KR20090023807A - 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법 - Google Patents

마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법에 관한 것으로, 상기 마스크를 세정함에 있어서, 마스크를 세정 공정한 후, 간접 샤워 린스를 진행하여 종래의 세정 장치 및 세정 방법으로 세정하는 것에 비해 마스크의 세정 특성을 더욱 우수하게 할 수 있는 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
마스크, 유기물, 세정, 린스, 간접

Description

마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법{MASK CLEANING EQUIPMENT AND METHOD FOR CLEANING MASK}
본 발명은 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법에 관한 것으로, 상기 마스크를 세정함에 있어서, 마스크를 세정 공정한 후, 간접 샤워 린스를 진행할 수 있도록 하는 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법에 관한 것이다.
최근, 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 대두되고 있다. 이러한 평판 표시 장치로는 크게 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display Panel) 및 유기 전계 발광 표시 장치(Organic electro luminescence Display device) 등이 있다.
이들 중 유기 전계 발광 표시 장치는 전자와 정공의 재결합으로 형광체를 발광시키는 자발광소자이다.
이때, 상기 유기 전계 발광 표시 장치는 액정 표시장치와 같이 별도의 광원 을 필요로 하는 수동형 발광소자에 비하여 응답속도가 음극선관과 같은 수준으로 빠르다는 장점을 갖고 있다.
또한, 상기 유기 전계 발광 표시 장치는 저전압 구동, 자기발광, 박막형, 넓은 시야각, 빠른 응답속도 및 높은 콘트라스트 등의 많은 장점을 가지고 있어 차세대 표시장치로 기대되고 있다.
이러한 유기 전계 발광 표시 장치는 기판상에 서로 대향된 전극들과 상기 전극들 사이에 적어도 발광층을 포함하는 복수 개의 유기물층을 구비하고 있다.
이때, 상기 전극들 및 유기물층들은 일반적으로 진공 증착 장치로 증착하게된다. 상기 진공 증착 장치는 기판을 그 내부에 장입하고, 상기 기판상에 마스크를 위치시킨 후, 상기 전극들 또는 유기물층을 형성한다.
상기와 같이 마스크를 이용하여 기판상에 전극들 또는 유기물층을 증착하는 경우, 상기 마스크에 상기 전극들 또는 유기물층이 증착되어 잔류하게 되는데, 이러한 증착 잔류물이 잔류하게 되는 경우 상기 마스크의 정확성을 해치게 된다.
이러한 문제점을 해결하기 위해 상기 마스크를 세정하게 된다.
상기 마스크를 세정하는 방법은 크게 세정 공정과 린스 공정으로 나눌 수 있다.
상기 세정 공정은 상기 마스크를 세정 배스에 장입한 후 상기 세정 배스에 담긴 세정액을 이용하여 상기 마스크를 세정한다.
그리고 상기 린스 공정은 세정 공정에서 사용된 세정액을 제거하기 위해 린스액이 담긴 린스 배스에 상기 마스크를 장입하고 상기 마스크에 잔류하는 세정액 을 제거하게 된다.
그러나 상기 린스 공정을 여러 번 반복함에 따라 상기 린스액에 전극을 형성하는 금속 또는 유기물층을 형성하는 유기물들이 파티클 형태로 잔류하게 되며 이러한 파티클 잔류물이 상기 마스크를 오염시키는 문제가 발생한다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 단점과 문제점을 해결하기 위한 것으로, 기판상에 전극들 또는 유기물층을 형성할 때 사용된 마스크를 세정함에 있어서, 상기 마스크를 세정 공정한 후, 간접 샤워 린스를 진행하여 종래의 세정 장치 및 세정 방법으로 세정하는 것에 비해 마스크의 세정 특성을 더욱 우수하게 할 수 있는 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 일 측면은 마스크 세정 장치를 제공한다. 상기 마스크 세정 장치는 그 내부에 세정액이 담긴 하나 이상의 세정 배스; 린스 가이드 및 상기 린스 가이드에 린스액을 분사하는 린스 분사기를 구비한 린스 샤워 배스; 그 내부에 장입되는 대상물을 건조시키는 건조기; 및 상기 세정 배스, 린스 샤워 배스 및 건조기 사이에서 마스크를 이송시키는 이송 장치를 포함 한다.
상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 다른 일 측면은 마스크를 세정하는 방법을 제공한다. 상기 세정하는 방법은 마스크를 세정액에 디핑한 후 세정 공정을 진행하는 단계; 상기 마스크를 린스 샤워 배스로 이송하여 간접 샤워 린스하는 단계; 및 상기 간접 샤워 린스 공정 후, 상기 마스크를 건조기로 이송하여 건조하는 단계를 포함한다.
따라서, 본 발명의 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법은 마스크를 세정 공정한 후, 간접 샤워 린스를 진행함으로써 종래에 비해 세정 특성이 우수해지는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법은 간접 샤워 린스를 진행함으로써 마스크가 재오염되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법은 간접 샤워 린스를 진행함으로써 마스크가 손상 받는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
이하, 본 발명의 실시예들은 마스크 세정 장치의 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설 명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 마스크 세정 장치를 도시한 도이다.
도 1을 참조하여 설명하면, 본 발명의 마스크 세정 장치(100)는 세정 배스(110), 린스 샤워 배스(120), 건조기(130) 및 이송 장치(140)를 포함하고 있다.
도 1에서의 상기 마스크 세정 장치(100)는 하나의 세정 배스(110)만 구비하고 있는 것으로 도시하고 있으나, 두 개 이상의 세정 배스(110)가 순차적으로 연결되어 있을 수 있다.
이때, 상기 세정 배스(110)에는 그 내부에 세정액(115)을 구비하고 있는데, 상기 세정액(115)은 마스크(200)에 잔류하는 금속 또는 유기물을 세정할 수 있는 세정 용액이다.
상기 세정 배스(110)는 도 1에서는 도시하고 있지는 않지만 초음파 발생기를 구비하고 있다. 상기 초음파 발생기에서 발생된 초음파에 의해 상기 세정액(115)에 된 디핑된 마스크(200)에 잔류하는 금속 또는 유기물을 효과적으로 세정할 수 있다.
한편, 상기 린스 샤워 배스(120)는 그 내부에 린스 가이드(122) 및 린스 분사기(124)를 구비할 수 있다.
이때, 상기 린스 가이드(122) 및 린스 분사기(124)는 도 1에 도시된 바와 같이 이송 장치(140)로 상기 마스크(200)를 이송하여 상기 린스 샤워 배스(120) 내부 로 장입시키면, 상기 마스크(200)의 상단으로 상기 린스 가이드(122)를 이동시켜 위치시키고, 상기 린스 분사기(124)를 상기 린스 가이드(122)에 대응되도록 상기 린스 분사기(124)를 이동시킨다.
상기 린스 분사기(124)에서 린스액이 분사되어 상기 린스 가이드(122)에 분사되면, 상기 린스 가이드(122)에서 흘러내린 상기 린스액이 상기 마스크(200)의 표면으로 흘러내리도록 하여 상기 마스크(200)를 린스한다.
이때, 상기 린스 분사기(124)에서 분사된 린스액이 상기 마스크(200)의 표면에 직접 분사되지 않고, 상기 린스 가이드(122)를 통해 상기 마스크(200)의 표면으로 흘러내리도록 하는 간접 분사 방식을 사용하여 간접 샤워 린스를 실시함으로써 상기 마스크(200)가 손상받지 않으면서 상기 마스크(200)를 린스할 수 있도록 한다.
이때, 상기 린스 가이드(122)는 도 3에서 도시한 봐와 같이 그 표면이 주름진 형상을 갖을 수도 있고, 도 1에 도시한 바와 같이 평평한 형상을 가질 수도 있다. 상기 린스 가이드(122)의 표면의 형상은 상기 린스 액이 상기 마스크(200)의 표면에 균일하게 흘러내릴 수 있도록 하면 어떠한 형상이라도 무방하다.
이때, 상기 린스 샤워 배스(120)는 에어 나이프(126)를 구비할 수 있다.
상기 에어 나이프(126)는 도 1에서 도시하고 있는 바와 같이 상기 린스 샤워 배스(120)의 상단부에 구비될 수 있는데, 상기 린스 분사기(124)로 린스액을 분사하여 상기 마스크(200)를 린스한 후, 상기 마스크(200)를 이송시킬 때, 상기 마스크(200)에 잔류하는 린스액을 제거하기 위해서 구비된다.
즉, 상기 에어 나이프(126)는 공기를 상기 마스크(200)의 표면으로 분사하여 상기 마스크(200)의 표면에 잔류하는 린스액을 제거하는 역할을 한다.
한편, 상기 건조기(130)는 그 내부 또는 외부에 가열 장치(132)를 구비하여 건조기(130)의 내부를 가열함으로써 그 내부에 장입되는 대상물(예컨대, 마스크(200))을 건조하는 역할을 한다.
따라서, 본 발명의 제1실시 예에 따른 마스크 세정 장치(100)는 상기 마스크(200)를 상기 세정 배스(110)에 장입하여 세정액(115)에 디핑하고 상기 세정 배스에 구비된 초음파 발생기에서 발생된 초음파에 의해 세정하고, 상기 마스크(200)를 상기 린스 샤워 배스(120)로 이송하고, 상기 린스 샤워 배스(120)에서 간접 샤워 린스로 린스된 후 상기 건조기(130)로 이송한 후, 건조되어 질 수 있다.
도 2는 본 발명의 제2실시 예에 따른 마스크 세정 장치를 도시하는 도이다.
도 2를 참조하여 설명하면, 상기 본 발명의 제2실시 예에 따른 마스크 세정 장치(100)는 상기 제1실시 예에 따른 마스크 세정 장치(100)의 상기 세정 배스(110)와 상기 린스 샤워 배스(120) 사이에 린스액(155)이 담긴 린스 디핑 배스(150)를 하나 이상 더 구비하고 있다.
이때, 상기 린스 디핑 배스(150)는 초음파 발생기(미도시)를 구비하고 있어 상기 초음파 발생기에서 발생된 초음파에 의해 상기 마스크(200)에 잔류하는 세정액(115)을 제거한다.
즉, 본 발명의 제2실시 예에 따른 마스크 세정 장치(100)는 세정 배스(110), 린스 디핑 배스(150), 린스 샤워 배스(120) 및 건조기(130)를 구비할 수 있다.
따라서, 본 발명의 제2실시 예에 따른 마스크 세정 장치(100)는 상기 마스크(200)를 상기 세정 배스(110)에 장입하여 세정액(115)에 디핑하고 상기 세정 배스에 구비된 초음파 발생기에서 발생된 초음파에 의해 세정하고, 상기 마스크(200)를 세정한 후, 상기 린스 디핑 배스(150)의 린스액(155)에 디핑하여 초음파 발생기에서 발생된 초음파로 디핑 린스한 후, 상기 린스 샤워 배스(120)로 이송하고, 상기 린스 샤워 배스(120)에서 간접 샤워 린스로 린스된 후 건조되어 질 수 있다.
도 4는 본 발명의 제1실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법을 보여주는 흐름도이다. 이때, 본 발명의 제1실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법(300)은 상기 도 1을 참조하여 설명한 마스크 세정 장치(100)를 이용한다.
도 4를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제1실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법(300)은 세정 공정(310), 간접 샤워 린스 공정(320) 및 건조 공정(330)을 순차적으로 진행함으로써 마스크를 세정할 수 있다.
상기 세정 공정(310)은 마스크(200)를 세정액(115)에 담근 후, 초음파를 이용하여 마스크(200)에 잔류하는 금속 또는 유기물을 제거하는 공정을 의미한다.
한편, 상기 간접 샤워 린스 공정(320)은 마스크(200)의 상부에 린스 가이드(122)를 장착한 후 상기 린스 가이드(122)에 린스 분사기(124)를 이용하여 분사하고, 상기 린스 가이드(122)에 분사된 린스액이 상기 린스 가이드(122)를 통해 상기 마스크(200)의 표면으로 흘러내리도록 하는 간접 분사를 이용하여 상기 세정 공정(310)에서 사용된 세정액을 상기 마스크(200)로부터 제거하는 공정을 의미한다.
상기 간접 샤워 린스 공정(320)은 상기 린스 분사기(124)로 린스액을 상기 마스크(200)에 직접 분사하지 않음으로써 상기 마스크(200)가 상기 린스 분사기(124)의 린스액 분사에 의해 손상을 받지 않는다.
한편, 상기 건조 공정(330)은 가열 장치(132)를 구비한 건조기(130) 내부에 마스크를 장입하여 건조하는 것으로 세정 공정 및 린스 공정을 진행한 마스크(200)에서 수분을 제거하여 건조시키는 공정을 의미한다.
본 발명의 제1실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법(300)을 자세하게 설명하면, 상기 마스크(200)를 세정액(115)이 담긴 세정 배스(110)로 이송하여 상기 세정액(115)에 디핑한다.
그리고 상기 세정 배스(110)에 구비된 초음파 발생기에서 발생된 초음파로 상기 마스크(200)를 세정하는 세정 공정(310)을 진행한다.
이어서 상기 세정 공정(310)이 완료된 후 상기 마스크(200)를 이송 장치(140)를 이용하여 린스 샤워 배스(120)로 이송시켜 간접 샤워 린스 공정(320)을 실시한다.
이때, 상기 간접 샤워 린스 공정(320)은 상기 이송 장치(140)에 의해 린스 샤워 배스(120)로 이송된 마스크(200)의 상단에 린스 가이드(122)를 위치시키고, 상기 린스 가이드(122)에 린스액이 분사되는 위치에 린스 분사기(124)를 위치시킨 후, 상기 린스액을 분사하여 상기 린스 가이드(122)에서 상기 린스액이 흘러내리도록 하고, 상기 린스 가이드(122)를 통해 상기 마스크(200)의 표면을 흘러내리도록 하여 상기 마스크(200)의 표면이 린스되도록 한다.
이어서, 상기 간접 샤워 린스 공정(320)이 끝난 마스크(200)는 건조기(130) 로 이송하여 건조 공정(330)을 진행하여 마스크 세정 공정을 완료한다.
이때, 상기 간접 샤워 린스 공정(320)이 끝난 후 건조기(130)로 이송하는 사이에 상기 마스크(200)는 에어 나이프(126) 사이를 통과하게 되는데, 상기 에어 나이프(126)에서는 공기가 분사되어 상기 마스크(200)에 잔류하는 린스액을 제거된다.
따라서, 본 발명의 제1실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법(300)은 마스크(200)를 세정액(115)이 담긴 세정 배스(110)에 장입하여 상기 세정액(115)에 디핑한 후 초음파 발생기에서 발생된 초음파에 의해 세정하는 세정 공정(310)을 진행하고, 상기 세정 공정(310)이 완료된 마스크(200)를 이송 장치(140)로 이송하여 상기 린스 샤워 배스(120)에 장입한 후, 상기 마스크(200)의 상단에 린스 가이드(122)를 위치시키고, 상기 린스 가이드(122)에 린스액이 분사되도록 린스 분사기(124)를 위치시킨 후, 린스액을 분사하여 상기 린스 가이드(122)를 통해 상기 마스크의 표면으로 흘러내리도록 하여 간접 샤워 린스 공정(320)을 진행하고, 상기 간접 샤워 린스 공정(320)을 완료한 후 상기 마스크(200)를 건조기(130)로 이송하여 장입한 후 건조하여 세정을 완료한다.
도 5는 본 발명의 제2실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법을 보여주는 흐름도이다. 이때, 본 발명의 제2실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법은 상기 도 2를 참조하여 설명한 마스크 세정 장치(100)를 이용한다.
도 5를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제2실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법(300)은 세정 공정(310), 디핑 린스 공정(340), 간접 샤워 린스 공정(320) 및 건조 공정(330)을 순차적으로 진행함으로써 마스크를 세정할 수 있다.
즉, 상기 본 발명의 제2실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법(300)은 상기 제1실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법(300)의 상기 세정 공정(310)과 상기 간접 샤워 린스 공정(320) 사이에 디핑 린스 공정(340)을 하나 이상 더 구비하고 있다.
상기 디핑 린스 공정(340)은 린스액(155)이 단긴 디핑 린스 배스(150)에 마스크(200)를 장입한 후 초음파 발생기에서 발생된 초음파로 상기 마스크(200)를 린스하는 공정을 의미한다.
따라서, 본 발명의 제2실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법(300)은 마스크(200)를 세정액(115)이 담긴 세정 배스(110)에 장입하여 상기 세정액(115)에 디핑한 후 초음파 발생기에서 발생된 초음파에 의해 세정하는 세정 공정(310)을 진행한다. 상기 세정 공정(310)이 완료된 마스크(200)를 이송 장치(140)로 이송하여 상기 디핑 린스 배스(150)에 장입하여 상기 디핑 린스 배스(150)의 린스액(155)에 디핑한 후, 디핑 린스 공정(340)을 진행하고, 상기 디핑 린스 공정(340)이 완료된 후, 상기 마스크(200)를 이송 장치(140)로 이송하여 상기 린스 샤워 배스(120)에 장입한 후, 상기 마스크(200)의 상단에 린스 가이드(122)를 위치시키고, 상기 린스 가이드(122)에 린스액이 분사되도록 린스 분사기(124)를 위치시킨 후, 린스액을 분사하여 상기 린스 가이드(122)를 통해 상기 마스크의 표면으로 흘러내리도록 하여 간접 샤워 린스 공정(320)을 진행하고, 상기 간접 샤워 린스 공정(320)을 완료한 후 상기 마스크(200)를 건조기(130)로 이송하여 장입한 후 건조하여 세정을 완료한 다.
따라서, 본 발명의 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법은 마스크를 세정 공정한 후, 간접 샤워 린스를 진행함으로써 종래의 세정 공정 및 디핑 린스 공정을 이용하여 마스크를 세정하는 방법에 비해 세정 특성이 우수해지는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법은 간접 샤워 린스를 진행함으로써 종래의 디핑 린스 공정에서 발생되기 쉬운 마스크의 재오염이 발생되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법은 간접 샤워 린스를 진행함으로써 마스크에 린스액을 직접 분사하여 발생할 수 있는 마스크의 손상이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
본 발명은 이상에서 살펴본 바와 같이 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시 예들에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.
도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 마스크 세정 장치를 도시한 도들이다.
도 2는 본 발명의 제2실시 예에 따른 마스크 세정 장치를 도시하는 도이다.
도 3은 마스크 세정 장치의 린스 가이드의 표면 형상을 도시한 도이다.
도 4는 본 발명의 제1실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법을 보여주는 흐름도이다.
도 5는 본 발명의 제2실시 예에 따른 마스크를 세정하는 방법을 보여주는 흐름도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100 : 마스크 세정 공정 110 : 세정 배스
120 : 린스 샤워 배스 130 : 건조기
140 : 디핑 린스 배스

Claims (10)

  1. 그 내부에 세정액이 담긴 하나 이상의 세정 배스;
    린스 가이드 및 상기 린스 가이드에 린스액을 분사하는 린스 분사기를 구비한 린스 샤워 배스;
    그 내부에 장입되는 대상물을 건조시키는 건조기; 및
    상기 세정 배스, 린스 샤워 배스 및 건조기 사이에서 마스크를 이송시키는 이송 장치를 포함하는 마스크 세정 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 세정 배스 및 상기 린스 샤워 배스 사이에 배치되며, 그 내부에 린스액이 담긴 하나 이상의 린스 디핑 배스를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 린스 샤워 배스에 구비되며 상기 마스크에 잔류하는 린스액을 제거하는 에어 나이프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 린스 가이드는 평탄한 형상 또는 주름진 형상을 갖는 것을 특징으로 하 는 마스크 세정 장치.
  5. 마스크를 세정액에 디핑한 후 세정 공정을 진행하는 단계;
    상기 마스크를 린스 샤워 배스로 이송하여 간접 샤워 린스하는 단계; 및
    상기 간접 샤워 린스 공정 후, 상기 마스크를 건조기로 이송하여 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크를 세정하는 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 세정 공정을 진행한 후, 상기 간접 샤워 린스를 하는 공정 이전에,
    상기 마스크를 린스 디핑 배스로 이송하여 디핑 린스하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크를 세정하는 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 마스크를 린스 디핑 배스로 이송하여 디핑 린스하는 단계:는
    상기 마스크를 세정 공정한 후, 상기 마스크를 린스액이 담긴 린스 디핑 배스로 이송하여 린스액에 디핑하는 단계; 및
    상기 린스 디핑 배스에 구비된 초음파 발생기에서 발생된 초음파로 상기 마스크를 린스하여 디핑 린스 공정을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크를 세정하는 방법.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 마스크를 세정액에 디핑한 후 세정 공정을 진행하는 단계:는
    상기 마스크를 세정액이 담긴 세정 배스로 이송하여 상기 세정액에 디핑하는 단계; 및
    상기 세정 배스에 구비된 초음파 발생기에서 발생된 초음파로 상기 마스크를 세정하여 세정 공정을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크를 세정하는 방법.
  9. 제 5 항에 있어서,
    상기 마스크를 린스 샤워 배스로 이송하여 간접 샤워 린스하는 단계:는
    상기 마스크를 린스 샤워 배스로 이송하는 단계;
    상기 린스 샤워 배스에 이송된 마스크의 상단에 린스 가이드를 위치시키는 단계;
    상기 린스 가이드에 린스액이 분사되도록 린스 분사기를 위치시키는 단계; 및
    상기 린스 분사기에서 상기 린스 가이드로 린스액을 분사시켜 상기 린스 가이드에서 상기 린스액이 흘러내리도록 하고, 상기 린스 가이드를 통해 상기 마스크의 표면을 흘러내리도록 하여 상기 마스크의 표면이 린스되도록 하는 간접 린스 샤워를 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크를 세정하는 방법.
  10. 제 5 항에 있어서,
    상기 간접 샤워 린스 공정 후, 상기 마스크를 건조기로 이송하여 건조하는 단계:는
    상기 간접 샤워 린스 공정이 끝난 마스크를 상기 건조기로 이송시키기 위해 상기 린스 샤워 배스로부터 마스크를 꺼냄과 동시에 상기 린스 샤워 배스에 구비된 에어 나이프로 상기 마스크의 표면에 잔류하는 린스액을 제거하는 린스액 제거 공정을 진행하는 단계;
    상기 린스액 제거 공정이 완료된 마스크를 이송하여 건조기에 장입하는 단계; 및
    상기 건조기에 장입된 마스크를 건조시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크를 세정하는 방법.
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