KR20080004764A - Vacuum evaporation coater - Google Patents

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Abstract

A vacuum vapor deposition system is provided to obtain a uniform coated film by a coating thickness compensation unit which includes a movable mask separated under a rotating plate at a predetermined distance. A vacuum vapor deposition system includes a coating chamber, a rotating frame(150), a rotating plate(160), and a coating thickness compensation unit(231). The rotating frame is installed and rotated at an inside of the coating chamber. The rotating plate is installed and rotated against the rotating frame. The rotating plate has a vaporized material at a lower surface thereof. The coating thickness compensation unit includes a movable mask(234). The movable mast is moved to be separated under the rotating plate. The coating thickness compensation unit is fixed at the rotating frame. The plural rotating plates are installed, and the coating thickness compensation unit is corresponded to each rotating plate. A center portion of the rotating plate is positioned at the same diameter of the rotating frame. A gap between the neighbored rotating plates is same.

Description

진공 증착기{Vacuum Evaporation Coater}Vacuum Evaporation Coater

도 1은 종래 기술에 의한 일반적인 진공 증착기의 내부 구조를 간략하게 도시한 단면도,1 is a cross-sectional view schematically showing the internal structure of a conventional vacuum evaporator according to the prior art,

도 2는 종래 기술에 의한 일반적인 진공 증착기의 회전판 구조를 간략하게 도시한 사시도,Figure 2 is a perspective view briefly showing a rotating plate structure of a conventional vacuum evaporator according to the prior art,

도 3은 본 발명에 의한 진공 증착기의 내부 구조를 간략하게 도시한 단면도,3 is a cross-sectional view schematically showing the internal structure of the vacuum evaporator according to the present invention;

도 4a는 본 발명에 따른 진공 증착기 내에 이동형 코팅 두께 보정장치가 부착된 상태를 간략하게 도시한 회전틀의 사시도,Figure 4a is a perspective view of a rotary frame briefly showing a state in which the movable coating thickness correction apparatus is attached in the vacuum deposition machine according to the present invention,

도 4b는 도 4a의 정면도,4B is a front view of FIG. 4A,

도 5a는 이동형 코팅 두께 보정장치의 부착 수단을 나타내기 위해 도 4b의 A-A선을 따라 취한 단면도,Figure 5a is a cross-sectional view taken along the line A-A of Figure 4b to show the attachment means of the mobile coating thickness correction device,

도 5b는 도 4b의 B-B선을 따라 취한 단면도이다.FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line B-B in FIG. 4B.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 진공 증착기 101: 진공 증착기100: vacuum evaporator 101: vacuum evaporator

110: 코팅 챔버 120: 도어110: coating chamber 120: door

130: 배기구 140: 전자총130: exhaust port 140: electron gun

150: 회전틀 160: 회전판150: rotating frame 160: rotating plate

170: 회전틀 구동장치 180: 회전틀 회전축170: rotary frame drive device 180: rotary frame rotary shaft

190: 회전판 회전축 210: 회전판 구동장치190: rotating plate rotating shaft 210: rotating plate driving device

220: 렌즈 230: 고정형 코팅 두께 보정장치220: lens 230: fixed coating thickness correction device

231: 이동형 코팅 두께 보정장치 232: 부착판231: movable coating thickness compensator 232: attachment plate

233: 지지대 234: 마스크233: support 234: mask

235: 자석판 236: 돌출부235: magnetic plate 236: protrusion

237: 결합홈 238: 결합판237: coupling groove 238: coupling plate

240: 볼트240: volts

본 발명은 이동형 코팅 두께 보정장치를 구비한 진공 증착기에 관한 것이다. 보다 상세하게는 회전틀에 고정되어 회전 이동하고 피증착물이 부착된 회전판의 아래에 소정 거리 이격되게 위치하는 마스크를 포함하는 코팅 두께 보정장치를 구비한 진공 증착기에 관한 것이다.The present invention relates to a vacuum evaporator having a movable coating thickness compensator. More particularly, the present invention relates to a vacuum evaporator having a coating thickness compensator including a mask fixed to a rotating frame and rotating at a predetermined distance below a rotating plate to which a deposit is attached.

최근 카메라 렌즈의 무반사 코팅, 레이저 공명기용 거울 등의 고반사율 코팅, 밴드 패스 필터 또는 간섭 필터용 등 광학계의 각종 분야별로 최적의 광학적 특성을 갖는 고기능성 광학 제품에 대한 요구가 증대되고 있다.Recently, there is a growing demand for high functional optical products having optimal optical characteristics for various fields of the optical system such as anti-reflective coating of camera lenses, high reflectivity coating such as mirrors for laser resonators, band pass filters or interference filters.

이러한 고기능성 광학 제품은 Cr, Al, Cu, Ag 등과 같은 단일금속, Al2O3, SiO2, TiO2, ZnO2 등과 같은 산화물 또는 TiN, Si3N4, MgF2 등과 같은 화합물들을 수십에서 수천 nm 단위로 유리나 고분자 기판 위에 단일층 또는 다중층으로 코팅하여 제조된다. These highly functional optics can contain single metals such as Cr, Al, Cu, Ag, oxides such as Al 2 O 3 , SiO 2 , TiO 2 , ZnO 2 , or compounds such as TiN, Si 3 N 4 , MgF 2 . It is manufactured by coating a single layer or multiple layers on glass or a polymer substrate in thousands of nm units.

금속 코팅 작업은 일반적으로 진공 증착기를 이용하여 행하여지는데, 이에 따른 코팅 과정을 살펴보면, 사출 및 절단 공정과 세척 건조 등 일련의 과정을 거친 렌즈 등의 피증착물(이하에서는 렌즈라고 함.)이 진공 상태인 진공 증착기 내부의 회전판에 장착되어 회전한다. 이때 진공 증착기 내부의 전자총으로부터 코팅 물질이 용융 증발되어 렌즈의 표면에 증착됨으로써 코팅막이 형성되고 렌즈에 코팅이 이루어지게 된다.Metal coating is generally performed using a vacuum evaporator. As a result of the coating process, deposits such as lenses (hereinafter referred to as lenses) that have undergone a series of processes such as injection, cutting, and washing and drying are vacuumed. Phosphorus is mounted on a rotating plate inside the vacuum evaporator to rotate. At this time, the coating material is melt-evaporated from the electron gun inside the vacuum evaporator to be deposited on the surface of the lens to form a coating film and coating the lens.

도 1은 종래 기술에 의한 일반적인 진공 증착기의 내부 구조를 간략하게 도시한 단면도이고, 도 2는 종래 기술에 의한 일반적인 진공 증착기의 회전판 구조를 간략하게 도시한 사시도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing the internal structure of a conventional vacuum evaporator according to the prior art, and FIG. 2 is a perspective view briefly showing a rotating plate structure of the conventional vacuum evaporator according to the prior art.

종래 기술에 의한 진공 증착기(100)는 내부에 일정 공간을 갖는 코팅 챔버(110)를 포함하고, 상기 코팅 챔버(110)의 전면에는 개폐되는 도어(120)가 구비되며 후면에는 진공 형성 장치(미도시)와 연결된 배기구(130)가 형성되어 있다.The vacuum evaporator 100 according to the prior art includes a coating chamber 110 having a predetermined space therein, the front of the coating chamber 110 is provided with a door 120 to be opened and closed and the vacuum forming apparatus (not shown) The exhaust port 130 is connected to the).

코팅 챔버(110)의 바닥 부분에는 코팅 물질을 용융 증발시키는 전자총(140)이 장착되고, 코팅 챔버(110)의 천장 부분에는 회전판(160)이 장착되는 원판형의 회전틀(150)이 회전 가능하게 장착된다. 즉, 상기 회전틀(150)의 중심에는 코팅 챔버(110)의 상부에 구비된 모터 및 감속기 등의 회전틀 구동장치(170)와 연결되는 회전틀 회전축(180)이 마련되어 회전틀 회전축(180)을 중심으로 회전틀(150)이 회전하게 된다. 상기 회전틀(150)에는 하부에 코팅될 다수개의 렌즈(220)가 부착되는 회전판(160)이 회전 가능하게 장착된다.The bottom portion of the coating chamber 110 is equipped with an electron gun 140 for melting and evaporating the coating material, the disk-shaped rotary frame 150 is mounted on the ceiling portion of the coating chamber 110 can be rotated Is fitted. That is, the rotary frame rotating shaft 180 is provided at the center of the rotary frame 150 is connected to the rotary frame driving device 170, such as a motor and a reducer provided in the upper portion of the coating chamber 110. Rotating frame 150 is rotated around. The rotating frame 150 is rotatably mounted with a rotating plate 160 to which a plurality of lenses 220 to be coated are attached.

회전판(160)은 원판형으로 회전틀(150)의 하부면에 4개가 장착되며 회전판(160) 각각의 중심이 회전틀(150)의 동일 반경 상에 위치하고 인접하는 회전판(160)들은 각각 동일 간격으로 이격되도록 장착된다. 또한 회전틀(150)에는 회전판(160)의 중심과 대응되는 위치에 모터 및 감속기 등의 회전판 구동장치(210)가 구비되며, 각각의 회전판(160)은 회전판 구동장치(210)에 연결된 회전판 회전축(190)을 중심으로 회전한다.Four rotating plates 160 are mounted on the lower surface of the rotating frame 150 in a disk shape, the center of each of the rotating plate 160 is located on the same radius of the rotating frame 150, and adjacent rotating plates 160 are equally spaced. Mounted so as to be spaced apart. In addition, the rotating frame 150 is provided with a rotating plate driving device 210 such as a motor and a reducer at a position corresponding to the center of the rotating plate 160, and each rotating plate 160 is a rotating plate rotating shaft connected to the rotating plate driving device 210. Rotate around 190.

따라서 회전판(160)은 회전틀 회전축(180)을 중심으로 공전하는 동시에 회전판 회전축(190)을 중심으로 자전하는 방식으로 회전하게 된다.Therefore, the rotating plate 160 rotates by rotating about the rotating plate rotating shaft 190 while rotating about the rotating frame rotating shaft 180.

위와 같은 일반적인 구조의 진공 증착기(100)는 코팅 챔버(110)의 바닥 부분에 장착되는 전자총(140)으로부터 코팅 물질이 용융 증발되어 코팅 챔버(110)의 천장 부분에서 일정 속도로 회전하는 회전판(160)에 장착된 렌즈(220)에 증착됨으로써 일정 두께의 코팅막을 형성하여 렌즈(220)가 코팅되는 구조이다.The vacuum evaporator 100 having a general structure as described above is a rotary plate 160 that melts and evaporates the coating material from the electron gun 140 mounted on the bottom portion of the coating chamber 110 at a constant speed in the ceiling portion of the coating chamber 110. The lens 220 is coated by forming a coating film having a predetermined thickness by being deposited on the lens 220 mounted on the lens).

또한 회전판(160)이 회전하면서 각각의 회전판(160)에 장착된 다수개 렌즈(220)의 코팅막 두께가 불균일하게 형성되는 것을 방지하기 위하여 증발 물질을 분산시켜 코팅막의 두께를 보정하도록 코팅 챔버(110)의 내측벽에 고정형 코팅 두께 보정장치(230)가 부착된다.In addition, in order to prevent the coating film thickness of the plurality of lenses 220 mounted on each of the rotating plates 160 from being unevenly formed while the rotating plate 160 rotates, the coating chamber 110 is compensated by dispersing the evaporation material. Fixed coating thickness correction device 230 is attached to the inner wall of the).

그러나 렌즈(220)의 코팅 시 사용되는 코팅 물질의 특성으로 인하여 고굴절 물질과 저굴절 물질의 코팅 두께의 분포 차이가 발생하고 더욱이 렌즈(220)가 부착된 회전판(160)이 자전 및 공전을 동시에 하기 때문에 회전판(160)에 장착된 렌즈(220)의 위치에 따라 코팅량이 서로 다르게 나타나게 된다. 따라서 코팅 챔버(110)의 측면에 고정 부착된 고정형 코팅 두께 보정장치(230)에 의해서는 자전 및 공전하는 회전판(160)에 장착된 각각의 렌즈(220)에 균일한 코팅막이 형성되도록 코팅막의 두께를 보정할 수 없는 문제점이 있었다.However, due to the characteristics of the coating material used for coating the lens 220, a difference in the distribution of coating thicknesses of the high refractive material and the low refractive material occurs, and furthermore, the rotating plate 160 to which the lens 220 is attached rotates and rotates at the same time. Therefore, the coating amount is different depending on the position of the lens 220 mounted on the rotating plate 160. Therefore, by the fixed coating thickness correction device 230 fixedly attached to the side of the coating chamber 110, the thickness of the coating film so that a uniform coating film is formed on each lens 220 mounted on the rotating plate 160 rotating and revolving. There was a problem that cannot be corrected.

더욱이 코팅 두께 보정장치(230)의 고정 위치는 고도의 정밀도를 유지해야 하는데, 종래 기술에 의한 고정형 코팅 두께 보정장치(230)는 그 길이가 대략 챔버의 반지름 이상이고 일단이 코팅 챔버(110)의 벽면에 볼트(240)로 체결되어 고정되는 방식이다. 이러한 구성으로 고정형 코팅 두께 보정장치(230)의 교환이나 혹은 코팅 챔버(110)로부터 분리 후 재부착하는 경우에 고정되는 일단에서 설치 오차가 발생하면, 코팅 두께 보정장치(230)의 길이로 인해 타단인 선단의 이동량은 크게 나타나게 되어 코팅 두께 보정장치(230)의 위치 설정이 용이하지 않게 된다. 즉, 코팅 두께 보정장치(230)를 정확한 위치에 고정하는 것이 매우 어려워 이의 고정 작업에 오랜 시간이 소요되고 코팅 작업 공정이 지연되는 문제점이 있었다.Moreover, the fixed position of the coating thickness compensator 230 must maintain a high degree of precision, the fixed coating thickness compensator 230 according to the prior art has a length of approximately the radius of the chamber or more and the end of the coating chamber 110 It is fastened to the wall by a bolt 240 is fixed. In this configuration, if an installation error occurs in the fixed end when the fixed coating thickness compensator 230 is replaced or reattached after detaching from the coating chamber 110, the other end due to the length of the coating thickness compensator 230 The amount of movement of the phosphorus tip is large, so that the positioning of the coating thickness compensator 230 is not easy. That is, it is very difficult to fix the coating thickness correcting device 230 in the correct position, the fixing work takes a long time and the coating work process is delayed.

따라서 본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 회전판의 아래에 소정 거리 이격되게 위치하는 이동식 마스크를 포함하여 구성되는 코팅 두께 보정장치를 구비하여 균일한 코팅막을 얻을 수 있는 진공 증착기를 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a vacuum evaporator capable of obtaining a uniform coating film by including a coating thickness compensator configured to include a movable mask positioned at a predetermined distance below the rotating plate. There is this.

이러한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 진공 증착기는 코팅 챔버와, 상기 코팅 챔버 내에 회전 가능하게 설치된 회전틀과, 상기 회전틀에 대해 회전 가능하게 설치되고 하부면에 피증착물이 부착되는 회전판과, 상기 회전판의 아래에 이격 위치되도록 이동하는 마스크를 포함하는 코팅 두께 보정장치를 포함한다.In order to achieve this object, the vacuum evaporator according to the present invention includes a coating chamber, a rotating frame rotatably installed in the coating chamber, a rotating plate rotatably installed with respect to the rotating frame, and a deposit attached to the lower surface thereof; It includes a coating thickness correction device including a mask to move to be spaced apart below the rotating plate.

상기 코팅 두께 보정장치는 상기 회전틀에 고정될 수 있다. 이때, 상기 회전판은 다수개가 설치되고, 상기 코팅 두께 보정장치는 상기 회전판에 대응하여 각각 설치되는 것이 바람직하다. 상기 회전판은 각각 회전판 중심이 상기 회전틀의 동일 반경 상에 위치하고 인접하는 각 회전판들 사이의 간격이 동일하게 설치되는 것이 더 바람직하다. The coating thickness correction apparatus may be fixed to the rotating frame. In this case, a plurality of the rotating plate is installed, the coating thickness correction device is preferably installed corresponding to the rotating plate, respectively. It is more preferable that each of the rotating plates has the center of the rotating plate on the same radius of the rotating frame and the same spacing between the adjacent rotating plates.

상기 코팅 두께 보정장치는 상기 마스크의 길이 방향이 회전틀과 회전판의 회전축을 서로 연결하는 선에 직각인 방향으로 연장 형성되는 것이 바람직하다.The coating thickness correcting device is preferably formed in the longitudinal direction of the mask extends in a direction perpendicular to the line connecting the rotation axis of the rotating frame and the rotating plate to each other.

상기 코팅 두께 보정장치는 상기 마스크의 길이 방향이 상기 회전판의 반경 방향으로 연장 형성되는 것이 바람직하다.The coating thickness correction device is preferably formed in the longitudinal direction of the mask extends in the radial direction of the rotating plate.

상기 코팅 두께 보정장치는 자력에 의해 상기 회전틀에 고정될 수 있다. 이때, 상기 코팅 두께 보정장치와 상기 회전틀 중 어느 하나에는 돌출부가 형성되고 이들 중 다른 하나에는 상기 돌출부가 정렬 삽입되는 결합홈이 형성된 것이 바람직하다.The coating thickness correction device may be fixed to the rotating frame by a magnetic force. At this time, one of the coating thickness correction device and the rotating frame is formed with a protrusion, and the other one of them is preferably formed with a coupling groove in which the protrusion is aligned.

상기 회전틀과 회전판은 서로 다른 속도로 회전하는 것이 바람직하다.Preferably, the rotating frame and the rotating plate rotate at different speeds.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명 한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First of all, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are used as much as possible even if displayed on different drawings.

도 3은 본 발명에 의한 진공 증착기의 내부 구조를 간략하게 도시한 단면도이고, 도 4a는 본 발명에 따른 진공 증착기 내에 이동형 코팅 두께 보정장치가 부착된 상태를 간략하게 도시한 회전틀의 사시도이고, 도 4b는 도 4a의 정면도이다.3 is a cross-sectional view schematically showing the internal structure of the vacuum evaporator according to the present invention, Figure 4a is a perspective view of a rotating frame briefly showing a state in which the movable coating thickness correction apparatus is attached in the vacuum evaporator according to the present invention, 4B is a front view of FIG. 4A.

본 발명에 따른 진공 증착기(101)는 종래 기술에서 설명한 바와 같이 내부에 일정 공간이 형성된 코팅 챔버(110)와, 상기 코팅 챔버(110)의 전면과 후면에 각각 형성된 도어(120)와 배기구(130)를 포함한다. 코팅 챔버(110)의 천장 부분에는 회전틀(150)이 회전 가능하게 장착되고 바닥 부분에는 전자총(140)이 구비되어 코팅 물질을 용융 증발시킨다. 회전틀(150)의 하면에는 복수의 예를 들어 4개의 회전판(160)이 회전 가능하게 부착되며, 회전틀(150)과 회전판(160)은 종래 기술에서 설명한 바와 같이 각각의 회전축(180, 190)을 중심으로 회전하므로 회전판(160)은 회전판 회전축(190)을 중심으로 자전하며 회전틀 회전축(180)을 중심으로 공전한다. 이때 회전판(160)의 중심은 회전틀(150)의 동일 반경 상에 위치하고, 인접하는 회전판(160)들 간에는 동일 간격 이격되도록 설치된다. 이때, 상기 회전축(180, 190)은 각각 회전틀 및 회전판 구동장치(170, 210)에 의해 구동되어 회전틀(150)과 회전판(160)이 회전하게 된다. As described in the related art, the vacuum evaporator 101 according to the present invention includes a coating chamber 110 having a predetermined space formed therein, and doors 120 and exhaust ports 130 formed at front and rear surfaces of the coating chamber 110, respectively. ). The rotating frame 150 is rotatably mounted on the ceiling portion of the coating chamber 110 and the electron gun 140 is provided on the bottom portion to melt-evaporate the coating material. A plurality of, for example, four rotary plates 160 are rotatably attached to the lower surface of the rotary frame 150, and the rotary frames 150 and the rotary plate 160 are respectively rotated shafts 180 and 190 as described in the related art. Since the rotary plate 160 rotates about the rotary plate rotating shaft 190 and revolves about the rotary frame rotating shaft 180. At this time, the center of the rotating plate 160 is located on the same radius of the rotating frame 150, it is installed so as to be spaced apart between the adjacent rotating plate 160. In this case, the rotary shafts 180 and 190 are driven by the rotary frame and the rotary plate driving device 170 and 210, respectively, so that the rotary frame 150 and the rotary plate 160 rotate.

따라서, 본 발명에 의한 진공 증착기(101)는 코팅 챔버(110)의 바닥 부분에 구비된 전자총에 의해 용융 증발되는 코팅 물질이 회전하는 회전판(160)에 장착된 렌즈(220) 표면에 증착되어 코팅이 이루어지는 구조이다.Accordingly, the vacuum evaporator 101 according to the present invention is deposited and coated on the surface of the lens 220 mounted on the rotating plate 160 to which the coating material which is melt-evaporated by the electron gun provided in the bottom portion of the coating chamber 110 is rotated. This is the structure made.

이때, 각 렌즈(220)의 위치에 따라 코팅되는 양의 불균일을 방지하기 위해 회전틀(150)의 하면에 부착되어 회전틀(150)과 함께 회전하는 이동형 코팅 두께 보정장치(231)가 부착된다.At this time, in order to prevent the non-uniformity of the amount of coating according to the position of each lens 220 is attached to the lower surface of the rotary frame 150 is a movable coating thickness correction device 231 that rotates with the rotary frame 150 is attached. .

이동형 코팅 두께 보정장치(231)는 회전틀(150)에 부착되는 사각 플레이트 형상의 부착판(232)과, 소정 길이를 갖고 부착판(232)에 하향 연장 형성된 지지대(233)와, 상기 지지대(233)에 일단이 고정되어 회전판(160)으로부터 하부로 소정 거리 이격되게 대략 수평으로 위치한 마스크(234)로 구성된다.The movable coating thickness compensator 231 includes a square plate-shaped attachment plate 232 attached to the rotating frame 150, a support 233 extending downward from the attachment plate 232 with a predetermined length, and the supporter ( One end is fixed to the 233 is composed of a mask 234 positioned substantially horizontally spaced apart from the rotating plate 160 by a predetermined distance.

도 4a에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 이동형 코팅 두께 보정장치(231)는 각각의 회전판(160)에 각각 대응되도록 회전틀(150)에 장착된 회전판(160)의 개수와 동일한 수량만큼 부착되고, 도면에 도시된 본 발명의 일 실시예에서는 회전판(160) 및 이동형 코팅 두께 보정장치(231)가 4개씩 설치되어 있으나, 이와 달리 3개 혹은 5개 등 그 개수에는 제한이 없다.As shown in FIG. 4A, the movable coating thickness compensator 231 according to the present invention is attached by the same number as the number of the rotating plates 160 mounted on the rotating frame 150 to correspond to the respective rotating plates 160. In one embodiment of the present invention shown in the drawings, the rotating plate 160 and the movable coating thickness correction device 231 are provided four, but the number is not limited to three or five, otherwise.

또한 도 4b에 도시된 바와 같이 이동형 코팅 두께 보정장치(231)의 부착 위치는 마스크(234)의 길이 방향이 회전틀(150)과 회전판(160) 각각의 회전축을 연결하는 선에 직각이 되고 회전판(160)에 대해서는 반경 방향이 되도록 부착되되, 각 회전판(160)과 이에 대응되도록 부착된 이동형 코팅 두께 보정장치(231)의 부착 형태는 각각 모두 동일하도록 부착되는 것이 바람직하다. 마스크(234)를 이와 같이 설치하게 되면 회전틀(150) 상에 복수개의 회전판(160)이 부착될 때, 회전판(160)들 사이의 여유 공간에 마스크(234)를 고정시킬 수 있기 때문이다.In addition, as shown in FIG. 4B, the attachment position of the movable coating thickness compensator 231 is perpendicular to a line connecting the rotary shafts of the rotary frame 150 and the rotary plate 160 to the longitudinal direction of the mask 234. 160 is attached to be in the radial direction, it is preferable that the attachment form of each of the rotating plate 160 and the movable coating thickness compensator 231 attached to correspond to each other is preferably the same. This is because when the mask 234 is installed in this way, when the plurality of rotating plates 160 are attached to the rotating frame 150, the mask 234 may be fixed in the free space between the rotating plates 160.

위와 같은 구조의 이동형 코팅 두께 보정장치(231)를 구비한 진공 증착기(101)는 코팅하기 위한 렌즈(220)들 간의 코팅 두께를 보다 더 균일하게 보정하는 구조이다. 이는 전자총(140)으로부터 용융 증발되는 코팅 물질의 특성상 굴절률의 차이 때문에 코팅 두께 보정장치에 근접한 부분과 그렇지 않은 부분의 코팅량의 차이가 발생하게 되지만, 이동형 코팅 두께 보정장치(231)는 회전틀(150)과 함께 회전하기 때문에 회전판(160)에 장착된 다수개의 렌즈(220)들은 코팅 두께 보정장치(231)에 근접했다가 멀어지는 운동을 짧은 주기를 갖고 반복하게 되므로 이러한 회전에 의해 전체적으로 균일한 코팅이 이루어지기 때문이다. 특히, 회전틀(150)과 회전판(160)이 서로 다른 속도로 회전하게 되면 회전판(160)에 장착된 다수개의 렌즈(220)들은 보다 고르게 코팅 두께 보정장치(231)의 영향을 받게 되어 더 균일한 코팅이 이루어 질 수 있다. The vacuum evaporator 101 having the movable coating thickness compensator 231 having the above structure is a structure that more uniformly corrects the coating thickness between the lenses 220 for coating. This is due to the difference in refractive index due to the difference in the refractive index of the nature of the coating material is melt evaporated from the electron gun 140, the difference in the coating amount of the portion close to the coating thickness correction device and the other, but the movable coating thickness correction device 231 is a rotary frame ( Since the plurality of lenses 220 mounted on the rotating plate 160 rotate with 150, the movement of approaching and approaching the coating thickness compensator 231 is repeated with a short period, so that the coating is uniform throughout. Because this is done. In particular, when the rotating frame 150 and the rotating plate 160 are rotated at different speeds, the plurality of lenses 220 mounted on the rotating plate 160 are more evenly affected by the coating thickness compensator 231, thereby making it more uniform. One coating can be made.

도 1에 도시된 종래 기술에 의한 고정형 코팅 두께 보정장치(231)와 비교할 때, 본 발명에 의한 이동형 코팅 두께 보정장치(231)는 각각의 회전판(160)에 각각 부착되어 각각의 렌즈(220)들과 이동형 코팅 두께 보정장치(231)와의 근접횟수가 증가됨으로써 각 회전판(160) 내에서의 렌즈(220) 코팅 두께 불균일이 보정되며, 또한 회전판(160) 및 이동형 코팅 두께 보정장치(231)가 회전틀(150)에 설치되어 코팅 챔버(110) 내에서 회전틀 회전축(180)을 중심으로 회전하게 되므로, 각각의 회전판(160) 간의 렌즈(220) 코팅 두께 불균일 또한 보정되는 구조이다.Compared with the fixed coating thickness compensator 231 according to the prior art shown in Figure 1, the movable coating thickness compensator 231 according to the present invention is attached to each of the rotating plate 160, each lens 220 By increasing the number of times of proximity with the movable coating thickness correction device 231, the coating thickness nonuniformity of the lens 220 in each rotating plate 160 is corrected, and the rotating plate 160 and the movable coating thickness correction device 231 Since it is installed on the rotating frame 150 to rotate about the rotating frame rotating shaft 180 in the coating chamber 110, the non-uniform thickness of the coating of the lens 220 between each rotating plate 160 is also a structure to be corrected.

도 5a는 이동형 코팅 두께 보정장치의 부착 수단을 나타내기 위해 도 4b의 A-A선을 따라 취한 단면도이고, 도 5b는 도 4b의 B-B선을 따라 취한 단면도이다.FIG. 5A is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG. 4B to show the attachment means of the movable coating thickness compensator, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line B-B of FIG. 4B.

본 발명의 일 실시예에 따른 이동형 코팅 두께 보정장치(231)는 탈착 및 교환시에 정확한 위치에 고정될 수 있도록 자석을 이용하여 회전틀(150)에 부착하는 구조이다.Mobile coating thickness correction device 231 according to an embodiment of the present invention is a structure that is attached to the rotary frame 150 by using a magnet to be fixed at the correct position during removal and replacement.

도 5a 및 도 5b에 도시된 바와 같이 이동형 코팅 두께 보정장치(231)의 부착판(232)의 상면에는 돌출부(236)를 가진 자석판(235)이 부착되고, 회전틀(150)의 하면에는 결합홈(237)이 형성된 결합판(238)이 부착된다. 이때, 상기 돌출부(236)를 포함한 자석판(235)이 상기 결합홈(237)에 삽입됨으로써 자력에 의해 이동형 코팅 두께 보정장치(231)가 회전틀(150)에 고정되는 구조이다.5A and 5B, a magnet plate 235 having a protrusion 236 is attached to an upper surface of the attachment plate 232 of the movable coating thickness compensator 231, and coupled to a lower surface of the rotary frame 150. The coupling plate 238 having the groove 237 is attached thereto. At this time, the magnetic plate 235 including the protrusion 236 is inserted into the coupling groove 237, so that the movable coating thickness correction device 231 is fixed to the rotary frame 150 by magnetic force.

자석판(235)의 돌출부(236) 형상은 수직 단면 형상이 원형으로 상부 끝단부에서 그 단면적이 작아지도록 반구형태를 이루며 형성되는 것이 바람직하며, 결합홈(237)의 형상은 돌출부(236) 및 자석판(235)이 끼워맞춤으로 삽입될 수 있도록 돌출부(236)를 포함한 자석판(235)의 형상에 대응되게 형성된다. The shape of the protrusion 236 of the magnet plate 235 is preferably formed in a hemispherical shape such that the vertical cross-sectional shape is circular and the cross-sectional area of the upper end portion is reduced, and the shape of the coupling groove 237 is the protrusion 236 and the magnet plate. The 235 is formed to correspond to the shape of the magnet plate 235 including the protrusion 236 to be inserted into the fitting.

이때, 돌출부(236) 형상이 상부 끝단부로 갈수록 그 단면적이 작아지는 쐐기 형태로 형성됨으로써 치수 상의 공차가 발생하더라도 삽입이 용이한 형상이라면 돌출부(236) 및 결합홈(237)의 다양한 형상 변경이 가능할 것이다. 또한 본 발명의 일 실시예에 따라 돌출부(236)는 고도의 정밀한 위치 한정을 위해 돌출부(236)가 3개 형성되는 것으로 구성하였으나, 돌출부(236)의 형성된 개수는 이에 한정되지 않고 다양하게 할 수 있을 것이다.At this time, since the protrusion 236 is formed in a wedge shape whose cross-sectional area decreases toward the upper end portion, the shape of the protrusion 236 and the coupling groove 237 may be changed if the shape of the protrusion 236 is easy to insert even if a tolerance in the dimension occurs. will be. In addition, according to an embodiment of the present invention, the protrusion 236 is configured to be formed with three protrusions 236 for highly precise positioning, but the number of the protrusions 236 is not limited thereto and may be various. There will be.

한편, 상기 부착판(232)의 상면에 자석판(235)을 부착하는 방식이 아니라 부착판(232) 전체를 돌출부(236)를 가진 자석판으로 구성할 수도 있으며, 또한 회전 틀(150)에 별도의 결합판(238)을 부착하지 않고, 회전틀(150)의 하면에 상기 결합홈(237)을 형성하여 상기 돌출부(236)와 결합되는 구조로 할 수도 있을 것이다.On the other hand, instead of attaching the magnet plate 235 on the upper surface of the attachment plate 232, the entire attachment plate 232 may be configured as a magnet plate having a protrusion 236, and also separate from the rotary frame 150 Without attaching the coupling plate 238, the coupling groove 237 is formed on the lower surface of the rotary frame 150 may be configured to be coupled to the protrusion 236.

위에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 이동형 코팅 두께 보정장치(231)는 자력을 통한 돌출부(236)와 결합홈(237)의 결합에 의해 회전틀(150)에 고정됨으로써 탈착이나 교환 작업이 용이하고 고도의 정밀한 위치 한정이 가능한 구조이다.As described above, the movable coating thickness compensator 231 according to the present invention is fixed to the rotary frame 150 by the combination of the protrusion 236 and the coupling groove 237 through magnetic force, thereby making it easy to remove or replace. This is a structure that can be precisely defined.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and changes without departing from the essential characteristics of the present invention.

예를 들어, 전술된 실시예에서는 회전틀(150)과 회전판(160)을 회전시키는 회전틀 구동장치(170)와 회전판 구동장치(210)가 각각 독립적으로 설치되어 있으나, 그에 한정되지 않고 기어열을 이용하여 하나의 구동 장치로 회전틀(150)과 회전판(160)을 동시에 회전시킬 수 있다. 이때, 이들의 회전 속도를 다르게 하기 위하여 회전틀(150)과 회전판(160)에 연결된 기어의 기어비를 서로 다르게 하는 것이 바람직하다.For example, in the above-described embodiment, the rotary frame driving device 170 and the rotary plate driving device 210 for rotating the rotary frame 150 and the rotary plate 160 are installed independently, but not limited thereto. By using a single drive device can rotate the rotating frame 150 and the rotating plate 160 at the same time. At this time, in order to change the rotational speed thereof, it is preferable that the gear ratios of the gears connected to the rotating frame 150 and the rotating plate 160 are different from each other.

또한, 상기 코팅 두께 보정장치는 회전틀(150)에 고정되어 이동하는 것으로 설명되었으나, 그에 고정되지 않고 별도의 장치에 의해 회전판(160)을 따라 이동하면서 회전판(160)과 상대 회전할 수 있다.In addition, the coating thickness correcting device has been described as moving fixed to the rotating frame 150, it is not fixed to it can be rotated relative to the rotating plate 160 while moving along the rotating plate 160 by a separate device.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 진공 증착기에 회전틀에 고정되어 회전틀과 동일 각속도로 회전 이동하고 회전판의 아래에 소정 거리 이격되게 위치하는 마스크를 포함하여 구성되는 코팅 두께 보정장치를 구비함으로써 렌즈에 형성되는 코팅 두께를 균일하게 보정하는 효과가 있다. 또한, 코팅 두께 보정장치를 자석을 통해 회전틀에 고정함으로써 탈착 및 교환이 용이하고 재조립시 고도의 정밀한 위치 한정이 가능하여 코팅 두께 보정장치의 고정 시간을 단축할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, the vacuum evaporator is provided with a coating thickness correction device including a mask fixed to the rotating frame and rotating at the same angular speed as the rotating frame and positioned below the rotating plate at a predetermined distance. There is an effect of uniformly correcting the coating thickness formed on the lens. In addition, by fixing the coating thickness correction device to the rotating frame through a magnet, it is easy to remove and replace, and highly precise position can be defined when reassembling, thereby reducing the fixing time of the coating thickness correction device.

Claims (9)

코팅 챔버와,With coating chamber, 상기 코팅 챔버 내에 회전 가능하게 설치된 회전틀과,A rotating frame rotatably installed in the coating chamber; 상기 회전틀에 대해 회전 가능하게 설치되고 하부면에 피증착물이 부착되는 회전판과,A rotating plate rotatably installed with respect to the rotating frame and having a deposition object attached to a lower surface thereof; 상기 회전판의 아래에 이격 위치되도록 이동하는 마스크를 포함하는 코팅 두께 보정장치Coating thickness correction apparatus including a mask to move to be spaced apart below the rotating plate 를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 증착기.Vacuum evaporator comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 코팅 두께 보정장치는 상기 회전틀에 고정되는 것을 특징으로 하는 진공 증착기.The coating thickness correction apparatus is a vacuum evaporator, characterized in that fixed to the rotating frame. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 회전판은 다수개가 설치되고The rotating plate is installed a plurality 상기 코팅 두께 보정장치는 상기 회전판에 대응하여 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 진공 증착기.The coating thickness correction apparatus is a vacuum evaporator, characterized in that installed in correspondence with the rotating plate. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 회전판은 각각 회전판 중심이 상기 회전틀의 동일 반경 상에 위치하고 인접하는 각 회전판들 사이의 간격이 동일하게 설치되는 것을 특징으로 하는 진공 증착기.The rotary plate is a vacuum evaporator, characterized in that the center of the rotary plate is located on the same radius of the rotary frame and the spacing between the adjacent adjacent rotary plates are equally installed. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 코팅 두께 보정장치는 상기 마스크의 길이 방향이 회전틀과 회전판의 회전축을 서로 연결하는 선에 직각인 방향으로 연장 형성되는 것을 특징으로 하는 진공 증착기.The coating thickness correction apparatus is a vacuum evaporator, characterized in that the longitudinal direction of the mask is formed extending in a direction perpendicular to the line connecting the rotation axis of the rotating frame and the rotating plate to each other. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 코팅 두께 보정장치는 상기 마스크의 길이 방향이 상기 회전판의 반경 방향으로 연장 형성되는 것을 특징으로 하는 진공 증착기.The coating thickness correction apparatus is a vacuum evaporator, characterized in that the longitudinal direction of the mask is formed extending in the radial direction of the rotating plate. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 코팅 두께 보정장치는 자력에 의해 상기 회전틀에 고정되는 것을 특징으로 하는 진공 증착기.The coating thickness correcting apparatus is a vacuum evaporator, characterized in that fixed to the rotating frame by a magnetic force. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 코팅 두께 보정장치와 상기 회전틀 중 어느 하나에는 돌출부가 형성되고 이들 중 다른 하나에는 상기 돌출부가 정렬 삽입되는 결합홈이 형성된 것을 특 징으로 하는 진공 증착기.Any one of the coating thickness correction device and the rotary frame is formed with a projection, and the other one of them is a vacuum evaporator characterized in that the coupling groove is formed is inserted into the projection is aligned. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 회전틀과 회전판은 서로 다른 속도로 회전하는 것을 특징으로 하는 진공 증착기.The rotary frame and the rotating plate is characterized in that the vacuum evaporator, which rotates at different speeds.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57158373A (en) 1981-03-26 1982-09-30 Canon Inc Method and device for controlling film thickness of vacuum deposited film
JPH01132119A (en) * 1987-10-16 1989-05-24 Nec Corp Vacuum deposition device
JP2003055757A (en) 2001-08-09 2003-02-26 Sumitomo Heavy Ind Ltd Film deposition method and film deposition apparatus
KR100449570B1 (en) * 2001-12-28 2004-09-22 (주)인텍 vacuum plating apparatus
KR20040041992A (en) * 2002-11-12 2004-05-20 이희신 Lens the back coating check structure of a vacuum mult coater for lens coating
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