KR20090007698A - 고분자 재료 조성물 - Google Patents

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KR20090007698A
KR20090007698A KR1020087024598A KR20087024598A KR20090007698A KR 20090007698 A KR20090007698 A KR 20090007698A KR 1020087024598 A KR1020087024598 A KR 1020087024598A KR 20087024598 A KR20087024598 A KR 20087024598A KR 20090007698 A KR20090007698 A KR 20090007698A
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요시노리 네기시
다카시 아야베
마사토 스즈키
에쓰오 도비타
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가부시키가이샤 아데카
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Abstract

[과제] 내열성과 상용성이 우수하고, 내후성이 대폭 향상된 고분자 재료 조성물을 제공한다.
[해결수단] 고분자 재료, 및 하기 일반식 (I)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물을 함유하는 고분자 재료 조성물:
Figure 112008070218965-PCT00022
상기 식에서, R1∼R3은, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 아릴기, 알킬 아릴기 또는 아릴 알킬기를 나타낸다. 단, 이러한 기는, 하이드록시기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 알킬기 또는 알콕시기로 치환되어 있을 수도 있고, 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 에스테르기, 아미드기 또는 이미노기에 의해 중단되어 있을 수도 있고, 이러한 치환 및 중단은 조합되어 있을 수도 있다. R4∼R6는, 알킬기, 또는 알케닐기를 나타낸다. R7∼R9은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 알킬기, 또는 알케닐기를 나타낸다.
트리아진계 화합물, 고분자 재료, 자외선 흡수제, 내후성, 내열성

Description

고분자 재료 조성물{POLYMERIC MATERIAL COMPOSITION}
본 발명은 특정한 구조를 가진 트리아진계 화합물을 함유하는 고분자 재료 조성물에 관한 것이다.
폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 스티렌계 수지, 폴리 염화 비닐, 폴리카보네이트, 폴리에스테르 등의 고분자 재료나 유기 안료 또는 염료는, 광의 작용에 의해 열화하고, 변색 혹은 기계적 강도의 저하 등을 야기해서 장기간의 사용을 견디지 못하는 경우가 있다.
이에 대하여, 이들 유기 재료의 열화를 방지하거나, 투과 광의 파장을 제어하기 위해서, 종래부터 여러 가지 자외선 흡수제가 이용되고 있고, 이러한 자외선 흡수제로서는, 벤조페논계, 벤조트리아졸계, 2,4,6-트리아릴트리아진계 및 시아노아크릴레이트계의 자외선 흡수제가 이용되고 있다.
이러한 자외선 흡수제는, 그 구조의 차이로 인해서 각각 다른 자외선 흡수 스펙트럼을 나타내고, 유기 재료와의 상용성이나 휘산성(揮散性)도 다르기 때문에, 용도에 따라서 구분하여 사용된다. 특히 보호층에 이용할 수 있는 박막형인 것에 있어서는, 고도의 자외선 차폐 효과가 요구되기 때문에, 자외선 흡수제의 첨가량을 증가시킬 필요가 있고, 기재층과의 상용성이 우수하고, 휘산성이 작으며, 흡광 계 수가 큰 자외선 흡수제가 요구된다.
2,4,6-트리아릴트리아진계 자외선 흡수제는, 종래부터 고분자 재료에 첨가하여 사용되어 왔지만, 2,4,6-트리아릴트리아진계 자외선 흡수제 화합물 중에서도 특히 아릴기의 오르토 위치에 하이드록시기를 가진, 2,4,6-트리스(2-하이드록시아릴)트리아진계 화합물은, 높은 흡광 계수와 유기 재료를 착색하지 않는 흡수 파장을 가지며 내열성이 우수하다는 것, 사진 재료 및 고분자 재료에 사용될 수 있다는 것이 보고되어 있다(특허문헌 1, 2).
그러나, 이 2,4,6-트리스(2-하이드록시아릴)트리아진계 자외선 흡수제에 있어서도, 폴리카보네이트 및 폴리올레핀 등의 고분자 재료에 대한 상용성이 충분하지 않으며, 내열성이나 내후성도 만족할 수 있는 것은 아니었다.
또, 특허문헌 3, 4에는 본 발명에 따른 트리아진계 화합물이 공개되어 있지만, 이것은 광학 기록 재료와 광학 필름 용도에 관한 것으로서 예시한 것이며, 본 발명의 트리아진계 화합물의 구조를 한정한 것은 아니다. 또한, 본 발명에서 사용되는 트리아진계 화합물이, 내열성이나 고분자 재료와의 상용성이 우수하고, 고분자 재료에 우수한 내후성을 부여하는 효과를 가지는 것은 전혀 기재되어 있지 않다.
특허문헌 1: 일본 특개 평5-232630호 공보
특허문헌 2: 일본 특개 평11-71356호 공보
특허문헌 3: 일본 특개 2004-160883호 공보
특허문헌 4: WO2005/109052호 공보
발명이 해결하고자 하는 과제
전술한 바와 같이, 고분자 재료의 내후성이나 내열성을 개량하는 기술에 대해서 아직 충분한 것은 없었다. 따라서 본 발명의 목적은, 내열성과 상용성이 우수할 뿐 아니라 내후성이 크게 향상된 고분자 재료 조성물을 제공하는 것이다.
과제를 해결하기 위한 수단
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 집중 연구한 결과, 특정한 구조를 가지는 2,4,6-트리스(2-하이드록시아릴)트리아진계 화합물에 착안하고, 이것을 이용한 고분자 재료 조성물에 의해 상기 목적을 달성할 수 있다는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명의 고분자 재료 조성물은, 고분자 재료와, 하기 일반식 (I):
Figure 112008070218965-PCT00001
(상기 식에서, R1∼R3은, 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1∼18의 직쇄형 또는 분기형 알킬기, 탄소 원자수 3∼8의 시클로알킬기, 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기, 탄소 원자수 6∼18의 아릴기, 알킬 아릴기 또는 아릴 알킬기를 나타낸다. 단, 이들 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 아릴기, 알킬 아릴기 또는 아릴 알킬기는, 하이드록시기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 탄소 원자수 1∼18의 알킬기 또는 알콕시기로 치환되어 있을 수도 있고, 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 에스테르기, 아미드기 또는 이미노기에 의해 중단되어 있을 수도 있고, 이러한 치환 및 중단은 조합되어 있을 수도 있다. R4∼R6는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1∼8의 직쇄형 또는 분기형 알킬기, 또는 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기를 나타낸다. R7∼R9은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1∼8의 직쇄형 또는 분기형 알킬기, 또는 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기를 나타낸다)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명의 고분자 재료 조성물은, 바람직하게는, 상기 일반식 (I)에서의 R4, R5, R6가 메틸기이고, 보다 바람직하게는, 상기 일반식 (I)에서의 R7, R8, R9이 수소 원자인 트리아진계 화합물을 함유한다. 또, 본 발명의 고분자 재료 조성물은, 바람직하게는, 상기 일반식 (I)에서의 R4, R5, R6 및 R7, R8, R9이 수소 원자인 트리아진계 화합물을 함유한다.
또, 본 발명의 고분자 재료 조성물에 있어서, 상기 고분자 재료는, 바람직하게는 폴리카보네이트 수지이다.
발명의 효과
본 발명에 의하면, 상기 구성으로 함으로써, 가공 시의 착색이 적고, 내열성이 우수할 뿐 아니라 내후성도 우수한 고분자 재료 조성물을 실현하는 것이 가능해졌다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명한다.
본 발명에서 이용할 수 있는 트리아진계 화합물은, 하기 일반식 (I):
Figure 112008070218965-PCT00002
(상기 식에서, R1∼R3은, 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1∼18의 직쇄형 또는 분기형 알킬기, 탄소 원자수 3∼8의 시클로알킬기, 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기, 탄소 원자수 6∼18의 아릴기, 알킬 아릴기 또는 아릴 알킬기를 나타낸다. 단, 이들 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 아릴기, 알킬 아릴기 또는 아릴 알킬기는, 하이드록시기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 탄소 원자수 1∼18의 알킬기 또는 알콕시기로 치환되어 있을 수도 있고, 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 에스테르기, 아미드기 또는 이미노기에 의해 중단되어 있을 수도 있고, 이러한 치환 및 중단은 조합되어 있을 수도 있다. R4∼R6는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1∼8의 직쇄형 또는 분기형 알킬기, 또는 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기를 나타낸다. R7∼R9은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1∼8의 직쇄형 또는 분기형 알킬기, 또는 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기를 나타낸다)으로 나타내어진다.
본 발명에 따른 상기 일반식 (I)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물에 있어서, R1∼R3으로 나타내어지는 탄소수 18 이하의 직쇄형 또는 분기형 알킬기로서는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, sec-부틸, tert-부틸, 이소부틸, 아밀, 이소아밀, tert-아밀, 헥실, 헵틸, 2-헵틸, 이소헵틸, tert-헵틸, n-옥틸, 이소옥틸, tert-옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 이소노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실 등을 들 수 있고, 치환이나 중단을 가지는 것으로서는, 클로로메틸, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 2-하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 3-하이드록시프로필, 2-메톡실에틸, 2-에톡시에틸, 2-부톡시에틸, 2-메톡시프로필, 3-메톡시프로필, 2,3-디하이드록시프로필, 2-하이드록시-3-메톡시프로필, 2,3-디메톡시프로필, 2-(2-메톡시에톡시)에틸 등을 들 수 있다.
R1∼R3으로 나타내어지는 탄소 원자수 3∼8의 시클로알킬기로서는, 시클로프로필, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸 등을 들 수 있다.
R1∼R3으로 나타내어지는 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기로서는, 직쇄형 및 분기형 프로페닐, 부테닐, 펜테닐, 헥세닐, 헵테닐, 옥테닐 등, 임의의 위치에 불포화 결합을 가진 것을 들 수 있다.
R1∼R3으로 나타내어지는 탄소 원자수 6∼18의 아릴기 또는 알킬 아릴기로서는, 페닐, 나프틸, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 4-비닐페닐, 3-이소프로필페닐, 4-이소프로필페닐, 4-부틸페닐, 4-이소부틸페닐, 4-tert-부틸페닐, 4-헥실페닐, 4-시클로헥실페닐, 4-옥틸페닐, 4-(2-에틸헥실)페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 2,4-디-tert-부틸페닐, 2,5-디-tert-부틸페닐, 2,6-디-tert-부틸페닐, 2,4-디-tert-펜틸페닐, 2,5-디-tert-아밀 페닐, 2,5-디-tert-옥틸페닐, 비페닐, 2,4,5-트리메틸페닐 등을 들 수 있다. R1∼R3으로 나타내어지는 탄소수 6∼18의 아릴알킬기로서는, 벤질, 페네틸, 2-페닐프로판-2-일, 디페닐메틸 등을 들 수 있다.
또, R4∼R6으로 나타내어지는 탄소 원자수 1∼8의 직쇄형 또는 분기형 알킬기로서는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, sec-부틸, tert-부틸, 이소부틸, 아밀, tert-아밀, 옥틸, tert-옥틸 등을 들 수 있다.
R4∼R6으로 나타내어지는 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기로서는, 직쇄형 및 분기형 프로페닐, 부테닐, 펜테닐, 헥세닐, 헵테닐, 옥테닐 등, 임의의 위치에 불포화 결합을 가진 것을 들 수 있다.
또, R7∼R9으로 나타내어지는 탄소 원자수 1∼8의 직쇄형 또는 분기형 알킬기로서는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, sec-부틸, tert-부틸, 이소부틸, 아밀, tert-아밀, 옥틸, tert-옥틸 등을 들 수 있다.
R7∼R9으로 나타내어지는 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기로서는, 직쇄형 및 분기형 프로페닐, 부테닐, 펜테닐, 헥세닐, 헵테닐, 옥테닐 등, 임의의 위치에 불포화 결합을 가진 것을 들 수 있다.
상기 일반식 (I)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물 중에서도, 하기 일반식 (II)으로 나타내어지는 것이, 제조가 용이하고 저비용인 점에서 바람직하다.
Figure 112008070218965-PCT00003
(상기 식에서, R10∼R12는, 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1∼12의 직쇄형 또는 분기형 알킬기, 또는 탄소 원자수 3∼8의 시클로알킬기를 나타내고, R13은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다).
상기 일반식 (II)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물에 있어서, R10∼R12로 나타내어지는 탄소 원자수 1∼12의 직쇄형 또는 분기형 알킬기로서는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, sec-부틸, tert-부틸, 이소부틸, 아밀, 이소아밀, tert-아밀, 헥실, 헵틸, 2-헵틸, 이소헵틸, tert-헵틸, n-옥틸, 이소옥틸, tert-옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 이소노닐, 데실, 운데실, 도데실 등을 들 수 있다.
R10∼R12로 나타내어지는 탄소 원자수 3∼8의 시클로알킬기로서는, 시클로프로필, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸 등을 들 수 있다.
본 발명에서 이용할 수 있는 상기 일반식 (I) 또는 (II)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물의 구체예로서는, 이하에 제시하는 화합물 No. 1∼28을 들 수 있다. 한편, 하기 화학식에 있어서, Me는 메틸기, Et는 에틸기, Pr은 프로필기, iPr은 이소프로필기, Bu는 부틸기, Am은 아밀기, iAm은 이소아밀기, cyHx는 시클로헥실기를 나타낸다.
Figure 112008070218965-PCT00004
Figure 112008070218965-PCT00005
Figure 112008070218965-PCT00006
Figure 112008070218965-PCT00007
상기 일반식 (I)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물의 합성 방법은, 특별히 제한되지 않고, 트리아진 구조를 가지는 화합물의 합성에 통상 사용되는 합성 방법을 적용할 수 있다. 예를 들면, 염화시아누르에 페놀 유도체 또는 레조르시놀 유도체를, 3염화알루미늄을 이용해서 부가 반응시키는 방법을 들 수 있다. R1∼R9으로 나타내어지는 치환기는, 트리아진 구조를 형성한 후에 도입해도 되고, 트리아진 구조를 형성하기 전에, 페놀 유도체 또는 레조르시놀 유도체에 도입해도 된다.
예를 들면, R1∼R3의 치환기를 도입할 경우에는, 염화시아누르와, 페놀 유도체 또는 레조르시놀 유도체로, 트리아진 환을 가지는 중간체를 합성한 후, 상기 중 간체의 아릴기의 파라 위치의 수산기와, R1∼R3의 치환기를 가지는 카르복시산유도체(카르복시산, 카르복시산 클로라이드, 카르복시산 에스테르, 카르복시산염)를 반응시켜, 에스테르 결합을 형성함으로써, R1∼R3의 치환기를 도입할 수 있다.
특히, 2-메틸레조르시놀을 원료로 하여 제조되는 상기 일반식 (II)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물은, 합성이 용이하고, 저비용이기 때문에 바람직하다.
다음으로, 본 발명에서 사용되는 고분자 재료에 대하여 설명한다.
고분자 재료로서는, 열가소성 수지, 열경화성 수지, 엘라스토머 등을 예시할 수 있다.
열가소성 수지로서는, 고밀도, 저밀도 또는 직쇄형 저밀도 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부텐-1, 폴리-3-메틸펜텐 등의 α-올레핀 중합체 또는 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀 및 이것들의 공중합체, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 염소화 폴리에틸렌, 염소화 폴리프로필렌, 폴리플루오르화비닐리덴, 염화고무, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 염화비닐-에틸렌 공중합체, 염화비닐-염화비닐리덴 공중합체, 염화비닐-염화비닐리덴-아세트산비닐 3원 공중합체, 염화비닐-아크릴산 에스테르 공중합체, 염화비닐-말레산 에스테르 공중합체, 염화비닐-시클로헥실말레이미드 공중합체 등의 할로겐 함유 수지, 석유 수지, 쿠마론 수지, 폴리스티렌, 폴리아세트산비닐, 아크릴 수지, 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌과 그 밖의 단량체(예를 들면, 무수 말레산, 페닐말레이미드, 메타크릴산 메틸, 부타디엔, 아크릴로니트릴 등)와의 공중합체(예를 들면, 아크릴 로니트릴-스티렌 공중합체(AS) 수지, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체(ABS) 수지, 메틸 메타크릴레이트-부타디엔-스티렌 공중합체(MBS) 수지, 내열성 ABS 수지 등), 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리비닐알코올, 폴리비닐 포르말, 폴리비닐 부티랄, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 및 폴리테트라메틸렌 테레프타레이트 등의 직쇄형 폴리에스테르, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리카프롤락탐 및 폴리헥사메틸렌 아디프아미드 등의 폴리아미드, 폴리카보네이트, 분기형 폴리카보네이트, 폴리아세탈, 폴리메틸렌설파이드, 폴리우레탄, 섬유소계 수지 등의 열가소성 합성 수지 및 이것들의 블렌드체를 예시할 수 있다. 열경화성 수지로서는, 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지 등의 열경화성 수지를 예시할 수 있다. 또한 엘라스토머로서는, 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합 고무, 스티렌-부타디엔 공중합 고무 등을 예시할 수 있다.
또한, 폴리락트산 등의 식물 유래의 수지 또는 생분해성 수지를 들 수도 있다.
상기 고분자 재료 중에서도, 헤테로 원자를 가지는 고분자 재료는, 상기 일반식 (I)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물과의 상용성이 우수하므로 바람직하다. 헤테로 원자를 가지는 고분자 재료로서는, 예를 들면, 폴리카보네이트, 분기형 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리테트라메틸렌 테레프탈레이트 등의 직쇄형 폴리에스테르, 폴리카프로락톤 및 폴리헥사메틸렌 아디프아미드 등의 폴리아미드, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리페닐렌설파이드, 폴리(메타)아크릴산 메 틸 및 폴리(메타)아크릴산 부틸 등의 폴리(메타)아크릴산 에스테르를 들 수 있다. 이것들 중에서 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리페닐렌옥사이드 등의 주쇄 상에 헤테로 원자 또는 방향환을 가지는 고분자 재료가 특히 바람직하고, 폴리카보네이트 수지가 가장 바람직하다.
이러한 고분자 재료는 단독으로, 또는 2종 이상을 조합해서 사용할 수 있다. 조합으로서는, 폴리카보네이트/ABS, 폴리카보네이트/폴리에스테르 등의 복합화나, 폴리카보네이트의 필름에 본 발명에서 사용하는 상기 일반식 (I)으로 나타내어지는 특정한 트리아진계 화합물을 첨가한 폴리카보네이트 또는 폴리(메타)아크릴산 에스테르를 라미네이트하여, 적층 필름 등으로서 이용할 수 있다.
본 발명의 고분자 재료 조성물은, 고분자 재료 100질량부에 대하여, 상기 일반식 (I)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물을 0.001∼10질량부, 특히 0.005∼10질량부 첨가한 것이 바람직하다. 이러한 범위에서, 충분히 내후성이 개선되고 또한 착색성이 개선되기 때문이다.
본 발명에서 사용하는 상기 일반식 (I)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물을 고분자 재료에 적용하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 첨가할 때의 형태는 분말이라도 에멀젼이나 현탁액 등의 수분산체일 수도 있고, 유기 용제 중의 용액일 수도 있다. 그러나, 중합 시에 첨가하거나, 가공 시의 온도 등에 의해 (메타)아크릴로일기가 반응하는 조건에서 첨가하는 것은, 얻어지는 고분자 재료 조성물의 가공 시의 착색이 커지므로 실용적이 아니다.
본 발명의 고분자 재료 조성물에 있어서는, 상기 일반식 (I)으로 나타내어지 는 트리아진계 화합물 이외에, 필요에 따라서 다른 범용의 산화 방지제, 안정제 등의 첨가제를 병용할 수 있다. 이러한 첨가제로서 특히 바람직한 것으로는, 페놀계, 황계, 포스페이트계 등의 산화 방지제, 힌더드 아민계 광안정제(HALS)를 들 수 있고, 특히 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 화합물로 대표되는 힌더드 아민계의 광안정제(HALS)는, 본 발명에 따른 트리아진계 화합물과 상승 효과를 가지므로 바람직하다.
상기 HALS로서는, 하기 일반식 (III)으로 나타내어지는 화합물, 염화시아누르 축합형 HALS, 고분자량형 HALS 등을 들 수 있다.
Figure 112008070218965-PCT00008
(식(III) 중, m은 1∼6의 정수를 나타내고, A는 수소 원자, 탄소수 1∼18의 m가의 탄화수소기, m가의 아실기 또는 m가의 카르바모일기를 나타내고, B는 산소 원자, -NH- 또는 탄소수 1∼8의 알킬기 Re를 가지는 -NRe-을 나타내고, Y는 수소 원자, 옥시 라디칼(ㆍO), 탄소수 1∼18의 알콕시기, 탄소수 1∼8의 알킬기 또는 하이드록실기를 나타내고, Z는 메틴, 또는 탄소수 1∼8의 알킬기 Rf를 가지는 하기 일반식 (IV)
Figure 112008070218965-PCT00009
로 나타내어지는 기를 나타낸다).
상기 일반식 (III)에 있어서, A로 나타내어지는 m가의 탄소수 1∼18의 탄화 수소기로서는, 메탄, 에탄, 프로판, 부탄, sec-부탄, tert-부탄, 이소부탄, 펜탄, 이소펜탄, tert-펜탄, 헥산, 시클로헥산, 헵탄, 이소헵탄, tert-헵탄, n-옥탄, 이소옥탄, tert-옥탄, 2-에틸헥산, 노난, 이소노난, 데칸, 도데칸, 트리데칸, 테트라데칸, 펜타데칸, 헥사데칸, 헵타데칸, 옥타데칸 등의 탄화수소 화합물로 유도되는 기(알킬기, 알칸기 또는 헥사일기)를 들 수 있다.
상기 일반식 (III)에 있어서, A로 나타내어지는 m가의 아실기는, 카르복시산으로부터 유도되는 기, m가 카르복시산으로부터 유도되는 기, 또는 n가 카르복시산으로부터 유도되는 동시에 카복실 기가 m개 잔존하는 (n-m)개의 에스테르기를 함유하는 알킬에스테르로부터 유도되는 기이다(카르복시산, m가 카르복시산 및 상기 알킬에스테르를, 아실 유도체 화합물이라고 한다).
이러한 아실유도체 화합물로서는, 아세트산, 벤조산, 4-트리플루오로메틸벤조산, 살리실산, 아크릴산, 메타크릴산, 옥살산, 메론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜린산, 수베르산, 아젤라인산, 세바신산, 도데칸 2산, 2-메틸숙신산, 2-메틸아디프산, 3-메틸아디프산, 3-메틸펜탄 2산, 2-메틸옥탄 2산, 3,8-디메틸데칸 2산, 3,7-디메틸데칸 2산, 수소첨가 다이머산, 다이머산, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 나프탈렌디카르복시산, 시클로헥산디카르복시산, 트리멜리트산, 피로 멜리트산, 트리메신산, 프로판-1,2,3-트리카르복시산, 프로판-1,2,3-트리카르복시산 모노 또는 다알킬 에스테르, 펜탄-1,3,5-트리카르복시산, 펜탄-1,3,5-트리카르복시산 모노 또는 디알킬 에스테르, 부탄-1,2,3,4-테트라카르복시산, 부탄-1,2,3,4-테트라카르복시산 모노 또는 트리알킬 에스테르, 펜탄-1,2,3,4,5-펜타카르 복시산, 펜탄-1,2,3,4,5-펜타카르복시산 모노 또는 테트라알킬 에스테르, 헥산-1,2,3,4,5,6-헥사카르복시산, 헥산-1,2,3,4,5,6-헥사카르복시산 모노 또는 펜타알킬 에스테르 등을 들 수 있다.
상기 일반식 (III)에 있어서, A로 나타내어지는 m가의 카르바모일기는, 이소시아네이트 화합물로 유도되는 모노알킬카르바모일기 또는 디알킬바르바모일기다.
모노알킬카르바모일기를 유도하는 이소시아네이트 화합물로서는, 트릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프틸렌디이소시아네이트, 3,3'-디메틸디페닐-4,4'-디이소시아네이트, 디아니시딘디이소시아네이트, 테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 트랜스-1,4-시클로헥실디이소시아네이트, 노르보르넨디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4(2,2,4)-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 1-메틸벤졸-2,4,6-트리이소시아네이트, 디메틸트리페닐메탄테트라이소시아네이트 등을 들 수 있다.
디알킬카르바모일기로는, 디에틸카르바모일기, 디부틸카르바모일기, 디헥실카르바모일기, 디옥틸카르바모일기 등을 들 수 있다.
상기 탄소수 1∼18의 m가의 탄화수소기, 상기 m가의 아실기 및 상기 m가의 카르바모일기는, 할로겐 원자, 수산기, 알킬기, 알콕시기, 니트로기, 시아노기 등으로 치환되어 있을 수도 있다.
상기 일반식 (III)에 있어서, B로 나타내어지는 기가 가지는, Re로 나타내어 지는 탄소수 1∼8의 알킬기로서는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, sec-부틸, tert-부틸, 이소부틸, 아밀, 이소아밀, tert-아밀, 헥실, 시클로헥실, 헵틸, 이소헵틸, tert-헵틸, 1-에틸펜틸, n-옥틸, 이소옥틸, tert-옥틸, 2-에틸헥실 등을 들 수 있다.
상기 일반식 (III)에 있어서, Y로 나타내어지는 탄소수 1∼18의 알콕시기로서는, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, sec-부틸옥시, tert-부틸옥시, 이소부틸옥시, 아밀옥시, 이소아밀옥시, 헥실옥시, 헵틸옥시, 옥틸옥시, 2-에틸헥실옥시, 노닐옥시, 이소노닐옥시, 데실옥시, 도데실옥시, 트리데실옥시, 테트라데실옥시, 펜타데실옥시, 헥사데실옥시, 헵타데실옥시, 옥타데실옥시 등을 들 수 있다. Y로 나타내어지는 탄소수 1∼8의 알킬기로서는, 상기 Re와 동일한 기를 들 수 있다.
상기 일반식 (III)에 있어서 Z를 나타내는 상기 일반식 (IV)에서의 Rf로 나타내어지는 탄소수 1∼8의 알킬기로서는, 상기 Re와 동일한 기를 들 수 있다.
상기 일반식 (III)으로 나타내어지는 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 스테아레이트, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜 스테아레이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 벤조에이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥톡시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜 메타크릴레이트, 2,2,6,6-테트라메틸-피페리딜 메타크릴레이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 테트라키 스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)·비스(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-2-부틸-2-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-[트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜옥시카르보닐옥시)부틸카르보닐옥시]에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-[트리스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐옥시)부틸카르보닐옥시]에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸 등을 들 수 있다.
본 발명의 고분자 재료 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 염화시아누르 축합형 HALS로서는, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-모르폴리노-s-트리아진 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 아미노)헥산/2,4-디클로로-6-tert-옥틸아미노-s-트리아진 중축합물, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일아미노]운데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일아미노]운데칸 등을 들 수 있다.
본 발명의 고분자 재료 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 고분자량형 HALS로서는, 1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀/숙신산디에틸 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/디브로모에탄 중축합물 등을 들 수 있다.
본 발명의 고분자 재료 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 포스페이트계항산화제로서는, 예를 들면, 트리페닐포스페이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐)포스페이트, 트리스(2,5-디-tert-부틸페닐)포스페이트, 트리스(노닐페닐)포스페이트, 트리스(디노닐페닐)포스페이트, 트리스(모노, 디 혼합 노닐페닐)포스페이트, 디페닐애시드 포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페닐)옥틸포스페이트, 디페닐데실포스파이트, 디페닐옥틸포스파이트, 디(노닐페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 페닐디이소데실포스파이트, 트리부틸포스파이트, 트리스(2-에틸헥실)포스파이트, 트리데실포스파이트, 트리라우릴포스파이트, 디부틸애시드 포스파이트, 디라우릴애시드 포스파이트, 트리라우릴트리티오포스파이트, 비스(네오펜틸글리콜)·1,4-시클로헥산디메틸디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,5-디-tert-부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4-디쿠밀페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 디스테아릴펜타에리스리톨디포스파이트, 테트라(C12-15 혼합 알킬)-4,4'-이소프로필리덴디페닐포스파이트, 비스[2,2'-메틸렌비스(4,6-디아밀페닐)]·이소프로필리덴디페닐포스파이트, 테트라트리데실·4,4'-부틸리덴비스(2-tert-부틸-5-메틸페놀)디포스파이트, 헥사(트리데실)·1,1,3-트리스(2-메틸-5-tert-부틸-4-하이드록시페닐)부탄·트리포스페이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)비페닐렌디포스포나이트, 트리스(2-[(2,4,7,9-테트라키스-tert-부틸디벤 조[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀-6-일)옥시]에틸)아민, 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 2-부틸-2-에틸프로판디올·2,4,6-트리-tert-부틸페놀모노포스파이트 등을 들 수 있다.
본 발명의 고분자 재료 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 페놀계 항산화제로서는, 예를 들면, 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 스테아릴(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 디스테아릴(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)포스포네이트, 트리데실·3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질티오아세테이트, 티오디에틸렌비스[(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-m-크레졸), 2-옥틸티오-4,6-디(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페녹시)-s-트리아진, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 비스[3,3-비스(4-하이드록시-3-tert-부틸페닐)부티릭애시드]글리콜에스테르, 4,4'-부틸리덴비스(2,6-디-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-tert-부틸페닐)부탄, 비스[2-tert-부틸-4-메틸-6-(2-하이드록시-3-tert-부틸-5-메틸벤질)페닐]테레프탈레이트, 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-3-하이드록시-4-tert-부틸벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시 벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,3,5-트리스[(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시에틸]이소시아누레이트, 테트라키스[메틸렌-3-(3',5'-디-tert-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 2-tert-부틸-4-메틸-6-(2-아크로일옥시- 3-tert-부틸-5-메틸벤질)페놀, 3,9-비스[2-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸하이드로신나모일옥시)-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 트리에틸렌글리콜비스[β-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트] 등을 들 수 있다.
본 발명의 고분자 재료 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 황계 항산화제로서는, 예를 들면, 티오디프로피온산의, 디라우릴에스테르, 디미리스틸에스테르, 미리스틸스테아릴에스테르, 디스테아릴에스테르 등의 디알킬티오디프로피오네이트류, 펜타에리스리톨테트라(β-도데실메르캅토프로피오네이트) 등의 폴리올의 β-알킬메르캅토피로피온산 에스테르류를 들 수 있다.
또, 본 발명의 고분자 재료 조성물에는 추가로 필요에 따라, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에서, 상기 일반식 (I)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물이외의 종래 공지된 자외선 흡수제를 사용할 수도 있다.
본 발명의 고분자 재료 조성물에 있어서 이용할 수 있는 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 5,5'-메틸렌비스(2-하이드록시-4-메톡시벤조페논) 등의 2-하이드록시벤조페논류; 2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-5-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3-tert-부틸-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3,5-디쿠밀페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌 비스(4-tert-옥틸-6-벤조트리아졸릴페놀), 2-(2-하이드록시-3-tert-부틸-5-카르복시페닐)벤조트리 아졸의 폴리에틸렌글리콜 에스테르, 2-[2-하이드록시-3-(2-아크릴로일옥시에틸)-5-메틸페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-(2-메타크릴로일옥시에틸)-5-tert-부틸페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-(2-메타크릴로일옥시에틸)-5-tert-옥틸페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-(2-메타크릴로일옥시에틸)-5-tert-부틸페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-5-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-tert-부틸-5-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-tert-아밀-5-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-tert-부틸-5-(3-메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-4-(2-메타크릴로일옥시메틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-4-(3-메타크릴로일옥시-2-하이드록시프로필)페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-4-(3-메타크릴로일옥시프로필)페닐]벤조트리아졸 등의 2-(2-하이드록시 페닐)벤조트리아졸류; 2-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-헥실록시 페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥톡시 페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(3-C12∼13 혼합 알콕시-2-하이드록시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디하이드록시-3-알릴페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-하이드록시-3-메틸-4-헥실록시페닐)-1,3,5-트리아진 등의 2-(2-하이드록시 페닐)-4,6-디아릴-1,3,5-트리아진류; 페닐살리실레이트, 레조르시놀모노벤조에이트, 2,4-디-tert-부틸페닐-3,5-디-tert-부틸-4-하이드 록시벤조에이트, 옥틸(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시)벤조에이트, 도데실(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시)벤조에이트, 테트라 데실(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시)벤조에이트, 헥사데실(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시)벤조에이트, 옥타데실(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시)벤조에이트, 베헤닐(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시)벤조에이트 등의 벤조에이트류; 2-에틸-2'-에톡시옥스아닐리드, 2-에톡시-4'-도데실옥스아닐리드 등의 치환 옥스아닐리드류; 에틸-α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸-2-시아노-3-메틸-3-(p-메톡시페닐)아크릴레이트 등의 시아노아크릴레이트류; 니켈, 크롬 등의 각종 금속의 금속염 또는 금속 킬레이트 등을 들 수 있다.
그 밖에 필요에 따라서, 본 발명의 고분자 재료 조성물에는, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 양쪽성 계면활성제 등으로 이루어지는 대전 방지제; 할로겐계 화합물, 인산 에스테르계 화합물, 인산 아미드계 화합물, 멜라민계 화합물, 폴리인산의 멜라민염 화합물, 플루오르 수지 또는 금속 산화물 등의 난연제; 탄화수소계, 지방산계, 지방족 알코올계, 지방족 에스테르계, 지방족 아미드계, 금속 비누계 등의 윤활제; 중금속 불활성제; 하이드로탈사이트(hydrotalcite); 유기 카르복시산; 염료 안료 등의 착색제; 폴리올레핀 파우더 등의 가공 보조제; 흄드 실리카, 미립자 실리카, 규석, 규조토류, 클레이, 카올린, 실리카겔, 규산칼슘, 세리사이트(sericite), 카올리나이트(kaolinite), 플린트(flint), 장석분(長石紛), 질석(蛭石), 아타펄자이트(attapulgite), 탈크, 마이카, 미네소타이트(minnesotaite), 파이로필라이트(pyrophyllite) 등의 규산계 첨가제; 탄산칼슘 등의 충전제; 조핵제(nucleating agent); 유기 주석 화합물; 스테아 르산마그네슘, 스테아르산칼슘, 스테아르산아연 등의 지방족 유기산 금속염; 가소제; 에폭시 화합물; 발포제 등의 첨가제를 배합할 수 있다.
본 발명의 고분자 재료 조성물의 용도로서는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 그 형태로서는, 형성품, 박막형 물품 등을 들 수 있고, 특별히, 박막형 물품이 유효하고, 박막형인 것이라면, 합성 수지 필름, 시트, 도료 이외에도, 부직포나 직물 등에 사용할 수 있는 섬유일 수도 있다.
또, 구체적인 용도로서는, 범퍼, 데쉬보드, 인스트루먼트 패널 등의 자동차용 수지 부품; 냉장고, 세탁기, 청소기 등의 가전제품용 수지 부품; 식기, 버킷, 입욕용품 등의 가정용품; 커넥터 등의 접속용 수지 부품; 장난감 등의 잡화품; 의료용 팩, 주사기, 도뇨관, 의료용 튜브 등의 의료용 성형품; 벽재, 바닥재, 창틀, 벽지 등의 건축자재; 전선 피복재; 하우스, 터널 등의 농업용 자재; 랩, 트레이 등의 식품포장 재료 등의, 필름 및 시트를 포함하는 성형품; 섬유; 도료; 코팅재 등을 들 수 있다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 더욱 상세에 설명한다.
그러나, 본 발명은 이하의 실시예에 의해 전혀 제한받지 않는다.
(합성예 1)
화합물 No. 7의 합성
(1) 중간체 A의 합성
하기식으로 나타내어지는 중간체 A를 합성했다. 즉, 반응 플라스크에 염화 시아누르 65.0mmol, 2-메틸레조르시놀 278mmol, 및 클로로벤젠 80ml를 주입하고, 삼염화알루미늄 84.5mmol을 서서히 가하고, 80℃에서 2시간 반응시켰다. 반응계를 25℃로 냉각하고, 6mol/리터의 염산 수용액을 14ml 적하하고, 1시간 교반했다. 얻어진 결정을 여과하고, 수세한 후, 디메틸포름아미드 용매를 이용해서 재결정을 행하여, 중간체 A의 결정을 수율 68.0%로 얻었다.
Figure 112008070218965-PCT00010
(2) 화합물 No. 7의 합성
Figure 112008070218965-PCT00011
기계식 교반기, 딤로트(Dimroth) 응축기, 온도계 및 질소 주입수단을 구비한 100mL의 4구 둥근 바닥 플라스크에, 앞서 얻어진 중간체 A인 2,4,6-트리(3-메틸-2,4-디하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진 5.0g(11.1×10-3mol), 트리에틸아민(TEA) 6.78g(33.5×10-3mol), 및 크실렌 18g을 투입했다. 그 후, 80℃까지 온도를 올리고, 2-에틸헥산산 클로라이드 5.42g(33.5×10-3mol)을 30분 동안에 적하했다. 반응률을 HPLC(컬럼; (주)센슈가가쿠제 PEGASIL ODS, 전개 용매; 테트라하이드로푸 란(THF):물=3:1)에 의해 확인하고, 6시간 동안 80℃에서 반응시켰다. 원료의 소진을 확인한 후, 반응 혼합물을 냉각하고, 1N HCl로 중화했다. 유기상을 물로 2회 세정하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 용매를 감압 하에 제거했다. 이것을 헥산에 분산시켜 여과를 행하고, 얻어진 여과액으로부터 용매를 제거함으로써, 목적 화합물(화합물 No.7)을 6.4g, 수율 70%로 얻었다.
얻어진 화합물에 대해서, 여러 가지 분석을 행했다. 분석 결과를 이하에 나타낸다.
융점: 74.0℃
적외 흡수 스펙트럼(KBr,cm-1): 3433, 2963, 2932, 2862, 1759, 1605, 1539, 1435, 1308, 1103
1H-NMR(90MHz, CDCl3, ppm): 13.29(s, -OH), 8.40(d, Ph), 6.73(d, Ph), 2.58(quin), 2.24(s, -CH3), 2.17-0.95(m)
Figure 112008070218965-PCT00012
(합성예 2)
화합물 No. 21의 합성
(1) 중간체 B의 합성
하기 식으로 나타내어지는 중간체 B를 합성했다. 즉, 반응 플라스크에 염화시아누르 65.0mmol, 레조르시놀 278mmol, 및 클로로벤젠 80ml를 투입하고, 삼염화알루미늄 84.5mmol을 서서히 가하고, 80℃에서 2시간 반응시켰다. 반응계를 25℃로 냉각하고, 6mol/리터의 염산 수용액을 14ml 적하하고, 1시간 동안 교반했다. 얻어진 결정을 여과하고, 수세한 후, 디메틸포름아미드 용매를 이용해서 재결정을 행하여, 중간체 B의 결정을 수율 68.0%로 얻었다.
Figure 112008070218965-PCT00013
(2) 화합물 No. 21의 합성
Figure 112008070218965-PCT00014
기계식 교반기, 딤로트 응축기, 온도계 및 질소 주입수단을 구비한 300mL의 4구 둥근 바닥 플라스크에 앞에서 얻어진 중간체 B인 2,4,6-트리(2,4-디하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진 10.0g(24.7×10-3mol), 트리에틸아민(TEA) 17.5g(172.7×10-3mol), 및 크실렌 70g을 투입했다. 그 후, 2-에틸헥산산 클로라이드 14.1g(86.4× 10-3mol)을 실온에서 30분 동안에 적하했다. 반응률을 HPLC(컬럼; 쇼와덴코 가부시키가이샤제 Shodex KF-802, 전개 용매; 테트라하이드로푸란(THF))에 의해 확인하고, 10시간 동안 50℃에서 반응시켰다. 원료의 소진을 확인한 후, 반응 혼합물을 냉각하고, 아세트산 에틸을 가하고, 1N HCl로 중화를 행했다. 유기상을 물로 2회 세정하고, 용매를 감압 하에 제거했다. 그것을 크실렌에 분산시켜 여과를 행하고, 얻어진 여과액을, 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용매: 톨루엔:헥산=1:1)에 의해 처리하여 목적 화합물(화합물 No.21)을 8.7g, 수율 45%로 얻었다.
얻어진 화합물에 대해서, 여러 가지 분석을 행했다. 분석 결과를 이하에 나타낸다.
적외 흡수 스펙트럼(KBr, cm-1): 3433, 2931, 2873, 1762, 1601, 1504, 1458, 1246, 1146, 1107
1H-NMR(90MHz, CDCl3, ppm): 12.96(s, -OH), 8.20(d, Ph), 6.88(s, Ph), 6.81(d, Ph), 2.55(quin), 1.85-0.95(m)
Figure 112008070218965-PCT00015
(실시예 1)
(시료(캐스트 필름) 제작)
120℃에서 6시간 건조시킨 폴리카보네이트 수지(Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation제: Iupilon S-3000F)를 1.25g, 상기 화합물 No. 7을 6.25mg(0.5phr), 각각 25ml 메스 플라스크에 넣고, 디클로로메탄을 표선까지 가했다. 1시간 정도 실온에서 방치해 용해한 후, 이 용액을 4ml 홀 피펫으로 샬레(지름: 60mm)에 넣고, 30분간 실온에서 건조시켰다. 건조 후, 샬레로부터 필름을 벗겨냄으로써, 실시예 1의 50㎛ 두께의 PC 필름을 얻었다.
(실시예 2, 비교예 1, 2)
상기 화합물 No. 7 대신에 No. 21을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로, 실시예 2의 50㎛ 두께의 PC 필름을 얻었다. 또, 상기 화합물 No. 7 대신에 하기 비교 화합물 1을 이용한 것 이외는 실시예 1과 동일한 방법으로, 비교예 1의 PC 필름을 얻었다. 또한, 상기 화합물 No. 7을 이용하지 않는 것 이외는 실시예 1과 동일한 방법으로, 비교예 2의 PC 필름을 얻었다.
Figure 112008070218965-PCT00016
(내후성 시험 방법)
상기 실시예 및 비교예의 PC 필름에 대해서, Suga Test Instruments Co., Ltd.제 선샤인 웨더미터(83℃)(물 스프레이 구비), 및, ATLAS사제 크세논 웨더미터(65℃)(물 스프레이 구비)(조건 동일: 연속 조사, 물 스프레이 시간 120분 중 18분)로, 120시간 마다의 황색도를 Suga Test Instruments Co., Ltd.제 다광원 분광측색계에 의해 측정했다.
선샤인 웨더미터에서의 내후성 시험에서는 필름의 투과에 의해 황색도의 측정을 행하고, 색차(ΔE)를 표 1에, 황색도의 차(ΔY.I.)를 표 2에 나타냈다. 또, 크세논 웨더미터에서는 반사에 의해 황색도의 측정을 행하고, 색차(ΔE)를 표 3에, 황색도의 차(ΔY.I.)를 표 4에 나타냈다.
[표 1]
Figure 112008070218965-PCT00017
[표 2]
Figure 112008070218965-PCT00018
[표 3]
Figure 112008070218965-PCT00019
[표 4]
Figure 112008070218965-PCT00020

Claims (5)

  1. 고분자 재료, 및 하기 일반식 (I)으로 나타내어지는 트리아진계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 고분자 재료 조성물:
    Figure 112008070218965-PCT00021
    상기 식에서, R1∼R3은, 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1∼18의 직쇄형 또는 분기형 알킬기, 탄소 원자수 3∼8의 시클로알킬기, 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기, 탄소 원자수 6∼18의 아릴기, 알킬 아릴기 또는 아릴 알킬기를 나타낸다. 단, 이들 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 아릴기, 알킬 아릴기 또는 아릴 알킬기는, 하이드록시기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 탄소 원자수 1∼18의 알킬기 또는 알콕시기로 치환되어 있을 수도 있고, 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 에스테르기, 아미드기 또는 이미노기에 의해 중단되어 있을 수도 있고, 이러한 치환 및 중단은 조합되어 있을 수도 있고,
    R4∼R6는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1∼8의 직쇄형 또는 분기형 알킬기, 또는 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기를 나타내고,
    R7∼R9은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1∼8의 직쇄형 또는 분기형 알킬기, 또는 탄소 원자수 3∼8의 알케닐기를 나타냄.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 일반식 (I)에서의 R4, R5, R6가 메틸기인 트리아진계 화합물을 함유하는 고분자 재료 조성물.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 일반식 (I)에서의 R7, R8, R9이 수소 원자인 트리아진계 화합물을 함유하는 고분자 재료 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 일반식 (I)에서의 R4, R5, R6 및 R7, R8, R9이 수소 원자인 트리아진계 화합물을 함유하는 고분자 재료 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 고분자 재료가 폴리카보네이트 수지인 고분자 재료 조성물.
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