KR20080068036A - 자기 참조 헤테로다인 반사계 및 그 실행방법 - Google Patents
자기 참조 헤테로다인 반사계 및 그 실행방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20080068036A KR20080068036A KR1020087010253A KR20087010253A KR20080068036A KR 20080068036 A KR20080068036 A KR 20080068036A KR 1020087010253 A KR1020087010253 A KR 1020087010253A KR 20087010253 A KR20087010253 A KR 20087010253A KR 20080068036 A KR20080068036 A KR 20080068036A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- heterodyne
- self
- phase shift
- phase
- film
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0675—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating using interferometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
Claims (22)
- 두께 파라메터를 측정하는 방법으로서,헤테로다인 위상 쉬프트를 측정하는 단계,분리된 주파수의 듀얼 편광 빔을 수신하는 단계;상기 분리된 주파수의 듀얼 편광 빔으로부터 참조 신호를 검출하는 단계;상기 분리된 주파수의 듀얼 편광 빔을 타겟으로 전파하는 단계;상기 타겟으로부터 반사된, 분리된 주파수의 듀얼 편광 빔을 수신하는 단계;상기 반사된, 분리된 주파수의 듀얼 편광 빔으로부터 측정 신호를 검출하는 단계; 및상기 반사된, 분리된 주파수의 듀얼 편광 빔에 대한 상기 참조 신호와 상기 측정 신호 간의 위상 차이를 측정하는 단계;자기-참조 위상 쉬프트를 측정하는 단계,분리된 주파수의 p-편광 빔을 수신하는 단계;상기 분리된 주파수의 p-편광 빔으로부터 참조 신호를 검출하는 단계;상기 분리된 주파수의 p-편광 빔을 타겟으로 전파하는 단계;상기 타겟으로부터 반사된, 분리된 주파수의 p-편광 빔을 수신하는 단계;상기 반사된, 분리된 주파수의 p-편광 빔으로부터 제 2 측정 신호를 검출하는 단계; 및상기 분리된 주파수의 p-편광 빔에 대한 상기 참조 신호와 상기 측정 신호 간의 자기-참조 위상 차이를 측정하는 단계; 및상기 자기-참조 위상 차이에 의해 상기 타겟에 대한 위상 차이를 교정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 두께 파라메터를 측정하는 방법으로서,헤테로다인 반사율 측정 모드에서 동작하는 단계,반사율 측정 빔을 발생하는 단계;상기 반사율 측정 빔을 소정의 입사각으로 타겟 물질에 입사하도록 전파하는 단계;상기 타겟으로부터 상기 반사율 측정 빔에 대한 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상을 측정하는 단계;상기 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상으로부터 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상 쉬프트를 획득하는 단계, 여기서, 상기 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상 쉬프트는 상기 타겟 물질과 상호작용하는 상기 반사율 측정 빔에 의해 유도되며;자기-참조 모드에서 동작하는 단계,자기-참조 빔을 발생하는 단계;상기 자기-참조 빔을 상기 소정의 입사각으로 상기 타겟 물질에 입사하도록 전파하는 단계;상기 타겟 물질로부터 상기 자기-참조 빔에 대한 자기-참조 빔 헤테로다 인 위상을 측정하는 단계; 및상기 자기-참조 빔 헤테로다인 위상으로부터 자기-참조 빔 헤테로다인 위상 쉬프트를 획득하는 단계를 포함하며 여기서 상기 자기-참조 빔 헤테로다인 위상 쉬프트는 상기 타겟 물질과 상호작용하는 상기 자기-참조 빔에 의해 유도되며; 및상기 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상 쉬프트와 상기 자기-참조 빔 헤테로다인 위상 쉬프트로부터 두께 파라메터를 획득하는 단계를 포함하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 제 2 항에 있어서, 헤테로다인 반사율 측정 모드에서 동작하는 단계는,상기 반사율 측정 빔에 대한 반사율 측정 빔 참조 위상을 측정하는 단계를 더 포함하며 여기서, 상기 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상으로부터 상기 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상 쉬프트를 발견하는 단계는 상기 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상과 상기 반사율 측정 빔 위상 참조 간의 위상 쉬프트를 획득하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 제 3 항에 있어서, 자기-참조 모드에서 동작하는 단계는,상기 자기-참조 빔에 대한 자기-참조 빔 참조 위상을 측정하는 단계를 더 포함하며 상기 자기-참조 빔 헤테로다인 위상으로부터 상기 자기-참조 빔 헤테로다인 위상 쉬프트를 획득하는 단계는 상기 자기-참조 빔 헤테로다인 위상과 상기 자기-참조 빔 참조 위상 간의 위상 쉬프트 위상을 획득하는 단계를 더 포함하는 것을 특 징으로 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 소정의 입사각은 상기 타겟 물질에 대한 브루스터 각도에 기초하는 것을 특징으로 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 제 5 항에 있어서, 반사율 측정 빔을 발생하는 단계는 분리된 주파수의 듀얼 편광 빔을 발생하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 제 6 항에 있어서, 자기-참조 빔을 발생하는 단계는 분리된 주파수의 편광 빔을 발생하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 제 6 항에 있어서, 상기 분리된 주파수의 편광 빔은,제 1 주파수의 s-편광 빔 성분; 및제 2 주파수의 p-편광 빔 성분을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 분리된 주파수의 듀얼 편광 빔은,상기 제 1 주파수에서 p-편광 빔 성분; 및상기 제 2 주파수에서 p-편광 빔 성분을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 제 9 항에 있어서, 상기 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상 쉬프트와 상기 자기-참조 빔 헤테로다인 위상 쉬프트로부터 두께 파라메터를 획득하는 단계는,상기 제 1 주파수와 제 2 주파수 중 하나, 상기 타겟 물질에 의해 유도된 굴절률 그리고 상기 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상 쉬프트와 상기 자기-참조 빔 헤테로다인 위상 쉬프트로부터 상기 타겟 물질의 두께를 획득하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 제 10 항에 있어서, 자기-참조 빔을 발생하는 단계는,상기 제 1 주파수의 s-편광 빔을 상기 제 1 주파수의 p-편광 빔으로 위상 쉬프트하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 제 11 항에 있어서,헤테로다인 반사율 측정 모드와 자기-참조 모드 간을 반복하는 단계; 및각 반복에서 상기 타겟 물질의 두께를 획득하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
- 자기-참조 헤테로다인 반사계로서,헤테로다인 반사율 측정 빔 소스;상기 헤테로다인 반사율 측정 빔을 수신하고 이 헤테로다인 반사율 측정 빔을 자기-참조 빔으로 변환하는 동작 모드 스위치;상기 헤테로다인 반사율 측정 빔을 수신하고 참조 헤테로다인 반사율 측정 위상 신호를 발생함과 아울러 상기 자기-참조 빔을 수신하고 참조 자기-참조 위상 신호를 발생하는 참조 검출기;타겟 물질;상기 헤테로다인 반사율 측정 빔과 상기 자기-참조 빔을 소정의 입사각으로 상기 타겟 물질에 입사하도록 전파하는 제 1 광 요소들;상기 타겟 물질로부터 상기 헤테로다인 반사율 측정 빔을 수신하고 측정 헤테로다인 반사율 측정 위상 신호를 발생함과 아울러 상기 타겟 물질로부터 상기 자기-참조 빔을 수신하고 측정 자기-참조 위상 신호를 발생하는 측정 검출기;상기 참조 헤테로다인 반사율 측정 위상 신호와 상기 측정 헤테로다인 반사율 측정 위상 신호 간의 헤테로다인 위상 쉬프트를 검출하는 헤테로다인 위상 쉬프트 검출기; 및상기 참조 자기-참조 위상 신호와 상기 측정 자기-참조 위상 신호 간의 참조 위상 쉬프트를 검출하는 자기-참조 위상 쉬프트 검출기를 포함하는 자기-참조 헤테로다인 반사계.
- 제 13 항에 있어서,상기 측정 위상 쉬프트와 상기 참조 위상 쉬프트를 수신하고 상기 타겟에 의해 유도된 위상 쉬프트를 계산하는 위상 쉬프트 계산기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자기-참조 헤테로다인 반사계.
- 제 13 항에 있어서, 상기 헤테로다인 반사율 측정 빔 소스는 상기 제 1 주파수의 s-편광 빔 성분과 상기 제 2 주파수의 p-편광 빔 성분을 발생하는 것을 특징으로 하는 자기-참조 헤테로다인 반사계.
- 제 15 항에 있어서, 상기 동작 모드 스위치는 상기 제 1 주파수의 s-편광 빔 성분을 제 1 주파수의 p-편광 성분으로 변환하는 것을 특징으로 하는 자기-참조 헤테로다인 반사계.
- 제 15 항에 있어서, 상기 동작 모드 스위치는,편광판;반-파장 플레이트; 및상기 헤테로다인 반사율 측정 빔 경로에서 상기 편광판과 반-파장 플레이트를 슬라이딩하는 기계식 슬라이더를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자기-참조 헤테로다인 반사계.
- 제 17 항에 있어서,헤테로다인 반사율 측정 모드와 자기-참조 모드 간에서 반복하는 슬라이더 제어기를 더 포함하며 상기 슬라이더 제어기는 상기 동작 모드 스위치, 상기 헤테로다인 위상 쉬프트 검출기 및 상기 자기-참조 위상 쉬프트 검출기와 동작가능하게 결합하며자기-참조 모드에서, 상기 제어기는 상기 동작 모드 스위치로 하여금 상기 헤테로다인 반사율 측점 빔 경로에서 상기 기계식 슬라이더를 슬라이딩하도록 지시하고 상기 자기-참조 위상 쉬프트 검출기로 하여금 위상 쉬프트를 검출하도록 지시하며,헤테로다인 반사율 측정 모드에서, 상기 제어기는 상기 동작 모드 스위치로 하여금 상기 헤테로다인 반사율 측정 빔 경로를 벗어나 상기 기계식 슬라이더를 슬라이딩하도록 지시하고 상기 헤테로다인 위상 쉬프트 검출기로 하여금 위상 쉬프트를 검출하도록 지시하는 것을 특징으로 하는 자기-참조 헤테로다인 반사계.
- 제 18 항에 있어서,상기 위상 쉬프트 계산기로부터 위상 쉬프트를 수신하고 상기 타겟 물질의 두께를 계산하는 두께 계산기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자기-참조 헤테로다인 반사계.
- 제 19 항에 있어서,상기 헤테로다인 반사율 측정 빔 소스는 He-Ne 레이저를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자기-참조 헤테로다인 반사계.
- 제 19 항에 있어서,상기 소정의 입사각은 상기 타겟 물질에 대한 브루스터 각도에 기초하는 것을 특징으로 하는 자기-참조 헤테로다인 반사계.
- 두께 파라메터를 측정하는 방법으로서,헤테로다인 반사율 측정 동작 모드와 자기-참조 동작 모드 간에서 빔을 반복하는 단계, 상기 헤테로다인 반사율 측정 동작 모드는 상기 제 1 주파수의 s-편광 빔 성분과 상기 제 2 주파수의 p-편광 빔 성분을 발생하는 것을 포함하며 상기 자기-참조 동작 모드는 상기 제 1 주파수의 p-편광 빔 성분과 상기 제 2 주파수의 p-편광 빔 성분을 발생하는 것을 포함하며;참조 검출기에서 상기 빔을 수신하고 참조 빔 위상 신호를 발생하는 단계;상기 반사율 측정 빔을 소정의 입사각으로 타겟 물질에 입사하도록 전파하는 단계;측정 검출기에서, 상기 타겟 물질로부터의 빔을 수신하고 측정 빔 위상 신호를 발생하는 단계;각 반복에서, 상기 측정 빔 위상 신호와 상기 참조 빔 위상 신호로부터 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상 쉬프트를 획득하고 상기 반사율 측정 빔 헤테로다인 위상 쉬프트로부터 상기 타겟 물질에 대한 두께 파라메터를 획득하는 단계를 포함 하는 두께 파라메터를 측정하는 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/237,225 US7545503B2 (en) | 2005-09-27 | 2005-09-27 | Self referencing heterodyne reflectometer and method for implementing |
US11/237,225 | 2005-09-27 | ||
PCT/US2006/037911 WO2007038688A1 (en) | 2005-09-27 | 2006-09-27 | Self referencing heterodyne reflectometer and method for implementing |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020107020080A Division KR20100109982A (ko) | 2005-09-27 | 2006-09-27 | 자기 참조 헤테로다인 반사계 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080068036A true KR20080068036A (ko) | 2008-07-22 |
KR101060053B1 KR101060053B1 (ko) | 2011-08-29 |
Family
ID=37893441
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020127013468A KR101348321B1 (ko) | 2005-09-27 | 2006-09-27 | 자기 참조 헤테로다인 반사계 |
KR1020087010253A KR101060053B1 (ko) | 2005-09-27 | 2006-09-27 | 자기 참조 헤테로다인 반사계 및 그 실행방법 |
KR1020107020080A KR20100109982A (ko) | 2005-09-27 | 2006-09-27 | 자기 참조 헤테로다인 반사계 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020127013468A KR101348321B1 (ko) | 2005-09-27 | 2006-09-27 | 자기 참조 헤테로다인 반사계 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020107020080A KR20100109982A (ko) | 2005-09-27 | 2006-09-27 | 자기 참조 헤테로다인 반사계 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7545503B2 (ko) |
KR (3) | KR101348321B1 (ko) |
CN (1) | CN101438126B (ko) |
TW (1) | TWI297387B (ko) |
WO (1) | WO2007038688A1 (ko) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7589843B2 (en) * | 2005-09-27 | 2009-09-15 | Verity Instruments, Inc. | Self referencing heterodyne reflectometer and method for implementing |
DE102006001731A1 (de) * | 2006-01-13 | 2007-07-19 | Robert Bosch Gmbh | Heterodyninterferometer |
US7864884B2 (en) * | 2006-04-27 | 2011-01-04 | Nokia Corporation | Signal detection in OFDM system |
FR2924805B1 (fr) * | 2007-12-11 | 2011-05-06 | Ecole Norm Superieure Lyon | Microscope a plasmon de surface a haute resolution avec interferometre heterodyne en polarisation radiale. |
WO2010007509A1 (en) * | 2008-07-18 | 2010-01-21 | Leica Biosystems Newcastle Limited | Method for preparing cell standard |
US8729901B2 (en) * | 2009-07-06 | 2014-05-20 | Merlin Technology, Inc. | Measurement device and associated method for use in frequency selection for inground transmission |
US9581433B2 (en) * | 2013-12-11 | 2017-02-28 | Honeywell Asca Inc. | Caliper sensor and method using mid-infrared interferometry |
MX359196B (es) * | 2014-02-14 | 2018-09-19 | Halliburton Energy Services Inc | Espectroscopía in situ para el monitoreo de la fabricación de elementos computacionales integrados. |
CN104748835B (zh) * | 2015-03-05 | 2018-06-26 | 哈尔滨工业大学 | 干涉量分离激光干涉测振仪非线性误差修正方法及装置 |
KR101812608B1 (ko) * | 2016-02-04 | 2017-12-27 | 전북대학교산학협력단 | 일체형 편광간섭계 및 이를 적용한 스냅샷 분광편광계 |
JP6874146B2 (ja) * | 2017-10-05 | 2021-05-19 | マクセル株式会社 | 非接触内部計測装置、非接触内部計測方法、および内部計測結果表示システム |
US11002970B2 (en) | 2019-02-06 | 2021-05-11 | Google Llc | Multi-focal catadioptric head mounted display with LC switch |
TWI715304B (zh) * | 2019-11-22 | 2021-01-01 | 國立雲林科技大學 | 差動式光學測距儀 |
US11104849B1 (en) * | 2020-08-19 | 2021-08-31 | Richard Fauconier | Method for restricting laser beams entering an aperture to a chosen dyad and measuring the beams' separation |
US11565516B2 (en) * | 2020-12-30 | 2023-01-31 | Xerox Corporation | Fountain solution thickness measurement using phase shifted light interference in a digital lithography printing system |
CN114740045B (zh) * | 2022-06-10 | 2023-03-24 | 江苏满星测评信息技术有限公司 | 一种用于监测全季节控温薄膜材料控温性能的系统 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4688940A (en) * | 1985-03-12 | 1987-08-25 | Zygo Corporation | Heterodyne interferometer system |
IT1184100B (it) * | 1985-04-23 | 1987-10-22 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Ellissometro interferometrico statico |
JPH01206283A (ja) * | 1988-02-13 | 1989-08-18 | Brother Ind Ltd | 光ヘテロダイン測定装置 |
US5450205A (en) * | 1993-05-28 | 1995-09-12 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus and method for real-time measurement of thin film layer thickness and changes thereof |
US5548401A (en) * | 1993-08-23 | 1996-08-20 | Nippon Telegraph And Telephone Public Corporation | Photomask inspecting method and apparatus |
FR2716531B1 (fr) * | 1994-02-18 | 1996-05-03 | Saint Gobain Cinematique Contr | Procédé de mesure d'épaisseur d'un matériau transparent. |
CN1099128A (zh) * | 1994-03-04 | 1995-02-22 | 清华大学 | 用双波长激光进行外差干涉测量绝对距离系统 |
US5600441A (en) * | 1995-01-31 | 1997-02-04 | Zygo Corporation | Interferometer and method for measuring the distance of an object surface with respect to the surface of a rotating disk |
US6172752B1 (en) * | 1996-08-04 | 2001-01-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for simultaneously interferometrically measuring optical characteristics in a noncontact manner |
FR2780778B3 (fr) * | 1998-07-03 | 2000-08-11 | Saint Gobain Vitrage | Procede et dispositif pour la mesure de l'epaisseur d'un materiau transparent |
US6261152B1 (en) * | 1998-07-16 | 2001-07-17 | Nikon Research Corporation Of America | Heterdoyne Thickness Monitoring System |
US6710881B1 (en) * | 1999-09-28 | 2004-03-23 | Nanyang Technological University | Heterodyne interferometry for small spacing measurement |
US6999178B2 (en) | 2003-08-26 | 2006-02-14 | Ut-Battelle Llc | Spatial-heterodyne interferometry for reflection and transmission (SHIRT) measurements |
-
2005
- 2005-09-27 US US11/237,225 patent/US7545503B2/en active Active - Reinstated
-
2006
- 2006-09-27 KR KR1020127013468A patent/KR101348321B1/ko active IP Right Grant
- 2006-09-27 CN CN2006800443910A patent/CN101438126B/zh active Active
- 2006-09-27 KR KR1020087010253A patent/KR101060053B1/ko active IP Right Grant
- 2006-09-27 TW TW095135636A patent/TWI297387B/zh active
- 2006-09-27 WO PCT/US2006/037911 patent/WO2007038688A1/en active Application Filing
- 2006-09-27 KR KR1020107020080A patent/KR20100109982A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101060053B1 (ko) | 2011-08-29 |
CN101438126B (zh) | 2013-01-02 |
KR20100109982A (ko) | 2010-10-11 |
KR101348321B1 (ko) | 2014-01-06 |
KR20130027451A (ko) | 2013-03-15 |
TW200728684A (en) | 2007-08-01 |
US7545503B2 (en) | 2009-06-09 |
WO2007038688A1 (en) | 2007-04-05 |
TWI297387B (en) | 2008-06-01 |
US20070070357A1 (en) | 2007-03-29 |
CN101438126A (zh) | 2009-05-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101060053B1 (ko) | 자기 참조 헤테로다인 반사계 및 그 실행방법 | |
US7589843B2 (en) | Self referencing heterodyne reflectometer and method for implementing | |
US10890487B2 (en) | Integrated polarization interferometer and snapshot specro-polarimeter applying same | |
US5991033A (en) | Interferometer with air turbulence compensation | |
US7339682B2 (en) | Heterodyne reflectometer for film thickness monitoring and method for implementing | |
US7492469B2 (en) | Interferometry systems and methods using spatial carrier fringes | |
US7417743B2 (en) | Interferometry systems and methods | |
US5847828A (en) | Michelson interferometer using matched wedge-shaped beam splitter and compensator | |
US20060285120A1 (en) | Method for monitoring film thickness using heterodyne reflectometry and grating interferometry | |
JPH10500767A (ja) | 干渉計測装置 | |
JP2005257685A (ja) | ターゲットの光学位相測定 | |
US5546184A (en) | Single-frequency bidirectional fringe-counting interferometer | |
JPS6024404B2 (ja) | 干渉計システム | |
EP1554538A1 (en) | Interferometer monitoring | |
US20090135430A1 (en) | Systems and Methods for Reducing Nonlinearity in an Interferometer | |
TW200837326A (en) | Self referencing heterodyne reflectometer and method for implementing | |
JP2004055775A (ja) | 波長モニタ及びモータ駆動制御装置 | |
KR100898327B1 (ko) | 파장판의 각도 정렬을 통한 간섭계의 비선형 오차 보상방법 | |
US11933609B2 (en) | Interferometer and optical instrument with integrated optical components | |
JPH0543058U (ja) | 空気屈折率測定装置 | |
JP4835908B2 (ja) | 光学特性測定装置 | |
JP2007017178A (ja) | 厚み測定機 | |
WO2008143535A1 (en) | An interferometric ellipsometer | |
JPH0719842A (ja) | 表面形状の光学的測定装置 | |
Teng et al. | Real Time Measurement of Ellipsometric Angles by Common Path Heterodyne Interferometry |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
A107 | Divisional application of patent | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140825 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160113 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160524 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170524 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180524 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190618 Year of fee payment: 9 |