KR20090028347A - Flat panel display repair apparatus and flat panel display array inspection/repair apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 기판 리페어 장치 및 기판 검사/리페어 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 리페어 수단이 갠트리에 장착된 상태에서 자체적으로 X방향으로 이동할 수 있는 기판 리페어 장치 및 기판 검사/리페어 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate repair apparatus and a substrate inspection / repair apparatus, and more particularly, to a substrate repair apparatus and a substrate inspection / repair apparatus capable of moving in the X direction by itself while the repair means is mounted on the gantry.
일반적으로 평판 디스플레이는 음극선관 (CRT, Cathode Ray Tube) 디스플레이를 비롯하여, 액정 디스플레이 (LCD, Liquid Crystal Display) 등으로 분류되는데, 이 중에서도 LCD는 소비전력이 적고, 무게가 가볍다는 장점이 있어 최근 각광을 받고 있다. Generally, flat panel displays are categorized into cathode ray tube (CRT) displays and liquid crystal displays (LCDs). Among them, LCDs have low power consumption and are light in weight. Is getting.
상기 LCD 등 평판 디스플레이는 어레이 기판과, 대향 기판, 액정층 등으로 구성되는데, 이 중 어레이 기판에는 매트릭스 형상으로 배열되는 복수의 화소 전극, 복수의 화소 전극의 행을 따라 배치되는 복수의 주사선과 열을 따라 배치되는 복수의 신호 선이 형성된다.A flat panel display such as an LCD is composed of an array substrate, an opposing substrate, a liquid crystal layer, etc. Among these, a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix shape and a plurality of scan lines and columns arranged along rows of the plurality of pixel electrodes. A plurality of signal lines are formed along the line.
여기서, 어레이 기판 검사는 모듈레이터(Modulator)를 TFT 어레이 기판상에 소정의 격차만큼 이격시킨 다음 그 격차를 유지한 상태에서 광원으로부터 빛이 조 사되면서 모듈레이터에 전압을 인가하고 모듈레이터에서 반사된 빛을 렌즈에 의해 집광시키고 상기 렌즈를 통해 집속된 반사된 빛을 아날로그 영상신호로 바꾸는 CCD 카메라에 의해 모듈레이터로부터 반사되는 빛을 검출하여 TFT 어레이 기판상에 형성된 신호배선의 전기적 양불인 단락(Short)과 단선(Open)을 판정하게 된다. Here, the array substrate inspection is to space the modulator (Modulator) by a predetermined gap on the TFT array substrate and then apply a voltage to the modulator while the light is emitted from the light source while maintaining the gap, and the light reflected from the modulator to the lens By short-circuit (short) and disconnection (electrical failure) of the signal wiring formed on the TFT array substrate by detecting the light reflected from the modulator by a CCD camera which condenses the light reflected by the lens and converts the reflected light focused through the lens into an analog image signal. Open) is determined.
또한, 기판 리페어는 단락 수리와 단선 수리로 구분되며, 단락 수리는 어레이 기판의 제조 과정에서 전기적 신호 선이 중첩되는 결함이 발생할 수 있는데, 결함이 발생하면 올바른 화상을 형성할 수 없게 된다. 따라서, 중첩된 신호선을 절단하여 상호 중첩되지 않도록 하는 것이며, 단선 수리는 기존 배선이 단선되면 연결 배선을 별도로 연결하되 상기 연결 배선을 기존 배선의 상부에 덧대는 방식으로 수행하는 것이다.In addition, the substrate repair is classified into a short circuit repair and a disconnection repair, and a short circuit repair may cause a defect in which electrical signal lines overlap in a manufacturing process of an array substrate. When a defect occurs, a correct image may not be formed. Therefore, the overlapped signal lines are cut so as not to overlap each other, and the disconnection repair is performed by connecting the connection wires separately when the existing wires are disconnected, but adding the connection wires to the upper part of the existing wires.
이러한 종래의 평판 디스플레이 패널 등(이하 '기판'이라고 함)의 제조공정 중 사용되는 어레이(Array) 검사 장치는 다양한 모델이 개발되어 있는 실정이다. 도 1을 예로 들어 어레이 검사장치(100)를 설명하면, 검사대상인 기판(P)을 재치하는 스테이지(110)와, 상기 기판의 패턴의 전기적 검사를 상술한 바와 같이 수행하는 공지의 검사수단(130)과, 상기 검사수단(130)을 Y방향으로 이동시키는 갠트리(120)와, 상기 갠트리(120)가 X방향으로 이동될 수 있도록 하는 X방향 가이드 레일(140)로 구성된다. The array inspection apparatus used in the manufacturing process of such a conventional flat panel display panel (hereinafter referred to as a 'substrate') is a situation that various models have been developed. Referring to FIG. 1, the
이와 같이 기판의 전기적 검사가 완료되면, 결함이 있는 부분을 리페어하게 된다. 도 2는 종래 기판 리페어 장치(200)를 도시한 것으로서, 기판 리페어 장치는 리페어대상인 기판(P)을 재치하는 스테이지(210)와, 상기 결함을 수리하는 리페어 수단(231,237)과, 상기 리페어수단을 Y방향으로 이동시키는 갠트리(220)와, 상기 갠트리가 X방향으로 이동될 수 있도록 하는 X방향 가이드 레일(240)로 구성된다.As such, when the electrical inspection of the substrate is completed, the defective portion is repaired. FIG. 2 shows a conventional
도 3을 참조하여 종래 기판 리페어수단(230)을 간략하게 설명한다. 기판 리페어수단은 레이저 발진기(231)와, 광학헤드(237)로 구성된다. 상기 광학헤드(237)는 빔 쉐이퍼(232)와, 미러(233)와, 빔 슬릿(234)과, 대물렌즈(235)와, 챔버(236) 등을 포함하여 구성된다. Referring to Figure 3 will be briefly described a conventional substrate repair means 230. The substrate repair means includes a
상기 빔 쉐이퍼(232)는 상기 레이저 발진기에서 조사된 레이저 빔을 평탄하게 하고, 상기 빔 슬릿(234)은 가공 대상에 따라 조사되는 빔의 모양과 크기를 조절하는 역할을 한다. The
또한 상기 챔버(236)는 상기 기판과 소정의 간격을 두고 금속 소스가스를 공급하는 구성요소이다. 상기 챔버에는 박막형성 후 잔류가스를 배기하는 배기부가 구비되기도 한다. In addition, the
이와 같이 구성된 종래의 리페어 장치를 이용하여 기판을 리페어하는 방법을 도 4를 참조하여 설명한다. A method of repairing a substrate using the conventional repair apparatus configured as described above will be described with reference to FIG. 4.
먼저, 도 1에 도시된 검사장치를 이용하여 기판의 결함을 검사하고, 그 정보를 리페어 장치에 전송한다. 상기 리페어 장치는 전송된 정보에 따라 리페어 수단을 이용하여 기판의 결함을 수리한다. First, the defect of a board | substrate is inspected using the inspection apparatus shown in FIG. 1, and the information is transmitted to a repair apparatus. The repair apparatus repairs the defect of the substrate using the repair means according to the transmitted information.
보다 구체적으로 설명하면, 먼저 갠트리(220)를 X방향 가이드 레일(240)을 따라 이동한다. 다음으로 상기 이동부재(221)를 이동시켜 리페어수단(230)을 제1결함(D1)이 있는 위치로 이동시킨 후, 레이저를 이용하여 제1결함(D1)을 수리한다.More specifically, first, the
제1결함(D1)이 수리된 후, 다시 갠트리(220)와 이동부재(221)를 이동시켜 제2결함(D2) 및 나머지 결함(D3, D4)을 수리하는 것이다. After the first defect D1 is repaired, the
그러나 위와 같이 구성된 종래의 리페어 장치는 결함의 수만큼 갠트리 및/또는 이동부재를 이동시켜야 하기 때문에 택타임이 매우 길다는 문제점이 있다. However, the conventional repair apparatus configured as described above has a problem that the tack time is very long because the gantry and / or the moving member must be moved by the number of defects.
또한 기판 검사보다 리페어 시간이 상대적으로 길어서 공정 적체가 발생하는 문제점도 있다. 이를 극복하기 위하여 검사장치 1대에 리페어장치 2대를 조합하여 공정을 수행하기도 하지만, 설비에 많은 비용과 공간이 요구된다는 문제점은 여전히 남게 된다. In addition, the repair time is relatively longer than the inspection of the substrate, there is also a problem that the process accumulation occurs. In order to overcome this problem, a repair apparatus may be combined with two repair apparatuses, but a large cost and space are required for the equipment.
또한 기판 검사와 리페어를 각기 다른 장비에서 수행하기 때문에 필연적으로 기판을 검사 스테이지에서 리페어 스테이지로 이송하는 과정이 요구되는데, 그 과정에서 기판에 손상이 발생하기도 하였다. In addition, since the board inspection and repair are performed in different equipment, it is inevitably required to transfer the board from the inspection stage to the repair stage, which causes damage to the substrate.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 리페어 수단이 갠트리에 장착된 상태에서 자체적으로 X방향으로 이동할 수 있는 기판 리페어 장치 및 기판 검사/리페어 장치를 제공함에 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a substrate repair apparatus and a substrate inspection / repair apparatus which can move in the X direction by itself while the repair means is mounted on the gantry.
위와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 의한 기판 리페어 장치는 패턴의 전기적 결함이 발견된 기판을 재치하는 스테이지; 상기 결함을 리페어하는 복수개의 리페어수단; 상기 리페어수단을 상기 기판의 상부에서 Y방향으로 이동 시키는 갠트리; 상기 갠트리를 X방향으로 이동시키는 X방향 이동수단; 및 상기 리페어수단을 상기 갠트리에 장착된 상태에서 X방향으로 이동시키는 보조이동수단;을 포함한다. In order to solve the above technical problem, the substrate repair apparatus according to the present invention includes: a stage for placing a substrate on which an electrical defect of a pattern is found; A plurality of repair means for repairing the defect; A gantry for moving the repair means in the Y direction from the upper portion of the substrate; X direction moving means for moving the gantry in the X direction; And an auxiliary movement means for moving the repair means in the X direction while being mounted on the gantry.
또한 상기 리페어수단은, 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진기; 상기 기판과 소정의 간격을 두고 배치되며, 금속 소스가스에 상기 레이저 빔이 조사되어 반응을 일으키는 챔버; 및 상기 챔버에 상기 금속 소스가스를 공급하는 가스 공급부;를 포함한다. In addition, the repair means, the laser oscillator for oscillating the laser beam; A chamber disposed at a predetermined distance from the substrate and generating a reaction by irradiating the laser beam to a metal source gas; And a gas supply unit supplying the metal source gas to the chamber.
또한 상기 X방향 이동수단은 상기 갠트리가 X방향으로 이동하는 X방향 가이드레일을 포함하는 것이 바람직하다. In addition, the X-direction moving means preferably comprises an X-direction guide rail for moving the gantry in the X direction.
특히, 상기 보조이동수단은, 상기 리페어수단을 상기 갠트리에 장착된 상태에서 X방향으로 이동시키는 X방향 보조레일을 포함한다. Particularly, the auxiliary movement means includes an X direction auxiliary rail for moving the repair means in the X direction while being mounted on the gantry.
또한 본 발명에 의한 기판 검사 및 리페어 장치는 패턴이 형성된 기판을 재치하는 스테이지; 상기 패턴의 전기적 검사를 수행하여 결함여부를 판별하는 검사수단; 상기 검사수단을 상기 기판의 상부에서 Y방향으로 이동시키는 제 1 갠트리; 상기 검사수단에서 판별된 정보에 따라 상기 기판을 리페어하는 리페어수단; 상기 리페어수단을 상기 기판의 상부에서 Y방향으로 이동시키는 제 2 갠트리; 상기 제 1 갠트리 및 제 2 갠트리가 X방향으로 이동하기 위한 X방향 이동수단; 및 상기 리페어수단을 상기 제 2 갠트리에 장착된 상태에서 X방향으로 이동시키는 보조이동수단;을 포함한다. In addition, the substrate inspection and repair apparatus according to the present invention includes a stage for mounting a substrate on which a pattern is formed; Inspection means for performing an electrical inspection of the pattern to determine whether there is a defect; A first gantry for moving the inspection means in the Y direction from the top of the substrate; Repair means for repairing the substrate in accordance with the information determined by the inspection means; A second gantry for moving the repair means in the Y direction from the top of the substrate; X-direction moving means for moving the first and second gantry in the X direction; And an auxiliary movement means for moving the repair means in the X direction while being mounted on the second gantry.
또한 상기 검사수단은 상기 제 1 갠트리에 적어도 1개 이상 장착되고, 상기 리페어수단은 상기 제 2 갠트리에 적어도 2개 이상 장착되되, 상기 검사수단보다 많은 수가 장착되는 것이 바람직하다.In addition, at least one inspection means is mounted to the first gantry, and at least two repair means are mounted to the second gantry, preferably more than the inspection means.
또한 상기 리페어 수단은, 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진기; 상기 기판과 소정의 간격을 두고 배치되며, 금속 소스가스에 상기 레이저 빔이 조사되어 반응을 일으키는 챔버; 및 상기 챔버에 상기 금속 소스가스를 공급하는 가스 공급부;를 포함하여 구성된다.The repair means may also include a laser oscillator for oscillating a laser beam; A chamber disposed at a predetermined distance from the substrate and generating a reaction by irradiating the laser beam to a metal source gas; And a gas supply unit supplying the metal source gas to the chamber.
또한 상기 X방향 이동수단은 상기 제 1 갠트리 및 제 2 갠트리가 X방향으로 이동하는 X방향 가이드레일과, 각 갠트리를 구동하는 구동원을 포함한다. In addition, the X-direction moving means includes an X-direction guide rail for moving the first and second gantry in the X direction, and a drive source for driving each gantry.
특히, 상기 보조이동수단은, 상기 리페어수단을 상기 제 2 갠트리에 장착된 상태에서 X방향으로 이동시키는 X방향 보조레일을 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. In particular, the auxiliary movement means preferably comprises an X-direction auxiliary rail for moving the repair means in the X direction while being mounted on the second gantry.
본 발명에 따르면, 리페어 수단이 갠트리에 장착된 상태에서 자체적으로 X방향으로 이동할 수 있기 때문에, 갠트리의 이동을 최소화할 수 있다. 따라서 택 타임과 공정 수행시간을 감소시킬 수 있다. According to the present invention, since the repair means can move in the X direction by itself while mounted on the gantry, the movement of the gantry can be minimized. Thus, tack times and process run times can be reduced.
또한 기판의 어레이 검사와 검사결과에 따른 기판의 리페어를 하나의 장비를 이용하여 수행할 수 있다. 따라서 필요 장비 대수가 줄고 클린룸 설비 면적이 축소되어 투자비를 절감할 수 있으며 이동 과정에서 이물질이나 파손 등에 의한 기판 불량 발생 확률이 감소될 수 있는 효과도 있다.In addition, the inspection of the array of the substrate and the repair of the substrate according to the inspection result can be performed using a single device. As a result, the number of necessary equipment is reduced and the area of clean room equipment is reduced, thereby reducing the investment cost. Also, there is an effect that the probability of substrate defects caused by foreign substances or damages can be reduced during the movement.
또한 검사수단보다 리페어수단을 보다 많이 구비함으로써, 공정 적체를 해소 할 수 있는 효과도 있다. In addition, by providing more repair means than the inspection means, there is an effect that can eliminate the process backlog.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 실시예의 구성 및 작용을 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described the configuration and operation of the embodiment according to the present invention.
도 5는 기판 검사 및 리페어를 한 장비에서 모두 수행할 수 있는 기판 검사/리페어 장치(300)를 도시한 것이다. FIG. 5 illustrates a substrate inspection /
본 실시예(300)는 기판을 재치하는 스테이지(310)와, 검사수단(323)과, 제 1 갠트리(321)와, 리페어 수단(333a, 334a, 333b, 334b)과, 제 2 갠트리(331)와, X방향 이동수단과, 보조이동수단으로 구성된다. The
상기 검사수단(323)은 기판의 전기적 검사를 수행하는 공지의 요소이다. The inspection means 323 is a known element for performing an electrical inspection of the substrate.
상기 제 1 갠트리(321)는 상기 검사수단(323)을 상기 기판의 상부에서 Y방향으로 이동시키는 구성요소이다. 상기 검사수단은 이동부재(322)에 의해 상기 제 1 갠트리에서 Y방향으로 이동이 가능하다. The
상기 리페어수단(333a, 334a, 333b, 334b)은 도 3에 도시된 공지의 리페어 수단과 동일하게 구성할 수 있다. 다만, 본 실시예에서는 리페어수단(333a, 334a, 333b, 334b)이 제 2 갠트리(331)에 한 쌍 구비되는 점이 특이하다. The repair means 333a, 334a, 333b, 334b may be configured in the same manner as the known repair means shown in FIG. However, in this embodiment, a pair of repair means 333a, 334a, 333b, and 334b is provided in the
상기 제 1 갠트리(321) 및 제 2 갠트리(331)는 X방향 이동수단에 의해 방향으로 이동하는데, 상기 X방향 이동수단은 구동원(미도시)과 가이드 레일(340)로 구성된다. The
특히, 본 실시예(300)는 상기 한 쌍의 리페어수단(333a, 334a, 333b, 334b) 을 상기 제 2 갠트리(331)에 장착된 상태에서 각각 X방향으로 이동시키는 보조이동수단이 구비되는데, 상기 보조이동수단도 구동원(미도시)과, X방향 보조레일로 구성된다. In particular, the
도 6은 상기 실시예에 의해 기판의 전기적 검사를 수행하는 과정을 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 제 1 갠트리(321) 및 이동부재를 이용하여 상기 검사수단을 X방향 및 Y방향으로 이동시키면서 기판의 전기적 검사를 하는 것이다. 결함을 리페어하는 과정을 설명하기 위하여 검사결과 결함이 다수 발견되었다고 가정한다. 6 illustrates a process of performing an electrical inspection of the substrate according to the embodiment. As shown, the
도 7은 상기 실시예를 이용하여 기판을 리페어하는 과정을 도시한 것이다. 7 illustrates a process of repairing a substrate using the above embodiment.
도 6에서와 같이 기판의 전기적 검사에 의해 얻어진 정보를 제어부(미도시)에 저장하고, 상기 제어부는 리페어수단을 제어하고 리페어하는 것이다. As shown in FIG. 6, the information obtained by the electrical inspection of the substrate is stored in a controller (not shown), and the controller controls and repairs the repair means.
보다 구체적으로 설명하면, 먼저, 제 2 갠트리(331)는 X방향 가이드 레일(340)을 따라 이동하고, 상기 제 1 리페어수단(333a)은 상기 제 2 갠트리(331)를 따라 이동하여 제1결함(D11)의 위치로 이동한다. 이 상태에서 제1결함(D11)을 리페어한다. More specifically, first, the
다음으로, 제 2 갠트리(331)는 이동을 하지 않은 상태에서, 상기 이동부재와 X방향 보조레일만을 이용하여 제 1 리페어수단(333a)을 제2결함(D12)의 위치로 이동시켜 제2결함(D12)을 리페어한다. Next, in the state where the
다음으로, 제 2 갠트리(331)는 X방향 가이드 레일(340)을 따라 이동하고, 상기 제 2 리페어수단(333b)은 상기 제 2 갠트리(331)를 따라 이동하여 제3결함(D21)의 위치로 이동한다. 이 상태에서 제3결함(D21)을 리페어한다. Next, the
다음으로, 제 2 갠트리(331)는 이동을 하지 않은 상태에서, 상기 이동부재와 X방향 보조레일만(335b)을 이용하여 제 2 리페어수단(333b)을 제4결함(D22)의 위치로 이동시켜 제4결함(D22)을 리페어한다.Next, while the
마찬가지 방법으로 제2갠트리를 이동하여 제5결함 및 제6결함을 리페어하고, 다시 제2갠트리를 이동하여 제7결함 및 제8결함을 리페어한다. In the same manner, the second gantry is moved to repair the fifth and sixth defects, and the second gantry is moved to repair the seventh and eighth defects.
즉, 본 실시예에 의하면, 제1결함 및 제2결함, 제3결함 및 제4결함, 제5결함 및 제6결함, 제7결함 및 제8결함은 갠트리의 위치이동없이 이동부재와 보조이동수단에 의해 리페어가 가능한 구조이다. That is, according to this embodiment, the first and second defects, the third and fourth defects, the fifth and sixth defects, the seventh and eighth defects, the seventh and eighth defects do not move the position of the gantry and the auxiliary movement Repair is possible by the means.
또한, 기판을 좌우로 양분하여 각각 한 쌍의 리페어수단이 전담토록 한 것이다. In addition, the pair of repair means is dedicated to each other by dividing the substrate from side to side.
본 실시예는 기판 검사와 리페어를 함께 할 수 있는 기판 검사/리페어 장치이다. 이를 토대로, 기판 검사는 별도로 도 1에 도시된 검사장치에 의해 수행하고, 검사완료된 기판을 이송하여 리페어만 하는 장치도 구성이 가능하다. 이 경우, 도 5에 도시된 실시예에서 제 1 갠트리(321)와, 이에 결합된 이동부재(322)와 검사수단(323)이 결여될 것이다. This embodiment is a substrate inspection / repair apparatus capable of performing substrate inspection and repair together. Based on this, the substrate inspection is separately performed by the inspection apparatus shown in FIG. 1, and the apparatus for performing repair only by transferring the inspected substrate can be configured. In this case, in the embodiment shown in FIG. 5, the
이상에서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 본 발명의 보호범위는 상기 실시예에 한정되는 것이 아니며, 해당 기술분야의 통상의 지식을 갖는 자라면 본 발명의 사상 및 기술영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. Although the detailed description of the present invention described above has been described with reference to the preferred embodiment of the present invention, the protection scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and those skilled in the art will appreciate It will be understood that various modifications and changes can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention.
도 1은 종래의 어레이 검사 장치를 계략적으로 도시한 것이다. 1 schematically illustrates a conventional array inspection apparatus.
도 2는 종래의 기판 리페어 장치를 계략적으로 도시한 것이다. 2 schematically illustrates a conventional substrate repair apparatus.
도 3은 도 2에 도시된 리페어 수단을 구체적으로 도시한 것이다. FIG. 3 specifically illustrates the repair means shown in FIG. 2.
도 4는 도 2에 도시된 장치를 이용하여 기판을 리페어 하는 과정을 도시한 것이다. 4 illustrates a process of repairing a substrate using the apparatus shown in FIG. 2.
도 5는 본 발명에 의한 기판 검사/리페어 장치를 도시한 것이다. 5 shows a substrate inspection / repair apparatus according to the present invention.
도 6은 도 5에 도시된 장치를 이용하여 기판을 검사하는 과정을 도시한 것이다. FIG. 6 illustrates a process of inspecting a substrate using the apparatus shown in FIG. 5.
도 7은 도 5에 도시된 장치를 이용하여 기판을 리페어하는 과정을 도시한 것이다. FIG. 7 illustrates a process of repairing a substrate using the apparatus shown in FIG. 5.
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