KR20080056356A - 습식처리장비의 약액 냉각장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 습식처리장비의 약액 냉각장치에 관한 것으로, 베스에서 배액되는 약액을 소정온도로 냉각시키는 습식처리장비의 약액 냉각장치에 있어서, 상기 베스에서 배액되는 고온의 약액을 유입받는 유입포트와 냉각처리된 소정온도의 약액을 배출하는 배출포트가 형성되는 저장부와, 상기 저장부 내의 약액을 수냉방식으로 냉각시키는 제1냉각기재와, 상기 저장부 내의 약액을 공냉방식으로 냉각시키는 제2냉각기재를 포함하는 습식처리장비의 약액 냉각장치를 제공한다. 본 발명에 의하면, 수냉 및 공냉방식에 의해 저장부로 유입된 약액을 신속하게 냉각시킬 수 있어 약액의 배액에 소요되는 작업시간을 단축하여 습식처리에 소요되는 전체 텍트타임도 단축시키는 효과가 있다.
베스, 약액, 냉각, 수냉, 공냉

Description

습식처리장비의 약액 냉각장치{Device for cooling solution in wet station}
도 1은 종래 습식처리장비의 약액 냉각장치를 나타낸 구성도이다.
도 2는 본 발명에 따른 습식처리장비의 약액 냉각장치를 나타낸 일실시 구성도이다.
도 3은 도 2에 도시된 습식처리장비의 약액 냉각장치에서 제2냉각기재를 나타낸 일실시 사시도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
110 : 저장부 111 : 유입포트
112 : 배출포트 120 : 덮개
130 : 투명창 140 : 수평판
200 : 제1냉각기재 211 : 인입포트
212 : 인출포트 220 : 냉각튜브
300 : 제2냉각기재 301 : 공급라인
302 : 밸브 303 : 공급포트
310 : 노즐 311 : 분사공
320 : 고정브라켓
본 발명은 습식처리장비의 약액 냉각장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 베스에서 배액되는 고온의 약액을 유입받아 냉각시킨 후 배액처리하는 습식세정장비의 약액 냉각장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 장치의 제조를 위해 사용되는 반도체 기판 예컨데 실리콘 웨이퍼는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기물 등에 의해 오염되어 제품의 수율이나 신뢰성이 심각하게 저하될 수 있으므로, 반도체 장치의 제조공정에서는 반도체 기판에 부착된 상기한 오염물질을 제거해 내는 세정공정이 수행된다.
특히 반도체 장치 회로 패턴의 디자인 룰이 미세화됨에 따라 이러한 오염물질을 제거해 내는 세정공정이 더욱 중요시 되고 있다. 이와 같이 반도체 기판을 세정하는 방법에는 플라즈마 처리나 자외선 조사 등에 의한 건식(Dry)세정방식과, 세정액을 사용하는 습식(Wet)세정방식이 제안된 바 있다.
이에 반해, 습식세정방식은 장치비용이 저렴저면서도 처리량이 우수하며, 여러 종류의 오염을 동시에 제거 가능하고, 설치방식에 따라 배치 처리나 전후면 동시 세정도 가능하다는 등의 이점을 가지고 있으므로 현재 반도체 프로세스에서 주류를 이루고 있다.
이러한 습식세정방식이 적용된 습식처리장비는 기판을 침지시켜 기판을 습식처리하는 베스가 구비된다. 상기 베스는 기판을 습식처리하기 위한 습식처리용 약 액을 저장하는데, 공정이 진행될수록 약액의 농도 내지는 순도가 저하되므로 일정한 주기로 약액이 교체되어야 한다.
일례로 기판의 습식세정처리에 사용되는 황산 약액은 통상 1440분 즉 24시간 단위로 교체되어야 하고, 온도가 약 120℃에 달하므로 그대로 배액되지 못하고 약 60℃ 정도의 중온으로 냉각된 후 배액된다.
도 1은 종래 습식처리장비의 약액 냉각장치를 나타낸 구성도이다.
도 1을 참조저면, 종래 습식처리장비의 약액 냉각장치는 베스(미도시)로 부터 배액되는 약액을 유입받아 저장하는 저장부(110)와, 상기 저장부(110) 내의 약액을 수냉방식으로 냉각시키는 냉각기재(200)를 포함한다.
상기 저장부(110)는 일측에 약액을 유입받는 유입포트(111)와 약액을 배출하는 배출포트(112)가 형성되고, 타측에 약액 유입여부를 확인할 수 있는 투명창(130)이 형성되며, 그의 개방된 상면을 밀폐시키는 덮개(120)를 더 포함한다.
상기 덮개(120)는 저장부(110) 내부에서 발생되는 흄(fume)을 배기할 수 있는 배기포트(121)가 더 형성된다.
상기 냉각기재(200)는 덮개(120)의 인입포트(211)로 인입되어 저장부(110) 내부를 복수회 절곡 경유한 후 덮개(120)의 인출포트(212)로 인출되는 냉각튜브(220)를 포함한다.
이러한 냉각튜브(220)는 저장부(110) 내부에 설치되는 복수의 수평판(140)에 의해 저장부(110) 내부에 고정설치되고, 일측으로 냉각액이 주입되어 타측으로 배 출되므로 그 외연이 저장부(110) 내부에 저장된 약액과 열교환하여 저장부(110) 내부의 약액을 냉각시킨다.
그러나 종래 습식처리장비의 약액 냉각장치는 단일의 냉각기재에 의해 약액을 냉각시키므로 약액의 냉각에 소요되는 시간이 길어지는 단점이 있다.
이처럼 약액의 냉각에 소요되는 시간이 길어지면 약액의 배액처리에 소요되는 작업시간도 증가되어 전체 습식처리에 소요되는 텍트타임도 길어지는 문제점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은, 약액을 단시간 내에 소정온도로 냉각시키는 습식처리장비의 약액 냉각장치를 제공함에 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 베스에서 배액되는 약액을 소정온도로 냉각시키는 습식처리장비의 약액 냉각장치에 있어서, 상기 베스에서 배액되는 고온의 약액을 유입받는 유입포트와 냉각처리된 소정온도의 약액을 배출하는 배출포트가 형성되는 저장부와, 상기 저장부 내의 약액을 수냉방식으로 냉각시키는 제1냉각기재와, 상기 저장부 내의 약액을 공냉방식으로 냉각시키는 제2냉각기재를 포함한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 그러나 이하의 실시 예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시 예에 한정되는 것은 아니다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 습식처리장비의 약액 냉각장치를 나타낸 구성도이고, 도 3은 도 2에 도시된 습식처리장비의 약액 냉각장치에서 제2냉각기재를 나타낸 사시도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 습식처리장비의 약액 냉각장치는 베스(미도시)에서 배액되는 고온의 약액을 유입받는 유입포트(111)와 냉각처리된 소정온도의 약액을 배출하는 배출포트(112)가 형성되는 저장부(110)와, 상기 저장부(110) 내의 약액을 수냉방식으로 냉각시키는 제1냉각기재(200)와, 상기 저장부(110) 내의 약액을 공냉방식으로 냉각시키는 제2냉각기재(300)를 포함한다.
본 일실시예에 따르면 제1냉각기재(200)에 의한 수냉공정에 추가하여 제2냉각기재(300)에 의한 공냉공정이 추가되므로 저장부(110)로 유입된 약액을 신속하게 냉각시킬 수 있는 장점이 있다.
상기 저장부(110)는 종래 기술에서 상술한 바와 같이 상기 베스에서 배액되는 고온의 약액을 유입포트(111)를 통하여 유입받아 후술할 제1,2냉각기재(200, 300)에 의해 소정온도로 냉각시킨 후 배출포트(112)를 통하여 배출처리하는 구성부품이다.
이와 같이 저장부(110)에서 소정온도로 냉각되어 배출되는 약액은 예컨데 재 생용 약액라인(미도시)으로 이송되어 재생처리된 후 다시 상기 베스로 공급될 수도 있고, 농도 및 순도가 극히 저하되어 재생처리가 유리하지 못한 경우 폐기처분될 수도 있다.
상기에서, 유입포트(111)는 저장부(110)의 상부에 형성되고 배출포트(112)는 저장부(110)의 하부에 형성되는 것이 바람직하다. 따라서 유입포트(111)로 유입된 약액은 저장부(110) 하부로 자연낙하되는 과정에서 후술할 제1,2냉각기재(200, 300)에 의해 냉각처리된 후 배출포트(112)로 중력작용에 의해 자연배출되는 장점이 있다.
상기 제1냉각기재(200)는 종래 기술에서 상술한 바와 같이 수냉방식에 의해 저장부(110) 내부의 약액을 냉각시키는 구성부품으로, 저장부(110) 내부를 복수회 절곡 경유하여 설치되는 냉각튜브(220)를 포함한다.
이러한 냉각튜브(220)는 예컨데 테프론 계열의 PFA(Perfluoro Alkoxy Alkene Polymer)로 형성될 수 있고, 일측으로 냉각액이 주입되어 타측으로 배출되므로 그 외연이 저장부(110) 내부에 저장된 약액과 열교환하여 저장부(110) 내부의 약액을 냉각시킨다.
상기에서, 저장부(110)는 그의 개방된 상면을 밀폐시키는 덮개(120)를 더 포함하며, 제2냉각기재(300)는 덮개(120) 저면에 설치되어 저장부(110) 내의 약액에 냉각용 기체를 분사하는 노즐(310)을 포함하는 것이 바람직하다.
상기 제2냉각기재(300)는 덮개(120)의 저면에 설치되는 노즐(310)을 포함하며, 상기 노즐(310)은 예컨데 관형상으로 형성되어 그 내부에 냉각용 기체인 질소 가스(N2 gas)나 건조공기(clean dry air)를 공급받고 외연에 축선상을 따라 복수 형성되는 분사공(311)을 통하여 질소가스나 건조공기를 분사할 수 있다.
특히 상기 베스에서 저장부(110)로 배액되는 약액이 황산 약액등의 케미칼 종류일 경우 상기 노즐(310)은 상기한 질소가스를 포함하여 불활성 가스 종류를 분사하는 것이 바람직하다.
이러한 노즐(310)은 덮개(120)의 상측에 설치되는 공급포트(303)에서 냉각용 기체를 공급받고, 공급포트(303)는 냉각용 기체 공급원(미도시)과 연결되는 냉각용 기체 공급라인(301)과 소통연결된다. 한편 공급라인(301)에는 밸브(302)가 설치되어 냉각용 기체의 공급여부를 단속한다.
상기에서, 노즐(310)은 덮개(120)의 저면에 병렬로 복수 설치되는 것이 바람직하다. 따라서 각 노즐(310)은 저장부(110)의 전 부위에 대하여 냉각용 기체를 분사하므로 저장부(110)에 저장된 약액에 골고루 냉각처리할 수 있는 장점이 있다.
그리고 각 노즐(310)은 덮개(120) 저면에 체결수단(321)에 의해 체결되는 고정브라켓(320)에 의해 덮개(120) 저면에 고정설치된다.
상기에서, 덮개(120)에는 저장부(110) 내의 흄을 배기하는 배기포트(121)를 더 포함하는 것이 바람직하다.
상기 저장부(110)는 덮개(120)에 의해 밀폐되어 그 내부 공간의 약액에서 발생되는 흄에 의해 내압이 급상승될 수 있으므로 상기 배기포트(121)를 통하여 흄을 배기한다.
더욱이 제2냉각기재(300)의 노즐(310)에서 약액의 공냉을 위해 분사되는 질소가스 또는 건조공기에 의해서 발생되는 흄도 배기포트(121)를 통하여 배기처리되므로 저장부(110) 내부의 압력을 안정화 시킬 수 있는 장점이 있다.
상기에서, 저장부(110)는 유입포트(111)로 유입된 약액을 제2냉각기재(300)의 각 노즐(310)의 직하부에 인접하여 수평이송시키는 수평판(140)을 더 포함하는 것이 바람직하다. 상기 수평판(140)은 다수의 관통공(141)이 형성되어 수직방향으로 복수설치되는 것이 더욱 바람직하다.
상기 수평판(140)은 유입포트(111)를 통하여 저장부(110)로 유입되는 약액을 유입 초기부터 냉각하기 위한 구성부품인 동시에 냉각튜브(220)를 저장부(110) 내에 고정설치하기 위한 구성부품이다.
즉 유입포트(111)로 유입된 약액은 최상부의 수평판(140)에 낙하되어 일부는 수평판(140)의 냉각튜브(220)가 관통하는 관통공(141)을 통하여 다음의 수평판(140)으로 낙하될 수도 있고, 나머지는 최상부의 수평판(140)을 따라 수평이송된 후 다음의 수평판(140)으로 낙하될 수 있다.
따라서 유입포트(111)를 통하여 유입되는 약액은 유입 초기부터 제2냉각기재(300)의 노즐(310)에서 분사되는 냉각용 기체에 의해 냉각되므로 냉각효율이 월등히 향상되는 장점이 있다.
한편 도 2에서 미설명부호 130은 저장부(110) 내부로의 약액 유입여부 및 약액량을 육안으로 확인할 수 있는 투명창이고, 211은 냉각튜브(220)가 인입되는 인 입포트이며, 212는 냉각튜브(220)가 인출되는 인출포트이다.
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.
상기한 바와 같이 본 발명은, 수냉 및 공냉방식에 의해 저장부로 유입된 약액을 신속하게 냉각시킬 수 있어 약액의 배액에 소요되는 작업시간을 단축하여 습식처리에 소요되는 전체 텍트타임도 단축시키는 효과가 있다.
또한 본 발명은, 저장부로 유입되는 약액이 유입 초기부터 제2냉각기재에 의해 공냉되므로 약액을 최대한 신속하게 냉각시킬 수 있는 장점이 있다.

Claims (7)

  1. 베스에서 배액되는 약액을 소정온도로 냉각시키는 습식처리장비의 약액 냉각장치에 있어서,
    상기 베스에서 배액되는 고온의 약액을 유입받는 유입포트와 냉각처리된 소정온도의 약액을 배출하는 배출포트가 형성되는 저장부;
    상기 저장부 내의 약액을 수냉방식으로 냉각시키는 제1냉각기재; 및
    상기 저장부 내의 약액을 공냉방식으로 냉각시키는 제2냉각기재를 포함하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 저장부는 그의 개방된 상면을 밀폐시키는 덮개를 더 포함하며,
    상기 제2냉각기재는 상기 덮개 저면에 설치되어 상기 저장부 내의 약액에 냉각용 기체를 분사하는 노즐을 포함하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 노즐은 상기 덮개의 저면에 병렬로 복수 설치되는 것을 특징으로 하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 덮개에는 상기 저장부 내의 흄을 배기하는 배기포트를 더 포함하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 유입포트는 상기 저장부의 상부에 형성되고 상기 배출포트는 상기 저장부의 하부에 형성되는 것을 특징으로 하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 저장부는 상기 유입포트로 유입된 약액을 상기 제2냉각기재의 직하부에 인접하여 수평이송시키는 수평판을 더 포함하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 수평판은 다수의 관통공이 형성되어 수직방향으로 복수설치된 것을 특징으로 하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.
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