KR20080035514A

KR20080035514A - 쾌속 프로토타입 제작 장치 및 쾌속 프로토타입 제작 방법

Info

Publication number: KR20080035514A
Application number: KR1020077029551A
Authority: KR
Inventors: 헤닝 헤닝센
Original assignee: 훈츠만 어드밴스트 머티리얼스(스위처랜드) 게엠베하
Priority date: 2005-05-20
Filing date: 2006-05-19
Publication date: 2008-04-23
Also published as: WO2006122564A1; JP2008545998A; US20080315461A1; US20110181941A1; TW200720062A; EP1881888A1; CN101180174B; CN101180174A; RU2007147469A; CA2607368A1; JP4950183B2; RU2402796C2

Abstract

본 발명은 적어도 1개의 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM)를 조사하는 방법 및 장치에 관한 것으로, 조사는 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM) 상으로 투사되는 적어도 2개의 적어도 부분적으로 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)에 의해 수행되고, 쾌속 프로토타입 제작 매체에는 적어도 2개의 상이한 파장 성분(WLC1, WLC2)을 갖는 광속(IMLB)이 조사된다.

쾌속 프로토타입 제작 매체, 변조, 파장, 광속, 조사

Description

쾌속 프로토타입 제작 장치 및 쾌속 프로토타입 제작 방법{RAPID PROTOTYPING APPARATUS AND METHOD OF RAPID PROTOTYPING}

본 발명은 쾌속 프로토타입 제작 장치 및 프로토타입 제작 방법 그리고 이러한 방법 및 장치를 위한 감광 매체에 관한 것이다.

기계 프로토타입의 제작과 관련하여 그리고 특히 생산 설계 공정 중에, 3차원 물체가 각각의 단면 상에서의 재료 등의 소정 조사, 소결, 설정 또는 배치에 의해 발생되는 순차 단면 층에 의해 제작되는 다양한 방식의 쾌속 프로토타입 제작 기술(RP: rapid prototyping technique)이 근년에 들어 소개되었다. 개별 단면은 예컨대 컴퓨터-이용 설계(computer-aided design)로서 발생된다. RP의 장점에 따르면, 어렵고 시간-소비적인 성형 공구의 변형이 거의 완전히 피해질 수 있으므로, 이 장치의 설계를 위한 비싼 성형 공구는 그 제작을 위해 불필요해진다.

또한, 비교적 비싸지 않고 빠른 프로토타입의 제작 또는 제작된 쾌속 프로토타입을 기초로 하는 일련의 성형 공구를 위한 다양한 기술이 이용 가능하게 되었다.

하나의 방식의 RP 기술이 예컨대 입체 리소그래픽 장치(SLA: stereolithographic apparatus)에서 사용된다. 이 기술은 감광 매체에 의해 제작 되고 컴퓨터-이용 조사에 의해 하나의 모놀리식 프로토타입(monolithic prototype)으로 경화되는 프로토타입의 개별 층 또는 단면을 기초로 한다.

미국 특허 제6,658,314호는 예컨대 경화된 3D 재료의 탄성 계수가 복사선 파장의 조정을 기초로 하여 선택적으로 제어될 수 있는 위의 방식의 장치를 개시하고 있다. 이 기술과 관련된 문제점에 따르면, 예컨대 탄성 계수 또는 경도의 제어는 상당히 복잡할 수 있고, 얻어진 성질은 최종 물체의 층마다 변동할 수 있다.

본 발명은 적어도 1개의 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM)를 조사하는 방법에 관한 것으로, 조사는 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM) 상으로 투사되는 적어도 2개의 적어도 부분적으로 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)에 의해 수행되고, 쾌속 프로토타입 제작 매체에는 적어도 2개의 상이한 파장 성분(WLC1, WLC2)을 갖는 광속(IMLB)이 조사된다.

본 발명에 따르면, 여러 개의 중요한 장점이 얻어진다. 이들 장점 중 하나에 따르면, 다중-광속 조사를 적용할 때에 최종 경화 상태의 변동이 최소화 또는 제어될 수 있다. 이 장점은 일부 분야에서 각각의 층과 관련된 주사 시간이 합리적인 시간 공차 내에서 유지될 수 있다는 사실로 인해 얻어질 수 있다. 본 발명에 따라 얻어질 수 있는 추가 장점에 따르면, 최종 물체의 상이한 층들 사이의 물리적, 광학적, 전기적, 화학적, 자기적 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 임의의 다른 관련 성질 면에서의 차이는 단순히 개별 층에 상이한 파장 성분이 조사되는 조사 단계가 매우 짧은 시간 내에 또는 심지어 동시에 완료될 수 있다는 사실로 인해 작게 유지될 수 있다.

쾌속 프로토타입 제작은 일반적으로 쾌속 툴 제작, 쾌속 제작 등의 쾌속 제작 기술 그리고 물론 쾌속 프로토타입 제작의 전통적 이해를 말한다.

용어 "동시에"는 관련 픽셀이 "온(on)"이면 개별적으로 변조되는 광속이 적어도 부분적으로 현재에 동시 발생한다는 것을 의미한다.

본 발명은 2개 초과의 상이한 파장 성분의 사용을 용이하게 하며 그에 의해 상이한 파장 성분을 통해 얻어지는 3개 이상의 상이한 성질을 얻을 수 있는 능력을 제공한다는 것이 주목되어야 한다.

어떤 관계에서, 이러한 노출은 성취된 성질에 대한 예측 가능성과 관련된 문제점이 종래 기술에 따른 조사 단계의 개수에 따라 증가한다는 사실로 인해 불가능하지 않으면 극히 복잡해질 것이다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 조사는 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM) 상으로 투사되는 적어도 5개 그리고 바람직하게는 적어도 10개 이상 바람직하게는 20개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)에 의해 수행된다.

본 발명의 양호한 실시예에 따르면, 동시에 개별적으로 변조되는 광속의 개수는 최종 물체의 성질과 관련하여 요구된 예측 가능성을 얻기 위해 예컨대 100개, 500개 또는 1000개 정도로 가능하면 커야 한다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속은 적어도 1개의 공간 광 변조기에 의해 변조된다.

공간 광 변조기는 큰 개수로 요구된 동시에 개별적으로 변조되는 광속을 얻는 유리한 방식을 대표한다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속은 조사 제어 신호(ICS)에 따라 적어도 1개의 공간 광 변조기에 의해 변조된다.

조사 제어 신호는 일반적으로 데이터 처리 수단을 포함하는 조사 제어 유닛(CU)에 의해 생성될 수 있다. 이러한 데이터 처리 수단은 예컨대 래스터 화상 처리기(raster image processor)를 포함할 수 있다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)은 적어도 2개의 상이한 파장 성분을 갖는다.

본 발명의 유리한 실시예에 따르면, 적어도 2개 그리고 바람직하게는 100개 또는 그 이상을 초과한 개수의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)은 상이한 파장 성분을 동시에 투사할 수 있다. 이 특징은 완성된 물체 층 또는 적어도 그 일부의 쾌속 플래시 노출 그리고 더욱이 파장 성분에 대한 양쪽 모두의 또는 모든 상이하게 노출된 조사 지점에 대한 최종 노출 층의 균일하고 예측 가능한 성질을 용이하게 할 수 있다.

다중-광속 분야에서의 적어도 2개의 상이한 파장 성분의 이러한 적용은 플래시 노출 또는 대체예에서 2개 이상의 상이한 파장 성분으로써의 조사가 하나의 주사 이동으로 얻어질 수 있는 주사 노출의 양쪽 모두를 용이하게 한다는 것이 주목되어야 한다. 더욱이, 플래시 노출 및 주사 노출이 조합될 수 있다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 조사는 1개의 조사 단계로 수행된다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 조사는 변조된 광속과 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM) 사이에서의 주사 상대 이동에 의해 1개의 조사 단계로 수행된다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 조사는 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM) 상으로의 변조된 광속의 플래시 노출에 의해 1개의 조사 단계로 수행된다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)은 제1 조사 단계(ILS1)에서 제1 파장 성분(WLC1)을 갖고, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)은 제2 조사 단계(ILS2)에서 추가 파장 성분(WLC2)을 갖는다.

본 발명은 최종 쾌속 프로토타입 제작 물체의 개별 층 위에서의 성질 분포 그리고 완성된 층의 상호 얻어진 성질의 양쪽 모두에 대해 요구된 성질의 예측 가능성을 여전히 유지하면서 2개 또는 추가 조사 단계로 조사를 분리할 가능성을 추가로 제공한다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM)는 상이한 변조 지점(MP)에서 조사된다.

조사 지점이 1개 또는 여러 개의 조사 광속에 의해 얻어질 수 있다는 것이 주목되어야 한다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 적어도 1개의 공간 광 변조기는 액정 디스플레이(LCD: liquid crystal display), 중합체-분산 액정(PDLC: Polymer-dispersed liquid crystal), 납 도핑 란탄 지르코네이트 티타네이트(PLZT: Lead-doped lanthanum zirconate titanate), 강유전성 액정 디스플레이(FELCD: ferroelectric liquid crystal display) 또는 커 셀(Kerr cell)을 포함한다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 적어도 1개의 공간 광 변조기는 디지털 마이크로-미러 장치(DMD: Digital Micro-mirror Device) 공간 광 변조기 등의 반사 기반 전기 기계 광 밸브를 포함한다.

DMD 공간 광 변조기는 예컨대 텍사스 인스트루먼츠에 의해 제조된 것과 같은 DLP 방식으로 되어 있을 수 있다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 적어도 1개의 공간 광 변조기는 투과성 전기 기계 광 밸브를 포함한다.

투과성 기반 전기 기계 광 밸브는 예컨대 참조로 여기에 수록되어 있는 제PCT/DK98/00155의 교시 사항에 따라 제조될 수 있다.

투과성 전기 기계 광 밸브 그리고 위에서 언급된 반사성 공간 광 변조기의 양쪽 모두는 쾌속 프로토타입 제작 매체에서의 최종 조사 지점에 크게 효과적인 양의 에너지를 투사할 수 있는 이들 시스템의 능력으로 인해 본 발명의 제공과 연계하여 특히 유리하다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)은 적어도 1개의 조사 광원(LS)에 의해 제공된다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)은 도광 배열체를 통해 적어도 1개의 조사 광원(LS)에 의해 제공된다.

도광 배열체는 예컨대 적절한 주입 및/또는 시준 광학부, 광 섬유, 주문형 설계 렌즈 등을 포함할 수 있다. 도광 배열체는 예컨대 참조로 여기에 수록되어 있는 제PCT/DK98/00154호의 제공 사항에 따라 설계될 수 있다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 상이한 파장 성분으로써의 조사는 적용된 파장 성분에 따라 최종 물체(101)의 상이한 성질을 가져온다.

상이한 성질은 예컨대 경도, 탄성, 취약성 등과 관련될 수 있다. 이러한 성질의 예는 물리적, 광학적, 전기적, 화학적, 자기적 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 임의의 다른 관련 성질일 수 있다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 조사는 층 방향으로 수립된다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 층 방향 조사는 이를 통해 얻어지는 쾌속 프로토타입 매체의 경화로부터 기인하는 물체(101, 102)를 제공한다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 상이한 파장 성분들 중 하나는 물체(101)의 조사를 위해 적용되고, 적어도 1개의 다른 파장 성분은 적어도 1개의 지지 구조물(102)의 조사를 위해 적용된다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 지지 구조물(102)은 적어도 1개의 다른 파장 성분의 조사로 인해 제거 가능하거나 더 용이하게 제거 가능하다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 조사 광원(LS)은 1개 또는 여러 개의 단색 레이저, 짧은 아크 간극 램프 등의 1개 또는 여러 개의 광대역 조사 광원 또는 이들의 임의의 조합을 포함한다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 조사 광원(LS)은 UV 광원이다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 조사 단계들 사이의 시차는 500% 미만, 바람직하게는 100% 미만 그리고 가장 바람직하게는 약 10% 미만만큼 상이하다.

종래의 단일 지점 쾌속 프로토타입 제작 시스템에서, 조사 단계의 조사 시간은 상당히 변동할 수 있다. 본 발명의 하나의 실시예에 따르면, 이러한 시차는 10% 미만 또는 심지어 1% 미만만큼 변동할 수 있으며, 그에 의해 편리하고 신뢰 가능한 방식으로 원하는 성질의 예측 가능성을 얻는다.

더욱이, 본 발명은 조사 유닛(IU), 적어도 1개의 조사 광원(LS), 적어도 1개의 제어 유닛(CU)을 포함하는 쾌속 프로토타입 제작 시스템에 관한 것으로, 이 쾌속 프로토타입 제작 시스템은 청구항 1 내지 청구항 22 중 임의의 청구항에 따른 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM)의 조사를 용이하게 한다.

더욱이, 본 발명은 다중-광속 쾌속 프로토타입 제작 조사 시스템에서 조사되는 차별화된 물체의 성질을 얻을 목적을 위한 파장 제어의 사용에 관한 것이다.

더욱이, 본 발명은 프로토타입(101)이 감광 재료(100A, 100B, 100C)의 조사에 의해 제공되고 조사가 파장 성분의 제어를 수반하는 쾌속 프로토타입 제작 방법에 관한 것이다.

용어 프로토타입은 독특한 물체의 제작에 제한되지 않고, 다양한, 크거나 작은, 규모의 또는 심지어 단일의 층으로 된 제작물을 또한 포함할 수 있다. 그러므로, 쾌속 프로토타입 제작은 일반적으로 쾌속 툴 제작, 쾌속 제작 등의 쾌속 제작 기술 그리고 물론 쾌속 프로토타입 제작의 전통적 이해를 말한다.

조사는 상이한 단색 광원 예컨대 레이저로부터 또는 넓은 범위의 파장을 갖는 광원으로부터 나올 수 있다. 사용될 광은 UV, IR 또는 가시 영역 내의 광 중 어느 하나일 수 있다. 바람직하게는, 사용될 파장은 300 내지 800 ㎚의 영역 내에 있을 수 있다.

파장 성분을 제어하는 것과 관련하여, 파장 성분은 1개, 2개 또는 여러 개의 상이한 파장 또는 상이한 성분의 파장 구성 요소를 갖는 광을 포함하도록 제어될 수 있다는 것이 이해되어야 한다.

2개의 광원과 관련하여, 이들은 유리하게는 각각이 본 발명에 따른 필요한 파장을 구성하기 위해 이들 자신의 파장을 각각 가질 수 있다. 넓은 범위의 파장을 갖는 광원과 관련하여, 적어도 2개의 필요한 상이한 파장은 예컨대 2개의 필요한 파장을 선택하기 위해 예컨대 격자(grating)의 도움에 의해 또는 필터를 통해 선택될 수 있다.

더욱이, 조사를 위해 적용된 광의 파장 성분의 제어는 적어도 2개의 상이한 파장의 광뿐만 아니라 예컨대 심지어 동일한 파장 성분을 허용하지만 상이한 가중치(weighting)를 갖는 2개의 상이한 스펙트럼 프로파일을 또한 내포한다는 것이 주목되어야 한다.

쾌속 프로토타입 제작 장치의 하나의 실시예의 일반 원리는 제EP 1 156 922호에 개시되어 있다. 본 발명의 제공 사항에 따라 이러한 장치를 적용하는 데 적절한 변형이 예컨대 도4a, 도4b 및 도5를 참조하여 아래에서 설명된다.

조사 시스템에 대한 추가 원리는 제PCT/DK98/00155호 및 제PCT/DK98/00154호에 개시되어 있다. 요구된 차별화된 파장 성분을 얻기 위해, 이러한 시스템에는 예컨대 도4a 및 도4b에서 설명된 것과 같은 필터가 보충될 수 있거나, 노출 시스템은 예컨대 도5와 관련하여 도시 및 설명된 것과 같은 장치의 동작 중에 교환될 수 있는 1개 또는 여러 개의 필터를 포함할 수 있다.

본 발명의 하나의 실시예에서, 전체 또는 부분 감광성 재료를 포함하는 단면의 추가 처리에 의해 3차원 물체를 제작하는 쾌속 프로토타입 제작 장치는 개별적으로 제어 가능한 광 변조기들 중 적어도 1개의 공간 광 변조기에 의한 감광 재료의 단면의 조사를 위한 적어도 1개의 광원을 포함하며, 적어도 1개의 광원은 각각의 도광부가 단면의 보조-영역을 조사하는 방식으로 공간 광 변조기 배열체에 대해 배열되는 복수개의 도광부와 광 결합된다.

광 방출기의 개수 그리고 그에 따라 포함될 개별 영역은 RP 시스템이 관심 프로토타입의 크기와 맞을 때까지 증가 또는 감소될 수 있으므로, 본 발명은 임의의 크기의 프로토타입을 취급하는 소정 RP 시스템을 설계할 기회를 제공한다. 이 방식으로, 시스템 설계와 관련하여 적절하게 추가 또는 배열될 수 있는 다수개의 조사 모듈을 갖는 모듈 시스템으로서 구성되는 RP 시스템을 위한 조사 시스템을 설계하는 것이 가능해지고 단순해진다. 이 유연성은 원칙적으로 대형 프로토타입을 위한 RP의 설계 그리고 소형 모델을 위한 더 소비자-지향성인 RP의 설계의 양쪽 모두를 위해 이용될 수 있다.

또한, 다중 광 방출기는 도트(dot)의 형상으로 광원을 사용할 기회를 제공한다. 본 발명에 따른 시스템을 적용함으로써, 80 ㎛의 절대 저점을 갖는 기존 기술과 비교하여 10 ㎛ 정도로 작은 조사 지점의 직경을 얻는 것이 가능하다. 이것은 큰 정밀성이 요구되는 프로토타입을 제조할 때에 크게 유리하다. 이것은 예컨대 공구의 성형을 위해 사용되기 전에 제조에 후속하여 프로토타입에 금속 코트(metal coat)가 제공되는 공구의 제조를 포함한다.

이 기술의 어떤 영역은 어떤 치수의 프로토타입을 제작할 수 있기 위해 예컨대 형광 램프 또는 엑시머 램프 등의 확장 광원을 적용할 수 있다. 그러나, 광학 법칙(optical law)에 따르면, 확장 광원만이 프로토타입 내에 세부 부분을 제작할 가능성을 상당히 제한하는 확장 조사 지점을 생성시킬 기회를 제공한다. 그와 별개로, 확장 광원은 비교적 큰 손실에 취약하다.

본 발명에 따르면, 광속-형성 광의 정의는 넓고, 전자기 복사선 그리고 가시 스펙트럼의 내부 및 외부의 양쪽 모두를 포함한다.

더욱이, 이 방법은 바람직하게는 여러 개의 층이 일반적으로 선호되지만 1개 또는 여러 개의 층을 포함하는 물체의 조사 및 제조와 관련될 수 있다는 것이 주목되어야 한다.

대체예에서, 상당히 많은 광학부가 조사 지점의 형상을 조정하기 위해 확장 광원과 연계하여 사용되어야 한다. 당연히, 이것은 광학부를 감시할 때에 큰 정확도를 또한 요구하면서 시스템을 더 비싸게 한다.

완성된 단면의 각각의 보조-영역은 개별 광 방출기 또는 심지어 발광체에 의해 조사될 수 있으므로, 다중 광 방출기의 적용은 또한 완성된 조사 단면 위에서의 조사 효과를 증가시킬 기회를 제공할 수 있다. 이것은 최적 조사 효과로써 생성되는 방식으로 개별 프로토타입에 조사 효과를 맞추는 것이 가능하므로 장점이다. 이 기술은 참조로 여기에 수록되어 있는 제PCT/DK98/00154에 대체로 기재되어 있다.

전자기 복사선 예컨대 1개 또는 여러 개의 파장(예컨대, 436 ㎚) 또는 하나의 어떤 파장 범위(예컨대, 400 내지 450 ㎚)를 갖는 광으로써의 조사 중에 예컨대 물 또는 알코올과 같은 액체 내에 다시 용해될 수 있는 방식으로 경화되고 한편 전자기 복사선 예컨대 1개 또는 여러 개의 다른 파장(예컨대, 365 ㎚)에서의 또는 또 다른 파장 범위[예컨대, 350 내지 400 ㎚(UV-광)] 내의 광으로써의 조사 하에서 위에서 언급된 1개 또는 여러 개의 액체 내에 즉시 용해될 수 없는 방식으로 경화(중합)되는 능력을 갖는 액체(부유 광중합체)가 경화된 광중합체를 용해하는 데 사용될 수 있다.

액체는 쾌속 프로토타입 제작(RP), 쾌속 제작(RM), 쾌속 툴 제작(RT) 및 다른 유사한 공정과 관련하여 사용하는 기계에서 3-차원 물체를 형성하기 위해 순차 단면 층의 구축과 관련하여 적용된다.

이것의 예는 3D 시스템즈 인코포레이티드, 인비전테크 게엠베하, 소니 앤드 디콘 A/S의 회사로부터의 광중합체를 조사하는 기계이다. 디콘 A/S로부터의 쾌속 프로토타입-특허 제EP 1 156 922호를 참조할 수 있다.

조사되는 액체는 양이온 개시 광중합체일 수 있다.

액체는 전자기 복사선에 노출되는 용기 내에 위치된다.

광을 노출시키는 방법은 파장 또는 파장 범위 면에서의 광의 분할에 관해 위에서 설명된 것과 같다. 물론, 이 방법은 2개 초과의 상이한 파장 또는 2개의 파장 간격으로 광을 분할하도록 확대될 수 있다.

본 발명의 하나의 실시예의 목적들 중 하나는 지지 구조물이 액체 내에 용해되고 세척됨으로써 구축된 물체로부터 제거될 수 있는 방식으로 구축된 3-차원 물체 상에서의 지지 구조물의 제거의 문제점을 해결하는 것일 수 있다. 이것은 지지 구조물의 제거가 수동 공정의 수반 없이 일어날 수 있는 방식으로의 공정 자동화의 가능성에 대해 열려 있다.

본 발명의 범주 내의 다른 목적은 경화에 의해 다른 관련 성질을 변형 및 차별화하는 것일 수 있다.

상이한 파장을 갖는 광의 노출은 예컨대 여러 개의 방식으로 일어날 수 있다:

여러 개의 상이한 광원의 사용에 의해, 이들 각각은 상이한 파장 또는 파장 범위로써 조사한다. 이것의 예는 발광 다이오드이다.

1개 또는 여러 개의 광원의 사용에 의해, 광원은 상이한 파장 또는 파장 범위로 적절한 방식으로 분할되는 넓은 범위로 조사한다. 이것의 예는 수은 방전 램프(고압 아크 간극 램프)이다.

상이한 파장 또는 파장 범위로의 광의 분할은 예컨대 다음의 방법에 의해 일어날 수 있다:

예컨대 미국 특허 제6,529,265호에서 언급되는 어떤 방식의 투과성 광 변조 모듈은 일부의 렌즈가 1개 또는 여러 개의 특정한 파장 또는 1개 또는 여러 개의 파장 내의 광이 통과하게 하도록 피복되는 방식으로 한편 다른 렌즈가 1개 또는 여러 개의 다른 (상보성) 파장 또는 1개 또는 여러 개의 다른 (상보성) 파장 범위 내의 광이 통과하게 하는 방식으로 피복되는 방식으로 적절한 패턴으로 각각의 모듈 상에 마이크로 렌즈의 피복을 갖는다. 예컨대, 2개마다 렌즈에는 하나의 종류의 필터가 피복될 수 있고, 잔여 렌즈에는 또 다른 종류의 필터가 피복된다(도4a 및 도4b).

주사 바(scanning bar) 상에 1개 또는 여러 개의 모듈을 배열함으로써, 하나의 주사 방향으로의 액체의 표면에는 어느 물체 재료가 경화되어야 하는지 또는 어느 지지 구조물이 구축되어야 하는지에 따라 여러 개의 상이한 파장이 조사될 수 있다. 분명히, 여러 차례 주사하는 것 그리고 각각의 주사에 대해 상이한 파장으로써 조사하는 것이 가능하다.

1개 또는 여러 개의 모듈 내의 모든 렌즈에 하나의 종류의 필터를 피복하고 1개 또는 여러 개의 다른 모듈 내의 모든 렌즈에 또 다른 종류의 필터를 피복함으로써 그리고 위에서 언급된 종류의 모듈이 동일한 영역을 주사하는 방식으로 1개 또는 여러 개의 주사 바 상에 모듈을 배열함으로써, 물체 재료가 경화되어야 하면 또는 지지 구조물이 구축되어야 하면 액체의 표면을 조사하는 것이 모듈을 배가함으로써(여분을 생성함으로써) 가능하다. 분명히, 액체 상에 여러 차례 주사하는 것 그리고 각각의 주사에 대해 상이한 파장으로써 조사하는 것이 가능하다. 예컨대 3개 또는 심지어 추가의 상이한 최종 성질을 성취하기 위해 2개 초과의 필터로써 피복하는 것이 또한 본 발명의 범주 내에서 가능하다.

1개 또는 여러 개의 모듈이 제1 조사 단계에서 1개 또는 여러 개의 특정 파장 또는 1개 이상의 파장 범위 내의 광으로써 조사되고 한편 동일한 모듈 또는 모듈(들)이 또 다른 조사 단계에서 1개 또는 여러 개의 다른 (상보성) 파장 또는 1개 이상의 다른 (상보성) 파장 범위로써 조사되는 2개 또는 여러 개의 개별 조사 단계로써 동일한 표면이 조사될 수 있다는 것이 또한 가능하다. 상이한 파장 또는 파장 간격을 갖는 광의 노출은 예컨대 광원과 액체 사이 예컨대 광원과 모듈 또는 모듈들(도5) 사이의 소정 장소에서의 상이한 필터의 삽입에 의해 또는 각각의 조사 단계에 대한 상이한 파장을 갖는 상이한 광원의 사용에 의해 일어날 수 있다.

또한, 이 경우에, 모듈은 위에서 언급된 바와 같이 주사 바 상에 배열될 수 있다.

위에서 언급된 바와 같이 피복 및 조사함으로써 그리고 동시에 주사 이동 없이 액체 표면이 조사될 수 있는 방식으로 1개 또는 여러 개의 모듈을 배열함으로써, 플래시에 의한 노출이 한꺼번에 여러 개의 상이한 파장 또는 파장 범위로써 액체 표면 상에서 가능해진다.

주사 이동 없이 액체 표면이 조사될 수 있고 동시에 광원과 액체 사이의 소정 장소에서의 상이한 필터의 삽입에 의해 또는 각각의 조사에 대해 상이한 파장을 갖는 상이한 파장을 사용함으로써 위에서 언급된 바와 같은 2개 또는 여러 개의 개별 노출로써 표면을 조사하는 방식으로 1개 또는 여러 개의 모듈을 배열함으로써, 플래시에 의한 노출이 또한 여러 개의 상이한 파장 또는 파장 범위로써 액체 표면 상에서 가능해진다.

예컨대 TI로부터의 DMD 칩과 같은 종류의 반사성 광 변조 모듈 상에 상이한 파장 또는 상이한 파장 범위를 반사하는 상이한 피복을 갖는 상이한 미러로 구성되는 매트릭스를 코팅함으로써, 예컨대 2개마다 미러에는 하나의 파장 또는 하나의 파장 범위를 반사하는 하나의 종류의 필터가 피복될 수 있고, 잔여 미러(다른 "2개마다")에는 또 다른 파장 또는 또 다른 파장 범위를 반사하는 또 다른 종류의 필터가 코팅될 수 있다. 미러는 하나의 방향으로 경사질 때에 광중합체 상의 표면을 조사하고 다른 방향으로 경사질 때에 표면을 조사하지 않는 방식으로 위치된다.

미러가 하나의 방향으로 경사질 때, 액체 상의 표면은 그에 의해 물체 재료 또는 지지 구조물 재료가 중합되는지에 따라 하나의 또는 다른 파장 또는 파장 범위로써 조사된다. 미러의 위치는 추가 공정의 층 부분 내의 사진을 형성하는 비트맵-정보에 의해 제어된다.

이것과 같은 원리는 그 일부를 형성하는 주사 이동 없이 한꺼번에 여러 개의 상이한 파장 또는 파장 범위로써의 액체 표면 상에서의 플래시에 의한 노출을 가능케 한다.

미러에 하나의 조사 단계에서 하나의 파장 또는 하나의 파장 범위를 갖는 광이 조사되고 다른 조사 단계 또는 조사 단계들에서 또 다른 파장/파장들 또는 또 다른 파장 범위/범위들을 갖는 광이 조사되는 2개 또는 여러 개의 개별 조사 단계로써 동일한 액체 표면이 조사되는 것을 상정하는 것이 또한 가능하다.

"예컨대 TI..." 및 "미러에 하나의..."로써 시작하는 바로 위의 2개의 문단에서 언급된 2개의 가능성은 이 원리가 사용될 수 있는 플래시에 의한 노출과 관련되는 방식 그리고 또한 더 큰 표면을 횡단하는 주사와 관련되는 방식으로 광 변조 모듈의 주사 이동과 또한 조합될 수 있다.

본 발명은 도면을 참조하여 다음에서 상세하게 설명될 것이다.

도1 내지 도6d는 본 발명의 상이한 실시예를 도시하고 있다.

도1은 순차 단면 층에 의해 물체(101)를 구축하는 RP 원리를 도시하고 있고; 여기에서 컵이 구축 중이다. 상이한 층(100A, 100B, 100C 등)이 상향식으로 1개씩 조사된다. 조사되는 영역은 경화되고 조사되지 않은 영역은 액체 상태를 유지하며, 이러한 방식으로 결국 최종 구조물이 완성된다.

도1에서의 지지 구조물(102)이 이것을 안정화하도록 도입된다. 유리하게는, 이 지지 구조물은 최종 제품이 생성된 후에 용이하게 제거 가능하여야 한다.

본 발명의 목적은 적게 또는 상이하게 경화되고 그에 의해 제조 후에 더 용이하게 제거 가능한 상태로 지지 구조물을 제작하는 방법을 수립하는 것이다. 이 목적을 위해, 단일 파장 또는 양호하게 수립된 좁거나 넓은 범위의 파장이 감광 매체(2)를 조사하는 데 사용될 수 있다.

상이한 경화 상태를 얻는 하나의 방식은 예컨대 경화된 감광 매체가 상이한 파장 성분이 조사되면 상이한 기계적 성질을 가지면 얻어질 수 있으며, 그에 의해 예컨대 지지 구조물이 취약하고 용이하게 제거 가능한 상태로 그리고 프로토타이프의 잔여 부분이 고체 상태로 남긴다.

상이한 경화 상태를 얻는 또 다른 방식은 상이한 파장 성분이 조사되면 경화 된 감광 매체가 상이한 화학적 또는 물리적 성질을 가지면 얻어질 수 있으며, 그에 의해 예컨대 물 및 알코올과 같은 용매에 의해 제거 가능하며 프로토타입의 잔여 부분은 이러한 용매에 저항성인 1개의 파장 성분에 의해 조사된 지지 구조물을 남긴다.

참조로 여기에 수록되어 있는 제EP 1 156 922호는 도2에 도시된 바와 같은 쾌속 프로토타입 제작 장치를 포함한다.

도시된 쾌속 프로토타입 제작(RP) 장치는 그 가장 중요한 부품이 적절한 양의 액체 RP 재료(2)를 수용하도록 설계되는 용기(1)로 구성되는 정지 부분을 포함한다.

RP 재료는 에폭시, 아크릴레이트 또는 다른 RP 재료 또는 상이한 파장 성분에 노출될 때에 상이하게 경화할 수 있는 임의의 재료 등의 RP 프로토타입이 제작되는 재료이다. 추가로, 정지 부분에는 가동 조사 장치(3)와의 사이에 다양한 목적을 위해 위치될 수 있는 리더(leader)(4)가 설계된다. 조사 장치는 예컨대 수직 이동을 위한 대응 리더(도시되지 않음)를 또한 포함할 수 있다. RP 장치는 그 조사 시스템의 적절한 컴퓨터-이용 설계에 대응하여 조사 장치(3)의 상대 이동을 제어하도록 설계되는 다른 컴퓨터-제어 수단(도시되지 않음)을 또한 포함한다.

조사 장치(3)에는 그 가장 중요한 부품이 다음에 설명되는 조사 시스템이 또한 제공된다.

조사 장치(3)는 전원 및 냉각 수단과 함께 공지된 필요한 조사 수단을 포함하는 래크(rack)(5) 상에 장착되는 광원 배열체(6)를 포함한다. 광원은 도시된 예 에서 UV 광원으로서 도시되어 있다. 광원은 그 집합체 및 냉각 수단과 함께 정지 상태일 수 있거나 이동 가능할 수 있다.

광원 배열체(6)는 광 다중 모드 섬유의 다발(7)과 광학적으로 연결된다. 이들 다발(7)은 각각의 섬유가 예컨대 588개의 미세 기계 광 밸브(micromechanical light valve)의 마이크로셔터(microshutter)를 조사하는 8개의 개별 섬유(8)로 분산된다. 이와 같이, 일제히, 8개의 개별 섬유는 각각이 전체 마이크로셔터 배열체의 개별 영역을 구성하는 8개의 마이크로셔터 배열체를 포함하는 조사 장치(9)를 조사한다.

이들 광 밸브의 구성 자체 및 배향은 또한 참조로 여기에 수록되어 있는 본 발명의 발명자에 의한 국제 출원 제PCT/DK98/00154호 및 제PCT/DK98/00155호에 기재되어 있다.

각각의 개별 영역은 연결된 제어 회로(도시되지 않음)에 의해 전기적으로 개별적으로 제어될 수 있는 다수개의 광 밸브를 포함한다. 광 밸브 배열체는 예컨대 소정의 요구된 해상도를 갖는 LCD 디스플레이일 수 있다. 그러나, 미세 기계 셔터가 바람직하다.

광 밸브의 전체 영역은 도광부(8)로부터 방출되는 광속이 개별 영역을 점유하는 모든 광 밸브에 광 에너지를 공급할 수 있는 방식으로 배열되는 1개의 단일 도광부(8)에 의해 조사된다.

광속은 대개 공간 광 변조기에 공급된 광속이 변조기 영역 위에서의 에너지 측면에서 균일한 방식으로 보조-영역으로 시준 광학부를 통해 공급된다는 것이 주 목되어야 한다.

조사 모듈(9) 내의 마이크로셔터는 도시된 조사 배열체에서 25 내지 30 ㎝의 주사선에 걸쳐 주사를 수행하도록 설계되었다.

개별 조사 모듈의 "국부(local)" 조사는 조사 표면 상의 임의의 방향으로 배향될 수 있으므로 사용될 주사선의 길이 즉 제작된 RP 프로토타입의 최대 치수들 중 하나는 기존의 기술과 대조적으로 요구에 따라 성형될 수 있다는 것이 예로부터 분명하다. 이것은 예컨대 감광 매체의 조사를 위해 사용되는 적용된 노출 바의 변동에 의해 수행될 수 있다. 그와 별개로, 1개의 중심 광원 그리고 결합된 도광부에 의한 조사 방법은 재정적으로 자연적으로 반영되는 설계의 측면에서 그리고 완성된 구조의 품질 면에서 중대한 장점을 제공한다는 것이 또한 분명하다. 이와 같이, 도시된 구조는 극히 강력하고, 임의의 결함 또는 손상된 광 변조기가 용이하게 교체될 수 있다.

추가로, 이 장치에는 조사 시스템과 재료(2) 사이의 상대 Z 위치 설정(수직 이동) 및 배향을 제공하도록 설계되는 제어 회로(도시되지 않음)가 제공된다.

종래 기술에 따른 어떤 범위 내의 파장을 사용할 때, 표준 경화 상태가 수립된다.

도3a 및 도3b는 도1에 도시된 바와 같은 물체(101)의 층(100E)의 조사가 설명되는 본 발명의 추가 실시예를 도시하고 있다.

감광 재료는 예컨대 에폭시, 아크릴레이트 또는 이들의 임의의 혼합물을 포함할 수 있다.

도2의 이미 설명된 장치와 관련하여 예컨대 위에서 설명된 바와 같은 조사 장치(3)는 최종의 요구된 프로토타입의 일부를 형성하고자 의도되는 층(100E)의 부분에 도3a 및 도3b에 도시된 바와 같은 하나의 방향으로 436 ㎚ 등의 하나의 파장 성분을 조사한다.

지지 구조물(102)의 일부를 형성하고자 의도된 층(100E)의 부분에는 도3b에 도시된 바와 같이 복귀 방향으로 또 다른 파장 성분이 조사된다. 파장 성분은 예컨대 350 내지 400 ㎚일 수 있다.

도4a 및 도4b는 본 발명의 범주 내에서 적용 가능한 본 발명의 추가 실시예를 도시하고 있다.

도4a 및 도4b는 미세 기계 셔터의 형태로 된 공간 광 변조기(SLM) 즉 MEMS 장치(400)를 도시하고 있다. 도시된 SLM은 예컨대 도2의 도광부(8)들 중 하나에 의해 조사될 수 있다. 이와 같이, 도2의 도시된 장치는 예컨대 6×8=48개의 위에서-도시된 종류의 SLM을 포함할 수 있다.

도시된 SLM은 위에서 설명된 2개 대신에 각각의 층의 1개의 단일 주사 이동으로 차별화된 조사를 용이하게 할 수 있다.

MEMS SLM(400)의 도시된 구조는 광 채널 그리고 다수개의 전기적으로 작동 가능한 셔터가 제공되는 기부 판(420)을 포함한다. 각각의 셔터는 마이크로 렌즈(411A, 411B, 412A, 412B 등)의 마이크로 렌즈 어레이(410) 내에 배열되는 마이크로 렌즈에 의해 제공된다. 다수개의 마이크로 렌즈(411B, 412B 등)에는 광 섬유가 제공된다.

도4b에 도시된 바와 같이, 광속(401)이 "영향을 받지 않은 상태"(즉, 통상의 광 손실 상태)로 렌즈(411A)를 통과하여 광속(402)을 형성할 것이고, 한편 이웃 마이크로 렌즈(411B)는 광속(403)이 스펙트럼 변형된 광속(404)을 형성하도록 여과되는 것을 야기할 것이다.

분명히, 개별 셔터의 스위칭의 소프트웨어 제어는 예컨대 진행 주사에서 프로토타입 "픽셀"이 예컨대 411A, 412A 등에 의해 조사되고 지지 구조물이 예컨대 411B, 412B 등에 의해 조사되는 것을 용이하게 할 수 있다.

분명히, 2개 이상의 광 필터가 3개 이상의 상이한 최종 성질을 얻기 위해 위에서 언급된 예에서 적용될 수 있다.

도5는 위에서 설명된 변형된 (필터를 구비한) SLM이 DMD, LCD 또는 다른 상용 장치 등의 통상의 SLM으로 교환되는 도2의 장치에서 적용되는 본 발명의 추가의 대체 실시예를 도시하고 있다.

이 실시예에서, 광원 배열체(6)는 광원(52)에 대해 2개의 상이한 필터(50, 51) 배열체를 포함하도록 변형되었으며, 그에 의해 파장 성분이 적용된 필터(50, 51)에 의존하는 광원 배열체의 광 출력을 제공한다.

분명히, 3개 이상의 위의 종류의 광 필터가 2개 초과의 상이한 최종 성질을 얻기 위해 위에서 언급된 예에서 적용될 수 있다.

이와 같이, 예컨대 1개의 필터(50)가 도3a의 방향으로 주사할 때에 적용되고, 또 다른 필터가 도3b의 다른 방향으로 주사할 때에 적용될 수 있다.

도6a 및 도6b는 조사가 예컨대 도1 그리고 도3a 및 도3b에 도시된 것과 같은 시스템 내에서 수행될 때의 본 발명의 범주 내의 여러 개의 원리들 중 하나를 도시하고 있다.

기본적으로, 이 시스템은 조사 광원 바람직하게는 예컨대 짧은 아크 간극 램프의 형태로 된 UV 광원을 포함한다. 광원은 도광 배열체(LGA) 및 조사 유닛(IU)을 통해 제1 파장 성분(IMLB1)을 갖는 다수개의 개별적으로 제어되는 광속을 수립한다. 조사 유닛(IU)은 예컨대 DMD 등의 1개 또는 여러 개의 공간 광 변조기 또는 투과성 미세 기계 광 변조기를 포함할 수 있다.

조사 유닛(IU)은 필요한 제어 데이터를 수립하는 제어 유닛(CU)에 의해 제어된다.

도6a에서, 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM)의 층에는 제1 파장 성분을 갖는 변조된 광속(IMLB1)이 하나의 방향으로 제1 조사 단계로 조사된다. 이 매체의 조사 지점은 경화 중에 요구된 기계적 또는 화학적 성질을 얻는다.

도6b에서, 동일한 층이 추가 조사 단계에서 노출되며, 이 때 매체의 조사 지점(MP)은 요구된 기계적 또는 화학적 성질에 대응하는 또 다른 파장 성분을 갖는 변조된 광속(IMLB2)에 노출된다.

다수개의 변조된 조사 광속의 사용이 매우 짧은 시간 그리고 전형적으로 각각의 조사 단계들 사이의 균등한 시간 지연으로 수행되며 그에 의해 최종적으로 얻어진 물체의 성질에 대해 요구된 예측 가능성을 얻는다는 것이 주목되어야 한다.

도6c는 완성된 층이 예컨대 도2에 도시된 것에 대응하는 시스템(3)에 의해 주사를 통해 1개의 조사 단계로 2개 또는 선택적으로 추가의 상이한 파장 성 분(IMLB1, IMLB2)에 노출되는 본 발명의 대체 실시예를 도시하고 있다.

이러한 주사는 이 시스템에 동시에 2개의 상이한 파장 성분이 조사될 수 있다는 사실에 의해 용이해질 수 있다.

도6d는 쾌속 프로토타입 제작 매체의 완성된 층이 완성된 단면의 1개의 디지털 방식으로 변조되는 플래시 노출로서 2개 또는 선택적으로 추가의 상이한 파장 성분(IMLB1, IMLB2)에 플래시 노출되는 본 발명의 추가의 대체 실시예를 도시하고 있다.

더욱이, 위에서 설명된 기술은 예컨대 도2에 도시된 것과 같은 1개의 조사 헤드 또는 주사 바 또는 예컨대 2개 이상의 개별적으로 이동하는 노출 헤드로 여러 개의 조사 유닛의 사용을 수반할 수 있다.

Claims

적어도 1개의 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM)를 조사하는 방법이며, 조사는 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM) 상으로 투사되는 적어도 2개의 적어도 부분적으로 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)에 의해 수행되고, 쾌속 프로토타입 제작 매체에는 적어도 2개의 상이한 파장 성분(WLC1, WLC2)을 갖는 광속(IMLB)이 조사되는 방법.
제1항에 있어서, 조사는 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM) 상으로 투사되는 적어도 5개, 바람직하게는 적어도 10개 이상 바람직하게는 20개, 더 바람직하게는 적어도 100개 그리고 가장 바람직하게는 적어도 1000개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)에 의해 수행되는 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속은 적어도 1개의 공간 광 변조기에 의해 변조되는 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속은 조사 제어 신호(ICS)에 따라 적어도 1개의 공간 광 변조기에 의해 변조되는 방법.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)은 적어도 2개의 상이한 파장 성분을 갖는 방법.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 조사는 1개의 조사 단계로 수행되는 방법.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 조사는 변조된 광속과 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM) 사이에서의 주사 상대 이동에 의해 1개의 조사 단계로 수행되는 방법.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 조사는 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM) 상으로의 변조된 광속의 플래시 노출에 의해 1개의 조사 단계로 수행되는 방법.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)은 제1 조사 단계(ILS1)에서 제1 파장 성분(WLC1)을 갖고, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)은 제2 조사 단계(ILS2)에서 추가 파장 성분(WLC2)을 갖는 방법.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM) 는 상이한 변조 지점(MP)에서 조사되는 방법.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 공간 광 변조기는 LCD, PDLC, PLZT, FELCD 또는 커 셀을 포함하는 방법.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 공간 광 변조기는 DMD 공간 광 변조기 등의 반사 기반 전기 기계 광 밸브를 포함하는 방법.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 공간 광 변조기는 투과성 전기 기계 광 밸브를 포함하는 방법.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)은 적어도 1개의 조사 광원(LS)에 의해 제공되는 방법.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 2개의 동시에 개별적으로 변조되는 광속(IMLB)은 도광 배열체를 통해 적어도 1개의 조사 광원(LS)에 의해 제공되는 방법.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상이한 파장 성분으로써의 조사는 적용된 파장 성분에 따라 최종 물체(101)의 상이한 성질을 가져오는 방법.
제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 조사는 층 방향으로 수립되는 방법.
제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 층 방향 조사는 이를 통해 얻어지는 쾌속 프로토타입 매체의 경화로부터 기인하는 물체(101, 102)를 제공하는 방법.
제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상이한 파장 성분들 중 하나는 물체(101)의 조사를 위해 적용되고, 적어도 1개의 다른 파장 성분은 적어도 1개의 지지 구조물(102)의 조사를 위해 적용되는 방법.
제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 지지 구조물(102)은 적어도 1개의 다른 파장 성분의 조사로 인해 제거 가능하거나 더 용이하게 제거 가능한 방법.
제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 조사 광원(LS)은 1개 또는 여러 개의 단색 레이저, 짧은 아크 간극 램프 등의 1개 또는 여러 개의 광대역 조사 광원 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 방법.
제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 조사 광원(LS)은 UV 광원인 방 법.
제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 조사 단계들 사이의 시차는 500% 미만, 바람직하게는 100% 미만 그리고 가장 바람직하게는 약 10% 미만만큼 상이한 방법.
제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 1개 또는 여러 개의 층을 포함하는 물체의 조사 및 제조를 수반하는 방법.
조사 유닛(IU), 적어도 1개의 조사 광원(LS), 적어도 1개의 제어 유닛(CU)을 포함하는 쾌속 프로토타입 제작 시스템이며, 제1항 내지 제24항 중 어느 한 항에 따른 쾌속 프로토타입 제작 매체(RPM)의 조사를 용이하게 하는 쾌속 프로토타입 제작 시스템.
다중-광속 쾌속 프로토타입 제작 조사 시스템에서 조사되는 차별화된 물체의 성질을 얻을 목적을 위한 파장 제어의 사용.
제25항에 따른 다중-광속 쾌속 프로토타입 제작 조사 시스템에서 조사되는 차별화된 물체의 성질을 얻을 목적을 위한 파장 제어의 사용.