KR20080098779A - 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 Download PDF

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KR20080098779A
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 형광체의 혼색을 방지하여 색순도를 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법은 각각의 방전 셀 내에 코팅된 형광체의 혼색이 발생하지 않고, 따라서, 화질이 우수하고 공정 수율이 향상된 플라즈마 디스플레이 패널을 제공할 수 있다.
형광체, 페이스트, 척력, 혼색, 색순도

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법{PLASMA DISPLAY PANEL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 나타낸 블록도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 나타낸 공정도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 나타낸 공정도이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
1, 11 : 제 1 기판 2, 21 : 제 2 기판
3, 27 : 격벽 4, 24 : 제 2 유전체
5, 25 : 형광체 6, 14, 15 : 제 1 유전체
7, 16 : 보호층 9, 12, 13 : 서스테인 전극쌍
X, 23 : 어드레스 전극
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 형광체의 혼색을 방지하여 색순도를 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
차세대 평판 패널 디스플레이 시장을 주도할 가장 높은 잠재성을 가지고 있는 평판표시소자로 부상하는 있는 플라즈마 디스플레이 패널(플라즈마 디스플레이 패널 : Plasma Display Panel)은 격벽으로 구획된 방전셀(cell)에서 통상 He+Xe, Ne+Xe,He+Xe+Ne 등의 불활성 혼합가스가 방전할 때 발생하는 147nm의 진공자외선이 형광체를 발광시킴으로써 화상을 표시하게 된다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 박막화와 대형화가 용이하여 대면적 평판 디스플레이로서 주목받고 있는 디스플레이 장치이다.
도 1을 참조하면, 3전극 교류 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀은 상부 유리기판(1) 상에 형성되어진 서스테인 전극쌍(9)과, 서스테인 전극쌍(9) 위에 형성된 상부 유전체(6)와, 상부 유전체(6) 상에 형성된 보호막(7)과, 하부기판(2) 상에 형성된 어드레스 전극(X)과, 어드레스 전극(X) 위에 형성된 하부 유전체(4)와, 하부 유전체(4) 위에 형성된 격벽(3)을 구비한다.
전술한 구조의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정 중 격벽(3) 상에 형광체층을 형성하는 방법은, 소정의 시트를 제조한 후 이를 각각의 방전 셀에 부착시키거나, 페이스트 형태의 형광체를 코팅하는 방법 및 스크린 인쇄법 등이 사용된다.
그러나, 전술한 종래의 형광체층 형성방법은 다음과 같은 문제점이 있었다.
디스펜싱법 또는 잉크젯법으로 형광체층을 코팅할 때, 적색(R)과 녹색(G) 및 청색(B)의 형광체를 연속하여 코팅한 후 건조한다. 이때, 형광체 페이스트의 토출 초기에 이웃한 방전 셀 내로 다른 색상의 형광체 페이스트가 넘칠 수 있고, 이로 인해, 형광체의 혼색이 발생된다는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 형광체의 혼색을 방지하여 색순도를 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 형광체의 혼색이 발생하지 않아, 화질이 우수하고 공정 수율이 향상된 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, (a) 하부 기판 상에 형성된 격벽의 상부에 소수성 또는 친수성 중 어느 하나의 특성을 갖는 페이스트를 코팅하는 단계, (b) 상기 격벽으로 구분된 방전셀 내에, 형광체 페이스트를 코팅하는 단계, 및 (c) 상기 형광체 페이스트를 소성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 격벽을 사이에 두고 서로 마주보는 상부 패널과 하부 패널을 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 전술한 방법을 이용하여 제 조된 것을 특징으로 한다.
이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.
종래와 동일한 구성 요소는 설명의 편의상 동일 명칭 및 동일 부호를 부여하며 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 나타낸 블록도이다.
먼저, 도 2에 도시된 바와 같이, 하부 기판 상에 형성된 격벽의 상부에 소수성 또는 친수성 중 어느 하나의 특성을 갖는 페이스트를 코팅하는 단계(210), 상기 격벽으로 구분된 방전셀 내에, 상기 격벽의 상부에 코팅된 페이스트와 반대 특성을 갖는 형광체 페이스트를 코팅하는 단계(220) 및 상기 형광체 페이스트를 건조 및 소성하는 단계(230)를 포함하여 이루어진다.
상기 페이스트는 입상 폴리이미드를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 단계(210)에서 상기 페이스트의 코팅은 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법, 디스펜싱 코팅법, 잉크젯 코팅법, 롤 코팅법 중 적어도 어느 하나의 방법을 이용하고, 상기 형광체 페이스트가 친수성 계열인 경우, 소수성의 바인더 또는 오일(oil)계 페이스트를 격벽 상부에 코팅하여 상기 단계(220)에서 형광체 페이스트가 넘쳐 혼색되지 않도록 한다.
이때, 상기 소수성의 바인더는, 유기 용제 용해성 바인더(organic solvent soluble binder)이다.
또한, 상기 단계(210)에서 상기 페이스트의 코팅은 상기 단계(220)의 형광체 페이스트가 소수성 계열인 경우, 친수성의 바인더 또는 물을 격벽 상부에 코팅하여 상기 단계(220)에서 형광체 페이스트가 넘쳐 혼색되지 않도록 한다.
이때, 상기 친수성의 바인더는 수용성 아크릴 바인더 또는 수용성 PVA(polyvinyl acetate) 중 적어도 어느 하나를 이용한다.
더욱이, 상기 단계(210)에서 상기 페이스트는 실리콘계, 불소계 등의 이형제를 더 포함할 수 있다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널과 후면 패널의 제조방법을 나타낸 공정도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널의 제조방법을 나타낸 공정도로서, 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
먼저, 도 3a에 도시된 바와 같이, 전면 패널의 기재가 되는 투명 재질의 제 1 기판(11)을 기판을 준비한다. 상기 제 1 기판(11)은 투명한 재질로서 저온 또는 고온 소성이 가능한 열팽창계수를 갖는 유리 기판을 주로 이용한다. 상기 유리 기판으로서는, 디스플레이 기판용 유리가 사용되고 있지만 소다-라임계 유리(Soda-Lime Glass)의 사용이 적극적으로 고려되고 있고, 주로 70 ∼ 90×10-7/℃의 열팽창계수를 갖는 유리 기판을 주로 이용한다.
다음, 도 3b에 도시된 바와 같이, 준비된 제 1 기판(11) 상에 상호 대향되어 이격된 한 쌍의 서스테인 전극쌍(12) 및 버스 전극쌍(13)을 형성한다.
상기 서스테인 전극쌍(12)은 방전유지를 위한 것으로서, 이격되어 형성된 쌍으로 구성된다. 상기 서스테인 전극쌍(12)은 방전셀에서 방출된 빛의 경로에 위치하므로 빛의 투과도를 고려하여 광투과율이 90% 이상인 투명전극물질(ITO:Indium Tin Oxide)로 이루어진 투명전극(12)로 형성하는 것이 바람직하다.
상기 버스 전극쌍(13)은 투명전극(12)보다 상대적으로 좁은 폭을 가지는 금속전극(13)으로 이루어진다. 여기서, 투명전극물질(ITO)은 저항값이 크므로 전력을 효율적으로 전달하지 못한다. 따라서, 투명전극(12) 상에 도전성이 좋은 물질, 예를 들면 은(Ag)이나 구리(Cu)로 이루어진 금속전극(13)을 형성함으로써 전극(12, 13)의 전체적인 도전율을 높이게 된다. 이러한 투명전극(12)은 스캔/서스테인 전극(12)이라 부르기도 하며, 패널 주사를 위한 스캔 신호와 방전유지를 위한 서스테인 신호가 주로 공급되고, 버스 전극(13)에는 서스테인 전극(13)이라 부르기도 하며, 서스테인 신호가 주로 공급된다.
상기 전극(12, 13)들의 형성방법은, 기판(11) 위에 박막형성방법, 디핑방법(Dipping Method), 스크린 인쇄법 등으로 산화인듐 이나 산화주석을 증착시켜 투명전극(12)을 형성한다. 다음으로, 상기 각 투명전극(12) 위에 한 쌍의 버스전극(13)을 각각 형성한다). 버스전극(13)은 포토 리소그래피법(Photo Lithography)에 의하여 또는 금속 페이스트를 인쇄하여 투명전극(12) 위에 버스전극(13)을 형성한다. 버스전극(13)은 전술한 바와 같이, 투명전극(12)의 높은 저항을 보상하기 위한 것으로, 서스테인 전극의 가장자리에 은(Ag) 등의 도전성 박막으로 형성한다.
상기 포토 리소그래피법에 대하여 보다 상세히 설명하자면, 투명전극(12) 위 에 전기전도도가 좋은 Cu, Au, Ag, Al 또는 이들의 합금을 CVD 또는 스퍼터링 방식으로 증착시켜 일정한 두께의 박막을 형성시킨다. 이후, 상기 패턴재료 위에 포토 레지스트(Photo Resist)를 코팅하여 가경화시킨 후 형성시킬 패턴에 따라 개구부가 형성된 마스크를 이용하여 상기 포토 레지스트를 부분적으로 노광시키면 노광된 부분의 화학적 조성이 변화한다. 이후, 상기 기판을 향해 현상액을 분사하여 상기 포토레지스트 중 불필요한 부분을 제거한다. 이때, 상기 포토 레지스트 중 노광된 부분은 화학적으로 조성이 변화되어 현상액에 의해 녹지 않으므로 노광되지 않은 부분만이 녹아서 제거되고 원하는 형상의 포토레지스트만이 남게 된다. 이후, 식각액을 분사하여 상기 패턴재료를 부분적으로 제거한다. 이때, 현상액에 의해 녹지 않고 남아있는 포토 레지스트가 그 밑에 형성된 패턴재료의 식각을 방지하도록 보호하는 역할을 하므로 상기 패턴 재료 중 상기 포토 레지스트로부터 노출된 부분만이 제거된다. 이후, 상기 기판 상에서 포토 레지스트를 박리시켜 제거함으로써 원하는 패턴을 얻는다.
다음, 도 3c에 도시된 바와 같이, 상기 형성된 전극(12, 13)들을 감싸도록 제 1 유전체층 중 하부 유전체층(14)을 먼저 형성한다. 상기 하부 유전체층(14)을 형성하는 방법으로는 스크린 인쇄법(Screen Printing Method) 또는 드라이 필름법(dry film method)과 같은 다양한 방법으로 형성될 수 있고 주로, 전사법을 이용하여 형성할 수 있다.
스크린 인쇄법은 기판에 유전체 페이스트를 코팅한 다음 건조시키는 방법이다. 1회의 인쇄에 의해 형성되는 유전층의 높이는 15~25㎛이므로, 원하는 유전층의 높이를 얻기 위해서는 반복적인 인쇄가 필요할 수 있다.
상기 제 1 유전체층(14, 15)은 전체 유전체층의 질량을 100%로 하였을 때, 산화납(PbO) 60~70%, 산화실리콘(SiO2) 12~17%, 산화붕소(B2O3) 8~15%, 산화아연(ZnO) 5~12%, 산화알루미늄(Al2O3) 0.1~5%의 조성을 갖는다. 상기 조성의 유전체층은 10~15의 유전율을 갖게 된다.
다음 상기 하부 유전체층(14) 상에 상부 유전체층(15)을 형성한다. 상기 상부 유전체층(15)을 형성하는 방법으로는 스크린 인쇄법(Screen Printing Method)과 바코터(Bar-coater)를 이용한 바코팅법이 사용될 수 있다.
스크린 인쇄법은 기판에 유전체 페이스트를 코팅한 다음 건조시키는 방법이다. 1회의 인쇄에 의해 형성되는 유전층의 높이는 15~25㎛이므로, 원하는 유전층의 높이를 얻기 위해서는 반복적인 인쇄가 필요할 수 있다.
바코터는 페인트, 잉크, 수지 및 기타 코팅제의 일정한 두께의 얇은 막을 형성시키는데 사용되는 것으로 와이어가 감긴 바(bar) 형태의 장치이다. 이러한 바코터를 이용하여 원하는 두께로 유전체층을 형성할 수 있다.
상기 스크린 인쇄법이나 바코터를 이용하여 유전체층을 형성하면 샌드 블라스팅법을 이용할 경우에 염려되는 유전체의 손상이나 분진의 발생을 방지할 수 있으며, 돌출부가 상부 유전체층이 형성되는 영역과 상부 유전체층이 형성되지 않는 영역을 구분하므로, 보다 정밀한 패턴의 형성이 가능하다. 또, 감광성법과 달리 유전체층이 유기물질을 포함하고 있지 않으므로, 소성 단계 후에 잔류한 유기물질 또 는 유기물질이 제거되어 발생하는 미세기공으로 인하여 투광성이 저하될 염려가 없으며, 견고한 유전체층을 형성할 수 있다.
다음으로, 각 유전체층(14, 15)을 경화시키는 소성 단계를 거친다. 상기 소성 단계는 유기물을 태워서 제거하고 유전체층의 무기 성분을 유리화하여 유전체층을 최종적으로 형성한다.
다음, 도 3e에 도시된 바와 같이, 상기 상부 유전체층(15) 및 하부 유전체층(14) 위에 산화 마그네슘 보호막(16)을 형성한다. 상기 산화마그네슘(MgO) 보호막은 전자빔 진공증착법(E-Beam Vacuum Evaporation Method)에 의하여 유전체층(14, 15)의 상부에 산화마그네슘을 진공 증착하여 형성할 수 있다. 증착 조건으로서, 기판의 온도는 200℃, 진공도는 2×10-6torr, 증발 속도는 10 내지 20nm/min으로 유지하는 것이 적당하다. STM(Scanning Tunneling Microscope)에 의하면, 동일한 진공증착법에 의하여 형성된 박막이라도 기판의 온도가 낮으면 오염도가 높게 되고 기판의 온도가 높을수록 산화마그네슘의 확산율이 증가하여 서로 잘 결합하기 때문에 증착된 산화마그네슘 덩어리가 크다는 것이 관찰된다. 상기 산화마그네슘 보호막은 스퍼터링(Sputtering) 방법이 사용될 수도 있다. 스퍼터링 방법을 이용하여 산화마그네슘 보호막을 형성할 경우 기판을 수직으로 세워 증착할 수 있기 때문에 대면적 증착이 가능하다. 또한, 상기 산화 마그네슘 보호막(16)은 2차 전자의 방출을 용이하게 한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 후면 패널 의 제조방법을 나타낸 공정도로서, 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
먼저, 도 4a에 도시된 바와 같이, 후면 패널의 기재가 되는 투명 또는 불투명 재질의 제 2 기판(21)을 준비한다. 상기 제 2 기판(21)은 투명 또는 불투명한 재질로서 유리기판 또는 금속기판을 주로 이용한다.
다음, 도 4b에 도시된 바와 같이, 제 2 기판(21) 상에 절연막층(22)을 형성한다. 상기 절연막(22)의 기능에 대해서는 후술하도록 한다.
다음, 도 4c에 도시된 바와 같이, 어드레스 전극(23)들을 형성한다. 상기 어드레스 전극(23)들은 일반적으로 포트리소그래피(photolithography)법을 이용한다. 전극(23) 형성공정을 간단히 살펴보면 전극물질을 페이스트(paste)의 인쇄나 그린 시트(green sheet)의 라미네이션(lamination)방법 등으로 기판(21)에 입힌 후, 상기 전극물질에 PR(photo resist) 또는 DFR(dry film resist)를 입힌다. 이어서, 노광 공정을 거쳐 상기 PR 또는 DFR을 현상하고, 전극(23)을 에칭하여 패턴을 현상한 후, 상기 PR 또는 DFR을 제거하여 전극(23)을 형성한다. 상기 어드레스 전극(23)들은 상기 제 1 기판(11) 상에 형성된 서스테인 전극쌍(14, 16)과 교차하도록 2∼8㎛의 두께로 형성되고 2.5×10-6∼4.0×10-6Ω㎝의 비저항값을 갖도록 형성한다. 상기 어드레스 전극(23)들에는 디스플레이될 셀들을 선택하기 위한 데이터신호가 공급된다.
다음, 도 4d에 도시된 바와 같이, 상기 형성된 제 2 전극(23)들을 보호하고 방전시 발생하는 빛을 제 2 기판(21)에서 후방으로 통과하는 것을 반사시키는 반사 층 역할을 하는 화이트 백층(미도시)과 제 2 유전체층(24)을 형성한다. 상기 제 2 유전체층(24)의 형성은 PbO를 약 60wt% 이상 함유하는 모상유리분말에 10 ∼ 40wt%의 TiO2, Al2O3와 같은 미분말상태의 산화물을 혼합하고 유기용매를 첨가하여 약 40,000cps 정도의 점도를 갖는 페이스트를 제조한다. 이와 같이 페이스트가 제조된 후, 스크린 프린팅 방법으로 어드레스전극(23)이 형성된 제 2 유리 기판(21) 상에 20 ~ 25㎛의 두께로 전면 코팅하고 550~600℃의 온도에서 산화분위기로 소성하여 제 2 유전체층(24)을 형성한다.
다음, 도 4e에 도시된 바와 같이, 상기 형성된 제 2 유전체층(24) 상에 격벽(27)들을 형성한다. 상기 격벽(27)은 R, G, B 방전 영역을 분리하는 목적으로 형성한다. 상기 격벽(27)의 제조방법으로는 스크린 프린팅(Screen printing)법, 첨가(Additive)법, 감광성 페이스트법, LTCCM(Low Temperature Cofired Ceramic on Metal) 방법, 샌드 블라스팅(Sand blasting)법 등이 적용되고 있다.
상기 격벽(27)에 이용되는 격벽 조성물은, 실리콘 화합물 수지를 이용할 수도 있고, 주로 상기 격벽(27)을 형성하기 위해서는 제 2 유전체층(24) 상에 격벽 재료 조성물을 페이스트 형태로 120 ~ 200㎛의 두께로 전면 코팅하고 스크린 인쇄법, 샌드 블라스트법, 금형법 등을 통해 격벽패턴을 형성한 후 소성하면 격벽(27)이 형성된다.
다음, 도 4f에 도시된 바와 같이, 격벽(27) 상부에 소수성 또는 친수성 중 어느 하나의 특성을 갖는 혼색 방지용 페이스트 또는 형광체 페이스트와 척력을 갖 는 혼색 방지용 페이스트를 코팅한다. 상기 혼색 방지용 페이스트는 입상 폴리이미드를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 혼색 방지용 페이스트의 코팅은 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법, 디스펜싱 코팅법, 잉크젯 코팅법, 롤 코팅법 중 적어도 어느 하나의 방법을 이용하고, 상기 형광체 페이스트가 친수성 계열인 경우, 소수성의 바인더 또는 오일(oil)계의 혼색 방지용 페이스트를 격벽(27) 상부에 코팅하거나 또는 상기 형광체 페이스트가 소수성 계열인 경우, 친수성의 바인더 또는 물이 포함된 혼색 방지용 페이스트를 격벽(27) 상부에 코팅하여 이하에 코팅되는 형광체 페이스트가 넘쳐 혼색되지 않도록 한다.
이때, 상기 소수성의 바인더는, 유기 용제 용해성 바인더(organic solvent soluble binder)이고, 상기 친수성의 바인더는 수용성 아크릴 바인더 또는 수용성 PVA(polyvinyl acetate) 중 적어도 어느 하나를 이용한다.
더욱이, 상기 혼색 방지용 페이스트는 실리콘계, 불소계 등의 이형제를 더 포함할 수 있다.
다음, 도 4g에 도시된 바와 같이, 격벽(27) 상에 형광체층(25)을 형성한다. 상기 형광체층(25)은 어드레스 방전시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광체(25)가 코팅되는 층이다. 상기 형광체층(25)은 형광체 페이스트를 코팅한 후, 패턴 인쇄법, 감광성 페이스트법, 드라이 필름법 중 적어도 어느 하나의 방법으로 이용하여 형성하고, 상기 형광체층(25)은 높은 색순도, 잔광시간 및 발광휘도 특성이 요구되는 데 전술한 바와 같이 혼색 방지용 페이스트를 격벽(27) 상부에 코 팅한 후 상기 형광체(25)을 형성하므로, 높은 색순도, 잔광시간 및 발광휘도 특성을 나타낼 수 있다.
다음, 상기 형성된 제 1 기판(11)과 제 2 기판(21)의 실(seal) 봉착/배기/주입 공정을 거치고, 상기 제 1 기판(11)과 제 2 기판(21)의 합착 공정을 거쳐 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 완성하고, 전술한 바와 같은 제조 공정을 거쳐 제조된 플라즈마 디스플레이 패널은 높은 색순도, 잔광시간 및 발광휘도 특성을 나타낸다.
상기에서 설명한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법은 각각의 방전 셀 내에 코팅된 형광체의 혼색이 발생하지 않고, 따라서, 화질이 우수하고 공정 수율이 향상된 플라즈마 디스플레이 패널을 제공할 수 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 실시예에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의하여 정해져야 한다.

Claims (8)

  1. (a) 하부 기판 상에 형성된 격벽의 상부에 소수성 또는 친수성 중 어느 하나의 특성을 갖는 페이스트를 코팅하는 단계;
    (b) 상기 격벽으로 구분된 방전셀 내에, 소수성과 친수성 중 상기 격벽 상부 페이스트의 특성과 다른 특성을 갖는 형광체 페이스트를 코팅하는 단계; 및
    (c) 상기 형광체 페이스트를 소성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 (a) 단계에서,
    상기 페이스트의 코팅은 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법, 디스펜싱 코팅법, 잉크젯 코팅법, 롤 코팅법 중 적어도 어느 하나의 방법으로 코팅하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 (a) 단계에서,
    상기 페이스트의 코팅은 상기 (b) 단계의 형광체 페이스트가 친수성 계열인 경우, 소수성의 바인더 또는 오일(oil)계 페이스트를 코팅하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 소수성의 바인더는,
    유기 용제 용해성 바인더(organic solvent soluble binder)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 (a) 단계에서,
    상기 페이스트의 코팅은 상기 (b) 단계의 형광체 페이스트가 소수성 계열인 경우, 친수성의 바인더 또는 물을 코팅하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 친수성의 바인더는,
    수용성 아크릴 바인더 또는 수용성 PVA(polyvinyl acetate) 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 (a) 단계에서,
    상기 페이스트는 이형제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  8. 격벽을 사이에 두고 서로 마주보는 상부 패널과 하부 패널을 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서,
    청구항 제 1 항 또는 제 2 항 중 어느 한 항에 기재된 방법을 이용하여 제조된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
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