KR20090019818A - 열을 가해 치주 질환을 치료 또는 방지하는 치료 장치 및 방법 - Google Patents

Abstract

치주 질환에 기여한다고 알려진 박테리아 또는 바이러스 시스템의 사망을 가속시키기 위해 치아와 잇몸(gum)에 적용될 수 있는 조절되는 열원이 설명된다.

치아, 잇몸, 열원, 박테리아, 바이러스, 치주

Description

열을 가해 치주 질환을 치료 또는 방지하는 치료 장치 및 방법{Treatment device and method for treating or preventing periodontal disease through application of heat}

본 발명은 치주 질환의 치료 또는 방지를 위한 방법들 및 장치들에 대한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 치아 및 잇몸들에 일정 투여량의 열 에너지를 적용하는 것을 포함하는 치주 질환의 치료 또는 방지를 위한 방법들 및 장치들에 대한 것이다.

잇몸 질환 또는 치주 질환, 만성 염증 및 잇몸과 주변 조직의 감염은 성인 치아 손실의 약 70%의 주요 원인이며, 이들의 삶의 어느 시점에서 4명 중 3명이 걸린다. 박테리아 치석(plaque)(치아 상에 일정하게 형성되는 점성 무색의 막)이 잇몸 질환의 주요 원인으로 인식된다. 특정한 치주 질환들은 특정한 박테리아 타입들에 연관될 수 있다. 치석이 매일 칫솔질 및 치실에 의해 매일 제거되면, 이는 결석[치석(tartar)으로도 불림]이라 불리는 거칠고 다공성 물질로 경화된다. 치석에서 박테리아에 의해 생성 및 방출된 독소(독)들은 잇몸들을 자극한다. 이러한 독소들은 잇몸들을 치아에 밀접하게 유지하는 섬유들이 분해되게 하여, 심지어 더 많은 독소들 및 박테리아로 채워지는 치주낭(periodontal pocket)을 생성한다. 질환이 진행함에 따라, 낭들은 더 깊게 확장되고 박테리아가 그 위치의 치아를 잡아주는 뼈가 파괴될 때까지 아래로 이동한다. 치아는 결국에는 빠지거나 또는 추출을 필요로 한다.

치주 질환에는 2가지 주요 타입이 있다: 치은염(gingivitis)과 치주염(periodontitis). 치은염은 잇몸들이 염증을 일으키고 치아로부터 뒤로 당겨지기 시작하지만 아직 연결 조직 및 뼈에는 손상이 없을 때의 치주 질환의 단계이다. 일반적인 치은염은 가장 보편적이고 제일 덜 심한 형태의 치주 질환이고, 증상들에는 쉽게 출혈하는 붉고 부어오른 잇몸들이 포함된다. 치은염이 있는 사람들은 지속적인 구취를 가질 수 있다. 이 단계의 질환의 치료는 매우 효과적이다.

치은염은 치주질환이 될 수 있는데, 이는 염증을 일으킨 잇몸만이 아니라 치아들과 잇몸들 사이의 깊은 낭(pocket)들에 의해 특징지어지며; 진전된 경우들에는, 하층의 연결 조직 및 뼈가 파괴된다. 가장 일반적인 타입의 치주질환은 성인성 치주염이다. 이는 13~19세만큼 빨리 시작될 수 있지만, 증상들은 일반적으로 30대 중반 이후가 될 때까지 뚜렷해지지 않는다. 증상들은 사람이 나이가 들어감에 따라 느리게 악화되지만, 그 사람의 일반적인 건강, 구강 청결 및 염증을 일으키는 박테리아와 싸우는 능력에 따라 들쑥날쑥한다. 또한, 치주염은 타입 1 당뇨병, AIDS와 다운 증후군을 포함하는 다른 질환들 및 장애가 있는 사람들에게 보다 일반적이다.

건강한 구강에서, 350종 이상의 미세유기물이 발견되었다. 치주 감염들은 이러한 종들의 5%미만과 연계된다. 박테리아 중 치주 질환과 뼈 손실에 가장 관련한 것은 하기의 것들이다:

비저균(actinobacillus; A.) 액티노미마이시템코미턴스(actinomycetemcomitans) 및 포르피로모나스(Porphyromonas; P.) 긴기발리스(gingivalis). 이들 두 박테리아는 특히 공격적인 치주 질환을 일으키는 경향이 있다고 보인다. 잇몸 내의 여러 깊은 낭들과 함께 P. 긴기발리스와 A. 액티노미마이시템코미턴스 모두가 잇몸 질환에 대한 표준 치료법들에 대한 내성에 관련한 것으로 밝혀졌다. 특히 P. 긴기발리스의 독성 주(virulent strain)들은 치주 질환의 원인이 될 수 있다. 몇몇 증거가 P. 긴기발리스가 아르기닌(arginine)-특정 시스테인(cysteine) 단백분해효소(proteinase)와 같은 효소들을 생성하고, 이들이 면역계를 붕괴시키고 이후의 치주 연결 조직 파괴를 일으키는 특정한 파괴 요인들일 수 있음을 암시한다.

박테로이데스(Bacteroides; B.) 포르시투스(forsythus)도 치주 질환과 강한 연관성이 있다. 치주 질환과 관련한 다른 박테리아는 T. 덴티콜라, T. 소크란스키(sokranskii) 및 P. 인터미디아(intermedia)가 있다. P. 긴기발리스와 함께 이러한 박테리아는 동일한 장소들에 빈번히 존재하고, 깊은 치주낭들과 연계된다.

몇몇 박테리아는 치은염과 관련하지만, 치석 성장에는 관련이 없다. 이들은 다양한 연쇄구균 종들을 포함한다.

특정 헤르페스 바이러스들(단순 헤르페스와 수두-띠 바이러스, 수두와 대상포진의 원인)은 치은염들의 원인들로 알려져 있고, 다른 헤르페스 바이러스들(거대세포바이러스와 엡스타인-바)은 공격성 및 심한 만성적 치주 질환을 포함하는, 몇가지 타입의 치주 질환의 개시 또는 진행에 일정 역할을 할 수 있다. 이러한 바이 러스들은 조직-파괴 사이토킨의 방출, 치주 박테리아의 과성장, 면역 인자들의 억제, 및 세포 사망을 일으키는 다른 질환 과정의 개시를 포함하는 상이한 방식들로 치주 질환을 일으킬 수 있다고 가정되어 왔다.

치주 질환의 초기 단계들에서, 대부분의 치료는 스케일링과 치근 활택술(root-planing; 치아 주변의 치석과 결석을 제거하고 치근 표면을 매끄럽게 함)을 포함한다. 스케일링과 치근 활택술의 효과들을 보조하는데 항생물질 또는 항균제들이 사용될 수 있다. 보다 진전된 경우들에는 잇몸들의 절단과, 경화된 치석 집중부를 제거하고 재성형(recontouring)을 포함하는, 외과적 치료를 필요로 할 수 있다. 또한, 이 시술은 청결함을 유지하기 더 쉽도록 치근 표면들을 매끄럽게 하고 잇몸 조직을 재위치시키게 계획된다. 불행하게도, 이러한 방법들은 종종 고통스럽고, 시간을-소모하고 비싸고, 종종 치주 질환의 재발생을 방지하는데 부적절하다.

지금까지, 치주 질환을 방지하는 방법들 및 장치들은 모두 치석 형성을 방지 또는 제거하게 설꼐된, 다양한 형태의 수동 또는 자동 칫솔을 갖는 치솔질, 종종 연마재와 혼합된 물 또는 공기로 가압 세정, 초음파 기기로 진동 세정, 또는 살균제 또는 항균제를 함유하는 다양한 형태의 양치질 약을 포함하였다. 종종, 이러한 기술들은 치주 질환을 일으킨다고 알려진 박테리아와 바이러스들을 효과적으로 죽이기 위해 갭, 갈라진 틈 및 잇몸 선들로 충분히 깊게 도달하는데 실패한다.

여러 번 열을 가하는 것과 온도 조합들이 P. 아크네스(acnes)와 황색포도알균(staphylococcus aureus) 박테리아, 및 HSV1 바이러스를 신뢰성있게 죽임이 입증되었다. 박테리아를 죽이는데 필요한 온도 범위는 일반적으로 약 47℃ 이상이지만, 인체 피부의 연소 또는 불편 임계값 이하이다. 피부 면적과 표면 접촉 면적에 따라, 이 상한은 51℃ 내의 범위이다. 그러나, 입안의 피부의 경우, 상한은 인체 구강이 피부의 다른 영역보다 더 높은 온도를 편안히 견딜 수 있기 때문에 더 높다. 지금까지, 치주 질환을 일으킨다고 알려진 박테리아 또는 바이러스와 싸우는 수단으로서 열을 사용하는 장치 또는 방법을 제안하지 않았다.

환자의 입의 다양한 문제를 처리하기 위해 다른 장치들은 열을 사용해왔다. 예를 들어, 명칭이 "치아를 가열하는 장치 및 이를 사용하는 방법"인 다넬(Darnell)의 미국 특허 제 6,254,391호("'391 특허")는 치아 미백 시스템의 일부로서 가열될 수 있는 마우스피스를 설명한다. '391 특허는 그 장치가 치주 질환을 치료하는데 사용될 수도 있다고 제안한다. 그러나, '391 특허는 그 장치가 잇몸 조직과 접촉하거나 또는 가열하지 않아야 한다고 설명한다. 결과적으로, '391 특허의 치과 장치는 환자의 잇몸 조직에 열을 전달하지 않고, 이는 치주 질환이 잇몸에 영향을 미치는 만성 박테리아 감염이기 때문에, '391 특허의 장치가 치주 질환을 치료하는데 비효과적이게 한다.

그러므로, 더 효과적이고 편리하고 덜 고통스럽고, 시간-소모적이고 비싼 방법들 또는 장치들을 통한 치주 질환의 개선된 치료 및 방지가 필요하다.

본원에서 설명하는 개념들은 치주 질환을 치료 또는 방지하는 수단으로서 박테리아 또는 바이러스 시스템의 사망을 가속시키기 위해 치아 및 잇몸에 적용될 수 있는 열원을 사용하는 것에 대한 것이다.

일 실시예에서, 치주 질환을 치료 또는 방지하기 위한 장치가 설명된다. 이 장치는 치아와 잇몸들과 접촉하게 배치되게 설계된 하나 이상의 열-전도면들과, 열전도면에 인접한 온도 센서를 포함한다. 이 장치는 열전도면을 가열하게 작동할 수 있는 가열 소자와, 온도 센서 및 가열 소자에 전기적으로-연결된 제어기를 추가로 포함하고, 제어기는 온도 센서로부터의 신호에 반응하여 가열 소자를 제어하고 열전도면의 온도를 치료 온도로 조절하게 작동될 수 있다.

다른 실시예에서, 치주 질환을 치료 또는 방지하기 위한 방법이 설명된다. 이 방법은 치주 질환에 기여한다고 알려진 박테리아 또는 바이러스들과 싸울 수 있는 일정 시간 동안 치아와 잇몸들을 일정 온도로 가열하는 것을 포함한다.

상술한 것은 하기의 본 발명의 상세한 설명이 더 잘 이해될 수 있도록 본 발명의 특징들과 기술적 장점들을 약간 넓게 요약했다. 본 발명의 청구범위의 주제를 형성하는 본 발명의 부가적인 특징들과 장점들이 이후에 설명된다. 공개되는 개념과 특정 실시예는 본 발명의 동일한 목적들을 실시하기 위한 다른 구조들을 설계하거나 또는 수정하기 위한 기반으로서 쉽게 사용될 수 있음을 당업자는 이해해야 한다. 또한, 이러한 등가의 구성들이 첨부된 청구범위에 제시된 본 발명의 진의 및 범위로부터 벗어나지 않음을 당업자는 이해해야 한다. 그 작동 구조 및 방법 모두에 대해 본 발명의 특징이라고 생각되는 신규한 특징들은 첨부한 도면들과 연계하여 고려할 때 하기의 설명으로부터 더 잘 이해될 것이다. 그러나, 각각의 도면들은 예시 및 설명만을 위해 제공되었고 본 발명의 한계의 정의로서 의도한 것이 아님을 명백히 이해해야 한다.

하기의 도면들은 본 명세서의 일부를 형성하고 본 발명의 특정 형태들을 추가로 실연하도록 포함되었다. 본 발명은 여기에 제시된 특정 실시예들의 상세한 설명과 조합하여 하나 이상의 이러한 도면들을 참조하여 더 잘 이해될 수 있다.

도 1은 본 발명에 따른 치료 장치의 일 실시예의 사시도.

도 2는 본 발명에 따른 치료 장치와 함께 사용하기 위한 마우스피스 구성요소의 일 실시예의 사시도.

도 3은 치아와 잇몸에 적용될 때의 도 2의 마우스피스 구성요소의 단면도.

도 4는 본 발명에 따른 치료 장치와 함께 사용하기 위한 가열 소자의 일 실시예의 구성요소들의 분해 사시도.

도 5는 도 4에 도시한 가열 소자들을 사용하는 본 발명에 따른 마우스피스의 일 실시예의 도면.

도 6은 도 1의 치료 장치의 주요 전기적 구성요소들의 개략 블록도.

도 7은 본 발명에 사용되는 펌웨어의 제어 기능성을 예시하는 도면.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 치료 장치의 작동을 예시하는 상태도.

본 발명은 치아 및 잇몸들에 일정 투여량의 열 에너지를 가해 치주 질환의 치료 및 방지를 위한 방법들 및 장치들을 설명한다.

치주 질환을 치료하는 장치들 및 방법들

치주 질환을 치료 또는 방지하기 위한 장치의 일 실시예가 도 1에 도시되어 있다. 치료 장치(10)는 설정된 기간동안 설정된 온도에서 치아 및 잇몸에 열 에너지를 전달하게 작동한다. 설정된 온도와 설정된 기간은 상이한 질환 상태들과 환자 인내 수준에 맞추도록 변할 수 있다. 그러나, 치료 장치(10)는 바람직하게는 약 46 내지 68℃의 온도로 치료면을 가열하고 약 10초 내지 30분동안 하나 이상의 온도를 유지할 수 있어야 한다. 비록 인체 피부가 약 66℃ 이상으로 가열될 때 열적 손상이 일반적으로 발생하지만, 그럼에도 불구하고 이 온도 이상으로 가열된 경계면은 특정 표면적에 걸쳐 전달되는 열 에너지의 양과 이 에너지가 가열된 조직에 의해 어떻게 발산되는지에 따라, 열적 손상 발생없이 치아와 잇몸에 유효 치료량의 열을 전달할 수 있다.

치료 장치(10)는 와이어 도선(16)들에 의해 제어 유닛(14)에 연결된 마우스피스(12)를 포함한다. 제어 유닛(14)의 하우징(18)은 사용자 인터페이스(20)와 치료 장치(10)의 내부 전기 구성요소들을 보유하도록 보호 커버를 포함한다. 사용자 인터페이스(20)에 의해, 사용자는 장치를 활성화 및 모니터링할 수 있다.

하우징(18)은 재충전가능한 배터리들과 같은 전원과 내부 전기적 구성요소들을 보유한다. 치료 장치(10)가 바람직한 전원으로서 재충전가능한 배터리들을 사용하는 것으로 설명되지만, 전원 코드를 사용하여 일반적인 벽 소켓으로부터 전력을 받는 것을 포함하는, 임의의 적절한 전원이 사용될 수 있다. 스피커가 치료에 남은 시간량, 오류 조건, 배터리 저충전, 및 사용자에게 유용하거나 관심을 끌 수 있는 임의의 다른 청각 정보와 같은 청각 정보를 사용자에게 제공하는데 사용될 수 있 다.

제어 유닛(14)은 배터리 충전 포트(30)와 데이터 포트(32)를 포함한다. 배터리 충전 포트(30)은 내부 배터리들을 충전하기 위해 충전기에 플러그를 꽂는데 사용된다. 데이터 포트(32)는 치료 장치(10)가 컴퓨터 또는 PDA와 같은 다른 장치와 통신할 수 있게 하고, 내부 전기적 구성요소들이 치료 장치(10)에 사용되는 새 프로그램들 또는 새 데이터를 수신할 수 있게 한다. 비록 도 1에 도시한 실시예가 인터페이스(20) 상에서 배터리 충전 포트(30)와 데이터 포트(32)를 포함하지만, 배터리 충전 포트(30)와 데이터 포트(32)는 제어 유닛(14)의 임의의 위치에서 발견될 수 있다.

인터페이스(20)는 전원 버튼(22)과 치료 버튼(24)을 포함한다. 전원 버튼(22)은 치료 장치(10)를 켜고 끄는데 사용된다. 치료 버튼(24)은 치료를 시작 및/또는 취소하는데 사용된다. 치료 버튼(24)은 치료 장치(10)가 치료를 시작할 준비가 되었는지 표시하는 발광 다이오드(LED; 28)들을 포함할 수 있다. 예시된 실시예가 디스플레이로서 LED를 사용하는 것으로 도시되었지만, LCD 또는 다른 디스플레이와 같은 임의의 표시 기술이 본원에 설명되는 개념으로부터 벗어나지 않고 사용될 수 있다. 예를 들어, LED(28)들은 장치가 치료를 시작할 준비가 되지 않음을 표시하게 황색을 그리고 치료 장치(10)가 치료를 시작할 준비가 되었음을 표시하게 녹색을 포함할 수 있다. 치료 장치(10)는 배터리에 남아있는 충전량과 사용자에게 유용하거나 관심을 끌 수 있는 임의의 다른 정보와 같은, 부가적인 가시적 정보를 사용자에게 제공하기 위해 도시하지 않은 부가적인 LED들을 포함할 수 있다.

이제 도 2를 참조하면, 도 1의 마우스피스(12)의 일 실시예가 도시되어 있다. 마우스피스는 가열되는 표면(40)들을 포함하고, 이들은 작동될 때 치주 질환에 기여한다고 알려진 박테리아 또는 바이러스들과 싸우기에 충분한 열 에너지를 전달한다. 가열되는 표면(12)들은 상부 트레이(32)와 하부 트레이(34)에서 수직면들을 따라 배향되어 있다. 상부 트레이(32)와 하부 트레이(34)는 환자의 위아래 치아를 각각 수용하는 구조를 갖는다. 마우스피스(12)는 일반적인 마우스피스이거나 또는 특정 환자의 구강에 일반적으로 또는 특정하게 맞도록 만들어질 수 있는 맞춤제작가능한 마우스피스일 수 있다.

도 3에 더 명확히 도시된 바와 같이, 각각의 상부 트레이(32)와 하부 트레이(34)의 가열되는 표면(40)들은 치아(42)와 잇몸(44)들과의 접촉을 돕게 배향된다. 양호한 실시예에서, 가열되는 표면(40)들은 치아(42)와 잇몸(44)들의 불규칙적인 형상들에 맞도록 설계된 연성 및 가요성의 재료를 포함한다. 가열되는 표면(40)들은 전기 연결부(16)에 의해 도 1에 제어 유닛(14)에 전기적으로 연결된다. 제어 유닛(14)은 결국 제어 유닛(14)에 의해 모니터링되는 전기 저항을 통해 열을 생성하는 가열되는 표면(40)들에 전류를 제공한다. 가열되는 표면(40)들의 온도는 온도 센서(46)들에 의해 모니터링되고, 이는 서미스터(thermistor)들이거나 또는 열을 생성하고 조절하는 다른 전기 장치들일 수 있다. 제어 유닛(14)은 치료를 위해 선택된 설정 온도에서 또는 그 근처에서 가열되는 표면(40)들을 유지하도록 가열되는 표면(40)들에 제공되는 전류를 수정할 수 있다.

도 4에 도시한 마우스피스(12)의 다른 실시예는 성형가능한 스트립(strip) 또는 테이프(50)를 생성하는 박판(lamination)들을 포함한다. 내측 박판(52)은 바람직하게는 겔(gel) 재료와 같은 가요성 열적 질량을 함유하는 도시하지 않은 다른 박판들을 포함할 수 있는 연성 및 가요성의 재료이다. 외측 박판(56)은 바람직하게는 알루미늄 박(foil)과 같이 일단 형성되면 그 형상을 유지하는 성형가능한 재료이고, 내측 박판(52)과 결합하는 능력 및 편의성을 돕기 위해 도시하지 않은 추가 박편들을 포함할 수 있다. 가요성 회로기판(54)이 내측 박판(52)과 외측 박판(56) 사이에 포함되어 습기로부터 보호된다. 내측 박판(52)에 포함되는 가요성 열적 질량은 내측 박판(52)을 회로기판(54) 상에 유지시킨다. 가요성 회로기판(54)은 저항성 가열 소자들과 온도 감지 소자들과 같이, 그 표면에 장착되어 치료를 수행하는데 사용되는 전기적 구성요소들을 포함한다. 가요성 회로기판(54)에 존재하는 조치(58; notch)들과 슬릿(60; slit)들은 성형가능한 스트립 또는 테이프(50)를 접고 굽히는 것을 돕는다.

이제 도 5를 참조하면, 성형가능한 스트립(50)을 사용하는 단일 트레이 마우스피스의 일 실시예가 도시되어 있고, 성형가능한 스트립 또는 테이프(50)가 그 길이를 따라 접히고 사용자의 치아 또는 잇몸들 둘레에서 감싸진다. 하나 이상의 성형가능한 스트립 또는 테이프(50)가 사용자를 위한 마우스피스를 형성하는 방식으로 성형된다. 새로 형성된 마우스피스는 마우스피스를 형성하는데 사용된 하나 이상의 성형가능한 스트립 또는 테이프(50)의 내측 박판(52)을 포함하는 가열되는 표면(40)들을 포함한다. 이와 같이, 도 5에 도시한 새로 형성된 마우스피스는 각각의 가열되는 표면(40) 근처에서 가요성 회로기판(54)을 포함한다. 도 4를 참조하여 설 명한 바와 같이, 가요성 열적 질량은 가요성 회로기판(54)을 가열되는 표면(40)에 연결한다. 열적 질량은 가요성 회로기판(54)에 의해 생성된 열 에너지를 가열되는 표면(40)에 전달하는 역할을 한다. 유사하게, 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같은 마우스피스(12)는 각각의 가열되는 표면(40)과 열이 서로 전달되는 하나 이상의 가열 소자를 포함할 수 있다.

이제 도 6을 참조하면, 치료 장치(10)의 전기적 시스템의 일 실시예를 도시하는 전기 블록도가 도시되어 있다. 치료 장치(10)는 회로기판(70)에 장착된 마우스피스 구성요소들을 포함한다. 회로기판(70) 상의 마우스피스 구성요소들은 그 표면 상에 장착되어 치료를 수행하는데 사용되는 전기적 구성요소들을 포함한다. 회로기판(70)은 열을 생성 및 조절하기 위해 저항기들, 서미스터들 및 다른 제어 구성요소들을 포함한다. 회로기판(70) 상에 장착된 저항기(72)들은 전원으로부터의 전기 에너지를 도 2에 도시한 마우스피스(12)의 가열되는 표면(40)의 온도를 증가시키는데 필요한 열 에너지로 변환하는데 사용된다. 가열되는 표면(40)의 온도의 제어는 회로기판(70) 상에 장착된 서미스터(74)로부터의 신호들에 반응하여 이루어진다. 서미스터(74)는 도 1의 하우징(18)의 마이크로프로세서(80)에 가열되는 표면(40)의 온도를 나타내는 전기 신호를 제공한다.

메모리 소자(76)도 회로기판(70) 상에 장착될 수 있다. 메모리 소자(76)는 마우스피스의 특정 기능들을 저장 및 실시하는데 사용되는 처리 및 기억 소자들의 임의의 조합일 수 있다. 메모리 소자(76)는 마우스피스의 특정 정보를 저장하는데 사용된다. 예를 들어, 예시된 실시예의 메모리 소자(76)는 그 관련 마우스피스에 대한 보정 정보를 포함할 수 있다. 특정 마우스피스들에 사용되는 개개의 구성요소들이 그 기록값들로부터 그 자신의 편차를 가질 수 있으므로, 각각의 마우스피스는 마우스피스의 구성요소들의 특정한 값들을 얻도록 치료 장치(10)의 가열 알고리즘을 수정하는데 사용되고 메모리 소자(76)에 저장되는 보정 정보를 제공하도록 제조시 보정된다.

메모리 소자(76)는 치료 사이클 지속시간, 치료 온도 및 치료 주파수와 같은 치료 변수들, 및 작동시 치료 장치를 돕는 다른 정보도 저장할 수 있다. 이러한 정보는 예를 들어, 치료 사이클 중에 사용되는 알고리즘 정보, 및 의도한 치료 프로토콜 및 마우스피스의 타입을 식별하는 정보일 수 있다.

도 1의 치료 장치(10)의 제어 유닛(14)의 전기 시스템의 일 실시예를 도시하는 전기도가 도 6에 또한 예시되어 있다. 마이크로프로세서(80)는 도 1의 치료 장치(10)의 다양한 입력들과 출력들에 반응하고 제어하게 프로그래밍된다. 마이크로프로세서(80)는 전원 버튼(22)으로부터의 입력을 수신하고 이에 반응하여 치료 장치의 전원을 켜고 끄게 작동한다. 마이크로프로세서(80)는 치료 버튼(24)으로부터의 입력도 수신하고 치료 버튼(24)으로부터의 입력에 근거하여 치료를 시작하거나 중지하게 작동한다. LED(88)들은 사용자에게 시각적 정보를 전달하게 마이크로프로세서(80)에 의해 켜지고 꺼지며, 스피커(90)는 사용자에게 청각 정보를 전달하도록 마이크로프로세서(80)에 의해 제어된다.

마이크로프로세서(80)는 마우스피스(12)와도 전기적으로 통한다. 마이크로프로세서(80)는 메모리 소자(76)와 통신하고 마우스피스 사이클, 보정, 치료 편차들 에 대한 정보 및 다른 마우스피스-특정 정보를 교환한다. 마이크로프로세서(80)는 인터페이스(92)를 통해 서미스터(74)로부터의 신호도 수신한다. 서미스터(74)로부터의 신호를 사용하여, 마이크로프로세서(80)는 마우스피스(12)의 가열되는 표면(40)의 온도를 제어하게 작동될 수 있다. 예시된 실시예의 마이크로프로세서(80)는 전계 효과 트랜지스터("FET")(94)의 게이트에 연결되고, FET(94)의 게이트에서의 전압을 변화시켜 저항기(72)를 지나 흐르는 전류량을 제어할 수 있다. 저항기(72)에 의해 생성되는 열은 이들을 통과하는 전류량에 비례한다. 서멀 인터록(78; thermal interlock)은 서미스터(74)의 고장이 마우스피스에 위험한 작동 온도를 발생시키지 않음을 보장하는 안전 메커니즘을 제공한다.

마이크로프로세서(80)는 비례, 적분, 미분 또는 PID로 불리는 제어 알고리즘으로 프로그래밍된다. PID는 3가지 작동 모드를 사용하는 제어 알고리즘이다: 비례 작용은 시스템 응답을 감쇠시키는데 사용되고, 적분은 드룹(droop)을 수정하고, 미분은 오버슈트 및 언더슈트를 방지한다. 마이크로프로세서(80)에서 실시되는 PID 알고리즘은 가열되는 표면(40)이 최소의 오버슈트로 가능한 한 빨리 원하는 작동 온도가 되게 작동하고, 또한 치료 영역의 방열 효과에 의해 발생되는 치료 사이클 중의 가열되는 표면(40)의 온도 변화들에 반응하게 작동한다.

FET(94)에 연결되는 것에 부가하여, 저항기(72)들은 서멀 인터록(78)을 통해 배터리(82)에 연결되고, 인터록은 저항기(72)들의 급등하는 과열을 방지하기 위해 선택되는 최대 전류 등급을 갖는 퓨즈일 수 있다. 하나 이상의 개개의 셀로 구성될 수 있는 배터리(82)가 배터리 충전기(84)가 외부 전원공급장치(86)에 연결될 때 배 터리 충전기(84)에 의해 충전될 수 있다. 외부 전원공급장치(86)은 임의의 타입의 전원공급장치일 수 있지만, 통상적으로 배터리 충전기(84)와 일반적인 벽 콘센트 사이에 연결된 AC 대 DC 변환기이다. 실시예들에 따라, 배터리(82)의 출력 전압은 배터리(82)에 남은 충전량에 직접 연관되므로, 배터리(82)의 전압을 모니터링하여 마이크로프로세서(80)가 배터리(82)에 남은 충전량을 측정하고 이 정보를 LED(88)들 또는 스피커(90)를 사용하여 사용자에게 전할 수 있다. 상이한 배터리 기술들에 대한 배터리 전압들 또는 충전량 측정의 다른 방법들도 사용될 수 있고 본 발명의 범위 내에 있다.

이제 도 7을 참조하면, 도 6의 마이크로프로세서(80)에 의해 실행되는 펌웨어에의 다양한 입력들을 도시하는 도면이 설명되어 있다. 펌웨어(100)는 도 6으로부터 마이크로프로세서(80)에 로딩된 프로그래밍을 나타낸다. 도 6을 참조하여 설명한 바와 같이, 마이크로프로세서(80)는 도 1의 치료 장치(10)의 다양한 특징들에 반응하고 제어하도록 작동할 수 있다. 펌웨어(100)는 전원 버튼(22), 치료 버튼(24), 서미스터(74) 및 배터리(82)로부터의 입력들을 수용할 수 있다. 펌웨어(100)는 보정 데이터와 같은, 정보를 메모리 소자(76)와 교환할 수도 있다. 마이크로프로세서(80)와 메모리 소자(76)는 치료 장치(10)의 효과를 증가시킬 수 있는 임의의 다른 정보를 교환할 수 있다.

메모리 소자(76)로부터의 정보 및 서미스터 입력에 반응하여, 펌웨어(100)는 펌웨어(100)에 프로그래밍된 PID 알고리즘에 따라 내측 박편의 온도를 조절하도록 FET(94)의 온도를 제어한다. 펌웨어(100)는 도 6의 LED(88)들의 하위조합들이고 배 터리 충전량(LED 102)과 치료 상태(LED 104)의 표시를 제공하는 LED(102, 104)들 및 사용자에게 청각 피드백을 제공하게 스피커(90)를 또한 제어한다.

이제 도 8을 참조하면, 일 실시예에 따른 도 7의 펌웨어(100)의 다양한 작동 상태들을 도시하는 상태 천이도가 설명된다. 상태도는 전원이 꺼진 상태인 정지 상태(110)에서 시작한다. 전원 오프 모드 중에 마이크로프로세서는 전원 버튼을 모니터링할 수 있게 하기 위해 약간의 전원을 계속 받는다. 정지 상태(110)는 파워 온 버튼이 눌릴 때 좌측이고, 이 상태는 마우스피스 메모리 처리 상태(112)로 진행한다. 마우스피스 메모리 처리 상태(112)에서 마이크로프로세서(80)와 도 6의 메모리 소자(76)는 마우스피스 특정 치료 정보를 교환한다. 스트립 사용 계수(count)가 낮거나 0이 아니면, 이 상태는 가열 상태(116)로 진행한다. 팁 계수(tip count)가 낮거나 또는 0으로 밝혀지면 이 상태는 경고 상태(114)로 진행하며, 이는 마우스피스 계수가 낮거나 또는 0임을 나타내는 시각 및/또는 청각 신호들을 사용자에게 제공한다. 마우스피스 계수가 0이거나 또는 마우스피수가 제거되면, 이 상태는 경고 상태(114)로부터 정지 상태(110)로 진행한다. 마우스피스 계수가 낮지만 0이 아니면, 이 상태는 경고 상태(114)로부터 가열 상태(116)로 진행한다.

가열 상태(116) 중에 스트립이 도 6의 저항기(72)들을 사용하여 가열된다. 예측 모델이 마우스피스가 온도에 도달하는데 필요한 시간량에 근거하여 타이머를 설정하는데 사용된다. 이 타이머는 열 질량이 가열에 정확히 반응하는 것을 나타내는 표시기로서 작용한다. 스트립이 타이머의 만기시까지 예정된 작동 온도에 도달하지 못하면, 잠재적으로 결함이 있는 구성요소의 징후이고 치료 장치는 정지 상 태(110)로 천이하여 종료된다. 열적 질량 거동의 다른 예측값들이 잠재적으로 결함이 있는 구성요소들을 검출하는데 사용될 수도 있다.

타이머의 만기에 부가하여, 치료 장치는 전원 버튼이 눌리거나 또는 배터리 전압이 임계값 이하로 떨어지면 정지 상태로 천이하여 전원을 끄고, 오류 표시가 시각적 및/또는 청각 신호들을 통해 사용자에게 제공된다. 마우스피스가 지정된 시간 내에 성공적으로 작동 온도에 도달하면, 상태는 준비된 상태(118)로 천이된다. 준비된 상태(118)로 들어갈 때 타이머가 시작된다. 준비된 상태(118)에서 타이머가 만기되거나 또는 전원 버튼이 눌리면, 상태는 정지 상태(110)로 천이한다.

준비된 상태(118)에서 치료 버튼이 눌리면, 상태는 치료 상태(120)로 천이된다. 2개의 타이머, 치료 타이머와 안전 타이머가 치료 상태(120)로 들어갈 때 시작된다. 안전 타이머는 치료 타이머가 고장날 때 안전 타이머가 만기되고 정지 상태(110)로 천이되기 전에 전원 리셋 상태(124)로 그 상태를 천이시키도록 치료 타이머보다 약간 더 길다. 또한, 이 상태는 전원 버튼이 치료 사이클 중에 눌리면 치료 상태(120)로부터 정지 상태(110)로 천이된다.

치료 사이클이 비교적 긴 기간일 수 있으므로, 치료 장치는 치료 타이머의 진행의 시각적 및/또는 청각적 표시를 제공하게 프로그래밍될 수도 있다. 예를 들어, 도 6의 스피커(90)가 치료가 계속되고 있음을 사용자에게 알리기 위해 치료 중에 단속적인 소리(intermittent tone)들을 제공하는데 사용될 수 있다. 소리들 간의 시간은 사이클이 끝에 가까워짐에 따라 소리들 간의 시간이 짧아지는 것과 같이, 치료 사이클의 남은 시간의 표시를 제공하게 이격될 수 있다. 시각적 또는 청 각적 피드백을 제공하는 다른 많은 방법들이 고려될 수 있고 본 발명의 범위 내에 있다.

치료 타이머가 만기될 때, 또는 치료 버튼이 눌릴 때, 이 상태는 치료 상태(120)로부터 대기 상태(122)로 천이하고 이는 치료-간 지연을 강제한다. 대기 상태에서 전원 버튼이 눌리거나 또는 마우스피스가 제거되면, 이 상태는 정지 상태(110)로 천이된다. 치료-간 지연이 만기된 후 이 상태는 준비된 상태(118)로 다시 천이된다. 치료-간 지연에 부가하여, 대기 상태(122)는 임시 치료 한계를 강제하는데 사용될 수 있다. 치료-간 지연이 치료 사이클들 사이의 비교적 짧은 지연을 강제하는 반면, 임시 치료 한계는 특정 기간에 수행될 수 있는 치료들의 회수를 제한하게 작용한다. 예를 들어, 치료 사이클이 2 1/2분이고 치료-간 지연이 10초이면, 30분의 임시 치료 한계는 강제적인 중단시간이 부여되기 전에 약 10 내지 11번의 연속적인 치료로 장치를 제한하는데 사용될 수 있다.

치료 장치(10)의 다른 실시예에서, 항균성 또는 살균 화합물이 가열되는 표면(40)들에 도입되어, 열 에너지에 의해 제공되는 살상 효과에 부가된다. 결국 가열되는 표면(40)들에 의해 생성되는 열은 이러한 화합물들의 분산 및 흡수를 도와 상승 효과를 발생시킨다.

치료 장치(10)의 또 다른 실시예에서, 미백 화합물이 가열되는 표면(40)들에 도입되어, 사용자들이 동일한 시간에 치주 질환 치료 또는 방지 및 치아 미백의 이중 기능들을 수행할 수 있게 한다. 이는 시약으로서 열로부터 이득을 보는 미백 화합물들이 사용되는 경우에 특히 유용하다.

바람직한 설정 온도 및 치료 시간

바람직한 설정 온도 및 치료 시간을 정하기 위해, 2개의 요인이 고려되어야 한다. 먼저, 설정 온도 및 치료 시간은 잇몸면에 치명적 영향을 미치는 바이러스 또는 박테리아에 열적 손상을 일으키기에 충분해야 한다. 둘째로, 설정 온도 및 치료 시간은 치료되는 피부를 손상시킬 수 있는 임계값 이하이어야 한다. 첫번째 요인은 예시적인 감염제들을 사용하여 하기의 예 1 내지 3을 참조하여 설명된다. 예 1 내지 3에 근거하여 150초의 기간에 대해 121℉(49.44℃)의 설정 온도가 다양한 감염제 및 자극제들에 대해 효과적으로 입증되었다. 121℉의 설정 온도 및 150초의 치료 시간이 본 발명의 일 실시예에 대해 선택되었지만, 설명한 실시예로부터 크게 벗어난 치료 시간 및 설정 온도들의 조합들을 사용하는 다른 실시예들도 본 발명의 범위 내에 있다.

설정 시간 및 온도의 설명한 실시예가 치료 영역에 화상을 일으키지 않음을 보장하기 위해, 화상에 대해 이루어진 이전의 연구에 대해 모델링이 수행되었다. 이 모델링은 도포기(applicator)와 접촉하는 피부면이 121℉의 도포기 온도에 즉시 도달하고 총 150초 동안 이 온도를 유지한다고 가정한다. 먼저, 설정 온도 및 치료 시간이 그 내용이 참고문헌으로서 포함되는, 미국 병리학 저널, 1947년, 23권, pp. 695 내지 720의, 모리츠와 헨리크의 "열 에너지의 연구들"의 페이지 711, 도 4에 제시된 시간-표면 온도 임계값들 도표에 대해 작도되었다. 150초에서 49.44℃의 도표는 약간 붉어지는(reddening) 것과 같이, "열적 손상의 첫번째 형태적 증거"를 나타내는 점선 바로 아래에 있다. 설정 온도에서, 이 곡선은 첫번째 가역적 손상이 195초에서 일어남을 나타낸다. 그러므로, 모리츠와 헨리크에 따라, 설정 온도와 치료 시간은 안전하고 심해도 치료 영역이 약간 붉어질 수 있다.

상기에 인용한 모리츠와 헨리크의 데이터에 근거하여, 수(Xu)와 치엔(Qian)은 그 내용이 참고문헌으로서 포함되는, 생체역학 공학 저널, ASME 회보, 117권, pp.462 내지 465(1995)의 명칭이 "효소 비활성화 메커니즘들에 기반한 열적 손상 과정의 분석"인 기사에서 효소 비활성화 개념에 근거하여 손상 기능에 대한 하기의 수학식을 개발했다.

여기서, z = 1-305.65/T

이고, t는 초이다.

이 모델에서 T = 322.59

이고 일정하므로,

150초동안

이다.

예 1

온도는 P. 아크네스의 사망 곡선에 의존한다.

박테리아 P. 아크네스가 일반적으로 입안에 존재하거나 치주 질환의 원인이 아니지만, P. 아크네스의 열에 대한 반응은 본원에서 설명하는 장치에 의해 치료될 수 있는 치주 질환 또는 다른 구강 상태의 원인이 되는 이러한 감염제들의 기대된 반응들을 나타낸다고 고려될 수 있다.

재료들 및 방법들: 박테리아 변종 P. 아크네스가 미국 타입 배양 컬렉션 ATCC(미국 버지니아 머내서스, 419571구, 11827호 소재)로부터 구입되었다. 배양물들은 KWIK-STIK 동결건조된 제제(preparation)로서 보관되었다. 동결건조된 세포들(P. 아크네스)은 제조업자 권고에 따라 수분보급되었고 초기에 혐기성 조건하에서 개개의 군체들을 격리하기 위해 조흔판(streak plate) 상에서 성장되었다. 그 다음에 이러한 판들은 혐기성 방에서 37℃에서 밤새 배양되었다. 그 다음에, 개개의 군체들이 밤새 배지-교반(medium agitation)으로 TSB-성장 배지(media)로 격리 및 접종되었다. 이러한 부분표본(aliquot)으로부터 0.1ml의 TSB 액체 배지(broth) 배양물이 0.9ml의 PBS 살균 완충액에 첨가되었다. 그 다음에, 이 혼합물은 얇은-벽을 갖는 에펜도르프 1.5ml 관들에 옮겨지고 다양한 시간 및 온도들에서 가열 블록에 배치되었다. 특정한 배양 시간 후에 배양물들이 제거되었고 0.1ml의 재료가 TSA 판들 상에 도포되었다. 그 다음에, 이 혼합물은 살균 하키-스틱으로 펼쳐진 다음에 혐기성 조건하에서 5일 동안 37℃에서 배양되었다. 그 다음에, 판들이 제거되고 군체들이 계산 및 기록되었다. 그 결과들이 도 10에 예시되어 있다. 도 10은 다양한 온도 및 치료 지속시간에 반응하여 P. 아크네스의 신속한 감소를 입증한다. 열원에 노출되지 않은 기준선 P. 아크네스 군체 합계는 1050이었다.

결과들: 더 높은 온도 배양시 박테리아 변종을 죽이는데 필요한 시간의 감소의 일반적 경향이 관찰된다. 군체들의 개수가 매우 급격히 떨어지는 임시 열적 임 계값이 주목된다. 이러한 실험들에 의해 생성된 곡선들을 사용하여 각각의 온도에 대한 최적의 열적 출력 및 타이밍이 국지적인 가열 장치에 대해 외삽될 수 있다. 도시된 생체밖 데이터는 지속된 저-레벨 열의 효과에 대한 P. 아크네스 박테리아 세포들의 큰 민감도를 실증한다. 55℃의 온도는 3 1/2분 후에 실질적으로 모든 박테리아가 죽게 한다. 58 및 59℃의 온도는 2분 후에 실질적으로 모든 박테리아가 죽게 한다. 이러한 곡선들은 P. 아크네스가 사망 곡선들에 의해 도시된 조건들 하에서 치료에 의해 대부분 살아갈 수 없게 될 수 있음을 입증한다.

예 2

다시, 여드름(acne)이 피부 조건이지만, 열을 사용하는 피부 병변의 치료는 본원에 설명한 개념들을 사용하여 치주 질환 및 다른 구강 조건들에 대해 열 치료의 용도를 예시하기 위해 고려된다.

환자들의 여드름 병변의 치료. 본 발명자들은 여드름 병변들의 급증을 경험하는 100명 이상의 자원자에 대해 예비 연구들을 수행했다. 모든 환자들은 얻어진 결과들에 만족한다고 보고했다. 결과들은 치료된 환자들의 거의 90%에서 치료에 명확한 반응을 보였다. 어떠한 치료로 인한 심각한 악영향을 보고하지 않았다. 또한, 치료되지 않은 병변보다 80% 이상 빠르게 치료된 병변이 치유됨을 발견했다.

본 연구에 사용된 전기 장치는 약 0.4cm²의 인터페이스를 가졌다. 장치의 인터페이스는 장치를 피부 표면에 적용하기 전에 약 48 내지 50℃의 일정 온도로 가열되었고, 온도는 치료 기간 중에 유지되었다. 각각의 환자들은 장치를 어떻게 사 용하는지 지시사항들이 주어졌고 치료 중에 모니터링되었다. 치료는 2 1/2분 동안 장치를 병변 장소에 적용하는 것으로 구성된다. 각각의 환자에게 2번의 치료 사이클을 적용하는 것을 요구하며, 두번째 치료 사이클은 첫번째 후에 12시간 가해졌다. 그러나, 실제로, 치료는 첫번째 치료 후 12시간에서 많은 병변들이 어떠한 추가 치료도 필요없는 정도로 치유되므로 빈번히 각각의 환자에 한번만 수행되었다.

자원자 환자들에 수행된 실험들의 결과들이 표 1에 열거되어 있다. 대조 표준 그룹의 구성원들은 상술한 바와 같이 치료되었다. 두 그룹 모두 다음 14일에 걸쳐 치료 결과들을 검사받거나 또는 자체-보고했다. 14일동안 데이터를 보고한 연구 참여자들로부터의 결과들만이 표에 포함되었다. 데이터는 치료 전의 병변의 사이즈에 관해 보고되었다. 100%의 병변 사이즈는 병변 사이즈가 바뀌지 않았음을 나타낸다. 병변 사이즈는 10%의 증분으로 추정되었다. 0%의 병변 사이즈는 병변이 완전히 가열되었음을 나타낸다.

예 3

본 발명자들은 인간 자원자들의 여러 구강 헤르페스 환부들에 시제품 장치들을 시험했고 그 결과들은 예 2에서 설명한 바와 같이, 12시간 간격으로, 치료시마다 2 1/2분에서 장치를 2번 적용한 후 헤르페스 환부의 완전한 종료를 보였다. 자원자들은 이러한 타입의 환부에 대해 일반적인 회복(healing) 사이클에 대비하여 치료 후의 회복 시간이 뚜렷히 감소됨을 보고했다.

본원에서 공개되고 청구되는 모든 조성들 및 방법들은 본원의 공개내용에 관해 불법적인 실험없이 만들어지고 실시될 수 있다. 본 발명의 조성들 및 방법들이 양호한 실시예들에 관해 설명되었지만, 변형예들이 본 발명의 개념, 진의 및 범위로부터 벗어나지 않고 본원에 설명된 방법들의 일련의 단계 또는 단계들에서 및 장치들 및 방법들에 적용될 수 있음이 당업자에게 명백할 것이다. 보다 상세하게는, 상술한 것에 관련한 특정 기계적 요소들이 동일하거나 유사한 결과들을 달성하기 위해 본원에 설명한 기계적 요소들에 대체될 수 있음이 명백하다. 당업자에게 명백한 이러한 유사한 대체물들과 수정예들 모두가 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 진의, 범위 및 개념 내에 있는 것으로 간주된다.

본 발명 및 그 장점들이 상세히 설명되었지만, 첨부된 청구범위에 의해 정의된 바와 같은 본 발명의 진의 및 범위로부터 벗어나지 않고 다양한 변화, 대체 및 변경이 본원에서 이루어질 수 있음이 이해되어야 한다. 또한, 본 명세서의 범위는 명세서에 설명한 처리, 장치, 제조물, 물질 조성, 수단, 방법들 및 단계들의 특정 실시예들에 한정되지 않는다. 당업자가 본 발명의 내용으로부터 쉽게 이해하듯이, 본원에 설명한 상응하는 실시예들과 실질적으로 같은 결과를 달성하거나 또는 실질적으로 같은 기능을 수행하는 현재 존재하거나 나중에 개발되는 처리, 장치, 제조물, 물질 조성, 수단, 방법들 및 단계들은 본 발명에 따라 사용될 수 있다. 따라서, 첨부된 청구범위는 그 범위 내에서 이러한 과정들, 장치들, 제조물, 물질의 조성, 수단, 방법들 또는 단계들을 포함한다.

Claims (25)

1. 치아 및 잇몸들과 접촉하게 배치되게 설계된 하나 이상의 열 전도면들;

   열 전도면에 인접한 온도 센서;

   열 전도면을 가열하게 작동할 수 있는 가열 소자; 및

   가열 소자 및 온도 센서에 전기적으로 연결된 제어기를 포함하고, 제어기는 온도 센서로부터의 신호에 반응하여 가열 소자를 제어하고 열 전도면의 온도를 치료 온도로 조절하게 작동할 수 있는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 치료 온도는 치주 질환에 기여한다고 알려진 박테리아 또는 바이러스들과 싸울 수 있는 온도 범위 내에 있는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 치료 온도는 46 내지 65℃의 온도인 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 제어기는 마이크로프로세서를 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
5. 제 1 항에 있어서,

   상기 제어기는 타이머를 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
6. 제 5 항에 있어서,

   상기 타이머는 10초 내지 30분동안 동작하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
7. 제 1 항에 있어서,

   상기 하나 이상의 열 전도면은 마우스피스에 통합된 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
8. 제 7 항에 있어서,

   상기 마우스피스는 하나 이상의 회로기판을 포함하고, 상기 회로 기판은 온도 센서와 가열 소자를 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
9. 제 8 항에 있어서,

   상기 온도 센서는 하나 이상의 서미스터(thermistor)를 포함하고 가열 소자는 하나 이상의 저항기(resistor)를 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
10. 제 9 항에 있어서,

    상기 회로 기판은 메모리 소자와 서멀 인터록(thermal interlock)을 추가로 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
11. 제 1 항에 있어서,

    상기 하나 이상의 열 전도면들이 하나 이상의 성형가능한 스트립 또는 테이프에 통합되는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
12. 제 11 항에 있어서,

    상기 성형가능한 스트립 또는 테이프는 하나 이상의 가요성 회로기판을 포함하고, 상기 가요성 회로기판은 온도 센서와 가열 소자를 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
13. 제 12 항에 있어서,

    상기 온도 센서는 하나 이상의 서미스터를 포함하고, 상기 가열 소자는 하나 이상의 저항기를 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
14. 제 13 항에 있어서,

    상기 회로 기판은 메모리 소자와 서멀 인터록을 추가로 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
15. 제 1 항에 있어서,

    상기 제어기는 온도 제어를 위한 피드백 루프를 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
16. 제 1 항에 있어서,

    상기 제어기는 별개의 하우징을 포함하고 와이어 도선들에 의해 접촉면들에 연결되는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
17. 제 16 항에 있어서,

    상기 별개의 하우징은 사용자 인터페이스를 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
18. 제 1 항에 있어서,

    상기 제어기는 별개의 하우징을 포함하고 고주파에 의해 접촉면들에 링크되는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
19. 제 18 항에 있어서,

    상기 별개의 하우징은 사용자 인터페이스를 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 장치.
20. 치주 질환에 기여한다고 알려진 박테리아 또는 바이러스들과 싸울 수 있는 기간동안 치아와 잇몸들을 및 일정 온도로 가열하는 것을 포함하는 치주 질환 치료 또는 방지 방법.
21. 제 20 항에 있어서,

    상기 온도는 46 내지 65℃의 온도인 치주 질환 치료 또는 방지 방법.
22. 환자의 치아 및 잇몸의 치주 질환을 치료하는 장치에 있어서,

    환자의 잇몸선에 인접한 하나 이상의 가열면들을 포함하고, 환자의 치아 및 잇몸들 상에 끼워지는 형상을 갖는 하나 이상의 트레이를 갖는 마우스피스와;

    하나 이상의 가열면들을 사전설정된 치료 온도로 유지하도록 마우스피스의 하나 이상의 가열면들을 제어하게 작동할 수 있는, 마우스피스에 전기적으로 연결된 제어 유닛을 포함하는 치주 질환 치료 장치.
23. 제 22 항에 있어서,

    상기 가열면들에 인접한 온도 센서를 추가로 포함하고, 상기 제어 유닛은 가열면들을 제어하도록 온도 센서의 출력을 사용하게 작동할 수 있는 치주 질환 치료 장치.
24. 제 22 항에 있어서,

    상기 하나 이상의 트레이는 가요성 스트립으로부터 형성되는 치주 질환 치료 장치.
25. 제 24 항에 있어서,

    상기 가요성 스트립은 가열면들에 인접한 변형가능한 열전도 재료를 포함하고, 상기 변형가능한 재료는 마우스피스와 표면 접촉을 증가시키기 위해 환자의 치아 및 잇몸들과 접촉하게 배치될 때 변형될 수 있는 치주 질환 치료 장치.

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