KR20080011910A - Chemical mixing apparatus and method - Google Patents

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KR20080011910A
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Abstract

An apparatus for mixing chemicals is provided to improve the operating rate of equipment by continuously supplying chemicals without stopping a substrate treatment process when chemicals are replaced in a tank for supplying the chemicals. First and second mixing tanks(110,120) receive and mix a plurality of process liquids. A circulation line(142,144) circulates the process liquids in the first and second mixing tank to generate chemicals. The chemicals are supplied from the first and second mixing tanks to a substrate processing part(20) for performing a substrate treatment process by a chemicals supply line. The chemicals used in the substrate processing part are recycled in a recycle tank(160). The chemicals regenerated from the collection tank are supplied to the first and second mixing tanks by a chemicals supply pipe. A heating unit(146c,155) heats the chemicals flowing through the circulation line to a predetermined process temperature, installed in the circulation line. A filter member(146d,156) for filtering contaminants in the chemicals circulating along the circulation line can be installed in the circulation line.

Description

약액 혼합 장치 및 방법{CHEMICAL MIXING APPARATUS AND METHOD}CHEMICAL MIXING APPARATUS AND METHOD

도 1은 본 발명에 따른 약액 혼합 장치가 구비되는 기판 처리 설비를 개략적으로 도시한 구성도이다. 1 is a configuration diagram schematically showing a substrate processing facility equipped with a chemical liquid mixing apparatus according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 약액 혼합 방법을 보여주는 순서도이다.2 is a flow chart showing a method of mixing the chemical liquid according to the present invention.

도 3a 내지 도 3e는 본 발명에 따른 약액 혼합 방법을 설명하기 위한 도면들이다.3A to 3E are views for explaining a chemical mixing method according to the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

1 : 기판 처리 설비1: substrate processing equipment

10 : 약액 공급부10: chemical supply unit

20 : 기판 처리부20: substrate processing unit

100 : 약액 혼합 장치100: chemical liquid mixing device

110 : 제1 혼합탱크110: first mixing tank

120 : 제2 혼합탱크120: second mixing tank

130 : 처리액 공급부재130: treatment liquid supply member

140 : 순환 부재140: circulation member

150 : 약액 공급부재150: chemical liquid supply member

160 : 약액 회수부재160: chemical recovery member

170 : 제어부170: control unit

본 발명은 약액 혼합 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 및 평판디스플레이 제조 공정에 사용되는 복수의 처리액들을 혼합하여 약액을 생성하는 장치 및 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a chemical liquid mixing apparatus and method, and more particularly to a device and method for producing a chemical liquid by mixing a plurality of processing liquids used in the semiconductor and flat panel display manufacturing process.

반도체 및 평판디스플레이 제조 공정에는 다양한 종류의 약액(chemical)들이 사용된다. 예컨대, 반도체 제조 공정에서는 다양한 종류의 식각액, 현상액, 세정액, 유기 용제 등이 사용된다. 이러한 약액들 중 일부는 약액 혼합 장치(chemical mixing apparatus)가 복수의 처리액들을 기설정된 농도 및 온도 등의 공정 조건을 만족하도록 혼합함으로써 생성된다. Various kinds of chemicals are used in the semiconductor and flat panel display manufacturing process. For example, in the semiconductor manufacturing process, various kinds of etching solutions, developing solutions, cleaning solutions, organic solvents, and the like are used. Some of these chemical liquids are produced by a chemical mixing apparatus mixing a plurality of processing liquids to satisfy process conditions such as a predetermined concentration and temperature.

일반적인 약액 혼합 장치는 제1 혼합탱크, 제2 혼합탱크, 그리고 회수탱크, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크로 약액의 제조를 위한 복수의 처리액들을 공급하는 복수의 공급라인들, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 내 처리액들을 순환시키면서 기설정된 농도를 만족하는 약액을 생성시키는 순환 라인, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 내 약액을 기판 처리 공정을 수행하는 공정 챔버로 공급하는 약액 공급라인, 상기 공정 챔버로부터 상기 회수탱크로 사용된 약액을 회수하는 약액 회수라인, 그리고 상기 회수탱크로부터 상기 제1 혼합탱크 및 제2 혼합탱크로 재생이 완료된 약액을 공급하는 재생액 공급라인을 포함한다.A general chemical liquid mixing apparatus includes a plurality of supply lines for supplying a plurality of treatment liquids for the preparation of the chemical liquid to the first mixing tank, the second mixing tank, and the recovery tank, the first mixing tank and the second mixing tank, Performing a substrate treatment process on a circulation line for circulating the processing liquids in the first mixing tank and the second mixing tank and generating a chemical liquid satisfying a predetermined concentration, and processing the chemical liquid in the first mixing tank and the second mixing tank A chemical supply line for supplying to the chamber, a chemical recovery line for recovering the chemical liquid used as the recovery tank from the process chamber, and a regeneration supplying the chemical liquid for which regeneration is completed from the recovery tank to the first mixing tank and the second mixing tank. And a liquid supply line.

상술한 구조를 하는 약액 혼합 장치는 공정시 상기 제1 혼합탱크가 상기 공정 챔버로 약액을 공급하면, 상기 제2 혼합탱크는 상기 제1 혼합탱크가 약액을 공급하는 동안 상기 공급라인들로부터 처리액들을 공급받아, 공급받은 처리액들을 상기 순환 라인을 따라 순환시키면서 기설정된 공정 농도를 만족하는 약액을 생성한 후 대기하게 된다. 그 후 상기 제1 혼합탱크 내 약액의 수위가 기설정된 수위 이하호 내려가면, 상기 제1 혼합탱크의 약액 공급이 중단되고, 상기 제2 혼합탱크의 약액의 공급이 이루어진다. 상기 제2 혼합탱크의 약액 공급이 이루어지면, 상기 제1 혼합탱크 내 약액은 배수(drain)되고, 상기 제1 혼합탱크는 처리액들을 공급받아 기설정된 공정 농도를 만족하는 약액을 생성한 후 대기한다.In the chemical liquid mixing apparatus having the above-described structure, if the first mixing tank supplies the chemical liquid to the process chamber during the process, the second mixing tank may process the processing liquid from the supply lines while the first mixing tank supplies the chemical liquid. When the supplied liquid is circulated along the circulation line, a chemical liquid that satisfies a predetermined process concentration is generated and then waited. After that, when the level of the chemical liquid in the first mixing tank falls below a predetermined level, the supply of the chemical liquid in the first mixing tank is stopped, and the chemical liquid in the second mixing tank is supplied. When the chemical liquid is supplied to the second mixing tank, the chemical liquid in the first mixing tank is drained, and the first mixing tank receives the treatment liquids to generate a chemical liquid satisfying a predetermined process concentration, and then waits. do.

그러나, 상술한 약액의 공급을 대기하는 탱크 내 약액은 기설정된 농도만을 만족하면서 대기한다. 예컨대, 상기 제2 혼합탱크 내 약액의 수위가 기설정된 수위 이하로 내려가면, 상기 제2 혼합탱크로부터 상기 제1 혼합탱크로 약액의 공급이 교체가 이루어져 상기 제1 혼합탱크 내 약액이 곧바로 기판 처리부로 공급될 수 있어야 한다. 그러나, 상기 제1 혼합탱크 내 약액은 기설정된 농도 조절만이 수행되고, 기설정된 온도 조절 및 오염물질의 필터링(filtering) 등은 수행되지 않는다. 따라서, 상기 제1 혼합탱크 내 약액은 기설정된 온도 및 약액 내 오염물질의 제거 등이 만족할 때까지 대기하여야 한다. 그러므로, 탱크의 교체가 이루어질 때 약액의 온도가 기설정된 온도 및 오염물질의 제거가 수행될 때까지 공정 챔버의 기판 처리 공정이 중단되므로, 반도체 공정의 설비 가동률이 저하되는 문제점이 있었다.However, the chemical liquid in the tank waiting for the supply of the chemical liquid described above stands by satisfying only the predetermined concentration. For example, when the level of the chemical liquid in the second mixing tank is lower than the predetermined level, the supply of the chemical liquid from the second mixing tank to the first mixing tank is replaced so that the chemical liquid in the first mixing tank is immediately processed. It should be possible to supply However, for the chemical liquid in the first mixing tank, only preset concentration adjustment is performed, and preset temperature adjustment and filtering of contaminants are not performed. Therefore, the chemical liquid in the first mixing tank has to wait until the predetermined temperature and the removal of contaminants in the chemical liquid are satisfied. Therefore, when the tank is replaced, since the substrate treatment process of the process chamber is stopped until the temperature of the chemical liquid is set to the predetermined temperature and the removal of contaminants, there is a problem in that the operation rate of the semiconductor process is lowered.

상술한 문제점을 해결하기 위해 본 발명은 설비 가동률을 향상시키는 약액 혼합 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 특히, 본 발명은 약액의 공급을 대기하는 탱크 내 약액을 기설정된 농도 및 온도, 그리고 오염물질의 제거 등이 이루어지면서 대기하도록 하여, 탱크의 교체에 따른 기판 처리 공정의 중단이 없도록 하는 약액 혼합 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a chemical liquid mixing apparatus and method for improving the equipment operation rate. Particularly, the present invention allows the chemical liquid in the tank waiting for the supply of the chemical liquid to be waited at a predetermined concentration and temperature, and the removal of contaminants, such that the chemical liquid mixing apparatus does not interrupt the substrate treatment process due to the replacement of the tank. And to provide a method.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 약액 혼합 장치는 복수의 처리액들을 수용하여 상기 처리액들을 수용하는 제1 혼합탱크 및 제2 혼합탱크, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 내 처리액들을 순환시켜 약액을 생성하는 순환 라인, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크로부터 기판 처리 공정을 수행하는 기판 처리부로 상기 약액을 공급하는 약액 공급라인, 상기 기판 처리부에서 사용된 약액을 회수받는 회수 탱크, 상기 회수 탱크 내에서 재생된 약액을 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크로 공급하는 약액 공급관, 그리고 상기 순환 라인상에 설치되어 상기 순환 라인을 흐르는 상기 약액의 온도를 기설정된 공정 온도로 가열하는 가열기를 포함한다.The chemical liquid mixing apparatus according to the present invention for achieving the above object is in the first mixing tank and the second mixing tank, the first mixing tank and the second mixing tank for accommodating the plurality of treatment liquids to receive the treatment liquids. A circulation line for circulating the processing liquids to generate a chemical liquid, a chemical liquid supply line for supplying the chemical liquid from the first mixing tank and the second mixing tank to a substrate processing unit performing a substrate processing process, and a chemical liquid used in the substrate processing unit. A recovery tank to be recovered, a chemical supply pipe for supplying the chemical liquid regenerated in the recovery tank to the first mixing tank and the second mixing tank, and a temperature of the chemical liquid provided on the circulation line and flowing through the circulation line. And a heater for heating to the set process temperature.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 순환 라인에는 상기 순환 라인을 따라 순환되는 상기 약액 내 오염물질을 필터링하는 필터 부재가 설치된다.According to an embodiment of the present invention, the circulation line is provided with a filter member for filtering the contaminants in the chemical liquid circulated along the circulation line.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 가열기는 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 어느 하나가 상기 기판처리부로 상기 약액의 공급을 수행하면, 상기 제1혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 다른 하나는 상기 공급라인들로부터 처리액들을 공급받아, 공급받은 처리액들을 상기 순환 라인을 통해 순환시키면서 상기 가열기에 의해 기설정된 공정 온도를 만족하는 약액을 생성시킨다.According to an embodiment of the present invention, when the heater is one of the first mixing tank and the second mixing tank to supply the chemical liquid to the substrate processing unit, the first of the mixing tank and the second mixing tank The other receives the processing liquids from the supply lines, and circulates the supplied processing liquids through the circulation line to generate a chemical liquid that satisfies a predetermined process temperature by the heater.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 약액 혼합 방법은 내부에 복수의 처리액들을 공급받아 공급받은 처리액들을 혼합시켜 약액을 생성하는 공간을 가지는 제1 혼합탱크 및 제2 혼합탱크, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 내 처리액들을 순환시켜 약액을 생성하는 순환 라인, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크로부터 기판 처리 공정을 수행하는 기판 처리부로 상기 약액을 공급하는 약액 공급라인, 상기 기판 처리부에서 사용된 약액을 회수받는 회수 탱크, 상기 회수 탱크 내에서 재생된 약액을 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크로 공급하는 약액 공급관, 그리고 상기 순환 라인상에 설치되어 상기 순환 라인을 흐르는 상기 약액의 온도를 기설정된 공정 온도로 가열하는 가열기를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 혼합 장치의 약액 혼합 방법에 있어서, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 어느 하나로부터 기판 처리 공정을 수행하는 기판 처리부로 상기 약액의 공급이 이루어지면, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 다른 하나는 상기 공급라인들로부터 상기 처리액들을 공급받아, 공급받은 처리액들을 상기 순환 라인을 통해 순환시키면서 상기 가열기에 의해 기설정된 공정 온도를 만족하는 약액을 생성시킨 후 상기 약액의 공급을 대기한다.In accordance with another aspect of the present invention, there is provided a method of mixing a chemical liquid, the first mixing tank and the second mixing tank having a space for mixing the supplied processing liquids to generate the chemical liquid. Supplying the chemical liquid to the substrate processing unit for performing a substrate processing process from the first mixing tank and the second mixing tank circulation line for circulating the processing liquid in the mixing tank and the second mixing tank to produce a chemical liquid Line, a recovery tank for recovering the chemical liquid used in the substrate processing unit, a chemical liquid supply pipe for supplying the chemical liquid regenerated in the recovery tank to the first mixing tank and the second mixing tank, and installed on the circulation line. Chemical liquid mixing apparatus comprising a heater for heating the temperature of the chemical liquid flowing in the circulation line to a predetermined process temperature In the chemical liquid mixing method of claim 1, wherein when the chemical liquid is supplied from the one of the first mixing tank and the second mixing tank to the substrate processing unit for performing a substrate processing process, the first mixing tank and the second mixing tank The other is supplied with the treatment liquids from the supply lines, while circulating the supplied treatment liquids through the circulation line to produce a chemical liquid that satisfies a predetermined process temperature by the heater, and then waits for supply of the chemical liquid. do.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 순환 라인을 따라 순환되는 상기 약액 내 오염물질은 필터링된다.According to an embodiment of the present invention, contaminants in the chemical liquid circulated along the circulation line are filtered out.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 약액 혼합 장치는 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 약액의 공급이 이루어지는 탱크 내 상기 약액의 수위가 기설정된 수위 이하로 내려가면, 상기 약액의 공급이 이루어지는 탱크의 약액 공급을 중지함과 동시에 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 약액 공급을 대기하던 탱크가 상기 기설정된 공정 온도를 만족하는 약액을 상기 기판 처리부로 공급한다.According to an embodiment of the present invention, the chemical liquid mixing apparatus, when the level of the chemical liquid in the tank in which the supply of the chemical liquid of the first mixing tank and the second mixing tank is lowered below the predetermined level, supply of the chemical liquid is At the same time as the chemical liquid supply to the tank is stopped, the tank waiting for the chemical liquid supply of the first mixing tank and the second mixing tank supplies the chemical liquid satisfying the predetermined process temperature to the substrate processing unit.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명된 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided so that the disclosure may be made thorough and complete, and to fully convey the spirit of the invention to those skilled in the art.

그리고, 본 실시예에 따른 약액 혼합 장치 및 방법은 두 개의 혼합 탱크를 구비하고, 하나의 처리액을 초순수를 희석시켜 기설정된 농도를 만족하는 약액을 생성하는 것을 예로 들어 설명한다. 그러나, 본 발명은 복수의 처리액들을 혼합시켜 약액을 생성할 수 있으며, 혼합 탱크는 두 개 이상이 사용될 수 있다.In addition, the chemical liquid mixing apparatus and method according to the present embodiment will be described with an example in which two mixing tanks are provided and one treatment liquid is diluted with ultrapure water to produce a chemical liquid that satisfies a predetermined concentration. However, the present invention can produce a chemical liquid by mixing a plurality of treatment liquids, two or more mixing tanks may be used.

또한, 본 실시예는 기판 처리부가 반도체 기판을 매엽식으로 처리하는 공정 챔버를 구비하는 것을 예로 들어 설명하였으나, 기판 처리부는 소정의 약액을 사용하는 다양한 공정 장치들을 포함할 수 있다.In addition, the present embodiment has been described with an example in which the substrate processing unit includes a process chamber for processing the semiconductor substrate in a single sheet, but the substrate processing unit may include various processing apparatuses using a predetermined chemical liquid.

(실시예)(Example)

도 1은 본 발명에 따른 약액 혼합 장치가 구비되는 기판 처리 설비를 개략적으로 도시한 구성도이다. 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 기판 처리 설비(1)는 기판 처리부(10), 약액 공급부(20), 약액 재생부(30), 그리고 제어부(40)를 가진다.1 is a configuration diagram schematically showing a substrate processing facility equipped with a chemical liquid mixing apparatus according to the present invention. Referring to FIG. 1, the substrate processing facility 1 according to the present invention includes a substrate processing unit 10, a chemical liquid supply unit 20, a chemical liquid regeneration unit 30, and a control unit 40.

기판 처리부(10)는 약액 공급부(20)로부터 약액을 공급받아, 반도체 기판(W)을 처리하는 공정을 수행한다. 약액 공급부(20)는 약액을 생성, 공급, 그리고 회수한다. 약액 공급부(20)는 복수의 처리액들을 혼합하여 약액을 생성하고, 이를 기판 처리부(10)로 공급한다. 약액 재생부(30)는 기판 처리부(10)에서 사용된 약액을 회수하고, 회수된 약액을 재사용을 위해 농도 및 온도 조절, 그리고 오염물질의 제거 등을 수행하여 재생하며, 재생된 약액을 약액 공급부(20)로 공급한다. 제어부(40)는 상술한 기판 처리 설비(1)의 공정을 제어한다.The substrate processing unit 10 receives the chemical liquid from the chemical liquid supply unit 20 and performs a process of processing the semiconductor substrate W. The chemical liquid supply unit 20 generates, supplies, and recovers chemical liquids. The chemical liquid supply unit 20 generates a chemical liquid by mixing a plurality of processing liquids, and supplies the chemical liquid to the substrate processing unit 10. The chemical liquid regeneration unit 30 recovers the chemical liquid used in the substrate processing unit 10, regenerates the recovered chemical liquid by adjusting the concentration and temperature for the reuse, and removing the contaminants, and supplies the regenerated chemical liquid to the chemical liquid supply unit. Supply to (20). The control unit 40 controls the process of the substrate processing facility 1 described above.

기판 처리부(10)는 적어도 하나의 공정 챔버(process chamber)(11)를 포함한다. 공정 챔버(11)는 하우징(12), 스핀척(13), 구동부(14), 그리고 노즐부(15)를 포함한다. 하우징(12)은 내부에 기판처리공정이 수행되는 공간을 제공한다. 스핀척(13)은 공정시 기판(W)을 안착시켜 지지 및 회전시킨다. 구동부(14)는 스핀척(13)을 구동한다. 그리고, 노즐부(15)는 약액액 공급부(10)로부터 약액을 공급받아 공정시 스핀척(13)에 안착되어 회전되는 기판(W)의 처리면으로 약액을 공급한다.The substrate processing unit 10 includes at least one process chamber 11. The process chamber 11 includes a housing 12, a spin chuck 13, a drive unit 14, and a nozzle unit 15. The housing 12 provides a space in which the substrate treating process is performed. The spin chuck 13 mounts and supports and rotates the substrate W during the process. The drive unit 14 drives the spin chuck 13. The nozzle unit 15 receives the chemical liquid from the chemical liquid supply unit 10 and supplies the chemical liquid to the processing surface of the substrate W that is seated on the spin chuck 13 and rotated during the process.

약액 공급부(20)는 제1 혼합탱크(first mixing tank)(110), 제2 혼합탱크(second mixing tank)(120), 처리액 공급부재(treating-liquid supply member)(130), 순환 부재(recycling member)(140), 약액 공급부재(chemical supply member)(150), 그리고 약액 회수부재(chemical recycle member(160)를 포함한다. The chemical liquid supply unit 20 may include a first mixing tank 110, a second mixing tank 120, a treating-liquid supply member 130, and a circulation member ( a recycling member 140, a chemical supply member 150, and a chemical recycle member 160.

제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120)는 내부에 복수의 처리액들을 공급받아, 공급받은 처리액들을 혼합시켜 약액을 생성하는 공간을 제공한다. 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120)에는 탱크 내 약액의 수위를 감지하는 복수의 레벨센서들(level sensor)(S1, S2, S3, S4, S5, S1', S2', S3', S4', S5')이 설치된다. 각각의 레벨센서들은 기설정된 높이에서 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120) 내 약액의 수위를 감지한다. 이러한 레벨센터들은 보통 탱크의 외부에 노출되는 레벨링 라인(leveling line)(미도시됨) 상에 상하로 설치된다. 상술한 레벨센서들을 사용하여 탱크 내 처리액의 수위를 감지하는 기술은 반도체 및 평판디스플레이 분야의 일반적인 당업자가 용이하게 이해할 수 있는 기술이므로, 레벨센서의 수위 감지 방법 및 방식에 대한 구체적인 설명은 생략하겠다.The first mixing tank 110 and the second mixing tank 120 receive a plurality of processing liquids therein, and provide a space for mixing the supplied processing liquids to generate a chemical liquid. The first mixing tank 110 and the second mixing tank 120 has a plurality of level sensors (S1, S2, S3, S4, S5, S1 ', S2', for detecting the level of the chemical liquid in the tank). S3 ', S4', S5 ') are provided. Each level sensor detects the level of the chemical liquid in the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120 at a predetermined height. These level centers are usually installed up and down on a leveling line (not shown) which is exposed to the outside of the tank. Since the technology for detecting the level of the processing liquid in the tank using the above-described level sensors is easily understood by those skilled in the art of semiconductor and flat panel displays, a detailed description of the method and method for detecting the level of the level sensor will be omitted. .

처리액 공급부재(130)는 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120)로 처리액들을 공급한다. 일 실시예로서, 처리액 공급부재(130)는 제1 처리액 공급라인(132) 및 제2 처리액 공급라인(134), 그리고 제1 초순수 공급라인(136) 및 제2 초순수 공급라인(138)을 가진다. 제1 처리액 공급라인(132)은 제1 혼합탱크(110)로 처리액을 공급하고, 제2 처리액 공급라인(134)은 제2 혼합탱크(120)로 처리액을 공급한다. 또한, 제1 초순수 공급라인(136)은 제1 혼합탱크(110)로 초순수를 공급하고, 제2 초순수 공급라인(138)은 제2 혼합탱크(120)로 초순수를 공급한다.The treatment liquid supply member 130 supplies treatment liquids to the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120. In one embodiment, the treatment liquid supply member 130 may include a first treatment liquid supply line 132 and a second treatment liquid supply line 134, and a first ultrapure water supply line 136 and a second ultrapure water supply line 138. ) The first treatment liquid supply line 132 supplies the treatment liquid to the first mixing tank 110, and the second treatment liquid supply line 134 supplies the treatment liquid to the second mixing tank 120. In addition, the first ultrapure water supply line 136 supplies ultrapure water to the first mixing tank 110, and the second ultrapure water supply line 138 supplies ultrapure water to the second mixing tank 120.

순환 부재(140)는 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120) 내 처리액들을 순환시키면서 혼합한다. 순환 부재(140)는 제1 순환라인(142), 제2 순환라인(144), 그리고 농도/온도 측정라인(146)을 포함한다. 제1 순환라인(142)은 제1 혼합탱크(110) 내 처리액들을 순환시키면서 혼합하여 약액을 생성한다. 제2 순환라인(144)은 제2 혼합탱크(120) 내 처리액들을 순환시키면서 혼합하여 약액을 생성한다. 제1 필터부재(146d)는 농도/온도 측정라인(146)을 따라 이동되는 약액 내 오염물질을 필터링(filtering)한다. 제1 필터부재(146d)로는 적어도 하나의 필터(filter)가 사용된다. 그리고, 농도/온도 측정라인(146)은 제1 순환라인(142) 및 제2 순환라인(144)을 순환하는 약액의 농도 및 온도를 측정한다. 농도/온도 측정라인(146)에는 제1 가압부재(146a), 제1 농도계(146b), 제1 가열기(146c), 그리고 온도감지부재(미도시됨)가 설치된다.The circulation member 140 mixes and circulates the processing liquids in the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120. The circulation member 140 includes a first circulation line 142, a second circulation line 144, and a concentration / temperature measurement line 146. The first circulation line 142 is mixed while circulating the treatment liquid in the first mixing tank 110 to generate a chemical liquid. The second circulation line 144 is mixed while circulating the treatment liquid in the second mixing tank 120 to generate a chemical liquid. The first filter member 146d filters the contaminants in the chemical liquid moved along the concentration / temperature measurement line 146. At least one filter is used as the first filter member 146d. In addition, the concentration / temperature measurement line 146 measures the concentration and temperature of the chemical liquid circulating in the first circulation line 142 and the second circulation line 144. The concentration / temperature measurement line 146 is provided with a first pressurizing member 146a, a first densitometer 146b, a first heater 146c, and a temperature sensing member (not shown).

제1 가압부재(146a)는 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120) 내 처리액들이 제1 및 제2 순환라인(142)을 따라 순환되도록 제1 및 제2 순환라인(142) 내 약액에 유동압을 제공한다. 제1 가압부재(146a)로는 펌프(pump)가 사용될 수 있다. 제1 농도계(146b)는 농도/온도 측정라인(146)을 따라 이동되는 약액의 농도를 측정한다. 제1 가열기(146c)는 농도/온도 측정라인(146)을 따라 이동되는 약액을 기설정된 공정 온도로 가열한다. 제1 가열기(146c)로는 적어도 하나의 히터(heater)가 사용될 수 있다. 그리고, 온도감지부재(미도시됨)는 혼합된 약액의 온도를 측정한다. 온도감지부재로는 적어도 하나의 온도감지센서가 사용될 수 있다.The first pressurizing member 146a includes the first and second circulation lines 142 such that the treatment liquids in the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120 are circulated along the first and second circulation lines 142. ) Provides flow pressure to the chemical liquid. A pump may be used as the first pressing member 146a. The first densitometer 146b measures the concentration of the chemical liquid moved along the concentration / temperature measurement line 146. The first heater 146c heats the chemical liquid moved along the concentration / temperature measurement line 146 to a predetermined process temperature. At least one heater may be used as the first heater 146c. The temperature sensing member (not shown) measures the temperature of the mixed chemical liquid. At least one temperature sensor may be used as the temperature sensor.

약액 공급부재(150)는 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120) 내 약액을 기판 처리부(10)로 공급 및 회수한다. 약액 공급부재(150)는 약액 공급라인(151), 약액 회수라인(152), 제2 가압부재(153), 제2 가열기(154), 제2 농도계(155), 그리고 제2 필터부재(156)를 포함한다. 약액 공급라인(151)은 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120)로부터 공정 챔버(11)의 노즐부(15)로 약액을 공급한다. 약액 회수라인(152)은 공정 챔버(11)로부터 사용된 약액을 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120)로 회수한다. 이때, 약액 회수라인(152)은 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120) 중 약액의 공급이 이루어지는 탱크로 사용된 약액을 회수한다.The chemical liquid supply member 150 supplies and recovers the chemical liquid in the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120 to the substrate processing unit 10. The chemical liquid supply member 150 includes a chemical liquid supply line 151, a chemical liquid recovery line 152, a second pressurizing member 153, a second heater 154, a second concentration meter 155, and a second filter member 156. ). The chemical liquid supply line 151 supplies the chemical liquid from the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120 to the nozzle unit 15 of the process chamber 11. The chemical liquid recovery line 152 recovers the chemical liquid used from the process chamber 11 to the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120. At this time, the chemical liquid recovery line 152 recovers the chemical liquid used as a tank in which the chemical liquid is supplied from the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120.

제2 가압부재(153)는 약액 공급라인(151)에 설치된다. 제2 가압부재(153)는 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120) 내 약액이 공정 챔버(11)로 공급되도록 약액 공급라인(151) 내 약액에 유동압을 제공한다. 제2 가압부재(153)로는 펌프(pump)가 사용될 수 있다. 제2 가열기(154)는 약액 공급라인(151)에 설치되고, 약액 공급라인(151)을 따라 이동되는 약액의 온도를 기설정된 공정 온도로 가열한다. 제2 가열기(154)로는 적어도 하나의 히터(heater)가 사용될 수 있다. 제2 농도계(155)는 약액 공급라인(151)에 설치되어, 약액 공급라인(151)을 따라 이동되는 약액의 농도를 측정한다. 그리고, 제2 필터부재(156)는 약액 공급라인(151)에 설치되어, 약액 공급라인(151)을 따라 이동되는 약액 내 오염물질을 필터링(filtering)한다.The second pressing member 153 is installed in the chemical liquid supply line 151. The second pressurizing member 153 provides a flow pressure to the chemical liquid in the chemical liquid supply line 151 so that the chemical liquid in the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120 is supplied to the process chamber 11. A pump may be used as the second pressing member 153. The second heater 154 is installed in the chemical liquid supply line 151 and heats the temperature of the chemical liquid moved along the chemical liquid supply line 151 to a predetermined process temperature. At least one heater may be used as the second heater 154. The second concentration meter 155 is installed in the chemical liquid supply line 151 to measure the concentration of the chemical liquid moved along the chemical liquid supply line 151. In addition, the second filter member 156 is installed in the chemical liquid supply line 151 to filter contaminants in the chemical liquid moved along the chemical liquid supply line 151.

약액 재생부(30)는 회수탱크(160) 및 약액 회수부재(170)를 포함한다. 회수탱크(160)는 내부에 사용된 약액을 재생하는 공간을 제공한다. 회수 탱크(160)의 외부에는 상술한 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120)와 같이 복수의 레벨센서들(미도시됨)이 설치되어 회수 탱크(160) 내 약액의 수위를 감지할 수 있다.The chemical liquid regeneration unit 30 includes a recovery tank 160 and a chemical liquid recovery member 170. The recovery tank 160 provides a space for regenerating the chemical liquid used therein. Outside the recovery tank 160, a plurality of level sensors (not shown) are installed, such as the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120 described above, to adjust the level of the chemical liquid in the recovery tank 160. I can detect it.

약액 회수부재(170)는 약액 회수관(172), 약액 공급관(174), 약액 순환관(176)을 포함한다. 약액 회수관(172)은 기판 처리부(10)의 공정 챔버(11)에서 사용된 약액을 회수탱크(160)로 회수한다. 약액 공급관(174)은 회수탱크(160)로부터 재생된 약액을 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120)로 공급한다. 이때, 약액 공급관(174)은 공정시 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120) 중 약액의 공급이 이루어지는 탱크로 재생된 약액을 공급한다. 약액 순환관(176)은 회수탱크(160) 내부에 수용된 사용된 약액을 순환시키면서 재생시킨다. 이를 위해, 약액 순환관(176)에는 제3 가압부재(176a), 제3 농도계(176b)가 설치된다. 제3 가압부재(176a)는 약액 순환관(176)을 따라 회수탱크(160) 내 사용된 약액이 순환되도록 약액 순환관(176) 내부 통로에 유동압을 제공한다. 제3 농도계(176b)는 약액 순환관(176)을 따라 순환되는 사용된 약액의 농도를 측정한다.The chemical liquid recovery member 170 includes a chemical liquid recovery tube 172, a chemical liquid supply pipe 174, and a chemical liquid circulation tube 176. The chemical liquid collection tube 172 recovers the chemical liquid used in the process chamber 11 of the substrate processing unit 10 to the recovery tank 160. The chemical liquid supply pipe 174 supplies the chemical liquid regenerated from the recovery tank 160 to the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120. In this case, the chemical liquid supply pipe 174 supplies the regenerated chemical liquid to the tank in which the chemical liquid is supplied in the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120 during the process. The chemical liquid circulation tube 176 recycles the used chemical liquid contained in the recovery tank 160 while circulating. To this end, a third pressurizing member 176a and a third concentration meter 176b are installed in the chemical liquid circulation tube 176. The third pressurizing member 176a provides a flow pressure to the internal passage of the chemical liquid circulation tube 176 so that the chemical liquid used in the recovery tank 160 is circulated along the chemical liquid circulation tube 176. The third densitometer 176b measures the concentration of the used chemical liquid circulated along the chemical liquid circulation tube 176.

제어부(40)는 적어도 하나의 제어기(170)를 가진다. 제어기(170)는 상술한 공정 챔버(11) 및 약액 혼합 장치(100), 그리고 약액 회수부재(170)를 제어한다. 즉, 제어기(170)는 약액 혼합 장치(100)에 제공되는 밸브들(V1, V2, V3, V4)의 개폐를 제어하여, 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120)로의 약액 및 초순수의 공급을 제어한다. 제어기(170)는 밸브들(V5, V6, V7, V8, V9)의 개폐를 제어하여, 기판 처리부(10) 및 약액 공급부(20) 상호간에 약액의 공급 및 회수를 제어한다. 제어기(170)는 밸브들(V10, V11, V12, V13)의 개폐를 제어하여 제1 혼합탱크(110) 및 제2 혼합탱크(120)의 약액 생성을 제어한다. 제어기(170)는 밸브(V14, V15, V16)의 개폐를 제어하여 공정 챔버(11)에서 사용된 약액의 회수 및 회수된 약액의 재생, 그리고 재생된 약액을 약액 공급부(20)로 공급하는 과정을 제어한다. 그리고, 제어기(170)는 공정 챔버(11)의 기판 처리 공정을 제어한다.The controller 40 has at least one controller 170. The controller 170 controls the above-described process chamber 11, the chemical liquid mixing apparatus 100, and the chemical liquid recovering member 170. That is, the controller 170 controls the opening and closing of the valves V1, V2, V3, and V4 provided to the chemical liquid mixing device 100, and the chemical liquid to the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120. And controlling the supply of ultrapure water. The controller 170 controls the opening and closing of the valves V5, V6, V7, V8, and V9 to control supply and recovery of the chemical liquid between the substrate processing unit 10 and the chemical liquid supply unit 20. The controller 170 controls the opening and closing of the valves V10, V11, V12, and V13 to control the chemical liquid generation of the first mixing tank 110 and the second mixing tank 120. The controller 170 controls the opening and closing of the valves V14, V15, and V16 to recover the chemical liquid used in the process chamber 11, regenerate the recovered chemical liquid, and supply the regenerated chemical liquid to the chemical liquid supply unit 20. To control. In addition, the controller 170 controls the substrate treating process of the process chamber 11.

이하, 상술한 구성을 가지는 약액 혼합 장치(100)의 공정 과정을 상세히 설명한다. 여기서, 상술한 구성들과 동일한 구성들에 대한 참조번호는 동일하게 병기하고, 그 구성들에 대한 상세한 설명은 생략하겠다.Hereinafter, the process of the chemical liquid mixing apparatus 100 having the above-described configuration will be described in detail. Here, the same reference numerals for the same components as the above-described components, and the detailed description of the components will be omitted.

도 2는 본 발명에 따른 약액 혼합 방법을 보여주는 순서도이다. 그리고, 도 3a 내지 도 3e는 본 발명에 따른 약액 혼합 방법을 설명하기 위한 도면들이다.2 is a flow chart showing a method of mixing the chemical liquid according to the present invention. 3A to 3E are diagrams for describing a chemical liquid mixing method according to the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 제조 설비(1)의 약액 공급부(20)는 기판 처리부(10)로 생성된 약액을 공급하고, 기판 처리부(10)는 공급받은 약액으로 기판 처리 공정을 수행한다(S110). Referring to FIG. 2, the chemical liquid supply unit 20 of the semiconductor manufacturing facility 1 according to the present invention supplies the chemical liquid generated to the substrate processing unit 10, and the substrate processing unit 10 performs a substrate processing process with the supplied chemical liquid. Perform (S110).

제1 혼합탱크(110)가 공정 챔버(11)로 약액을 공급하여 기판 처리 공정을 수행하면, 제2 혼합탱크(120)는 기설정된 농도 및 온도 조건을 만족하는 약액을 생성한 후 대기한다(S120). 즉, 제1 혼합탱크(110)의 약액 공급이 이루어지면, 제2 혼합탱크(120)는 제2 처리액 공급라인(136) 및 제2 초순수 공급라인(138)으로부터 각각 일정량의 처리액 및 초순수를 공급받는다. 제2 혼합탱크(120)가 처리액 및 초순수를 수용하면, 제2 순환라인(144)은 제2 혼합탱크(120) 내 약액 및 초순수를 순환시키면서 혼합한다. 이때, 농도/온도 측정라인(146)에 설치되는 가열기(146c)는 혼합되는 약액을 기설정된 공정 온도로 가열하고, 필터부재(146d)는 혼합되는 약액 내 오염물질을 필터링한다. 일정 시간 동안 약액의 혼합이 이루어지면, 농도계(146b)는 혼합된 약액의 농도를 측정한다. 약액의 농도가 기설정된 공정 농도를 만족하면, 제2 혼합탱크(120)는 약액의 공급을 대기한다. 여기서, 순환 부재(140)는 주기적으로 제2 혼합탱크(120) 내 약액의 농도 및 온도를 감지하여 제2 혼합탱크(120) 내 약액의 농도 및 온도가 기설정된 공정 농도 및 온도가 유지되도록 한다.When the first mixing tank 110 supplies the chemical liquid to the process chamber 11 to perform a substrate treatment process, the second mixing tank 120 generates a chemical liquid satisfying a predetermined concentration and temperature condition and waits ( S120). That is, when the chemical liquid supply of the first mixing tank 110 is made, the second mixing tank 120 receives a predetermined amount of the treating liquid and the ultrapure water from the second processing liquid supply line 136 and the second ultrapure water supply line 138, respectively. Get supplied. When the second mixing tank 120 receives the treatment liquid and the ultrapure water, the second circulation line 144 mixes the chemical liquid and the ultrapure water in the second mixing tank 120 while circulating. At this time, the heater 146c installed in the concentration / temperature measurement line 146 heats the mixed chemical liquid to a predetermined process temperature, and the filter member 146d filters the contaminants in the mixed chemical liquid. When the chemical liquid is mixed for a predetermined time, the densitometer 146b measures the concentration of the mixed chemical liquid. When the concentration of the chemical liquid satisfies the predetermined process concentration, the second mixing tank 120 waits for the supply of the chemical liquid. Here, the circulation member 140 periodically detects the concentration and temperature of the chemical liquid in the second mixing tank 120 so that the concentration and temperature of the chemical liquid in the second mixing tank 120 are maintained at a predetermined process concentration and temperature. .

이때, 제1 혼합탱크(110) 내 약액의 수위가 기설정된 약액의 수위 이하로 내려가면(S130), 제1 혼합탱크(110)로부터 제2 혼합탱크(120)로의 약액 공급의 교체가 이루어진다(S140). 즉, 도 3a를 참조하면, 제1 혼합탱크(110)의 약액 공급이 진행될수록 제1 혼합탱크(110) 내 약액의 수위가 점차 감소한다. 이때, 제1 혼합탱크(110)에 제공되는 레벨센서(S4)가 오프(off)되면, 제어부(170)는 밸브(V5, V8)을 클로우즈하고, 밸브(V6, V9)를 오픈한다. 그리고, 제어부(170)는 기판 처리 공정시 약액의 공급이 요구될 때 밸브(V9)을 클로우즈하고 밸브(V7)를 오픈시켜, 기판(W)으로 약액을 공급시킨다. 따라서, 제1 혼합탱크(110)의 약액 공급이 중단되고, 약액의 공급을 대기하던 제2 혼합탱크(120)가 기판 처리부(10)의 공정 챔버(11)로 약액을 공급한다(S150).At this time, when the level of the chemical liquid in the first mixing tank 110 is lower than the predetermined level of the chemical liquid (S130), the chemical liquid supply from the first mixing tank 110 to the second mixing tank 120 is replaced ( S140). That is, referring to FIG. 3A, as the chemical liquid supply of the first mixing tank 110 proceeds, the level of the chemical liquid in the first mixing tank 110 decreases gradually. At this time, when the level sensor S4 provided to the first mixing tank 110 is turned off, the controller 170 closes the valves V5 and V8 and opens the valves V6 and V9. In addition, the controller 170 closes the valve V9 and opens the valve V7 when the supply of the chemical liquid is required in the substrate treating process, thereby supplying the chemical liquid to the substrate W. FIG. Therefore, the supply of the chemical liquid of the first mixing tank 110 is stopped, and the second mixing tank 120 waiting for the supply of the chemical liquid supplies the chemical liquid to the process chamber 11 of the substrate processing unit 10 (S150).

기판 처리부(10)에 사용된 약액은 약액 재생부(30)의 회수탱크(160)로 회수되고, 회수된 사용된 약액은 기설정된 농도 및 온도로 조절된다(S160). 즉, 도 3b 및 도 3c를 참조하면, 제어기(180)는 밸브(V14)를 오픈시키고, 약액 회수관(176)은 공정 챔버(11)로부터 회수탱크(160)로 사용된 약액을 회수한다. 회수탱크(160)에 일정량의 사용된 약액이 채워지면, 제어부(180)는 밸브(V14)를 클로우즈하고 밸브(V15)를 오픈한 후 제3 가압부재(176a)를 가동시킨다. 따라서, 회수탱크(160) 내 사용된 약액은 약액 순환관(176)을 따라 순환된다. 이때, 제3 농도계(176b)는 순환되는 약액의 농도를 측정하고, 제어부(180)는 제3 농도계(176b)가 측정한 약액의 농도가 기설정된 공정 농도를 만족하는지 여부를 판단한다(S170). 제3 농도계(176b)가 측정한 약액의 농도가 기설정된 공정 농도를 만족하면, 제어부(180)는 밸브(V15)를 클로우즈하고, 밸브(V16)를 오픈시킨다. 약액 공급관(174)은 재생된 약액을 회수탱크(160)로부터 제2 혼합탱크(110)로 공급한다. 여기서, 본 실시예에서는 약액 재생부(30)가 사용된 약액을 회수한 후 농도만을 조절하여 약액 공급부(20)로 공급하는 것을 예로 들어 설명하였으나, 약액 재생부(30)는 사용된 약액의 온도 조절 및 오염물질의 필터링 등을 더 수행한 후 재생된 약액을 약액 공급부(20)로 공급할 수 있다.The chemical liquid used in the substrate processing unit 10 is recovered to the recovery tank 160 of the chemical liquid regeneration unit 30, and the recovered used chemical liquid is adjusted to a predetermined concentration and temperature (S160). That is, referring to FIGS. 3B and 3C, the controller 180 opens the valve V14, and the chemical liquid collection tube 176 recovers the chemical liquid used as the recovery tank 160 from the process chamber 11. When a predetermined amount of the used chemical liquid is filled in the recovery tank 160, the controller 180 closes the valve V14, opens the valve V15, and then operates the third pressurizing member 176a. Therefore, the chemical liquid used in the recovery tank 160 is circulated along the chemical liquid circulation tube 176. At this time, the third densitometer 176b measures the concentration of the circulating chemical liquid, and the controller 180 determines whether the concentration of the chemical liquid measured by the third densitometer 176b satisfies the preset process concentration (S170). . When the concentration of the chemical liquid measured by the third densitometer 176b satisfies the predetermined process concentration, the controller 180 closes the valve V15 and opens the valve V16. The chemical liquid supply pipe 174 supplies the regenerated chemical liquid from the recovery tank 160 to the second mixing tank 110. Here, in the present embodiment, the chemical solution regeneration unit 30 recovers the used chemical solution and then supplies only to the chemical solution supply unit 20 by adjusting the concentration, but the chemical solution regeneration unit 30 is the temperature of the used chemical solution. After further adjusting and filtering the contaminants, the regenerated chemical solution may be supplied to the chemical solution supply unit 20.

또한, 제2 혼합탱크(120)의 약액 공급이 이루어지면, 처리액 공급부재(140)는 제1 혼합탱크(110)로 처리액 및 초순수를 공급한다(S190). 즉, 제어기(180)는 밸브(V1)를 오픈시키고, 제1 처리액 공급라인(132)은 제1 혼합탱크(110)로 일정량의 처리액을 공급한다. 제1 처리액 공급라인(132)이 기설정된 공급량만큼의 처리액을 제1 혼합탱크(110)로 공급하면, 제어기(180)는 밸브(V1)를 클로우즈하고, 밸브(V3)를 오픈시킨다. 제1 초순수 공급라인(136)은 제1 혼합탱크(110)로 초순수를 공급한다. 이때, 레벨센서(S2)가 온(on)되면, 제어기(180)는 밸브(V3)를 클로우즈하여 초순수의 공급을 완료한다.In addition, when the chemical liquid is supplied to the second mixing tank 120, the treatment liquid supply member 140 supplies the treatment liquid and the ultrapure water to the first mixing tank 110 (S190). That is, the controller 180 opens the valve V1 and the first processing liquid supply line 132 supplies a predetermined amount of the processing liquid to the first mixing tank 110. When the first processing liquid supply line 132 supplies a predetermined amount of processing liquid to the first mixing tank 110, the controller 180 closes the valve V1 and opens the valve V3. The first ultrapure water supply line 136 supplies ultrapure water to the first mixing tank 110. At this time, when the level sensor S2 is turned on, the controller 180 closes the valve V3 to complete supply of ultrapure water.

처리액 및 초순수의 공급이 완료되면, 제1 혼합탱크(110) 내 처리액 및 초순수를 혼합하여 약액을 생성한다(S200). 즉, 도 3d를 참조하면, 제어기(180)는 밸 브(V10, V11)를 오픈시키고, 제1 가압부재(146a)를 구동시킨다. 따라서, 제1 혼합탱크(110) 내 약액 및 초순수는 제1 순환라인(142) 및 농도/온도 측정라인(146)을 순환하면 서로 혼합된다.When the supply of the treatment liquid and ultrapure water is completed, the treatment liquid and the ultrapure water in the first mixing tank 110 are mixed to generate a chemical liquid (S200). That is, referring to FIG. 3D, the controller 180 opens the valves V10 and V11 and drives the first pressing member 146a. Therefore, the chemical liquid and the ultrapure water in the first mixing tank 110 are mixed with each other when the first circulation line 142 and the concentration / temperature measurement line 146 are circulated.

처리액 및 초순수의 혼합이 이루어지면, 생성된 약액의 농도 및 온도가 기설정된 공정 농도 및 온도를 만족하는지 여부를 판단한다(S190). 즉, 처리액 및 초순수의 혼합이 일정 시간 동안 진행되면, 농도계(146b)는 농도/온도 측정라인(146)을 따라 이동되는 약액의 농도를 측정하고, 온도감지부재(미도시됨)는 혼합된 약액의 온도를 측정한다. 제어기(180)는 농도계(146b)가 측정한 약액의 농도가 기설정된 공정 농도를 만족하는지 여부를 판단하고, 온도감지부재가 측정한 약액의 온도가 기설정된 공정 온도를 만족하는지 여부를 판단한다(S210). When the treatment liquid and the ultrapure water are mixed, it is determined whether the concentration and the temperature of the generated chemical liquid satisfy the predetermined process concentration and temperature (S190). That is, when mixing of the processing liquid and ultrapure water proceeds for a predetermined time, the densitometer 146b measures the concentration of the chemical liquid moved along the concentration / temperature measuring line 146, and the temperature sensing member (not shown) is mixed. Measure the temperature of the chemical liquid. The controller 180 determines whether the concentration of the chemical liquid measured by the densitometer 146b satisfies the preset process concentration, and determines whether the temperature of the chemical liquid measured by the temperature sensing member satisfies the predetermined process temperature ( S210).

생성된 약액이 기설정된 공정 농도 및 온도를 만족하면, 제어기(180)는 밸브(V10, V11)를 클로우즈하고, 제1 가압부재(146a)의 가동을 중지하여 제1 혼합탱크(110)의 약액 공급 대기를 완료한다(S220). 이때, 제어기(180)는 주기적으로 밸브(V10, V11)를 오픈시키고, 제1 가압부재(146a)를 작동시켜, 제1 혼합탱크(110) 내 약액의 농도 및 온도를 공정 농도 및 공정 온도로 유지시킬 수 있다. 따라서, 도 3e를 참조하면, 제1 혼합탱크(110)는 기설정된 공정 농도 및 온도, 그리고 오염물질의 필터링 등의 공정 조건을 만족하는 약액의 공급을 완료하고, 후에 제2 혼합탱크(120) 내 약액의 수위가 기설정된 수위 이하로 내려가면, 제1 혼합탱크(110)는 상기 공정 조건을 만족하는 약액을 바로 기판 처리부(10)로 공급한다.If the generated chemical liquid satisfies the predetermined process concentration and temperature, the controller 180 closes the valves V10 and V11 and stops the operation of the first pressurizing member 146a to thereby operate the chemical liquid of the first mixing tank 110. Complete the supply wait (S220). At this time, the controller 180 periodically opens the valves V10 and V11 and operates the first pressurizing member 146a to change the concentration and temperature of the chemical liquid in the first mixing tank 110 to the process concentration and the process temperature. You can keep it. Therefore, referring to FIG. 3E, the first mixing tank 110 completes the supply of the chemical liquid that satisfies the process conditions such as the predetermined process concentration and temperature and the filtering of contaminants, and then the second mixing tank 120. When the level of the chemical liquid is lowered below the predetermined level, the first mixing tank 110 directly supplies the chemical liquid satisfying the process condition to the substrate processing unit 10.

상술한 약액 혼합 장치(100) 및 방법은 약액의 공급이 이루어지는 탱크로부 터 약액의 공급을 대기하던 탱크로 약액의 공급을 교체할 때, 약액의 공급을 대기하던 탱크 내 약액이 기설정된 공정 농도 및 온도, 그리고 오염물질의 필터링 등이 완료되어 있어, 탱크의 교체와 동시에 약액의 공급이 이루어질 수 있다. 따라서, 종래의 탱크의 약액 교체시, 약액의 공급을 대기하던 탱크 내 약액이 기설정된 온도를 만족하지 않아 일정시간 동안 약액의 공급이 이루어지지 않는 문제점을 해결할 수 있어 장치의 설비 가동률을 향상시킨다.In the above-described chemical liquid mixing apparatus 100 and the method, when the chemical liquid is supplied from the tank in which the chemical liquid is supplied to the tank waiting for the supply of the chemical, the chemical liquid in the tank waiting for the supply of the chemical is a predetermined process concentration. And temperature, and filtering of contaminants is completed, so that the supply of the chemical liquid can be performed at the same time as the tank is replaced. Therefore, when replacing the chemical liquid of the conventional tank, it is possible to solve the problem that the chemical liquid in the tank waiting for the supply of the chemical liquid does not satisfy the preset temperature, the supply of the chemical liquid for a certain time to improve the equipment operation rate of the device.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description illustrates the present invention. In addition, the foregoing description merely shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications may be made within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, the scope equivalent to the disclosed contents, and / or the skill or knowledge in the art. The above-described embodiments are for explaining the best state in carrying out the present invention, the use of other inventions such as the present invention in other state known in the art, and the specific fields of application and uses of the present invention. Various changes are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to include other embodiments.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 약액 혼합 장치 및 방법은 약액을 공급하는 탱크의 약액 공급 교체시, 기판 처리 공정의 중단 없이 약액을 연속적으로 공급할 수 있어, 장치의 설비 가동률을 향상시킨다.As described above, the chemical liquid mixing apparatus and method according to the present invention can continuously supply the chemical liquid without interruption of the substrate processing process at the time of chemical liquid supply replacement of the tank supplying the chemical liquid, thereby improving the equipment operation rate of the apparatus.

Claims (6)

약액 혼합 장치에 있어서,In the chemical liquid mixing apparatus, 복수의 처리액들을 수용하여 상기 처리액들을 혼합하는 제1 혼합탱크 및 제2 혼합탱크와,A first mixing tank and a second mixing tank accommodating a plurality of processing liquids and mixing the processing liquids; 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 내 처리액들을 순환시켜 약액을 생성하는 순환 라인과,A circulation line for circulating the treatment liquids in the first mixing tank and the second mixing tank to generate a chemical liquid; 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크로부터 기판 처리 공정을 수행하는 기판 처리부로 상기 약액을 공급하는 약액 공급라인과,A chemical liquid supply line for supplying the chemical liquid from the first mixing tank and the second mixing tank to a substrate processing unit performing a substrate processing process; 상기 기판 처리부에서 사용된 약액을 회수받는 회수 탱크와,A recovery tank for recovering the chemical liquid used in the substrate processing unit; 상기 회수 탱크 내에서 재생된 약액을 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크로 공급하는 약액 공급관, 그리고A chemical liquid supply pipe for supplying the chemical liquid regenerated in the recovery tank to the first mixing tank and the second mixing tank, and 상기 순환 라인상에 설치되어 상기 순환 라인을 흐르는 상기 약액의 온도를 기설정된 공정 온도로 가열하는 가열기를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 혼합 장치.And a heater installed on the circulation line to heat the temperature of the chemical liquid flowing in the circulation line to a predetermined process temperature. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 순환 라인에는,In the circulation line, 상기 순환 라인을 따라 순환되는 상기 약액 내 오염물질을 필터링하는 필터 부재가 더 설치되는 것을 특징으로 하는 약액 혼합 장치.And a filter member for filtering contaminants in the chemical liquid circulated along the circulation line. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 가열기는,The heater, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 어느 하나가 상기 기판처리부로 상기 약액의 공급을 수행하면, 상기 제1혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 다른 하나는 상기 공급라인들로부터 처리액들을 공급받아, 공급받은 처리액들을 상기 순환 라인을 통해 순환시키면서 상기 가열기에 의해 기설정된 공정 온도를 만족하는 약액을 생성시킨 후 대기하는 것을 특징으로 하는 약액 혼합 장치.When any one of the first mixing tank and the second mixing tank supplies the chemical liquid to the substrate processing unit, the other of the first mixing tank and the second mixing tank draws the processing liquids from the supply lines. The chemical liquid mixing apparatus of claim 1, wherein the chemical treatment apparatus circulates the supplied processing liquids through the circulation line while generating a chemical liquid that satisfies a predetermined process temperature by the heater. 내부에 복수의 처리액들을 공급받아 공급받은 처리액들을 혼합시켜 약액을 생성하는 공간을 가지는 제1 혼합탱크 및 제2 혼합탱크, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 내 처리액들을 순환시켜 약액을 생성하는 순환 라인, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크로부터 기판 처리 공정을 수행하는 기판 처리부로 상기 약액을 공급하는 약액 공급라인, 상기 기판 처리부에서 사용된 약액을 회수받는 회수 탱크, 상기 회수 탱크 내에서 재생된 약액을 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크로 공급하는 약액 공급관, 그리고 상기 순환 라인상에 설치되어 상기 순환 라인을 흐르는 상기 약액의 온도를 기설정된 공정 온도로 가열하는 가열기를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 혼합 장치의 약액 혼합 방법에 있어서,By circulating the treatment liquid in the first mixing tank and the second mixing tank, the first mixing tank and the second mixing tank having a space for generating a chemical liquid by receiving a plurality of processing liquids supplied therein to mix the supplied processing liquids A circulation line for generating a chemical liquid, a chemical liquid supply line for supplying the chemical liquid from the first mixing tank and the second mixing tank to a substrate processing unit performing a substrate processing process, a recovery tank for recovering the chemical liquid used in the substrate processing unit, A chemical liquid supply pipe for supplying the chemical liquid regenerated in the recovery tank to the first mixing tank and the second mixing tank, and the temperature of the chemical liquid installed on the circulation line and flowing through the circulation line to a predetermined process temperature. In the chemical liquid mixing method of the chemical liquid mixing apparatus, comprising a heater to 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 어느 하나로부터 기판 처리 공정을 수행하는 기판 처리부로 상기 약액의 공급이 이루어지면, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 다른 하나는 상기 공급라인들로부터 상기 처리액들을 공급받아, 공급받은 처리액들을 상기 순환 라인을 통해 순환시키면서 상기 가열기에 의해 기설정된 공정 온도를 만족하는 약액을 생성시킨 후 상기 약액의 공급을 대기하는 것을 특징으로 하는 약액 혼합 방법.When the chemical liquid is supplied from the one of the first mixing tank and the second mixing tank to the substrate processing unit performing the substrate processing process, the other of the first mixing tank and the second mixing tank is the supply line. Chemical liquid mixture, characterized in that the processing liquid is supplied from the air, and the processing liquid is circulated through the circulation line to generate a chemical liquid that satisfies a predetermined process temperature by the heater, and then waits for the supply of the chemical liquid. Way. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 순환 라인을 따라 순환되는 상기 약액 내 오염물질은 필터링되는 것을 특징으로 하는 약액 혼합 방법.The chemical liquid mixing method, characterized in that the contaminants in the chemical liquid circulated along the circulation line is filtered. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,The method according to claim 4 or 5, 상기 약액 혼합 장치는,The chemical liquid mixing device, 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 약액의 공급이 이루어지는 탱크 내 상기 약액의 수위가 기설정된 수위 이하로 내려가면, 상기 약액의 공급이 이루어지는 탱크의 약액 공급을 중지함과 동시에 상기 제1 혼합탱크 및 상기 제2 혼합탱크 중 약액 공급을 대기하던 탱크가 상기 기설정된 공정 온도를 만족하는 약액을 상기 기판 처리부로 공급하는 것을 특징으로 하는 약액 혼합 방법.When the level of the chemical liquid in the tank to which the chemical liquid is supplied in the first mixing tank and the second mixing tank is lowered below a predetermined level, the chemical liquid supply to the tank where the chemical liquid is supplied is stopped and at the same time the first liquid tank is supplied. The chemical tank mixing method characterized in that the tank waiting for the chemical liquid supply of the mixing tank and the second mixing tank supplies the chemical liquid satisfying the predetermined process temperature to the substrate processing unit.
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