KR20080097834A - Glass transfer robot - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 이송 로봇의 개략적인 사시도이다.1 is a schematic perspective view of a substrate transfer robot according to a first embodiment of the present invention.
도 2는 도 1의 부분 확대 평면도이다.FIG. 2 is a partially enlarged plan view of FIG. 1.
도 3은 도 2의 측면도이다.3 is a side view of FIG. 2.
도 4는 도 2의 A-A 선에 따른 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 이송 로봇에서 핑거 영역의 개략적인 단면도이다.5 is a schematic cross-sectional view of a finger region in the substrate transfer robot according to the second embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 이송 로봇에서 핑거 영역의 개략적인 단면도이다.6 is a schematic cross-sectional view of a finger region in the substrate transfer robot according to the third embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 이송 로봇에서 핑거 영역의 개략적인 단면도이다.7 is a schematic cross-sectional view of a finger region in the substrate transfer robot according to the fourth embodiment of the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
10 : 로봇본체 20a,20b : 핑거10:
21 : 진공홀 22 : 캡21: vacuum hole 22: cap
30 : 장력인가부 32 : 와이어홈30: tension part 32: wire groove
40 : 결합부 45 : 로커40: coupling part 45: rocker
본 발명은, 기판 이송 로봇에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 실질적으로 핑거의 두께가 증가하는 것은 저지하면서도 기판의 하중으로 인해 핑거가 처지면서 변형되는 것을 방지할 수 있는 기판 이송 로봇에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transfer robot, and more particularly, to a substrate transfer robot that can prevent the finger from sagging due to the load of the substrate while preventing substantially increasing the thickness of the finger.
기판이라 함은, 액정디스플레이(LCD, Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이(PDP, Plasma Display Panel) 및 유기EL(OLED, Organic Light Emitting Diodes)과 같은 평판표시소자(FPD, Flat Panel Display), 반도체용 웨이퍼(wafer), 포토 마스크용 글라스(glass) 등을 가리킨다.Substrates are used for flat panel displays (FPDs), semiconductors, such as liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs) and organic light emitting diodes (OLEDs). Wafer, glass for a photomask, etc. are pointed out.
평판표시소자(FPD)로서의 기판과, 반도체용 웨이퍼로서의 기판은 상호간 재질적인 면이나, 용도 등에서 차이가 있지만, 기판들에 대한 일련의 처리 공정, 예를 들어 노광, 현상, 에칭, 스트립, 린스, 세정 등의 공정은 실질적으로 매우 흡사하며, 이 공정들이 순차적으로 진행됨으로써 기판이 제조된다.Although a substrate as a flat panel display device (FPD) and a substrate as a semiconductor wafer are different in terms of materials and uses thereof, a series of processing processes for the substrates, for example, exposure, development, etching, stripping, rinsing, Processes, such as cleaning, are substantially very similar, and these processes proceed sequentially to produce a substrate.
따라서 아래에서 설명되는 기판은 전술한 모든 것을 포함하는 용어라 간주될 수 있다. 다만, 설명의 편의를 위해서 이하에서는 평판표시소자(FPD) 중에서도 특히, LCD 기판이나 PDP 기판을 기판이라 하여 설명하기로 한다.Thus, the substrates described below may be considered to be all-inclusive terms. However, for convenience of description, the LCD substrate or the PDP substrate will be described as a substrate among flat panel display devices (FPD).
기판은 기판 제조사에서 제조된 후 기판 가공업체로 공급된다. 이처럼 기판 제조사에서 기판 가공업체로 기판이 공급될 때는 소위, 크레이트(crate)라는 것이 이용되기도 한다. 크레이트란 수십 내지 수백 장의 기판을 담는 컨테이너로 이해될 수 있다. 보통, 하나의 크레이트 내에는 120 내지 200장 정도의 기판이 적재되는 것으로 알려지고 있다.The substrate is manufactured by the substrate manufacturer and then supplied to the substrate processor. When a substrate is supplied from a substrate manufacturer to a substrate processor, a so-called crate may be used. A crate can be understood as a container containing tens to hundreds of substrates. Usually, it is known that about 120 to 200 substrates are loaded in one crate.
기판들이 적재된 크레이트가 기판 제조사에서 기판 가공업체로 공급되면, 기판 가공업체에서는 기판 투입 시스템(Glass Input System)을 통해 후공정으로 기판을 한 장씩 투입하게 된다. 투입되는 기판은 별도의 기판 이송 로봇을 통해 소위, 카세트라 하는 기판 보관장치에 적재된다. 보통, 하나의 카세트에는 수십 내지 수백 장의 기판이 적재된다. 카세트에 원하는 만큼의 기판이 적재되면 카세트는 다시 해당 공정으로 이송된 후, 해당 공정에 구비된 기판 이송 로봇에 의해 다시 한 장 씩의 기판이 취출되어 해당 공정을 진행하게 된다.When the crates loaded with the substrates are supplied from the substrate manufacturer to the substrate processor, the substrate processor inserts the substrates one by one through the glass input system. The input substrate is loaded into a substrate storage device called a cassette through a separate substrate transfer robot. Usually, one cassette is loaded with tens to hundreds of substrates. When as many substrates as desired are loaded in the cassette, the cassette is transferred to the process again, and then the substrates are again taken out by the substrate transfer robot provided in the process to proceed with the process.
이와 같이 기판 이송 로봇은 기판 처리를 위한 다양한 공정들에 배치되어 기판을 이송하는 역할을 하기 때문에 해당 공정의 상황에 맞는 구조와 형상을 갖는다.As such, the substrate transfer robot has a structure and a shape suitable for the situation of the process because the substrate transfer robot is disposed in various processes for processing the substrate and serves to transfer the substrate.
다만, 기판을 카세트에 인입시키거나 카세트로부터 기판을 인출하는 역할을 담당하는 기판 이송 로봇의 경우, 기판 이송 시 카세트와의 간섭을 피하면서 기판에 대한 접촉을 최소화하여 기판 오염을 방지하고, 더불어 안정적인 기판 이송 작업의 진행을 위해 보통은 외팔보 형태로 제작된다. 외팔보 형태의 기판 이송 로봇에 대해서는 대한민국특허청 공개번호 10-2006-0056654호 및 10-2004-0104983호 등에도 개시된 바 있다.However, in the case of a substrate transfer robot that takes a substrate into or out of a cassette, it prevents substrate contamination by minimizing contact with the substrate while avoiding interference with the cassette during substrate transfer. It is usually manufactured in the form of cantilever beams for the substrate transfer operation. Substrate transfer robots in the form of cantilever beams have been disclosed in Korean Patent Office Publication Nos. 10-2006-0056654 and 10-2004-0104983.
한편, 근자에 들어 기판은 그 가로/세로의 폭이 1950㎜/2250㎜이거나 1870㎜/2200㎜인 7세대, 혹은 2160㎜/2460㎜ 이상인 8세대 등으로 대형화되는 추세에 있 으므로, 기판은 그 크기도 커질 뿐만 아니라 무게도 증가하기에 이르렀다.On the other hand, in recent years, since the substrate has a tendency to be enlarged to 7 generations having a width of 1950 mm / 2250 mm or 1870 mm / 2200 mm, or 8 generations having 2160 mm / 2460 mm or more, the substrate has a large size. Not only did they grow in size, they also increased in weight.
따라서 전술한 문헌에 개시된 기술을 포함하여 현재 산업 현장에 적용되고 있는 단순한 외팔보 형태의 기판 이송 로봇을 이용하여 대형 기판을 이송하려 하는 경우, 기판의 하중으로 인해 기판을 떠받치는 핑거에 처짐이 발생하게 된다. 만약, 핑거에 처짐에 의한 변형이 발생하면 기판을 카세트에 정확하게 인입 및 인출시키기 어려울 뿐만 아니라 카세트의 구조물과의 접촉 혹은 충돌에 의해 기판이 파손될 우려가 높다.Therefore, when attempting to transfer a large substrate using a simple cantilever-type substrate transfer robot that is currently applied to the industrial site, including the technique disclosed in the above-mentioned document, the finger holding the substrate may be sag due to the load of the substrate. do. If deformation due to deflection of the finger occurs, it is difficult to accurately insert and withdraw the substrate into the cassette, and the substrate may be damaged by contact or collision with the structure of the cassette.
이에 핑거의 처짐에 의한 변형이 발생하는 것을 저지하면서도 대형 기판을 이송하기 위한 다양한 방안이 연구되고 있다.Accordingly, various methods for transporting large substrates have been studied while preventing deformation due to sag of a finger.
그 중의 하나는, 기판 이송 로봇에 구비된 핑거를 내부가 빈 중공 형태의 파이프 구조로 변경하여 핑거의 무게는 감소시키면서 오히려 핑거의 강성을 증가시키려는 방안이다. 하지만 이 정도의 방법만으로는 기판의 크기가 대형화되는 추세에 있는 현재 핑거가 처지는 현상을 방지하기에 부족한 문제점이 있다.One of them is to change the finger provided in the substrate transfer robot into a hollow hollow pipe structure to reduce the weight of the finger and to increase the rigidity of the finger. However, this method alone has a problem that it is insufficient to prevent the phenomenon of finger sag in the trend of increasing the size of the substrate.
다른 하나는, 핑거의 두께를 충분하게 두껍게 제작하여 핑거의 굽힘 강도를 증가시킴으로써 핑거의 처짐을 보완하기 위한 방안이다. 하지만, 이와 같이 핑거의 두께가 증가할 경우, 두꺼워진 핑거의 간섭 없는 인입 및 인출을 보장하기 위하여 카세트의 구조는 지지되는 기판 사이의 간격을 넓게 하는 구조가 되어야만 하는데, 이와 같이, 카세트 내에 지지되는 기판 사이의 간격을 넓게 유지할 경우에는 단위 카세트에 적재될 기판의 수가 그만큼 감소되기 때문에 공정상의 로스(loss) 발생을 유발시켜 결국 택트 타임(tact time)의 감소로 이어지는 문제점이 있다.The other is to supplement the deflection of the finger by making the thickness of the finger sufficiently thick to increase the bending strength of the finger. However, when the thickness of the finger increases in this way, the structure of the cassette should be a structure that widens the distance between the substrates to be supported in order to ensure the withdrawal and withdrawal of the thickened finger without interference. In the case where the distance between the substrates is kept wide, the number of substrates to be loaded in the unit cassette is reduced by that amount, which causes a process loss and eventually leads to a decrease in tact time.
따라서 단위 카세트에 적재될 기판의 수의 감소라는 결과를 초래하지 않고서도 핑거의 처짐에 의한 변형 발생 없이 대형 기판을 이송시킬 수 있는 기판 이송 로봇이 필요한 실정이다.Therefore, there is a need for a substrate transfer robot capable of transferring a large substrate without causing a deformation of the finger without causing a reduction in the number of substrates to be loaded in the unit cassette.
본 발명의 목적은, 실질적으로 핑거의 두께가 증가하는 것은 저지하면서도 기판의 하중으로 인해 핑거가 처지면서 변형되는 것을 방지할 수 있는 기판 이송 로봇을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a substrate transfer robot that can prevent the finger from sagging and deforming due to the load of the substrate while substantially preventing the thickness of the finger from increasing.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 로봇본체; 일단이 상기 로봇본체에 결합되어 기판을 지지하는 복수의 핑거; 및 상기 복수의 핑거 중 적어도 어느 하나와, 상기 로봇본체에 각각 결합되며, 상기 기판의 하중에 역방향으로 상기 복수의 핑거에 장력을 인가하여 상기 적어도 어느 하나의 핑거의 처짐을 저지하는 장력인가부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 로봇에 의해 달성된다.The above object, according to the present invention, the robot body; A plurality of fingers having one end coupled to the robot body to support a substrate; And a tension applying unit coupled to at least one of the plurality of fingers and the robot body, respectively, and applying tension to the plurality of fingers in a reverse direction to the load of the substrate to prevent sagging of the at least one finger. It is achieved by a substrate transfer robot, characterized in that.
여기서, 상기 장력인가부는, 일단이 상기 복수의 핑거 중 적어도 어느 하나의 노출 단부에 결합되고 타단은 상기 로봇본체에 결합되는 적어도 하나의 장력인가용 와이어일 수 있다.Here, the tension applying unit may be at least one tension application wire having one end coupled to at least one exposed end of the plurality of fingers and the other end coupled to the robot body.
상기 적어도 하나의 장력인가용 와이어는 복수개 마련되되, 상기 복수의 핑거 모두에 각각 하나씩 마련될 수 있다.The at least one tension application wire may be provided in plural, and may be provided in each of the plurality of fingers.
상기 장력인가용 와이어의 양단을 상기 핑거와 상기 로봇본체에 결합시키는 결합부를 더 포함할 수 있다.It may further include a coupling for coupling both ends of the tension application wire to the finger and the robot body.
상기 결합부는, 상기 핑거의 노출단에 결합되되 상기 장력인가용 와이어의 일단이 결합되는 캡; 및 상기 로봇본체에 결합되되 상기 장력인가용 와이어의 타단이 결합되는 로커를 포함할 수 있다.The coupling portion, the cap is coupled to the exposed end of the finger is coupled one end of the tension application wire; And coupled to the robot body may include a rocker to which the other end of the tension application wire is coupled.
상기 로커는, 상기 캡에 일단이 결합된 상기 장력인가용 와이어의 타단을 권취 및 권취해제시키는 권취드럼; 및 상기 장력인가용 와이어의 장력 조절을 위해 상기 권취드럼을 정역 방향으로 회전시키는 손잡이부를 포함할 수 있다.The rocker may include a winding drum for winding and unwinding the other end of the tension application wire having one end coupled to the cap; And it may include a handle for rotating the winding drum in the forward and reverse directions for tension control of the tension application wire.
상기 핑거는 내부가 빈 중공체로 형성될 수 있으며, 상기 장력인가용 와이어는 상기 핑거의 내부에 배치될 수 있다.The finger may be formed of a hollow hollow body, and the wire for tension application may be disposed inside the finger.
상기 장력인가용 와이어는 상기 핑거의 외면에 배치될 수 있다.The tension application wire may be disposed on an outer surface of the finger.
상기 핑거의 외면에는 상기 장력인가용 와이어의 적어도 일부분이 수용되는 와이어홈이 더 형성될 수 있다.A wire groove may be further formed on an outer surface of the finger to accommodate at least a portion of the tension application wire.
상기 장력인가용 와이어는 상기 핑거 하나당 복수개 마련될 수 있다.The tension application wire may be provided in plural per finger.
상기 핑거에는 상기 기판을 흡착하는 다수의 진공홀이 더 형성될 수 있으며, 상기 기판은, 액정디스플레이(LCD, Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이(PDP, Plasma Display Panel) 및 유기EL(OLED, Organic Light Emitting Diodes) 중에서 선택된 어느 한 대형 평판표시소자(FPD, Flat Panel Display)일 수 있다.The finger may further include a plurality of vacuum holes for adsorbing the substrate, and the substrate may include a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP) and an organic EL (OLED, organic light). The display panel may be any one of a large flat panel display (FPD) selected from among Emitting Diodes.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, the operational advantages of the present invention, and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention and the contents described in the accompanying drawings.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by explaining preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals in the drawings denote like elements.
설명에 앞서, 후술할 기판이라 함은, 액정디스플레이(LCD, Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이(PDP, Plasma Display Panel) 및 유기EL(OLED, Organic Light Emitting Diodes)과 같은 평판표시소자(FPD, Flat Panel Display), 반도체용 웨이퍼(wafer), 포토 마스크용 글라스(glass) 등을 가리킬 수 있으나, 이하에서는 대형 LCD 또는 PDP 기판을 가리키는 것으로 본다.Prior to the description, a substrate to be described later includes a flat panel display device (FPD, Flat), such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and an organic light emitting diode (OLED). A panel display, a wafer for semiconductors, a glass for photomasks, etc. may be referred to, but hereinafter referred to as a large LCD or PDP substrate.
여기서, 대형이라 함은, 가로/세로의 폭이 1950㎜/2250㎜이거나 1870㎜/2200㎜인 7세대, 혹은 2160㎜/2460㎜ 이상인 8세대를 의미하지만, 본 발명의 권리범위가 이에 제한되는 것은 아니므로 반드시 기판의 크기가 전술한 수치에 국한될 필요는 없다.Here, the term "large" means 7 generations having a width of 1950 mm / 2250 mm or 1870 mm / 2200 mm, or 8 generations having 2160 mm / 2460 mm or more, but the scope of the present invention is limited thereto. The size of the substrate does not necessarily need to be limited to the above-described numerical values.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 이송 로봇의 개략적인 사시도이고, 도 2는 도 1의 부분 확대 평면도이며, 도 3은 도 2의 측면도이고, 도 4는 도 2의 A-A 선에 따른 단면도이다.1 is a schematic perspective view of a substrate transfer robot according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partially enlarged plan view of FIG. 1, FIG. 3 is a side view of FIG. 2, and FIG. 4 is a line AA of FIG. 2. According to the cross-sectional view.
이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판 이송 로봇은 외팔보 구조를 갖는다. 이러한 기판 이송 로봇은, 로봇본체(10)와, 일단이 로봇본체(10)에 결합되어 기판(G)을 지지하는 복수의 핑거(20a, finger)를 구비한다.As shown in these figures, the substrate transfer robot according to the present embodiment has a cantilever structure. The substrate transfer robot includes a
로봇본체(10)는 적어도 일방향으로 회전, 직진, 승하강 운동 가능한 아암(12)과 결합되어 있다. 그리고 아암(12)은 지면이나 별도의 구조물에 고정 지지되는 지지부(14)에 연결되어 있다. 따라서 지지부(14)에 대해 아암(12)이 회전, 직 진, 승하강 운동함으로써 로봇본체(10)를 포함한 복수의 핑거(20a)는 기판(G)을 원하는 위치, 예를 들어 카세트 내로 인입 및 인출시킬 수 있다.The
자세하게 도시하고 있지는 않지만, 복수의 핑거(20a)를 제외한 기판 이송 로봇에는 진공을 형성시키는 진공장치(미도시) 등이 더 구비된다. 진공장치는 복수의 핑거(20a)에 기판(G)이 얹혀졌을 때 동작되어 복수의 핑거(20a)에 형성된 진공홀(21)을 통해 공기를 흡입한다. 따라서 복수의 핑거(20a)에 떠받쳐진 기판(G)이 복수의 핑거(20a)로부터 이탈되는 것을 저지한다. 물론, 본 발명의 권리범위가 이에 제한되는 것은 아니므로 진공장치나 혹은 진공홀(21)이 구비되지 않은 기판 이송 로봇에도 본 기술이 적용될 수 있다.Although not shown in detail, the substrate transfer robot excluding the plurality of
복수의 핑거(20a)는 로봇본체(10)에 결합되어 있다. 즉, 핑거(20a)들의 일단은 로봇본체(10)에 결합되어 있고 타단은 노출되어 있다. 이러한 형상의 구조를 외팔보 구조라 하는 것이다.The plurality of
본 실시예의 경우, 복수의 핑거(20a)는 총 5개로 되어 있으며, 상호 소정의 이격 간격을 두고 배치되어 있다. 핑거(20a)가 2개 구비된 종래의 로봇도 산업현장에서 사용된 바 있으나, 본 실시예와 같이 대형 기판(G)을 이송시키기 위해서는 2개의 핑거(20a)만으로는 사실상 부족하다.In the present embodiment, the plurality of
이에, 본 실시예에서는 보다 넓어지고 보다 무거워진 대형 기판(G)을 보다 효과적으로 이송시키기 위해 총 5개의 핑거(20a)를 로봇본체(10)에 결합시켜 사용하고 있는 것이다. 하지만 본 발명의 권리범위가 이에 제한되는 것은 아니므로 핑거(20a)의 개수는 5개보다 많아도, 혹은 적어도 무방하다. 설명의 편의를 위해 5개 의 핑거(20a)에는 모두 동일한 참조부호를 부여하도록 한다.Thus, in the present embodiment, in order to more efficiently transport the larger and heavier large-sized substrate G, a total of five
한편, 앞서도 기술한 바와 같이, 기판(G)이 대형화되면 될 수록 면적 및 무게가 증가하기 때문에 단순한 구조의 핑거(20a)만으로는 기판(G)을 떠받쳐 지지하기가 다소 부족하였다. 즉, 기판 이송 로봇은 실질적으로 많은 양의 기판(G)을 이송시키는 작업을 하기 때문에 이러한 작업 과정에서 기판(G)의 하중으로 인해 핑거(20a)에 처짐이 발생하게 되고(도 3의 B 참조), 이로 인해 기판(G)이 카세트 내의 올바른 위치에 인입 및 인출될 수 없어 기판(G)의 파손 등을 야기할 우려가 있다. 이에 본 실시예에서는 장력인가부(30)를 더 마련하여 복수의 핑거(20a)가 처지면서 변형되는 현상을 저지하기에 이르렀다.On the other hand, as described above, the area and weight increases as the substrate G increases in size, so that the
장력인가부(30)는 복수의 핑거(20a)와, 로봇본체(10)에 결합되어 기판(G)의 하중에 역방향으로 작용하면서 복수의 핑거(20a)에 장력을 인가하는 역할을 한다.The
이러한 장력인가부(30)로서, 본 실시예에서는 장력인가용 와이어(30)를 적용하고 있다. 즉, 장력인가용 와이어(30)의 일단을 복수의 핑거(20a)의 노출 단부에 결합시키고, 타단을 로봇본체(10)에 결합시킴으로써 기판(G)의 하중으로 인해 복수의 핑거(20a)가 처지면서 변형되는 현상을 저지하고 있는 것이다.As the
장력인가용 와이어(30)는 예컨대, 낚싯대 줄과 같이 상대적으로 단면적이 작으면서도 강한 강성을 보유한 재질로 제작되는 것이 바람직하다. 그리고 이러한 장력인가용 와이어(30)를 설치함에 있어서도, 별도의 결합수단 없이, 단순하게 한쪽 끝은 복수의 핑거(20a)의 노출 단부에, 다른 한쪽 끝은 로봇본체(10)에 본딩이나 매듭 등의 방법으로 결합시키되 팽팽하게 당겨 결합시킴으로써 원하는 목적을 달성 할 수 있다.The
뿐만 아니라 장력인가용 와이어(30)는 5개의 핑거(20a) 모두에 설치해도 무방하고, 혹은 5개 중에서 선택된 몇 개에만 설치해도 무방하다. 하지만 복수의 핑거(20a)가 기판(G)의 하중에 의해 처지는 현상을 실질적으로 완전하게 저지하고자 한다면, 5개의 핑거(20a) 모두에 장력인가용 와이어(30)를 설치하는 것이 바람직하다.In addition, the
또한 장력인가용 와이어(30)는 도 4에 도시된 바와 같이, 2줄로 구현될 수도 있지만, 경우에 따라 한줄 혹은 세줄 이상으로 구현될 수도 있다.In addition, the
한편, 본 실시예의 핑거(20a)들은 모두가 내부가 빈 사각 형상의 관상체로 이루어지며, 핑거(20a)들의 단부에는 단부의 개구를 차폐하는 캡(22)이 장착된다.On the other hand, the fingers (20a) of the present embodiment are all made of a rectangular tubular tubular body inside, the end of the fingers (20a) is equipped with a
이처럼 캡(22)이 마련되는 점을 감안하여 장력인가용 와이어(30)의 결합 구조가 제안될 수 있다. 즉, 본 실시예의 경우, 장력인가용 와이어(30)의 양단을 복수의 핑거(20a)와 로봇본체(10)에 결합시키는 결합부(40)가 더 구비될 수 있다.In view of the fact that the
결합부(40)는 장력인가용 와이어(30)의 일단이 고정되는 캡(22)과, 로봇본체(10)에 결합되고 장력인가용 와이어(30)의 타단이 결합되는 로커(45)를 포함한다.The
캡(22)에 장력인가용 와이어(30)의 일단을 고정하는 방법은 예컨대, 본딩이나 매듭 등의 방법이 될 수도 있고, 혹은 캡(22)의 내면에 고리 등을 만들어 장력인가용 와이어(30)가 고리를 통과하면서 캡(22)에 결합되도록 하여도 좋다.The method of fixing one end of the
로커(45)는 장력인가용 와이어(30)의 타단이 결합되는 부분이므로, 로봇본 체(10)의 어떠한 위치에 마련되어도 무방하다. 본 실시예의 경우, 로봇본체(10)의 후면에 로커(45)를 마련하고 있는데, 이러한 경우, 핑거(20a)들의 내부를 통과한 장력인가용 와이어(30)의 타단은 로봇본체(10)를 통과하여 로봇본체(10)의 후면 로커(45)에 체결되면 된다.Since the
이 때, 만일 로커(45)에 장력인가용 와이어(30)의 장력을 조절하기 위한 수단을 부가한다면 보다 상승된 효과를 거둘 수 있다. 즉, 도시된 바와 같이, 로커(45)에, 일단이 캡(22)에 고정된 장력인가용 와이어(30)의 타단을 권취 및 권취해제할 수 있는 권취드럼(45a)과, 장력인가용 와이어(30)의 장력 조절을 위해 권취드럼(45a)을 정역 방향으로 회전시키는 손잡이부(45b)를 더 마련한 후, 장력인가용 와이어(30)의 장력이 느슨해지면 손잡이부(45b)를 회전시킴으로써 장력인가용 와이어(30)의 장력을 팽팽하게 다시 유지시킬 수도 있는 것이다. 물론, 이는 하나의 실시예에 불과하므로 반드시 권취드럼(45a)과 손잡이부(45b)가 구비되어야 하는 것은 아니다.At this time, if a means for adjusting the tension of the
한편, 앞서도 기술한 바와 같이, 복수의 핑거(20a) 모두는 그 내부가 빈 중공체로 형성될 수 있다. 이러한 경우, 장력인가용 와이어(30)는 양단이 캡(22)과 로커(45)에 고정된 상태에서 복수의 핑거(20a) 내에 배치될 수 있다. 이처럼 장력인가용 와이어(30)가 핑거(20a)들 내부에 배치되는 경우, 핑거(20a)들의 상면으로 기판(G)이 놓여지는 과정에서 장력인가용 와이어(30)와 기판(G) 간에 간섭이 발생되지 않는다는 이점이 있다.On the other hand, as described above, all of the plurality of fingers (20a) may be formed of a hollow body therein. In this case, the
이러한 구성에 의해, 장력인가부(30)로 적용된 장력인가용 와이어(30)의 양 단을 각각 캡(22)과 로커(45)에 고정하면서 핑거(20a)들 내부에 배치한다. 이의 과정은 5개의 핑거(20a)들 모두에 적용한다.With this configuration, both ends of the
그런 다음, 도 1에 도시된 바와 같이, 기판 이송 로봇이 동작한다. 즉, 지지부(14)에 대해 아암(12)이 회전, 직진, 승하강 운동하면서 핑거(20a)들 상면으로 기판(G)을 떠받쳐 지지한 후, 기판(G)을 원하는 위치, 예를 들어 카세트 내로 인입 및 인출시키면서 기판(G)의 이송 작업을 실시한다.Then, as shown in FIG. 1, the substrate transfer robot operates. That is, the
이와 같은 기판(G)의 이송 작업이 반복적으로 실시되더라도 로봇본체(10)와 핑거(20a)들에는 장력인가부(30)로 적용된 장력인가용 와이어(30)가 마련되어 있으므로, 기판(G)의 하중으로 인해 도 3의 B와 같이, 핑거(20a)들이 하방으로 처지면서 변형되는 현상을 방지할 수 있게 된다.Even if the transfer operation of the substrate G is repeatedly performed, since the robot
물론, 본 실시예의 경우, 도 4에 도시된 바와 같이, 핑거(20a)들의 두께(t)는 전혀 증가된 바 없으므로, 종래와 같이 카세트 내에 적재될 기판(G)의 수량이 감소하는 등의 현상은 미연에 방지할 수 있게 되는 것이다.Of course, in the present embodiment, as shown in Figure 4, since the thickness (t) of the fingers (20a) has not been increased at all, such a phenomenon that the number of substrates (G) to be loaded into the cassette is reduced as in the prior art Is to be prevented in advance.
이와 같이, 본 실시예에 따르면, 실질적으로 핑거(20a)의 두께(t, 도 4 참조)가 증가하는 것은 저지하면서도 기판(G)의 하중으로 인해 핑거(20a)가 처지면서 변형되는 것을 방지할 수 있게 된다.As such, according to the present embodiment, while the thickness t (see FIG. 4) of the
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 이송 로봇에서 핑거 영역의 개략적인 단면도이다.5 is a schematic cross-sectional view of a finger region in the substrate transfer robot according to the second embodiment of the present invention.
전술한 실시예의 경우, 장력인가용 와이어(30)는 핑거(20a)들의 내부 중앙 영역에 배치되어 있었다. 하지만, 도 5와 같이, 장력인가용 와이어(30)는 핑 거(20a)들의 내부에서 기판(G) 측을 향해 상면에 위치될 수도 있다.In the above-described embodiment, the
도 6 및 도 7은 각각 본 발명의 제3 및 제4 실시예에 따른 기판 이송 로봇에서 핑거 영역의 개략적인 단면도이다.6 and 7 are schematic cross-sectional views of the finger region in the substrate transfer robot according to the third and fourth embodiments of the present invention, respectively.
전술한 실시예들에서 핑거(20a)들은 모두가 내부가 빈 사각 형상의 관상체로 형성되었다. 하지만, 본 발명의 제3 및 제4 실시예와 같이, 핑거(20b)가 관상체가 아닌 마치 철근과 같이 내부가 비어있지 않게 제작되는 경우에도 본 발명의 사상을 적용할 수 있다.In the above-described embodiments, the
이 때는, 핑거(20b)의 내부가 비어있지 않기 때문에, 장력인가용 와이어(30)는 핑거(20b)들의 외면에 배치될 필요가 있으며, 그 개수 역시 하나 또는 두 개 이상이 사용될 수 있다.At this time, since the inside of the
도 6과 같이, 핑거(20b)의 양측면에 장력인가용 와이어(30)를 하나씩 걸어 사용하여도 좋고, 도 7과 같이 하나의 장력인가용 와이어(30)를 핑거(20b)의 상면에 걸어 사용하여도 좋다.As shown in FIG. 6, the
다만, 도 7과 같이, 장력인가용 와이어(30)를 핑거(20b)의 상면에 마련하는 경우, 장력인가용 와이어(30)로 인해 핑거(20b)에 대한 기판(G)의 지지가 용이하지 않을 수도 있다. 이러한 경우에는 도 7에 도시된 바와 같이, 핑거(20b)의 표면에 장력인가용 와이어(30)가 부분적으로 수용되는 와이어홈(32)을 더 형성하고, 이 와이어홈(32)에 장력인가용 와이어(30)가 수용되도록 할 수 있다.However, as shown in FIG. 7, when the
이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에 서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.As described above, the present invention is not limited to the described embodiments, and various modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, such modifications or variations will have to be belong to the claims of the present invention.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 실질적으로 핑거의 두께가 증가하는 것은 저지하면서도 기판의 하중으로 인해 핑거가 처지면서 변형되는 것을 방지할 수 있다.As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the finger from sagging and deformed due to the load of the substrate while preventing the increase in the thickness of the finger substantially.
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Families Citing this family (8)
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AU2003242481A1 (en) * | 2003-06-19 | 2005-01-04 | Rorze Corporation | Thin plate-supporting body |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101334690B1 (en) * | 2011-11-15 | 2013-12-02 | 주식회사 로보스타 | Particle leakage preventing apparatus of transfer robot |
CN104669283A (en) * | 2015-02-13 | 2015-06-03 | 北京欣奕华科技有限公司 | Substrate carrying robot and manipulator thereof |
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