KR20080018315A - 평판 디스플레이 장치 제조용 장비 - Google Patents

평판 디스플레이 장치 제조용 장비 Download PDF

Info

Publication number
KR20080018315A
KR20080018315A KR1020060080241A KR20060080241A KR20080018315A KR 20080018315 A KR20080018315 A KR 20080018315A KR 1020060080241 A KR1020060080241 A KR 1020060080241A KR 20060080241 A KR20060080241 A KR 20060080241A KR 20080018315 A KR20080018315 A KR 20080018315A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plate
exhaust line
flat panel
panel display
chamber
Prior art date
Application number
KR1020060080241A
Other languages
English (en)
Inventor
신재영
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020060080241A priority Critical patent/KR20080018315A/ko
Publication of KR20080018315A publication Critical patent/KR20080018315A/ko

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L55/00—Devices or appurtenances for use in, or in connection with, pipes or pipe systems
    • F16L55/07—Arrangement or mounting of devices, e.g. valves, for venting or aerating or draining
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 평판 디스플레이 장치 제조용 장비가 제공된다. 평판 디스플레이 제조용 장비는 공정 챔버, 공정 챔버 내의 기체를 배출시키는 배기 유닛, 공정 챔버와 배기 유닛을 연결하는 배기 라인, 배기 라인의 내주면을 가로지르는 회전축, 회전축에 연결되어 배기 라인의 개폐를 조절하는 플레이트, 배기 라인의 내주면으로부터 돌출되게 상하부에 설치되며, 플레이트를 중심으로 전후에 설치되어 플레이트와 배기 라인 간의 갭을 차단하는 차단 블록 및, 플레이트와 접촉하는 차단 블록 일면에 설치되어 상기 플레이트와 차단 블록을 밀착시키는 씰링 부재를 포함한다.
차단 블록, 씰링 부재, 배기 라인

Description

평판 디스플레이 장치 제조용 장비{Apparatus for manufacturing flat panel display device}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 장비의 개략 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 장비에 포함된 챔버를 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 2의 챔버의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 장비에 포함된 배기 라인의 사시도이다.
도 5는 도 4의 배기 라인의 단면도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 설명*
100: 챔버 200: 배기 유닛
210: 유량 조절부 212: 몸체
214: 회전축 216: 플레이트
218: 차단 블록 219: 씰링 부재
220: 배기 라인
본 발명은 평판 디스플레이 장치 제조용 장비에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 보다 효과적으로 기체 흐름을 차단할 수 있는 평판 디스플레이 장치 제조용 장비에 관한 것이다.
일반적으로, 평판 디스플레이(Flat Panel Display) 장치는 액정 표시소자(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 소자(Plasma Display Panel), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes) 등을 말한다. 이러한 평판 디스플레이 장치는 기판 상에 사진(photo), 확산(diffusion), 증착(deposition), 식각(etching), 세정(cleaning) 및 건조(drying) 등과 같은 공정들을 반복하여 제조한다.
이러한 각 공정들은 온도, 압력 등 소정의 조건하에서 수행되며, 공정에 따라 챔버 내부로 공정 가스들이 공급된다. 그리고 각 공정들은 공정 챔버 내부를 일정 압력으로 유지시키거나, 공정 챔버 내의 공정 가스를 강제로 배출시키기 위해 배기 라인을 통해 배기 유닛과 연결된다.
그리고, 각 챔버들과 연결된 각 배기 라인에는 챔버 내 기체의 출입을 제어하기 위한 댐퍼(damper)가 설치되어 있다. 이러한 댐퍼는 플레이트의 동작에 의해 배기 라인의 개폐가 조절된다.
그러나, 플레이트를 이용해 배기 라인을 폐쇄할 때, 플레이트와 배기 라인 간의 직경이 달라 배기 라인이 완전히 폐쇄되지 않고 배기 라인과 플레이트 간에 갭(gap)이 발생한다. 이로 인해 배기 라인의 폐쇄 상태에서도 챔버 내의 기체가 유출되는 문제가 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 고려하여 안출된 것으로서, 보다 효과적으로 기체 흐름을 차단할 수 있는 평판 디스플레이 장치 제조용 장비를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 장비는 공정 챔버, 공정 챔버 내의 기체를 배출시키는 배기 유닛, 공정 챔버와 배기 유닛을 연결하는 배기 라인, 배기 라인의 내주면을 가로지르는 회전축, 회전축에 연결되어 배기 라인의 개폐를 조절하는 플레이트, 배기 라인의 내주면으로부터 돌출되게 상하부에 설치되며, 플레이트를 중심으로 전후에 설치되어 플레이트와 배기 라인 간의 갭을 차단하는 차단 블록 및, 플레이트와 접촉하는 차단 블록 일면에 설치되어 상기 플레이트와 차단 블록을 밀착시키는 씰링 부재를 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발 명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 장비의 개략 구성도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 평판 디스플레이 장치 제조용 장비는 챔버(100), 배기 유닛(200), 유량 조절부(210) 및 배기 라인(220)을 포함한다.
평판 디스플레이 장치는 사진(photo), 식각(etching), 세정(cleaning) 및 건조(drying) 등과 같은 공정들을 반복하여 제조되며, 각각의 공정을 수행하기 위해 다수의 챔버(100)들이 구비된다. 다수의 챔버(100)들은 각 공정에 따라 공정 조건을 유지하고, 공정 수행시 발생되는 기체를 배출시키기 위해 배기 유닛(200)과 연결되어 있다.
배기 유닛(200)은 챔버(100)들 내의 기체를 외부로 배출시키며, 예를 들어 진공 펌프일 수 있다.
다수의 챔버(100)들과 배기 유닛은 배기 라인(220)을 통해 연결되어 있으며, 각 챔버(100)에서 배출되는 기체의 유량을 조절하기 위해 유량 조절부(210)가 설치 되어 있다.
유량 조절부(210)는 댐퍼일 수 있으며, 각 챔버(100)와 연결되는 배기 라인(220)의 끝단에 설치되어 있다. 유량 조절부(210)에 대해서는 도 4 및 도 5를 참조하여 후술하기로 한다.
이하, 도 2 및 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 장비에 포함된 챔버에 대해 설명한다. 본 발명의 일 실시예에서는 세정 공정이 수행되는 챔버를 예로 들어 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 장비에 포함된 챔버를 나타낸 사시도이다. 도 3은 도 2의 챔버의 단면도이다.
도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따라 세정 공정이 수행되는 챔버(100)는 세정 챔버(104), 보조 챔버(102), 적재 장치(106), 하역 장치(108) 및 이송 장치(120)를 포함한다.
보다 상세히 설명하면, 세정 챔버(104)의 양측에는 보조 챔버(102)가 설치되며, 보조 챔버(102)와 세정 챔버(104)를 가로질러 기판을 이송하는 이송 장치(120)가 설치된다.
세정 챔버(104) 내에는 이송 장치(120)에 의해 이송되는 기판으로 세정 용액을 분사하는 제 1 노즐(118)과, 세정 챔버(104) 내부를 저습도로 유지하기 위한 가스를 분사하는 제 2 노즐(116)이 설치되어 있다. 그리고 보조 챔버(102)에는 세정 공정 전후의 기판에 세정 용액을 분사하는 보조 노즐(114)이 설치되어 있다.
또한, 이송장치(120)의 이송 방향 앞쪽에 위치하는 보조챔버(102) 옆에는 상 기한 트레이(110)를 이송장치(120)에 올려놓는 적재장치(106)가 설치되어 있으며, 이송장치(120)의 이송 방향 뒤쪽의 보조챔버(102) 옆에는 트레이(110)를 이송장치(120)로부터 내려놓는 하역장치(108)가 설치되어 있다.
그리고 챔버(100)의 하부에는 노즐(114, 116, 118)에서 분사된 세정 용액을 모집하는 처리조(122)가 설치되어 있다.
이와 같은 챔버(100)의 후면에는 배기 유닛(200)과 연결되는 배기 라인(220)이 설치되어 있으며, 배기 라인과 챔버(100)가 연결되는 부분에 챔버(100)에서 배출되는 기체의 유량을 조절하는 유량 조절부(210)가 설치된다.
이하, 도 4 및 도 5를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 유량 조절부에 대해 상세히 설명한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 장비에 포함된 배기 라인의 사시도이다. 도 5는 도 4의 배기 라인의 단면도이다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 유량 조절부(210)는 몸체(212), 회전축(214), 플레이트(216), 차단 블록(218a, 218b) 및 씰링 부재(219)를 포함한다.
몸체(212)는 챔버(도 2의 100 참조)와 배기 유닛(도 2의 200 참조) 사이에 설치되며 원형관 형태를 갖는다. 몸체(212)는 배기 라인(도 2의 220) 참조)으로부터 연장된 일부분일 수 있다.
그리고 원형 단면을 갖는 몸체(212) 내에는 몸체(212)의 내주면을 가로지르는 회전축(214)이 설치되어 있으며, 회전축(214)에는 몸체(212)의 단면을 폐쇄할 수 있는 원형 플레이트(216)가 설치되어 있다. 여기서, 회전축(214)은 제어부(미도 시)와 연결되어 있어 제어부(미도시)에 의해 회전량이 제어될 수 있으며, 이에 따라 플레이트(216)를 위치를 변경함으로써 몸체(21)의 개폐 정도를 조절할 수 있다. 여기서, 플레이트(216)가 몸체(212)와 수평으로 위치할 때 몸체(212)는 완전 개방 상태이며, 플레이트(216)가 몸체(212)와 수직으로 위치할 때 완전 폐쇄 상태이다.
그리고, 몸체(212)에는 내주면으로부터 돌출되며, 반원 형태로써 상하에 각각 설치되는 차단 블록(218a, 218b)이 설치되어 있다. 이 때, 상하에 설치된 차단 블록(218a, 218b)은 플레이트(216)가 몸체(212)와 수직으로 위치할 때, 플레이트(216)를 중심으로 전후에 설치되어 있으며 플레이트(216)와 일면이 접촉된다. 보다 상세히 설명하면 상하의 차단 블록(218a, 218b)은 플레이트(216)를 중심으로 대각선으로 배치된다. 따라서 플레이트(216)가 몸체와 수직으로 위치할 때 양면이 각각 상하의 차단 블록(218a, 218b)에 접촉된다.
그리고, 플레이트(216)와 접촉되는 차단 블록(218a, 218b)의 일면에는 씰링 부재(219)가 설치되어 있어, 배기 라인(도 2의 220 참조) 폐쇄시 플레이트(216)와 차단 블록(218a, 218b) 사이를 완전히 밀착시킨다. 여기서, 씰링 부재(219)는 배기 라인(도 2의 220 참조)을 통해 배출되는 기체에 의해 부식되거나 손상되지 않으며 유연성을 갖는 물질로 이루어진다. 예를 들어 씰링 부재(219)는 고무 또는 합성 수지 등으로 이루어질 수 있다.
이와 같이 유량 조절부(210)에는 원형관의 몸체(212)와 플레이트(216) 간의 갭을 막아주는 차단 블록(218a, 218b)이 설치되므로 배기 라인(220) 폐쇄시 기체가 누출되는 것을 방지할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
본 발명에 따르면, 배기 라인 내주면에 차단 블록을 설치하고 플레이트와 접하는 차단 블록의 일면에 씰링 부재를 설치함으로써, 기체가 배출되는 배기 라인을 폐쇄할 때, 배기 라인의 개폐 정도를 조절하는 플레이트와 배기 라인의 내주면 사이의 갭으로 인한 기체의 누출을 방지할 수 있다.

Claims (4)

  1. 공정 챔버;
    상기 공정 챔버 내의 기체를 배출시키는 배기 유닛;
    상기 공정 챔버와 상기 배기 유닛을 연결하는 배기 라인;
    상기 배기 라인의 내주면을 가로지르는 회전축;
    상기 회전축에 연결되어 상기 배기 라인의 개폐를 조절하는 플레이트;
    상기 배기 라인의 내주면으로부터 돌출되게 상하부에 설치되며, 상기 플레이트를 중심으로 전후에 설치되어 상기 플레이트와 상기 배기 라인 간의 갭을 차단하는 차단 블록; 및
    상기 플레이트와 접촉하는 상기 차단 블록 일면에 설치되어 상기 플레이트와 상기 차단 블록을 밀착시키는 씰링 부재를 포함하는 평판 디스플레이 장치 제조용 장비.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 차단 블록은 반원 형태를 갖는 평판 디스플레이 장치 제조용 장비.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 차단 블록은 상기 배기 라인과 동일한 재질로 이루어진 평판 디스플레이 장치 제조용 장비.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 씰링 부재는 고무 또는 수지 재질로 이루어진 평판 디스플레이 장치 제조용 장비.
KR1020060080241A 2006-08-24 2006-08-24 평판 디스플레이 장치 제조용 장비 KR20080018315A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060080241A KR20080018315A (ko) 2006-08-24 2006-08-24 평판 디스플레이 장치 제조용 장비

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060080241A KR20080018315A (ko) 2006-08-24 2006-08-24 평판 디스플레이 장치 제조용 장비

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080018315A true KR20080018315A (ko) 2008-02-28

Family

ID=39385350

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060080241A KR20080018315A (ko) 2006-08-24 2006-08-24 평판 디스플레이 장치 제조용 장비

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20080018315A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150076812A (ko) * 2013-12-27 2015-07-07 세메스 주식회사 기판처리장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150076812A (ko) * 2013-12-27 2015-07-07 세메스 주식회사 기판처리장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI650190B (zh) 沖吹模組治具及具有此治具之沖吹模組
KR100797079B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR101758213B1 (ko) 가스 노즐플레이트를 구비한 사이드 스토리지
JP6489450B2 (ja) パージモジュール
KR101758214B1 (ko) 웨이퍼 처리장치의 배기장치
KR102329196B1 (ko) 기판처리장치 및 이를 이용한 기판처리방법
KR20160070715A (ko) 가열 처리 장치, 가열 처리 방법 및 기억 매체
KR20010085514A (ko) 코팅막 제거장치
TW200839862A (en) Treatment apparatus, method of treating and recording medium
KR20080018315A (ko) 평판 디스플레이 장치 제조용 장비
KR20070058855A (ko) 세정챔버 및 이의 도어 실링방법
TW487602B (en) Nozzle device
JP2004193568A (ja) 基板処理装置及び洗浄方法
KR102386545B1 (ko) 밸브 조립체 및 기판 처리 장치
KR102386544B1 (ko) 밸브 조립체 및 기판 처리 장치
KR102478902B1 (ko) 기판 처리장치
KR20210052849A (ko) 가스밸브조립체, 그를 가지는 기판처리장치 및 기판처리시스템
TWI710674B (zh) 爐管及多晶矽成長方法
KR20190083683A (ko) 증착 장치 및 증착 방법
KR100598912B1 (ko) 평판 디스플레이 제조에 사용되는 기판 처리 방법
KR100873151B1 (ko) 기판 처리 장치
KR100750828B1 (ko) 기판 에싱 장치
KR20240070042A (ko) 홈 포트 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
TW202206733A (zh) 用於基板處理設備的阻斷閥以及基板處理設備
KR20190013497A (ko) 기판처리장치의 가스분사장치, 기판처리장치, 및 기판처리방법

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination