KR20080062302A - Apparatus for conveying substrate - Google Patents

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신재영
황대경
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세메스 주식회사
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Abstract

An apparatus for conveying a substrate is provided to prevent abrasion of a side of a magnetic gear and a sidewall of a chamber by disposing a plurality of balls on the magnetic gear. An apparatus for conveying a substrate comprises a chamber(100), a rotary shaft(110), a magnetic gear(130) connected with the rotary shaft, and a driving gear(150) disposed outside of the chamber. The magnetic gear and the driving gear are disposed oppositely. Sidewall(102) of the magnetic gear and the chamber, and the sidewall of the driving gear and the chamber are separated by a predetermined gap. The rotary shaft is expanded and disposed to the horizontal direction within the chamber. At least one transfer roller(120) is installed at the rotary shaft. The magnetic gear is connected to the one end of the rotary shaft. The driving gear is connected with a rotation driving device(140), and faced to the sidewall of the chamber at the outside of the chamber.

Description

기판 이송 장치{Apparatus for conveying substrate}Apparatus for conveying substrate

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 개략적인 부분 레이아웃도이다. 1 is a schematic partial layout view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 마그네틱 기어의 측면도이다.Figure 3a is a side view of the magnetic gear of the substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 챔버의 측면도이다. 3B is a side view of a chamber of the substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 이송 장치의 마그네틱 기어의 측면도이다.4A is a side view of the magnetic gear of the substrate transfer apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 이송 장치의 챔버의 측면도이다.4B is a side view of a chamber of the substrate transfer apparatus according to another embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100: 챔버 120: 이송롤러100: chamber 120: feed roller

130: 마그네틱 기어 135: 볼130: magnetic gear 135: ball

140: 회전 구동 장치 150: 구동 기어140: rotary drive device 150: drive gear

본 발명은 기판 이송 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 자력을 이용하여 챔버 외부에 배치된 구동 장치의 회전으로 챔버 내부의 샤프트를 회전시키는 기판 이송 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transfer device, and more particularly to a substrate transfer device for rotating the shaft inside the chamber by the rotation of the drive device disposed outside the chamber using a magnetic force.

최근 들어 정보 처리 장치는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 처리된 정보를 외부로 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 디스플레이 장치로서, 현재 주목받고 있는 것은 액정 디스플레이 장치, 유기 EL 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 장치 등과 같은 평판 디스플레이 장치이다. Recently, information processing devices have been rapidly developed to have various types of functions and faster information processing speeds. Such an information processing apparatus has a display device for displaying the processed information to the outside. As a display device, what is currently attracting attention is a flat panel display device such as a liquid crystal display device, an organic EL display device, a plasma display device and the like.

평판 디스플레이 장치는 다수의 처리 공정을 거친다. 예를 들어 기판 상에 박막 및/또는 패턴을 형성하기 위한 증착 공정, 베이킹 공정, 식각 공정, 세정 공정, 건조 공정 등이 그것이다. 각각의 공정은 주로 공정 챔버 내에서 이루어진다. 상기 요구되는 일련의 공정을 수행하기 위해서는 해당 공정 챔버로 기판을 이송하여야 한다. 이때, 기판의 오염을 방지하기 위해 기판의 이송 라인은 챔버 내에 구비된다. 또, 공정 챔버 내에서도 기판의 이송을 위한 이송 라인이 구비될 수 있다.Flat panel display devices go through a number of processing processes. For example, a deposition process, a baking process, an etching process, a cleaning process, a drying process and the like for forming a thin film and / or a pattern on the substrate are examples. Each process is mainly performed in a process chamber. The substrate must be transferred to the process chamber in order to perform the required series of processes. At this time, the transfer line of the substrate is provided in the chamber to prevent contamination of the substrate. In addition, a transfer line for transferring the substrate may be provided in the process chamber.

일반적으로 널리 적용되고 있는 기판 이송 장치 중 하나는 챔버 내부에 회전 샤프트를 배치하고 이를 회전시켜, 회전 샤프트에 구비된 이송 롤러를 회전시킴으로써, 기판을 이송시키는 방식을 채용한다. 회전 샤프트는 구동 장치에 의해 회전된다. 구동 장치는 챔버 내부에 분진 등이 발생하는 것을 방지하고, 수리 등을 용이하게 하기 위하여 챔버 외부에 배치된다. 챔버 벽과 구동 장치 사이, 및 챔버 벽 과 회전 샤프트 사이에는 소정의 갭(gap)이 확보된다. 구동 장치는 자석을 구비하는 구동 기어와, 회전 샤프트는 자석을 구비하는 마그네틱 기어와 각각 연결 설치된다. 구동 기어 및 마그네틱 기어의 자석들에 의해 형성되는 자계의 자력은 구동 장치의 회전을 챔버 벽 너머의 회전 샤프트에 전달하는 원동력이 된다. In general, one of the substrate transfer apparatuses widely applied employs a method of disposing a rotating shaft inside the chamber and rotating the rotating shaft to rotate the transfer roller provided in the rotating shaft to transfer the substrate. The rotating shaft is rotated by the drive device. The drive device is disposed outside the chamber to prevent dust or the like from occurring inside the chamber and to facilitate repairs. A predetermined gap is secured between the chamber wall and the drive and between the chamber wall and the rotating shaft. The drive device is provided with a drive gear having a magnet, and the rotary shaft is connected to a magnetic gear having a magnet, respectively. The magnetic force of the magnetic field formed by the magnets of the drive gear and the magnetic gear becomes the driving force for transmitting the rotation of the drive device to the rotating shaft beyond the chamber wall.

그런데, 상기와 같은 구조에서 마그네틱 기어에 구비된 자석에 의한 강한 자력은 마그네틱 기어 및 회전 샤프트의 위치를 변형시켜 이송 롤러의 위치를 불안정하게 할 수 있다. 또, 마그네틱 기어의 위치 변화에 따라 챔버 벽과 마그네틱 기어 사이의 갭이 없어지면, 마그네틱 기어가 챔버 벽과 맞닿은 상태에서 회전하게 되어 마그네틱 기어 및 챔버 벽을 마모시킨다. 나아가, 마그네틱 기어의 위치 변형은 자계의 변화를 가져와 마그네틱 기어 및 회전 샤프트의 회전축이 변화될 수 있다.However, in the structure as described above, the strong magnetic force by the magnet provided in the magnetic gear may deform the positions of the magnetic gear and the rotating shaft to make the position of the transfer roller unstable. In addition, when the gap between the chamber wall and the magnetic gear disappears in accordance with the change of the position of the magnetic gear, the magnetic gear rotates in contact with the chamber wall, and wears the magnetic gear and the chamber wall. Further, the positional deformation of the magnetic gear may cause a change in the magnetic field so that the rotation axis of the magnetic gear and the rotating shaft may be changed.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 마그네틱 기어의 마모 방지 마진을 갖는 기판 이송 장치를 제공하고자 하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a substrate transfer device having a wear protection margin of a magnetic gear.

본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. Technical problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치는 챔버, 상기 챔버 내부에 배치된 회전 샤프트, 상기 회전 샤프트의 일단에 연결되어 상기 챔버의 측벽과 대면하며, 복수의 볼이 배치되어 있는 마그네틱 기 어, 및 상기 챔버의 외부에서 상기 챔버의 측벽을 개재하여 상기 마그네틱 기어와 대응하도록 배치된 구동 기어를 포함한다.The substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention for achieving the technical problem is connected to one side of the chamber, a rotary shaft disposed inside the chamber, the rotary shaft to face the side wall of the chamber, a plurality of balls A magnetic gear disposed, and a driving gear disposed to correspond to the magnetic gear via a side wall of the chamber outside the chamber.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims.

본 명세서에서는 본 발명에 따른 기판 이송 장치가 적용되는 기판으로서 투명한 유리, 플라스틱 등으로 이루어진 평판 디스플레이 장치용 기판이 예시된다. 그러나, 이에 제한되는 것은 아니며, 반도체 기판이나 기타 물리적 이송이 필요한 다양한 기판들에도 적용될 수 있음은 물론이다. In the present specification, a substrate for a flat panel display device made of transparent glass, plastic, or the like is exemplified as a substrate to which the substrate transfer device according to the present invention is applied. However, the present invention is not limited thereto, and may be applied to a semiconductor substrate or various substrates requiring physical transfer.

이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치에 대해 설명한다. Hereinafter, a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 개략적인 부분 레이아웃도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 단면도이다.1 is a schematic partial layout view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 기판 이송 장치는 챔버(100), 챔버(100) 내에 배치된 회전 샤프트(110), 회전 샤프트(110)의 일단과 연결된 마그네틱 기어(130), 및 챔버(100) 외부에 배치된 구동 기어(150)를 포함한다. 마그네틱 기어(130) 및 구동 기어(150)는 챔버(100) 측벽(102)을 사이에 두고 대응하도록 배치되어 있다. 이때, 바람직하게는 마그네틱 기어(130)와 챔버(100)의 측벽(102) 및 구동 기어(150)와 챔버(100)의 측벽(102)이 소정의 갭만큼 이격되어 있다.1 and 2, the substrate transfer apparatus includes a chamber 100, a rotating shaft 110 disposed in the chamber 100, a magnetic gear 130 connected to one end of the rotating shaft 110, and a chamber 100. The drive gear 150 is disposed outside. The magnetic gear 130 and the drive gear 150 are arranged to correspond with the side wall 102 of the chamber 100 interposed therebetween. At this time, preferably, the magnetic gear 130 and the side wall 102 of the chamber 100 and the drive gear 150 and the side wall 102 of the chamber 100 are spaced apart by a predetermined gap.

회전 샤프트(110)는 챔버(100) 내에서 수평 방향으로 연장되어 배치된다. 챔버(100) 내에 배치된 회전 샤프트(110)의 회전 샤프트(110)의 연장 방향은 챔버(100)의 바닥면(104)과 평행하거나, 챔버(100)의 바닥면(104)과 5 내지 15°의 각도를 가지며 경사져 있을 수 있다.The rotating shaft 110 extends in the horizontal direction in the chamber 100. The extending direction of the rotary shaft 110 of the rotary shaft 110 disposed in the chamber 100 is parallel to the bottom surface 104 of the chamber 100, or 5 to 15 with the bottom surface 104 of the chamber 100. It can be tilted at an angle of °.

회전 샤프트(110)에는 적어도 하나의 이송 롤러(120)가 설치되어 있다. 바람직하게는 회전 샤프트(110)의 연장 방향을 따라 복수개의 이송 롤러(120)가 설치된다. 복수개의 이송 롤러(120)를 회전 샤프트(110)에 고정하면, 회전 샤프트(110)의 회전에 따라 복수의 이송 롤러(120)가 함께 회전할 수 있다. At least one conveying roller 120 is installed on the rotating shaft 110. Preferably, a plurality of feed rollers 120 are installed along the extending direction of the rotary shaft 110. When the plurality of feed rollers 120 are fixed to the rotary shaft 110, the plurality of feed rollers 120 may rotate together with the rotation of the rotary shaft 110.

회전 샤프트(110)의 일단에는 마그네틱 기어(130)가 연결되어 있다. 마그네틱 기어(130)는 챔버(100)의 내부에서 챔버(100)의 측벽(102)과 대면한다. 마그네틱 기어(130)는 영구 자석, 전자석 등과 같은 자석(130NS)을 포함한다. One end of the rotary shaft 110 is connected to the magnetic gear 130. The magnetic gear 130 faces the side wall 102 of the chamber 100 inside the chamber 100. The magnetic gear 130 includes a magnet 130NS such as a permanent magnet, an electromagnet, or the like.

구동 기어(150)는 회전 구동 장치(140)에 연결되어 있으며 챔버(100)의 외부에서 챔버(100)의 측벽(102)과 대면한다. 구동 기어(150)는 영구 자석, 전자석 등과 같은 자석(150NS)을 포함한다. 따라서, 마그네틱 기어(130)에 구비된 자석(130NS) 및 구동 기어(150)에 구비된 자석(150NS)은 챔버(100)의 측벽(102)을 사이에 두고 자계를 형성한다. 따라서, 회전 구동 장치(140)의 작동에 의해 구동 기 어(150)가 회전하게 되면, 구동 기어(150)와 마그네틱 기어(130) 사이에 형성된 자계의 자력(인력 및/또는 척력)에 의해 마그네틱 기어(130)가 회전하며, 그와 연결된 회전 샤프트(110)도 함께 회전하게 된다.The drive gear 150 is connected to the rotation drive device 140 and faces the side wall 102 of the chamber 100 outside of the chamber 100. The drive gear 150 includes a magnet 150NS such as a permanent magnet, an electromagnet or the like. Accordingly, the magnet 130NS provided in the magnetic gear 130 and the magnet 150NS provided in the driving gear 150 form a magnetic field with the sidewall 102 of the chamber 100 interposed therebetween. Therefore, when the drive gear 150 is rotated by the operation of the rotation drive device 140, the magnetic by the magnetic force (gravity and / or repulsive force) of the magnetic field formed between the drive gear 150 and the magnetic gear 130 The gear 130 rotates, and the rotating shaft 110 connected thereto also rotates.

한편, 마그네틱 기어(130)는 복수의 볼(135)을 포함한다. 복수의 볼(135)은 마그네틱 기어(130)의 측면으로부터 돌출되도록 배치되어, 마그네틱 기어(130)의 측면이 챔버(100)의 측벽(102)과 직접 마찰되는 것을 방지하는 역할을 한다. 더욱 구체적인 설명을 위하여 도 3a 및 도 3b가 참조된다. 도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 마그네틱 기어의 측면도이다. 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 챔버의 측면도이다. On the other hand, the magnetic gear 130 includes a plurality of balls (135). The plurality of balls 135 are disposed to protrude from the side surfaces of the magnetic gear 130 to prevent the side surfaces of the magnetic gear 130 from directly rubbing against the side wall 102 of the chamber 100. Reference is made to FIGS. 3A and 3B for a more detailed description. Figure 3a is a side view of the magnetic gear of the substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention. 3B is a side view of a chamber of the substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 3a를 참조하면, 복수의 볼(135)은 마그네틱 기어(130)에 구비된 자석(130NS)들 사이에 배치되어 있다. 복수의 볼(135)은 제자리에서 회전가능하도록 설치될 수 있다.First, referring to FIG. 3A, a plurality of balls 135 are disposed between the magnets 130NS provided in the magnetic gear 130. The plurality of balls 135 may be installed to be rotatable in place.

마그네틱 기어(130)의 중심으로부터 볼(135)까지의 거리는 모든 볼(135)에 있어서 동일할 수 있다. 마그네틱 기어(130)가 회전하게 되면, 마그네틱 기어(130)의 중심점(C)으로부터 동일한 이격 거리를 갖는 모든 볼(135)은 동일한 원궤도를 따라 원운동하게 된다. 이때, 복수의 볼(135)은 마그네틱 기어(130)의 측면보다 돌출되어 있으므로, 마그네틱 기어(130)의 측면이 챔버(100)의 측벽(102)에 직접 마찰되는 것을 방지할 수 있다. 즉, 마그네틱 기어(130)의 마모 방지를 위한 마진이 제공된다. 나아가 복수의 볼(135)이 제자리에서 회전가능하도록 설치된 경우, 마그네틱 기어(130)가 챔버(100)의 측벽(102) 측으로 근접하여 볼(135)이 챔버(100) 측 벽(102)에 접촉된다고 하더라도, 이들간의 마찰이 감소될 수 있다. The distance from the center of the magnetic gear 130 to the ball 135 may be the same for all balls 135. When the magnetic gear 130 is rotated, all the balls 135 having the same distance from the center point (C) of the magnetic gear 130 is circular motion along the same circular orbit. In this case, since the plurality of balls 135 protrude from the side surfaces of the magnetic gear 130, the side surfaces of the magnetic gear 130 may be prevented from directly rubbing against the side wall 102 of the chamber 100. That is, a margin for preventing wear of the magnetic gear 130 is provided. Furthermore, when a plurality of balls 135 are installed to be rotatable in place, the magnetic gear 130 is close to the side wall 102 side of the chamber 100 such that the ball 135 contacts the chamber 100 side wall 102. Even if it is, the friction between them can be reduced.

도 3b를 참조하면, 선택적으로, 마그네틱 기어(130)와 마주하는 챔버(100)의 측벽(102)은 마그네틱 기어(130)에 배치된 복수의 볼(135)의 원운동 궤도와 실질적으로 동일한 원형 홈(102R)을 구비할 수 있다. 그 결과 복수의 볼(135)이 챔버(100)의 측벽(102)에 구비된 원형 홈(102R)을 따라 운동할 수 있기 때문에, 마그네틱 기어(130) 및 그에 연결된 회전 샤프트(110)의 회전축 이탈이 방지될 수 있다. 특히, 복수의 볼(135)이 제자리에서 회전가능하도록 설치된 경우, 이들 간의 마찰이 감소될 수 있음은 상기한 바와 같다. Referring to FIG. 3B, optionally, the side wall 102 of the chamber 100 facing the magnetic gear 130 has a circular shape that is substantially the same as the circular motion trajectory of the plurality of balls 135 disposed on the magnetic gear 130. The groove 102R may be provided. As a result, since the plurality of balls 135 can move along the circular groove 102R provided in the side wall 102 of the chamber 100, the rotational axis deviation of the magnetic gear 130 and the rotating shaft 110 connected thereto This can be prevented. In particular, as described above, when the plurality of balls 135 are installed to be rotatable in place, friction between them can be reduced.

상기한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치에 의하면, 마그네틱 기어(130)의 측면에 복수의 볼(135)이 형성됨으로써, 마그네틱 기어(130)가 챔버(100)의 측벽(102)에 마모되는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 마그네틱 기어(130) 및 회전 샤프트(110)의 회전축 이탈을 방지할 수 있다. As described above, according to the substrate transport apparatus according to the exemplary embodiment of the present invention, the plurality of balls 135 are formed on the side surfaces of the magnetic gear 130, such that the magnetic gear 130 is formed on the sidewalls of the chamber 100. Not only can it be prevented from being worn on the 102, it is possible to prevent the deviation of the rotation axis of the magnetic gear 130 and the rotary shaft 110.

도 4a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 이송 장치의 마그네틱 기어의 측면도이다. 도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 이송 장치의 챔버(100)의 측면도이다.4A is a side view of the magnetic gear of the substrate transfer apparatus according to another embodiment of the present invention. 4B is a side view of the chamber 100 of the substrate transfer apparatus according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 이송 장치는 마그네틱 기어(130)의 복수의 볼(135)이 마그네틱 기어(130a)의 중심으로부터 적어도 2 이상의 다른 거리를 갖도록 배치되어 있는 점이 본 발명의 일실시예와 다르다. 이 경우에도 각 볼(135)은 마그네틱 기어(130a)의 중심점으로부터의 거리를 반지름으로 하는 원형 궤도를 원운동하기 때문에, 마그네틱 기어(130a)가 챔버(100)의 측벽(102)에 마모되는 것 을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 마그네틱 기어(130a) 및 회전 샤프트(110)의 회전축 이탈을 방지할 수 있다. Substrate transfer apparatus according to another embodiment of the present invention is that the plurality of balls 135 of the magnetic gear 130 is arranged to have at least two or more different distances from the center of the magnetic gear (130a) one embodiment of the present invention Is different from Even in this case, since each ball 135 circularly moves in a circular orbit having a radius from the center point of the magnetic gear 130a, the magnetic gear 130a is worn on the side wall 102 of the chamber 100. In addition to preventing it, it is possible to prevent the deviation of the rotation axis of the magnetic gear 130a and the rotary shaft 110.

또한, 본 발명의 다른 실시예에서는 마그네틱 기어(130a)와 마주하는 챔버(100)의 측벽(102)이 상술한 2 이상의 원형 궤도에 대응하는 2 이상의 서로 다른 반지름의 원형 홈(102R_1, 102R_2)을 포함할 수 있다. 이 경우, 2 이상의 원형 홈(102R_1, 102R_2)이 마그네틱 기어(130a)의 볼(135)의 궤도를 정의함으로써, 마그네틱 기어(130a) 및 회전 샤프트(110)의 회전축 이탈 방지에 더욱 효과적일 수 있다.Further, in another embodiment of the present invention, the side wall 102 of the chamber 100 facing the magnetic gear 130a may have two or more different radial grooves 102R_1 and 102R_2 corresponding to the two or more circular tracks described above. It may include. In this case, the two or more circular grooves 102R_1 and 102R_2 define the trajectory of the ball 135 of the magnetic gear 130a, so that the magnetic gear 130a and the rotation shaft 110 may be more effectively prevented from falling off the rotation axis. .

이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.As mentioned above, embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the above embodiments, but can be manufactured in various forms, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. Those skilled in the art will appreciate that the present invention may be embodied in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

상술한 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치에 의하면, 마그네틱 기어에 복수개의 볼이 배치되어 있으므로, 챔버의 측벽과 마그네틱 기어의 측면이 마모되는 것을 방지하기 위한 마진이 제공될 수 있다. 또, 챔버의 측벽에 볼의 원운동 궤도에 상응하는 원형 홈을 구비함으로써, 이들간의 마찰을 감소시킬 수 있다.As described above, according to the substrate transfer apparatus according to the exemplary embodiment of the present invention, since a plurality of balls are disposed in the magnetic gear, a margin for preventing wear of the side wall of the chamber and the side of the magnetic gear may be provided. . In addition, by providing a circular groove corresponding to the circular motion trajectory of the ball on the side wall of the chamber, friction between them can be reduced.

Claims (6)

챔버;chamber; 상기 챔버 내부에 배치된 회전 샤프트;A rotating shaft disposed inside the chamber; 상기 회전 샤프트의 일단에 연결되어 상기 챔버의 측벽과 대면하며, 복수의 볼이 배치되어 있는 마그네틱 기어; 및A magnetic gear connected to one end of the rotating shaft to face the side wall of the chamber and having a plurality of balls; And 상기 챔버의 외부에서 상기 챔버의 측벽을 개재하여 상기 마그네틱 기어와 대응하도록 배치된 구동 기어를 포함하는 기판 이송 장치.And a drive gear disposed outside the chamber to correspond to the magnetic gear via a side wall of the chamber. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 마그네틱 기어 및 상기 구동 기어 사이에 자계가 형성되어 있는 기판 이송 장치.And a magnetic field formed between the magnetic gear and the drive gear. 제2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 마그네틱 기어 및 상기 구동 기어는 각각 자석을 포함하는 기판 이송 장치.And the magnetic gear and the driving gear each comprise a magnet. 제2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 마그네틱 기어는 상기 구동 기어의 회전 및 상기 구동 기어와 상기 마그네틱 기어 사이에 형성된 자계의 자력에 의해 회전하는 기판 이송 장치.The magnetic gear rotates by the rotation of the drive gear and the magnetic force of the magnetic field formed between the drive gear and the magnetic gear. 제4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 마그네틱 기어와 대면하는 상기 챔버의 측벽은 적어도 하나의 원형 홈을 구비하며,The side wall of the chamber facing the magnetic gear has at least one circular groove, 상기 마그네틱 기어의 회전시 상기 볼이 상기 원형 홈을 따라 회전하는 기판 이송 장치.And the ball rotates along the circular groove when the magnetic gear rotates. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 회전 샤프트는 적어도 하나의 회전 롤러를 포함하는 기판 이송 장치.And the rotating shaft includes at least one rotating roller.
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