KR20080076570A - Load lock chamber structure for device manufacturing fpd - Google Patents

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Abstract

A load lock chamber of a device for manufacturing FPD devices is provided to contain lots of substrates and reduce a maintenance cost by mounting plural substrates in one chamber. A load lock chamber(50) of a device for manufacturing FPD(Flat Panel Display) devices includes plural substrate supporters(60) having a multi layered structure to contain plural substrates in one chamber. The load lock chamber transfers the substrates through one entrance thereof. Each of the substrate supporters includes a supporting frame(61) and plural supporting pins(65). The supporting frame is fixed horizontally at an inner wall of the chamber. The supporting pins are implemented vertically on the supporting frame.

Description

평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버{Load lock chamber structure for device manufacturing FPD}Load lock chamber of flat panel display device manufacturing apparatus

도 1은 종래 로드 락 챔버를 갖는 평판표시소자 제조장치의 개략적인 사시도,1 is a schematic perspective view of a flat panel display device manufacturing apparatus having a conventional load lock chamber;

도 2는 도 1의 A-A 선 방향의 단면도로서, 종래 로드 락 챔버의 구조를 보인 도면,FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line A-A of FIG. 1 and showing a structure of a conventional load lock chamber. FIG.

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 로드 락 챔버가 도시된 사시도, 3 is a perspective view showing a load lock chamber according to a first embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 로드 락 챔버의 정면도, 4 is a front view of the load lock chamber according to the first embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 로드 락 챔버의 측단면도,5 is a side cross-sectional view of the load lock chamber according to the first embodiment of the present invention;

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 로드 락 챔버가 도시된 사시도, 6 is a perspective view showing a load lock chamber according to a second embodiment of the present invention;

도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 로드 락 챔버의 정면도, 7 is a front view of a load lock chamber according to a second embodiment of the present invention,

도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 로드 락 챔버의 측단면도이다.8 is a side cross-sectional view of a load lock chamber according to a second embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

50, 50A, 50B : 로드 락 챔버 55 : 입구 50, 50A, 50B: load lock chamber 55: inlet

60 : 기판 지지대 61 : 지지 프레임 60: substrate support 61: support frame

62 : 프레임 지지대 63 : 하부 지지대 62: frame support 63: lower support

65 : 지지핀 67 : 완충부재 65 support pin 67 buffer member

70 : 이송암 75 : 게이트 밸브(Gate Valve)70: transfer arm 75: gate valve

본 발명은 LCD 등의 평판표시소자 제조장치에 관한 것으로서, 특히 로드 락 챔버 하나에 복수의 기판 지지대를 구비하여 두 개 이상의 기판을 보관할 수 있도록 구성함으로써 공정 시간을 단축함은 물론 제조 효율을 향상시킬 수 있도록 한 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel display device manufacturing apparatus such as an LCD, and in particular, a plurality of substrate supports are provided in one load lock chamber to store two or more substrates, thereby shortening process time and improving manufacturing efficiency. It relates to a load lock chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus.

일반적으로 반도체나 평판표시소자(Flat Panel Display)를 제조하는 장치 등은 기판(반도체 웨이퍼, 글라스 등)의 표면처리 등을 실시하기 위한 챔버가 구비되고, 이 챔버로 기판을 반입하거나 반출하기 위하여 기판을 운반하는 반송로봇이 구비되는 바, 챔버는 기판의 반입/반출을 위한 출입구인 게이트 슬릿(Gate Slit)이 마련되어 게이트 밸브(Gate Valve)로 개폐된다.In general, a device for manufacturing a semiconductor or a flat panel display is provided with a chamber for performing a surface treatment of a substrate (semiconductor wafer, glass, etc.), and a substrate for carrying in or taking out a substrate into the chamber. A transport robot for transporting the bar is provided, and the chamber is provided with a gate slit (Gate Slit), which is an entrance / exit for carrying in / out of the substrate, and is opened and closed by a gate valve.

이와 같은 챔버, 반송로봇 및 게이트 밸브는 반도체나 평판표시소자 제조장치 등에 모두 유사한 방식으로 적용되는 것으로서, 이하에서는 이 챔버, 반송로봇, 게이트 밸브 그리고 이들과 관련 있는 사항에 대하여 이것이 평판표시소자 제조장치에 적용된 것을 중심으로 하여 살펴보기로 한다.The chamber, the transfer robot, and the gate valve are applied in a similar manner to the semiconductor or flat panel display device manufacturing apparatus. Hereinafter, the chamber, the transfer robot, the gate valve, and the related matters are related to the flat panel display device manufacturing apparatus. Let's take a look at what is applied to.

평판표시소자에는 액정표시소자(Liquid Crystal Display), 플라즈마디스플레 이 소자(Plasma Display Panel), 유기발광소자(Organic Light Emitting Diodes) 등이 있다.The flat panel display devices include liquid crystal displays, plasma display panels, and organic light emitting diodes.

이러한 평판표시소자를 제조하기 위한 평판표시소자 제조장치로는 주로 진공처리 방식의 것이 사용되는데, 평판표시소자 제조장치는 생산성 향상을 위한 택트 타임(Tact time)을 줄이기 위해서 인라인 타입(In-Line type)에서 클러스터 타입(Cluster type)으로 변화되고 있다.The flat panel display device manufacturing apparatus for manufacturing such a flat panel display device is mainly a vacuum processing method, the flat panel display device manufacturing apparatus is an in-line type (In-Line type) in order to reduce the tact time for productivity improvement ) Is changing from cluster type to cluster type.

여기서 클러스터 타입(Cluster type)은 아래에서 설명될 하나의 로드 락 챔버(Load Lock Chamber)에 두 개 이상의 공정챔버가 연결되어 기판을 처리할 수 있도록 구성된 평판표시소자 제조장치이다.The cluster type is a flat panel display device manufacturing apparatus configured to process a substrate by connecting two or more process chambers to one load lock chamber to be described below.

도 1을 참조하여 클러스터 타입의 평판표시소자 제조장치에 대하여 간단히 살펴본다.A brief description will be given of a cluster type flat panel display device manufacturing apparatus with reference to FIG. 1.

평판표시소자 제조장치는 외부로부터 미처리된 기판을 받아서 보관하거나 처리된 기판(S)을 외부로 내보내는 로드 락 챔버(Load Lock Chamber)(10)와, 이 로드 락 챔버(10)로부터 반입된 기판을 진공 분위기 하에서 플라즈마 등을 이용하여 표면처리를 실시하는 등 기판을 처리하는 공정챔버(Process Chamber)(20)와, 이 공정챔버(20)와 상기 로드 락 챔버(10) 사이에 설치되어 기판(S)을 공정챔버(20)로 반입하거나 그 반대로 반출함에 있어 경유지의 역할을 하는 반송챔버(Transfer Chamber)(30)로 이루어진다.The flat panel display device manufacturing apparatus includes a load lock chamber 10 which receives an unprocessed substrate from the outside and stores the processed substrate S to the outside, and a substrate loaded from the load lock chamber 10. A process chamber 20 for processing a substrate such as surface treatment using a plasma or the like in a vacuum atmosphere, and a substrate S disposed between the process chamber 20 and the load lock chamber 10. ) Is transferred to the process chamber 20 or vice versa, the transfer chamber (Transfer Chamber) (30) that serves as a stopover.

여기서 상기 반송챔버(30)의 내부에는 기판을 로드 락 챔버(10)와 공정챔버(20)로 이송하는 반송로봇(미도시)이 설치되고, 이 반송로봇에는 기판을 이송하 는 이송암(Transfer Arm)이 구비된다.Here, a transfer robot (not shown) for transferring the substrate to the load lock chamber 10 and the process chamber 20 is installed in the transfer chamber 30, and the transfer arm transfers the substrate to the transfer robot 30. Arm) is provided.

한편, 도 2는 도 1의 A-A 선 방향의 단면도로서, 로드 락 챔버(10)의 내부 구조를 나타낸 도면이다. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A in FIG. 1 and showing the internal structure of the load lock chamber 10.

도면에서는 2개의 로드 락 챔버(10)가 상하로 배열되어 구성된 상태를 보여주고 있다. 각 로드 락 챔버(10)는 하나의 기판을 보관할 수 있도록 구성되는데, 각 챔버 내의 바닥면에는 기판 지지부(11)가 구성되고, 이 기판 지지부(11)는 챔버의 길이 방향으로 이송 로봇의 이송암(35)이 진입할 수 있도록 홈 구조로 이루어진 암(Arm) 진입부(13)가 형성된다.In the figure, two load lock chambers 10 are shown arranged up and down. Each load lock chamber 10 is configured to hold one substrate, the substrate support 11 is formed on the bottom surface of each chamber, the substrate support 11 is a transfer arm of the transfer robot in the longitudinal direction of the chamber An arm entry portion 13 having a groove structure is formed to allow 35 to enter.

그리고 각 로드 락 챔버(10)의 측면(또는 배면)에는 기판을 정렬(align)하기 위한 정렬 기구(15)가 구비된다.The side (or back) of each load lock chamber 10 is provided with an alignment mechanism 15 for aligning the substrate.

물론, 상기 각 로드 락 챔버(10)는 상기한 반송챔버(30)와 연결되는 부분에 게이트 밸브가 내재되는 게이트 통로(40)가 각각 구비되어, 챔버 내에 기판을 반입하거나 반출하는 작동은 각각의 게이트 밸브(Gate valve)를 개방한 상태에서 이루어지고, 기판의 반입 및 반출이 이루어진 후에는 게이트 밸브가 닫히게 된다.Of course, each of the load lock chambers 10 is provided with a gate passage 40 in which a gate valve is embedded in a portion connected to the transfer chamber 30, and an operation of bringing in or taking out a substrate into the chamber is performed by The gate valve is opened and the gate valve is closed after the loading and unloading of the substrate.

도 2에서는 2개의 로드 락 챔버(10)가 구비되므로, 상기 반송챔버(30)와의 사이에 두 개의 게이트 밸브가 구성된다. 즉, 상기 게이트 통로(40) 내에는 각각의 로드 락 챔버(10)를 개폐할 수 있는 게이트 밸브가 각각 구비되는 것이다.In FIG. 2, since two load lock chambers 10 are provided, two gate valves are formed between the transfer chambers 30. In other words, the gate passage 40 is provided with a gate valve that can open and close each load lock chamber 10.

그러나 상기한 바와 같은 종래 로드 락 챔버(10)가 구비된 평판표시소자 제조장치는, 하나의 챔버에 하나의 기판만을 보관할 수 있도록 구성되어 있기 때문에 일정한 공간 또는 체적을 갖는 챔버 내에 보다 많은 양의 기판을 보관하는 데는 한 계가 있는 문제점이 있다.However, the conventional flat panel display device manufacturing apparatus provided with the load lock chamber 10 as described above is configured to store only one substrate in one chamber, so that a larger amount of substrates are provided in a chamber having a predetermined space or volume. There is a problem with keeping them.

또한, 종래 로드 락 챔버(10)는 하나의 챔버에 하나의 기판만을 보관함에 따라 기판의 개수에 따라 각각의 챔버를 별도로 구비해야 하므로, 챔버를 구성하는 비용이 많이 소요될 뿐만 아니라, 위에서도 지적한 바와 같이 보관할 수 있는 기판의 수량에도 한계를 갖는 문제점이 있다.In addition, the conventional load lock chamber 10 is to store only one substrate in one chamber, so that each chamber must be provided separately according to the number of substrates, as well as the cost of constituting the chamber, as noted above There is a problem in that there is a limit in the number of substrates that can be stored.

특히, 종래 로드 락 챔버(10)는 기판을 반입 또는 반출하는 작업이 각각의 게이트 밸브를 개폐하면서 이루어지기 때문에 게이트 밸브의 개폐 작동에 따른 공정 시간이 더 소요되어, 전체적인 제조 공정 시간이 늘어나게 되고, 공정 효율도 떨어지게 되는 문제점이 있다.In particular, in the conventional load lock chamber 10 is carried out while opening and closing the substrate is carried out while opening and closing each gate valve, the process time according to the opening and closing operation of the gate valve is further required, the overall manufacturing process time is increased, There is also a problem that the process efficiency is also reduced.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 하나의 챔버 내에 여러 개의 기판을 동시에 보관할 수 있도록 구성함으로써 일정한 공간에 보다 많은 양의 기판을 보관할 수 있는 동시에 기판 수 대비 챔버의 구성비용도 절약할 수 있는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버를 제공하는 데 목적이 있다. The present invention has been made to solve the above problems, it is possible to store a plurality of substrates in one chamber at the same time by storing a larger amount of substrate in a certain space and at the same time saves the cost of the chamber compared to the number of substrates An object of the present invention is to provide a load lock chamber of a flat panel display device manufacturing apparatus.

또한 본 발명은, 하나의 게이트 밸브만을 개방하여 보다 많은 양의 기판을 반입 또는 반출할 수 있도록 구성함으로써, 공정 시간을 단축하여 제조 효율을 향상시킬 수 있는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버를 제공하는 데 다른 목적이 있다.In addition, the present invention provides a load lock chamber of a flat panel display device manufacturing apparatus that can improve the manufacturing efficiency by shortening the process time by configuring only one gate valve to be able to import or export a larger amount of substrates Has a different purpose.

또한 본 발명은, 각각의 기판 지지대가 상하 개방된 구조로 이루어지도록 하 여, 챔버 내부 공간의 진공 상태 변화가 용이해지도록 하는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버를 제공하는 데 다른 목적이 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a load lock chamber of a flat panel display device manufacturing apparatus which allows each substrate support to have an open top and bottom structure to facilitate a change in the vacuum state of the chamber internal space.

상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버는, 외부로부터 미처리된 기판을 받아서 보관하거나 공정챔버로부터 표면 처리된 기판을 외부로 내보내는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버에 있어서, 상기 로드 락 챔버는 하나의 챔버 내에 복수 개의 기판을 보관할 수 있도록 다층 구조로 배치된 복수 개의 기판 지지대가 구비된 것을 특징으로 한다.The load lock chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus according to the present invention for realizing the above object is a load lock of the flat panel display device manufacturing apparatus for receiving and storing an unprocessed substrate from the outside or to export the surface-treated substrate from the process chamber to the outside In the chamber, the load lock chamber is characterized in that a plurality of substrate supports are arranged in a multi-layer structure so as to store a plurality of substrates in one chamber.

상기 로드 락 챔버는 하나의 입구를 통해 기판을 반입하거나 반출할 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.The load lock chamber is preferably configured to be capable of carrying in or taking out a substrate through one inlet.

상기 기판 지지대는 챔버의 내벽에 고정되어 수평으로 위치되는 지지 프레임과, 이 지지 프레임에 수직으로 세워진 복수의 지지핀을 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The substrate support is preferably configured to include a support frame fixed horizontally to the inner wall of the chamber and a plurality of support pins erected perpendicularly to the support frame.

이때 상기 지지 프레임은 그 하부 공간과 상부 공간이 통하도록 개방된 구조로 형성되는 것이 바람직하다.At this time, the support frame is preferably formed of an open structure so that the lower space and the upper space communicate.

상기 지지 프레임은 다수의 선형 부재가 격자형 구조로 배치되어 구성될 수 있다.The support frame may be configured by arranging a plurality of linear members in a lattice structure.

이와는 달리 상기 지지 프레임은 다수의 선형 부재가 기판 이송 기구의 진입 방향에 대하여 평행하게 배치되어 구성될 수 있다. 이때 상기 지지 프레임은 상기 기판 이송 기구와의 간섭이 줄일 수 있도록 선형 부재의 하부에 상기 선형 부재와 직교하는 방향으로 연결되어 지지 프레임을 지지하는 하부 지지대가 구비되는 것이 바람직하다.Alternatively, the support frame may be configured such that a plurality of linear members are arranged in parallel with the entry direction of the substrate transfer mechanism. At this time, the support frame is preferably provided with a lower support for supporting the support frame is connected to the direction orthogonal to the linear member in the lower portion of the linear member to reduce the interference with the substrate transfer mechanism.

상기 지지핀은 그 상단에 완충 부재가 구비되는 것이 바람직하다.The support pin is preferably provided with a buffer member on the upper end.

상기 로드 락 챔버는 복수개가 상하 방향으로 적층되어 구성되는 것이 바람직하다.Preferably, the load lock chamber is configured by stacking a plurality of rod lock chambers in a vertical direction.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 로드 락 챔버가 도시된 사시도, 도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 로드 락 챔버의 정면도, 도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 로드 락 챔버의 측단면도이다.3 is a perspective view showing a load lock chamber according to a first embodiment of the present invention, FIG. 4 is a front view of the load lock chamber according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a first embodiment of the present invention. Side cross-sectional view of a load lock chamber according to the present invention.

본 발명에 따른 제 1 실시예의 로드 락 챔버(Load Lock Chamber)는, 공지의 로드 락 챔버와 같이 외부로부터 미처리된 기판을 받아서 보관하거나, 반송챔버와 연결되어 공정챔버로부터 표면 처리된 기판을 외부로 내보내도록 구성된다.(도 1 참조)The load lock chamber according to the first embodiment of the present invention receives and stores an untreated substrate from the outside, such as a known load lock chamber, or connects a substrate treated with a surface treatment from the process chamber to the outside by being connected to a transfer chamber. Configured to export (see Figure 1).

이러한 상기 로드 락 챔버(50)는 도면에서 상하로 두 개(50A)(50B)가 적층되어 배치되는 구성을 보여주고 있으나, 이는 하나의 예시이며, 하나만 배치되거나, 3개 이상이 배치되게 구성될 수도 있다. 또한 상하로 배치되는 구성이 아닌 좌우로 배치되는 구성도 가능하다.The load lock chamber 50 shows a configuration in which two 50A, 50B are stacked and arranged in the figure, but this is only one example, and only one or three or more may be arranged. It may be. In addition, it is also possible to configure the configuration arranged left and right rather than the configuration arranged up and down.

다만, 본 발명은 각각의 로드 락 챔버(50) 내에 복수 개의 기판(S)을 보관할 수 있도록 다층 구조로 배치된 복수 개의 기판 지지대(60)가 구비된다. 본 실시예에서는 2층 구조의 기판 지지대(60)에 대하여 설명하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 실시 조건에 따라서는 3층 이상의 구조로 기판 지지대(60)를 구성할 수 있다.However, the present invention is provided with a plurality of substrate support 60 disposed in a multi-layer structure so that the plurality of substrates (S) can be stored in each load lock chamber 50. In the present embodiment, the substrate support 60 having a two-layer structure has been described. However, the present invention is not limited thereto, and the substrate support 60 may be configured to have a structure of three or more layers, depending on the implementation conditions.

여기서 각 기판 지지대(60)는 챔버의 내벽에 고정되어 수평으로 위치되는 지지 프레임(Supporting Frame)(61)과, 이 지지 프레임(61)에 수직으로 세워져 그 상부에 기판(S) 또는 유리판 등이 놓이는 복수의 지지핀(Supporting Pin)(65)으로 이루어진다.Here, each substrate support 60 is fixed to the inner wall of the chamber (Supporting Frame) 61 is positioned horizontally, perpendicular to the support frame 61, the substrate (S) or glass plate on the top It is made up of a plurality of supporting pins 65.

상기 지지 프레임(61)은 다수의 선형 부재가 일정 간격마다 종방향 또는 횡방향으로 격자 구조로 배치된 구성이 바람직한데, 챔버의 내측벽에는 각각의 선형 부재의 끝단부를 고정하여 지지할 수 있는 프레임 지지대(62)가 구비된다.The support frame 61 is preferably a configuration in which a plurality of linear members are arranged in a lattice structure in the longitudinal or transverse direction at regular intervals, the frame that can be fixed to the end of each linear member on the inner wall of the chamber A support 62 is provided.

한편, 상기 지지 프레임(61)은 챔버 내부가 다른 공간으로 분할되지 않고, 하나의 진공압 형성 시스템에 의해 전체적으로 진공 분위기를 형성할 수 있도록 각 지지 프레임(61)의 하부 공간과 상부 공간이 통하도록 개방된 구조로 형성되는 것이 바람직하다.On the other hand, the support frame 61 is such that the lower space and the upper space of each support frame 61 communicate with each other so that the inside of the chamber is not divided into other spaces, and a vacuum atmosphere can be formed by one vacuum pressure forming system as a whole. It is preferable to form an open structure.

이와 같은 구성이 가능하도록 본 실시예에서의 지지 프레임(61)은 선형 부재가 격자 구조로 배치된 구조를 예시하였으나, 반드시 이에 한정되지는 않으며, 상하부가 개방된 구조이면, 격자 구조가 아닌 단일 평행 구조로 배치하는 것도 가능하다. 이러한 구성의 실시예는 아래에 설명될 제 2 실시예에서 다시 설명한다.In order to enable such a configuration, the support frame 61 in this embodiment exemplifies a structure in which the linear members are arranged in a lattice structure, but the structure is not necessarily limited thereto. It is also possible to arrange in a structure. Embodiments of this configuration will be described again in the second embodiment to be described below.

상기 지지핀(65)은 상기 지지 프레임(61)의 선형 부재가 교차하는 부분에 수직으로 설치되는 것이 바람직하며, 상단부에는 기판이 올려질 때, 충격을 줄이면서 기판의 손상을 방지할 수 있도록 고무재 또는 이와 유사한 재질로 이루어진 완충 부재(67)가 구비되는 것이 바람직하다.The support pin 65 is preferably installed perpendicular to the portion where the linear member of the support frame 61 intersects, and when the substrate is placed on the upper end, rubber to prevent damage to the substrate while reducing the impact Preferably, a cushioning member 67 made of ash or similar material is provided.

상기와 같이 지지 프레임(61) 및 지지핀(65)으로 이루어진 각 기판 지지대(60)는 기판의 반입 및 반출시 이송 기구 즉, 이송 로봇의 이송암(Transfer Arm)(70)이 통과할 수 있도록 챔버의 바닥면으로부터 또는 하부에 위치되는 기판 지지대(60)로부터 일정한 공간을 갖도록 위치되는 것이 바람직한데, 본 실시예에서와 같이 지지 프레임(61)이 격자 구조로 이루어질 경우에는 지지핀(65)의 높이를 높게 하여, 지지핀(65)들 사이로 이송암(70)이 승강하거나, 진퇴하도록 구성되는 것이 바람직하다.As described above, each substrate support 60 composed of the support frame 61 and the support pin 65 allows the transfer mechanism 70, ie, the transfer arm 70 of the transfer robot, to pass in and out of the substrate. It is preferable to have a predetermined space from the bottom of the chamber or from the substrate support 60 located at the bottom. When the support frame 61 has a lattice structure as in this embodiment, the support pins 65 By raising the height, it is preferable that the transfer arm 70 is configured to move up or down between the support pins 65.

또한 상기 챔버(50)의 내벽 쪽에는 상기 지지핀(65) 위에 올려진 기판의 위치를 정확한 위치로 정렬할 수 있도록 하는 정렬기구(Align device)(69)가 설치되는 것이 바람직하다. 이때 정렬 기구(69)는 통상의 로드 락 챔버(50)에 구비되는 정렬 기구를 설치하면 되는데, 주로 지지핀(65) 위에 올려진 기판(S)의 측면을 밀어서 적절한 위치에 로딩되도록 하는 구조로 이루어진다. 이러한 구조로는 공압 또는 유압에 의해 작동되는 유압 실린더를 이용하여 피스톤 블록(Piston Block)이 전진 및 후진하면서 기판의 위치를 조정할 수 있도록 구성할 수 있다.In addition, it is preferable that an alignment device 69 is installed on the inner wall of the chamber 50 to align the position of the substrate placed on the support pin 65 to the correct position. At this time, the alignment mechanism 69 may be provided with an alignment mechanism provided in the conventional load lock chamber 50. The alignment mechanism 69 is mainly configured to push the side surface of the substrate S mounted on the support pin 65 to be loaded at an appropriate position. Is done. This structure can be configured to adjust the position of the substrate while the piston block (Piston Block) to move forward and backward by using a hydraulic cylinder operated by pneumatic or hydraulic pressure.

한편, 상기와 같은 복수의 기판 지지대(60)를 갖는 각 로드 락 챔버(50)는 반송 챔버와 연결된 하나의 게이트 통로를 통해 기판을 반입하거나 반출할 수 있도 록 구성되는 것이 바람직하다.On the other hand, each load lock chamber 50 having a plurality of substrate support 60 as described above is preferably configured to be able to carry in or out the substrate through one gate passage connected to the transfer chamber.

그 이유는 본 발명의 로드 락 챔버(50)는 하나의 공간에 복수개의 기판 지지대(60)가 구성되므로, 기판 지지대(60)의 높이에 따라 게이트 통로를 각각 마련하지 않고, 챔버의 입구(55)에 하나의 게이트 통로만을 구비하여, 그 내부에 하나의 게이트 밸브(75)에 의해 개폐할 수 있도록 구성함으로써, 하나의 게이트 밸브(75)만을 개방한 상태에서 두 개의 기판(S)을 동시에 반출 또는 반입할 수 있으므로, 전체적으로 보관할 기판 수량 대비 게이트 밸브의 수를 줄일 수 있게 된다.The reason for this is that the load lock chamber 50 of the present invention includes a plurality of substrate supports 60 in one space, and thus does not provide a gate passage in accordance with the height of the substrate support 60, and thus the inlet 55 of the chamber. By having only one gate passage) and configured to be opened and closed by one gate valve 75 therein, two substrates S are simultaneously carried out while only one gate valve 75 is opened. Alternatively, as it can be carried in, it is possible to reduce the number of gate valves relative to the total number of substrates to be stored.

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 로드 락 챔버가 도시된 사시도이고, 도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 로드 락 챔버의 정면도이며, 도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 로드 락 챔버의 측단면도이다.6 is a perspective view showing a load lock chamber according to a second embodiment of the present invention, Figure 7 is a front view of a load lock chamber according to a second embodiment of the present invention, Figure 8 is a second embodiment of the present invention Is a cross-sectional side view of the load lock chamber.

참고로, 도 6 내지 도 8에서 미설명 참조 번호는 전술한 제 1 실시예의 구성과 동일한 부분으로서, 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.For reference, in FIG. 6 to FIG. 8, the unexplained reference numerals are the same as the configuration of the above-described first embodiment, and the same reference numerals will be given and detailed description thereof will be omitted.

이에 도시된 바와 같이 제 2 실시예의 로드 락 챔버의 기본 구성은 전술한 제 1 실시예의 구성과 동일 유사하나, 다만, 기판 지지대(60)의 구성을 달리한다.As shown therein, the basic configuration of the load lock chamber of the second embodiment is similar to the configuration of the first embodiment described above, but the configuration of the substrate support 60 is different.

즉, 전술한 제 1 실시예에서는 기판 지지대(60)의 지지 프레임(61)이 격자 구조로 배치된 구성을 예시하였으나, 제 2 실시예에서는 지지 프레임(61)이 격자 구조가 아닌 일자형 평행 구조로 이루어진다.That is, in the above-described first embodiment, a structure in which the support frame 61 of the substrate support 60 is arranged in a lattice structure is illustrated, but in the second embodiment, the support frame 61 is a straight parallel structure instead of a lattice structure. Is done.

이와 같이 구성되는 이유는 로드 락 챔버(50)에 기판(S)을 반입 및 반출하 기 위해서는 이송암(Transfer arm)(70)이 승강하거나 진퇴하는 작동이 이루어지는데, 이송암(70)의 이동 경로에 지지 프레임(61)이 걸리지 않도록 하기 위한 것이다. The reason for this configuration is that the transfer arm 70 moves up or down in order to bring the substrate S into and out of the load lock chamber 50, and the movement of the transfer arm 70 is performed. This is to prevent the support frame 61 from being caught in the path.

이와 같은 구성을 위해, 챔버(50)의 입구(55) 쪽에는 각 지지 프레임(61)의 선형 부재를 하부에서 지지하는 하부 지지대(63)가 구성된다.For this configuration, the lower support 63 is configured on the inlet 55 side of the chamber 50 to support the linear member of each support frame 61 from the bottom.

즉, 상기 챔버의 입구(55)로 진입한 이송암(70)의 작동이 어느 정도 자유롭도록 선형 부재의 끝단부가 하측으로 절곡되고, 이 절곡된 하단부에 전체 선형 부재를 지지하는 하부 지지대(63)가 수평 방향으로 위치된다. 물론, 이 하부 지지대는 챔버(50)의 양쪽 내측면에 고정된다.That is, the end of the linear member is bent downward so that the operation of the transfer arm 70 entering the inlet 55 of the chamber is somewhat free, and the lower support 63 for supporting the entire linear member at the bent lower end Is positioned in the horizontal direction. Of course, this lower support is fixed to both inner surfaces of the chamber 50.

이와 같이 하부 지지대(63) 구조는 반드시 챔버(50)의 입구(55) 쪽에만 설치되는 것에 한정되지 않고, 실시 조건에 따라서는 지지 프레임(61)의 중간 부분에 설치하여 구성하는 것도 가능하다. 이러한 구성은 도면에 지지 프레임(61)의 중간 부분에 하부 지지대(63A)를 설치하는 구성도 함께 도시하였다.Thus, the structure of the lower support 63 is not limited to being provided only in the inlet 55 side of the chamber 50, and it can also be provided in the intermediate part of the support frame 61 depending on implementation conditions. This configuration also shows a configuration in which the lower support 63A is installed in the middle of the support frame 61 in the drawings.

따라서 상기와 같은 본 발명에 따른 제 2 실시예의 로드 락 챔버(50)는 기판을 반입 및 반출하기 위해 이송암(70)이 작동할 때, 지지 프레임과(61)의 간섭을 줄임과 동시에 제 1 실시예에서와 같이 지지핀(65)의 높이를 필요 이상으로 높일 필요가 없으므로, 전체적으로 챔버(50)의 높이를 줄일 수 있는 장점을 갖게 된다.Accordingly, the load lock chamber 50 of the second embodiment according to the present invention as described above reduces the interference of the support frame and the 61 while the transfer arm 70 operates to load and unload the substrate. Since it is not necessary to increase the height of the support pin 65 more than necessary as in the embodiment, the overall height of the chamber 50 can be reduced.

상기와 같이 구성되고 작용되는 본 발명에 따른 평판표시소자 제조장치의 로 드 락 챔버는, 하나의 챔버 내에 여러 개의 기판을 동시에 보관할 수 있도록 구성되기 때문에 정해진 공간에 보다 많은 양의 기판을 보관할 수 있는 동시에 기판 수 대비 챔버의 구성비용도 절약할 수 있는 이점이 있다.The load lock chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus according to the present invention configured and operated as described above is capable of storing a larger amount of substrate in a predetermined space because it is configured to simultaneously store several substrates in one chamber. At the same time, there is an advantage in that the construction cost of the chamber can be saved compared to the number of substrates.

또한 본 발명은, 하나의 게이트 밸브(Gage Valve)만을 개방하여 보다 많은 양의 기판을 반입 또는 반출할 수 있도록 구성되기 때문에 제조 공정 시간을 단축하여 제조 효율을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.In addition, the present invention has the advantage that it is possible to shorten the manufacturing process time to improve the manufacturing efficiency because it is configured so that only one gate valve (Gage Valve) can be carried in or out of a larger amount of substrate.

또한 본 발명은, 각각의 기판 지지대가 상하 개방된 구조로 이루어지도록 구성되기 때문에 챔버 내부 공간의 진공 상태 변화가 용이해지도록 하는 이점이 있다.In addition, the present invention has the advantage that it is easy to change the vacuum state of the interior space of the chamber because each substrate support is configured to be made up and down open structure.

Claims (9)

외부로부터 미처리된 기판을 받아서 보관하거나 공정챔버로부터 표면 처리된 기판을 외부로 내보내는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버에 있어서,In the load lock chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus for receiving an untreated substrate from the outside and storing the surface-treated substrate from the process chamber to the outside, 상기 로드 락 챔버는 하나의 챔버 내에 복수 개의 기판을 보관할 수 있도록 다층 구조로 배치된 복수 개의 기판 지지대가 구비된 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버.The load lock chamber is a load lock chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus, characterized in that a plurality of substrate support arranged in a multi-layer structure is provided so as to store a plurality of substrates in one chamber. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 로드 락 챔버는 하나의 입구를 통해 기판을 반입하거나 반출할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버.The load lock chamber is a load lock chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus, characterized in that configured to be carried in or out of the substrate through a single inlet. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 기판 지지대는 챔버의 내벽에 고정되어 수평으로 위치되는 지지 프레임과, 이 지지 프레임에 수직으로 세워진 복수의 지지핀을 포함한 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버.The substrate support includes a support frame fixed horizontally to the inner wall of the chamber and a plurality of support pins perpendicular to the support frame. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 지지 프레임은 그 하부 공간과 상부 공간이 통하도록 개방된 구조로 형성된 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버.The support frame is a load lock chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus, characterized in that the lower space and the upper space is formed in an open structure. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 지지 프레임은 다수의 선형 부재가 격자형 구조로 배치되어 구성된 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버.The support frame is a load lock chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus, characterized in that a plurality of linear members are arranged in a lattice structure. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 지지 프레임은 다수의 선형 부재가 기판 이송 기구의 진입 방향에 대하여 평행하게 배치되어 구성된 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버.The support frame is a load lock chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus characterized in that a plurality of linear members are arranged in parallel with respect to the entry direction of the substrate transfer mechanism. 청구항 6에 있어서,The method according to claim 6, 상기 지지 프레임은 상기 기판 이송 기구와의 간섭이 줄일 수 있도록 선형 부재의 하부에 상기 선형 부재와 직교하는 방향으로 연결되어 지지 프레임을 지지하는 하부 지지대가 구비된 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버.The support frame is provided with a lower support for supporting the support frame is connected to the direction orthogonal to the linear member in the lower portion of the linear member to reduce the interference with the substrate transfer mechanism of the flat panel display device manufacturing apparatus Load lock chamber. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 지지핀은 그 상단에 완충 부재가 구비된 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버.The support pin is a load lock chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus characterized in that the buffer member is provided on the upper end. 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 8, 상기 로드 락 챔버는 복수개가 상하 방향으로 적층되어 구성된 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 로드 락 챔버.The load lock chamber is a load lock chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus, characterized in that a plurality of stacked in the vertical direction.
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