KR20080080775A - 진공척 - Google Patents

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KR20080080775A
KR20080080775A KR1020070020922A KR20070020922A KR20080080775A KR 20080080775 A KR20080080775 A KR 20080080775A KR 1020070020922 A KR1020070020922 A KR 1020070020922A KR 20070020922 A KR20070020922 A KR 20070020922A KR 20080080775 A KR20080080775 A KR 20080080775A
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김대성
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세메스 주식회사
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices

Abstract

본 발명은 진공척에 관한 것으로, 기판이 장착되고 지지되는 정반과, 상기 정반 상에 배치된 사각형 형태의 다수개의 그루브 라인과, 상기 다수개의 그루브 라인 각각에 배치되되 상기 정반의 중심부에서 가장자리부로 갈수록 그 수가 증가되는 형태로 배열된 다수개의 진공홀을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 시간차에 의한 글래스 기판의 밀착이 가능하게 되고 글래스 기판 사이의 공기층 형성이 최소화되므로써 글래스 기판의 밀착성을 향상시키고 진공 압력차를 없앨 수 있는 효과가 있다.
글래스 기판, 진공척, 그루브 라인, 진공홀

Description

진공척{VACUUM CHUCK}
도 1은 종래 기술에 따른 진공척을 도시한 평면도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 진공척을 도시한 평면도.
도 3 내지 도 6은 본 발명의 실시에에 따른 진공척에 있어서 그루브 라인 일부를 도시한 평면도.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >
100; 진공척 110; 석정반
112-115; 그루브 라인 119; 진공홀
200; 글래스 기판
본 발명은 진공척에 관한 것으로, 보다 구체적으로 대면적 글래스 기판과의 밀착성을 향상시킬 수 있는 진공척에 관한 것이다.
액정 디스플레이 소자 또는 플라즈마 디스플레이 소자의 패널로 쓰이는 글래스 기판을 가공하기 위해선 도 1과 같은 진공척(10) 상에 글래스 기판(20)을 진공 흡착시켜 가공 처리 공정을 진행한다. 진공척(10)은 석정반(11) 상에 격자 형태의 라인으로 가공된 그루브(12)가 배치되고, 그루브(12)에 의해 정의되는 격자와 격자 사이에 진공홀(13)이 배치된 형태이다. 진공홀(13)을 통해 공기를 흡입하여 진공 상태를 유지함으로써 석정반(11) 상에 글래스 기판(20)가 장착되게 한다.
종래의 진공척(10)에 있어서는 글래스 기판(20)이 석정반(11) 상면에 접촉을 시작하여 고정되면서 석정반(11) 상면과 글래스 기판(20) 사이에 공기층이 형성되고, 공기층이 진공홀(13)을 통해 빠져나가는 시간차가 발생한다. 이러한 시간차에 의해 택트 타임(tact time) 지연이 초래되는 현상이 있었다. 게다가, 석정반(11)과 글래스 기판(20) 사이의 진공 압력차가 발생할 수 있어서 글래스 기판(20)에 얼룩이 생기는 현상이 있었다.
본 발명은 상술한 종래 기술상의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 석정반과 글래스 기판 사이에 진공 압력차를 없앨 수 있는 진공척을 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 진공척은 그루브 라인을 직사각형 형태로 만들고, 직사각형의 모서리부에 진공홀을 배치하되 석정반 중앙부에서 가장자리부 방향으로 진공홀을 배치한 것을 특징으로 한다.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 진공척은, 기판이 장착되고 지지되는 정반; 상기 정반 상에 배치된 사각형 형태의 다수개의 그루브 라인; 및 상기 다수개의 그루브 라인 각각에 배치되되 상기 정반의 중심부에서 가장 자리부로 갈수록 그 수가 증가되는 형태로 배열된 다수개의 진공홀을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 실시예에 있어서, 상기 진공홀은 상기 정반의 중심부에서 가장자리부로 갈수록 상기 그루브 라인의 가로변 및 세로변 방향으로 간격이 넓어지는 형태로 배치된다.
본 실시예에 있어서, 상기 그루브 라인은 가로변이 세로변에 비해 큰 직사각형 형태이다.
본 실시예에 있어서, 상기 그루브 라인은, 상기 정반의 중심부에 배치되고 각 모서리부와 각 가로변에 진공홀이 배치된 다수개의 제1 그루브 라인과; 상기 정반의 가장자리부에 배치되고 각 모서리부와 각 가로변과 각 세로변에 진공홀이 배치된 다수개의 제2 그루브 라인과; 상기 다수개의 제1 및 제2 그루브 라인 사이에 배치되고 각 모서리부와 각 가로변과 각 세로변에 진공홀이 배치된 다수개의 제3 그루부 라인과; 상기 다수개의 제2 및 제3 그루브 라인 사이에 배치되고 각 모서리부와 각 가로변과 각 세로변에 진공홀이 배치된 다수개의 제4 그루브 라인을 포함한다.
본 발명에 의하면, 직사각형 형태의 그루브 라인을 석정반 상에 배치하고, 진공홀을 그루브 라인에 배치하되 석정반의 중심부에서 가장자리부로 갈수록 그 수를 증가시켜 배치함으로써 시간차에 의한 글래스 기판의 밀착이 가능하게 되고, 글래스 기판 사이의 공기층 형성이 최소화된다.
이하, 본 발명에 따른 진공척을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
본 발명과 종래 기술과 비교한 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.
(실시예)
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 진공척을 도시한 평면도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 진공척(100)은 예컨대 대면적 글래스 기판(200) 상에 특정 물질을 도포하는 도포 장치에 사용될 수 있다. 본 실시예의 진공척(100)은 대체로 직사각형 형태의 정반(110)의 상면에 대체로 사각형 형태의 다수개의 그루브 라인(112-115)이 형성되어 있다. 정반(110)은 가령 석정반 및 기타 이와 유사한 것으로서 글래스 기판과 같은 기판(200)을 장착하고 지지하기에 적합한 것이면 어떤 것이든지 불문한다. 정반(110) 상에 형성된 사각형, 가령 직사각형 형태의 그루브 라인(112-115)의 모서리부, 또는 모서리부와 변에는 다수개의 진공홀(119)이 배치되어 있다. 전체적으로, 진공홀(119)은 정반(110)의 중앙부에서 모서리부쪽으로 갈수록 간격이 넓어지는 형태를 지닌다. 진공 영역은 정반(110)의 중심부와 가장자리부를 구분시키지 아니하고 하나로 구성한다.
구체적인 그루브 라인(112-115) 형태 및 진공홀(119) 배치 형태는 이하와 같다. 이하에서 설명하는 그루브 라인(112-115)의 형태 및 진공홀(119)의 수 및 배치 는 단지 하나의 예이며 본 발명을 이에 한정하려는 의도는 전혀 아니다.
도 3 내지 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 진공척에 있어서 그루브 라인 일부를 도시한 평면도이다.
도 3을 참조하면, 정반(110)의 중앙부에 형성된 다수개의 그루브 라인(112) 각각은 가로변(112a)이 세로변(112b)에 비해 조금 큰 직사각형 형태이다. 그루브 라인(112)은 정사각형 형태로 설계할 수 있음은 물론이다. 직사각형 형태의 그루브 라인(112)의 각 모서리부에 하나의 진공홀(119)이 위치한다. 그루브 라인(112)의 각 가로변(112a)의 중심부에는 하나의 진공홀(119)이 위치한다. 따라서, 그루브 라인(112) 각각에는 약 6개의 진공홀(119)이 마련된다.
도 4를 참조하면, 정반(110)의 중앙부에 근접한 지점에 형성된 다수개의 그루브 라인(113) 각각은 가로변(113a)이 세로변(113b)에 비해 조금 큰 직사각형 형태이다. 직사각형 형태의 그루브 라인(113)의 각 모서리부에 하나의 진공홀(119)이 위치한다. 그루브 라인(113)의 각 가로변(113a)에는 약 3개의 진공홀(119)이 대체로 등간격으로 위치하고, 그루브 라인(113)의 각 세로변(113b)의 중심부에는 하나의 진공홀(119)이 위치한다. 따라서, 그루브 라인(113) 각각에는 약 12개의 진공홀(119)이 마련된다.
도 5를 참조하면, 정반(110)의 가장자리부에 근접한 지점에 형성된 다수개의 그루브 라인(114) 각각은 가로변(114a)이 세로변(114b)에 비해 조금 큰 직사각형 형태이다. 직사각형 형태의 그루브 라인(114)의 각 모서리부에 하나의 진공홀(119)이 위치한다. 그루브 라인(114)의 각 가로변(114a)에는 약 3개의 진공홀(119)이 대 체로 등간격으로 배열되고, 그루브 라인(114)의 각 세로변(114b)에는 약 2개의 진공홀(119)이 대체로 등간격으로 배열된다. 따라서, 그루브 라인(114) 각각에는 약 14개의 진공홀(119)이 배치된다.
도 6을 참조하면, 정반(110)의 가장자리부에 형성된 다수개의 그루브 라인(115) 각각은 가로변(115a)이 세로변(115b)에 조금 큰 직사각형 형태이다. 직사각형 형태의 그루브 라인(115)의 각 모서리부에 하나의 진공홀(119)이 위치한다. 그루브 라인(115)의 각 가로변(115a)에는 약 3개의 진공홀(119)이 대체로 등간격으로 위치하고, 그루브 라인(115)의 각 세로변(115b)에는 약 3개의 진공홀(119)이 대체로 등간격으로 위치한다. 따라서, 그루브 라인(115) 각각에는 약 16개의 진공홀(119)이 배치된다.
이상과 같이, 정반(110) 상에는 다수개의 직사각형 형태의 그루브 라인(112-115)이 배치되고, 각 그루브 라인(112-115)의 모서리와 가로변 및 세로변 각각에 진공홀(119)이 배치되며, 진공홀(119)은 정반(110)의 중심부에서 가장자리부쪽으로 갈수록 대체로 그 수가 증가되며, 가로변 및 세로변 방향으로는 그 간격이 넓어지는 형태로 배치된다.
상기와 같은 그루브 라인(112-115) 및 진공홀(119)의 배치로 인하여 정반(110) 상에 글래스 기판(200)이 장착되는 경우 정반(110)의 중앙부에서 가장자리부로 갈수록 시간차에 의한 순차적 밀착이 가능하게 된다. 또한, 이러한 시간차에 의한 정반(110)과 글래스 기판(200)과의 접촉으로 인해 정반(110)과 글래스 기판(200) 사이의 공기층 형성이 최소화된다.
이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니며, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 직사각형 형태의 그루브 라인을 석정반 상에 배치하고, 진공홀을 그루브 라인에 배치하되 석정반의 중심부에서 가장자리부로 갈수록 그 수를 증가시키고 가로변 및 세로변 방향으로는 간격이 넓어지도록 배치함으로써 시간차에 의한 글래스 기판의 밀착이 가능하게 되고, 글래스 기판 사이의 공기층 형성이 최소화된다. 따라서, 글래스 기판의 밀착성을 향상시키고 진공 압력차를 없앨 수 있는 효과가 있다.

Claims (4)

  1. 기판이 장착되고 지지되는 정반;
    상기 정반 상에 배치된 사각형 형태의 다수개의 그루브 라인; 및
    상기 다수개의 그루브 라인 각각에 배치되되 상기 정반의 중심부에서 가장자리부로 갈수록 그 수가 증가되는 형태로 배열된 다수개의 진공홀;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 진공척.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 진공홀은 상기 정반의 중심부에서 가장자리부로 갈수록 상기 그루브 라인의 가로변 및 세로변 방향으로 간격이 넓어지는 형태로 배치된 것을 특징으로 하는 진공척.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 그루브 라인은 가로변이 세로변에 비해 큰 직사각형 형태인 것을 특징으로 하는 진공척.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 그루브 라인은,
    상기 정반의 중심부에 배치되고 각 모서리부와 각 가로변에 진공홀이 배치된 다수개의 제1 그루브 라인과;
    상기 정반의 가장자리부에 배치되고 각 모서리부와 각 가로변과 각 세로변에 진공홀이 배치된 다수개의 제2 그루브 라인과;
    상기 다수개의 제1 및 제2 그루브 라인 사이에 배치되고 각 모서리부와 각 가로변과 각 세로변에 진공홀이 배치된 다수개의 제3 그루부 라인과;
    상기 다수개의 제2 및 제3 그루브 라인 사이에 배치되고 각 모서리부와 각 가로변과 각 세로변에 진공홀이 배치된 다수개의 제4 그루브 라인;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 진공척.
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KR101222930B1 (ko) * 2012-08-06 2013-01-17 주식회사 쓰리디플러스 기판 제조용 진공척
US10825703B2 (en) 2017-05-02 2020-11-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Chuck stage particle detection device

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