KR20080062854A - Multi layer stamp and method for manufacturing the same, nano imprint system with multi layer stamp and method for nano imprinting on a display panel - Google Patents
Multi layer stamp and method for manufacturing the same, nano imprint system with multi layer stamp and method for nano imprinting on a display panel Download PDFInfo
- Publication number
- KR20080062854A KR20080062854A KR1020060139006A KR20060139006A KR20080062854A KR 20080062854 A KR20080062854 A KR 20080062854A KR 1020060139006 A KR1020060139006 A KR 1020060139006A KR 20060139006 A KR20060139006 A KR 20060139006A KR 20080062854 A KR20080062854 A KR 20080062854A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- stamp
- support
- display panel
- stamping part
- multilayer
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41K—STAMPS; STAMPING OR NUMBERING APPARATUS OR DEVICES
- B41K3/00—Apparatus for stamping articles having integral means for supporting the articles to be stamped
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00436—Shaping materials, i.e. techniques for structuring the substrate or the layers on the substrate
- B81C1/00444—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate
- B81C1/0046—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate using stamping, e.g. imprinting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/887—Nanoimprint lithography, i.e. nanostamp
Abstract
Description
도 1a 내지 1c는 종래 기술에 따른 나노 임프린트 기술로 미세 패턴을 형성하는 방법을 설명하기 위한 단면도1A to 1C are cross-sectional views illustrating a method of forming a fine pattern using a nanoimprint technique according to the prior art.
도 2a와 2b는 본 발명에 따른 다층 스탬프의 개략적인 단면도2A and 2B are schematic cross-sectional views of a multilayer stamp in accordance with the present invention.
도 3a 내지 3e는 본 발명에 따른 다층 스탬프의 제조 방법을 설명하기 위한 개략적인 단면도3A to 3E are schematic cross-sectional views for explaining the method for manufacturing a multilayer stamp according to the present invention.
도 4는 본 발명에 따른 다층 스탬프를 이용하여 나노 임프린팅 공정을 수행하는 상태를 도시한 단면도Figure 4 is a cross-sectional view showing a state of performing a nano imprinting process using a multi-layer stamp in accordance with the present invention
도 5a 내지 5d는 본 발명에 따른 다층 스탬프를 이용하여 표시 패널에 나노 임프린팅 공정을 수행하는 상태를 도시한 단면도5A through 5D are cross-sectional views illustrating a state in which a nanoimprinting process is performed on a display panel using a multilayer stamp according to the present invention.
도 6은 본 발명에 따라 플렉서블(Flexible)한 다층 스탬프로 표시 패널에 나노 임프린팅 공정을 수행하는 상태를 도시한 단면도6 is a cross-sectional view illustrating a state in which a nano-imprinting process is performed on a display panel with a flexible multilayer stamp according to the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
100 : 지지부 110 : 접착제100: support 110: adhesive
200 : 스탬핑부 210 : 점착(粘着) 방지용 코팅막200: stamping part 210: coating film for preventing adhesion
300 : 지지대 310 : 진공 흡입공300: support 310: vacuum suction hole
400 : 진공 펌프 500 : 경화성 재료400: vacuum pump 500: curable material
600 : 롤러 610 : 광원600: roller 610: light source
700 : 표시패널 710 : 경화용 막700: display panel 710: curing film
711 : 패널711: Panel
본 발명은 다층 스탬프와 그의 제조 방법, 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템 및 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 균일한 패턴을 형성할 수 있는 다층 스탬프와 그의 제조 방법, 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템 및 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a multi-layer stamp, a method of manufacturing the same, a nano imprint system equipped with a multi-layer stamp, and a method of nano imprinting a display panel using a multi-layer stamp, and more particularly, to a multi-layer stamp capable of forming a uniform pattern. A manufacturing method thereof, a nano imprint system equipped with a multilayer stamp, and a method of nanoimprinting a display panel using the multilayer stamp.
나노 임프린트(Nano Imprint Lithography) 기술은 1990년대 중반 Princeton 대학교의 Stephen Y. Chou교수에 의해 제안하였으며, 낮은 생산성을 갖는 전자빔 리소그라피 기술 및 고가의 광학 리소그라피 기술을 대신할 기술로 현재 주목받고 있다.Nano Imprint Lithography technology, proposed by Professor Stephen Y. Chou of Princeton University in the mid-1990s, is currently attracting attention as a replacement for low-productivity electron beam lithography and expensive optical lithography.
한편, 최근 IT 기술의 진보에 의해, IT 기술로 구현되는 장치의 고속 동작과 저소비 전력 동작을 위하여, 미세화된 패턴을 요구하고 있다.On the other hand, recent advances in IT technology require a finer pattern for high speed operation and low power consumption operation of devices implemented in IT technology.
이런 미세화된 패턴은 리소그래피 기술을 이용하여 통상 만들어지는데, 미세화가 더욱 진전됨에 따라 해당 기술에 필요한 장치는 더욱 비싸지고 있다.Such micronized patterns are typically made using lithographic techniques, and as micronization progresses further, the devices required for those techniques become more expensive.
그러므로, 현재 저렴한 비용으로 미세 패턴을 형성할 수 있는 기술에 대하여 다양한 연구가 진행되고 있다.Therefore, various researches are currently being conducted on techniques for forming fine patterns at low cost.
일례로, 표시 패널을 제조하기 위해서는 전극, 격벽, 절연막과 같은 다양한 기능성 막들을 미세 패턴으로 형성하여야 하고, 이 미세 패턴을 저렴한 비용으로 형성하는 기술 개발이 시도되고 있다.For example, in order to manufacture a display panel, various functional films such as electrodes, barrier ribs, and insulating films must be formed in fine patterns, and techniques for forming the fine patterns at low cost have been attempted.
이렇게, 저렴한 비용으로 미세 패턴을 형성할 수 있는 기술 중 하나가 나노 임프린트 기술이다.As such, one of technologies capable of forming fine patterns at low cost is nanoimprint technology.
도 1a 내지 1c는 종래 기술에 따른 나노 임프린트 기술로 미세 패턴을 형성하는 방법을 설명하기 위한 단면도로서, 기판(11) 상부에 레지스트막(12)을 형성하고, 상기 레지스트막(12) 상부에 스탬프(10)를 위치시킨다.(도 1a)1A to 1C are cross-sectional views illustrating a method of forming a fine pattern using a nanoimprint technique according to the prior art, wherein a
상기 스탬프(10)에는 미세 패턴(10a)이 형성되어 있다.A
이어서, 상기 스탬프(10)를 상기 레지스트막(12)을 가압한다.(도 1b)Subsequently, the
여기서, 상기 스탬프(10)가 상기 레지스트막(12)에 가압되면, 미세 패턴은 상기 레지스트막(12)에 전사된다.Here, when the
그 후, 상기 스탬프(10)를 상부로 이동시켜, 상기 레지스트막(12)으로부터 이탈되면, 상기 레지스트막(12)에는 미세 패턴이 형성된다.(도 1c)Thereafter, when the
이러한, 스탬프는 금속, 실리콘, 퀄츠와 같은 단단한 재질을 사용하여 제작된다.These stamps are made using hard materials such as metal, silicon, and quartz.
그러나, 이러한 종래의 하드 스탬프를 이용하여 대면적 기판에 나노 임프린팅 공정을 수행하면, 패턴을 형성할 기판의 균일도가 나노 스케일의 정밀도를 확보하지 못한 경우, 하드 스탬프 전면에 걸쳐서 패턴을 형성하기가 불가능한 문제점이 있었다.However, when the nanoimprinting process is performed on a large-area substrate using such a conventional hard stamp, when the uniformity of the substrate to form the pattern does not secure nanoscale precision, it is difficult to form the pattern over the entire hard stamp. There was an impossible problem.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 하드(Hard)한 스탬핑부와 탄성을 갖는 소프트(Soft)한 지지부의 이중 구조의 다층 스탬프를 구현하여, 유연성이 우수하여 대상물의 불균일한 상태를 보정하여 균일한 패턴을 형성할 수 있는 다층 스탬프와 그의 제조 방법, 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템 및 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법을 제공하는 데 목적이 있다.In order to solve the problems described above, the present invention implements a multi-layered stamp having a double structure of a hard stamping part and a soft support part having elasticity, thereby providing excellent flexibility and uneven state of the object. An object of the present invention is to provide a multi-layer stamp capable of forming a uniform pattern by correction, a method of manufacturing the same, a nano-imprint system equipped with a multi-layer stamp, and a method of nanoimprinting a display panel using the multi-layer stamp.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 1 양태(樣態)는, A first preferred aspect for achieving the above objects of the present invention is
제 1 물질로 이루어진 지지부와; A support made of a first material;
상기 지지부에 형성되고, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부와; A stamping part formed on the support part and made of a second material having a greater hardness than the first material;
상기 스탬핑부에 코팅된 점착(粘着) 방지용 코팅막으로 구성된 다층 스탬프가 제공된다.There is provided a multi-layer stamp composed of an anti-stick coating film coated on the stamping part.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 2 양태(樣態)는, A second preferred aspect for achieving the above objects of the present invention is
제 1 물질로 이루어진 지지부를 준비하는 단계와;Preparing a support made of a first material;
상기 제 1 물질보다 경도가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부를 준비하는 단계와;Preparing a stamping part made of a second material having a hardness greater than that of the first material;
상기 스탬핑부에 코팅된 점착 방지용 물질을 코팅하여 점착 방지용 코팅막을 형성하는 단계와;Coating an anti-stick material coated on the stamping part to form an anti-stick coating film;
상기 스탬핑부를 접착제를 이용한 상기 지지부에 접착시키는 단계로 이루어진 다층 스탬프의 제조 방법이 제공된다.Provided is a method of manufacturing a multilayer stamp comprising the step of adhering the stamping portion to the support portion using an adhesive.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 3 양태(樣態)는, A third preferred aspect for achieving the above objects of the present invention is
제 1 물질로 이루어진 지지부와, 상기 지지부에 형성되고 상기 제 1 물질보다 경도가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부와, 상기 스탬핑부에 코팅된 점착 방지용 코팅막으로 이루어진 다층 스탬프와; A multilayer stamp comprising a support part made of a first material, a stamping part formed of the second material and having a hardness greater than that of the first material, and an anti-stick coating film coated on the stamping part;
상기 다층 스탬프의 지지부를 진공 흡착시키는 복수개의 진공 흡입공들이 상부에 노출되어 있는 지지대와; A support on which a plurality of vacuum suction holes for vacuum suction of the support of the multilayer stamp are exposed on the upper portion;
상기 복수개의 진공 흡입공들과 연결되어 있는 진공 펌프와; A vacuum pump connected to the plurality of vacuum suction holes;
상기 스탬핑할 대상물을 가압할 수 있으며, 광원이 부착된 롤러로 구성된 다 층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템이 제공된다.There is provided a nano imprint system equipped with a multi-layer stamp, which is capable of pressing the object to be stamped and consists of a roller with a light source attached thereto.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 4 양태(樣態)는, A fourth preferred aspect for achieving the above objects of the present invention is
나노 임프린트할 경화용 막이 형성된 표시 패널을 준비하는 단계와;Preparing a display panel on which a curing film to be nanoimprinted is formed;
제 1 물질로 이루어진 지지부와, 상기 지지부에 형성되고 상기 제 1 물질보다 경도가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부와, 상기 스탬핑부에 코팅된 점착 방지용 코팅막으로 이루어진 다층 스탬프를 준비하는 단계와;Preparing a multi-layer stamp comprising a support made of a first material, a stamping part formed of the second material and having a hardness greater than that of the first material, and an anti-stick coating film coated on the stamping part;
상기 다층 스탬프를 상기 경화용 막에 가압하여, 상기 표시 패널 상부에 형성된 패턴을 형성하는 단계와;Pressing the multilayer stamp onto the curing film to form a pattern formed on the display panel;
상기 표시 패널 상부에 형성된 패턴을 경화시키는 단계와;Curing the pattern formed on the display panel;
상기 다층 스탬프를, 상기 표시 패널 상부에 형성된 패턴으로부터 이탈시키는 단계로 이루어진 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법이 제공된다.There is provided a method of nanoimprinting a multi-layer stamp on a display panel using a multi-layer stamp, the step of separating the multi-layer stamp from a pattern formed on the display panel.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2a와 2b는 본 발명에 따른 다층 스탬프의 개략적인 단면도로서, 본 발명의 다층 스탬프는 도 2a에 도시된 바와 같이, 제 1 물질로 이루어진 지지부(100)와; 상기 지지부(100)에 형성되고, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부(200)와; 상기 스탬핑부(200)에 코팅된 점착(粘着) 방지용 코팅막(210)으로 구성된다.2A and 2B are schematic cross-sectional views of a multilayer stamp according to the present invention, wherein the multilayer stamp of the present invention comprises a
그리고, 더 바람직하게는 도 2b와 같이, 제 1 물질로 이루어진 지지부(100)와; 상기 지지부(100)에 접착제(110)에 의해 접착되어 있고, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부(200)와; 상기 스탬핑부(200)에 코팅된 점착 방지용 코팅막(210)으로 구성된다.And, more preferably, as shown in Figure 2b, the
즉, 도 2a는 상기 지지부(100) 상부에 스탬핑부(200)를 형성한 것이고, 도 2b는 상기 스탬핑부(200)가 상기 지지부(100)에 접착되어 있는 것이다.That is, FIG. 2A shows a
그리고, 상기 제 1 물질은 탄성력을 갖는 물질인 것이 바람직하고, 상기 제 2 물질은 금속, 실리콘과 퀄츠 중 하나가 바람직하다.In addition, the first material is preferably a material having an elastic force, and the second material is preferably one of metal, silicon, and quartz.
또한, 상기 점착 방지용 코팅막(210)은 자기 조립 모노층(Self assembled monolayer, SAM)으로 이루어진다.In addition, the
상기 스탬핑부(200)에 점착 방지용 코팅막(210)이 형성되어 있으면, 상기 스탬핑부(200)로 인프린트 공정을 수행된 다층 스탬프를 인프린트된 패턴으로부터 이탈이 원활하게 된다.When the
이러한, 다층 스탬프는 얇은 두께의 하드(Hard)한 스탬핑부와 탄성을 갖는 소프트(Soft)한 지지부의 이중 구조로 되어 있어, 유연성이 우수하여 대상물의 불균일한 상태를 보정하여 균일한 패턴을 형성할 수 있으며, 롤(Roll) 타입의 스탬프 제작도 가능하다.This multi-layer stamp has a double structure of a thin stamped hard part and a soft support part having elasticity, so that it is excellent in flexibility to correct an uneven state of an object to form a uniform pattern. It is also possible to produce a stamp of the roll (Roll) type.
도 3a 내지 3e는 본 발명에 따른 다층 스탬프의 제조 방법을 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 먼저, 제 1 물질로 이루어진 지지부(100)를 준비한다.(도 3a)3A to 3E are schematic cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a multilayer stamp according to the present invention. First, a
그 후, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부(200)를 준비한다.(도 3b)Thereafter, a stamping
상기 스탬핑부(200)는 건식 식각에 의한 방법, 전주 도금에 의한 방법 등으로 스탬핑부(200)에 미세 패턴을 형성할 수 있다. The stamping
그 다음, 상기 스탬핑부(200)에 코팅된 점착(粘着) 방지용 물질을 코팅하여 점착(粘着) 방지용 코팅막(210)을 형성한다.(도 3c)Next, the anti-sticking material coated on the stamping
이어서, 상기 스탬핑부(200)를 접착제(110)를 이용하여 상기 지지부(100)에 접착시킨다.(도 3d 및 도 3e)Subsequently, the stamping
상기 접착제는 열경화성 또는 자외선 경화성 접착제가 바람직하다.The adhesive is preferably a thermosetting or ultraviolet curable adhesive.
그리고, 상기 지지부(100)는 탄성 물질로 이루어진다.In addition, the
즉, 제작된 하드(Hard)한 스탬핑부의 전면에는 점착 방지막을 형성시키고, 뒷면에는 열경화성 또는 자외선 경화성 접착제를 도포시킨 후, 그 상부에 고상의 탄성을 갖는 고무 재료를 적층하거나, 액상 고무 소재를 접착제 상부에 부은 후 접착제 및 액상 고무 소재를 함께 경화시키는 공정으로 다층 스탬프를 제작할 수 있다. That is, an anti-stick film is formed on the front surface of the manufactured hard stamping part, and a thermosetting or ultraviolet curable adhesive is applied on the back side, and then a rubber material having a solid elasticity is laminated thereon, or a liquid rubber material is adhesive After pouring on the upper part, the adhesive and the liquid rubber material can be hardened together to produce a multilayer stamp.
도 4는 본 발명에 따른 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템을 도시 한 단면도로서, 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템은, 제 1 물질로 이루어진 지지부(100)와, 상기 지지부(100)에 형성되고 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부(200)와, 상기 스탬핑부(200)에 코팅된 점착(粘着) 방지용 코팅막(210)으로 이루어진 다층 스탬프와; 상기 다층 스탬프의 지지부(100)를 진공 흡착시키는 복수개의 진공 흡입공들(310)이 상부에 노출되어 있는 지지대(300)와; 상기 복수개의 진공 흡입공들(310)과 연결되어 있는 진공 펌프(400)와; 상기 스탬핑할 대상물을 가압할 수 있으며, 광원(610)이 부착된 롤러(600)로 구성된다.4 is a cross-sectional view illustrating a nano imprint system equipped with a multilayer stamp according to the present invention, wherein the nano imprint system equipped with a multilayer stamp is formed on a
이렇게 구성된 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템으로 나노 인프린트 공정을 수행하려면, 먼저, 상기 지지대(300)에 노출된 복수개의 진공 흡입공들(310)에 전술된 다층 스탬프의 지지부(100)를 밀착시키고, 상기 진공 펌프(400)로 펌핑하여, 상기 다층 스탬프를 복수개의 진공 흡입공들(310)에서 진공 흡입시켜 상기 지지대(300)에 고정시킨다.To perform the nano-inprint process with the nano-imprint system equipped with the multilayer stamp configured as described above, first, the
그 후, 상기 다층 스탬프의 스탬핑부(200)에 경화성 재료(500)를 도포하고, 스탬핑할 필름을 상기 다층 스탬프의 스탬핑부(200)에 올려놓고, 광원(610)이 부착된 롤러(600)가 지나가며 인프린트 공정을 수행한다.Thereafter, the
이때, 상기 광원(610)에서 조사된 광은 상기 롤러(600)가 지나간 영역의 경화성 재료(500)를 경화시키게 된다.At this time, the light irradiated from the
그리고, 상기 롤러(600)에는 반사판(620)이 설치되면, 상기 광원(610)의 광이 외부로 방출되는 것을 방지할 수 있다.In addition, when the
도 5a 내지 5d는 본 발명에 따른 다층 스탬프를 이용하여 표시 패널에 나노 임프린팅 공정을 수행하는 상태를 도시한 단면도로서, 나노 임프린트할 경화용 막(710)이 형성된 표시 패널(700)을 준비한다.(도 5a)5A to 5D are cross-sectional views illustrating a state in which a nanoimprinting process is performed on a display panel using a multilayer stamp according to the present invention, and prepares a
그 후, 제 1 물질로 이루어진 지지부(100)와; 상기 지지부(100)에 형성되고, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부(200)와; 상기 스탬핑부(200)에 코팅된 점착(粘着) 방지용 코팅막(210)으로 구성된 다층 스탬프를 준비한다.Thereafter, the
그 다음, 상기 다층 스탬프를 상기 경화용 막(710)에 가압한다.(도 5b)Then, the multilayer stamp is pressed onto the curing film 710 (FIG. 5B).
이때, 상기 다층 스탬프의 스탬핑부(200)가 상기 경화용 막(710)에 접촉되면서, 가압되는 압력에 의해 상기 스탬핑부(200)가 상기 경화용 막(710)을 누르게 되어, 상기 경화용 막(710)에는 상기 스탬핑부(200)의 패턴이 전사되어 상기 표시 패널(700) 상부에는 패턴(711)이 형성된다. In this case, while the stamping
연이어, 상기 표시 패널(700) 상부에 형성된 패턴(711)을 경화시킨다.(도 5c)Subsequently, the
상기 경화용 막(710)이 자외선 경화성 물질로 이루어지면, 도 5c에 도시된 바와 같이, 자외선 광을 조사하여, 상기 표시 패널(700) 상부에 형성된 패턴(711)을 경화시킨다.When the
마지막으로, 상기 다층 스탬프를 상기 표시 패널(700) 상부에 형성된 패턴(711)으로부터 이탈시킨다.(도 5d)Finally, the multilayer stamp is separated from the
상기 다층 스탬프의 이탈로, 상기 표시 패널(700) 상부에는 패턴(711)만 남게 된다.Due to the departure of the multilayer stamp, only the
이와 같이, 본 발명의 다층 스탬프로 표시 패널에 나노 임프린팅 공정을 수행할 수 있게 된다.As such, the nano stamping process may be performed on the display panel using the multilayer stamp of the present invention.
도 6은 본 발명에 따라 플렉서블(Flexible)한 다층 스탬프로 표시 패널에 나노 임프린팅 공정을 수행하는 상태를 도시한 단면도로서, 전술된 다층 스탬프의 구조에서, 극히 얇은 두께로 스탬핑부를 만들고, 지지부도 얇은 두께로 만들게 되면, 다층 스탬프는 플렉서블한 상태가 된다.FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a state in which a nano-imprinting process is performed on a display panel with a flexible multilayer stamp according to the present invention. In the above-described structure of the multilayer stamp, a stamping portion is formed to an extremely thin thickness, and a support portion is also illustrated. When made thin, the multilayer stamp is flexible.
그런, 플렉서블한 다층 스탬프로 표시 패널(700)에 나노 임프린팅 공정을 수행할 수 있다.As such, a nano imprinting process may be performed on the
즉, 표시 패널(700)에 경화성 재료(500)를 도포하고, 플렉서블한 다층 스탬프(800)를 상기 경화성 재료(500)에 올려놓고, 도 4에 도시된 광원(610)이 부착된 롤러(600)로 상기 플렉서블한 다층 스탬프(800)를 가압하면서 인프린트 공정을 수행할 수 있다.That is, the
이때도, 상기 광원(610)에서 광을 조사하게 되면, 상기 롤러(600)가 지나간 영역의 경화성 재료(500)가 경화되는 것이다.In this case, when the light is irradiated from the
이상 상술한 바와 같이, 본 발명은 하드(Hard)한 스탬핑부와 탄성을 갖는 소 프트(Soft)한 지지부의 이중 구조의 다층 스탬프를 구현하여, 유연성이 우수하여 대상물의 불균일한 상태를 보정하여 균일한 패턴을 형성할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention implements a multi-layered stamp having a double structure of a hard stamping part and a soft support part having elasticity, and has excellent flexibility to correct an uneven state of an object so as to be uniform. There is an effect that can form a pattern.
또한, 본 발명은 다층 스탬프로 대면적 대상물에도 균일한 압력을 인가할 수 있어 균일한 패턴을 형성할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention can apply a uniform pressure to a large area object with a multi-layer stamp, there is an effect that can form a uniform pattern.
더불어, 본 발명은 다층 스탬프의 지지부가 탄성 물질로 이루어져 진공에 의한 밀착성을 향상시킬 수 있으므로, 원활한 패터닝 공정을 수행할 수 있는 효과가 있다.In addition, since the support portion of the multilayer stamp is made of an elastic material to improve adhesion by vacuum, the present invention has an effect of performing a smooth patterning process.
본 발명은 구체적인 예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the invention has been described in detail only with respect to specific examples, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the spirit of the invention, and such modifications and variations belong to the appended claims.
Claims (11)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060139006A KR20080062854A (en) | 2006-12-29 | 2006-12-29 | Multi layer stamp and method for manufacturing the same, nano imprint system with multi layer stamp and method for nano imprinting on a display panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060139006A KR20080062854A (en) | 2006-12-29 | 2006-12-29 | Multi layer stamp and method for manufacturing the same, nano imprint system with multi layer stamp and method for nano imprinting on a display panel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080062854A true KR20080062854A (en) | 2008-07-03 |
Family
ID=39814924
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060139006A KR20080062854A (en) | 2006-12-29 | 2006-12-29 | Multi layer stamp and method for manufacturing the same, nano imprint system with multi layer stamp and method for nano imprinting on a display panel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20080062854A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101114286B1 (en) * | 2010-10-08 | 2012-03-05 | (주)메카스 | Imprinting release layer coater with stamp for nano/micro optical device |
CN102929100A (en) * | 2012-11-22 | 2013-02-13 | 苏州蒙斯威光电科技有限公司 | Device and method for implementing alignment reel-to-reel UV (ultraviolet) forming |
CN103842861A (en) * | 2011-07-28 | 2014-06-04 | Lg伊诺特有限公司 | Method of manufacturing mold for nano imprint |
CN109728054A (en) * | 2019-01-02 | 2019-05-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | Display panel and preparation method thereof, display device |
-
2006
- 2006-12-29 KR KR1020060139006A patent/KR20080062854A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101114286B1 (en) * | 2010-10-08 | 2012-03-05 | (주)메카스 | Imprinting release layer coater with stamp for nano/micro optical device |
CN103842861A (en) * | 2011-07-28 | 2014-06-04 | Lg伊诺特有限公司 | Method of manufacturing mold for nano imprint |
CN102929100A (en) * | 2012-11-22 | 2013-02-13 | 苏州蒙斯威光电科技有限公司 | Device and method for implementing alignment reel-to-reel UV (ultraviolet) forming |
CN109728054A (en) * | 2019-01-02 | 2019-05-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | Display panel and preparation method thereof, display device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6946332B2 (en) | Forming nanoscale patterned thin film metal layers | |
KR101691157B1 (en) | Method of manufacturing stamp for nanoimprint | |
WO2016051928A1 (en) | Imprint template and method for manufacturing same | |
KR101726625B1 (en) | Roll mold, method and apparatus of fabricating the same, and method of fabricating thin film pattern using the same | |
JP2007150053A (en) | Stamper for optical inprint, and manufacturing method for light emitting device and using same stamper | |
KR101468960B1 (en) | Fabrication mehtod of lithography mask and formation method of fine pattern using the same | |
JP5694889B2 (en) | Nanoimprint method, nanoimprint apparatus used therefor, and manufacturing method of patterned substrate | |
KR20080062854A (en) | Multi layer stamp and method for manufacturing the same, nano imprint system with multi layer stamp and method for nano imprinting on a display panel | |
US20020048833A1 (en) | Manufacturing method and manufacturing device of microstructure | |
JP2007073696A (en) | Pattern forming method, pattern forming apparatus and pattern-formed film | |
US9180608B2 (en) | Stamp, method of manufacturing the same, and imprinting method using the stamp | |
KR101208661B1 (en) | Stamp for nano-imprint and manufacturing method thereof | |
CN107112210B (en) | Imprint mold | |
KR20090056131A (en) | Apparatus for fixing plastic sheet and fabrication method of nanopattern on plastic sheet using this same | |
KR20100036484A (en) | Stamp and stamping method using thereof | |
KR101808522B1 (en) | Roll mold and method of fabricating the same | |
JP2008207374A (en) | Resin mold and manufacturing method of printing plate utilizing the same | |
US20080110363A1 (en) | Physisorption-based microcontact printing process capable of controlling film thickness | |
CN112689797A (en) | Method for manufacturing a stamp for imprint lithography, imprint roller, and roll-to-roll substrate processing apparatus | |
KR101348184B1 (en) | Impriting apparatus and imprint method | |
TW201109176A (en) | Device and method for preparing a stamp for imprint or roll-print lithography | |
Kim et al. | Development of a very large-area ultraviolet imprint lithography process | |
KR20110134175A (en) | Mold for fabricating pattern and fabricating method thereof | |
KR100685900B1 (en) | method for forming pattern of semiconductor device | |
WO2018224002A1 (en) | Substrate attachment structure and manufacturing method therefor, and method for manufacturing display apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |