화합물 (I)로 표시되는 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸을 생성시키는 산화제는 이미 여러 가지 화합물들이 공지되어 있다.
그러한 산화제로는 3-클로로퍼옥시벤조익산(국제출원공개 제91/18895, 유럽특허 제533752호), 마그네슘모노퍼옥시프탈에이트(유럽특허 제533264호), 아이오도소 메틸벤젠(스페인특허공개 제540147호), 소디움퍼클로라이트(유럽특허 제268956호), 소디움퍼아이오데이트(스페인특허공개 제550070호), 퍼아세트산(국제출원공개 제98/09962호), 소디움퍼카보네이트(국제출원공개 제2001/068594호), 바나듐 촉매존재하의 과산화수소수(유럽특허등록 제302720호), 레늄 촉매존재하의 과산화수소수(국제출원공개 제2001/21617호), 칼슘하이포클로라이트(대한미국특허공개 제2000/72705호), 클로로숙신이미드 및 디클로로이소시아누릭산(대한민국특허등록 제559169호), 몰리브덴염 촉매존재하의 수성 과탄산나트륨(대한민국특허출원 제2002/7011987호), 바나듐 촉매상의 t-부틸 하이드로페록시드(대한민국특허출원 제2003/70102179호), 트리클로로이소시아누르산(미국특허출원 제2005/75370호)등이 보고되어 있다.
상기의 개시된 산화제 중에서 가장 다용되고 있는 산화제는 3-클로로퍼옥시벤조익산이다(국제출원공개 제91/18895). 그러나 3-클로로퍼옥시벤조익산을 산화제로 이용하여 상기화학식 (II)인 2-(2-피리딜메틸티오)-1H-벤즈이미다졸을 산화반응시 하기의 반응식에서와 같이 목적물인 화학식(I)과 함께, N-옥시드 화합물(III)과 2-(2-피리딜메틸)설폰일-1H-벤즈이미다졸(IV)과 같은 부생성물이 함께 생성되는 문제가 있다. 이와 같은 반응상의 문제점은 부생성물의 생성으로 인하여 수율을 80%이하로 감소시키고, 또한 생성된 부생성물들은 목적하는 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸(I)과 물리화학적 성질이 매우 유사하여 쉽게 제거되기 어렵기 때문에 고도의 복잡한 정제과정이 요구된다(국제특허공개 제2003/008406호)
[반응식 1]
Figure 112007075661242-PAT00003
또한 과산화수소수를 용매와 산화제로서 사용하고, 바나듐, 레늄, 몰리브덴 등의 금속촉매를 이용하여 산화시키는 방법에서는 사용하는 촉매가 매우 비싸며 유독하다는 문제가 있고, 또한 산화반응의 조절이 어려워 과산화된 부생성물인 N-옥시드 화합물(III)과 2-(2-피리딜메틸)설폰일-1H-벤즈이미다졸(IV)이 생성되고, 이러한 부생성물의 생성량을 관리하기 곤란하여 일정한 품질로 제조하기 어려운 문제가 있다.
미국특허출원 제2005/75370A1호에는 N-클로로프탈이미드 또는 N-클로로삭카린, 트리클로로이소시아누르산을 산화제로 사용하여 1.05 몰당량 내지 1.6 몰당량을 사용하여 5℃ 부근 또는 그 이하의 온도에서 반응시켜 산화반응을 수행할 수 있다고 보고 되어있고, 트리클로로이소시아누르산을 사용한 경우에는 판토프라졸을 90%의 수율로 제조하는 방법이 보고 되어 있으나, 본 발명자들이 실시예에 따라 반복 시행해본 결과, 판토프라졸은 전혀 얻을 수가 없고, 다량의 부생성물만이 생성되는 것을 확인하였다. 이는 미국특허출원 제2005/75370A1호에서의 언급이 통상적으로 산화반응에 이용할 수 있는 할로겐화 산화제들을 나열한 것임을 나타낸다.
이에 본 발명자들은 연구를 계속한 결과, 놀랍게도 트리클로로이소시아누르산을 0.3 몰당량 내지 0.45 몰당량 만을 사용하여 부생성물인 2-(2-피리딜메틸)설폰일-1H-벤즈이미다졸(IV)을 거의 생성시키지 않고, 목적하는 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸(I)을 고수율로 생성할 수 있음을 발견하여 본 발명을 완성하 게 되었다.
2-(2-피리딜메틸티오)-1H-벤즈이미다졸을 적절한 염기의 존재하에서 0.3 몰당량 내지 0.45 몰당량의 트리클로로이소시아누르산으로 산화하여 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸을 제조하는 방법은 온화한 반응조건과 반응물을 사용하여 놀라울 정도의 고수율 및 고순도로 목적물을 용이하게 얻을 수 있기 때문에 경제적이며 공업적인 대량생산 적용이 가능하다.
본 발명에서는 목적 화합물을 합성하는데 있어 공지방법의 단점인 N-옥시드 화합물(III)과 2-(2-피리딜메틸)설폰일-1H-벤즈이미다졸(IV)과 같은 부생성물의 생성이 억제되고 목적물인 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸(I)을 최고의 수율로 생성시켜, 불순물 제거에 필요한 후처리공정을 거치지 않는 편의하고, 또한 온화하고 용이한 반응조건에서 경제적이고 대량생산이 용이한 제조방법으로 목적물을 높은 순도와 높은 수율로 제조하는 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 2-(2-피리딜메틸티오)-1H-벤즈이미다졸(II)을 0.3 몰당량 내지 0.45 몰당량의 트리클로로이소시아누르산으로 산화하여 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸(I)을 고순도, 고수율로 제조하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 공정은 다음의 반응식에 의해 설명될 수 있다.
[반응식 2]
Figure 112007075661242-PAT00004
상기 반응식에서 R1는 수소원자, 메톡시기, 피롤기 또는 디플루오로메톡시기를, R2는 수소원자, 메틸기 또는 메톡시기를, R3는 3-메톡시프로폭시기, 메톡시 또는 2,2,2-트리플루오로에톡시기를, R4는 수소원자 또는 메틸기이다.
본 발명을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
2-(2-피리딜메틸티오)-1H-벤즈이미다졸(II)을 염기의 존재하에서 트리클로로이소시아누르산0.3 몰당량 내지 0.45 몰당량을 산화제로 사용하여 산화반응시킴으로서 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸(I)을 제조하는 방법을 제공한다.
상기반응에서 사용되는 산화제인 트리클로로이소시아누르산은 수영장 등에 살균 소독제로 널리 사용되고 있는 안정하고 저렴한 화학물질로서 공업적으로 쉽게 입수할 수 있다.
상기반응에서 고순도, 고수율로 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸(I)을 제조하기 위해서는 트리클로로이소시아누르산의 양이 매우 중요하다. 적절한 범위의 몰당량보다 적게 사용할 경우에는 목적하는 만큼의 목적물을 얻을 수 없다. 또한 적절한 범위의 몰당량 이상을 사용할 경우에는 2-(2-피리딜메틸)설폰일-1H-벤즈이미다졸(IV)과 같은 부생성물을 생성시키거나 분해된 화합물이 다양하게 생성된다.
상기반응에서 트리클로로이소시아누르산의 양은 2-(2-피리딜메틸티오)-1H-벤즈이미다졸(II)화합물의 단위 몰당 0.3 몰당량 내지 0.45 몰당량의 범위를 사용한다.
또한 바람직하게는 트리클로로이소시아누르산을 0.30 내지 0.35 몰당량을 사용한다.
본 발명자들은 상기반응에서 산화제인 트리클로로이소시아누르산의 양을 조절함으로서 목적하는 산화반응의 정도를 조절할 수 있었고, 부생성물의 생성량을 적절히 조절할 수 있었다. 이는 기존의 산화반응의 방법에서처럼 과량의 산화제를 사용하고, 촉매의 사용량과 반응시간으로서 산화반응을 조절하는 방법과는 차별화된다.
트리클로로이소시아누르산을 0.25 몰당량 내지 1.6 몰당량을 사용하여 2-[[[4-(3-메톡시프로폭시)-3-메틸-2-피리디닐]메틸]설피닐]-1H-벤즈이미다졸(라베프라졸)의 제조를 시도한 결과(비교실시예 2 참조) 표1에서 보는 바와 같이 트리클로로이소시 아누르산을 0.40 몰당량 이상을 사용한 경우, 목적물인 구조식(I)의 비율이 높지만, 부생성물인 구조식(IV)의 생성량 또한 많아짐을 확인할 수 있다. 반면 0.30 몰당량 이하를 사용한 경우, 목적물인 구조식(I)의 생성비율이 낮고, 부생성물인 구조식(IV)의 생성량도 적어짐을 확인할 수 있었다. 출발물질인 구조식(II)의 화합물은 반응 후처리 공정 또는 결정화단계에서 제거시키는 것이 용이하나, 구조식(IV)의 화합물은 구조식(I)의 화합물인 2-[[[4-(3-메톡시프로폭시)-3-메틸-2-피리디닐]메틸]설피닐]-1H-벤즈이미다졸(라베프라졸)과 물리화학적 성질이 매우 유사하여 후처리공정에서 제거되기 어렵고, 재결정으로도 제거하기 어렵기 때문에, 반응시에 생성되지 않도록 하는 것이 유리하다. 그러므로 0.35 몰당량을 사용한 실시예 1의 조건과 0.33 몰당량을 사용한 실시예 2의 경우가 다른 몰당량의 조건에서보다 목적하는 구조식(I)의 비율이 높을 뿐 아니라, 제거하기 어려운 구조식(IV)의 부생성물의 생성량이 적으므로, 트리클로로이소시아누르산을 0.30 몰당량 내지 0.35 몰당량 사용한 조건이 매우 우수한 반응조건임을 알 수 있다.
또한 미국특허출원 제2005/75370A1호의 실시예 내용에 따라 트리클로로이소시아누르산을 1.10 몰당량을 사용하여 판토프라졸의 합성을 시도한 경우(비교실시예 1 참조)와 트리클로로이소시아누르산을 1.09 몰당량과 1.6 몰당량을 사용하여 라베프라졸의 합성을 시도한 경우(비교실시예 2 참조) 모두에서 목적하는 판토프라졸 또는 라베프라졸을 전혀 얻을 수가 없었고, 다량의 부생성물만이 생성되는 것을 확인할 수 있었다.
상기반응에서는 또한 반응온도의 선택이 중요하다. 적절한 반응온도는 5℃ 내지 15℃가 바람직하다. 15℃보다 높은 온도에서 반응시킬 경우 2-(2-피리딜메틸)설폰일-1H-벤즈이미다졸(IV)과 같은 부생성물의 생성량이 증가된다.
기존의 산화반응들에서는 일반적으로 과량의 산화제를 사용함으로서 장시간 반응 진행시 산화반응이 과도하게 진행되어 목적물이 오히려 적어지고, 부생성물이 증가하게 된다. 그러므로 기존반응에서는 일반적으로 산화반응의 진행정도를 시간에 따라 추적하여 원하는 반응진행상태에 도달한 때에 퀀처(quencher)를 가하여 산화반응을 정지시키는데, 이러한 기존의 방법들은 매우 많은 노력과 숙달이 필요하다. 그럼으로 기존 방법으로는 산화반응에서의 수율과 부생성물의 생성량을 일정하게 유지시키기가 매우 어렵다.
이에 비하여 상기반응에서 반응온도는 5℃ 내지 15℃에서 15분 내지 30분을 유지하며 교반하여 목적하는 산화반응을 완료할 수 있다. 또한 반응액을 상온에서 2시간 내지 1일 이상 방치 또는 교반하여도 특별히 분해 되거나 수율의 감소가 나타나지 않는다.
또한 본 상기반응에서는 반응정지를 위한 퀀처가 따로 필요 없으며, 산화제인 트리클로로이소시아누르산의 양만을 조절함으로서 산화반응의 진행정도를 용이하게 조 절할 수 있고, 또한 부생성물의 발생량을 조절하면서 목적물을 원하는 순도로서 간단하고 편리하게 또한 일정하게 생성할 수 있음을 확인하였다.(비교실시예 2 참조)
상기반응에서의 적절한 용매로는 물, 알콜류, 아세톤, 아세토니트릴, 테트라히드로퓨란, 디옥산, 디메칠포름아미드, 디클로로메탄 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 적어도 어느 하나를 선택하여 사용한다. 바람직하게는 물 및 아세토니트릴의 혼합물 또는 물 및 디클로로메탄의 혼합물을 사용한다.
상기반응에서 사용되는 염기성 수용액으로는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 소디움메톡사이드, 소디움에톡사이드을 이용하여 제조할 수 있으며 바람직하게는 수산화나트륨의 수용액을 사용한다.
본 발명의 제조방법으로 제조될 수 있는 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸 유도체는 대표적으로 라베프라졸, 판토프라졸, 란소프라졸, 오메프라졸 등이 있다.
본 발명의 제조공정의 장점을 요약하면 다음과 같다.
첫째, 선행기술들에 비하여 본 발명은 널리 사용되고 있는 독성이 없고, 안정하고 저렴한 화학물질인 트리클로로이소시아누르산 사용하고, 또한 적은 양만을 사용한다.
둘째, 선행기술들에 비하여 특징적으로 트리클로로이소시아누르산의 사용량을 조절함으로서 제거하기 어려운 부생성물의 발생량을 조절할 수 있어, 고순도로 목적물을 일정하게 제조할 수 있다.
셋째, 선행기술들에 비하여 15분 내지 30분 내에 반응이 거의 완료되어 반응시간이 짧으며, 반응정지를 위한 퀀처(quencher)의 사용이 필요 없으며, 산화반응의 진행정도를 시간에 따라 추적하는 노력 없이도 매우 간단하게 반응을 진행할 수 있다.
넷째, 독성이 있는 촉매 등을 사용하지 않으므로 촉매 제거를 위한 복잡한 설비나 시설이 필요 없어, 대량생산이 용이하고 경제성을 확보할 수 있다.
이하 본 발명을 다음의 실시예에 의거하여 더욱 상세히 설명하는 바, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
2-[[[4-(3- 메톡시프로폭시 )-3- 메틸 -2- 피리디닐 ] 메틸 ] 설피닐 ]-1H- 벤즈이미다졸(라베프라졸)의 제조
2-[[[4-(3-메톡시프로폭시)-3-메틸-2-피리디닐]메틸]티오]-1H-벤즈이미다졸 5.0g(14.56mmol)를 아세토니트릴 60ml에 용해시키고, 수산화나트륨 2.01g(50.25mmol)을 물 22.5ml에 용해시켜 가한 다음, 트리클로로이소시아누르산 1.18g(5.10mmol, 0.35eq)을 7℃에서 가하고, 15분 동안 8℃ 내지 12℃에서 교반한 후, 상온에서 밤새 교반 한 다음(반응액을 취하여 HPLC 분석하였음), 여과하고, 감압농축한 다음, 1N 수산화나트륨수용액 25ml를 가하고 디클로로메탄 8ml로서 세척한 다음, 디클로로메탄 35ml를 가한 다음, HCl 수용액을 가하여 pH 9.2로 조정한 다음, 유기층을 분리하여 감압농축하고, 에칠아세테이트 30ml를 가한 다음, 밤새 교반하고, 여과하고, 상온에서 건조하여 표제화합물 4.87g을 수득한다. 수율 93.1%
HPLC 순도 분석(면적율)
구조식(I) 구조식(IV) 구조식(II)
반응액 96.02% 0.15% 1.84%
수득물 99.43% 0.10% 0.02%
실시예 2
2-[[[4-(3- 메톡시프로폭시 )-3- 메틸 -2- 피리디닐 ] 메틸 ] 설피닐 ]-1H- 벤즈이미다졸(라베프라졸)의 제조
2-[[[4-(3-메톡시프로폭시)-3-메틸-2-피리디닐]메틸]티오]-1H-벤즈이미다졸 5.0g(14.56mmol)를 아세토니트릴 60ml에 용해시키고, 수산화나트륨 2.01g(50.25mmol)을 물 22.5ml에 용해시켜 가한 다음, 트리클로로이소시아누르산 1.12g(4.81mmol, 0.33eq)을 6℃에서 가하고, 15분 동안 7℃ 내지 13℃에서 교반한 후, 상온에서 밤새 교반 한 다음(반응액을 취하여 HPLC 분석하였음), 여과하고, 감압농축한 다음, 1N 수산화나트륨수용액 25ml를 가하고 디클로로메탄 8ml로서 세척한 다음, 디클로로메탄 35ml를 가한 다음, HCl 수용액을 가하여 pH 9.2로 조정한 다음, 유기층을 분리하여 감압농축하고, 에칠아세테이트 30ml를 가한 다음, 밤새 교반하고, 여과하고, 상온에서 건조하여 표제화합물 4.66g을 수득한다. 수율 89.0%
HPLC 순도 분석(면적율)
구조식(I) 구조식(IV) 구조식(II)
반응액 92.03% 0.06% 6.77%
수득물 99.56% 0.07% 불검출
실시예 3
5-( 디플루오르메톡시 )-2-[[(3,4- 디메톡시프로폭시 )-3- 메틸 -2- 피리디닐 ] 메틸 ] 설피닐 ]-1H- 벤즈이미다졸(판토 프라졸)의 제조
5-(디플루오르메톡시)-2-[[(3,4-디메톡시프로폭시)-3-메틸-2-피리디닐]메틸]티오]-1H-벤즈이미다졸 3.15g(8.62mmol)를 아세토니트릴 31.5ml에 용해시키고, 수산화나트륨 1.19g(29.75mmol)을 물 13.5ml에 용해시켜 가한 다음, 트리클로로이소시아누르산 0.64g(2.754mmol, 0.32eq)을 7℃에서 가하고, 15분 동안 7℃ 내지 13℃에서 교반한 후, 상온에서 밤새 교반 한 다음(반응액 0.2ml을 취하여 HPLC 분석하였음), 여과하고, 유기층은 물로 세척하고, 수층은 에칠아세테이트로 2회 추출하여 유기층을 모으고, 무수황산마그네슘으로 건조하고 여과한 다음, 감압농축하고, 에칠아세테이트 5ml와 n-헥산 10ml으로 결정화하여 표제화합물 3.02g을 수득한다. 수율 92.3%
HPLC 순도 분석(면적율)
구조식(I) 구조식(IV) 구조식(II)
반응액 93.72% 0.09% 3.43%
수득물 99.51% 0.12% 0.06%
[비교실시예 1]
5-(디플루오르메톡시)-2-[[(3,4-디메톡시프로폭시)-3-메틸-2-피리디닐]메틸]설피닐]-1H-벤즈이미다졸(판토프라졸)의 제조시도 (미국특허출원 제2005/75370호 실시예 11의 재현실험)
5-(디플루오르메톡시)-2-[[(3,4-디메톡시프로폭시)-3-메틸-2-피리디닐]메틸]티오]-1H-벤즈이미다졸 5.0g(13.61mmol)를 아세토니트릴 40ml에 가한 다음, 2N 수산화나트륨 수용액 17.5ml을 가하고, 플라스크를 -10℃로 냉각한다. 트리클로로이소시아누르산 3.48g(1.1eq)을 디메칠포름아미드 10ml에 녹여 45분 동안 가하고, 상온에서 1시간동안 교반하고, (반응액을 취하여 HPLC 분석하였으나 목적물을 발견하지 못하였다) 반응액에 나트륨메타비설파이트(Na2S2O5)포화수용액 20ml를 가한 다음, pH 8.5로 조정하고, 유기층을 분리하여 소금물로 씻어주고, 수층은 에칠아세테이트로 추출하여 유기층을 합하여 건조, 감압농축하였으나 목적물을 발견할 수 없었다.
HPLC 순도 분석(면적율)
구조식(I) 구조식(IV) 구조식(II)
반응액 불검출 불검출 2.19%
[비교실시예 2]
트리클로로이소시아누르산 0.25 몰당량 내지 1.6 몰당량을 사용하여 2-[[[4-(3-메톡시프로폭시)-3-메틸-2-피리디닐]메틸]설피닐]-1H-벤즈이미다졸(라베프라졸)의 제조시도
6개의 150ml의 둥근플라스크 각각에 2-[[[4-(3-메톡시프로폭시)-3-메틸-2-피리디닐]메틸]티오]-1H-벤즈이미다졸 5.0g(14.56mmol)를 아세토니트릴 60ml에 용해시키고, 수산화나트륨 2.01g(50.25mmol)을 물 22.5ml씩에 용해시켜 가한 다음, 트리클로로이소시아누르산 0.846g(3.64mmol, 0.25eq), 1.015g(4.37mmol, 0.30eq), 1.354g(5.83mmol, 0.40eq), 1.523g(6.55mmol, 0.45eq), 3.688g(15.87mmol, 1.09eq), 5.414g(23.30mmol, 1.60eq) 각각을 5℃ 내지 7℃에서 가하고, 15분 동안 6℃ 내지 14℃에서 교반한 후, 상온에서 밤새 교반 한 다음, 반응액 0.2ml씩을 취하여 HPLC 분석하여 비교하였다. (표 1 참조)
본 발명의 실시예 1과 실시예 2 및 비교실시예 2의 반응완료 후, 반응액을 취하여 HPLC로 분석하여 비교한 결과를 하기 표 1에 표시하였다.
HPLC 분석조건
검출기: 자외부흡광광도계
측정파장: 290nm
칼럼: 옥타데실실릴화 실리카겔 5um, 4.6mm X 150mm
이동상: 메탄올 0.05mol/L 인산염완충액 (pH 7.0) 혼액 (55:45, v/v)
유속: 1.0mL/분
칼럼온도: 약 25℃부근의 일정온도
주입량: 10uL
Figure 112007075661242-PAT00005

Claims (3)

  1. 화학식 (II)로 표시되는 2-(2-피리딜메틸티오)-1H-벤즈이미다졸을 0.3 몰당량 내지 0.45 몰당량의 트리클로로이소시아누르산으로 산화반응시켜 화학식 (I)로 표시되는 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1H-벤즈이미다졸을 제조하는 것을 특징으로 하는 방법.
    Figure 112007075661242-PAT00006
    상기식에서 R1는 수소원자, 메톡시기, 피롤기 또는 디플루오로메톡시기를, R2는 수소원자, 메틸기 또는 메톡시기를, R3는 3-메톡시프로폭시기, 메톡시 또는 2,2,2-트리플루오로에톡시기를, R4는 수소원자 또는 메틸기이다.
  2. 제 1항에 있어서, 화학식 (I)의 화합물이 라베프라졸, 판토프라졸, 란소프라졸 또는 오메프라졸인 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1항에 있어서, 반응을 5℃ 내지 15℃의 범위에서 행하는 방법.
KR1020070106500A 2007-10-23 2007-10-23 2-(2-피리딜메틸)설피닐-1에이치-벤즈이미다졸의 제조방법 KR20090041023A (ko)

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