KR20080069861A - Au-free electroconductive particles and anisotropic-electroconductive adhesive using the same - Google Patents

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Abstract

A gold-free conductive particle is provided to realize excellent cost efficiency and to ensure excellent connection reliability, oxidation stability and electric conductivity even in the absence of a thin gold layer. A gold-free conductive particle(50) comprises: polymer powder(53) having an elastic modulus of at least 1,000 kgf/mm^2(10% strain) and a recovery ratio of 40-80%; a thin metal layer(54) formed on the surface of the polymer and free from gold(Au); and an anti-oxidative layer(52) formed on the surface of the thin metal layer and capable of electric connection by being partially removed at the portion that is in contact with the counter circuit electrode under heating and pressurization.

Description

금을 포함하지 않는 도전성 입자 및 이를 구비한 이방 도전성 접착재료 {Au-FREE ELECTROCONDUCTIVE PARTICLES AND ANISOTROPIC-ELECTROCONDUCTIVE ADHESIVE USING THE SAME } Conductive particles not containing gold and anisotropic conductive adhesive material having same {Au-FREE ELECTROCONDUCTIVE PARTICLES AND ANISOTROPIC-ELECTROCONDUCTIVE ADHESIVE USING THE SAME}

도 1은 서로 대향하는 회로전극을 구비한 기판 사이에 개재되는 이방 도전성 접착재료를 도시한 개략도이고, 1 is a schematic diagram showing an anisotropic conductive adhesive material interposed between substrates having opposing circuit electrodes;

도 2는 이방 도전성 접착재료에 의하여 전기적으로 접속된 회로 접속 구조체를 도시한 개략도이고,2 is a schematic diagram showing a circuit connection structure electrically connected by an anisotropic conductive adhesive material,

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 입자의 개략적인 단면도이고,3 is a schematic cross-sectional view of the conductive particles according to an embodiment of the present invention,

도 4는 고분자 분체의 회복률 측정방법을 설명한 그래프이다.4 is a graph illustrating a method for measuring a recovery rate of polymer powder.

본 발명은 이방 도전성 접착재료 등에 사용되는 도전성 입자 및 이를 구비한 이방 도전성 접착재료에 관한 것이다.The present invention relates to conductive particles used for an anisotropic conductive adhesive material and the like and an anisotropic conductive adhesive material having the same.

기술이 발전함에 따라 최근의 전자기기는 급속히 소형화 및 박형화가 이루어지고 있다. 이에 따라, 미세한 회로들 간의 접속 또는 미소부품과 미세회로 사이의 접속이 비약적으로 증대되고 있는데, 이러한 미세회로의 접속에는 이방 도전성 접 착재료가 사용된다. 이방 도전성 접착재료는 절연성 접착성분과, 절연성 접착성분에 분산된 다수의 도전성 입자를 함유하는데, 이를 이용하여 미세회로를 접속하는 방법을 설명하면 다음과 같다.With the development of technology, recent electronic devices have been rapidly miniaturized and thinned. As a result, the connection between the fine circuits or the connection between the micro components and the fine circuits is greatly increased. Anisotropic conductive adhesive materials are used for the connection of such fine circuits. The anisotropic conductive adhesive material contains an insulating adhesive component and a plurality of conductive particles dispersed in the insulating adhesive component. A method of connecting the microcircuits using the same will be described below.

도 1을 참조하면, 상기판(10)의 하면 및 하기판(20)의 상면에 각각 서로 대향되도록 구비된 회로전극(11, 21) 사이에, 절연성 접착성분(40)과 그 절연성 접착성분(40)에 분산된 다수의 도전성 입자(50)로 이루어진 이방 도전성 접착재료(30)를 개재시킨다. 그런 다음, 소정의 온도와 압력으로 열압착하면, 도 2에 도시된 바와 같이 회로전극(11, 21) 사이에 개재된 도전성 입자(50)가 대향되는 회로전극(11, 21)을 전기적으로 접속시키게 되며, 동시에 인접하는 회로 사이에는 절연성이 확보된다. 또한, 절연성 접착성분(40)이 완전히 경화됨에 따라 상기판(10)과 하기판(20)은 서로 견고히 접착된다. Referring to FIG. 1, an insulating adhesive component 40 and an insulating adhesive component 40 are formed between circuit electrodes 11 and 21 provided on the lower surface of the plate 10 and the upper surface of the lower plate 20 so as to face each other. An anisotropic conductive adhesive material 30 composed of a plurality of conductive particles 50 dispersed in 40 is interposed. Then, when thermally compressed at a predetermined temperature and pressure, as shown in FIG. 2, the circuit electrodes 11 and 21 to which the conductive particles 50 interposed between the circuit electrodes 11 and 21 are opposed are electrically connected. At the same time, insulation is ensured between adjacent circuits. In addition, as the insulating adhesive component 40 is completely cured, the upper plate 10 and the lower plate 20 are firmly adhered to each other.

이러한 이방 도전성 접착재료에는 고분자 분체 표면에 무전해 도금을 실시하여 니켈 박층을 형성한 다음, 니켈 박층의 표면에 치환도금을 통하여 금 도금층을 형성한 도전성 입자가 일반적으로 사용된다. 도전성 입자의 최외곽에 형성된 금 도금층은 우수한 전기 전도도를 나타내며, 니켈 박층의 산화를 방지한다. 또한, 금 특유의 연성으로 인하여 도전성 입자의 접속 신뢰성이 향상된다. In such an anisotropic conductive adhesive material, electroconductive plating is performed on the surface of the polymer powder to form a nickel thin layer, and then conductive particles in which a gold plating layer is formed on the surface of the nickel thin layer through substitution plating are generally used. The gold plating layer formed on the outermost side of the conductive particles exhibits excellent electrical conductivity and prevents oxidation of the thin nickel layer. Moreover, connection reliability of electroconductive particle improves because of ductility peculiar to gold.

그러나, 이와 같이 금 박층을 형성한 도전성 입자는 매우 가격이 높아 경제성이 떨어진다는 문제가 있다. 이방 도전성 접착재료의 원가 중 약 80% 이상을 도전성 입자가 차지하고 있으며, 도전성 입자의 원가 중 약 90% 이상이 도전성 입자의 최외곽부에 형성된 금 도금층의 재료비이다.However, the electroconductive particle which formed the gold foil layer in this way has a problem that it is very expensive and inferior in economic efficiency. About 80% or more of the cost of the anisotropically conductive adhesive material is occupied by electroconductive particle, and about 90% or more of the cost of electroconductive particle is a material cost of the gold plating layer formed in the outermost part of electroconductive particle.

따라서, 금(Au)으로 된 박층을 도입하지 않고도 우수한 접속 신뢰성과 산화 안정성 및 양호한 전기 전도도가 확보될 수 있는 도전성 입자가 절실히 요구되고 있다.Therefore, there is an urgent need for conductive particles that can secure excellent connection reliability, oxidation stability, and good electrical conductivity without introducing a thin layer of gold (Au).

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 전술한 문제점을 해결하여, 금을 사용하기 않아 매우 경제적이며, 금(Au)으로 된 박층을 도입하지 않고도 우수한 접속 신뢰성과 산화 안정성 및 양호한 전기 전도도를 확보할 수 있는 도전성 입자 및 이를 구비한 이방 도전성 접착재료를 제공하는데 있다. The technical problem to be solved by the present invention is to solve the above-mentioned problems, it is very economical not to use gold, it is possible to ensure excellent connection reliability, oxidation stability and good electrical conductivity without introducing a thin layer of gold (Au) It is to provide an electrically conductive particle and an anisotropic conductive adhesive material having the same.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 도전성 입자는 10% 변형 탄성률이 1,000kgf/mm2 이상이고, 회복률이 40 내지 80%인 고분자 분체; 상기 고분자 분체 표면에 형성되며, 금(Au)을 포함하지 않는 금속 박층; 및 상기 금속 박층 표면에 코팅되며, 가열 및 가압에 의해 대향하는 회로전극과 접촉된 부분이 제거되어 전기적인 접속이 가능하게 하는 산화방지막을 구비한다. 본 발명의 도전성 입자는 소정의 고탄성과 고회복률을 갖는 고분자 분체를 심재로 사용하고 최외곽부에 산화방지막을 도입하므로서, 금(Au)으로 된 박층을 도입하지 않고도 우수한 접속 신뢰성과 산화 안정성 및 양호한 전기 전도도를 확보할 수 있다. In order to achieve the above technical problem, the conductive particles according to the present invention has a 10% strain modulus of 1,000kgf / mm 2 Polymer powder having a recovery rate of 40 to 80% or more; A thin metal layer formed on the surface of the polymer powder and not containing gold (Au); And an anti-oxidation film coated on the surface of the thin metal layer, wherein a portion in contact with the opposing circuit electrode is removed by heating and pressurization to enable electrical connection. The electroconductive particle of this invention uses the polymeric powder which has a predetermined | prescribed high elasticity and a high recovery rate as a core material, and introduces an antioxidant film in the outermost part, and is excellent in connection reliability, oxidation stability, and favorable, without introducing the thin layer of gold (Au). Electrical conductivity can be secured.

본 발명의 도전성 입자에 있어서, 고분자 분체는 스티렌계 모노머, 아크릴계 모노머, 메타-디비닐벤젠, 파라-디비닐벤젠, 4,4'-디비닐비페닐렌, 1,5-디비닐나프 탈렌, 시크로헥산디메탄올디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 1,2-에탄디올디아크릴레이트, 1,3-프로판디올디아크릴레이트, 1,3-부탄디올디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,5-펜탄디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트,1,6-헥산디올디아크릴레이트, 비스페놀A디아크릴레이트,시크로헥산디메탄올디메타크릴레이트, 비스페놀A디메타크릴레이트, 메타크릴레이티드폴리부타디엔, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트,에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트 등으로 중합한 고분자를 사용하여 제조하는 것이 바람직하다. In the conductive particles of the present invention, the polymer powder is a styrene monomer, an acrylic monomer, meta-divinylbenzene, para-divinylbenzene, 4,4'-divinylbiphenylene, 1,5-divinylnaphthalene, Cyclohexanedimethanol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 1,2-ethanediol diacrylate, 1,3 Propanedioldiacrylate, 1,3-butanedioldiacrylate, 1,4-butanedioldiacrylate, 1,5-pentanedioldiacrylate, neopentylglycoldiacrylate, 1,6-hexanedioldiacrylate Late, bisphenol A diacrylate, cyclohexane dimethanol dimethacrylate, bisphenol A dimethacrylate, methacrylated polybutadiene, triethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1 It is preferable to manufacture using the polymer superposed | polymerized by the 4-, butanediol dimethacrylate, 1, 6- hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, urethane acrylate.

또한 본 발명의 도전성 입자에 있어서, 산화방지막은 소수성 오일, 인산 화합물, 아민 또는 니트릴기를 적어도 하나 이상 포함하는 분자량 10,000g/mol 이하의 유기 화합물 등으로 형성하는 것이 바람직하다. Moreover, in the electroconductive particle of this invention, it is preferable to form an antioxidant film with the organic compound etc. of 10,000 g / mol or less of molecular weight containing at least 1 or more of a hydrophobic oil, a phosphoric acid compound, an amine, or a nitrile group.

전술한 도전성 입자는 절연성 접착성분에 분산시켜 미세회로 등을 접속시키는 이방 도전성 접착재료로 사용될 수 있다.The above-mentioned conductive particles can be used as an anisotropic conductive adhesive material for dispersing in an insulating adhesive component to connect a fine circuit or the like.

이하, 본 발명에 대하여 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실 시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail. Prior to this, terms or words used in the specification and claims should not be construed as having a conventional or dictionary meaning, and the inventors should properly explain the concept of terms in order to best explain their own invention. Based on the principle that can be defined, it should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention. Therefore, the embodiments described in the specification and the configuration shown in the drawings are only the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all of the technical idea of the present invention, various modifications that can be replaced at the time of the present application It should be understood that there may be equivalents and variations.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 입자의 개략적인 단면도이다.3 is a schematic cross-sectional view of the conductive particles according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 도전성 입자(50)의 심재로는 10% 변형 탄성률이 1,000kgf/mm2 이상이고, 회복률이 40 내지 80%인 고분자 분체(53)가 사용된다. 10% 변형 탄성률(K10)과 회복률은 각각 하기 수학식 1 및 2로 정의된다. Referring to Figure 3, the core material of the conductive particles 50 of the present invention 10% strain modulus of 1,000kgf / mm 2 Above, the polymer powder 53 whose recovery rate is 40 to 80% is used. The 10% strain modulus (K 10 ) and the recovery rate are defined by Equations 1 and 2, respectively.

Figure 112007007395274-PAT00001
Figure 112007007395274-PAT00001

상기 수학식 1에서, F는 10% 변형시 걸리는 하중이고, R은 분체의 반경이고, S는 10% 변위를 나타낸다. 10% 변형 탄성률은 0.263 gf/sec의 속도로 하중을 주면서 측정한다.In Equation 1, F is a load applied at 10% deformation, R is a radius of the powder, and S represents a 10% displacement. 10% strain modulus is 0.263 Measure while applying load at the speed of gf / sec.

Figure 112007007395274-PAT00002
Figure 112007007395274-PAT00002

상기 수학식 2의 L1과 L2는 다음과 같이 정의된다. 즉, 0.0268gf/sec 속도로 하중을 증가시켜 최대시험력 1gf까지 변형시킨 후, 다시 같은 속도로 하중을 최소시험력 0.1까지 제거하였을 때, 하중 증가시 최소시험력에서 최대시험력까지의 변위가 L1이고, 하중 감소시 최대시험력에서 최소시험력까지의 회복변위가 L2이다(도 4 참조). L 1 and L 2 in Equation 2 are defined as follows. In other words, when the load is increased to a maximum test force of 1 gf by increasing the load at a rate of 0.0268 gf / sec, and then the load is removed to a minimum test force of 0.1 at the same speed, the displacement from the minimum test force to the maximum test force is increased when the load is increased. L 1, and the recovery displacement from the maximum test force to the minimum test force when the load is reduced is L 2 (see FIG. 4).

전술한 바와 같이, 도전성 입자의 최외곽에 형성된 금 도금층은 금 특유의 연성으로 인하여 도전성 입자의 접속 신뢰성이 향상된다. 따라서, 금 도금층을 형성하지 않을 경우 접속 신뢰성을 확보하기 위하여, 본 발명의 도전성 입자의 심재로서 사용되는 고분자 분체는 10% 변형 탄성률이 1,000kgf/mm2 이상이고, 회복률이 40 내지 80%를 갖도록 형성한다. 1,000kgf/mm2 이상인 높은 변형 탄성률은 도전성 입자를 포함하는 이방 도전성 접착재료를 이용하여 대향되는 회로전극을 접속시 도전성 입자가의 전극에 대한 박힘성을 향상시켜 접속 신뢰성을 높인다. 반면, 회복률이 40% 미만이거나 80%를 초과하면 오히려 접속 신뢰성이 불량하게 된다. 즉, 도전성 입자의 압착에 의해 서로 접속된 전극은 압착 하중의 제거에 따라 전극 사이가 벌어지게 되는데, 회복률이 40% 미만이면 벌어진 전극 사이의 간격을 좁혀주지 못하여 접속 신뢰성에 문제가 발생한다. 또한, 회복률이 80%를 초과하면, 압착 하중이 제거됨에 따라 도전성 입자의 높은 회복률에 의해 도전성 입자와 전극과의 접촉면이 줄어들게 되어 접속불량이 일어날 수 있다.As mentioned above, the gold plating layer formed in the outermost part of electroconductive particle improves the connection reliability of electroconductive particle by ductility peculiar to gold. Therefore, in order to secure connection reliability when the gold plating layer is not formed, the polymer powder used as the core material of the conductive particles of the present invention has a 10% strain modulus of 1,000 kgf / mm 2. The recovery rate is 40 to 80%. 1,000kgf / mm 2 The above-mentioned high strain modulus improves the peelability to the electrode of the conductive particle value at the time of connecting the opposing circuit electrode using the anisotropic conductive adhesive material containing electroconductive particle, and raises connection reliability. On the other hand, if the recovery rate is less than 40% or more than 80%, the connection reliability is rather poor. That is, although the electrodes connected to each other by the crimping of electroconductive particle generate | occur | produce between electrodes by removal of a crimping load, when the recovery rate is less than 40%, the space | interval between spreading electrodes cannot be narrowed and a problem arises in connection reliability. In addition, when the recovery rate exceeds 80%, the contact surface between the conductive particles and the electrode may be reduced due to the high recovery rate of the conductive particles as the compressive load is removed, resulting in poor connection.

전술한 범위의 10% 변형 탄성률과 회복률을 갖는 고분자 분체는 스티렌계 모노머, 아크릴계 모노머, 메타-디비닐벤젠, 파라-디비닐벤젠, 4,4'-디비닐비페닐렌, 1,5-디비닐나프탈렌, 시크로헥산디메탄올디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 1,2-에탄디올디아크릴레이트, 1,3-프로판디올디아크릴레이트, 1,3-부탄디올디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,5-펜탄디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트,1,6-헥산디올디아크릴레이트, 비스페놀A디아크릴레이트,시크로헥산디메탄올디메타크릴레이트, 비스페놀A디메타크릴레이트, 메타크릴레이티드폴리부타디엔, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트,에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트 등으로 중합한 다양한 고분자를 사용하여 제조할 수 있으며, 고분자 분체의 평균 입경은 이방 도전성 접착재료 등의 도전성 입자로 사용될 수 있는 범위로서, 예를 들어 1 내지 1,000㎛이다.The polymer powder having 10% strain modulus and recovery rate in the above-mentioned range is styrene monomer, acrylic monomer, meta-divinylbenzene, para-divinylbenzene, 4,4'-divinylbiphenylene, 1,5-di Vinyl naphthalene, cyclohexanedimethanol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 1,2-ethanediol diacrylate, 1,3-propanedioldiacrylate, 1,3-butanedioldiacrylate, 1,4-butanedioldiacrylate, 1,5-pentanedioldiacrylate, neopentylglycoldiacrylate, 1,6-hexane Diol diacrylate, bisphenol A diacrylate, cyclohexane dimethanol dimethacrylate, bisphenol A dimethacrylate, methacrylated polybutadiene, triethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimeth It can be prepared using various polymers polymerized with acrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, urethane acrylate, and the like. The average particle diameter of powder is a range which can be used for electroconductive particle, such as an anisotropically conductive adhesive material, for example, 1-1,000 micrometers.

이러한 고분자 분체(53) 표면에는 금(Au)을 포함하지 않는 금속 박층(54)이 형성된다. 금속 박층(54)은 이방 도전성 접착재료 등의 도전성 입자에 피복되는 금속으로서, 가격이 매우 비싼 금(Au)을 제외한 통상적인 금속, 예를 들어 니켈, 구리, 은, 주석, 코발트 등으로 형성할 수 있다. 이러한 금속 박층(54)은 도 3에 도시된 바와 같이 니켈 도금층, 구리 도금층 등과 같이 1층의 금속 박층(54)으로 형성하거나, 또는 니켈 도금층/구리 도금층과 같이 2층의 금속 박층 또는 그 이상의 복층으로 형성할 수도 있다. 이러한 금속 박층(54)의 두께는 예를 들어 60 내지 3,000nm으로 형성할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. On the surface of the polymer powder 53, a thin metal layer 54 containing no gold (Au) is formed. The thin metal layer 54 is a metal coated on conductive particles such as an anisotropic conductive adhesive material, and may be formed of a common metal except gold (Au), which is very expensive, for example, nickel, copper, silver, tin, cobalt, and the like. Can be. The thin metal layer 54 is formed of a single metal thin layer 54, such as a nickel plating layer, a copper plating layer, or the like, as shown in FIG. 3, or two or more metal thin layers or more layers, such as a nickel plating layer / copper plating layer. It can also be formed. The thickness of the metal thin layer 54 may be, for example, 60 to 3,000 nm, but is not limited thereto.

고분자 분체(53) 표면에 무전해 도금법을 이용하여 니켈 박층(54)을 형성하는 방법을 구체적으로 예시하면 다음과 같으며, 구리 박층을 형성하는 방법 역시 유사하다.Specific examples of the method of forming the nickel thin layer 54 using the electroless plating method on the surface of the polymer powder 53 are as follows, and the method of forming the copper thin layer is similar.

먼저, 고분자 분체들을 탈지제로 처리하여 표면을 깨끗이 한 후 SnCl2, HCl, 물의 혼합용액에 침지시킨 다음 세척하여 민감화한다. 이어서, PdCl2, HCl, 물의 혼합용액에 침지시킨 후 세척하여 활성화한다. 활성화된 입자를 니켈도금액[NiSO4, KH2PO2, citric acid, 도금 안정제, 물]을 사용하여 적하법으로 50 oC 정도의 온도에서 도금한다.First, the polymer powders are treated with a degreasing agent to clean the surface, and then immersed in a mixed solution of SnCl 2 , HCl, and water, followed by washing to be sensitized. Subsequently, it is immersed in a mixed solution of PdCl 2 , HCl and water, and then washed and activated. The activated particles are plated at a temperature of about 50 o C by dropping method using a nickel plating solution [NiSO 4 , KH 2 PO 2 , citric acid, plating stabilizer, water].

본 발명의 도전성 입자(50)에 있어서, 금속 박층(54) 표면에는 가열 및 가압에 의해 대향하는 회로전극과 접촉된 부분이 제거되어 전기적인 접속이 가능하게 하는 산화방지막(52)이 코팅된다.In the electroconductive particle 50 of this invention, the surface of the metal thin layer 54 is coated with the antioxidant film 52 which removes the part which contacted the opposing circuit electrode by heating and pressurization, and enables electrical connection.

전술한 바와 같이, 금을 포함하지 않는 금속 박층 표면에 금 도금층을 형성하지 않을 경우, 금속 박층은 산화 반응에 의하여 저항이 증가되는 현상이 발생할 수 있다. 본 발명의 도전성 입자(50)는 금속 박층(54) 표면에 산화방지막(52)을 코팅하여 이러한 문제점을 해결하였다. 금속 박층(54) 표면에 형성된 산화방지막(52)은 이방 도전성 접착재료에 분산되어 가열 및 가압에 의해 대향하는 회로전극을 접속시, 열접착 과정에서 회로전극과 접촉된 부분이 제거되므로, 도전성 입자(50)의 전기적인 접속이 가능하게 된다.As described above, when the gold plating layer is not formed on the surface of the metal thin layer not containing gold, a phenomenon in which the resistance of the metal thin layer is increased by an oxidation reaction may occur. The conductive particles 50 of the present invention solved this problem by coating the anti-oxidation film 52 on the metal thin layer 54 surface. The anti-oxidation film 52 formed on the surface of the thin metal layer 54 is dispersed in an anisotropic conductive adhesive material, and when the circuit electrodes facing each other by heating and pressing are removed, the portions contacted with the circuit electrodes in the thermal bonding process are removed. Electrical connection of 50 is made possible.

산화방지막(52)은 소수성 오일, 인산 화합물, 아민 또는 니트릴기를 적어도 하나 이상 포함하는 분자량 10,000g/mol 이하의 유기 화합물로 형성할 수 있다.The antioxidant film 52 may be formed of an organic compound having a molecular weight of 10,000 g / mol or less including at least one hydrophobic oil, a phosphoric acid compound, an amine or a nitrile group.

소수성 오일로는 미네랄 오일, 실리콘 오일 등을 단독으로 또는 이들을 혼합하여 사용할 수 있고, 인산 화합물로는 인산(H3PO4), 인산아연(Zn3(PO4)2), 질산아연(Zn(NO3)2) 등을 각각 단독으로 또는 이들을 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 아민 또는 니트릴기를 적어도 하나 이상 포함하는 분자량 10,000g/mol 이하의 유기 화합물로는 도데실아민, 도데실디아민, 펜틸아민, 옥틸아민 등을 등을 각각 단독으로 또는 이들을 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As hydrophobic oils, mineral oils, silicone oils, and the like may be used alone or in combination thereof. Phosphoric acid compounds include phosphoric acid (H 3 PO 4 ), zinc phosphate (Zn 3 (PO 4 ) 2 ), and zinc nitrate (Zn ( NO 3 ) 2 ) and the like can be used alone or in combination of two or more thereof. As the organic compound having a molecular weight of 10,000 g / mol or less including at least one amine or nitrile group, dodecylamine, dodecyldiamine, pentylamine, octylamine, etc. may be used alone or in combination of two or more thereof. Can be.

소수성 오일을 이용하여 산화방지막을 형성하는 경우, 금속 박층이 형성된 고분자 분체를 소수성 오일에 침적한 후 약 10분 정도 교반하여 표면에 산화방지피막을 형성시킨 다음, 분리하여 제조한다.When the antioxidant film is formed using the hydrophobic oil, the polymer powder having the metal thin layer is deposited on the hydrophobic oil and stirred for about 10 minutes to form an antioxidant film on the surface, and then prepared by separating.

인산화합물이나 아민 또는 니트릴기를 적어도 하나 이상 포함하는 분자량 10,000g/mol 이하의 유기 화합물을 이용하여 산화방지막을 형성하는 경우, 이들을 0.5~5중량% 정도 용매에 녹인 후 금속 박층이 형성된 고분자 분체를 침적하여 그 표면에 산화방지피막을 형성시킨 다음, 분리 후 용매를 증발시켜 건조하여 제조한다.When forming an anti-oxidation film using an organic compound having a molecular weight of 10,000 g / mol or less containing at least one phosphoric acid compound or an amine or nitrile group, it is dissolved in about 0.5 to 5% by weight of a solvent and the polymer powder having a thin metal layer is deposited. After forming an anti-oxidation film on the surface, the solvent is evaporated after separation to dry it.

전술한 본 발명의 도전성 입자는 경화 가능한 에폭시 수지와 같은 통상적인 절연성 접착성분에 분산시켜 미세회로 등을 접속시키는 이방 도전성 접착재료로 사용될 수 있다. 이방 도전성 접착재료에는 본 발명의 도전성 입자뿐만 아니라, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 한도 내에서 통상적으로 사용되는 도전성 입자를 병용할 수 있다. 이방 도전성 접착재료 내의 도전성 미립자의 함유량은 통상적으로 약 3~30중량%, 바람직하게는 5~10중량%이나, 이에 한정되지 않는다.The conductive particles of the present invention described above can be used as an anisotropic conductive adhesive material for dispersing in a conventional insulating adhesive component such as a curable epoxy resin to connect a microcircuit or the like. Not only the electroconductive particle of this invention, but the electroconductive particle normally used within the limit which does not impair the objective of this invention can be used for an anisotropic electroconductive adhesive material together. The content of the conductive fine particles in the anisotropic conductive adhesive material is usually about 3 to 30% by weight, preferably 5 to 10% by weight, but is not limited thereto.

이하, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예 들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 의해 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be described in order to describe the present invention in more detail. However, embodiments according to the present invention can be modified in many different forms, the scope of the present invention should not be construed as limited by the embodiments described below. The embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.

<실시예 1><Example 1>

입경 4㎛, 탄성률 1500kgf/mm2, 회복률이 50%인 헥산디올다이아크릴레이트(hexandiol-diacrylate)를 이용하여 중합한 고분자 분체를 사용하여 Ni 도금을 실시하였다. Ni plating was performed using polymer powder polymerized using hexanediol-diacrylate having a particle diameter of 4 µm, an elastic modulus of 1500 kgf / mm 2 , and a recovery rate of 50%.

먼저 탈지제로 처리하여 표면을 깨끗이 한 후, SnCl2 10g, HCl 40ml, 물 1000ml 혼합용액에 5분 동안 침지한 다음, 세척하여 민감화하였다.First, the surface was cleaned with a degreasing agent, and then immersed in a mixed solution of 10 g of SnCl 2 , 40 ml of HCl, and 1000 ml of water for 5 minutes, and then sensitized by washing.

이어서, PdCl2 2g, HCl 20ml, 물 1000ml 혼합용액에 5분 동안 침지한 후 세척하여 활성화한 다음, 니켈도금액[NiSO4 10g, KH2PO2 20g, citric acid 20g, 도금안정제 5mg, 물 1000ml]을 사용하여 도금액 주입속도를 5ml/min로 조절된 적하법으로 50oC 온도에서 도금하였다. Subsequently, it was immersed in 2 g of PdCl 2 , 20 ml of HCl, and 1000 ml of water for 5 minutes, and then washed and activated. Then, nickel plating solution [NiSO 4 10g, KH 2 PO 2 20g, citric acid 20g, plating stabilizer 5mg, water 1000ml ] Was plated at a temperature of 50 ° C. by a dropping method in which the plating solution injection rate was adjusted to 5 ml / min.

도금 후의 도전 미립자의 평균 입경은 4.3㎛였다. 이렇게 제조된 도전 미립자에 도데실디아민(dodecyldiamine)을 2중량% 녹인 수용액에 도전 미립자를 침적하여 그 표면에 산화방지막을 형성시킨 다음, 용매를 증발시켜 도데실디아민(dodecyldiamine) 피막이 형성된 도전성 입자를 제조하였다.The average particle diameter of the conductive fine particles after plating was 4.3 µm. Thus, the conductive fine particles were deposited in an aqueous solution of 2% by weight of dodecyldiamine in the conductive fine particles prepared to form an antioxidant film on the surface thereof, and then the solvent was evaporated to prepare conductive particles having a dodecyldiamine film formed thereon. It was.

이렇게 제조한 도전성 입자들의 산화안정성 시험을 위해, 80oC 온도에서 SO3 가스를 1일 동안 노출시킨 다음, 7중량%의 도전성 입자, 50중량%의 에폭시 수지, 3중량%의 경화제 및 40중량%의 고무 입자를 첨가하여 이방 도전성 필름을 제조하였다. For the oxidation stability test of the conductive particles thus prepared, after exposure of SO 3 gas at a temperature of 80 ° C. for 1 day, 7 wt% conductive particles, 50 wt% epoxy resin, 3 wt% curing agent and 40 wt% Rubber particles of% were added to prepare an anisotropic conductive film.

<실시예 2><Example 2>

산화방지막 형성 재료로서 도데실디아민(dodecyldiamine) 대신 미네랄 오일을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정으로 이방 도전성 필름을 제조하였다. 미네랄 오일로 산화방지막 형성시, 금속 박층이 형성된 도전 미립자를 미네랄 오일에 침적하여 약 10분 정도 교반하여 그 표면에 산화방지피막을 형성시킨 다음, 분리하여 제조하였다.An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1 except that mineral oil was used instead of dodecyldiamine as an antioxidant film forming material. When forming an antioxidant film with mineral oil, conductive fine particles having a thin metal layer were deposited on the mineral oil, stirred for about 10 minutes to form an antioxidant film on the surface thereof, and then prepared by separating.

<실시예 3><Example 3>

Ni 무전해 도금 후 산화방지피막 형성전에 Cu 무전해 도금을 더 실시한 것을 제외하고는 실시예 1과 같은 방법으로 이방성 도전 필름을 제조하였다. Cu 무전해 도금방법은 다음과 같다.Anisotropic conductive films were prepared in the same manner as in Example 1, except that Cu electroless plating was further performed after Ni electroless plating and before the formation of the anti-oxidation coating. Cu electroless plating method is as follows.

먼저, Ni 도금된 미립자를 다시 SnCl2 10g, HCl 40ml, 물 1000ml의 혼합용액 에 5분 동안 침지한 후 세척하여 민감화하였다. 이어서, PdCl2 2g, HCl 20ml, 물 1000ml의 혼합용액에 이들을 5분 동안 침지한 후 세척하여 활성화한 다음, 구리도금액 [CuSO4 10g, citric acid 20g, 도금안정제 5mg, 물 1000ml]을 사용하여 도금액 주입속도를 5ml/min로 조절된 적하법으로 40oC 온도에서 도금하였다. 구리 도금 후 도전 미립자의 직경은 약 4.4㎛였다.First, Ni-plated fine particles were immersed in a mixed solution of 10 g of SnCl 2 , 40 ml of HCl, and 1000 ml of water for 5 minutes, followed by washing for sensitization. Subsequently, they were immersed in a mixed solution of 2 g of PdCl 2 , 20 ml of HCl, and 1000 ml of water for 5 minutes, and then washed and activated. Then, using a copper plating solution [CuSO 4 10g, citric acid 20g, plating stabilizer 5mg, water 1000ml] The plating solution injection rate was plated at a temperature of 40 ° C by the dropping method adjusted to 5ml / min. The diameter of the conductive fine particles after copper plating was about 4.4 mu m.

<비교예 1>Comparative Example 1

도전성 입자의 표면에 산화방지막을 형성하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the antioxidant film was not formed on the surface of the conductive particles.

<비교예 2>Comparative Example 2

고분자 분체로서 입경 4㎛, 탄성률 300kgf/mm2, 회복률이 10%인 디비닐벤젠(Divinylbenzene)을 사용하고, 도전성 입자의 표면에 산화방지막을 형성하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 같은 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.Divinylbenzene having a particle diameter of 4 μm, an elastic modulus of 300 kgf / mm 2 , and a recovery rate of 10% was used as the polymer powder, and the same method as in Example 1 was performed except that no antioxidant film was formed on the surface of the conductive particles. An anisotropic conductive film was produced.

<비교예 3>Comparative Example 3

고분자 분체로서 입경 4㎛, 탄성률 300kgf/mm2, 회복률이 10%인 디비닐벤젠(Divinylbenzene)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 같은 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.Anisotropic conductive films were prepared in the same manner as in Example 1, except that divinylbenzene having a particle diameter of 4 μm, an elastic modulus of 300 kgf / mm 2 , and a recovery rate of 10% was used as the polymer powder.

제조한 실시예 및 비교예의 이방 도전성 필름을 실장시험하여 접속저항과 절연저항을 측정하였고, 그 결과를 다음 표 1에 나타냈다.The connection test and the insulation resistance were measured by mounting test of the anisotropic conductive films of the manufactured example and the comparative example, and the result is shown in following Table 1.

접속 저항(I)Connection resistance (I) 접속 저항(II)Connection resistance (II) 실시예 1Example 1 OO OO 실시예 2Example 2 OO OO 실시예 3Example 3 OO OO 비교예 1Comparative Example 1 ×× ×× 비교예 2Comparative Example 2 ×× ×× 비교예 3Comparative Example 3 ×× ××

상기 표 1에서, 접속 저항(I)은 실장 후 즉시 측정한 저항을 의미하고, 접속 저항(II)는 실장 후 30일 경과 후에 측정한 저항을 의미하고, O는 저항이 2W 이하인 경우, ×는 저항이 10W이상인 경우를 나타낸다.In Table 1, connection resistance (I) refers to the resistance measured immediately after mounting, connection resistance (II) refers to the resistance measured 30 days after mounting, O is the resistance is less than 2W, × It shows the case where resistance is 10W or more.

표 1의 결과를 참조하면, 본 발명에 따라 높은 10% 변형 탄성률과 소정 범위의 회복률을 갖는 고분자 분체를 심재로서 사용하고, 최외곽부에 산화방지막이 코팅된 도전성 입자는 금(Au)으로 도금층을 형성하지 않아도 우수한 접속 신뢰성과 산화 안정성 및 양호한 전기 전도도를 확보할 수 있음을 의미한다.Referring to the results of Table 1, according to the present invention, a polymer powder having a high 10% strain modulus and a recovery range of a predetermined range is used as a core material, and the conductive particles coated with an antioxidant film on the outermost portion are gold (Au) plating layers. This means that excellent connection reliability, oxidation stability, and good electrical conductivity can be secured without forming a film.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 도전성 입자는 소정의 고탄성과 고회복률을 갖는 고분자 분체를 심재로 사용하고 최외곽부에 산화방지막을 도입하므로서, 도전성 입자의 원가 중 약 90% 이상을 차지하는 금(Au)으로 된 박층을 도입하지 않고도 우수한 접속 신뢰성과 산화 안정성 및 양호한 전기 전도도를 확보할 수 있다. As described above, the conductive particles of the present invention use the polymer powder having a predetermined high elasticity and a high recovery rate as a core material and introduce an anti-oxidation film at the outermost portion, thereby making up about 90% or more of the cost of the conductive particles. Excellent connection reliability, oxidation stability and good electrical conductivity can be ensured without introducing a thin layer of Au).

Claims (11)

10% 변형 탄성률이 1,000kgf/mm2 이상이고, 회복률이 40 내지 80%인 고분자 분체;10% strain modulus 1,000kgf / mm 2 Polymer powder having a recovery rate of 40 to 80% or more; 상기 고분자 분체 표면에 형성되며, 금(Au)을 포함하지 않는 금속 박층; 및A thin metal layer formed on the surface of the polymer powder and not containing gold (Au); And 상기 금속 박층 표면에 코팅되며, 가열 및 가압에 의해 대향하는 회로전극과 접촉된 부분이 제거되어 전기적인 접속이 가능하게 하는 산화방지막을 구비하는 도전성 입자. Electroconductive particle is coated on the surface of the thin metal layer, and provided with an anti-oxidation film to remove the portion in contact with the opposite circuit electrode by heating and pressing to enable electrical connection. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 고분자 분체의 평균 입경은 1 내지 1,000㎛인 것을 특징으로 하는 도전성 입자.Conductive particles, characterized in that the average particle size of the polymer powder is 1 to 1,000㎛. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 고분자 분체는 스티렌계 모노머, 아크릴계 모노머, 메타-디비닐벤젠, 파라-디비닐벤젠, 4,4'-디비닐비페닐렌, 1,5-디비닐나프탈렌, 시크로헥산디메탄올디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 1,2-에탄디올디아크릴레이트, 1,3-프로판디올디아크릴레이트, 1,3-부탄디올디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,5-펜탄디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트,1,6-헥산디올디아크릴레이트, 비스페놀A디아크릴레이트,시크로헥산디메탄올디메타크릴레이트, 비스페놀A디메타크릴레이트, 메타크릴레이티드폴리부타디엔, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트,에틸렌글리콜디메타크릴레이트,1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트 및 우레탄아크릴레이트으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나를 중합한 고분자 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물로 제조된 것을 특징으로 하는 도전성 입자.The polymer powder is a styrene monomer, an acrylic monomer, meta-divinylbenzene, para-divinylbenzene, 4,4'-divinylbiphenylene, 1,5-divinyl naphthalene, cyclohexane dimethanol diacrylate , Diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 1,2-ethanediol diacrylate, 1,3-propanediol diacrylate, 1 , 3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,5-pentanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, bisphenol A diacrylate, Cyclohexanedimethanol dimethacrylate, bisphenol A dimethacrylate, methacrylated polybutadiene, triethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate , 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate and urethane acrylate polymerized by polymerizing any one selected from the group consisting of conductive particles, characterized in that made of a mixture of two or more thereof . 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 금속 박층은 니켈, 구리, 은, 주석 및 코발트로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 도전성 입자.The metal thin layer is conductive particles, characterized in that made of any one metal selected from the group consisting of nickel, copper, silver, tin and cobalt. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 금속 박층은 니켈 도금층, 구리 도금층 및 니켈 도금층/구리 도금층으로 이루어진 군으로부터 선택된 금속 박층인 것을 특징으로 하는 도전성 입자.The metal thin layer is conductive particles, characterized in that the metal thin layer selected from the group consisting of a nickel plating layer, a copper plating layer and a nickel plating layer / copper plating layer. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 금속 박층의 두께는 60 내지 3,000nm인 것을 특징으로 하는 도전성 입자.The thickness of the said metal thin layer is 60-3,000 nm, Electroconductive particle characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 산화방지막은 소수성 오일, 인산 화합물 및 아민 또는 니트릴기를 적어도 하나 이상 포함하는 분자량 10,000g/mol 이하의 유기 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 도전성 입자.The anti-oxidation film is conductive particles, characterized in that formed with any one selected from the group consisting of hydrophobic oils, phosphoric acid compounds and organic compounds having a molecular weight of 10,000 g / mol or less containing at least one or more amine or nitrile groups. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 소수성 오일은 미네랄 오일, 실리콘 오일 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 도전성 입자.The hydrophobic oil is conductive particles, characterized in that any one selected from the group consisting of mineral oil, silicone oil and mixtures thereof. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 인산 화합물은 인산(H3PO4), 인산아연(Zn3(PO4)2) 및 질산아연(Zn(NO3)2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 도전성 입자.The phosphoric acid compound may be any one selected from the group consisting of phosphoric acid (H 3 PO 4 ), zinc phosphate (Zn 3 (PO 4 ) 2 ) and zinc nitrate (Zn (NO 3 ) 2 ) or a mixture of two or more thereof. Electroconductive particle characterized by the above-mentioned. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 아민 또는 니트릴기를 적어도 하나 이상 포함하는 분자량 10,000g/mol 이하의 유기 화합물은 도데실아민, 도데실디아민, 펜틸아민, 옥틸아민으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 도전성 입자.An organic compound having a molecular weight of 10,000 g / mol or less including at least one or more amine or nitrile groups is any one selected from the group consisting of dodecylamine, dodecyldiamine, pentylamine, and octylamine, or a mixture of two or more thereof. Electroconductive particle made into. 절연성 접착성분 및 상기 절연성 접착성분에 분산된 다수의 도전성 입자를 함유하는 이방 도전성 접착재료에 있어서,In the anisotropic conductive adhesive material containing an insulating adhesive component and a plurality of conductive particles dispersed in the insulating adhesive component, 상기 도전성 입자가 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 도전성 입자인 것을 특징으로 하는 이방 도전성 접착재료. The said electroconductive particle is the electroconductive particle of any one of Claims 1-10, The anisotropic conductive adhesive material characterized by the above-mentioned.
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