KR101808522B1 - Roll mold and method of fabricating the same - Google Patents

Roll mold and method of fabricating the same Download PDF

Info

Publication number
KR101808522B1
KR101808522B1 KR1020100127361A KR20100127361A KR101808522B1 KR 101808522 B1 KR101808522 B1 KR 101808522B1 KR 1020100127361 A KR1020100127361 A KR 1020100127361A KR 20100127361 A KR20100127361 A KR 20100127361A KR 101808522 B1 KR101808522 B1 KR 101808522B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
mold surface
surface layer
base roller
pattern
Prior art date
Application number
KR1020100127361A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20120066154A (en
Inventor
이남석
김철호
이신복
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020100127361A priority Critical patent/KR101808522B1/en
Publication of KR20120066154A publication Critical patent/KR20120066154A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101808522B1 publication Critical patent/KR101808522B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/38—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/56—Coatings, e.g. enameled or galvanised; Releasing, lubricating or separating agents
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • B29C59/04—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts

Abstract

본 발명은 열/화학적 변형으로 인한 정밀도 저하를 방지할 수 있는 롤 몰드 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 롤 몰드의 제조 방법은 마스터 기판 상에 홈 패턴과 돌출 패턴을 가지는 몰드 표면층을 박형 유리로 형성하는 단계와; 상기 몰드 표면층의 돌출 패턴의 상부면과 접촉하도록 보호 필름을 부착하는 단계와; 상기 보호 필름이 부착된 몰드 표면층을 반전시켜 스테이지 상에 안착하는 단계와; 상기 스테이지 상부에 정렬된 베이스 롤러 상에 접착 수지층을 형성하는 단계와; 상기 접착 수지층이 형성된 상기 베이스 롤러를 상기 몰드 표면층 상에서 회전시켜 상기 접착 수지층을 통해 상기 몰드 표면층을 상기 베이스 롤러 상에 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a roll mold capable of preventing a reduction in precision due to thermal / chemical deformation and a method of manufacturing the roll mold.
A method of manufacturing a roll mold according to the present invention includes the steps of forming a mold surface layer having a groove pattern and a protrusion pattern on a master substrate with a thin glass; Attaching a protective film so as to contact the upper surface of the protruding pattern of the mold surface layer; Reversing the mold surface layer to which the protective film is attached and resting on the stage; Forming an adhesive resin layer on the base roller aligned on the stage top; And rotating the base roller on which the adhesive resin layer is formed on the mold surface layer to adhere the mold surface layer on the base roller through the adhesive resin layer.

Description

롤 몰드 및 그 제조 방법{ROLL MOLD AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a roll mold,

본 발명은 열/화학적 변형으로 인한 정밀도 저하를 방지할 수 있는 롤 몰드 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a roll mold capable of preventing a reduction in accuracy due to thermal / chemical deformation and a method of manufacturing the roll mold.

최근 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시 장치들이 대두되고 있다. 평판 표시 장치로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display), 플라즈마 표시 패널(Plasma Display Panel) 및 일렉트로-루미네센스(Electro-Luminescence : EL) 표시 장치 등이 있다.2. Description of the Related Art Recently, various flat panel display devices capable of reducing weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes (CRTs), are emerging. Examples of the flat panel display include a liquid crystal display, a field emission display, a plasma display panel, and an electro-luminescence (EL) display device .

이러한 평판 표시 장치는 증착(코팅) 공정, 노광 공정, 현상 공정 및 식각 공정 등을 포함하는 마스크 공정에 의해 형성되는 다수의 박막으로 이루어진다. 그러나, 마스크 공정은 제조 공정이 복잡하여 제조 단가를 상승시키는 문제점이 있다. 이에 따라, 최근에는 롤 몰드를 이용한 임프린팅 공정을 통해 박막을 형성할 수 있는 연구가 진행되고 있다. Such a flat panel display device is composed of a plurality of thin films formed by a mask process including a deposition (coating) process, an exposure process, a development process, and an etching process. However, the mask process has a problem in that the manufacturing process is complicated and the manufacturing cost is increased. In recent years, studies have been made to form a thin film through an imprinting process using a roll mold.

이러한 롤 몰드를 플렉서블 기판을 이용해 형성하는 경우, 플렉서블 기판의 특성상 열팽창 및 장력 변형이 자주 발생된다. 이에 따라, 플렉서블 기판을 이용해 롤 몰드 제조시 롤 몰드의 찌그러짐의 문제점이 발생해 롤 몰드의 정밀도가 저하되는 문제점이 있다.When such a roll mold is formed using a flexible substrate, thermal expansion and tensile deformation frequently occur due to the characteristics of the flexible substrate. As a result, there is a problem that the roll mold is distorted during the production of the roll mold by using the flexible substrate, and the precision of the roll mold is lowered.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 열/화학적 변형으로 인한 정밀도 저하를 방지할 수 있는 롤 몰드 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.In order to solve the above problems, the present invention provides a roll mold capable of preventing a reduction in precision due to thermal / chemical deformation and a method of manufacturing the roll mold.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 롤 몰드의 제조 방법은 마스터 기판 상에 홈 패턴과 돌출 패턴을 가지는 몰드 표면층을 박형 유리로 형성하는 단계와; 상기 몰드 표면층의 돌출 패턴의 상부면과 접촉하도록 보호 필름을 부착하는 단계와; 상기 보호 필름이 부착된 몰드 표면층을 반전시켜 스테이지 상에 안착하는 단계와; 상기 스테이지 상부에 정렬된 베이스 롤러 상에 접착 수지층을 형성하는 단계와; 상기 접착 수지층이 형성된 상기 베이스 롤러를 상기 몰드 표면층 상에서 회전시켜 상기 접착 수지층을 통해 상기 몰드 표면층을 상기 베이스 롤러 상에 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a roll mold, comprising: forming a mold surface layer having a groove pattern and a protrusion pattern on a master substrate from thin glass; Attaching a protective film so as to contact the upper surface of the protruding pattern of the mold surface layer; Reversing the mold surface layer to which the protective film is attached and resting on the stage; Forming an adhesive resin layer on the base roller aligned on the stage top; And rotating the base roller on which the adhesive resin layer is formed on the mold surface layer to adhere the mold surface layer on the base roller through the adhesive resin layer.

여기서, 상기 몰드 표면층을 상기 베이스 롤러 상에 부착시 상기 보호필름은 상기 몰드 표면층과 분리되는 것을 특징으로 한다.Here, when the mold surface layer is adhered to the base roller, the protective film is separated from the mold surface layer.

그리고, 상기 보호 필름은 폴리머 계열로 형성되는 것을 특징으로 한다.The protective film is formed of a polymer-based material.

한편, 상기 마스터 기판 상에 홈 패턴과 돌출 패턴을 가지는 몰드 표면층을 박형 유리로 형성하는 단계는 상기 마스터 기판 상에 박형 유리를 접착시키는 단계와; 상기 박형 유리를 포토리소그래피 공정과 식각 공정으로 패터닝하여 홈 패턴과 돌출 패턴을 가지는 몰드 표면층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The step of forming a mold surface layer having a groove pattern and a protruding pattern on the master substrate from the thin glass includes bonding the thin glass onto the master substrate; And patterning the thin glass by a photolithography process and an etching process to form a mold surface layer having a groove pattern and a protruding pattern.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 롤 몰드의 제조 방법은 마스터 기판 상에 홈 패턴과 돌출 패턴을 가지는 마스터 패턴층을 형성하는 단계와; 상기 마스터 패턴층이 형성된 상기 마스터 기판 상에 몰드 표면층을 형성하는 단계와; 상기 몰드 표면층이 형성된 상기 마스터 기판 상에 박형 유리로 강성 유지층을 형성하는 단계와; 상기 강성 유지층 상부에 정렬된 베이스 롤러 상에 접착 수지층을 형성하는 단계와; 상기 접착 수지층이 형성된 상기 베이스 롤러를 상기 강성 유지층 상에서 회전시켜 상기 접착 수지층을 통해 상기 강성 유지층 및 상기 몰드 표면층을 상기 베이스 롤러 상에 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a roll mold, including: forming a master pattern layer having a groove pattern and a protrusion pattern on a master substrate; Forming a mold surface layer on the master substrate on which the master pattern layer is formed; Forming a rigid holding layer on the master substrate on which the mold surface layer is formed, as a thin glass; Forming an adhesive resin layer on the base roller aligned on the rigid holding layer; And rotating the base roller on which the adhesive resin layer is formed on the rigidity holding layer to adhere the rigidity holding layer and the mold surface layer on the base roller through the adhesive resin layer.

여기서, 상기 몰드 표면층과 접촉하는 상기 마스터 패턴층의 표면은 Fluorooctyl-Trichloro-Silane(FOTS) 또는 ((Heptadecafluoro-1,1,2,3-tetra-hydrodecyl)trichlorosilane)(HDFS)과 같은 자가 조립 단분자 물질로 표면처리되며, 상기 표면 처리된 마스터 패턴층은 상기 강성 유지층 및 상기 몰드 표면층을 상기 베이스 롤러 상에 부착시 상기 몰드 표면층과 분리되는 것을 특징으로 한다.Here, the surface of the master pattern layer in contact with the mold surface layer may be a self-assembly unit such as Fluorooctyl-Trichloro-Silane (FOTS) or (Heptadecafluoro-1,1,2,3-tetra- hydrodecyl) trichlorosilane Wherein the surface treated master pattern layer is separated from the mold surface layer when the stiffness maintaining layer and the mold surface layer are adhered onto the base roller.

그리고, 상기 몰드 표면층은 우레탄 아크릴레이트(Urethane-acrylate) 또는 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane)와 같은 광경화형 수지로 형성되는 것을 특징으로 한다.The mold surface layer is formed of a photocurable resin such as urethane acrylate or polydimethylsiloxane.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 롤 몰드는 베이스 롤러와; 상기 베이스 롤러 상에 형성되는 접착 수지층과; 상기 접착 수지층 상에 박형 유리로 형성되는 강성 유지층과; 상기 강성 유지층 상에 광경화 수지로 형성되는 요철 형태의 몰드 표면층을 구비하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a roll mold comprising: a base roller; An adhesive resin layer formed on the base roller; A stiffness maintaining layer formed on the adhesive resin layer as thin glass; And a mold surface layer of a concave-convex shape formed of a photocurable resin on the rigidity holding layer.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 롤 몰드는 베이스 롤러와; 상기 베이스 롤러 상에 형성되는 접착 수지층과; 상기 접착 수지층 상에 박형 유리로 형성되는 요철 형태의 강성 유지층을 구비하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a roll mold comprising: a base roller; An adhesive resin layer formed on the base roller; And a stiffness maintaining layer in the form of a concavo-convex shape formed of thin glass on the adhesive resin layer.

본 발명은 강성을 유지할 수 있는 박형 유리로 강성 유지층 또는 몰드 표면층을 형성하므로 종래 플렉서블 재질로 이루어진 박막층을 가지는 롤 몰드에 비해 열팽창 및 장력 변형을 방지할 수 있다. 또한, 본 발명은 박형 유리로 형성되는 강성 유지층 또는 몰드 표면층을 베이스 롤러 상에 부착시 얼라인 정밀도가 높아진다. 뿐만 아니라, 본 발명은 강성 유지층 또는 몰드 표면층의 재질인 박형 유리의 내구성이 우수해 롤 몰드는 반영구적으로 사용가능하다.Since the rigid holding layer or the mold surface layer is formed of a thin glass capable of maintaining rigidity, thermal expansion and tensile deformation can be prevented as compared with a roll mold having a thin film layer made of a flexible material in the past. In addition, the present invention increases the accuracy of alignment when the stiffness maintaining layer or mold surface layer formed of thin glass is attached on the base roller. In addition, the present invention is excellent in durability of a rigid holding layer or a thin glass which is a material of a mold surface layer, so that the roll mold can be used semi-permanently.

도 1은 본 발명에 따른 롤 몰드를 가지는 박막 패턴의 제조 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 표면 몰드층의 두께와 베이스 롤러와의 관계를 설명하기 위한 도면이다.
도 3a 내지 도 3e는 도 2에 도시된 롤 몰드의 제조 방법을 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 롤 몰드를 나타내는 사시도이다.
도 5a 내지 도 5e는 도 4에 도시된 롤 몰드의 제조 방법을 나타내는 단면도이다.
도 6a 내지 도 6c는 도 4에 도시된 롤 몰드를 포함하는 박막 패턴의 제조 장치를 이용한 박막 패턴의 제조 방법의 제1 실시 예를 설명하기 위한 단면도이다.
도 7a 내지 도 7c는 도 4에 도시된 롤 몰드를 포함하는 박막 패턴의 제조 장치를 이용한 박막 패턴의 제조 방법의 제2 실시 예를 설명하기 위한 단면도이다.
도 8a 내지 도 8d는 도 4에 도시된 롤 몰드를 포함하는 박막 패턴의 제조 장치를 이용한 박막 패턴의 제조 방법의 제3 실시 예를 설명하기 위한 단면도이다.
도 9는 본 발명에 따른 박막 패턴의 제조 방법에 의해 형성된 박막 패턴을 가지는 액정 표시 패널을 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view showing an apparatus for manufacturing a thin film pattern having a roll mold according to the present invention.
Fig. 2 is a view for explaining the relationship between the thickness of the surface mold layer shown in Fig. 1 and the base roller.
Figs. 3A to 3E are cross-sectional views showing a method of manufacturing the roll mold shown in Fig. 2. Fig.
4 is a perspective view showing a roll mold according to a second embodiment of the present invention.
5A to 5E are cross-sectional views showing a method of manufacturing the roll mold shown in Fig.
6A to 6C are cross-sectional views for explaining a first embodiment of a method of manufacturing a thin film pattern using the apparatus for manufacturing a thin film pattern including the roll mold shown in FIG.
7A to 7C are cross-sectional views for explaining a second embodiment of a method of manufacturing a thin film pattern using the apparatus for manufacturing a thin film pattern including the roll mold shown in FIG.
8A to 8D are cross-sectional views for explaining a third embodiment of a method of manufacturing a thin film pattern using the apparatus for manufacturing a thin film pattern including the roll mold shown in FIG.
9 is a perspective view showing a liquid crystal display panel having a thin film pattern formed by the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention.

이하, 첨부된 도면 및 실시 예를 통해 본 발명의 실시 예를 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings and embodiments.

도 1은 본 발명에 따른 롤 몰드를 가지는 박막 패턴 형성용 인쇄 장치 또는 임프린트 장치를 나타내는 단면도이다.1 is a sectional view showing a printing apparatus or an imprint apparatus for forming a thin film having a roll mold according to the present invention.

도 1에 도시된 인쇄 장치 또는 임프린트 장치는 인쇄액 공급부(120)와, 롤 몰드(140)를 포함한다.The printing apparatus or the imprint apparatus shown in FIG. 1 includes a printing liquid supply unit 120 and a roll mold 140.

인쇄액 공급부(120)는 인쇄액을 저장하며, 저장된 인쇄액은 인쇄 방식으로 박막 패터닝시 롤 몰드(140)에 공급되거나 임프린트 방식으로 박막 패터닝시 기판(101)에 공급한다. The printing liquid supply unit 120 stores the printing liquid, and the stored printing liquid is supplied to the roll mold 140 when the thin film is patterned by the printing method or to the substrate 101 when the thin film is patterned by the imprint method.

롤 몰드(140)는 이송부(128)를 통해 이동하는 기판(101)과 접촉되도록 기판(101) 상에서 회전하게 된다. 이외에도 기판(101)이 고정된 상태에서 롤 몰드(140)가 이동하여 기판(101)과 접촉될 수도 있다. The roll mold 140 rotates on the substrate 101 to be in contact with the substrate 101 moving through the transfer unit 128. The roll mold 140 may move in contact with the substrate 101 in a state where the substrate 101 is fixed.

이러한 롤 몰드(140)는 인쇄 방식으로 박막 패터닝시 인쇄액 공급부(120)로부터의 인쇄액을 롤 몰드(140)의 홈 패턴(146a) 내에 충진한다. 롤 몰드(140)의 홈 패턴(146a) 내에 충진된 인쇄액은 롤 몰드(140)가 기판(101) 상에서 회전하는 경우 기판(101)에 전사된다. 또한, 롤 몰드(140)는 임프린트 방식으로 박막 패터닝시 인쇄액이 도포된 기판(101)과 접촉하도록 회전하게 된다.The roll mold 140 fills the groove pattern 146a of the roll mold 140 with the printing liquid from the printing liquid supply unit 120 when the thin film is patterned by a printing method. The printing liquid filled in the groove pattern 146a of the roll mold 140 is transferred to the substrate 101 when the roll mold 140 rotates on the substrate 101. [ In addition, the roll mold 140 is rotated in contact with the substrate 101 to which the printing liquid is applied upon thin film patterning in an imprinting manner.

이와 같은 롤 몰드(140)는 베이스 롤러(144)와, 접착 수지층(142)과, 몰드 표면층(146)으로 이루어진다.The roll mold 140 includes a base roller 144, an adhesive resin layer 142, and a mold surface layer 146.

몰드 표면층(146)은 기판(101)에 형성하고자 하는 패턴과 동일 형상 또는 반전 형상의 홈패턴(146a)과 돌출 패턴(146b)을 가지도록 형성된다. 몰드 표면층(146)은 강성을 유지할 수 있는 박형 유리로 형성된다. 이 때, 몰드 표면층(146)은 도 2에 도시된 바와 같이 베이스 롤러(144)의 곡률 반경에 의해 두께가 결정된다. 예를 들어, 몰드 표면층(146)이 0.5mm의 두께로 형성되면, 베이스 롤러(144)의 곡률 반경은 약 40mm으로 형성되어야 몰드 표면층(146)의 손상(파괴)를 방지할 수 있으며, 몰드 표면층(146)이 0.10mm로 형성되면, 베이스 롤러(144)의 곡률 반경은 약 70mm로 형성되어야 몰드 표면층(146)의 손상(파괴)를 방지할 수 있다.The mold surface layer 146 is formed to have a groove pattern 146a and a protrusion pattern 146b having the same shape or inverted shape as the pattern to be formed on the substrate 101. [ The mold surface layer 146 is formed of a thin glass which can maintain rigidity. At this time, the thickness of the mold surface layer 146 is determined by the radius of curvature of the base roller 144 as shown in Fig. For example, if the mold surface layer 146 is formed to a thickness of 0.5 mm, the radius of curvature of the base roller 144 should be about 40 mm to prevent damage (breakage) of the mold surface layer 146, The radius of curvature of the base roller 144 should be about 70 mm to prevent damage (breakage) of the surface layer 146 of the mold.

접착 수지층(142)은 베이스 롤러(144)와 몰드 표면층(146)을 접착시키는 역할을 한다. 이러한 접착 수지층(142)은 베이스 롤러(144)와 몰드 표면층(146) 사이에 실런트(Sealant)와 같은 광경화형의 접착제로 형성된다.The adhesive resin layer 142 serves to bond the base roller 144 and the mold surface layer 146. The adhesive resin layer 142 is formed of a photocurable adhesive such as a sealant between the base roller 144 and the mold surface layer 146.

베이스 롤러(144) 내에는 몰드 표면층(148) 및 접착 수지층(142)을 경화시키기 위한 경화 장치인 광원(122)이 위치하게 된다. 이 광원(122)은 자외선을 생성하며, 광원(122)은 광원 하우징(도 3c의 124)에 의해 감싸지도록 형성된다. 즉, 광원 하우징(124)은 스테이지와 마주보는 광원(122)의 표면을 제외한 나머지 광원(122)의 표면을 감싸도록 형성된다. 여기서, 광원(122) 및 광원 하우징(124)은 베이스 롤러(144)의 회전시 베이스 롤러(144)를 따라 회전하지 않고 고정된 상태를로 베이스 롤러(144)의 이동 방향을 따라 이동한다.A light source 122, which is a curing device for curing the mold surface layer 148 and the adhesive resin layer 142, is located in the base roller 144. This light source 122 generates ultraviolet light, and the light source 122 is formed to be surrounded by the light source housing (124 in FIG. 3C). That is, the light source housing 124 is formed to surround the surface of the light source 122 except the surface of the light source 122 facing the stage. The light source 122 and the light source housing 124 move along the movement direction of the base roller 144 in a fixed state without rotating along the base roller 144 when the base roller 144 rotates.

또한, 베이스 롤러(144) 내에는 베이스 롤러(144)의 위치를 얼라인하기 위한 촬상부(도시하지 않음)가 위치하게 된다. 구체적으로, 촬상부는 접착 수지층(142)이 도포된 베이스 롤러(144)가 몰드 표면층(146) 상에 정렬될 때 베이스 롤러(144)의 위치를 얼라인한다. 이 촬상부는 베이스 롤러(144) 내에 탈부착이 가능하도록 설치되어 얼라인 공정시 부착되며, 얼라인 공정이 완료된 후 탈착될 수 있다. An image pickup unit (not shown) for aligning the position of the base roller 144 is disposed in the base roller 144. Specifically, the imaging section aligns the position of the base roller 144 when the base roller 144 to which the adhesive resin layer 142 is applied is aligned on the mold surface layer 146. The image pickup unit is installed in the base roller 144 so as to be detachable and attachable in the aligning process, and can be detached after the aligning process is completed.

이와 같이, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 롤 몰드(140)는 강성을 유지할 수 있는 박형 유리로 몰드 표면층(146)을 형성하므로 종래 플렉서블 재질로 이루어진 박막층을 가지는 롤 몰드에 비해 열팽창 및 장력 변형을 방지할 수 있다. 또한, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 롤 몰드(140)는 베이스 롤러(144) 상에 박형 유리로 형성되는 몰드 표면층(146)을 부착시 얼라인 정밀도가 높다. 뿐만 아니라, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 롤 몰드(140)는 몰드 표면층(146)의 재질인 박형 유리의 내구성이 우수해 반영구적으로 사용가능하다.As described above, the roll mold 140 according to the first embodiment of the present invention forms the mold surface layer 146 with the thin glass that can maintain the rigidity. Therefore, compared with the roll mold having the thin film layer of the conventional flexible material, Can be prevented. In addition, the roll mold 140 according to the first embodiment of the present invention has high alignment accuracy when the mold surface layer 146 formed of thin glass on the base roller 144 is attached. In addition, the roll mold 140 according to the first embodiment of the present invention is excellent in the durability of the thin glass, which is the material of the mold surface layer 146, and can be used semi-permanently.

도 3a 내지 도 3e는 도 1에 도시된 롤 몰드의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.FIGS. 3A to 3E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the roll mold shown in FIG. 1. FIG.

도 3a에 도시된 바와 같이 평탄한 표면의 마스터 기판(110) 상에 홈 패턴(146a)과 돌출 패턴(146b)을 가지는 몰드 표면층(146)이 형성된다. 이 몰드 표면층(156)은 마스터 기판(110) 상에 박형 유리가 접착된 후 포토리소그래피공정과 식각 공정을 통해 박형 유리가 패터닝됨으로써 형성된다. 한편, 포토리소그래피 공정 대신에 홀로그래픽 리소그래피, 레이저 가공, 전자빔 가공, 또는 집속 이온빔 가공 등을 이용한 공정이 이용될 수도 있다.A mold surface layer 146 having a groove pattern 146a and a protrusion pattern 146b is formed on the master substrate 110 having a flat surface as shown in Fig. The mold surface layer 156 is formed by adhering a thin glass onto the master substrate 110 and then patterning the thin glass through a photolithography process and an etching process. On the other hand, a process using holographic lithography, laser processing, electron beam processing, or focused ion beam processing may be used instead of the photolithography process.

그런 다음, 몰드 표면층(146)과 마스터 기판(110)이 분리된 후 몰드 표면층(146)의 홈 패턴(146a)과 돌출 패턴(146b)은 추후에 형성될 보호 필름(116)과의 이형(박리) 공정이 용이해지도록 점착 방지막(도시하지 않음)이 형성된다.After the mold surface layer 146 and the master substrate 110 are separated from each other, the groove pattern 146a and the protruding pattern 146b of the mold surface layer 146 are separated from the protective film 116 to be formed later An anti-sticking film (not shown) is formed to facilitate the process.

그런 다음, 도 3b에 도시된 바와 같이 몰드 표면층(146) 상에는 몰드 표면층(146)의 돌출 패턴(146b)의 상부면과 접촉하도록 폴리머 계열의 보호 필름(116)이 부착된다. 보호 필름(116)은 제조 공정시 몰드 표면층(146)의 홈 패턴(146a)과 돌출 패턴(146b)의 손상을 방지한다.Then, a protective film 116 of a polymer series is attached on the mold surface layer 146 as shown in Fig. 3B so as to come into contact with the upper surface of the protruding pattern 146b of the mold surface layer 146. Fig. The protective film 116 prevents damage to the groove pattern 146a and the protruding pattern 146b of the mold surface layer 146 during the manufacturing process.

그런 다음, 도 3c에 도시된 바와 같이 보호 필름(116)이 부착된 몰드 표면층(146)은 반전되어 스테이지(130) 상에 안착된다. 이 때, 몰드 표면층(146)은 스테이지(130) 내에 위치하는 진공 흡입관(도시하지 않음)을 통해 스테이지(130)에 진공 흡착한다.Then, as shown in FIG. 3C, the mold surface layer 146 to which the protective film 116 is adhered is inverted and seated on the stage 130. At this time, the mold surface layer 146 is vacuum-adsorbed on the stage 130 through a vacuum suction pipe (not shown) located in the stage 130.

그런 다음, 도 3d에 도시된 바와 같이 베이스 롤러(144) 상에 공급 노즐(134)을 통해 접착 수지층(142)이 도포된다. Then, an adhesive resin layer 142 is applied onto the base roller 144 through the supply nozzle 134 as shown in Fig. 3D.

그런 다음, 도 3e에 도시된 바와 같이 접착 수지층(142)이 도포된 베이스 롤러(144)는 몰드 표면층(148) 상에서 회전하게 된다. 이와 동시에 베이스 롤러(144) 내에 위치하는 광원(122)이 점등됨으로써 광원(122)으로부터 출사되는 광을 통해 접착 수지층(142)이 경화된다. 이에 따라, 접착 수지층(142)을 통해 베이스 롤러(144) 상에 몰드 표면층(146)으로 이루어진 평판 몰드가 부착 및 고정되므로 홈 패턴 및 돌출 패턴을 가지는 롤 몰드(140)가 완성된다.3E, the base roller 144, to which the adhesive resin layer 142 has been applied, is rotated on the mold surface layer 148. As shown in Fig. At the same time, the light source 122 located in the base roller 144 is turned on, whereby the adhesive resin layer 142 is cured through the light emitted from the light source 122. Accordingly, the flat mold composed of the mold surface layer 146 is adhered and fixed on the base roller 144 through the adhesive resin layer 142, so that the roll mold 140 having the groove pattern and the protruding pattern is completed.

도 4는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 인쇄 장치 또는 임프린팅 장치의 롤 몰드를 나타내는 사시도이다.4 is a perspective view showing a roll mold of a printing apparatus or an imprinting apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 롤 몰드는 도 2에 도시된 롤 몰드에 비해 몰드 표면층(146)과 접착 수지층(142) 사이에 강성 유지층(148)을 추가로 구비하는 것을 제외하고는 동일한 구성요소를 구비한다. 이에 따라, 동일한 구성 요소에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.The roll mold shown in Fig. 4 has the same components as the roll mold shown in Fig. 2 except that it further comprises a stiffness maintaining layer 148 between the mold surface layer 146 and the adhesive resin layer 142 Respectively. Accordingly, detailed description of the same constituent elements will be omitted.

몰드 표면층(146)은 기판(101)에 형성하고자 하는 패턴과 동일 형상 또는 반전 형상의 홈패턴(146a)과 돌출 패턴(146b)을 가지도록 형성된다. 이러한 몰드 표면층(146)은 우레탄 아크릴레이트(Urethane-acrylate) 또는 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane)과 같은 광경화형 재질로 형성된다. The mold surface layer 146 is formed to have a groove pattern 146a and a protrusion pattern 146b having the same shape or inverted shape as the pattern to be formed on the substrate 101. [ The mold surface layer 146 is formed of a photocurable material such as urethane acrylate or polydimethylsiloxane.

강성 유지층(148)은 강성을 유지할 수 있는 박형 유리로 형성된다. 이 때, 강성 유지층(148)은 도 2에 도시된 바와 같이 베이스 롤러(144)의 곡률 반경에 의해 두께가 결정된다. 예를 들어, 강성 유지층(148)이 0.5mm의 두께로 형성되면, 베이스 롤러(144)의 곡률 반경은 약 40mm으로 형성되어야 강성 유지층(148)의 손상(파괴)를 방지할 수 있으며, 강성 유지층(148)이 0.10mm로 형성되면, 베이스 롤러(144)의 곡률 반경은 약 70mm로 형성되어야 강성 유지층(148)의 손상(파괴)를 방지할 수 있다.The rigidity holding layer 148 is formed of a thin glass that can maintain rigidity. At this time, the thickness of the rigidity maintaining layer 148 is determined by the radius of curvature of the base roller 144 as shown in Fig. For example, if the stiffness retaining layer 148 is formed to a thickness of 0.5 mm, the radius of curvature of the base roller 144 should be about 40 mm to prevent damage (breakage) of the stiffness retaining layer 148, When the rigidity holding layer 148 is formed to be 0.10 mm, the radius of curvature of the base roller 144 should be about 70 mm to prevent damage (breakage) of the rigidity holding layer 148.

이와 같이, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 롤 몰드(140)는 강성을 유지할 수 있는 박형 유리로 강성 유지층(148)을 형성하므로 종래 플렉서블 재질로 이루어진 박막층을 가지는 롤 몰드에 비해 열팽창 및 장력 변형을 방지할 수 있다. 또한, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 롤 몰드(140)는 베이스 롤러(144) 상에 박형 유리로 형성되는 강성 유지층(148)을 부착시 얼라인 정밀도가 높다. 뿐만 아니라, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 롤 몰드(140)는 강성 유지층(148)의 재질인 박형 유리의 내구성이 우수해 반영구적으로 사용가능하다.Since the roll mold 140 according to the second embodiment of the present invention forms the rigidity holding layer 148 with the thin glass which can maintain the rigidity, the thermal expansion and the tension It is possible to prevent deformation. In addition, the roll mold 140 according to the second embodiment of the present invention has high alignment accuracy when the rigidity holding layer 148 formed of thin glass is attached on the base roller 144. In addition, the roll mold 140 according to the second embodiment of the present invention is excellent in the durability of the thin glass which is the material of the rigidity holding layer 148, and can be used semi-permanently.

도 5a 내지 도 5e는 도 4에 도시된 롤 몰드의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.5A to 5E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the roll mold shown in FIG.

도 5a에 도시된 바와 같이 평탄한 표면의 마스터 기판(110) 상에 홈 패턴(112a)과 돌출 패턴(112b)을 가지는 마스터 패턴층(112)이 형성된다. 이 마스터 패턴층(112)은 포토레지스트 등과 같은 유기 계열 재료로 도포된 후 포토리소그래피, 홀로그래픽 리소그래피, 레이저 가공, 전자빔 가공, 또는 집속 이온빔 가공 등을 이용한 공정을 통해 패터닝됨으로써 형성된다. 한편, 마스터 패턴층(112)이 마스터 기판(110)과 개별적으로 마스터 기판(110) 상에 형성되는 것 외에도 마스터 기판(110)을 패터닝하여 마스터 기판(110)의 표면에 홈 패턴과 돌출 패턴을 가지는 마스터 패턴이 형성될 수도 있다.A master pattern layer 112 having a groove pattern 112a and a protruding pattern 112b is formed on a master substrate 110 having a flat surface as shown in FIG. The master pattern layer 112 is formed by being coated with an organic material such as a photoresist and then patterned through a process using photolithography, holographic lithography, laser processing, electron beam machining, or focused ion beam machining. The master pattern layer 112 is formed on the master substrate 110 separately from the master substrate 110 and the master pattern 110 is patterned to form a groove pattern and a protrusion pattern on the surface of the master substrate 110 A master pattern may be formed.

이러한 마스터 패턴층(112)은 추후에 형성될 몰드 표면층(146)과의 이형(박리) 공정이 용이해지도록 자가 조립 단분자 물질(Self-Assembled Monolayer; SAM)로 표면 처리된다. 이에 따라, 몰드 표면층(146)과의 이형 공정시 몰드 표면층(146)을 따라 마스터 패턴층(112)이 롤 몰드(140)에 부착되는 것을 방지할 수 있다. 이러한 자가 조립 단분자 물질(SAM)은 FOTS(Fluorooctyl-Trichloro-Silane) 또는 HDFS((heptadecafluoro-1,1,2,3-tetra-hydrodecyl)trichlorosilane)과 같은 소수성 재질로 형성된다.The master pattern layer 112 is surface-treated with a self-assembled monolayer (SAM) so as to facilitate the release (peeling) process with the mold surface layer 146 to be formed later. This can prevent the master pattern layer 112 from adhering to the roll mold 140 along the mold surface layer 146 during the mold releasing process with the mold surface layer 146. These self-assembled monomolecular materials (SAMs) are formed of hydrophobic materials such as FOTS (Fluorooctyl-Trichloro-Silane) or HDFS (heptadecafluoro-1,1,2,3-tetra-hydrodecyl) trichlorosilane.

그런 다음, 도 5b에 도시된 바와 같이 마스터 패턴층(112) 상에 제1 공급 노즐(132)을 통해 몰드 수지액이 도포됨으로써 몰드 표면층(146)이 형성된다. 마스터 패턴층(112)과 접촉하는 몰드 표면층(146)의 하부면은 마스크 패턴층(112)의 돌출 패턴(112b) 및 홈 패턴(112a)을 따라 요철 형태로 형성되며, 몰드 표면층(146)의 상부면은 평탄한 표면을 가지도록 형성되거나 마스크 패턴층(112)의 돌출 패턴(112b) 및 홈 패턴(112a)을 따라 요철 형태로 형성된다. 이러한 몰드 표면층(146)은 우레탄 아크릴레이트(Urethane-acrylate) 또는 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane)과 같은 광경화형 몰드 수지액으로 형성된다.5 (b), the mold surface layer 146 is formed by applying the mold resin liquid onto the master pattern layer 112 through the first supply nozzle 132. Then, as shown in Fig. The lower surface of the mold surface layer 146 that contacts the master pattern layer 112 is formed in a concavo-convex shape along the protruding pattern 112b and the groove pattern 112a of the mask pattern layer 112, The upper surface is formed to have a flat surface or to have a concavo-convex shape along the protruding pattern 112b and the groove pattern 112a of the mask pattern layer 112. [ The mold surface layer 146 is formed of a photocurable mold resin liquid such as urethane acrylate or polydimethylsiloxane.

그런 다음, 도 5c에 도시된 바와 같이 강성 유지층(148)은 몰드 표면층(146) 상에 형성된다. 그런 다음, 베이스 롤러(144)의 양측은 스테이지(130), 마스터 기판(110), 마스터 패턴층(112) 및 몰드 표면층(146) 중 적어도 어느 하나에 형성된 얼라인키(도시하지 않음)를 통해 강성 유지층(148) 상에 정렬된다. 강성 유지층(148) 상에 정렬된 베이스 롤러(144)는 강성 유지층(148) 상에서 회전하게 된다. 이에 따라, 베이스 롤러(144)의 회전시 발생되는 인압이 강성 유지층(148)에 가해지고, 강성 유지층(148) 상에서 회전하는 베이스 롤러(144) 내에 위치하는 광원(122)을 통해 발산되는 광을 통해 몰드 표면층(146)은 경화되어 강성 유지층(148)와 합착된다. Then, a stiffness maintaining layer 148 is formed on the mold surface layer 146 as shown in Fig. 5C. Both sides of the base roller 144 are then fixed on the base 130 by means of an alignment mark (not shown) formed on at least one of the stage 130, the master substrate 110, the master pattern layer 112 and the mold surface layer 146, And is aligned on the holding layer 148. The base roller 144 aligned on the stiffness retaining layer 148 is caused to rotate on the stiffness retaining layer 148. The pressure generated when the base roller 144 rotates is applied to the rigidity holding layer 148 and is diverted through the light source 122 located in the base roller 144 rotating on the rigidity holding layer 148 The mold surface layer 146 is cured through the light and adhered to the rigidity retaining layer 148.

한편, 본원 발명의 베이스 롤러(144)는 고상의 강성 유지층(148)과 면접촉하면서 강성 유지층(148) 상에서 회전한다. 이 경우, 베이스 롤러(144)는 고상의 강성 유지층(148) 상에서 미끄러질 가능성이 없으므로 강성 유지층(148)과 베이스 롤러(144) 간의 얼라인 정밀도가 높아져 패턴 정밀도가 높아진다. 또한, 고상의 강성 유지층(148)과 베이스 롤러(144)가 면접촉하므로 강성 유지층(148)과 베이스 롤러(144)의 접촉 면적이 상대적으로 넓어져 상대적으로 짧은 시간에, 낮은 광량으로 몰드 표면층(146)을 경화할 수 있다.On the other hand, the base roller 144 of the present invention rotates on the rigidity holding layer 148 while making face contact with the solid stiffness maintaining layer 148. In this case, since the base roller 144 is not likely to slip on the solid-state retaining layer 148, the alignment accuracy between the rigidity retaining layer 148 and the base roller 144 increases and the pattern accuracy increases. Since the solid surface of the solid stiffness maintaining layer 148 and the base roller 144 are in surface contact with each other, the contact area between the stiffness maintaining layer 148 and the base roller 144 is relatively widened, The surface layer 146 can be cured.

반면에 종래 베이스 롤러가 박형 유리없이 액상의 몰드 표면층과 직접 접촉하면서 회전하게 되면, 베이스 롤러는 액상의 몰드 표면층과 선접촉하게 된다. 이 경우, 베이스 롤러는 미경화 상태인 액상의 몰드 표면층 상에서 미끄러질 가능성이 높아지므로 몰드 표면층과 베이스 롤러 간의 얼라인 정밀도가 낮아져 패턴 정밀도가 낮아진다. 또한, 액상의 몰드 표면층과 베이스 롤러가 선접촉하므로 몰드 표면층과 베이스 롤러의 접촉 면적이 상대적으로 낮아져 상대적으로 긴 시간에, 높은 광량으로 몰드 표면층을 경화해야만 한다.On the other hand, when the conventional base roller is rotated without contacting the liquid surface mold layer without thin glass, the base roller comes into line contact with the liquid mold surface layer. In this case, since the base roller has a high possibility of sliding on the liquid surface layer of the mold in the uncured state, the accuracy of alignment between the surface layer of the mold and the base roller is lowered and the pattern accuracy is lowered. In addition, since the liquid surface layer of the mold and the base roller are in line contact, the contact surface area of the mold surface layer and the base roller is relatively low, and the mold surface layer must be cured at a high light amount for a relatively long time.

그런 다음, 도 5d에 도시된 바와 같이 베이스 롤러(144) 상에 제2 공급 노즐(134)을 통해 접착 수지층(142)이 도포된다. 여기서, 제2 공급 노즐(134) 대신에 도 5b에 도시된 제1 공급 노즐(132)을 통해 베이스 롤러(144) 상에 접착 수지층(142)을 도포할 수도 있다.5D, an adhesive resin layer 142 is applied on the base roller 144 through the second supply nozzle 134. [ Here, instead of the second supply nozzle 134, the adhesive resin layer 142 may be coated on the base roller 144 through the first supply nozzle 132 shown in FIG. 5B.

그런 다음, 도 5e에 도시된 바와 같이 접착 수지층(142)이 도포된 베이스 롤러(144)는 강성 유지층(148) 상에서 회전하게 된다. 이와 동시에 베이스 롤러(144) 내에 위치하는 광원(122)이 점등됨으로써 광원(122)으로부터 출사되는 광을 통해 접착 수지층(142)이 경화된다. 이에 따라, 접착 수지층(142)을 통해 베이스 롤러(144) 상에 몰드 표면층(146) 및 강성 유지층(148)으로 이루어진 평판 몰드가 부착 및 고정되므로 홈 패턴 및 돌출 패턴을 가지는 롤 몰드(140)가 완성된다.5E, the base roller 144 to which the adhesive resin layer 142 is applied is caused to rotate on the rigidity retaining layer 148. Then, as shown in Fig. At the same time, the light source 122 located in the base roller 144 is turned on, whereby the adhesive resin layer 142 is cured through the light emitted from the light source 122. The flat mold including the mold surface layer 146 and the rigidity holding layer 148 is adhered and fixed on the base roller 144 through the adhesive resin layer 142 so that the roll mold 140 having the groove pattern and the protruding pattern ) Is completed.

도 6a 내지 도 6c는 본 발명에 따른 롤 몰드를 이용한 임프린트 방식으로 박막을 패터닝하는 방법의 제1 실시 예를 설명하기 위한 도면들이다.6A to 6C are views for explaining a first embodiment of a method of patterning a thin film by an imprint method using a roll mold according to the present invention.

도 6a에 도시된 바와 같이 기판(101) 상에 인쇄액 공급부(120)를 통해 인쇄액(102)이 도포된다. 그런 다음, 도 4에 도시된 바와 같이 베이스 롤러(144)와, 접착 수지층(142), 강성 유지층(148) 및 몰드 표면층(146)을 가지는 롤 몰드(140)가 기판(101) 상에 정렬된다. 정렬된 롤 몰드(140)는 기판(101) 상에서 회전하게 된다. 이 때, 롤 몰드(140)의 베이스 롤러(144) 내에는 설치된 광경화장치인 광원(122), 또는 기판(101) 배면에 위치하는 열경화 장치 또는 광경화 장치를 통해 인쇄액(102)이 경화된다. 이에 따라, 경화된 인쇄액(102)은 도 5c에 도시된 바와 같이 기판(101) 상에 박막 패턴(104)으로 형성된다. The printing liquid 102 is applied onto the substrate 101 through the printing liquid supply unit 120 as shown in FIG. 6A. 4, a base roller 144 and a roll mold 140 having an adhesive resin layer 142, a rigidity maintaining layer 148, and a mold surface layer 146 are placed on the substrate 101 . The aligned roll mold 140 is rotated on the substrate 101. At this time, the printing liquid 102 is supplied through the light source 122, which is a photo-curing device installed in the base roller 144 of the roll mold 140, or the thermosetting device or photo- Cured. Thus, the cured print liquid 102 is formed into the thin film pattern 104 on the substrate 101 as shown in Fig. 5C.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명에 따른 롤 몰드를 이용한 인쇄 방식으로 박막을 패터닝하는 방법의 제2 실시 예를 설명하기 위한 도면들이다.7A to 7C are views for explaining a second embodiment of a method of patterning a thin film by a printing method using a roll mold according to the present invention.

도 7a에 도시된 바와 같이 베이스 롤러(144)와, 접착 수지층(142), 강성 유지층(148) 및 몰드 표면층(146)을 가지는 롤 몰드(140)를 마련한다. 이 롤 몰드(140)의 홈에는 인쇄액 공급부(120)를 통해 인쇄액(102)이 충진된다. A roll mold 140 having a base roller 144 and an adhesive resin layer 142, a rigidity holding layer 148 and a mold surface layer 146 is provided as shown in Fig. In the groove of the roll mold 140, the printing liquid 102 is filled through the printing liquid supplying portion 120.

그런 다음, 도 7b에 도시된 바와 같이 인쇄액(102)이 충진된 롤 몰드(140)는 기판(101) 상에서 회전하게 된다. 이에 따라, 기판(101) 상에는 인쇄액(102)이 전사된 후 건조 및 경화된다. 이 때, 롤 몰드(140)의 베이스 롤러(144) 내에는 설치된 광경화 장치인 광원(122), 또는 기판(101) 배면에 위치하는 열경화 장치 또는 광경화 장치를 통해 인쇄액(102)이 경화된다. 이에 따라, 경화된 인쇄액(102)은 도 7c에 도시된 바와 같이 기판(101) 상에 박막 패턴(104)으로 형성된다. Then, the roll mold 140 filled with the printing liquid 102 is rotated on the substrate 101 as shown in Fig. 7B. Accordingly, the printing liquid 102 is transferred onto the substrate 101, dried and cured. At this time, the printing liquid 102 is supplied through the light source 122, which is a photo-curing device installed in the base roller 144 of the roll mold 140, or the thermosetting device or photo- Cured. Thus, the cured print liquid 102 is formed into the thin film pattern 104 on the substrate 101 as shown in Fig. 7C.

도 8a 내지 도 8d는 본 발명에 따른 롤 몰드를 이용한 인쇄 방식으로 박막을 패터닝하는 방법의 제3 실시 예를 설명하기 위한 도면들이다.8A to 8D are views for explaining a third embodiment of a method of patterning a thin film by a printing method using a roll mold according to the present invention.

도 8a에 도시된 바와 같이 베이스 롤러(144)와, 접착 수지층(142), 강성 유지층(148) 및 몰드 표면층(146)을 가지는 롤 몰드(140)를 마련한다. 이 롤 몰드(140)의 홈에는 인쇄액 공급부(120)를 통해 인쇄액(102)이 충진된다. A roll mold 140 having a base roller 144 and an adhesive resin layer 142, a rigidity holding layer 148 and a mold surface layer 146 is provided as shown in Fig. In the groove of the roll mold 140, the printing liquid 102 is filled through the printing liquid supplying portion 120.

그런 다음, 도 8b에 도시된 바와 같이 인쇄액(150)은 롤 몰드(140)와 맞물려 회전하는 전사 롤러(106)에 전사된다. 인쇄액(102)이 형성된 전사 롤러(106)는 도 8c에 도시된 바와 같이 기판(101) 상에서 회전하게 된다. 이에 따라, 기판(101) 상에는 인쇄액(102)이 전사된 후 건조 및 경화됨으로써 인쇄액(102)은 도 8d에 도시된 바와 같이 기판(101) 상에 박막 패턴(104)으로 형성된다. Then, as shown in Fig. 8B, the printing liquid 150 is transferred to the transfer roller 106 which rotates in engagement with the roll mold 140. Fig. The transfer roller 106 on which the printing liquid 102 is formed is rotated on the substrate 101 as shown in Fig. Thus, the printing liquid 102 is transferred onto the substrate 101, dried and cured, so that the printing liquid 102 is formed into the thin film pattern 104 on the substrate 101 as shown in FIG. 8D.

한편,도 6a 내지 도 6c와, 도 7a 내지 도 7c와, 도 8a 내지 도 8d에 도시된 제조 방법은 도 4에 도시된 롤 몰드를 이용하는 것을 예로 들어 설명하였지만 이외에도 도 1에 도시된 롤 몰드를 이용할 수도 있다.6A to 6C, FIGS. 7A to 7C and FIGS. 8A to 8D have been described using the roll mold shown in FIG. 4 as an example. However, in addition to the roll mold shown in FIG. 1, It can also be used.

이와 같이, 도 6c, 도 7c 및 도 8d에 도시된 박막 패턴(104)은 액정 표시 패널 뿐만 아니라 플라즈마 디스플레이 패널, 전계 발광 표시 패널 및 전계 방출 소자 등의 평판 표시 소자의 박막 또는 후막으로 이용된다.6C, 7C, and 8D is used as a thin film or a thick film of a flat panel display device such as a plasma display panel, an electroluminescence display panel, and a field emission device as well as a liquid crystal display panel.

구체적으로, 도 9에 도시된 본 발명에 따른 액정 표시 패널은 액정층(160)을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 박막 트랜지스터 기판(150) 및 컬러 필터 기판(180)을 구비한다.Specifically, the liquid crystal display panel according to the present invention shown in FIG. 9 includes a thin film transistor substrate 150 and a color filter substrate 180 which are bonded to each other with a liquid crystal layer 160 interposed therebetween.

컬러 필터 기판(180)은 상부기판(182) 상에 순차적으로 형성된 블랙매트릭스(184), 컬러 필터(186), 공통 전극(188), 컬럼 스페이서(도시하지 않음)를 구비한다.The color filter substrate 180 includes a black matrix 184, a color filter 186, a common electrode 188, and a column spacer (not shown) sequentially formed on the upper substrate 182.

박막 트랜지스터 기판(150)은 하부 기판(152) 위에 서로 교차하게 형성된 게이트 라인(156) 및 데이터 라인(154)과, 그 교차부에 인접한 박막 트랜지스터(158)와, 그 교차 구조로 마련된 화소 영역에 형성된 화소 전극(170)을 구비한다. The thin film transistor substrate 150 includes a gate line 156 and a data line 154 formed on the lower substrate 152 so as to intersect with each other and a thin film transistor 158 adjacent to the intersection and a pixel region And a pixel electrode 170 formed thereon.

이러한 액정 표시 패널의 컬러필터(186), 블랙 매트릭스(184) 및 컬럼 스페이서 등과 같은 유기물질로 형성되는 박막 패턴과, 액정 표시 패널의 박막트랜지스터(188), 게이트 라인(186), 데이터 라인(184) 및 화소 전극(170) 등과 같은 무기물질로 형성되는 박막을 패터닝하기 위한 마스크로 이용되는 유기 패턴은 본원 발명에 따른 롤 몰드를 이용한 패터닝 공정을 통해 형성될 수 있다.A thin film transistor 188, a gate line 186, a data line 184, and a data line 184 of a liquid crystal display panel, which are formed of an organic material such as a color filter 186, a black matrix 184 and a column spacer of the liquid crystal display panel, And the pixel electrode 170 may be formed through a patterning process using the roll mold according to the present invention.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Will be clear to those who have knowledge of.

140 : 롤 몰드 142 : 접착 수지층
144 : 베이스 롤러 146 : 몰드 표면층
148 : 강성 유지층140: roll mold 142: adhesive resin layer
144: Base roller 146: Mold surface layer
148: Rigidity retaining layer

Claims (9)

마스터 기판 상에 홈 패턴과 돌출 패턴을 가지는 몰드 표면층을 박형 유리로 형성하는 단계와;
상기 몰드 표면층의 돌출 패턴의 상부면과 접촉하도록 보호 필름을 부착하는 단계와;
상기 보호 필름이 부착된 몰드 표면층을 반전시켜 스테이지 상에 안착하는 단계와;
상기 스테이지 상부에 정렬된 베이스 롤러 상에 접착 수지층을 형성하는 단계와;
상기 접착 수지층이 형성된 상기 베이스 롤러를 상기 몰드 표면층 상에서 회전시켜 상기 접착 수지층을 통해 상기 몰드 표면층을 상기 베이스 롤러 상에 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 롤 몰드의 제조 방법.Forming a mold surface layer having a groove pattern and a protrusion pattern on the master substrate from thin glass;
Attaching a protective film so as to contact the upper surface of the protruding pattern of the mold surface layer;
Reversing the mold surface layer to which the protective film is attached and resting on the stage;
Forming an adhesive resin layer on the base roller aligned on the stage top;
And rotating the base roller on which the adhesive resin layer is formed on the mold surface layer to adhere the mold surface layer on the base roller through the adhesive resin layer. 제 1 항에 있어서,
상기 몰드 표면층을 상기 베이스 롤러 상에 부착시 상기 보호필름은 상기 몰드 표면층과 분리되는 것을 특징으로 하는 롤 몰드의 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein when the mold surface layer is adhered to the base roller, the protective film is separated from the mold surface layer. 제 1 항에 있어서,
상기 보호 필름은 폴리머 계열로 형성되는 것을 특징으로 하는 롤 몰드의 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein the protective film is formed in a polymer-based manner. 제 1 항에 있어서,
상기 마스터 기판 상에 홈 패턴과 돌출 패턴을 가지는 몰드 표면층을 박형 유리로 형성하는 단계는
상기 마스터 기판 상에 박형 유리를 접착시키는 단계와;
상기 박형 유리를 포토리소그래피 공정과 식각 공정으로 패터닝하여 홈 패턴과 돌출 패턴을 가지는 몰드 표면층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 롤 몰드의 제조 방법.The method according to claim 1,
The step of forming a mold surface layer having a groove pattern and a protrusion pattern on the master substrate from thin glass
Bonding a thin glass onto the master substrate;
And patterning the thin glass by a photolithography process and an etching process to form a mold surface layer having a groove pattern and a protruding pattern. 마스터 기판 상에 홈 패턴과 돌출 패턴을 가지는 마스터 패턴층을 형성하는 단계와;
상기 마스터 패턴층이 형성된 상기 마스터 기판 상에 몰드 표면층을 형성하는 단계와;
상기 몰드 표면층이 형성된 상기 마스터 기판 상에 박형 유리로 강성 유지층을 형성하는 단계와;
상기 강성 유지층 상부에 정렬된 베이스 롤러 상에 접착 수지층을 형성하는 단계와;
상기 접착 수지층이 형성된 상기 베이스 롤러를 상기 강성 유지층 상에서 회전시켜 상기 접착 수지층을 통해 상기 강성 유지층 및 상기 몰드 표면층을 상기 베이스 롤러 상에 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 롤 몰드의 제조 방법.Forming a master pattern layer having a groove pattern and a protrusion pattern on a master substrate;
Forming a mold surface layer on the master substrate on which the master pattern layer is formed;
Forming a rigid holding layer on the master substrate on which the mold surface layer is formed, as a thin glass;
Forming an adhesive resin layer on the base roller aligned on the rigid holding layer;
And rotating the base roller on which the adhesive resin layer is formed on the rigidity holding layer to adhere the rigidity holding layer and the mold surface layer on the base roller through the adhesive resin layer Gt; 제 5 항에 있어서,
상기 몰드 표면층과 접촉하는 상기 마스터 패턴층의 표면은 Fluorooctyl-Trichloro-Silane(FOTS) 또는 ((Heptadecafluoro-1,1,2,3-tetra-hydrodecyl)trichlorosilane)(HDFS)로 이루어진 자가 조립 단분자 물질로 표면처리되며,
상기 표면 처리된 마스터 패턴층은 상기 강성 유지층 및 상기 몰드 표면층을 상기 베이스 롤러 상에 부착시 상기 몰드 표면층과 분리되는 것을 특징으로 하는 롤 몰드의 제조 방법.6. The method of claim 5,
Wherein the surface of the master pattern layer in contact with the mold surface layer is a self-assembled monolayer material consisting of Fluorooctyl-Trichloro-Silane (FOTS) or (Heptadecafluoro-1,1,2,3-tetra-hydrodecyl) trichlorosilane Lt; / RTI >
Wherein the surface-treated master pattern layer is separated from the mold surface layer upon adhering the stiffness maintaining layer and the mold surface layer on the base roller. 제 5 항에 있어서,
상기 몰드 표면층은 우레탄 아크릴레이트(Urethane-acrylate) 또는 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane)로 이루어진 광경화형 수지로 형성되는 것을 특징으로 하는 롤 몰드의 제조 방법.6. The method of claim 5,
Wherein the mold surface layer is formed of a photocurable resin composed of urethane acrylate or polydimethylsiloxane. 베이스 롤러와;
상기 베이스 롤러 상에 형성되는 접착 수지층과;
상기 접착 수지층 상에 박형 유리로 형성되는 강성 유지층과;
상기 강성 유지층 상에 광경화 수지로 형성되는 요철 형태의 몰드 표면층을 구비하는 것을 특징으로 하는 롤 몰드.A base roller;
An adhesive resin layer formed on the base roller;
A stiffness maintaining layer formed on the adhesive resin layer as thin glass;
And a mold surface layer of a concave-convex shape formed of a photocurable resin on the rigidity holding layer. 베이스 롤러와;
상기 베이스 롤러 상에 형성되는 접착 수지층과;
상기 접착 수지층 상에 박형 유리로 형성되는 요철 형태의 강성 유지층을 구비하는 것을 특징으로 하는 롤 몰드.A base roller;
An adhesive resin layer formed on the base roller;
And a stiffness retaining layer in the form of a concave-convex shape formed of thin glass on the adhesive resin layer.
KR1020100127361A 2010-12-14 2010-12-14 Roll mold and method of fabricating the same KR101808522B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100127361A KR101808522B1 (en) 2010-12-14 2010-12-14 Roll mold and method of fabricating the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100127361A KR101808522B1 (en) 2010-12-14 2010-12-14 Roll mold and method of fabricating the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120066154A KR20120066154A (en) 2012-06-22
KR101808522B1 true KR101808522B1 (en) 2017-12-13

Family

ID=46685585

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100127361A KR101808522B1 (en) 2010-12-14 2010-12-14 Roll mold and method of fabricating the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101808522B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20210354336A1 (en) * 2018-09-21 2021-11-18 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Method for producing flexible mold, flexible mold substrate and method for producing optical component

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102148476B1 (en) * 2013-12-16 2020-08-26 엘지디스플레이 주식회사 Roll mold and method of fabricating the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20210354336A1 (en) * 2018-09-21 2021-11-18 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Method for producing flexible mold, flexible mold substrate and method for producing optical component
US11931924B2 (en) * 2018-09-21 2024-03-19 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Method for producing flexible mold, flexible mold substrate and method for producing optical component

Also Published As

Publication number Publication date
KR20120066154A (en) 2012-06-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101726625B1 (en) Roll mold, method and apparatus of fabricating the same, and method of fabricating thin film pattern using the same
JP4819577B2 (en) Pattern transfer method and pattern transfer apparatus
KR20070105040A (en) Resist composition, method of fabricating resist pattern using the same and array substrate fabricated using the same
JP2007023359A (en) Mask, mask manufacturing method, film deposition method, electro-optic apparatus manufacturing method, and electronic equipment
US8529714B2 (en) Roll mold, method for fabricating the same and method for fabricating thin film pattern using the same
US20110274840A1 (en) Apparatus and method of fabricating thin film pattern
JP2018092996A (en) Imprint method, imprint device, mold, and method of manufacturing article
KR101808522B1 (en) Roll mold and method of fabricating the same
TWI457646B (en) Flat panel display device and method of fabricating the same
KR20100009919A (en) Method of forming cliche for resist pattern-printing apparatus
KR20080062854A (en) Multi layer stamp and method for manufacturing the same, nano imprint system with multi layer stamp and method for nano imprinting on a display panel
TWI426479B (en) Device and method for fabricating flat display device
JP5891861B2 (en) Reverse printing method and reverse printing apparatus
US7833464B2 (en) Imprinting apparatus and imprinting method
KR20070067995A (en) Apparatus for fabricating flat panel display device and method for fabricating thereof
KR101706230B1 (en) Roll mold, method of fabricating the same, and method of fabricating thin film pattern using roll mold
KR20110072739A (en) Apparatus and method of fabricating flat display device
KR102415094B1 (en) Exposure apparatus and method for nanoimprint process for non-planar substrates
KR102148476B1 (en) Roll mold and method of fabricating the same
US20070224354A1 (en) Mold for manufacturing display device and manufacturing method of display device using the same
KR101186520B1 (en) Method on mold fabricating for formatting pattern and thin film transistor- crystal display device using it
JP2009080264A (en) Method of manufacturing color filter
JP2011064998A (en) Method for manufacturing resin plate and method for manufacturing electronic device
KR20110066559A (en) Method of fabricating blanket for pirnting roller and method of fabricating thin film pattern using the same
JP2008091122A (en) Letterpress, printing machine, manufacturing method of organic electronic device, and manufacturing method of the letterpress

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
GRNT Written decision to grant